KR100895226B1

KR100895226B1 - 전극 피복용 유리, 플라즈마 디스플레이 패널 전면 기판 및플라즈마 디스플레이 패널 배면 기판

Info

Publication number: KR100895226B1
Application number: KR1020077015601A
Authority: KR
Inventors: 사토시 후지미네; 히로유키 야마모토
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2005-01-14
Filing date: 2006-01-06
Publication date: 2009-05-04
Also published as: WO2006075561A1; JP2006193385A; KR20070086978A

Abstract

Cu 및 Co 를 함유하고, Cu 의 CuO 환산 함유량이 0.05 ∼ 2몰％ 또한 Co 의 CoO 환산 함유량이 0.05 ∼ 2몰％ 인 전극 피복용 유리. 하기 산화물 기준의 몰 백분율 표시로, B₂O₃ 20 ∼ 60％, SiO₂ 5 ∼ 50％, PbO + ZnO 10 ∼ 40％, Al₂O₃ 0 ∼ 15％, SrO + BaO 0 ∼ 20％, TiO₂ 0 ∼ 10％, Bi₂O₃ 0 ∼ 9％, Li₂O + Na₂O + K₂O 0 ∼ 16％, CuO 0.05 ∼ 2％, CoO 0.05 ∼ 2％, CeO₂ 0 ∼ 2％, MnO₂ 0 ∼ 2％ 로부터 본질적이 되는 전극 피복용 유리.

Description

전극 피복용 유리, 플라즈마 디스플레이 패널 전면 기판 및 플라즈마 디스플레이 패널 배면 기판{GLASS FOR COATING ELECTRODE, FRONT SUBSTRATE OF PLASMA DISPLAY PANEL AND BACK SUBSTRATE OF PLASMA DISPLAY PANEL}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 (이하, PDP 라고 한다) 의 전면 기판 및 배면 기판, 그리고 그들 기판의 전극 피복에 바람직한 전극 피복용 유리에 관한 것이다.

최근, 박형의 평판형 컬러 표시 장치가 주목을 끌고 있다. 이러한 표시 장치에서는 화상을 형성하는 화소에 있어서의 표시 상태를 제어하기 위해서 각 화소에 전극이 형성된다. 이러한 전극으로서는, 화상의 질의 저하를 막기 위해서, 유리 기판 상에 형성된 ITO 또는 산화 주석의 박막 등의 투명 전극이 이용되고 있다.

상기 표시 장치의 표시면으로서 사용되는 유리 기판의 표면에 형성되는 투명 전극은, 세밀한 화상을 실현하기 위해서 가는 선상으로 가공된다. 그리고 각 화소를 독자적으로 제어하기 위해서는, 이러한 미세하게 가공된 투명 전극 상호의 절연성을 확보할 필요가 있다. 그런데, 유리 기판의 표면에 수분이 존재하는 경우나 유리 기판 중에 알칼리 성분이 존재하는 경우, 이 유리 기판의 표면을 통하 여 약간의 전류가 흐르는 경우가 있다. 이러한 전류를 방지하려면, 투명 전극간에 절연층을 형성하는 것이 유효하다. 또, 투명 전극간에 형성되는 절연층에 의한 화상의 질의 저하를 막을 수 있도록 이 절연층은 투명한 것이 바람직하다.

이러한 절연층을 형성하는 절연 재료로서는 여러 가지의 것이 알려져 있지만, 그 중에서도, 투명하고 신뢰성이 높은 절연 재료인 유리 재료가 널리 이용되고 있다.

최근 대형 평면 컬러 디스플레이 장치로서 기대되고 있는 PDP 에 있어서는, 표시면으로서 사용되는 전면 기판과 격벽이 형성되어 있는 배면 기판이 부착되어 있고, 그 내부에는 격벽에 의해 셀이 구획 형성되어 있다. 그리고, 그 셀 중에서 플라즈마 방전을 발생시킴으로써 화상이 형성된다.

전면 기판의 유리 기판의 표면에는 투명 전극이 형성되어 있고, 이 투명 전극을 플라즈마로부터 보호하기 위해서, 플라즈마 내구성이 우수한 유리에 의해 상기 투명 전극을 피복하는 것이 필수이다.

또, 배면 기판의 유리 기판의 표면에는 어드레스 전극이 형성되어 있고, 이 어드레스 전극도 유리에 의해 피복된다.

이러한 전극 피복에 사용되는 유리는, 통상은 유리 분말로 하여 사용된다. 예를 들어, 상기 유리 분말에 필요에 따라 필러 등을 첨가한 다음, 수지, 용제 등과 혼합하여 유리 페이스트로 하고, 이것을 투명 전극 등의 전극이 형성되어 있는 유리 기판에 도포 후 소성하는, 상기 유리 분말에 수지, 또한 필요에 따라 필러 등을 혼합하여 얻어진 슬러리를 그린 시트에 성형하고 이것을 전극이 형성되어 있는 유리 기판 상에 라미네이트 후 소성하는, 등의 방법에 따라 전극을 유리에 의해 피복한다.

PDP 전면 기판의 투명 전극 피복에 사용되는 유리에는, 앞서 서술한 바와 같은 전기 절연성 외에, 예를 들어, 연화점 (Ts) 이 450 ∼ 650℃ 인 것, 50 ∼ 350℃ 에 있어서의 평균 선팽창 계수 (α) 가 60 × 10^-7 ∼ 90 × 10^-7/℃ 인 것, 소성하여 얻어지는 전극 피복 유리층의 투명성이 높은 것, 등이 요구되고 있고, 각종 유리가 종래 제안되어 있다.

PDP 전면 기판에서는 통상, 전극 피복 유리층 위에 콘트라스트 향상 등을 목적으로 하여 컬러 필터층이 형성되는데, 최근에는 이 컬러 필터층의 형성을 불필요하게 하도록 전극 피복 유리층으로서 착색 유리를 이용하고, 이로써 화면의 콘트라스트를 향상시키는 것이 제안되어 있다 (일본 공개특허공보 2000-226229호의 표 1 을 참조).

앞서 서술한 바와 같이 컬러 필터층의 형성을 불필요하게 하도록 전극 피복 유리층으로서 착색 유리를 이용하는 것이 종래 제안되어 있지만, 아직도 널리 사용되기에는 이르지 못하였다.

그 원인은 반드시 분명한 것은 아니지만, 일본 공개특허공보 2000-226229호에서 개시되어 있는 전극 피복용 유리는 착색 성분으로서 CoO 및 NiO 만을 함유하는 것이고, 그것이 상기 원인일 가능성이 있다.

본 발명은 이러한 가능성의 배제를 가능하게 하는 전극 피복용 유리, 그리고 그러한 유리를 전극 피복에 이용한 PDP 전면 기판 및 PDP 배면 기판의 제공을 목적으로 한다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명은, Cu 및 Co 를 함유하고, Cu 의 CuO 환산 함유량이 0.05 ∼ 2몰％ 또한 Co 의 CoO 환산 함유량이 0.05 ∼ 2몰％ 인 전극 피복용 유리 (본 발명의 제 1 유리) 를 제공한다.

또, 하기 산화물 기준의 몰 백분율 표시로, B₂O₃ 20 ∼ 60％, SiO₂ 5 ∼ 50％, PbO + ZnO 10 ∼ 40％, Al₂O₃ 0 ∼ 15％, SrO + BaO 0 ∼ 20％, TiO₂ 0 ∼ 10％, Bi₂O₃ 0 ∼ 9％, Li₂O + Na₂O + K₂O 0 ∼ 16％, CuO 0.05 ∼ 2％, CoO 0.05 ∼ 2％, CeO₂ 0 ∼ 2％, MnO₂ 0 ∼ 2％ 로부터 본질적이 되는 전극 피복용 유리 (본 발명의 제 2 유리) 를 제공한다.

또, 투명 전극이 형성되어 있는 유리 기판이 유리층에 의해 피복되어 있는 PDP 전면 기판으로서, 유리층의 유리가 본 발명의 제 1 또는 제 2 유리인 PDP 전면 기판을 제공한다.

또, 전극이 형성되어 있는 유리 기판이 유리층에 의해 피복되고, 그 유리층 상에 격벽이 형성되어 있는 PDP 배면 기판으로서, 유리층의 유리가 본 발명의 제 1 또는 제 2 유리인 PDP 배면 기판을 제공한다.

발명의 효과

컬러 필터층이 형성되어 있지 않은 PDP 전면 기판으로서 그 전극 피복 유리층이 착색 성분으로서 CoO 및 NiO 만을 함유하는 것은 아닌 것이 얻어진다.

또, 버스 전극 등으로서 은전극이 이용되고 있는 PDP 전면 기판으로서 그 전극 피복 유리층의 은전극 주변 부분의 황변 현상을 억제하는 것이 가능하게 된다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하에서는, 본 발명의 전극 피복용 유리 (이하, 간단하게 본 발명의 유리라고 한다) 를 PDP 전면 기판의 전극 피복 유리층으로서 이용하는 경우를 중심으로 설명한다. 또한, 본 발명은 이 경우에 한정되지 않는다.

본 발명의 유리는 통상은 유리 분말로 하여 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 유리 분말은 인쇄성을 부여하기 위한 유기 비히클 등을 이용하여 유리 페이스트로 되고, 유리 기판 상에 형성된 전극 상에 상기 유리 페이스트를 도포, 소성하여 전극을 피복한다. 여기서 말하는 유기 비히클은, 에틸셀룰로오스 등의 바인더를 α-테르피네올 등의 유기 용제에 용해시킨 것이다. 또는, 본 발명의 유리 분말에 수지, 나아가 필요에 따라 필러 등을 혼합하여 얻어진 슬러리를 그린 시트에 성형하고 이것을 전극이 형성되어 있는 유리 기판 상에 라미네이트 후 소성하여 전극을 피복한다.

본 발명의 유리의 Ts 는 450 ∼ 650℃ 인 것이 바람직하다. Ts 가 650℃ 초과에서는, 통상 사용되고 있는 유리 기판 (유리 전이점 : 550 ∼ 620℃) 이 소성시에 변형될 우려가 있다.

유리 전이점이 610 ∼ 630℃ 인 유리 기판을 이용하는 등의 경우에는 상기 Ts 는, 바람직하게는 630℃ 이하, 보다 바람직하게는 550 ∼ 600℃ 이다.

또, 단층 구조의 전극 피복 유리층에 이용하는 경우 등에는 상기 Ts 는 바람직하게는 520℃ 이상, 보다 바람직하게는 550℃ 이상이고, 유리 전이점이 610 ∼ 630℃ 인 유리 기판을 이용하는 등의 경우에는 상기 Ts 는 580℃ 이상인 것이 특히 바람직하다.

상기 유리 기판으로서는 통상, α 가 80 × 10^-7 ∼ 90 × 10^-7/℃ 인 것이 사용된다. 따라서 이러한 유리 기판과 팽창 특성을 매칭시켜, 유리 기판의 휘어짐이나 강도의 저하를 방지하기 위해서는, 본 발명의 유리의 α 는 바람직하게는 60 × 10^-7 ∼ 90 × 10^-7/℃, 보다 바람직하게는 70 × 10^-7 ∼ 85 × 10^-7/℃ 이다.

본 발명의 유리는, Ts 가 450 ∼ 650℃, α 가 60 × 10^-7 ∼ 90 × 10^-7/℃ 인 것인 것이 바람직하다.

본 발명의 유리의 1MHz 에 있어서의 비유전율은 전형적으로는 8 ∼ 13 이다.

본 발명의 유리는, PDP 의 유리 기판으로서 사용되는 유리 기판의 위에 두께가 30 ∼ 35㎛ 인 유리층으로서 형성되었을 때, 그 유리층이 형성된 유리 기판에 대한 파장 450㎚, 550㎚, 630㎚ 의 각 광의 투과율 (단위 : ％) 을 각각 T₄₅₀, T₅₅₀, T₆₃₀ 으로서, T₄₅₀ > T₅₅₀ > T₆₃₀ 또는 -2％ < (T₄₅₀ - T₅₅₀) < 0％ 인 것이 바람직하다.

또, T₄₅₀, T₅₅₀, T₆₃₀ 은 모두 65％ 이상인 것이 바람직하다.

또한, 상기 유리 기판으로서는 두께가 2.8㎜ 인 아사히 가라스사 제조 PD200 유리 기판 (T₄₅₀ = 89％, T₅₅₀ = 90％, T₆₃₀ = 88％) 이 예시된다.

본 발명의 유리는, 그것을 은전극을 피복하는 유리층에 이용했을 경우에 은전극 주변 부분의 황변 현상이 일어나기 어렵거나 또는 일어나지 않는 것이 바람직하다. 또한, 이 황변 현상은 유리가 갈색 또는 황색으로 착색되고 PDP 의 화질이 저하하는 현상이며, 은전극을 피복하는 유리층에 당해 전극의 은이 확산되어 일어나는 현상으로 생각되고 있다.

다음으로, 본 발명의 유리의 성분에 대해서 설명한다. 또한, 예를 들어 Cu 는 유리 중에 있어서 CuO 의 형태로 존재하는 것으로서 CuO 를 성분으로서 취급하고, Cu0 환산 함유량은 CuO 로 약기하고, 각 성분의 함유량은 Ni 에 대한 것을 제외하고 몰 백분율 표시로 나타낸다.

CuO 는, T₄₅₀, T₅₅₀ 및 T₆₃₀ 에 대해서 앞서 나타낸 바람직한 관계를 실현하기 위한 성분이고, 또는, 상기 황변 현상을 일어나기 어렵게 하거나, 또는 일어나지 않게 하는 성분으로서, 필수이다. CuO 가 0.05％ 미만에서는 상기 바람직한 관계를 실현하기 어려워지고, 또는 상기 황변 현상이 일어나기 쉬워져, 바람직하게는 0.1％ 이상이다. CuO 가 2％ 초과에서는 유리의 투과율이 저하하고, 특히 T₅₅₀ 이 저하하여, 바람직하게는 0.9％ 이하이고, PbO 를 24％ 이상 함유하는 경우에는 전형적으로는 0.4％ 이하이다.

CoO 는 상기 바람직한 관계를 실현하기 위한 성분으로서, 필수이다. CoO 가 0.05％ 미만에서는 상기 바람직한 관계를 실현하기 어려워져, 바람직하게는 0.1％ 이상이고, 2％ 초과에서는 유리의 투과율이 저하하고, 특히 T₆₃₀ 이 저하하여, 바람직하게는 1％ 미만이다.

CeO₂ 는 필수는 아니지만, 유리의 색조를 황색 방향으로 조정하고자 하는 등의 경우에는 2％ 까지 함유해도 된다. CeO₂ 가 2％ 초과에서는 유리의 투과율이 저하하고, 특히 T₄₅₀ 이 저하하여, 바람직하게는 1％ 이하이다. CeO₂ 를 함유하는 경우 그 함유량은 0.1％ 이상인 것이 바람직하다.

MnO₂ 는 필수는 아니지만, 유리의 색조를 적색 방향으로 조정하고자 하는 등의 경우에는 2％ 까지 함유해도 된다. MnO₂ 가 2％ 초과에서는 유리의 투과율이 저하하고, 특히 T₅₅₀ 이 저하하여, 바람직하게는 1％ 이하이다. Mn0₂ 를 함유하는 경우 그 함유량은 0.1％ 이상인 것이 바람직하고, 전형적으로는 0.2％ 이상이다.

본 발명의 유리는 전형적으로는, NiO 를 함유하지 않은, 또는 NiO 를 함유하는 경우 그 함유량은 질량 백분율 표시로 0.005％ 미만이다.

본 발명의 제 1 유리는, 전형적으로는 B₂O₃-SiO₂ 계 유리이다.

다음으로, 발명의 제 2 유리의 성분에 대해서 설명한다. 또한, CuO, CoO, CeO₂ 및 Mn0₂ 에 대해서는 상기 설명과 중복되므로 설명을 생략한다.

B₂O₃ 은 유리 그물망 구조 형성 성분으로서, 필수이다. B₂O₃ 이 20％ 미만에서는 유리가 불안정해져, 바람직하게는 26％ 이상이고, 60％ 초과에서는 Ts 가 너무 높아져, 바람직하게는 55％ 이하, 전형적으로는 50％ 이하이다.

SiO₂ 는 유리 그물망 구조 형성 성분으로서, 필수이다. SiO₂ 가 5％ 미만에서는 유리가 불안정해져, 전형적으로는 7％ 이상이고, 50％ 초과에서는 Ts 가 너무 높아져, 바람직하게는 35％ 이하, 전형적으로는 26％ 이하이다.

PbO 및 ZnO 는 Ts 를 저하시키는 효과를 갖는 성분이고, 적어도 어느 하나를 함유하지 않으면 안된다. PbO 및 ZnO 의 함유량의 합계가 10％ 미만에서는 상기 효과가 작아, 전형적으로는 18％ 이상이고, 40％ 초과에서는 α 가 너무 커질 우려가 있거나, 또는 유리가 결정화되기 쉬워져, 바람직하게는 35％ 이하, 전형적으로는 30％ 이하이다.

PbO 를 함유하는 경우, 그 함유량은 바람직하게는 10 ∼ 35％, 전형적으로는 21 ∼ 29％ 이다. PbO 가 35％ 초과에서는 α 가 너무 커질 우려가 있다.

ZnO 를 함유하는 경우, 그 함유량은 바람직하게는 10 ∼ 30％, 전형적으로는 15 ∼ 25％ 이다. ZnO 가 30％ 초과에서는 유리가 결정화되기 쉬워진다.

Al₂O₃ 은 필수는 아니지만, 유리를 보다 안정화시키고자 하는 경우에는 15％ 까지 함유해도 된다. Al₂O₃ 이 15％ 초과에서는 유리가 결정화되기 쉬워져, 바람직하게는 10％ 이하, 전형적으로는 8％ 이하이다. Al₂O₃ 을 함유하는 경우 그 함유량은 바람직하게는 1％ 이상, 전형적으로는 3％ 이상이다.

SrO 및 BaO 는 모두 필수는 아니지만, α 를 크게 하고자 하는 등의 경우에는 합계로 20％ 까지의 범위에서 함유해도 된다. 상기 합계가 20％ 초과에서는 α 가 너무 커질 우려가 있어, 바람직하게는 16％ 이하이다. SrO 및 BaO 의 적어도 어느 일방을 함유하는 경우, SrO 및 BaO 의 함유량의 합계는 5％ 이상인 것이 바람직하고, 전형적으로는 8％ 이상이다. 또, 그 경우에는 BaO 를 함유하는 것이 바람직하다.

BaO 를 함유하는 경우, 그 함유량은 전형적으로는 8 ∼ 16％ 이다.

SrO 를 함유하는 경우, 그 함유량은 전형적으로는 10％ 이하이다.

TiO₂ 는 필수는 아니지만, 비유전율을 크게 하고자 하는 등의 경우에는 10％ 까지 함유해도 된다. TiO₂ 가 10％ 초과에서는 유리가 결정화되기 쉬워져, 전형적으로는 7％ 이하이다. TiO₂ 를 함유하는 경우 그 함유량은 바람직하게는 1％ 이상, 전형적으로는 3％ 이상이다.

Bi₂O₃ 은 필수는 아니지만, Ts 를 저하시키고자 하는, 비유전율을 크게 하고자 하는 등의 경우에는 9％ 까지 함유해도 된다. Bi₂O₃ 이 9％ 초과에서는 α 가 너무 커질 우려가 있어, 전형적으로는 4％ 이하이다. Bi₂O₃ 을 함유하는 경우 그 함유량은 바람직하게는 1％ 이상이다.

Li₂O, Na₂O 및 K₂O 는 모두 필수는 아니지만, Ts 를 저하시키고자 하는 등의 경우에는 합계로 16％ 까지의 범위에서 함유해도 된다. 상기 합계가 16％ 초과에서는 α 가 너무 커질 우려가 있어, 바람직하게는 9％ 이하이다. Li₂O, Na₂O 및 K₂O 중 어느 일종 이상을 함유하는 경우, 이들 3 성분의 함유량의 합계는 바람직하게는 2％ 이상, 전형적으로는 3％ 이상이다. 또, 그 경우, 전형적으로는 Li₂O 를 함유한다.

Li₂O 를 함유하는 경우 그 함유량은 전형적으로는 2 ∼ 9％ 이다.

Na₂O 및 K₂O 중 적어도 어느 일방을 함유하는 경우 그들의 함유량의 합계는 전형적으로는 10％ 이하이다.

본 발명의 제 2 유리는 본질적으로 상기 성분으로 이루어지는데, 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 그 외의 성분을 함유해도 된다. 그 경우 그러한 성분의 함유량의 합계는 10％ 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 제 2 유리의 바람직한 양태로서, B₂O₃ 이 20 ∼ 55％, PbO 가 10 ∼ 35％, ZnO 가 0 ∼ 10％, SrO 가 0 ∼ 15％ 인 것을 들 수 있다.

또, 다른 바람직한 양태로서, B₂O₃ 이 20 ∼ 50％, SiO₂ 가 5 ∼ 35％, ZnO 가 10 ∼ 30％, Al₂O₃ 이 0 ∼ 10％, SrO 가 0 ∼ 10％, BaO 가 0 ∼ 16％, Na₂O + K₂O 가 0 ∼ 10％ 이고, PbO 를 함유하지 않은 것을 들 수 있다.

다음으로, 본 발명의 PDP 전면 기판의 제조 방법에 대해서 설명한다.

유리 기판 상에 형성된 투명 전극과 버스 전극을 피복하도록 본 발명의 유리 분말을 함유하는 층을 형성한다.

상기 투명 전극은, 예를 들어, 폭 0.5㎜ 의 띠형상이고, 각각의 띠형상 전극이 서로 평행이 되도록 형성된다. 각 띠형상 전극 중심선간의 거리는, 예를 들어, 0.83 ∼ 1.0㎜ 이고, 이 경우, 투명 전극이 유리 기판 표면을 차지하는 비율은 50 ∼ 60％ 이다.

또, 버스 전극은 투명 전극에 대응하도록 형성되고, 은 또는 Cr-Cu-Cr 로 이루어지는 것이 일반적이다.

상기 본 발명의 유리 분말을 함유하는 층의 형성은, 인쇄법을 이용하는 경우에는 본 발명의 유리 분말에 필요하면 필러 등을 첨가한 다음, 수지, 용제 등과 혼합하여 유리 페이스트로 하고 이것을 투명 전극이 형성되어 있는 유리 기판에 도포하여 행하고, 그린 시트법을 이용하는 경우에는 상기 유리 분말에 수지, 나아가 필요에 따라 필러 등을 혼합하여 얻어진 슬러리를 그린 시트에 성형하고 이것을 전극이 형성되어 있는 유리 기판 상에 라미네이트하여 실시한다.

상기 본 발명의 유리 분말을 함유하는 층이 형성된 유리 기판은 가열되고, 당해 층은 소성되어 전극 피복 유리층이 되고, 그 후 이 전극 피복 유리층 상에 보호막으로서 산화 마그네슘의 층이 형성되어, PDP 전면 기판이 된다.

또한, 이상의 설명에 있어서 나타낸 구성 등은 예이고, 본 발명의 PDP 전면 기판은 이것으로 한정되지 않는다.

본 발명의 PDP 배면 기판은, 본 발명의 PDP 전면 기판의 제조 방법에 준하여 제조된다. 즉, 유리 기판 상의 어드레스 전극을 피복하는 본 발명의 유리 분말을 함유하는 층은, 본 발명의 PDP 전면 기판의 제조 방법에 있어서와 마찬가지로 하여 형성된다.

어드레스 전극은 은 또는 Cr-Al 로 이루어지는 것이 일반적이다.

본 발명의 PDP 배면 기판의 전극 피복 유리층에 광반사성, 차광성 등을 부여하고자 하는 경우에는, 상기 본 발명의 유리 분말을 함유하는 층에 필러 (안료를 포함한다) 를 함유시키는 것이 바람직한 경우가 있다. 또한, 안료로서는, Al, Si, Ti, Cr, Mn, Co 및 Cu 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 이상의 원소를 함유하는 것이 일반적이다.

상기 바람직한 경우에 있어서 본 발명의 유리 분말을 함유하는 층이 필러로서 안료를 함유하는 경우, 본 발명의 유리 분말을 100질량부로 하여 안료를 0.5 ∼ 40질량부의 비율로 포함하는 것이 바람직하다.

표의 B₂O₃ 으로부터 MnO₂ 까지의 란에 몰 백분율 표시로 나타내는 조성이 되도록, 원료를 조제하여 혼합하고, 1100 ∼ 1350℃ 의 전기로 중에서 백금 도가니를 이용하여 1 시간 용융하고, 박판상 유리에 성형한 후, 볼 밀로 분쇄하여, 유리 분말을 얻었다. 예 1 ∼ 17 은 실시예, 예 18 은 비교예이다.

이들 유리 분말에 대해서, 연화점 Ts (단위 : ℃), 50 ∼ 350℃ 에 있어서의 평균 선팽창 계수 α (단위 : 10^-7/℃), 1MHz 에서의 비유전율 ε 을 이하에 서술하는 바와 같이 하여 측정하였다. 결과를 표에 나타낸다.

Ts : 800℃ 까지의 범위에서 시차열 분석계를 이용하여 측정하였다.

α : 유리 분말을 가압 성형 후, Ts 보다 30℃ 높은 온도에서 10 분간 소성 하여 얻은 소성체를 직경 5㎜, 길이 2㎝ 의 원주상으로 가공하고, 열팽창계로 50 ∼ 350℃ 에 있어서의 평균 선팽창 계수를 측정하였다.

ε : 유리 분말을 재용융하고 판상으로 성형 후, 가공하여 50㎜ × 50㎜, 두께 3㎜ 의 측정 시료로 하였다. 측정 시료의 양면에 알루미늄 전극을 증착에 의해 제작하고, LCR 미터를 이용하여 주파수 1MHz 에서의 비유전율을 측정하였다.

또, 상기 유리 분말 100g 을 유기 비히클 25g 과 혼련하여 유리 페이스트를 제작하였다. 또한, 유기 비히클은, α-테르피네올에 에틸셀룰로오스를 질량 백분율 표시로 12％ 용해시켜 제작하였다.

다음으로, 크기 50㎜ × 75㎜, 두께 2.8㎜ 의 유리 기판 (아사히 가라스사 제조 PD200) 을 준비하고, 이 유리 기판의 표면 48㎜ × 73㎜ 의 부분에 스크린 인쇄용 은 페이스트를 인쇄하고 소성하여 은층을 형성하였다. 또한, 상기 유리 기판은, 질량 백분율 표시 조성이, SiO₂ 58％, Al₂O₃ 7％, Na₂O 4％, K₂O 6.5％, MgO 2％, CaO 5％ SrO 7％, BaO 7.5％, ZrO₂ 3％ 이고, 또 유리 전이점이 626℃, α 가 83 × 10^-7/℃, 인 유리로 이루어진다.

이와 같이 은층이 형성된 유리 기판과 은층이 형성되어 있지 않은 유리 기판을 준비하고, 각각의 50㎜ × 50㎜ 부분에 상기 유리 페이스트를 균일하게 스크린 인쇄 후, 120℃ 에서 10 분간 건조시켰다. 이들 유리 기판을 승온 속도 10℃/분으로 온도가 Ts 에 이를 때까지 가열하고, 다시 그 온도를 Ts 에 30 분간 유지하여 소성하였다. 이와 같이 하여 유리 기판 상에 형성된 유리층의 두께는 30 ∼ 35㎛ 였다.

은층이 형성되어 있지 않은 유리 기판 상에 상기 유리층이 형성된 시료에 대해서, 파장 450㎚, 550㎚, 630㎚ 의 광의 투과율 T₄₅₀ (단위 : ％), T₅₅₀ (단위 : ％), T₆₃₀ (단위 : ％) 을 이하에 서술하는 바와 같이하여 측정하였다.

T₄₅₀, T₅₅₀, T₆₃₀ : 히타치 제작소사 제조의 적분 구형 자기 분광 광도계 U-3500 을 이용하여 파장 450㎚, 550㎚, 630㎚ 의 광의 투과율을 측정하였다 (시료가 없는 상태를 100％ 로 하였다).

또한, 은층이 형성된 유리 기판 상에 상기 유리층이 형성된 시료에 대해서 황변 현상의 유무를 조사하였다. 그 결과, 예 1 ∼ 18 중 어느 유리층의 색도 무색, 청색 또는 청록색이며, 유리층의 색이 갈색 또는 황색이 되는 황변 현상은 관찰되지 않았다.

본 발명의 유리는 PDP 의 전면 또는 배면 기판의 전극 피복에 이용할 수 있다.

또, 본 발명의 PDP 전면 기판 및 PDP 배면 기판은 PDP 의 제조에 이용할 수 있다.

또한, 2005년 1월 14일에 출원된 일본 특허 출원 2005-7898호의 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서 받아들이는 것이다.

Claims

삭제
삭제
삭제
삭제
하기 산화물 기준의 몰 백분율 표시로, B₂O₃ 20 ∼ 60％, SiO₂ 5 ∼ 50％, PbO + ZnO 10 ∼ 40％, Al₂O₃ 0 ∼ 15％, SrO + BaO 0 ∼ 20％, TiO₂ 0 ∼ 10％, Bi₂O₃ 0 ∼ 9％, Li₂O + Na₂O + K₂O 0 ∼ 16％, CuO 0.05 ∼ 2％, CoO 0.05 ∼ 2％, CeO₂ 0 ∼ 2％, MnO₂ 0.2 ∼ 2％ 이 되는 전극 피복용 유리.
삭제
제 5 항에 있어서,

B₂O₃ 가 20 ∼ 50％, SiO₂ 가 5 ∼ 35％, ZnO 가 10 ∼ 30％, Al₂O₃ 가 0 ∼ 10％, SrO 가 0 ∼ 10％, BaO 가 0 ∼ 16％, Na₂O + K₂O 가 0 ∼ 10％ 이고, PbO 를 함유하지 않은 전극 피복용 유리.
제 5 항 또는 제 7 항에 있어서,

Ni 를 함유하지 않은, 또는 Ni 를 함유하고 그 NiO 환산 함유량이 질량 백분율 표시로 0.005％ 미만인 전극 피복용 유리.
투명 전극이 형성되어 있는 유리 기판이 유리층에 의해 피복되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널 전면 기판으로서, 유리층의 유리가 제 5 항 또는 제 7 항에 기재된 전극 피복용 유리인 플라즈마 디스플레이 패널 전면 기판.
전극이 형성되어 있는 유리 기판이 유리층에 의해 피복되고, 그 유리층의 위에 격벽이 형성되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널 배면 기판으로서, 유리층의 유리가 제 5 항 또는 제 7 항에 기재된 전극 피복용 유리인 플라즈마 디스플레이 패널 배면 기판.
삭제