KR100266205B1 - 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물은 SiO2-ZnO-B2O5계 유리를 사용한다.
이에따라, 플라즈마 표시장치용 유전체는 비교적 낮은 유전율을 갖게되어 어드레싱 시간의 지연을 줄이게 됨과 아울러, 반사율이 향상된다.

Description

플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 (Composition of Dielectric Layer for Plasma Display Panel)
본 발명은 플라즈마 표시장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물에 관한 것이다.
최근, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 "LCD"라 함), 전계방출 표시장치(Field Emission Display; 이하 "FED"라 함) 및 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel; 이하 "PDP"라 함)등의 평면 표시장치가 활발히 개발되고 있으며, 이들중 PDP는 단순구조에 의한 제작의 용이성, 고휘도 및 고발광 효율의 우수, 메모리 기능 및 160。 이상의 광시야각을 갖는 점과 아울러 40 인치이상의 대화면을 구현할수 있는 장점을 가지고 있다.
도 1을 참조하면, 종래기술에 따른 PDP는 어드레스 전극(2)을 실장한 하부유리판(14)과, 상기 하부 유리판(14)의 상부에 소정의 두께로 도포된 하부 유전체후막(18)과, 하부 유전체후막(18)의 상부에 형성되어 각각의 방전셀을 분할하는 격벽(8)과, 플라즈마 방전으로 발생된 빛에 의해 여기되어 발광하는 형광체(6)와, 상부유리판(16)의 상부에 형성된 투명전극(4)과, 상기 상부유리판(16) 및 투명전극(4)의 상부에 소정의 두께로 도포된 상부 유전체후막(12)과, 상기 유전체 후막(12)의 상부에 도포된 보호막(10)을 구비한다. 어드레스 전극(2) 및 투명전극(4)에 소정의 구동전압(예를들어 200V)이 인가되면, 방전셀의 내부에는 어드레스전극(2)에서 방출된 전자에 의해 플라즈마 방전이 일어나게 된다. 이를 상세히 설명하면, 전극에서 방출된 전자가 방전셀에 봉입된 He+Xe 가스 또는 Ne+Xe 가스의 원자와 충돌하여 상기 가스의 원자들을 이온화 시켜면서 2차전자의 방출이 일어나며 이때의 2차전자는 가스의 원자들과 충돌을 반복하면서 차례로 원자를 이온화 해간다. 즉, 전자와 이온이 배로 증가하는 애벌런치(Avalanche)과정에 들어간다. 상기 애벌런치 과정에서 발생된 빛이 적색(Red; 이하 "R"라 함), 녹색(Green; 이하 "G"라 함), 청색(Blue;이하 "B"라 함)의 형광체를 여기 발광하게 되며 상기 형광체에서 발광된 R,G,B의 빛은 보호막(10), 상부 유전체후막(12) 및 투명전극(4)을 경유하여 상부유리판(16)으로 진행되어 문자 또는 그래픽을 표시하게 된다. 한편, 상기 상부 유전체후막(12)은 형광체(6)에서 여기 발광된 광빔을 투과 시키는 반면에, 하부 유전체후막(18)은 형광체(6)에서 발광된 빛을 상부유리판(16) 쪽으로 반사시키게 된다. 이를 상세히 설명하면, 하부 유전체 후막(18)은 방전유지 및 발광효율의 향상과 아울러 확산방지막의 기능을 수행하게 된다. 상기 형광체(6)에서 발생된 빛은 상부 유리판(16)과 하부 유리판(14)으로 진행하게 되며, 하부 유리판(14)으로 진행된 빛의 20-30%가 반사되어 상부 유리판(16)쪽으로 진행되므로 광효율이 저하된다. 이를위해, 하부 유전체후막(18)은 높은 치밀조직과 높은 반사율이 요구됨과 아룰러, 하부 유전체후막(18)의 균열을 방지하기 위해 낮은 열팽창계수와 열적안정성 및 낮은 유전율 등의 특성이 요구된다.
이를위해, 일본국 특허 제 평8-119665호에 유전체 후막 및 그 제조방법이 개시되어 있다. 종래기술에 따른 유전체 후막의 조성비는 표 1에 나타나 있다. 표 1에서의 조성비는 유전체 후막의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.
유전체 후막의 조성비
성 분 PbO SiO2 B2O3 ZnO Al2O3
중량% 60-70 12-17 8-15 5-12 0.1-5
또한, 유전체 후막의 제조방법에 대해서 설명하기로 한다. 상기 유전체 후막의 제조방법의 첫번째 공정에서 60-70 중량%의 PbO를 함유하는 화합물 유리 또는 상기 화합물 유리에 산화물 충진제를 섞은 글라스-세라믹스(Glass-Ceramics) 재료를 10㎛ 이하의 미분말로 만든다. 두 번째 공정에서 상기 미분말을 유기용매(Vehicle)와 혼합하여 페이스트(Paste)화하여 유리기판에 20-30㎛의 두께로 스크린 프린팅(Screen Printing)한다. 세 번째 공정에서 100℃에서 20-30 분간 건조한후 500-550℃의 온도범위에서 소결하여 유전체 후막을 형성하게 된다.
상기와 같은 방법으로 제조된 유전체 후막의 유전율은 12-15로 비교적 높은 유전율을 갖게되어 어드레싱 시간의 지연 현상이 나타나게 됨과 아울러, PbO가 차지하는 비중이 높으므로 소자의 무게가 증대되어 전체적인 중량의 증가를 가져오는 단점이 도출되고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족시키는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물을 제공 하는데 있다.
도 1은 종래의 기술에 따른 플라즈마 표시장치의 구조를 도시한 도면.
도 2는 본 발명에 따른 상부 유전체후막의 제조방법을 도시한 흐름도.
도 3은 본 발명에 따른 하부 유전체후막의 제조방법을 도시한 흐름도.
＜ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ＞
2: 어드레스 전극 4 : 투명전극
6 : 형광체 8 : 격벽
10 : 보호막 12 : 상부 유전체후막
14 : 하부유리판 16 : 상부유리판
18 : 하부 유전체후막
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물은 SiO2-ZnO-B2O5계 유리를 사용한다.
또한, 본 발명에 따른 또 다른 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물은 P2O5-ZnO-BaO계 유리를 사용한다.
본 발명에 따른 유전체후막은 상부 유전체후막(12)과 하부 유전체후막(18)을 형성하는 조성물이 달라지게 된다. 상부 유전체후막(12)은 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말의 조성물을 갖는 반면에, 하부 유전체후막(18)은 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말에 충진제 분말(산화물 분말)을 첨가한 조성물을 가지게 된다. 유전체후막의 제조방법에 대해서 설명하면, 상부 유전체후막(12) 또는 하부 유전체후막(18)에 따른 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비로 혼합하고 용융시킨후 급속냉각함에 의해 미세한 입자를 갖는 분말을 형성시켜 상기 분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합하여 페이스트(Paste)화하여 유리기판에 소정의 두께로 도포하여 일정한 온도로 소결함에 의해 상부 및 하부 유전체후막(12,18)을 형성하게 된다. 이렇게 제작된 상부 및 하부 유전체 후막(12,18)은 광학적, 열적, 전기적 요구특성이 향상된다.
이하에 본 발명에 따른 유전체 후막의 조성비와 그 제조방법의 실시예들을 설명하나, 본 발명의 범위가 이들 실시예들에 국한되는 것은 아님을 밝혀둔다.
제1 실시예
본 발명의 제1 실시예에서는 상부 유전체후막(12)의 조성물 및 그 제조방법에 대해서 설명하기로 한다. 상부 유전체후막(12)의 조성물인 SiO2-ZnO-B2O3계 및 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말의 조성비가 표 2 및 표 3에 나타나 있다. 표 2에서의 조성비는 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.
SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 조성비
성분 SiO2 K2O Li2O Na2O PbO CaO ZnO B2O3 Al2O3
중량% 15-25 2-10 1-5 2-8 3-40 1-5 25-45 12-25 1-7
한편, 표 3에서의 조성비는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.
P2O5-ZnO-BaO계 모상유리의 조성비
성분 P2O5 ZnO Li2O CaO BaO B2O3 Al2O3
중량% 45-65 20-35 2-10 1-6 3-15 1-5 1-7
도 2를 참조하면, 상부 유전체 후막의 제조방법의 흐름도가 도시되어 있다. 상부 유전체후막의 제조방법은, 모상유리의 분말을 형성한다.(제21 단계) 상기 모상유리의 분말형성 과정에 대해서 상세히 설명하면, 첫 번째 공정에서 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리의 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비에 따라 혼합한다. SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리에 따라 원재료는 서로다른 조성비를 가지게 된다. 이를 상세히 설명하면, 먼저 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리는 25 내지 45 중량%의 ZnO와, 3 내지 40 중량%의 PbO와, 15 내지 25 중량%의 SiO2와, 12 내지 25 중량%의 B2O3와, 2 내지 10 중량%의 K2O와, 2 내지 8 중량%의 Na2O와, 1 내지 7 중량%의 Al2O3와, 1 내지 5 중량%의 Li2O와, 1 내지 5 중량%의 CaO을 함유한다. 다음으로, P2O5-ZnO-BaO계 모상유리는 45 내지 65 중량%의 P2O5와, 20 내지 35 중량%의 ZnO와, 3 내지 15 중량%의 BaO와, 2 내지 10 중량%의 Li2O와, 1 내지 7 중량%의 Al2O3과, 1 내지 6 중량%의 CaO와, 1 내지 5 중량%의 B2O3를 함유한다. 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리의 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비에 따라 칭량하여 텀블링 믹서(Tumbling Mixer)에서 소정시간(예를들면, 10시간) 혼합하게 된다. 두 번째 공정에서 혼합된 원재료를 용융로에 투입하여 용융시킨다. 이때의 용융조건(Melting Condition)은 1100℃에서 5시간 정도 유지하며, 용융도중에 원재료가 골고루 용융되도록 2-3 차례 교반(Stirring)시킴에 의해 균질화되어 용융된 유리는 치밀한 조직을 가지게 된다. 세 번째 공정에서 용융된 유리를 급속냉각 시킴에 의해 미세한 입자를 갖는 분말을 형성시킨다. 상기 용융된 유리는 큐엔칭 롤러(Quenching Roller)를 통과시킨후 급속냉각하면 미세한 크랙(Crack)을 갖는 파쇄유리(Cullets)가 생성되며, 이 파쇄유리를 볼밀링(Ball Milling)법에 의해 소정시간(예를들어, 16 시간) 밀링하고 #170, #270 시버(Siver)를 순차적으로 통과시킴에 의해 입자크기가 약 6㎛의 양호한 입도분산을 갖는 분말을 만들 수 있다. 한편, 볼밀링법에 대해서 설명하면, 소정의 용적을 갖는 Al2O3재질의 항아리(Jar)에 볼(Ball)과 미세한 크랙이 형성된 파쇄유리를 소정비율로 투입한후, 상기 항아리를 소정시간(예를들어, 16시간) 회전시키면, 파쇄유리는 볼과 충돌하여 미세한 입자의 유리가 된다. 이때, 파쇄유리 생성시 파쇄유리에 미세한 크랙을 형성하는 큐엔칭롤러(Quenching Roller) 방식이 유리하며, 밀링(Milling)시의 볼의 형태는 원통형(Cylinderical Type)이 바람직 하다.
분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합하여 페이스트(Paste)를 형성한다.(제22 단계) 페이스트 형성과정에 대해서 상세히 설명하면, 분말과 유기용매(Vehicle)를 일정비율로 혼합하여 페이스트 상태를 만든다. 이때의 유기용매(Vehicle)는 BCA(Butyl-Carbitol-Acetate; 이하 "BCA"라 함),BC(Butyl-Carbitol; 이하 "BC"라 함) 및 EC(Ethyl-Cellulose; 이하 "EC"라 함)가 일정비율로 혼합된 유기용매를 사용하며, 이중 EC의 양에 의해서 페이스트의 점도가 변화되어 리올리지(Rheology) 및 소결특성에 영향을 주므로 EC의 혼합비율은 10%가 바람직하다. 또한, BCA의 혼합비율은 60%, BC의 혼합비율은 20%가 바람직 하다.
페이스트를 상부유리판에 프린팅(제23 단계)한후, 소정온도에 소정시간 소결한다.(제24 단계) 프린팅 단계와 소결단계에 대해서 상세히 설명하면, 페이스트를 상부유리판에 스크린 프린팅(Screen Printing)으로 10㎛의 두께로 도포시킨후, 드라이오븐(Dry Oven)에서 소정시간(예를들어 20분) 건조하여 저항가열 방식의 배치(Batch) 또는 인라인형(In-Line Type) 저항가열로에 유리기판을 투입하여 결정화 온도에 따라 소결하여 유전체 후막을 형성하게 된다. 이때, 드라이오븐에서는 페이스트 내에 함유된 유기물이 소거된다. 또한, 상기 소결온도는 상기 분말에 대한 DTA(Differential Thermal Analysis; 이하 "DTA"라 함)분석 으로부터 결정화 온도가 정해지며, SiO2-ZnO-B2O3계의 경우 550-600℃로 설정하고 P2O5-ZnO-BaO계의 경우 510-530℃로 설정하여 15-30분 정도 소결하는 것이 바람직 하다.
제2 실시예
본 발명의 제2 실시예에서는 하부 유전체후막(12)의 조성물 및 그 제조방법에 대해서 설명하기로 한다. 하부 유전체후막(12)은 SiO2-ZnO-B2O3계 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말에 충진제 분말(산화물 분말)을 혼합한 조성물을 가지게 되며, 이때 충진제의 조성비가 표 4 및 표 5에 나타나 있다.
한편, SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 첨가되는 충진제의 조성비가 표 4에 나타나 있다.
표 4에서의 조성비는 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.
SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 첨가되는 충진제의 조성비
충진제 TiO2 AlPO4 P2O5 V2O5 ZrO2
중량% 3-25 5-30 5-30 2-15 2-20
상기 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 첨가되는 충진제에 대해서 설명하면, 상기 모상유리에 3 내지 25 중량%의 TiO2를 첨가하면 하부 유전체후막(18)의 반사율과 결정화도가 향상된다. 이를 상세히 설명하면, 모상유리의 굴절율(n)은 1.4-1.5이고 TiO2의 굴절율(n)은 2.7이 되며, 굴절율과 반사율은 비례하게 되므로 굴절율이 높을수록 반사율이 증가하게 된다. 또한, TiO2는 결정화도를 높이게 되어 반사율이 증가시키게 된다. 한편, 상기 모상유리에 5 내지 30 중량%의 AlPO4를 첨가하거나, 모상유리에 5 내지 30 중량%의 P2O5를 첨가하거나, 모상유리에 2 내지 15 중량%의 V2O5를 첨가하거나, 모상유리에 2 내지 20 중량%의 ZrO2를 첨가하면, 하부 유전체후막(18)의 결정화도가 향상된다. 한편, TiO2, AlPO4, P2O5, V2O5, ZrO2를 모상유리에 모두 첨가하여 하부 유전체후막(18)을 형성할수도 있으며, 하부 유전체후막(18)에서 요구되는 특성에 따라 모상유리에 상기 TiO2, AlPO4, P2O5, V2O5, ZrO2를 선택적으로 첨가하여 하부 유전체후막(18)을 형성할수도 있다.
P2O5-ZnO-BaO계 모상유리에 첨가되는 충진제의 조성비가 표 5에 나타나 있다. 표 5에서의 조성비는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.
충진제 TiO2 α-Al2O3 V2O5 ZrO2
중량% 3-25 5-20 2-15 2-20
상기 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리에 첨가되는 충진제에 대해서 설명하면, 상기 모상유리에 3 내지 25 중량%의 TiO2를 첨가하면 하부 유전체후막(18)의 반사율과 결정화도가 향상된다. 한편, 모상유리에 2 내지 15 중량%의 V2O5를 첨가하거나, 모상유리에 2 내지 20 중량%의 ZrO2를 첨가하면, 하부 유전체후막(18)의 결정화도가 향상된다. 한편, 모상유리에 5 내지 20 중량%의 α-Al2O3를 첨가하면, 낮은 열팽창게수를 갖는 하부 유전체후막(18)을 형성하게 된다. 이를 상세히 설명하면, 모상유리의 열팽창계수는 101 X 10-7/℃이고 α-Al2O3의 열팽창계수는 66 X 10-7/℃이며, 상기 모상유리에 α-Al2O3를 첨가하여 형성된 하부 유전체후막(18)의 열팽창계수는 85-90 X 10-7/℃로 하부유리판(소다석회 유리)의 열팽창계수인 83-85 X 10-7/℃에 근사하게 되어 하부 유전체후막(18)의 표면조도가 향상된다. 한편, TiO2, α-Al2O3, V2O5, ZrO2를 모상유리에 모두 첨가하여 하부 유전체후막(18)을 형성할수도 있으며, 하부 유전체후막(18)에서 요구되는 특성에 따라 모상유리에 상기 TiO2, α-Al2O3, V2O5, ZrO2를 선택적으로 첨가하여 하부 유전체후막(18)을 형성할수도 있다.
도 3을 참조하면, 하부 유전체 후막의 제조방법의 흐름도가 도시되어 있다. 하부 유전체 후막의 제조방법은, 모상유리 분말과 충진제 분말을 혼합하여 혼합분말을 형성한다(제31 단계) 모상유리의 분말형성 과정은 도 2의 내용과 동일하므로 상세한 설명은 생략 하기로 한다. 상기 모상유리의 분말과 충진제 분말을 혼합하여 혼합분말을 형성하는 과정에 대해서 상세히 설명하면, 첫 번째 공정에서 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말에 충진제를 선택적으로 첨가한 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비에 따라 혼합시킨다. SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말에 충진제를 첨가한 원재료는 다른 조성비를 가지게 된다. 이를 상세히 설명하면, 먼저 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말에 5 내지 30 중량%의 P2O5, 5 내지 30 중량%의 AlPO4, 3 내지 25 중량%의 TiO2, 2 내지 20 중량%의 ZrO2, 2 내지 15 중량%의 V2O5의 충진제를 하부 유전체후막(18)에서 요구되는 특성에 따라 적어도 1이상을 선택적으로 첨가한다. 다음으로, P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말에 3 내지 25 중량%의 TiO2, 5 내지 20 중량%의 α-Al2O3, 2 내지 20 중량%의 ZrO2, 2 내지 15 중량%의 V2O5의 충진제를 하부 유전체후막(18)에서 요구되는 특성에 따라 적어도 1이상을 선택적으로 첨가한다. 두 번째 공정에서 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리 분말에 충진제를 선택적으로 첨가한 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비에 따라 칭량하여 텀블링 믹서(Tumbling Mixer)에서 소정시간(예를들면, 10시간) 혼합하여 혼합분말을 형성하게 된다. 한편, 상기 원재료는 플라즈마 표시장치(PDP)용 격벽의 재료로 사용할수도 있다.
혼합분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합하여 페이스트(Paste)를 형성한다.(제32 단계) 페이스트 형성과정에 대해서 상세히 설명하면, 분말과 유기용매(Vehicle)를 일정비율로 혼합하여 페이스트 상태를 만든다. 이때의 유기용매(Vehicle)는 BCA(Butyl-Carbitol-Acetate; 이하 "BCA"라 함),BC(Butyl-Carbitol; 이하 "BC"라 함) 및 EC(Ethyl-Cellulose; 이하 "EC"라 함)가 일정비율로 혼합된 유기용매를 사용하며, 이중 EC의 양에 의해서 페이스트의 점도가 변화되어 리올리지(Rheology) 및 소결특성에 영향을 주므로 EC의 혼합비율은 10%가 바람직하다. 또한, BCA의 혼합비율은 60%, BC의 혼합비율은 20%가 바람직 하며, 이때 유기용매(Vehicle)의 점도는 70000 CPS가 된다.
페이스트를 하부유리판에 프린팅(제33 단계)한후, 소정온도에 소정시간 소결한다.(제34 단계) 프린팅 단계와 소결단계에 대해서 상세히 설명하면, 페이스트를 하부유리판에 스크린 프린팅(Screen Printing)으로 10㎛의 두께로 도포시킨후, 드라이오븐(Dry Oven)에서 소정시간(예를들어 20분) 건조하여 저항가열 방식의 배치(Batch) 또는 인라인형(In-Line Type) 저항가열로에 유리기판을 투입하여 결정화 온도에 따라 소결하여 유전체 후막을 형성하게 된다. 이때, 드라이오븐에서는 페이스트 내에 함유된 유기물이 소거된다. 상기 소결온도는 혼합분말에 대한 DTA(Differential Thermal Analysis; 이하 "DTA"라 함)분석 으로부터 결정화 온도를 정하게 되며, SiO2-ZnO-B2O3계의 경우 550-600℃로 설정하고 P2O5-ZnO-BaO계의 경우 510-530℃로 설정하여 15-30분 정도 소결하는 것이 바람직 하다. 이에따라, 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족시키는 유전체후막을 형성하게 된다.
한편, 상기와 같은 제조방법에 의해 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 충진제를 첨가하여 형성된 유전체후막의 특성이 표 6에 나타나 있다.
SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 충진제를 첨가한 유전체후막의 특성
유전율(1Mhz) 7-10
내전압(KV) 1.5-2.0
열팽창 계수(10-7/℃) 79-89
소결온도(℃) 550-600
표면조도(100㎛,Å) 2500-5000
반사율(400nm, %) 50-60
상기와 같은 방법으로 형성된 유전체 후막의 유전율은 7-10으로 비교적 낮은 유전율을 갖게되어 어드레싱 시간의 지연을 줄이게 됨과 아울러, 유전체후막의 표면조도가 향상된다. 또한, PbO가 함유되지 않아 유전체후막의 중량을 경량화 할수있으며, 유전체 후막의 반사율이 향상된다.
한편, 상기와 같은 제조방법에 의해 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리에 충진제를 첨가하여 형성된 유전체후막의 특성이 표 7에 나타나 있다.
P2O5-ZnO-BaO계 모상유리에 충진제를 첨가한 유전체후막의 특성
유전율(1Mhz) 7-10
내전압(KV) 1.5-2.0
열팽창 계수(10-7/℃) 83-92
소결온도(℃) 510-530
표면조도(100㎛,Å) 1500-3500
반사율(400nm, %) 50-60
상기와 같은 방법으로 형성된 유전체 후막의 유전율은 7-10으로 비교적 낮은 유전율을 갖게되어 어드레싱 시간의 지연을 줄이게 됨과 아울러, 유전체후막의 표면조도가 향상된다. 또한, PbO가 함유되지 않아 유전체후막의 중량을 경량화 할수있으며, 유전체후막의 반사율이 향상된다.
상술한 바와같이, 본 발명에 따른 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물은, 비교적 낮은 유전율을 갖게되어 어드레싱 시간의 지연을 줄이게 됨과 아울러, 유전체의 반사율을 향상시킬수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물은, PbO가 함유되지 않아 유전체후막의 중량을 경량화 할수 있는 장점이 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자 라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알수 있을 것이다. 일례로 유전체후막의 조성물로 SiO2-ZnO-B2O3계 또는 P2O5-ZnO-BaO계 모상유리에 각각의 충진제를 모두 첨가할수도 있지만, 유전체후막의 요구특성에 따라 충진제를 선택적으로 첨가할수도 있음을 당업자는 알수 있을것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (10)

  1. 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물에 있어서,
    상기 유전체 조성물이 SiO2-ZnO-B2O5계 유리를 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  2. 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물에 있어서,
    상기 유전체 조성물이 P2O5-ZnO-BaO계 유리를 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 조성물은 SiO2-ZnO-B2O5계 유리분말에 충진제로 산화물분말을 소정비율로 섞어 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 조성물은 P2O5-ZnO-BaO계 유리분말에 충진제로 산화물분말을 소정비율로 섞어 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O5계 유리는 25 내지 45 중량%의 ZnO와, 3 내지 40 중량%의 PbO와, 15 내지 25 중량%의 SiO2와, 12 내지 25 중량%의 B2O3와, 2 내지 10 중량%의 K2O와, 2 내지 8 중량%의 Na2O와, 1 내지 7 중량%의 Al2O3와, 1 내지 5 중량%의 Li2O와, 1 내지 5 중량%의 CaO로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 P2O5-ZnO-BaO계 유리는 45 내지 65 중량%의 P2O5와, 20 내지 35 중량%의 ZnO와, 3 내지 15 중량%의 BaO와, 2 내지 10 중량%의 Li2O와, 1 내지 7 중량%의 Al2O3과, 1 내지 6 중량%의 CaO와, 1 내지 5 중량%의 B2O3로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 충진제가 3 내지 25 중량%의 TiO2, 5 내지 30 중량%의 AlPO4, 5 내지 30 중량%의 P2O5, 2 내지 15 중량%의 V2O5, 2 내지 20 중량%의 ZrO2인것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 충진제가,
    3 내지 25 중량%의 TiO2, 5 내지 20 중량%의 α-Al2O3, 2 내지 15 중량%의 V2O5, 2 내지 20 중량%의 ZrO2인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 조성물은 플라즈마 표시장치의 상부 유전체후막, 하부 유전체후막 및 격벽중 적어도 하나이상에 적용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
  10. 제 2 항에 있어서,
    상기 유전체 조성물은 플라즈마 표시장치의 상부 유전체후막, 하부 유전체후막 및 격벽중 적어도 하나이상에 적용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물.
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