JPH1179786A - 隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料 - Google Patents
隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料Info
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- JPH1179786A JPH1179786A JP1341398A JP1341398A JPH1179786A JP H1179786 A JPH1179786 A JP H1179786A JP 1341398 A JP1341398 A JP 1341398A JP 1341398 A JP1341398 A JP 1341398A JP H1179786 A JPH1179786 A JP H1179786A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 環境問題等を生じることが無く、しかも比重
の小さな隔壁形成用複合材料を提供する。 【解決手段】 プラズマ放電空間を有する薄型ディスプ
レイ装置の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であ
って、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラス粉末とフィ
ラー粉末からなることを特徴とする。
の小さな隔壁形成用複合材料を提供する。 【解決手段】 プラズマ放電空間を有する薄型ディスプ
レイ装置の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であ
って、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラス粉末とフィ
ラー粉末からなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ放電空間を有
する薄型ディスプレイ装置の隔壁形成用ガラスセラミッ
クス複合材料に関し、特に３５〜５０×１０-7／℃の熱
膨張係数を有する無アルカリガラスを基板として用いた
プラズマ放電空間を有する薄型ディスプレイ装置の隔壁
形成用ガラスセラミックス複合材料に関するものであ
る。
する薄型ディスプレイ装置の隔壁形成用ガラスセラミッ
クス複合材料に関し、特に３５〜５０×１０-7／℃の熱
膨張係数を有する無アルカリガラスを基板として用いた
プラズマ放電空間を有する薄型ディスプレイ装置の隔壁
形成用ガラスセラミックス複合材料に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ）等
のプラズマ放電空間を有する薄型ディスプレイ装置は、
従来のＣＲＴディスプレイ装置に比べて薄型化、軽量化
できるため、盛んに開発が行われている。これらディス
プレイ装置は、２枚のガラス基板が一定の間隔を保持し
て気密封止され、両ガラス基板間に隔壁形成材料によっ
てプラズマ放電空間が形成される。
のプラズマ放電空間を有する薄型ディスプレイ装置は、
従来のＣＲＴディスプレイ装置に比べて薄型化、軽量化
できるため、盛んに開発が行われている。これらディス
プレイ装置は、２枚のガラス基板が一定の間隔を保持し
て気密封止され、両ガラス基板間に隔壁形成材料によっ
てプラズマ放電空間が形成される。
【０００３】ガラス基板には、歪点が６００℃前後の板
ガラスが使用されており、放電空間を形成する隔壁材料
には６００℃以下で熱処理可能な材料が選択される。こ
のような隔壁材料には、例えば特開平４−３３７２２６
号や特開平６−１４４８７１号等に開示されているよう
な、焼結性に優れ、低軟化点化が容易なＰｂＯ系ガラス
粉末を用いた複合材料が使用されている。
ガラスが使用されており、放電空間を形成する隔壁材料
には６００℃以下で熱処理可能な材料が選択される。こ
のような隔壁材料には、例えば特開平４−３３７２２６
号や特開平６−１４４８７１号等に開示されているよう
な、焼結性に優れ、低軟化点化が容易なＰｂＯ系ガラス
粉末を用いた複合材料が使用されている。
【０００４】また特開平５−２９７３６３号に開示され
ているようなプラズマアドレスド電気光学装置では、液
晶層に悪影響を与えないようにガラス基板に無アルカリ
ガラスが使用されているが、この種のガラスは一般に熱
膨張係数が約３５〜５０×１０-7／℃と低いため、隔壁
材料にはＰｂＯ系ガラス粉末とともにＰｂＴｉＯ3 粉末
等の低膨張フィラーが使用される。
ているようなプラズマアドレスド電気光学装置では、液
晶層に悪影響を与えないようにガラス基板に無アルカリ
ガラスが使用されているが、この種のガラスは一般に熱
膨張係数が約３５〜５０×１０-7／℃と低いため、隔壁
材料にはＰｂＯ系ガラス粉末とともにＰｂＴｉＯ3 粉末
等の低膨張フィラーが使用される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら鉛元素等
の重元素を含有するガラスやフィラーを使用すると、環
境汚染や人的健康を損なうおそれがある。
の重元素を含有するガラスやフィラーを使用すると、環
境汚染や人的健康を損なうおそれがある。
【０００６】また、放電空間を形成する隔壁材料は使用
量が多く、装置の重量に与える影響が大きいが、ＰｂＯ
系ガラスは比重が大きいために装置が重くなる、という
問題を有している。
量が多く、装置の重量に与える影響が大きいが、ＰｂＯ
系ガラスは比重が大きいために装置が重くなる、という
問題を有している。
【０００７】本発明の目的は、環境問題等を生じること
が無く、しかも比重の小さな隔壁形成用複合材料を提供
することである。
が無く、しかも比重の小さな隔壁形成用複合材料を提供
することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の隔壁形成用ガラ
スセラミックス複合材料は、プラズマ放電空間を有する
薄型ディスプレイ装置の隔壁形成用ガラスセラミックス
複合材料であって、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラ
ス粉末とフィラー粉末からなることを特徴とする。
スセラミックス複合材料は、プラズマ放電空間を有する
薄型ディスプレイ装置の隔壁形成用ガラスセラミックス
複合材料であって、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラ
ス粉末とフィラー粉末からなることを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材
料は、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系のガラス粉末を使
用する。この系のガラスを使用すると、６００℃以下の
温度で緻密に焼結することが可能であり、またＰｂＯ系
ガラスよりも比重が小さいため、装置を軽量化すること
が可能である。さらにＰｂＯ系に比べて容易に低膨張化
できる。
料は、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系のガラス粉末を使
用する。この系のガラスを使用すると、６００℃以下の
温度で緻密に焼結することが可能であり、またＰｂＯ系
ガラスよりも比重が小さいため、装置を軽量化すること
が可能である。さらにＰｂＯ系に比べて容易に低膨張化
できる。
【００１０】ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系の結晶性ガ
ラス粉末としては、種々の組成を有するものが使用可能
であるが、Ｐｂ、Ｔｌ、Ｂｉ等の重元素を含むものは避
けるべきである。即ち、これらの重元素は環境上好まし
くなく、またガラスの比重を大きくしてしまう。
ラス粉末としては、種々の組成を有するものが使用可能
であるが、Ｐｂ、Ｔｌ、Ｂｉ等の重元素を含むものは避
けるべきである。即ち、これらの重元素は環境上好まし
くなく、またガラスの比重を大きくしてしまう。
【００１１】また６００℃以下の熱処理によってＺｎＯ
・Ｂ2 Ｏ3 系結晶やＺｎＯ・ＳｉＯ2 系結晶を析出する
性質を有する結晶性ガラスを使用すると、焼成後の熱膨
張係数を著しく低下させることができ、無アルカリガラ
ス基板のそれに適合させることができる。このような低
膨張のガラス粉末には、重量％でＺｎＯ ５０〜６５
％、Ｂ2 Ｏ3 ２０〜３５％、ＳｉＯ2 ７〜１５％、
Ｒ2 Ｏ＋ＲＯ ３〜１０％（ただしＲ2 Ｏ：Ｌｉ2 Ｏ＋
Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、ＲＯ：ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂ
ａＯ）の組成を有するガラスを使用することが好まし
い。ガラス組成をこのように限定した理由は以下の通り
である。
・Ｂ2 Ｏ3 系結晶やＺｎＯ・ＳｉＯ2 系結晶を析出する
性質を有する結晶性ガラスを使用すると、焼成後の熱膨
張係数を著しく低下させることができ、無アルカリガラ
ス基板のそれに適合させることができる。このような低
膨張のガラス粉末には、重量％でＺｎＯ ５０〜６５
％、Ｂ2 Ｏ3 ２０〜３５％、ＳｉＯ2 ７〜１５％、
Ｒ2 Ｏ＋ＲＯ ３〜１０％（ただしＲ2 Ｏ：Ｌｉ2 Ｏ＋
Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、ＲＯ：ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂ
ａＯ）の組成を有するガラスを使用することが好まし
い。ガラス組成をこのように限定した理由は以下の通り
である。
【００１２】ＺｎＯは軟化点を著しく上昇させることな
く熱膨張係数を低下させる働きがあり、また析出結晶の
結晶核となる成分である。ＺｎＯが５０％より少ないと
熱処理時の結晶特性が弱くなって低膨張化が困難にな
り、無アルカリガラス基板に使用し難くなる。６５％よ
り多くなると溶融時に結晶が析出し易くなってガラス化
が困難となる。なおＺｎＯの好適な範囲は５０〜６３％
である。
く熱膨張係数を低下させる働きがあり、また析出結晶の
結晶核となる成分である。ＺｎＯが５０％より少ないと
熱処理時の結晶特性が弱くなって低膨張化が困難にな
り、無アルカリガラス基板に使用し難くなる。６５％よ
り多くなると溶融時に結晶が析出し易くなってガラス化
が困難となる。なおＺｎＯの好適な範囲は５０〜６３％
である。
【００１３】Ｂ2 Ｏ3 はガラス構造体を形成する成分で
あり、またガラスの溶融温度や軟化点を下げる成分であ
る。Ｂ2 Ｏ3 が２０％より少ないとガラス化が困難にな
り、３５％より多いと熱処理時の結晶特性が弱くなって
低膨張化が困難になる。なおＢ2 Ｏ3 の好適な範囲は２
２〜３０％である。
あり、またガラスの溶融温度や軟化点を下げる成分であ
る。Ｂ2 Ｏ3 が２０％より少ないとガラス化が困難にな
り、３５％より多いと熱処理時の結晶特性が弱くなって
低膨張化が困難になる。なおＢ2 Ｏ3 の好適な範囲は２
２〜３０％である。
【００１４】ＳｉＯ2 はガラス構造体の形成に不可欠な
成分である。ＳｉＯ2 が７％より少ないとガラス化が困
難になり、１５％より多いとガラスの軟化点が上昇して
６００℃以下での焼成が困難になる。なおＳｉＯ2 の好
適な範囲は８〜１２％である。
成分である。ＳｉＯ2 が７％より少ないとガラス化が困
難になり、１５％より多いとガラスの軟化点が上昇して
６００℃以下での焼成が困難になる。なおＳｉＯ2 の好
適な範囲は８〜１２％である。
【００１５】Ｒ2 Ｏ（Ｌｉ2 Ｏ、Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏ）及
びＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ）はガラスの
溶融温度及び軟化点を下げる成分である。これらの合量
が３％より少ないとガラスの軟化点が低下せず、６００
℃以下の温度で焼成が困難になる。またこれらの合量が
１０％より多い場合は熱膨張係数が大きくなって無アル
カリガラス基板に使用し難くなる。なおこれら成分の合
量の好適な範囲は３〜７％であり、また各成分の範囲は
Ｌｉ2 Ｏ ０〜３％（好ましくは０〜２％）、Ｎａ2 Ｏ
０〜５％（好ましくは０〜３％）、Ｋ2 Ｏ ０〜５％
（好ましくは０〜３％）、ＭｇＯ ０〜５％（好ましく
は０〜３％）、ＣａＯ ０〜５％（好ましくは０〜３
％）、ＳｒＯ ０〜５％（好ましくは０〜３％）、Ｂａ
Ｏ ０〜５％（好ましくは０〜３％）である。
びＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ）はガラスの
溶融温度及び軟化点を下げる成分である。これらの合量
が３％より少ないとガラスの軟化点が低下せず、６００
℃以下の温度で焼成が困難になる。またこれらの合量が
１０％より多い場合は熱膨張係数が大きくなって無アル
カリガラス基板に使用し難くなる。なおこれら成分の合
量の好適な範囲は３〜７％であり、また各成分の範囲は
Ｌｉ2 Ｏ ０〜３％（好ましくは０〜２％）、Ｎａ2 Ｏ
０〜５％（好ましくは０〜３％）、Ｋ2 Ｏ ０〜５％
（好ましくは０〜３％）、ＭｇＯ ０〜５％（好ましく
は０〜３％）、ＣａＯ ０〜５％（好ましくは０〜３
％）、ＳｒＯ ０〜５％（好ましくは０〜３％）、Ｂａ
Ｏ ０〜５％（好ましくは０〜３％）である。
【００１６】なお上記以外にも、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2
等を各５％まで添加することが可能である。
等を各５％まで添加することが可能である。
【００１７】また本発明の複合材料は、焼結時の収縮を
防止したり、熱膨張係数や焼結強度を調整するために従
来より知られている種々のフィラー粉末を含有する。例
えば収縮率や焼結強度の調整のためにアルミナ等のフィ
ラーを使用することができる。また基板に無アルカリガ
ラスを使用する場合、低膨張化するためにコージエライ
ト、ウイレマイト、ジルコン、石英ガラス、β−ユーク
リプタイト、β−スポジュウメン等の低膨張フィラー粉
末を使用することができる。中でもコージエライト、ウ
イレマイト、ジルコンから選ばれる１種以上を使用する
ことが好ましい。またフィラー粉末全体の８０重量％以
上をこれら低膨張フィラー粉末で占めるようにするとよ
り効果的である。なおＰｂＴｉＯ3 のようにＰｂ等の重
元素を含むフィラーの使用は環境上好ましくないため避
けるべきである。
防止したり、熱膨張係数や焼結強度を調整するために従
来より知られている種々のフィラー粉末を含有する。例
えば収縮率や焼結強度の調整のためにアルミナ等のフィ
ラーを使用することができる。また基板に無アルカリガ
ラスを使用する場合、低膨張化するためにコージエライ
ト、ウイレマイト、ジルコン、石英ガラス、β−ユーク
リプタイト、β−スポジュウメン等の低膨張フィラー粉
末を使用することができる。中でもコージエライト、ウ
イレマイト、ジルコンから選ばれる１種以上を使用する
ことが好ましい。またフィラー粉末全体の８０重量％以
上をこれら低膨張フィラー粉末で占めるようにするとよ
り効果的である。なおＰｂＴｉＯ3 のようにＰｂ等の重
元素を含むフィラーの使用は環境上好ましくないため避
けるべきである。
【００１８】本発明において、ガラス粉末とフィラー粉
末の混合割合は、重量％でガラス粉末１５〜６０％、フ
ィラー粉末４０〜８５％からなることが好ましい。混合
割合をこのように限定する理由は、ガラス粉末が１５％
より少ないとセラミック粉末を焼結させることが困難に
なり、６０％より多いと焼成時の収縮率が大きくなっ
て、隔壁のクラックや断線等が生じ易くなるためであ
る。なおプラズマアドレスド電気光学装置に使用する場
合は、無アルカリガラス基板と隙間なく接着させる必要
があり、緻密に焼結することが要求される。このためガ
ラス粉末とフィラー粉末の混合割合をガラス粉末２５〜
６０％、フィラー粉末４０〜７５％にすることが好まし
い。
末の混合割合は、重量％でガラス粉末１５〜６０％、フ
ィラー粉末４０〜８５％からなることが好ましい。混合
割合をこのように限定する理由は、ガラス粉末が１５％
より少ないとセラミック粉末を焼結させることが困難に
なり、６０％より多いと焼成時の収縮率が大きくなっ
て、隔壁のクラックや断線等が生じ易くなるためであ
る。なおプラズマアドレスド電気光学装置に使用する場
合は、無アルカリガラス基板と隙間なく接着させる必要
があり、緻密に焼結することが要求される。このためガ
ラス粉末とフィラー粉末の混合割合をガラス粉末２５〜
６０％、フィラー粉末４０〜７５％にすることが好まし
い。
【００１９】また本発明の材料は、さらに色調を調整す
るために無機顔料粉末を１５重量％まで含有させてもよ
い。
るために無機顔料粉末を１５重量％まで含有させてもよ
い。
【００２０】上記各成分からなる複合材料は、焼成後の
比重が２．０〜４．０ｇ／ｃｍ3 、体積収縮率が１５％
以下の隔壁材料を得ることができる。また無アルカリガ
ラスに用いる場合、ガラス組成、フィラーの種類等を調
整して、焼成後の熱膨張係数が３０〜４５×１０-7／℃
（３０〜３００℃）となるようにすればよい。
比重が２．０〜４．０ｇ／ｃｍ3 、体積収縮率が１５％
以下の隔壁材料を得ることができる。また無アルカリガ
ラスに用いる場合、ガラス組成、フィラーの種類等を調
整して、焼成後の熱膨張係数が３０〜４５×１０-7／℃
（３０〜３００℃）となるようにすればよい。
【００２１】なお、本発明の隔壁形成用ガラスセラミッ
クス複合材料を用いて、隔壁を形成するには、例えば上
記材料と有機ビークルとを混合してペーストを作製し、
これをスクリーンを介して印刷積層する方法や、ペース
トを塗布、乾燥させ、ドライレジストフィルムを密着さ
せて露光、現像した後に、サンドブラストする方法を採
用することができる。
クス複合材料を用いて、隔壁を形成するには、例えば上
記材料と有機ビークルとを混合してペーストを作製し、
これをスクリーンを介して印刷積層する方法や、ペース
トを塗布、乾燥させ、ドライレジストフィルムを密着さ
せて露光、現像した後に、サンドブラストする方法を採
用することができる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【００２３】表１は本発明の実施例で使用するガラス粉
末（試料Ａ〜Ｄ）、及び従来より使用されているＰｂＯ
系ガラス粉末（試料Ｅ）を示している。
末（試料Ａ〜Ｄ）、及び従来より使用されているＰｂＯ
系ガラス粉末（試料Ｅ）を示している。
【００２４】
【表１】
【００２５】各ガラス粉末は次のようにして調製した。
まず表の組成となるように調合したガラス原料を１１０
０〜１４５０℃で１〜３時間溶融し、薄板状に成形し
た。その後、粉砕、分級することによって、スクリーン
印刷に適する粒径１．５〜３．０μｍのガラス粉末を得
た。
まず表の組成となるように調合したガラス原料を１１０
０〜１４５０℃で１〜３時間溶融し、薄板状に成形し
た。その後、粉砕、分級することによって、スクリーン
印刷に適する粒径１．５〜３．０μｍのガラス粉末を得
た。
【００２６】このようにして得られた試料Ａ〜Ｄの各ガ
ラス粉末は、ガラス軟化点が５５０〜５８５℃であり、
焼成すると５ＺｎＯ・２Ｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ・Ｂ2 Ｏ3 、
及び２ＺｎＯ・ＳｉＯ2 を主結晶として析出する性質を
有していた。また焼成後の比重は３．５５〜３．７０ｇ
／ｃｍ3 、３０〜３００℃における熱膨張係数は５０〜
５５×１０-7／℃、であった。一方、従来例である試料
Ｅは、ガラス軟化点が５５０℃、比重が４．６２ｇ／ｃ
ｍ3 、３０〜３００℃における熱膨張係数が６７．５×
１０-7／℃の非晶質ガラスであった。
ラス粉末は、ガラス軟化点が５５０〜５８５℃であり、
焼成すると５ＺｎＯ・２Ｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ・Ｂ2 Ｏ3 、
及び２ＺｎＯ・ＳｉＯ2 を主結晶として析出する性質を
有していた。また焼成後の比重は３．５５〜３．７０ｇ
／ｃｍ3 、３０〜３００℃における熱膨張係数は５０〜
５５×１０-7／℃、であった。一方、従来例である試料
Ｅは、ガラス軟化点が５５０℃、比重が４．６２ｇ／ｃ
ｍ3 、３０〜３００℃における熱膨張係数が６７．５×
１０-7／℃の非晶質ガラスであった。
【００２７】次に、これらのガラス粉末にフィラー粉末
や無機顔料粉末を混合し、隔壁形成用ガラスセラミック
ス複合材料とした。なおフィラー粉末及び無機顔料粉末
には、平均粒径が０．５〜２．５μｍのものを使用し
た。
や無機顔料粉末を混合し、隔壁形成用ガラスセラミック
ス複合材料とした。なおフィラー粉末及び無機顔料粉末
には、平均粒径が０．５〜２．５μｍのものを使用し
た。
【００２８】表２〜４は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１
〜１０）、及び従来例（試料Ｎｏ．１１）を示してい
る。
〜１０）、及び従来例（試料Ｎｏ．１１）を示してい
る。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【表３】
【００３１】
【表４】
【００３２】続いて各試料を６００℃で５〜３０分間焼
成し、焼結性、体積収縮率、比重及び熱膨張係数を測定
した。結果を各表に示す。
成し、焼結性、体積収縮率、比重及び熱膨張係数を測定
した。結果を各表に示す。
【００３３】表から明らかなように、本発明の実施例で
ある試料Ｎｏ．１〜１０は、焼結性が良好であり、体積
収縮率が１〜７％、熱膨張係数が３３〜４２×１０-7／
℃であり、基板に無アルカリガラスを使用するプラズマ
アドレスド電気光学装置の隔壁形成用として好適であ
る。また比重が３．９９ｇ／ｃｍ3 以下であり、従来例
に比べてかなり小さい値であった。
ある試料Ｎｏ．１〜１０は、焼結性が良好であり、体積
収縮率が１〜７％、熱膨張係数が３３〜４２×１０-7／
℃であり、基板に無アルカリガラスを使用するプラズマ
アドレスド電気光学装置の隔壁形成用として好適であ
る。また比重が３．９９ｇ／ｃｍ3 以下であり、従来例
に比べてかなり小さい値であった。
【００３４】なお焼結性は、熱処理時に試料粉末が焼結
するかどうかで評価した。体積収縮率及び比重は、アル
キメデス法を用いて測定した。熱膨張係数は、焼成した
試料を棒状に加工し、熱膨張係数測定装置を用いて３０
〜３００℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定し
たものである。
するかどうかで評価した。体積収縮率及び比重は、アル
キメデス法を用いて測定した。熱膨張係数は、焼成した
試料を棒状に加工し、熱膨張係数測定装置を用いて３０
〜３００℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定し
たものである。
【００３５】
【発明の効果】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス
複合材料は、ＰｂＯ系ガラスの代わりにＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 系ガラスを用いるために、従来の材料に比
べて比重が小さく、プラズマ放電空間を有するディスプ
レイ装置の軽量化に有効な材料である。また環境や人体
に悪影響を与えることがない。しかも６００℃以下で焼
成でき、焼成時の体積収縮も少ないため、隔壁形成材料
として好適である。
複合材料は、ＰｂＯ系ガラスの代わりにＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 系ガラスを用いるために、従来の材料に比
べて比重が小さく、プラズマ放電空間を有するディスプ
レイ装置の軽量化に有効な材料である。また環境や人体
に悪影響を与えることがない。しかも６００℃以下で焼
成でき、焼成時の体積収縮も少ないため、隔壁形成材料
として好適である。
【００３６】さらにＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラ
スは低膨張化が容易であるため、無アルカリガラスを基
板に用いるプラズマアドレスド電気光学装置の隔壁形成
材料としても好適である。
スは低膨張化が容易であるため、無アルカリガラスを基
板に用いるプラズマアドレスド電気光学装置の隔壁形成
材料としても好適である。
Claims (10)
- 【請求項１】 プラズマ放電空間を有する薄型ディスプ
レイ装置の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であ
って、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系結晶性ガラス粉末
とフィラー粉末を含むことを特徴とする隔壁形成用ガラ
スセラミックス複合材料。 - 【請求項２】 重量％でガラス粉末１５〜６０％、フィ
ラー粉末４０〜８５％からなることを特徴とする請求項
１の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料。 - 【請求項３】 ガラス粉末及びフィラー粉末が、Ｐｂ、
Ｔｌ及びＢｉを含有しないことを特徴とする請求項１又
は２の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料。 - 【請求項４】 ガラス粉末が、ＺｎＯ・Ｂ2 Ｏ3 結晶及
び／又はＺｎＯ・ＳｉＯ2 系結晶を析出する性質を有す
ることを特徴とする請求項１〜３の隔壁形成用ガラスセ
ラミックス複合材料。 - 【請求項５】 ガラス粉末が、重量％でＺｎＯ ５０〜
６５％、Ｂ2 Ｏ3２０〜３５％、ＳｉＯ2 ７〜１５
％、Ｒ2 Ｏ＋ＲＯ ３〜１０％（ただしＲ2Ｏ：Ｌｉ2
Ｏ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、ＲＯ：ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ
＋ＢａＯ）の組成を有することを特徴とする請求項１〜
４の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料。 - 【請求項６】 焼成後の比重が２．０〜４．０ｇ／ｃｍ
3 であることを特徴とする請求項１〜５の隔壁形成用ガ
ラスセラミックス複合材料。 - 【請求項７】 焼成による体積収縮率が１５％以下であ
ることを特徴とする請求項１〜６の隔壁形成用ガラスセ
ラミックス複合材料。 - 【請求項８】 フィラー粉末が、コージエライト、ウイ
レマイト、ジルコンから選ばれる１種以上の低膨張フィ
ラー粉末を含有することを特徴とする請求項１〜３の隔
壁形成用ガラスセラミックス複合材料。 - 【請求項９】 フィラー粉末の総量に占める低膨張フィ
ラー粉末の割合が、重量％で８０％以上であることを特
徴とする請求項８の隔壁形成用ガラスセラミックス複合
材料。 - 【請求項１０】 焼成後の３０〜３００℃における熱膨
張係数が３０〜５０×１０-7／℃であることを特徴とす
る請求項８又は９の隔壁形成用ガラスセラミックス複合
材料。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341398A JP3897202B2 (ja) | 1997-07-14 | 1998-01-06 | 隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20524997 | 1997-07-14 | ||
| JP9-205249 | 1997-07-14 | ||
| JP1341398A JP3897202B2 (ja) | 1997-07-14 | 1998-01-06 | 隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1179786A true JPH1179786A (ja) | 1999-03-23 |
| JP3897202B2 JP3897202B2 (ja) | 2007-03-22 |
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ID=26349209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1341398A Expired - Fee Related JP3897202B2 (ja) | 1997-07-14 | 1998-01-06 | 隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3897202B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005264138A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-29 | Jsr Corp | ガラス粉末含有樹脂組成物、転写フィルムおよびこれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP2008214152A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | ガラスペースト組成物 |
-
1998
- 1998-01-06 JP JP1341398A patent/JP3897202B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005264138A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-29 | Jsr Corp | ガラス粉末含有樹脂組成物、転写フィルムおよびこれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP2008214152A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | ガラスペースト組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3897202B2 (ja) | 2007-03-22 |
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