JP2001302279A - 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット - Google Patents
無鉛低融点ガラスおよびガラスフリットInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/08—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
Abstract
(57)【要約】
【課題】プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管等の
封着、被覆等に使用でき、その焼成物が電気絶縁性に優
れる無鉛低融点ガラスを得る。 【解決手段】モル％表示で、Ｐ2Ｏ5：２５〜５０、Ｓｎ
Ｏ：２〜３５、ＺｎＯ：２．１〜４０、Ａｌ2Ｏ3≦１
０、Ｉｎ2Ｏ3≦１０、ＷＯ3≦１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋
ＳｒＯ＋ＢａＯ：０．１〜３５、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ
2Ｏ≦９であり、ＳｎＯ／ＺｎＯ＜１かつＢ2Ｏ3を含有
しない無鉛低融点ガラス。
封着、被覆等に使用でき、その焼成物が電気絶縁性に優
れる無鉛低融点ガラスを得る。 【解決手段】モル％表示で、Ｐ2Ｏ5：２５〜５０、Ｓｎ
Ｏ：２〜３５、ＺｎＯ：２．１〜４０、Ａｌ2Ｏ3≦１
０、Ｉｎ2Ｏ3≦１０、ＷＯ3≦１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋
ＳｒＯ＋ＢａＯ：０．１〜３５、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ
2Ｏ≦９であり、ＳｎＯ／ＺｎＯ＜１かつＢ2Ｏ3を含有
しない無鉛低融点ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、蛍光表示管（ＶＦＤ）等のフラ
ットディスプレイパネルにおける封着、被覆、隔壁形成
に好適な無鉛低融点ガラスおよびガラスフリットに関す
る。
レイパネル（ＰＤＰ）、蛍光表示管（ＶＦＤ）等のフラ
ットディスプレイパネルにおける封着、被覆、隔壁形成
に好適な無鉛低融点ガラスおよびガラスフリットに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰ、ＶＦＤの封着用、被覆用、また
は隔壁形成用のガラスフリットに用いられるガラス粉末
のガラスとして、電気絶縁性を低下させるおそれのある
アルカリ金属酸化物を含有することなく、または含有し
たとしても低含有量で、低軟化点を実現できるリン酸ス
ズ亜鉛系ガラスが注目されている。
は隔壁形成用のガラスフリットに用いられるガラス粉末
のガラスとして、電気絶縁性を低下させるおそれのある
アルカリ金属酸化物を含有することなく、または含有し
たとしても低含有量で、低軟化点を実現できるリン酸ス
ズ亜鉛系ガラスが注目されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来知られているリン
酸スズ亜鉛系ガラスは焼成時に結晶化しやすく、２回以
上焼成・流動させて使う場合、２回目以降の焼成におい
て流動しにくい、または繰り返し焼成によって寸法安定
性が低下する、等の問題があった。
酸スズ亜鉛系ガラスは焼成時に結晶化しやすく、２回以
上焼成・流動させて使う場合、２回目以降の焼成におい
て流動しにくい、または繰り返し焼成によって寸法安定
性が低下する、等の問題があった。
【０００４】また、このようなリン酸スズ亜鉛系ガラス
がＢ2Ｏ3を含有する場合、このガラスをＶＦＤの隔壁形
成に用いるとエミッション電流が低下する問題が起るこ
とがあった。このエミッション電流低下は、隔壁形成時
に行う焼成に際してガラスから放出されるＨ3ＢＯ3ガ
ス、またはＶＦＤを使用している際に隔壁のガラスから
放出されるＨ3ＢＯ3ガスが原因の一つと考えられてい
る。本発明は、以上の課題を解決し、２回以上焼成を行
う用途にも適用でき、かつ前記エミッション電流低下を
抑制できる無鉛低融点ガラスおよびガラスフリットの提
供を目的とする。
がＢ2Ｏ3を含有する場合、このガラスをＶＦＤの隔壁形
成に用いるとエミッション電流が低下する問題が起るこ
とがあった。このエミッション電流低下は、隔壁形成時
に行う焼成に際してガラスから放出されるＨ3ＢＯ3ガ
ス、またはＶＦＤを使用している際に隔壁のガラスから
放出されるＨ3ＢＯ3ガスが原因の一つと考えられてい
る。本発明は、以上の課題を解決し、２回以上焼成を行
う用途にも適用でき、かつ前記エミッション電流低下を
抑制できる無鉛低融点ガラスおよびガラスフリットの提
供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記酸化物基
準のモル％表示で、Ｐ2Ｏ5：２５〜５０、ＳｎＯ：２〜
３５、ＺｎＯ：２．１〜４０、ＭｇＯ：０〜３５、Ｃａ
Ｏ：０〜３５、ＳｒＯ：０〜３５、ＢａＯ：０〜３５、
Ａｌ2Ｏ3：０〜１０、Ｉｎ2Ｏ3：０〜１０、ＷＯ3：０
〜１０、Ｌｉ2Ｏ：０〜９、Ｎａ2Ｏ：０〜９、Ｋ2Ｏ：
０〜９、から実質的になり、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋
ＢａＯが０．１〜３５モル％であり、Ｌｉ 2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ
＋Ｋ2Ｏが０〜９モル％であり、ＳｎＯのＺｎＯに対す
るモル比が１未満であって、実質的にＢ2Ｏ3を含有しな
い無鉛低融点ガラス、および、低膨張セラミックスフィ
ラーおよび耐熱顔料の少なくともいずれか一方と、前記
無鉛低融点ガラスの粉末を含有するガラスフリット、を
提供する。
準のモル％表示で、Ｐ2Ｏ5：２５〜５０、ＳｎＯ：２〜
３５、ＺｎＯ：２．１〜４０、ＭｇＯ：０〜３５、Ｃａ
Ｏ：０〜３５、ＳｒＯ：０〜３５、ＢａＯ：０〜３５、
Ａｌ2Ｏ3：０〜１０、Ｉｎ2Ｏ3：０〜１０、ＷＯ3：０
〜１０、Ｌｉ2Ｏ：０〜９、Ｎａ2Ｏ：０〜９、Ｋ2Ｏ：
０〜９、から実質的になり、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋
ＢａＯが０．１〜３５モル％であり、Ｌｉ 2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ
＋Ｋ2Ｏが０〜９モル％であり、ＳｎＯのＺｎＯに対す
るモル比が１未満であって、実質的にＢ2Ｏ3を含有しな
い無鉛低融点ガラス、および、低膨張セラミックスフィ
ラーおよび耐熱顔料の少なくともいずれか一方と、前記
無鉛低融点ガラスの粉末を含有するガラスフリット、を
提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の無鉛低融点ガラス（以下
単に本発明のガラスという。）を、封着、被覆、または
隔壁形成に用いるときは、粉末化して使用される。この
粉末化されたガラスは通常、必要に応じて低膨張セラミ
ックスフィラー、耐熱顔料、等と混合され、次にビヒク
ルと混練してペースト化される。このガラスペーストは
下地のガラスの所定部位に塗布され、焼成される。ここ
でいう下地のガラスは、ガラスの上に透明電導膜等が被
覆されているものも含む。
単に本発明のガラスという。）を、封着、被覆、または
隔壁形成に用いるときは、粉末化して使用される。この
粉末化されたガラスは通常、必要に応じて低膨張セラミ
ックスフィラー、耐熱顔料、等と混合され、次にビヒク
ルと混練してペースト化される。このガラスペーストは
下地のガラスの所定部位に塗布され、焼成される。ここ
でいう下地のガラスは、ガラスの上に透明電導膜等が被
覆されているものも含む。
【０００７】本発明のガラスの軟化点（Ｔs）は５８０
℃以下であることが好ましい。５８０℃超では、ＰＤ
Ｐ、ＶＦＤ、等の封着、被覆、または隔壁形成に用いる
ことが困難になるおそれがある。より好ましくは５６０
℃以下、特に好ましくは５５０℃以下である。また、Ｔ
sは４５０℃以上であることが好ましい。４５０℃未満
では、ＰＤＰ、ＶＦＤ、等における被覆または隔壁形成
に用いることが困難になるおそれがある。より好ましく
は４６０℃以上、特に好ましくは４８０℃以上、最も好
ましくは５００℃以上である。
℃以下であることが好ましい。５８０℃超では、ＰＤ
Ｐ、ＶＦＤ、等の封着、被覆、または隔壁形成に用いる
ことが困難になるおそれがある。より好ましくは５６０
℃以下、特に好ましくは５５０℃以下である。また、Ｔ
sは４５０℃以上であることが好ましい。４５０℃未満
では、ＰＤＰ、ＶＦＤ、等における被覆または隔壁形成
に用いることが困難になるおそれがある。より好ましく
は４６０℃以上、特に好ましくは４８０℃以上、最も好
ましくは５００℃以上である。
【０００８】本発明のガラスの結晶化温度（Ｔc）はＴs
よりも４０℃以上高いことが好ましい。ＴcとＴsの差
（Ｔc−Ｔs）が４０℃未満では焼成時に結晶化しやすく
なるおそれがある。ここで、Ｔcは示差熱分析（ＤＴ
Ａ）によって得られる結晶化ピーク温度であり、結晶化
ピークが認められない場合は、Ｔc＝∞とする。（Ｔc−
Ｔ s）は６０℃以上であることがより好ましく、７０℃
以上であることが特に好ましく、８０℃以上であること
が最も好ましい。
よりも４０℃以上高いことが好ましい。ＴcとＴsの差
（Ｔc−Ｔs）が４０℃未満では焼成時に結晶化しやすく
なるおそれがある。ここで、Ｔcは示差熱分析（ＤＴ
Ａ）によって得られる結晶化ピーク温度であり、結晶化
ピークが認められない場合は、Ｔc＝∞とする。（Ｔc−
Ｔ s）は６０℃以上であることがより好ましく、７０℃
以上であることが特に好ましく、８０℃以上であること
が最も好ましい。
【０００９】本発明のガラスの膨張係数（５０〜２５０
℃における平均線膨張係数をいう。以下同じ。）は１２
０×１０-7／℃以下であることが好ましい。１２０×１
０-7／℃超では、後述の本発明のガラスフリットの焼成
物の前記膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。よ
り好ましくは１１０×１０-7／℃以下、特に好ましくは
１００×１０-7／℃以下である。また、前記膨張係数は
６０×１０-7／℃以上であることが好ましい。
℃における平均線膨張係数をいう。以下同じ。）は１２
０×１０-7／℃以下であることが好ましい。１２０×１
０-7／℃超では、後述の本発明のガラスフリットの焼成
物の前記膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。よ
り好ましくは１１０×１０-7／℃以下、特に好ましくは
１００×１０-7／℃以下である。また、前記膨張係数は
６０×１０-7／℃以上であることが好ましい。
【００１０】次に、本発明のガラスの組成について、モ
ル％を単に％と記して以下に説明する。Ｐ2Ｏ5はネット
ワークフォーマであり、必須である。２５％未満ではガ
ラス化が困難になる。好ましくは２６％以上、より好ま
しくは２７％以上、特に好ましくは２８％以上である。
５０％超では化学的耐久性が低下する。好ましくは４０
％以下、より好ましくは３７％以下である。
ル％を単に％と記して以下に説明する。Ｐ2Ｏ5はネット
ワークフォーマであり、必須である。２５％未満ではガ
ラス化が困難になる。好ましくは２６％以上、より好ま
しくは２７％以上、特に好ましくは２８％以上である。
５０％超では化学的耐久性が低下する。好ましくは４０
％以下、より好ましくは３７％以下である。
【００１１】ＳｎＯは軟化点を下げ流動性を増加させる
成分であり、必須である。２％未満では軟化点が高くな
りすぎる。好ましくは８％以上、より好ましくは１０％
以上、特に好ましくは１２％以上である。３５％超では
ガラスの溶解性が低下し、溶融ガラス表面に被膜状の異
物層が形成される。好ましくは３３％以下、より好まし
くは３０％以下である。
成分であり、必須である。２％未満では軟化点が高くな
りすぎる。好ましくは８％以上、より好ましくは１０％
以上、特に好ましくは１２％以上である。３５％超では
ガラスの溶解性が低下し、溶融ガラス表面に被膜状の異
物層が形成される。好ましくは３３％以下、より好まし
くは３０％以下である。
【００１２】ＺｎＯは、ガラスを安定化させる効果、化
学的耐久性を向上させる効果、膨張係数を低下させる効
果、または、軟化点を下げる効果を有し、必須である。
２．１％未満では前記効果が小さい。好ましくは１０％
以上、より好ましくは１５％以上、特に好ましくは２０
％以上，最も好ましくは２５％以上である。４０％超で
は焼成時に結晶化しやすくなる。好ましくは３５％以
下、より好ましくは３２％以下である。
学的耐久性を向上させる効果、膨張係数を低下させる効
果、または、軟化点を下げる効果を有し、必須である。
２．１％未満では前記効果が小さい。好ましくは１０％
以上、より好ましくは１５％以上、特に好ましくは２０
％以上，最も好ましくは２５％以上である。４０％超で
は焼成時に結晶化しやすくなる。好ましくは３５％以
下、より好ましくは３２％以下である。
【００１３】ＳｎＯのＺｎＯに対するモル比、すなわち
ＳｎＯの含有量をＺｎＯの含有量で除した値は１未満で
なければならない。このモル比が１以上では、ガラスの
溶解性が低下し、溶融ガラス表面に被膜状の異物層が形
成される。好ましくは０．９９以下、より好ましくは
０．９８以下、特に好ましくは０．９７以下である。
ＳｎＯの含有量をＺｎＯの含有量で除した値は１未満で
なければならない。このモル比が１以上では、ガラスの
溶解性が低下し、溶融ガラス表面に被膜状の異物層が形
成される。好ましくは０．９９以下、より好ましくは
０．９８以下、特に好ましくは０．９７以下である。
【００１４】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは、
ガラスを安定化し、また焼成時の結晶化を抑制する効果
を有し、それぞれ３５％まで含有してもよい。３５％超
では軟化点が高くなりすぎる。好ましくは１５％以下で
ある。
ガラスを安定化し、また焼成時の結晶化を抑制する効果
を有し、それぞれ３５％まで含有してもよい。３５％超
では軟化点が高くなりすぎる。好ましくは１５％以下で
ある。
【００１５】本発明においては、ガラスを安定化し、ま
た焼成時の結晶化を抑制するためにこれら４成分の１種
以上を必ず含有し、これら４成分の含有量の合計ＭｇＯ
＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯは０．１〜３５％である。
０．１％未満では、ガラスが不安定になる、または焼成
時の結晶化を抑制できない。好ましくは２％以上、より
好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上である。
３５％超では軟化点が高くなりすぎる。好ましくは２０
％以下、より好ましくは１７％以下、特に好ましくは１
５％以下である。
た焼成時の結晶化を抑制するためにこれら４成分の１種
以上を必ず含有し、これら４成分の含有量の合計ＭｇＯ
＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯは０．１〜３５％である。
０．１％未満では、ガラスが不安定になる、または焼成
時の結晶化を抑制できない。好ましくは２％以上、より
好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上である。
３５％超では軟化点が高くなりすぎる。好ましくは２０
％以下、より好ましくは１７％以下、特に好ましくは１
５％以下である。
【００１６】Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3およびＷＯ3はいずれ
も必須ではないが、化学的耐久性を高くするために、ま
たは焼成時の結晶化を抑制するために、それぞれ１０％
まで含有してもよい。１０％超では軟化点が高くなりす
ぎるおそれがある。より好ましくは５％以下である。
も必須ではないが、化学的耐久性を高くするために、ま
たは焼成時の結晶化を抑制するために、それぞれ１０％
まで含有してもよい。１０％超では軟化点が高くなりす
ぎるおそれがある。より好ましくは５％以下である。
【００１７】Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3およびＷＯ3の含有量
の合計は１０％以下であることが好ましい。１０％超で
は軟化点が高くなりすぎるおそれがある。より好ましく
は７％以下、特に好ましくは５％以下である。
の合計は１０％以下であることが好ましい。１０％超で
は軟化点が高くなりすぎるおそれがある。より好ましく
は７％以下、特に好ましくは５％以下である。
【００１８】Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏはいずれも
必須ではないが、軟化点を低下させるためにそれぞれ９
％まで含有してもよい。９％超では電気絶縁性が低下す
るおそれがある、化学的耐久性が低下するおそれがあ
る、または膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。
より好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下であ
る。Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏのいずれも実質的に
含有しないこと、すなわち不純物レベル以下、たとえば
それぞれ０．１％以下であることが最も好ましい。
必須ではないが、軟化点を低下させるためにそれぞれ９
％まで含有してもよい。９％超では電気絶縁性が低下す
るおそれがある、化学的耐久性が低下するおそれがあ
る、または膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。
より好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下であ
る。Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏのいずれも実質的に
含有しないこと、すなわち不純物レベル以下、たとえば
それぞれ０．１％以下であることが最も好ましい。
【００１９】Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の
合計は９％以下であることが好ましい。９％超では電気
絶縁性が低下するおそれがある、化学的耐久性が低下す
るおそれがある、または膨張係数が大きくなりすぎるお
それがある。より好ましくは３％以下、特に好ましくは
１％以下である。
合計は９％以下であることが好ましい。９％超では電気
絶縁性が低下するおそれがある、化学的耐久性が低下す
るおそれがある、または膨張係数が大きくなりすぎるお
それがある。より好ましくは３％以下、特に好ましくは
１％以下である。
【００２０】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、これ以外の成分を合計で５モル％まで含有しても
よい。このような成分として、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｃｅ
Ｏ2、等の希土類酸化物、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、
ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｚｒ
Ｏ2、ＭｏＯ3、Ｒｈ2Ｏ3、ＰｄＯ、Ａｇ2Ｏ、ＴｅＯ2、
Ｂｉ2Ｏ3が例示される。なお、ＰｂＯおよびＣｄＯにつ
いてはいずれも実質的に含有しない、すなわち不純物レ
ベル以下である。
るが、これ以外の成分を合計で５モル％まで含有しても
よい。このような成分として、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｃｅ
Ｏ2、等の希土類酸化物、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、
ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｚｒ
Ｏ2、ＭｏＯ3、Ｒｈ2Ｏ3、ＰｄＯ、Ａｇ2Ｏ、ＴｅＯ2、
Ｂｉ2Ｏ3が例示される。なお、ＰｂＯおよびＣｄＯにつ
いてはいずれも実質的に含有しない、すなわち不純物レ
ベル以下である。
【００２１】また、本発明のガラスはＢ2Ｏ3を実質的に
含有しない、すなわちその含有量は不純物レベル以下、
たとえば０．１％以下である。Ｂ2Ｏ3を含有すると、焼
成時にガラスから放出されるＨ3ＢＯ3ガス、またはＶＦ
Ｄを使用している際に隔壁のガラスから放出されるＨ3
ＢＯ3ガスがエミッション電流を低下させるおそれがあ
る。
含有しない、すなわちその含有量は不純物レベル以下、
たとえば０．１％以下である。Ｂ2Ｏ3を含有すると、焼
成時にガラスから放出されるＨ3ＢＯ3ガス、またはＶＦ
Ｄを使用している際に隔壁のガラスから放出されるＨ3
ＢＯ3ガスがエミッション電流を低下させるおそれがあ
る。
【００２２】また、Ｆ、Ｃｌ、等のハロゲン元素も実質
的に含有しないことが好ましい。ハロゲン元素は焼成時
にガス化し、ＰＤＰ、ＶＦＤ、等における蛍光体と反応
して蛍光体を劣化させたり、また、ＶＦＤのフィラメン
トに付着してエミッション低下を起こしたりするおそれ
がある。
的に含有しないことが好ましい。ハロゲン元素は焼成時
にガス化し、ＰＤＰ、ＶＦＤ、等における蛍光体と反応
して蛍光体を劣化させたり、また、ＶＦＤのフィラメン
トに付着してエミッション低下を起こしたりするおそれ
がある。
【００２３】本発明のガラスは、ＰＤＰ、ＶＦＤ等のフ
ラットディスプレイパネルにおける封着、被覆、隔壁形
成に好適である。
ラットディスプレイパネルにおける封着、被覆、隔壁形
成に好適である。
【００２４】本発明のガラスフリットは本発明のガラス
の粉末を含有し、この他に、低膨張セラミックスフィラ
ー、耐熱顔料のうちの少なくとも一方を含有する。ここ
でいう低膨張セラミックスフィラーは、膨張係数が７０
×１０-7／℃以下であるセラミックスフィラーであり、
アルミナ、ムライト、ジルコン、コーディエライト、チ
タン酸アルミニウム、β−スポデュメン、α−石英、β
−石英固溶体およびβ−ユークリプタイトから選ばれる
１種以上の粉末であることが、取り扱いやすさまたは入
手しやすさの点から好ましい。また、耐熱顔料として、
たとえばチタニア等の白色顔料、Ｆｅ−Ｍｎ複酸化物
系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ複酸化物系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ複
酸化物系等の黒色顔料が挙げられる。
の粉末を含有し、この他に、低膨張セラミックスフィラ
ー、耐熱顔料のうちの少なくとも一方を含有する。ここ
でいう低膨張セラミックスフィラーは、膨張係数が７０
×１０-7／℃以下であるセラミックスフィラーであり、
アルミナ、ムライト、ジルコン、コーディエライト、チ
タン酸アルミニウム、β−スポデュメン、α−石英、β
−石英固溶体およびβ−ユークリプタイトから選ばれる
１種以上の粉末であることが、取り扱いやすさまたは入
手しやすさの点から好ましい。また、耐熱顔料として、
たとえばチタニア等の白色顔料、Ｆｅ−Ｍｎ複酸化物
系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ複酸化物系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ複
酸化物系等の黒色顔料が挙げられる。
【００２５】本発明のガラスフリットを焼成して得られ
る焼成物の膨張係数は６０×１０-7〜９０×１０-7／℃
の範囲にあることが好ましい。膨張係数がこの範囲外で
は焼成物と下地のガラスとの膨張マッチングが困難にな
るおそれがある。
る焼成物の膨張係数は６０×１０-7〜９０×１０-7／℃
の範囲にあることが好ましい。膨張係数がこの範囲外で
は焼成物と下地のガラスとの膨張マッチングが困難にな
るおそれがある。
【００２６】次に本発明のガラスフリットの組成につい
て説明する。本発明のガラスの粉末は必須である。その
含有量は５０〜９９．９体積％であることが好ましい。
５０体積％未満ではガラスフリットの焼成時の流動性が
小さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは５５体
積％以上、特に好ましくは６０体積％以上である。ま
た、その含有量が９９．９体積％超では、低膨張セラミ
ックスフィラーまたは耐熱顔料の含有量が小さくなりす
ぎる。より好ましくは９９体積％以下、特に好ましくは
９８体積％以下である。
て説明する。本発明のガラスの粉末は必須である。その
含有量は５０〜９９．９体積％であることが好ましい。
５０体積％未満ではガラスフリットの焼成時の流動性が
小さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは５５体
積％以上、特に好ましくは６０体積％以上である。ま
た、その含有量が９９．９体積％超では、低膨張セラミ
ックスフィラーまたは耐熱顔料の含有量が小さくなりす
ぎる。より好ましくは９９体積％以下、特に好ましくは
９８体積％以下である。
【００２７】低膨張セラミックスフィラーは、膨張係数
を小さくするために５０体積％まで含有してもよい。５
０体積％超では焼成時の流動性が小さくなりすぎるおそ
れがある。より好ましくは４５体積％以下、特に好まし
くは４０体積％以下である。また、低膨張セラミックス
フィラーを含有する場合はその含有量は１体積％以上で
あることがより好ましく、２体積％以上であることが特
に好ましい。耐熱顔料は、必要に応じて４０体積％まで
含有してもよい。４０体積％超では焼成時の流動性が小
さくなりすぎるおそれがある。
を小さくするために５０体積％まで含有してもよい。５
０体積％超では焼成時の流動性が小さくなりすぎるおそ
れがある。より好ましくは４５体積％以下、特に好まし
くは４０体積％以下である。また、低膨張セラミックス
フィラーを含有する場合はその含有量は１体積％以上で
あることがより好ましく、２体積％以上であることが特
に好ましい。耐熱顔料は、必要に応じて４０体積％まで
含有してもよい。４０体積％超では焼成時の流動性が小
さくなりすぎるおそれがある。
【００２８】本発明のガラスフリットは低膨張セラミッ
クスフィラー、耐熱顔料のうちの少なくともいずれか一
方を含有しなければならないが、それらの含有量の合計
は０．１〜５０体積％であることが好ましい。より好ま
しくは１〜４５体積％、特に好ましくは２〜４０体積％
である。
クスフィラー、耐熱顔料のうちの少なくともいずれか一
方を含有しなければならないが、それらの含有量の合計
は０．１〜５０体積％であることが好ましい。より好ま
しくは１〜４５体積％、特に好ましくは２〜４０体積％
である。
【００２９】本発明のガラスフリットは、通常はビヒク
ルと混合してガラスペーストとされる。ビヒクルとの混
合は、乳鉢、三本ロール、等を用いて行われる。このガ
ラスペーストをスクリーン印刷等の方法により下地のガ
ラス、たとえばガラス基板またはガラス基板上に形成さ
れた薄膜の所定部位に塗布し、たとえば６００℃以下で
焼成し、封着、被覆、隔壁形成、等を行う。前記ビヒク
ルとしては、エチルセルロース、ニトロセルロース、等
の樹脂を、α−テルピネオール、ブチルカルビトールア
セテート、酢酸イソペンチル、等の溶剤に溶解したもの
が通常用いられる。
ルと混合してガラスペーストとされる。ビヒクルとの混
合は、乳鉢、三本ロール、等を用いて行われる。このガ
ラスペーストをスクリーン印刷等の方法により下地のガ
ラス、たとえばガラス基板またはガラス基板上に形成さ
れた薄膜の所定部位に塗布し、たとえば６００℃以下で
焼成し、封着、被覆、隔壁形成、等を行う。前記ビヒク
ルとしては、エチルセルロース、ニトロセルロース、等
の樹脂を、α−テルピネオール、ブチルカルビトールア
セテート、酢酸イソペンチル、等の溶剤に溶解したもの
が通常用いられる。
【００３０】
【実施例】表のＰ2Ｏ5〜Ｉｎ2Ｏ3の欄にモル％表示で示
した組成となるように原料を調合、混合して蓋付きの石
英ルツボに入れ、１１００℃に加熱し３０分間溶融し
た。次いで、溶融ガラスをステンレス鋼製ローラに流し
込んでフレーク化した。得られたフレーク状のガラスを
アルミナ製ボールミルで１０５分間粉砕してガラス粉末
とした。
した組成となるように原料を調合、混合して蓋付きの石
英ルツボに入れ、１１００℃に加熱し３０分間溶融し
た。次いで、溶融ガラスをステンレス鋼製ローラに流し
込んでフレーク化した。得られたフレーク状のガラスを
アルミナ製ボールミルで１０５分間粉砕してガラス粉末
とした。
【００３１】得られたガラス粉末について、ガラス転移
点Ｔg（単位：℃）、軟化点Ｔs（単位：℃）、結晶化温
度Ｔc（単位：℃）、膨張係数α（単位：１０-7／
℃）、フローボタン径Ｄ（単位：ｍｍ）、フローボタン
外観、を測定・評価した。その方法を以下に、結果を表
に示す。
点Ｔg（単位：℃）、軟化点Ｔs（単位：℃）、結晶化温
度Ｔc（単位：℃）、膨張係数α（単位：１０-7／
℃）、フローボタン径Ｄ（単位：ｍｍ）、フローボタン
外観、を測定・評価した。その方法を以下に、結果を表
に示す。
【００３２】ガラス転移点、軟化点、結晶化温度：平均
粒径が１０〜２０μｍのガラス粉末を試料として示差熱
分析により昇温速度１０℃／分で室温から８００℃まで
の範囲で測定した。なお、アルミナ粉末を標準物質とし
た。５６０℃で焼成する場合は、軟化点が５６０℃以下
かつ結晶化温度が６００℃以上であることが好ましい。
粒径が１０〜２０μｍのガラス粉末を試料として示差熱
分析により昇温速度１０℃／分で室温から８００℃まで
の範囲で測定した。なお、アルミナ粉末を標準物質とし
た。５６０℃で焼成する場合は、軟化点が５６０℃以下
かつ結晶化温度が６００℃以上であることが好ましい。
【００３３】膨張係数：前記溶融ガラスをステンレス鋼
製板の上に流し出し、ガラス転移点近傍で徐冷した。徐
冷したガラスを直径２ｍｍ、長さ２０ｍｍの棒状に加工
したものを試料とし、石英ガラスを標準試料として、示
差熱膨張計により５０〜２５０℃の範囲における平均線
膨張係数を測定した。
製板の上に流し出し、ガラス転移点近傍で徐冷した。徐
冷したガラスを直径２ｍｍ、長さ２０ｍｍの棒状に加工
したものを試料とし、石英ガラスを標準試料として、示
差熱膨張計により５０〜２５０℃の範囲における平均線
膨張係数を測定した。
【００３４】フローボタン径：ガラス粉末３．５ｇを直
径１２．７ｍｍの円柱状に加圧成形したものを試料とし
た。この試料を５６０℃に１０分間保持し、この加熱処
理後の試料の直径を測定した。この直径は１３ｍｍ以上
であることが好ましく、１４ｍｍ以上であることがより
好ましい。
径１２．７ｍｍの円柱状に加圧成形したものを試料とし
た。この試料を５６０℃に１０分間保持し、この加熱処
理後の試料の直径を測定した。この直径は１３ｍｍ以上
であることが好ましく、１４ｍｍ以上であることがより
好ましい。
【００３５】フローボタン外観：フローボタン径の測定
によって得られた前記加熱処理後の試料の外観を観察し
た。光沢があることが好ましい。光沢があるものを○で
示した。
によって得られた前記加熱処理後の試料の外観を観察し
た。光沢があることが好ましい。光沢があるものを○で
示した。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【発明の効果】本発明のガラスを用いることにより、Ｐ
ＤＰ、ＶＦＤ、等における封着、被覆、隔壁形成、等に
使用できる焼成物が得られる。また、電気絶縁性にも優
れているので電気的な問題がおこりにくい。
ＤＰ、ＶＦＤ、等における封着、被覆、隔壁形成、等に
使用できる焼成物が得られる。また、電気絶縁性にも優
れているので電気的な問題がおこりにくい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 AA15 BB09 CC10 DA01 DB01 DB02 DB03 DC01 DD04 DD05 DE03 DE04 DE05 DF01 EA01 EA02 EA03 EA10 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED01 ED02 ED03 ED04 ED05 EE01 EE02 EE03 EE04 EE05 EF01 EF02 EF03 EF04 EF05 EG01 EG02 EG03 EG04 EG05 FA01 FB01 FC01 FD01 FE03 FE04 FE05 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH06 HH07 HH08 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM10 MM12 NN26 NN29 PP01 PP02 PP03 PP04 PP05 PP06 PP09
Claims (3)
- 【請求項１】下記酸化物基準のモル％表示で、 Ｐ2Ｏ5 ２５〜５０、 ＳｎＯ ２〜３５、 ＺｎＯ ２．１〜４０、 ＭｇＯ ０〜３５、 ＣａＯ ０〜３５、 ＳｒＯ ０〜３５、 ＢａＯ ０〜３５、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜１０、 Ｉｎ2Ｏ3 ０〜１０、 ＷＯ3 ０〜１０、 Ｌｉ2Ｏ ０〜９、 Ｎａ2Ｏ ０〜９、 Ｋ2Ｏ ０〜９、 から実質的になり、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが
０．１〜３５モル％であり、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ
が０〜９モル％であり、ＳｎＯのＺｎＯに対するモル比
が１未満であって、実質的にＢ2Ｏ3を含有しない無鉛低
融点ガラス。 - 【請求項２】Ａｌ2Ｏ3＋Ｉｎ2Ｏ3＋ＷＯ3が０〜１０モ
ル％である請求項１に記載の無鉛低融点ガラス。 - 【請求項３】低膨張セラミックスフィラーおよび耐熱顔
料の少なくともいずれか一方と、請求項１または２に記
載の無鉛低融点ガラスの粉末を含有するガラスフリッ
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000121147A JP2001302279A (ja) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000121147A JP2001302279A (ja) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001302279A true JP2001302279A (ja) | 2001-10-31 |
Family
ID=18631843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000121147A Pending JP2001302279A (ja) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001302279A (ja) |
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-
2000
- 2000-04-21 JP JP2000121147A patent/JP2001302279A/ja active Pending
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