JPH09268026A - 絶縁用ガラス組成物 - Google Patents
絶縁用ガラス組成物Info
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- JPH09268026A JPH09268026A JP10629996A JP10629996A JPH09268026A JP H09268026 A JPH09268026 A JP H09268026A JP 10629996 A JP10629996 A JP 10629996A JP 10629996 A JP10629996 A JP 10629996A JP H09268026 A JPH09268026 A JP H09268026A
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- glass
- glass composition
- thermal expansion
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/14—Silica-free oxide glass compositions containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/16—Compositions for glass with special properties for dielectric glass
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- Glass Compositions (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ソーダ石灰ガラス基板等と適合する熱膨張係
数を有し、６００℃以下の焼成で失透がなく透明性が高
いガラス膜が形成可能であり、しかも機能材料に悪影響
を及ぼしたり、Ｐｂ2+イオンが移動したりすることがな
く、また廃棄する際に環境問題が生じる恐れのない絶縁
用ガラス組成物を提供する。 【解決手段】 重量百分率でＢｉ2 Ｏ3 ３６〜８０
％、Ｂ2 Ｏ3 ５〜３５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ ５〜４０
％、ＺｎＯ ０〜９％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｉＯ2
０〜８％、Ａｌ2 Ｏ3 ０〜５％の組成を有し、本質
的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。
数を有し、６００℃以下の焼成で失透がなく透明性が高
いガラス膜が形成可能であり、しかも機能材料に悪影響
を及ぼしたり、Ｐｂ2+イオンが移動したりすることがな
く、また廃棄する際に環境問題が生じる恐れのない絶縁
用ガラス組成物を提供する。 【解決手段】 重量百分率でＢｉ2 Ｏ3 ３６〜８０
％、Ｂ2 Ｏ3 ５〜３５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ ５〜４０
％、ＺｎＯ ０〜９％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｉＯ2
０〜８％、Ａｌ2 Ｏ3 ０〜５％の組成を有し、本質
的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は絶縁用ガラス組成物に関
するものである。
するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子部品や電子装置、例えばソーダ石灰
ガラス基板を用いて作製される蛍光表示管やプラズマデ
ィスプレイでは、電極や抵抗体を絶縁するためにガラス
膜を形成することが行われている。このようなガラス材
料として、従来よりＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラ
スが広く使用されている。
ガラス基板を用いて作製される蛍光表示管やプラズマデ
ィスプレイでは、電極や抵抗体を絶縁するためにガラス
膜を形成することが行われている。このようなガラス材
料として、従来よりＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラ
スが広く使用されている。
【０００３】この種のガラス材料は一般に絶縁用ガラス
と呼ばれるが、このガラスには、基板上に形成した電極
や抵抗体などの機能材料に狂いが生じないように低温で
焼成できることが求められる。特にソーダ石灰ガラス基
板に使用する場合、基板の軟化変形を防ぐために６００
℃以下で焼成できることが要求される。このため従来の
絶縁用ガラスでは、ＰｂＯを４０〜７５重量％含有させ
ることによって６００℃以下の軟化点を達成している。
と呼ばれるが、このガラスには、基板上に形成した電極
や抵抗体などの機能材料に狂いが生じないように低温で
焼成できることが求められる。特にソーダ石灰ガラス基
板に使用する場合、基板の軟化変形を防ぐために６００
℃以下で焼成できることが要求される。このため従来の
絶縁用ガラスでは、ＰｂＯを４０〜７５重量％含有させ
ることによって６００℃以下の軟化点を達成している。
【０００４】またこの絶縁用ガラスは、焼成時に失透し
ないこと、及び焼成後の透明性が高いことが必要であ
る。透明性が高いと無機顔料を混合して所望の色調に着
色可能となるため、用途によって使い分けができるため
である。
ないこと、及び焼成後の透明性が高いことが必要であ
る。透明性が高いと無機顔料を混合して所望の色調に着
色可能となるため、用途によって使い分けができるため
である。
【０００５】さらにこの絶縁用ガラスは、基板の反りや
ガラスのクラックを防止するため、ソーダ石灰ガラス基
板（７５〜８５×１０-7／℃程度［３０〜３００℃］）
等と適合する熱膨張係数を有することが求められる。
ガラスのクラックを防止するため、ソーダ石灰ガラス基
板（７５〜８５×１０-7／℃程度［３０〜３００℃］）
等と適合する熱膨張係数を有することが求められる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
従来の絶縁用ガラスは、ＰｂＯを多量に含有するため、
ガラス膜に隣接する機能材料に悪影響を及ぼしたり、電
子部品や表示装置の使用中にＰｂ2+イオンが移動して絶
縁抵抗値が低下することがある。また製品を廃棄する場
合、環境問題を引き起こす可能性がある。
従来の絶縁用ガラスは、ＰｂＯを多量に含有するため、
ガラス膜に隣接する機能材料に悪影響を及ぼしたり、電
子部品や表示装置の使用中にＰｂ2+イオンが移動して絶
縁抵抗値が低下することがある。また製品を廃棄する場
合、環境問題を引き起こす可能性がある。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、ソーダ石灰ガラス基板等と適合する熱膨張係数を
有し、６００℃以下の焼成で失透がなく透明性が高いガ
ラス膜が形成可能であり、しかも機能材料に悪影響を及
ぼしたり、Ｐｂ2+イオンが移動したりすることがなく、
また廃棄する際に環境問題が生じる恐れのない絶縁用ガ
ラス組成物を提供することを目的とする。
あり、ソーダ石灰ガラス基板等と適合する熱膨張係数を
有し、６００℃以下の焼成で失透がなく透明性が高いガ
ラス膜が形成可能であり、しかも機能材料に悪影響を及
ぼしたり、Ｐｂ2+イオンが移動したりすることがなく、
また廃棄する際に環境問題が生じる恐れのない絶縁用ガ
ラス組成物を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は種々の実験を
行った結果、Ｂｉ2 Ｏ3 −Ｂ2 Ｏ3 系のＰｂＯ不含有ガ
ラスを使用することにより、上記目的を達成できること
を見いだし、本発明として提案するものである。
行った結果、Ｂｉ2 Ｏ3 −Ｂ2 Ｏ3 系のＰｂＯ不含有ガ
ラスを使用することにより、上記目的を達成できること
を見いだし、本発明として提案するものである。
【０００９】即ち、本発明の絶縁用ガラス組成物は、重
量百分率でＢｉ2 Ｏ3 ３６〜８０％、Ｂ2 Ｏ3 ５〜
３５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ ５〜４０％、ＺｎＯ ０〜９
％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｉＯ2 ０〜８％、Ａｌ2
Ｏ3 ０〜５％の組成を有し、本質的にＰｂＯを含有し
ないことを特徴とする。
量百分率でＢｉ2 Ｏ3 ３６〜８０％、Ｂ2 Ｏ3 ５〜
３５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ ５〜４０％、ＺｎＯ ０〜９
％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｉＯ2 ０〜８％、Ａｌ2
Ｏ3 ０〜５％の組成を有し、本質的にＰｂＯを含有し
ないことを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明の絶縁用ガラス組成物の限定理由は、次
のとおりである。
のとおりである。
【００１１】Ｂｉ2 Ｏ3 はガラスの軟化点を下げる効果
があり、その含有量は３６〜８０％、好ましくは４０〜
７５％である。Ｂｉ2 Ｏ3 の含有量が３６％より少ない
と軟化点が高くなり過ぎて６００℃以下で焼成できなく
なり、８０％より多いと熱膨張係数が大きくなり過ぎて
好ましくない。
があり、その含有量は３６〜８０％、好ましくは４０〜
７５％である。Ｂｉ2 Ｏ3 の含有量が３６％より少ない
と軟化点が高くなり過ぎて６００℃以下で焼成できなく
なり、８０％より多いと熱膨張係数が大きくなり過ぎて
好ましくない。
【００１２】Ｂ2 Ｏ3 はガラス形成成分として必須であ
り、その含有量は５〜３５％、好ましくは７〜２５％で
ある。Ｂ2 Ｏ3 の含有量が５％より少ないと安定なガラ
スが得られなくなって失透が生じ、３５％より多くなる
とガラスの粘性が高くなり過ぎて６００℃以下の温度で
焼成が困難になる。
り、その含有量は５〜３５％、好ましくは７〜２５％で
ある。Ｂ2 Ｏ3 の含有量が５％より少ないと安定なガラ
スが得られなくなって失透が生じ、３５％より多くなる
とガラスの粘性が高くなり過ぎて６００℃以下の温度で
焼成が困難になる。
【００１３】ＢａＯとＳｒＯはガラスを安定化させて失
透を防止するための成分であり、これらを合量で５〜４
０％、好ましくは７〜３０％含有する。これらの成分の
合量が５％より少ないとその効果がなく、一方、４０％
より多くなると逆にガラスが不安定になる。なおＢａＯ
は０〜３５％、好ましくは０〜２５％、ＳｒＯは０〜３
０％、好ましくは０〜２０％であることが望ましい。
透を防止するための成分であり、これらを合量で５〜４
０％、好ましくは７〜３０％含有する。これらの成分の
合量が５％より少ないとその効果がなく、一方、４０％
より多くなると逆にガラスが不安定になる。なおＢａＯ
は０〜３５％、好ましくは０〜２５％、ＳｒＯは０〜３
０％、好ましくは０〜２０％であることが望ましい。
【００１４】ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｉＯ2 及びＡｌ2 Ｏ3
は何れもガラスをより安定化させるために含有させる成
分であり、ＺｎＯの含有量は０〜９％、好ましくは０．
１〜９％、ＣａＯの含有量は０〜１０％、好ましくは０
〜５％、ＳｉＯ2 の含有量は０〜８％、好ましくは０〜
５％、Ａｌ2 Ｏ3 の含有量は０〜５％、好ましくは０〜
４％である。これらの成分が上記範囲を超えるとガラス
の粘性が高くなり過ぎたり、失透し易くなって好ましく
ない。
は何れもガラスをより安定化させるために含有させる成
分であり、ＺｎＯの含有量は０〜９％、好ましくは０．
１〜９％、ＣａＯの含有量は０〜１０％、好ましくは０
〜５％、ＳｉＯ2 の含有量は０〜８％、好ましくは０〜
５％、Ａｌ2 Ｏ3 の含有量は０〜５％、好ましくは０〜
４％である。これらの成分が上記範囲を超えるとガラス
の粘性が高くなり過ぎたり、失透し易くなって好ましく
ない。
【００１５】なお上記成分以外にも、ガラスの粘性や熱
膨張係数の調整のために、Ｃｓ2 Ｏ、Ｆ、ＭｇＯ、Ｌａ
2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 、ＭｏＯ3 、
ＷＯ3 、Ａｇ2 Ｏ、Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏ、Ｌｉ2 Ｏ等を５
％以下添加することが可能である。
膨張係数の調整のために、Ｃｓ2 Ｏ、Ｆ、ＭｇＯ、Ｌａ
2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 、ＭｏＯ3 、
ＷＯ3 、Ａｇ2 Ｏ、Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏ、Ｌｉ2 Ｏ等を５
％以下添加することが可能である。
【００１６】次に本発明の絶縁用ガラス組成物を使用し
た一般的なガラス膜の形成方法を説明する。
た一般的なガラス膜の形成方法を説明する。
【００１７】まず、上記組成を有するガラス粉末を用意
する。ガラス粉末は３０〜４５μｍ以下のものを使用す
ることが好ましい。次にガラス粉末を、バインダーを溶
解させた溶媒と混練し、ペーストを作製する。その後、
ペーストを基板上の所望の箇所にスクリーン印刷等の方
法で塗布した後、６００℃以下の温度で５〜２５分程度
焼成することによって、ガラス膜を形成することでき
る。
する。ガラス粉末は３０〜４５μｍ以下のものを使用す
ることが好ましい。次にガラス粉末を、バインダーを溶
解させた溶媒と混練し、ペーストを作製する。その後、
ペーストを基板上の所望の箇所にスクリーン印刷等の方
法で塗布した後、６００℃以下の温度で５〜２５分程度
焼成することによって、ガラス膜を形成することでき
る。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の絶縁用ガラス組成物を実施例
に基づいて詳細に説明する。表１は、本発明の実施例
（試料Ｎｏ．１〜９）を示すものである。
に基づいて詳細に説明する。表１は、本発明の実施例
（試料Ｎｏ．１〜９）を示すものである。
【００１９】
【表１】
【００２０】表１の各試料は次のようにして調製した。
【００２１】まず表１に示したガラス組成となるように
各種酸化物、炭酸塩等を調合したガラスバッチを準備
し、これを白金坩堝に入れて９６０〜１１５０℃で２時
間溶融した後、溶融ガラスをステンレス製の金型に流し
だし成形した。得られた各試料について、ガラス転移
点、３０〜３００℃における熱膨張係数、失透の有無及
び透明性について評価した。結果を表１に示す。
各種酸化物、炭酸塩等を調合したガラスバッチを準備
し、これを白金坩堝に入れて９６０〜１１５０℃で２時
間溶融した後、溶融ガラスをステンレス製の金型に流し
だし成形した。得られた各試料について、ガラス転移
点、３０〜３００℃における熱膨張係数、失透の有無及
び透明性について評価した。結果を表１に示す。
【００２２】表から明らかなように、実施例であるＮ
ｏ．１〜９の各試料は、ガラス転移点が３７０〜５０４
℃、３０〜３００℃の温度範囲における熱膨張係数が８
０〜１１８×１０-7／℃であり、６００℃以下の焼成温
度で失透がなく透明性の高いガラス膜を形成することが
できた。
ｏ．１〜９の各試料は、ガラス転移点が３７０〜５０４
℃、３０〜３００℃の温度範囲における熱膨張係数が８
０〜１１８×１０-7／℃であり、６００℃以下の焼成温
度で失透がなく透明性の高いガラス膜を形成することが
できた。
【００２３】なお、転移点及び熱膨張係数は、成形した
ガラス体を直径４ｍｍ、長さ４０ｍｍの円柱状に研磨加
工し、押し棒式熱膨張係数装置を用いて測定した。失透
の有無と透明性については、以下のように調べた。まず
ガラスをアルミナ乳鉢で粉砕した後、分級し、目開き４
５μｍの篩を通過させたガラス粉末を得た。このガラス
粉末を５重量％のエチルセルロースを溶解させたターピ
ネオール溶液に練り込むことによってペーストを得た。
次いでこのペーストをソーダ石灰ガラス基板の上にスク
リーン印刷法で塗布した後、電気炉中に入れ、表中の焼
成温度で１０分間熱処理した。この焼成物の外観を目視
で観察し、失透の有無と透明性を評価した。
ガラス体を直径４ｍｍ、長さ４０ｍｍの円柱状に研磨加
工し、押し棒式熱膨張係数装置を用いて測定した。失透
の有無と透明性については、以下のように調べた。まず
ガラスをアルミナ乳鉢で粉砕した後、分級し、目開き４
５μｍの篩を通過させたガラス粉末を得た。このガラス
粉末を５重量％のエチルセルロースを溶解させたターピ
ネオール溶液に練り込むことによってペーストを得た。
次いでこのペーストをソーダ石灰ガラス基板の上にスク
リーン印刷法で塗布した後、電気炉中に入れ、表中の焼
成温度で１０分間熱処理した。この焼成物の外観を目視
で観察し、失透の有無と透明性を評価した。
【００２４】
【発明の効果】以上のように本発明の絶縁用ガラス組成
物は、焼成温度が６００℃以下で、失透がなく透明性の
高いガラス膜を形成することができる。また８０〜１２
０×１０-7／℃程度の熱膨張係数を有し、ソーダ石灰ガ
ラス基板等の熱膨張係数と適合する。しかもＰｂＯを含
有しないため、機能材料に悪影響を及ぼしたり、Ｐｂ2+
イオンが移動したりすることがなく、廃棄する際にＰｂ
Ｏによる環境問題も生じない。このため、特にプラズマ
ディスプレイパネルや蛍光表示装置の絶縁材料として好
適である。
物は、焼成温度が６００℃以下で、失透がなく透明性の
高いガラス膜を形成することができる。また８０〜１２
０×１０-7／℃程度の熱膨張係数を有し、ソーダ石灰ガ
ラス基板等の熱膨張係数と適合する。しかもＰｂＯを含
有しないため、機能材料に悪影響を及ぼしたり、Ｐｂ2+
イオンが移動したりすることがなく、廃棄する際にＰｂ
Ｏによる環境問題も生じない。このため、特にプラズマ
ディスプレイパネルや蛍光表示装置の絶縁材料として好
適である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｂ 3/08 Ｈ０１Ｂ 3/08 Ａ Ｈ０１Ｊ 1/90 Ｈ０１Ｊ 1/90
Claims (1)
- 【請求項１】 重量百分率でＢｉ2 Ｏ3 ３６〜８０
％、Ｂ2 Ｏ3 ５〜３５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ ５〜４０
％、ＺｎＯ ０〜９％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｉＯ2
０〜８％、Ａｌ2 Ｏ3 ０〜５％の組成を有し、本質
的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする絶縁用ガラス
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10629996A JP3800256B2 (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | 絶縁用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10629996A JP3800256B2 (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | 絶縁用ガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09268026A true JPH09268026A (ja) | 1997-10-14 |
| JP3800256B2 JP3800256B2 (ja) | 2006-07-26 |
Family
ID=14430153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10629996A Expired - Fee Related JP3800256B2 (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | 絶縁用ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3800256B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000073228A1 (fr) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Baruch Nachmansohn | Compositions de verre |
| US6255239B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-07-03 | Cerdec Corporation | Lead-free alkali metal-free glass compositions |
| WO2001085631A1 (fr) * | 2000-05-11 | 2001-11-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Composition de verre, verre d'etancheite pour tete magnetique et tete magnetique correspondante |
| US6475605B2 (en) | 2000-01-18 | 2002-11-05 | Central Glass Company, Limited | Low-melting glass for covering substrate |
| US6768193B2 (en) | 2001-08-01 | 2004-07-27 | Hitachi, Ltd. | Heat transfer structure for a semiconductor device utilizing a bismuth glass layer |
| JP2005041734A (ja) * | 2003-05-26 | 2005-02-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 誘電体形成用ガラス及びプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料 |
| JP2007169162A (ja) * | 2007-03-26 | 2007-07-05 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系材料 |
| JP2007210880A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-08-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料 |
| JP2008088046A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-04-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 支持枠形成用ガラス組成物および支持枠形成材料 |
| US7407902B2 (en) | 2002-03-29 | 2008-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Bismuth glass composition, and magnetic head and plasma display panel including the same as sealing member |
| EP1829832A4 (en) * | 2004-10-07 | 2008-09-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | PLASMA SCREEN |
| DE102007025465B3 (de) * | 2007-05-30 | 2008-09-25 | Schott Ag | Niedrig aufschmelzendes bleifreies Lotglas und dessen Verwendung |
| US7585798B2 (en) | 2003-06-27 | 2009-09-08 | Yamato Electronic Co., Ltd. | Lead-free glass material for use in sealing and, sealed article and method for sealing using the same |
| US7749929B2 (en) | 2005-10-05 | 2010-07-06 | Asahi Glass Company, Limited | Glass for covering electrodes and plasma display panel |
| WO2015194290A1 (ja) * | 2014-06-19 | 2015-12-23 | 株式会社村田製作所 | 導電性ペースト、及びガラス物品 |
-
1996
- 1996-04-02 JP JP10629996A patent/JP3800256B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6255239B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-07-03 | Cerdec Corporation | Lead-free alkali metal-free glass compositions |
| WO2000073228A1 (fr) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Baruch Nachmansohn | Compositions de verre |
| US6475605B2 (en) | 2000-01-18 | 2002-11-05 | Central Glass Company, Limited | Low-melting glass for covering substrate |
| WO2001085631A1 (fr) * | 2000-05-11 | 2001-11-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Composition de verre, verre d'etancheite pour tete magnetique et tete magnetique correspondante |
| US6778355B2 (en) | 2000-05-11 | 2004-08-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Glass composition, sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same |
| US6768193B2 (en) | 2001-08-01 | 2004-07-27 | Hitachi, Ltd. | Heat transfer structure for a semiconductor device utilizing a bismuth glass layer |
| US6784538B2 (en) | 2001-08-01 | 2004-08-31 | Hitachi, Ltd. | Heat transfer structure for a semiconductor device utilizing a bismuth glass layer |
| US7407902B2 (en) | 2002-03-29 | 2008-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Bismuth glass composition, and magnetic head and plasma display panel including the same as sealing member |
| JP2005041734A (ja) * | 2003-05-26 | 2005-02-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 誘電体形成用ガラス及びプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料 |
| US7585798B2 (en) | 2003-06-27 | 2009-09-08 | Yamato Electronic Co., Ltd. | Lead-free glass material for use in sealing and, sealed article and method for sealing using the same |
| EP1829832A4 (en) * | 2004-10-07 | 2008-09-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | PLASMA SCREEN |
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