KR100732720B1

KR100732720B1 - 전극 피복용 유리, 전극 피복용 착색 분말, 및 플라즈마디스플레이 장치

Info

Publication number: KR100732720B1
Application number: KR1020030052545A
Authority: KR
Inventors: 후지미네사또시; 마나베쯔네오
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2002-08-08
Filing date: 2003-07-30
Publication date: 2007-06-27
Also published as: TW200403198A; KR20040014225A; TWI263627B; CN1488595A; CN1289425C; US6987358B2; US20040027071A1

Abstract

전극 피복용 유리는, 질량 백분율 표시로, 35 ~ 55%의 PbO, 15 ~ 30%의 B₂O₃, 4 ~ 15%의 SiO₂, 20 ~ 44%의 B₂O₃+ SiO₂, 0.5 ~ 10%의 TiO₂ + ZrO₂ + La₂O₃ + Ta₂O₅, 0 ~ 15%의 Al₂O₃, 0 ~ 25%의 BaO, 0 ~ 1%의 CuO 및 0 ~ 1%의 CeO₂로 본질적으로 이루어진다.

전극 피복용 유리, 착색 분말, PDP, 색소제.

Description

전극 피복용 유리, 전극 피복용 착색 분말, 및 플라즈마 디스플레이 장치{GLASS FOR COVERING ELECTRODES, COLORED POWDER FOR COVERING ELECTRODES AND PLASMA DISPLAY DEVICE}

본 발명은 예를 들어, ITO (주석을 도핑한 산화 인듐) 또는 산화 주석으로 이루어진 투명 전극, 특히, 전극 표면의 일부분상에 형성된 은전극을 갖는 투명 전극을 절연 피복하는데 적절한 저융점 유리, 착색 분말, 및 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.

최근에, 얇은 평판형 컬러 디스플레이 장치가 주목을 받고 있다. 이러한 디스플레이 장치에서, 이미지를 형성하는 화소에서 디스플레이 상태를 제어하기 위해 각 화소에 대해 전극을 형성하는 것이 필요하다. 이미지 품질의 저하를 방지하기 위해, 투명 전극을 이러한 전극으로서 사용한다. 투명 전극으로서, 유리 기판상에 형성된 ITO 또는 산화 주석의 박막을 일반적으로 사용한다.

상기 디스플레이 장치의 디스플레이 패널로서 사용되는 유리 기판의 표면상에 형성되는 투명 전극은 세밀한 이미지를 구현하기 위해 세밀한 선으로 형성된다. 각각의 화소를 독립적으로 제어하기 위해, 이러한 세밀하게 형성된 투명 전극 사이에 절연성을 확보하는 것이 필요하다. 그러나, 유리 기판의 표면상에 수분이 존재하거나, 유리 기판에 알카리 성분이 존재하는 경우에, 전류가 이러한 유리 기판이 표면을 통해 어느 정도 흐를 수 있다. 이러한 전류를 방지하기 위해, 투명 전극들 사이에 절연층을 형성하는 것이 효율적이다. 또한, 투명 전극 사이에 형성된 절연층에 의한 이미지 품질의 저하를 방지하기 위해, 이러한 절연층이 투명한 것이 바람직하다.

다양한 재료가 이러한 절연층을 형성하는 절연 재료로서 공지되어 있다. 이들 사이에서, 투명하고 신뢰성이 높은 절연 재료인 유리 재료가 널리 사용된다.

최근에 대형 평면 컬러 디스플레이 장치로 기대되고 있는 플라즈마 디스플레이 패널 (이하, PDP 라 칭함) 에서, 디스플레이 면으로서 사용되는 전면 기판, 배면 기판 및 격벽에 의해 셀이 정의 및 형성되고, 셀에서 플라즈마 방전을 발생시킴으로써 이미지가 형성된다. 투명 전극이 전면 기판의 표면상에 형성되고, 플라즈마로부터 투명 전극을 보호하기 위해 유리로 투명 전극을 피복하는 것이 필수적이다.

전극을 피복하기 위해 사용되는 이러한 유리는 일반적으로 유리 분말의 형태로 사용된다. 즉, 필요한 경우, 필러 (filler) 등이 이러한 유리 분말에 첨가될 수 있고, 그 후 혼합물이 페이스트 (paste) 로 형성된다. 사전 형성된 투명 전극을 갖는 유리 기판상에 얻어진 유리 페이스트를 코팅한 후, 투명 전극을 피복하기 위해 소성 (firing) 한다.

상기 언급한 전기 절연 특성 이외에도, 전극 피복용 유리는 예를 들어, 650 ℃ 이하의 연화점, 60 ×10^-7 ~ 100 ×10^-7/℃의 선팽창 계수, 및 소성함으로써 얻어진 전극-피복 유리층의 높은 투명성을 갖는 것을 필요로 한다.

이러한 요구를 충족시키는 유리로서, 질량 백분율 표시로, 45%의 PbO, 41%의 B₂O₃, 3%의 SiO₂ 및 11%의 MgO를 포함하는 유리가 예를 들어, 일본 공개 특허 공보 JP-A-2000-313637 호에 개시되어 있다.

개시된 유리의 1 MHz 에서의 비유전율은 작게는 9.6이고, 전극-피복 유리층의 유전율은 작고, PDP 의 전력 소비가 감소될 수 있다는 점에서 우수하다.

그러나, PDP 에서, 예를 들어, 전기 회로에 관한 문제점으로 인해, 전극-피복 유리층의 유전율을 증가시킬 필요성이 있는 경우가 있을 수 있다.

본 발명의 목적은 상기 문제점을 해결하기 위한, 전극 피복용 유리, 전극 피복용 착색 분말, PDP, 및 PDP 생산 공정을 제공하는 것이다.

본 발명은 다음과 같은 질량 백분율 표시로, 본질적으로 35 ~ 55%의 PbO, 15 ~ 30%의 B₂O₃, 4 ~ 15%의 SiO₂, 20 ~ 44%의 B₂O₃ + SiO₂, 0.5 ~ 10%의 TiO₂ + ZrO₂ + La₂O₃ + Ta₂O₅, 0 ~ 15%의 Al₂O₃, 0 ~ 25%의 BaO, 0 ~ 1%의 CuO 및 0 ~ 1%의 CeO₂로 이루어진 전극 피복용 유리를 제공한다.

또한, 본 발명은 전극 피복용 유리의 분말, 및 색소제를 포함하는 전극 피복용 착색 분말을 제공한다.

또한, 본 발명은 PDP 생산 공정을 제공하고, 여기서, 전면 기판을 구성하는 유리 기판상에 형성된 투명 전극을 피복하는 공정은 전극 피복용 유리의 분말, 또는 전극 피복용 착색 분말을 코팅 및 소성함으로써 수행되어, 투명 전극을 피복한다.

또한, 본 발명은 전면 기판을 구성하는 유리 기판 및 상기 유리 기판상에 형성된 투명 전극을 구비하는 PDP 를 제공하고, 여기서, 투명 전극은 상기 전극 피복용 유리에 의해 피복된다.

본 발명의 전극 피복용 유리 (이하, 단지 본 발명의 유리라 칭함) 는 일반적으로 분말의 형태로 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 유리 분말은 인쇄성을 부여하기 위해 유기 전색제 (vehicle) 등을 사용함으로써 유리 페이스트로 형성되고, 이러한 유리 페이스트는 유리 기판상에 형성된 전극상에 코팅되고 전극을 피복하기 위해 소성된다. 여기서, 유기 전색제는 α- 테르피네올 (terpineol) 과 같은 유기 용제에서 용해된 에틸 셀룰로오스와 같은 접합제 (binder) 를 갖는 유기 전색제이다.

PDP 에서, 본 발명의 유리는 바람직하게는 전면 기판상에 형성된 투명 전극을 피복하기 위해 사용된다.

본 발명의 유리의 연화점 (T_s) 은 바람직하게는 450 ~ 650℃ 이다. 연화점이 650℃ 를 초과하는 경우에, 550 ~ 620℃ 의 유리 전이점을 갖는 통상의 유리 기판이 소성 동안에 변형될 수 있다. T_s는 더욱 바람직하게는 630℃ 이하이다.

또한, 예를 들어, 단층 구조의 전극-피복 유리층용으로 사용되는 경우에, T_s는 바람직하게는 520℃ 이상 또는 520 ~ 650℃ 이고, 더욱 바람직하게는, 550℃ 이상, 특히 바람직하게는 580℃ 이상이다.

상기 유리 기판으로서, 80 ×10^-7 ~ 90 ×10^-7/℃의 범위 내에서 50 ~ 350℃의 범위의 평균 선팽창 계수 (이하, 단순히 팽창 계수라 칭함) 를 갖는 유리 기판을 사용하는 것이 일반적이다. 따라서, 이러한 유리 기판과 매칭된 팽창 특성을 갖고, 유리 기판의 강도에서의 휨 (warping) 또는 저하를 방지하기 위해, 본 발명의 유리의 팽창 계수 (α) 는 바람직하게는 60 ×10^-7 ~ 90 ×10^-7/℃이고, 더욱 바람직하게는 70 ×10^-7~ 87 ×10^-7이다.

본 발명의 유리의 20℃, 1 MHz에서의 비유전율은 바람직하게는 10.8 ~ 13이다.

본 발명의 유리에서, Al₂O₃의 함유량이 1 ~ 10%이고, BaO의 함유량이 12 ~ 20%인 것이 바람직하다.

이하, 본 발명의 유리의 조성을 질량 백분율 표시를 사용하여 설명한다.

PbO는 T_s를 저하시키는 성분이고 필수적이다. PbO가 35%보다 작은 경우에, T_s가 높아진다. 40% 이상인 것이 바람직하다. 55%를 초과하는 경우에, α가 증가한다. 50% 이하인 것이 바람직하다.

B₂O₃는 유리를 안정화시키는 성분이고 필수적이다. B₂O₃가 15% 보다 작은 경우에, 유리가 불안정하게 된다. 18% 이상인 것이 바람직하다. 30%를 초과하는 경우에, 내수성이 감소하거나, 콜로이드 은에 의한 황색이 현저해진다. 바람직하게는 28%이하이다. 여기서, 콜로이드 은에 의한 황색은 PDP의 전면 기판을 구성하는 유리 기판상의 투명 전극상에 형성된 은-함유 버스 전극이 유리로 피복될 때, 은이 유리로 확산하여 유리가 갈색으로 착색하여, PDP의 이미지 품질이 저하되는 현상이다.

SiO₂는 유리를 안정화시키는 성분이고 필수적이다. SiO₂가 4% 보다 작은 경우에, 유리가 불안정하게 된다. 4.5% 이상인 것이 바람직하다. 15%를 초과하는 경우에, T_s가 높아진다. 12% 이하인 것이 바람직하다. B₂O₃및 SiO₂의 전체 함유량은 20 ~ 44%이고, 바람직하게는 25 ~ 40%이다.

TiO₂, ZrO₂, La₂O₃ 및 Ta₂O₅는 ε을 증가시키는 성분이고, 이들중 적어도 하나를 포함해야 한다. TiO₂, ZrO₂, La₂O₃ 및 Ta₂O ₅의 전체 함유량이 0.5% 보다 작은 경우에, ε이 너무 작게 된다. 바람직하게는, 전체 함유량은 1% 이상이다. 10%를 초과하는 경우에, 실투화 (devitrification) 를 초래할 것이다. 7% 이하인 것이 바람직하다.

TiO₂가 함유된 경우에, TiO₂의 함유량은 6%이하인 것이 바람직하다. 6%를 초과하는 경우에, 전극-피복 유리층의 투명성이 저하된다.

Al₂O₃는 필수적이지는 않지만, 유리를 안정화시키기 위해 15%까지 함유될 수 있다. 15%를 초과하는 경우에, 실투화를 초래할 것이다. 8% 이하인 것이 바람직하다. Al₂O₃가 함유된 경우에, Al₂O₃의 함유량은 바람직하게는 1% 이상이고, 더욱 바람직하게는 3% 이상이다.

BaO는 필수적이지는 않지만, 내수성을 개선시키고, 위상 분리를 억제하거나 α를 증가시키기 위해 25%까지 함유될 수 있다. 25%를 초과하는 경우에, α가 너무 크게 된다. 20% 이하인 것이 바람직하다. BaO가 함유된 경우에, BaO의 함유량은 1% 이상인 것이 바람직하고, 10% 이상인 것이 더욱 바람직하다.

CuO 및 CeO₂ 각각은 필수적이지는 않지만, 콜로이드 은에 의한 황색을 억제하기 위해 1%까지 함유될 수 있다. 둘중 하나가 1%를 초과하는 경우에, 전극-피복 유리층 자체의 착색이 현저해진다. CuO 및 CeO₂ 중의 적어도 하나가 함유된 경우에, 전체 함유량은 0.2% 이상인 것이 바람직하다.

CuO가 함유된 경우에, TiO₂의 함유량은 0 ~ 4.5%이고, 즉, TiO₂가 함유되지 않을 수도 있지만, TiO₂가 함유된 경우에, 함유량은 4.5% 이하가 바람직하다. 4.5%를 초과하는 경우에, 전극-피복 유리층의 투명성이 저하된다.

본 발명의 유리는 본질적으로 상기 성분들로 이루어지지만, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위내에서 다른 성분을 함유할 수 있다.

이러한 다른 성분의 전체 함유량은 바람직하게는 10% 이하이고, 더욱 바람직하게는 5% 이하이다.

이러한 다른 성분으로서 예를 들어, 다음과 같은 성분이 언급될 수 있다. 즉, T_s 또는 α의 조정, 유리의 안정화, 화학적 내구성의 향상, 컬러의 조정등을 위한 성분으로서, 예를 들어, SrO, ZnO, Li₂O, Na₂O, K₂O, CoO, NiO 및 Cr ₂O₃를 언급할 수 있다. 또한, T_s를 저하시키기 위해, F와 같은 할로겐 성분이 절연 특성을 저하시키지 않는 범위내에서 함유될 수 있다.

CoO는 콜로이드 은에 의한 황색을 억제하는 효과를 갖고, 어떤 경우에, 바람직하게는 1%까지의 범위 내에 함유될 수 있다. 1%를 초과하는 경우에, 전극-피복 유리층의 색조 자체가 현저해지고, 그것의 투명성이 저하되고, 이것은 PDP 의 전면 기판상에 투명 전극을 피복하는데 유용하지 않다. 0.5 % 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 유리의 용도는 PDP 의 전면 기판상에 형성된 투명 전극을 피복하는데 한정되지 않는다. 예를 들어, PDP 의 배면 기판상에 형성된 불투명 전극을 피복하는데 사용될 수 있다. 이러한 경우에, 예를 들어, 광 반사성 또는 차광성을 부여하기 위해 (색소제를 함유하는) 예를 들어, 필러와 혼합될 수 있거나, 색소제가 착색을 위해 혼합될 수 있다.

광 반사성을 부여하는 필러는 예를 들어, TiO₂, Al₂O₃ 및 ZrO₂로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 산화물을 함유하는 백색 무기 색소제일 수 있다.

차광성을 부여하는 필러는 예를 들어, Cr₂O₃, CuO, MnO₂, CoO, Fe₂O₃및 NiO로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 산화물을 함유하는 흑색 무기 색조제, 또는 상기 그룹으로부터 선택되는 적어도 2개의 산화물로 구성되는 복합 산화물일 수 있다.

본 발명의 유리가 PDP 의 배면 기판상에 형성된 불투명 전극을 피복하는데 사용되는 경우에, 본 발명의 유리의 질량 단위로 100 부분 당 질량 단위로 0.1 ~ 40 부분의 비율로 첨가되는 필러를 갖는 유리를 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명의 유리가 PDP 의 전면 기판상에 형성된 투명 전극을 피복하는데 사용되는 경우에, 본 발명의 유리의 분말은 예를 들어, 페이스트로 형성될 수 있고, 이것은 투명 전극을 피복하기 위해 코팅되고 소성된다. 그러나, 전극-피복층이 착색되어야 하는 경우에, 본 발명의 유리의 분말 및 색소제 (본 발명의 착색 분말) 를 함유하는 전극을 피복하는 착색 분말은 예를 들어, 페이스트로 형성될 수 있고, 이것은 코팅되고 소성된다.

본 발명의 착색 분말은 일반적으로 본 발명의 유리 분말의 중량 단위로 100 부분 당 중량 단위로 0.05 부분 이상의 비율로 색소제를 함유한다. PDP 의 전면 기판상에 형성된 투명 전극이 피복되어야 하는 경우에, 중량 단위로 1 부분 이하의 비율로 색소제가 함유되는 것이 바람직하다.

색소제는 바람직하게는 Ti, Al, Zr, Cr, Co 및 Mn으로 이루어진 그룹으로부 터 선택된 적어도 하나의 성분을 함유하는 색소제이다. 코팅층이 청색으로 착색되기를 원하는 경우에, 색소제는 바람직하게는 Co, Al등을 함유하는 청색 색소제이다. 코팅층이 황색으로 착색되기를 원하는 경우에, 색소제는 바람직하게는 Ti, Sb, Ni등을 함유하는 황색 색소제이다.

본 발명의 PDP 의 전면 기판에서, 투명 전극이 유리 기판상에 형성되고, 그 위에 형성된 투명 전극을 갖는 유리 기판의 표면이 본 발명의 유리에 의해 피복된다.

전면 기판용으로 사용될 유리 기판의 두께는 일반적으로 2.8 mm이고, 이러한 유리 기판 자체의 550 mm 파장을 갖는 광에 대한 투과율 (이하, T₅₅₀이라 칭함) 은 일반적으로 90 %이다. 또한, 그것의 탁도 (turbidity) 는 일반적으로 0.4 %이다.

또한, 투명 전극은 예를 들어, 0.5 mm의 폭을 갖는 스트립이고, 각각의 스트립 전극은 서로 평형하게 형성된다. 각각의 스트립 전극의 중심선 사이의 거리는 예를 들어, 0.83 ~ 1.0 mm 이다. 이러한 경우에, 유리 기판의 표면을 점유하는 투명 전극의 비율은 50 ~ 60 % 이다.

본 발명의 PDP의 전면 기판에 관하여, T₅₅₀은 70 % 이상인 것이 바람직하다. T₅₅₀이 70 % 미만인 경우에, PDP 의 이미지 품질이 저하될 수 있다. 74 % 이상인 것이 더욱 바람직하다.

또한, 탁도가 30 % 이하인 것이 바람직하다. 30 %를 초과하는 경우에, PDP의 이미지 품질이 저하될 수 있다. 27 % 이하인 것이 더욱 바람직하다.

본 발명의 PDP 는 예를 들어, 교류 시스템일 때, 다음과 같이 제조될 수 있다.

즉, 패턴화된 투명 전극 및 버스 바 (일반적으로 은선) 가 유리 기판의 표면상에 형성된다. 다음으로, 본 발명의 유리 분말을 코팅 및 소성하여 유리층을 형성한다. 최종으로, 보호층으로서 산화 마그네슘층을 형성하여 전면 기판을 얻는다. 한편, 또 다른 유리 기판상에서, 패턴화된 어드레스용 전극을 형성한다. 다음으로, 스트라이프 형상으로 격벽을 형성하고, 형광체층을 인쇄 및 소성하여, 배면 기판을 얻는다.

다음으로, 전면 기판 및 배면 기판의 외면을 따라, 봉인 재료를 디스펜서로 코팅하고, 전면 및 배면 기판을 투명 전극이 어드레스용 전극과 대향하도록 조립하여, 소성시킨 후 PDP 를 얻는다. 다음으로, PDP 의 내부를 배기하고, Ne 또는 He-Xe와 같은 방전 가스를 방전 공간 (셀) 에 주입한다.

상기 실시예는 교류 시스템의 실시예이다. 그러나, 본 발명은 직류 시스템의 PDP 에 또한 적용할 수 있다.

이하, 실시예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다.

실시예

조성이 표 1 또는 2의 PbO ~ MgO 또는 CoO에 대한 라인에 질량 백분율로 표시된 바와 같이 되도록 원료가 혼합된다. 다음으로, 이러한 혼합물이 1200 ~ 1350℃의 전기로에서 백금 도가니를 사용하여 1시간 동안 용융되어 얇은 시트 유리가 형성된다. 다음으로, 이러한 시트 유리가 볼 분쇄기로 분쇄되어 유리 분말이 얻어진다. 실시예 1 ~ 12는 본 발명의 실시예를 나타낸다.

실시예 1 ~ 12의 유리 분말에 관하여, T_s (단위 : ℃), α(단위 : 10^-7/℃), ε, T₅₅₀' (단위 : %) 및 탁도 (단위 : %) 를 다음과 같이 측정한다.

T_s : 시차 열분석기를 사용하여 측정된다.

α: 유리 분말을 성형한 다음, 각 표의 T_B (단위 : ℃) 에 대한 라인에 나타난 소성 온도에서 10분 동안 유지함으로써 소성시켜 얻은 소성체를 5 mm의 직경 및 2 cm의 길이를 갖는 원통 형상으로 처리하여, 50 ~ 350 ℃의 범위내에서 열 팽창 미터로 평균 선팽창 계수가 측정된다.

ε: 유리 분말을 재용융하고 평판형으로 성형한 다음, 50 mm ×50 mm ×3 mm로 처리하여, 알루미늄 전극을 증착법으로 양면에 형성하여 샘플을 얻는다. 이러한 샘플의 20 ℃, 1MHz에서의 비유전율이 LCR 미터를 사용하여 측정된다.

또한, 각각의 실시예 1 ~ 10에서, 100 g의 유리 분말, 또는 실시예 12에서, Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd.에 의해 제조된, Co 및 Al을 함유하는 0.3 g의 청색 무기 색소제 Daipyroxide TM blue를 100 g의 유리 분말과 혼합함으로써 얻어진 100.3 g의 착색 분말을, 25 g의 유기 전색제와 섞어서 유리 페이스트를 준비한다. 여기서, 유기 전색제를 α-테르피네올에서의 에틸 셀룰로오 스를 질량 백분율 12 % 용해함으로써 준비한다.

다음으로, 50 mm ×75 mm의 사이즈 및 2.8 mm의 두께를 갖는 유리 기판을 준비한다. 이러한 유리 기판의 표면상의 48 mm ×73 mm의 일부분에서, 스크린 인쇄용 은페이스트를 인쇄 및 소성하여 선-형상 은전극 (폭 : 70 ㎛, 간격 : 300 ㎛) 이 형성된다. 상기 유리 기판은 SiO₂, : 58%, Al₂O₃ : 7%, Na₂O : 4%, K₂O : 6.5%, MgO : 2%, CaO : 5%, SrO : 7%, BaO : 7.5% 및 ZrO₂ : 3%의 질량 백분율로 표시되는 조성을 갖고, 626℃의 유리 전이점 및 83 ×10^-7/℃의 확장 계수를 갖는 유리로 이루어진다.

따라서, 은전극이 형성된 유리 기판 및 전극이 형성되어 있지 않은 유리 기판이 준비되고, 상기 언급한 유리 페이스트를 각 기판의 50 mm ×50 mm의 부분에서 균일하게 스크린 인쇄한 후, 10분 동안 120℃에서 건조시킨다. 이러한 유리 기판을 각 표에서 확인한 바와 같은 T_B의 온도까지 10℃/min의 온도-상승 속도로 가열하고 소성을 위해 30분 동안 상기 온도를 유지한다. 따라서, 얻어진 유리층의 두께는 30 ~ 32 ㎛이다. 은전극이 형성되어 있지 않은 유리 기판상에 형성된 유리층을 갖는 샘플에 관하여, T₅₅₀' (단위 : %) 및 탁도 (단위 : %) 는 다음과 같이 측정된다.

T₅₅₀' : 550 nm의 파장을 갖는 광의 투과율이 Hitachi, Ltd.가 제작한 자기 분광 광도계 (U-3500 : 적분-구형) 를 사용하여 측정된다. 샘플이 없는 투과율 을 100 %로 한다. T₅₅₀'은 72% 이상이 바람직하다. 72% 미만인 경우에, 70% 이상의 T₅₅₀을 갖는 PDP의 전면 기판을 얻는 것이 어려워진다.

탁도 : Suga Test Instruments Co., Ltd.가 제작한 헤이즈 미터 (할로겐 구를 사용한 광원 (C)) 을 사용하여 측정하였다. 할로겐 구로부터의 광이 렌즈에 의한 평행 광선으로서 샘플 안으로 입사될 수 있고, 전체 광 투과율 (T_t) 및 확산 투과율 (T_d) 을 적분-구 광도계를 사용하여 측정하고, 탁도를 다음의 식으로 계산하였다.

탁도 (%) = (T_d/T_t) ×100

표 1

실시예	1	2	3	4	5	6	7	8
PbO	47	40	46	44	43.5	46.5	41	46
B₂O₃	23	22	23.7	24.5	24	18.3	22.5	23.2
SiO₂	4.5	7.7	5	5	5	10	7.7	5
Al₂O₃	6	6	6	6	3.5	4	6	7.5
TiO₂	2.7	0	2	2	2	2.5	0	2
ZrO₂	0	0	0	0	0.5	0	5	0
La₂O₃	0	0	0	0	3	0	0	0
Ta₂O₅	0	7	0	0	0	0	0	0
BaO	16.5	17	17	18.2	18	18	17.5	16
CuO	0.3	0	0.3	0.3	0.5	0.7	0.3	0.3
CeO₂	0	0.3	0	0	0	0	0	0
MgO	0	0	0	0	0	0	0	0
T_S	560	590	555	590	540	560	590	570
α	83	74	82	77	86	85	76	82
ε	11.7	11.2	11.6	11.0	12.8	12.1	11.0	11.2
T_B	550	580	550	590	550	550	580	570
T₅₅₀'	79	79	79.5	80	75	74	81	80
탁도	20	14	12	12	22	21	12	14

표 2

실시예	9	10	11	12
PbO	45.3	44.1	46	46
B₂O₃	21.9	22.2	23.6	23.7
SiO₂	7.7	7.7	5	5
Al₂O₃	6.1	6.1	5.9	6
TiO₂	3.4	4.1	1.9	2
ZrO₂	0	0	0	0
La₂O₃	0	0	0	0
Ta₂O₅	0	0	0	0
BaO	15.6	15.8	17.1	17
CuO	0	0	0.3	0.3
CeO₂	0	0	0	0
MgO	0	0	0.2	0
색소제	0	0	0	0.3
T_S	570	580	555	590
α	79	77	82	82
ε	11.7	11.5	11.6	11.7
T_B	560	560	550	590
T₅₅₀'	80	80	79.5	77
탁도	14	12	14	18

명세서, 청구범위 및 상세한 설명을 포함하는 2000년 8월 8일 출원된 일본 특허 출원 제 2002-230995 호를 참조한다.

이상, 본 발명에 따르면, 전극-피복 유리층의 유전율이 적절한 범위, 예를 들어, 10.8 ~ 13 내에서 이루어질 수 있다. 또한, 이러한 전극-피복 유리층을 갖는 PDP를 얻을 수 있다.

Claims

35 ~ 55 % 의 PbO, 15 ~ 30 % 의 B₂O₃, 4 ~ 15 % 의 SiO₂, 0.5 ~ 10 % 의 TiO₂ + ZrO₂ + La₂O₃ + Ta₂O₅, 1 ~ 10 % 의 Al₂O₃, 12 ~ 20 % 의 BaO, 0 ~ 1 % 의 CuO 및 0 ~ 1 % 의 CeO₂ 로 본질적으로 이루어지고,

B₂O₃+ SiO₂ 는 20 ~ 44 % 인 것을 특징으로 하는 전극 피복용 유리.
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제 1 항에 있어서,

상기 CuO가 함유되고, 상기 TiO₂의 함유량은 0 ~ 4.5%인 것을 특징으로 하는 전극 피복용 유리.
제 1 항에 있어서,

520 ~ 650℃의 연화점 (softening point) 을 갖는 것을 특징으로 하는 전극 피복용 유리.
제 1 항의 전극 피복용 유리의 분말 및 색소제를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 피복용 착색 분말.
플라즈마 디스플레이 장치를 제조하는 방법으로서,

전면 기판을 구성하는 유리 기판상에 형성된 투명 전극을 피복하는 공정을 제 1 항의 전극 피복용 유리의 분말을 코팅 및 소성 (firing) 시켜 수행함으로써, 전극을 피복하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.
플라즈마 디스플레이 장치를 제조하는 방법으로서,

전면 기판을 구성하는 유리 기판상에 형성된 투명 전극을 피복하는 공정을 제 5 항의 전극 피복용 착색 분말을 코팅 및 소성시켜 수행함으로써, 전극을 피복하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.
전면 기판을 구성하는 유리 기판 및 상기 유리 기판상에 형성된 투명 전극을 구비하며, 상기 투명 전극은 제 1 항의 전극 피복용 유리로 피복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.