JP2006193385A

JP2006193385A - 電極被覆用ガラス、プラズマディスプレイパネル前面基板およびプラズマディスプレイパネル背面基板

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Publication number: JP2006193385A
Application number: JP2005007898A
Authority: JP
Inventors: Satoru Fujimine; 哲藤峰; Hiroyuki Yamamoto; 宏行山本
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2005-01-14
Filing date: 2005-01-14
Publication date: 2006-07-27
Also published as: KR100895226B1; KR20070086978A; WO2006075561A1

Abstract

【課題】カラーフィルタ層の形成を不要とすることが可能になり得る電極被覆用ガラス。
【解決手段】ＣｕおよびＣｏを含有し、ＣｕのＣｕＯ換算含有量が０．０５〜２モル％かつＣｏのＣｏＯ換算含有量が０．０５〜２モル％である電極被覆用ガラス。下記酸化物基準のモル百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３２０〜６０％、ＳｉＯ_２５〜５０％、ＰｂＯ＋ＺｎＯ１０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ０〜２０％、ＴｉＯ_２０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１６％、ＣｕＯ０．０５〜２％、ＣｏＯ０．０５〜２％、ＣｅＯ_２０〜２％、ＭｎＯ_２０〜２％、から本質的になる電極被覆用ガラス。
【選択図】なし

Description

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという。）の前面基板および背面基板、およびそれら基板の電極被覆に好適な電極被覆用ガラスに関する。

近年、薄型の平板型カラー表示装置が注目を集めている。このような表示装置では画像を形成する画素における表示状態を制御するために各画素に電極が形成される。このような電極としては、画像の質の低下を防ぐために、ガラス基板上に形成されたＩＴＯまたは酸化スズの薄膜等の透明電極が用いられている。

前記表示装置の表示面として使用されるガラス基板の表面に形成される透明電極は、精細な画像を実現するために細い線状に加工される。そして各画素を独自に制御するためには、このような微細に加工された透明電極相互の絶縁性を確保する必要がある。ところが、ガラス基板の表面に水分が存在する場合やガラス基板中にアルカリ成分が存在する場合、このガラス基板の表面を介して若干の電流が流れることがある。このような電流を防止するには、透明電極間に絶縁層を形成することが有効である。また、透明電極間に形成される絶縁層による画像の質の低下を防ぐべくこの絶縁層は透明であることが好ましい。
このような絶縁層を形成する絶縁材料としては種々のものが知られているが、なかでも、透明であり信頼性の高い絶縁材料であるガラス材料が広く用いられている。

最近大型平面カラーディスプレイ装置として期待されているＰＤＰにおいては、表示面として使用される前面基板と、隔壁が形成されている背面基板とが貼り合わされており、その内部には隔壁によりセルが区画形成されている。そして、そのセル中でプラズマ放電を発生させることにより画像が形成される。
前面基板のガラス基板の表面には透明電極が形成されており、この透明電極をプラズマから保護するために、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記透明電極を被覆することが必須である。
また、背面基板のガラス基板の表面にはアドレス電極が形成されており、このアドレス電極もガラスにより被覆される。

このような電極被覆に用いられるガラスは、通常はガラス粉末にして使用される。たとえば、前記ガラス粉末に必要に応じてフィラー等を添加した上で樹脂、溶剤等と混合してガラスペーストとしこれを透明電極等の電極が形成されているガラス基板に塗布後焼成する、前記ガラス粉末に樹脂、さらに必要に応じてフィラー等を混合して得られたスラリーをグリーンシートに成形しこれを電極が形成されているガラス基板上にラミネート後焼成する、等の方法によって電極をガラスにより被覆する。

ＰＤＰ前面基板の透明電極被覆に用いられるガラスには、先に述べたような電気絶縁性の他に、たとえば、軟化点（Ｔｓ）が４５０〜６５０℃であること、５０〜３５０℃における平均線膨張係数（α）が６０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃であること、焼成して得られる電極被覆ガラス層の透明性が高いこと、等が求められており、種々のガラスが従来提案されている。

ＰＤＰ前面基板では通常、電極被覆ガラス層の上にコントラスト向上等を目的としてカラーフィルタ層が形成されるが、最近はこのカラーフィルタ層の形成を不要とするべく電極被覆ガラス層として着色ガラスを用いこれにより画面のコントラストを向上させることが提案されている（特許文献１参照。）。

特開２０００−２２６２２９号公報（表１）

先に述べたようにカラーフィルタ層の形成を不要とするべく電極被覆ガラス層として着色ガラスを用いることが従来提案されているが、未だ広く用いられるに至っていない。
その原因は必ずしも明らかではないが、特許文献１で開示されている電極被覆用ガラスは着色成分としてＣｏＯおよびＮｉＯのみを含有するものであり、そのことが前記原因である可能性がある。
本発明はこのような可能性の排除を可能にする電極被覆用ガラス、ならびにそのようなガラスを電極被覆に用いたＰＤＰ前面基板およびＰＤＰ背面基板の提供を目的とする。

本発明は、ＣｕおよびＣｏを含有し、ＣｕのＣｕＯ換算含有量が０．０５〜２モル％かつＣｏのＣｏＯ換算含有量が０．０５〜２モル％である電極被覆用ガラス（本発明の第１のガラス）を提供する。
また、下記酸化物基準のモル百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３２０〜６０％、ＳｉＯ_２５〜５０％、ＰｂＯ＋ＺｎＯ１０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ０〜２０％、ＴｉＯ_２０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１６％、ＣｕＯ０．０５〜２％、ＣｏＯ０．０５〜２％、ＣｅＯ_２０〜２％、ＭｎＯ_２０〜２％、から本質的になる電極被覆用ガラス（本発明の第２のガラス）を提供する。

また、透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているＰＤＰ前面基板であって、ガラス層のガラスが本発明の第１または第２のガラスであるＰＤＰ前面基板を提供する。
また、電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆され、そのガラス層の上に隔壁が形成されているＰＤＰ背面基板であって、ガラス層のガラスが本発明の第１または第２のガラスであるＰＤＰ背面基板を提供する。

カラーフィルタ層が形成されていないＰＤＰ前面基板であってその電極被覆ガラス層が着色成分としてＣｏＯおよびＮｉＯのみを含有するものではないものが得られる。
また、バス電極等として銀電極が用いられているＰＤＰ前面基板であってその電極被覆ガラス層の銀電極周辺部分の黄変現象を抑制することが可能になる。

本発明の電極被覆用ガラス（以下、単に本発明のガラスという。）をＰＤＰ前面基板の電極被覆ガラス層として用いる場合を中心に以下では説明する。なお、本発明はこの場合に限定されない。

本発明のガラスは通常はガラス粉末にして使用される。たとえば、本発明のガラスの粉末は印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとされ、ガラス基板上に形成された電極上に前記ガラスペーストを塗布、焼成して電極を被覆する。ここでいう有機ビヒクルは、エチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。あるいは、本発明のガラスの粉末に樹脂、さらに必要に応じてフィラー等を混合して得られたスラリーをグリーンシートに成形しこれを電極が形成されているガラス基板上にラミネート後焼成して電極を被覆する。

本発明のガラスのＴｓは４５０〜６５０℃であることが好ましい。６５０℃超では、通常使用されているガラス基板（ガラス転移点：５５０〜６２０℃）が焼成時に変形するおそれがある。
ガラス転移点が６１０〜６３０℃であるようなガラス基板を用いる等の場合には前記Ｔｓは、好ましく６３０℃以下、より好ましくは５５０〜６００℃である。
また、単層構造の電極被覆ガラス層に用いる場合等には前記Ｔｓは好ましくは５２０℃以上、より好ましくは５５０℃以上であり、ガラス転移点が６１０〜６３０℃であるようなガラス基板を用いる等の場合には前記Ｔｓは５８０℃以上であることが特に好ましい。

前記ガラス基板としては通常、αが８０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃のものが用いられる。したがってこのようなガラス基板と膨張特性をマッチングさせ、ガラス基板のそりや強度の低下を防止するためには、本発明のガラスのαは好ましくは６０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃、より好ましくは７０×１０^−７〜８５×１０^−７／℃である。
本発明のガラスは、Ｔｓが４５０〜６５０℃、αが６０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃であるものであることが好ましい。

本発明のガラスの１ＭＨｚにおける比誘電率は典型的には８〜１３である。

本発明のガラスは、ＰＤＰのガラス基板として用いられるガラス基板の上に厚みが３０〜３５μｍであるガラス層として形成されたとき、そのガラス層が形成されたガラス基板に対する波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍの各光の透過率（単位：％）をそれぞれＴ_４５０、Ｔ_５５０、Ｔ_６３０として、Ｔ_４５０＞Ｔ_５５０＞Ｔ_６３０または−２％＜（Ｔ_４５０−Ｔ_５５０）＜０％であることが好ましい。
また、Ｔ_４５０、Ｔ_５５０、Ｔ_６３０はいずれも６５％以上であることが好ましい。
なお、前記ガラス基板としては厚みが２．８ｍｍである旭硝子社製ＰＤ２００ガラス基板（Ｔ_４５０＝８９％、Ｔ_５５０＝９０％、Ｔ_６３０＝８８％。）が例示される。

本発明のガラスは、それを銀電極を被覆するガラス層に用いた場合に銀電極周辺部分の黄変現象が起こりにくいまたは起こらないものであることが好ましい。なお、この黄変現象はガラスが茶色または黄色に着色しＰＤＰの画質が低下する現象であり、銀電極を被覆するガラス層に当該電極の銀が拡散して起こる現象と考えられている。

次に、本発明のガラスの成分について説明する。なお、たとえばＣｕはガラス中においてＣｕＯの形で存在するものとしてＣｕＯを成分として扱い、ＣｕＯ換算含有量はＣｕＯと略記し、各成分の含有量はＮｉに対するものを除きモル百分率表示で表す。

ＣｕＯは、Ｔ_４５０、Ｔ_５５０およびＴ_６３０について先に示した好ましい関係を実現するための成分であり、また、前記黄変現象を起こりにくくするまたは起こらないようにする成分であり、必須である。０．０５％未満では前記好ましい関係を実現しにくくなる、または前記黄変現象が起こりやすくなる。好ましくは０．１％以上である。２％超ではガラスの透過率が低下し、特にＴ_５５０が低下する。好ましくは０．９％以下であり、ＰｂＯを２４％以上含有する場合には典型的には０．４％以下である。

ＣｏＯは前記好ましい関係を実現するための成分であり、必須である。０．０５％未満では前記好ましい関係を実現しにくくなる。好ましくは０．１％以上である。２％超ではガラスの透過率が低下し、特にＴ_６３０が低下する。好ましくは１％未満である。

ＣｅＯ_２は必須ではないが、ガラスの色調を黄色方向に調整したい等の場合には２％まで含有してもよい。２％超ではガラスの透過率が低下し、特にＴ_４５０が低下する。好ましくは１％以下である。ＣｅＯ_２を含有する場合その含有量は０．１％以上であることが好ましい。

ＭｎＯ_２は必須ではないが、ガラスの色調を赤色方向に調整したい等の場合には２％まで含有してもよい。２％超ではガラスの透過率が低下し、特にＴ_５５０が低下する。好ましくは１％以下である。ＭｎＯ_２を含有する場合その含有量は０．１％以上であることが好ましく、典型的には０．２％以上である。

本発明のガラスは典型的には、ＮｉＯを含有しない、またはＮｉＯを含有する場合その含有量は質量百分率表示で０．００５％未満である。

本発明の第１のガラスは、典型的にはＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスである。

次に、本発明の第２のガラスの成分について説明する。なお、ＣｕＯ、ＣｏＯ、ＣｅＯ_２およびＭｎＯ_２については上記説明と重複するので説明を省略する。
Ｂ_２Ｏ_３はガラス網目構造形成成分であり、必須である。２０％未満ではガラスが不安定になる。好ましくは２６％以上である。６０％超ではＴｓが高くなりすぎる。好ましくは５５％以下、典型的には５０％以下である。
ＳｉＯ_２はガラス網目構造形成成分であり、必須である。５％未満ではガラスが不安定になる。典型的には７％以上である。５０％超ではＴｓが高くなりすぎる。好ましくは３５％以下、典型的には２６％以下である。

ＰｂＯおよびＺｎＯはＴｓを低下させる効果を有する成分であり、少なくともいずれか一方を含有しなければならない。ＰｂＯおよびＺｎＯの含有量の合計が１０％未満では前記効果が小さい。典型的には１８％以上である。４０％超ではαが大きくなりすぎるおそれがある、またはガラスが結晶化しやすくなる。好ましくは３５％以下、典型的には３０％以下である。
ＰｂＯを含有する場合、その含有量は好ましくは１０〜３５％、典型的には２１〜２９％である。ＰｂＯが３５％超ではαが大きくなりすぎるおそれがある。
ＺｎＯを含有する場合、その含有量は好ましくは１０〜３０％、典型的には１５〜２５％である。ＺｎＯが３０％超ではガラスが結晶化しやすくなる。

Ａｌ_２Ｏ_３は必須ではないが、ガラスをより安定化させたい等の場合には１５％まで含有してもよい。１５％超ではガラスが結晶化しやすくなる。好ましくは１０％以下、典型的には８％以下である。Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合その含有量は好ましくは１％以上、典型的には３％以上である。

ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではないが、αを大きくしたい等の場合には合計で２０％までの範囲で含有してもよい。２０％超ではαが大きくなりすぎるおそれがある。好ましくは１６％以下である。ＳｒＯおよびＢａＯの少なくともいずれか一方を含有する場合、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量の合計は５％以上であることが好ましい。典型的には８％以上である。また、その場合にはＢａＯを含有することが好ましい。
ＢａＯを含有する場合、その含有量は典型的には８〜１６％である。
ＳｒＯを含有する場合、その含有量は典型的には１０％以下である。

ＴｉＯ_２は必須ではないが、比誘電率を大きくしたい等の場合には１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが結晶化しやすくなる。典型的には７％以下である。ＴｉＯ_２を含有する場合その含有量は好ましくは１％以上、典型的には３％以上である。
Ｂｉ_２Ｏ_３は必須ではないが、Ｔｓを低下させたい、比誘電率を大きくしたい等の場合には９％まで含有してもよい。９％超ではαが大きくなりすぎるおそれがある。典型的には４％以下である。Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する場合その含有量は好ましくは１％以上である。

Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏはいずれも必須ではないが、Ｔｓを低下させたい等の場合には合計で１６％までの範囲で含有してもよい。１６％超ではαが大きくなりすぎるおそれがある。好ましくは９％以下である。Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか一種以上を含有する場合、これら３成分の含有量の合計は好ましくは２％以上、典型的には３％以上である。また、その場合にはＬｉ_２Ｏを含有することが典型的である。
Ｌｉ_２Ｏを含有する場合その含有量は典型的には２〜９％である。
Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの少なくともいずれか一方を含有する場合それらの含有量の合計は典型的には１０％以下である。

本発明の第２のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合そのような成分の含有量の合計は１０％以下であることが好ましい。

本発明の第２のガラスの好ましい態様として、Ｂ_２Ｏ_３が２０〜５５％、ＰｂＯが１０〜３５％、ＺｎＯが０〜１０％、ＳｒＯが０〜１５％であるものが挙げられる。
また、別の好ましい態様として、Ｂ_２Ｏ_３が２０〜５０％、ＳｉＯ_２が５〜３５％、ＺｎＯが１０〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜１０％、ＳｒＯが０〜１０％、ＢａＯが０〜１６％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜１０％であり、ＰｂＯを含有しないものが挙げられる。

次に、本発明のＰＤＰ前面基板の製造方法について説明する。
ガラス基板上に形成された透明電極とバス電極を被覆するように本発明のガラスの粉末を含有する層を形成する。
前記透明電極は、たとえば幅０．５ｍｍの帯状であり、それぞれの帯状電極が互いに平行となるように形成される。各帯状電極中心線間の距離は、たとえば０．８３〜１．０ｍｍであり、この場合、透明電極がガラス基板表面を占める割合は５０〜６０％である。
また、バス電極は透明電極に対応するように形成され、銀またはＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒからなることが一般的である。

前記本発明のガラスの粉末を含有する層の形成は、印刷法を用いる場合には本発明のガラスの粉末に必要であればフィラー等を添加した上で樹脂、溶剤等と混合してガラスペーストとしこれを透明電極が形成されているガラス基板に塗布して行い、グリーンシート法を用いる場合には前記ガラスの粉末に樹脂、さらに必要に応じてフィラー等を混合して得られたスラリーをグリーンシートに成形しこれを電極が形成されているガラス基板上にラミネートして行う。

前記本発明のガラスの粉末を含有する層が形成されたガラス基板は加熱され、当該層は焼成されて電極被覆ガラス層となり、その後この電極被覆ガラス層の上に保護膜として酸化マグネシウムの層が形成され、ＰＤＰ前面基板とされる。
なお、以上の説明において示した構成等は例であり、本発明のＰＤＰ前面基板はこれに限定されない。

本発明のＰＤＰ背面基板は、本発明のＰＤＰ前面基板の製造方法に準じて製造される。すなわち、ガラス基板上のアドレス電極を被覆する本発明のガラスの粉末を含有する層は、本発明のＰＤＰ前面基板の製造方法におけると同様にして形成される。
アドレス電極は銀またはＣｒ−Ａｌからなることが一般的である。

本発明のＰＤＰ背面基板の電極被覆ガラス層に光反射性、遮光性等を付与したい場合には、前記本発明のガラスの粉末を含有する層にフィラー（顔料を含む。）を含有することが好ましい場合がある。なお、顔料としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、ＣｏおよびＣｕからなる群から選ばれる１以上の元素を含有するものであることが一般的である。
前記好ましい場合において本発明のガラスの粉末を含有する層がフィラーとして顔料を含む場合、本発明のガラスの粉末を１００質量部として顔料を０．５〜４０質量部の割合で含むものであることが好ましい。

表のＢ_２Ｏ_３からＭｎＯ_２までの欄にモル百分率表示で示す組成となるように、原料を調合して混合し、１１００〜１３５０℃の電気炉中で白金ルツボを用いて１時間溶融し、薄板状ガラスに成形した後、ボールミルで粉砕し、ガラス粉末を得た。例１〜１７は実施例、例１８は比較例である。

これらガラス粉末について、軟化点Ｔｓ（単位：℃）、５０〜３５０℃における平均線膨張係数α（単位：１０^−７／℃）、１ＭＨｚでの比誘電率εを以下に述べるようにして測定した。結果を表に示す。
Ｔｓ：８００℃までの範囲で示差熱分析計を用いて測定した。
α：ガラス粉末を加圧成形後、Ｔｓより３０℃高い温度で１０分間焼成して得た焼成体を直径５ｍｍ、長さ２ｃｍの円柱状に加工し、熱膨張計で５０〜３５０℃における平均線膨張係数を測定した。
ε：ガラス粉末を再溶融し板状に成形後、加工して５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚み３ｍｍの測定試料とした。測定試料の両面にアルミニウム電極を蒸着により作製し、ＬＣＲメータを用いて周波数１ＭＨｚでの比誘電率を測定した。

また、前記ガラス粉末１００ｇを有機ビヒクル２５ｇと混練してガラスペーストを作製した。なお、有機ビヒクルは、α−テルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で１２％溶解して作製した。
次に、大きさ５０ｍｍ×７５ｍｍ、厚み２．８ｍｍのガラス基板（旭硝子社製ＰＤ２００）を用意し、このガラス基板の表面４８ｍｍ×７３ｍｍの部分にスクリーン印刷用銀ペーストを印刷し焼成して銀層を形成した。なお、前記ガラス基板は、質量百分率表示組成が、ＳｉＯ_２５８％、Ａｌ_２Ｏ_３７％、Ｎａ_２Ｏ４％、Ｋ_２Ｏ６．５％、ＭｇＯ２％、ＣａＯ５％、ＳｒＯ７％、ＢａＯ７．５％、ＺｒＯ_２３％、であり、またガラス転移点が６２６℃、αが８３×１０^−７／℃、であるガラスからなる。

このように銀層が形成されたガラス基板と、銀層が形成されていないガラス基板とを用意し、それぞれの５０ｍｍ×５０ｍｍの部分に前記ガラスペーストを均一にスクリーン印刷後、１２０℃で１０分間乾燥した。これらガラス基板を昇温速度１０℃／分で温度がＴｓに達するまで加熱し、さらにその温度をＴｓに３０分間保持して焼成した。このようにしてガラス基板上に形成されたガラス層の厚みは３０〜３５μｍであった。

銀層が形成されていないガラス基板上に前記ガラス層が形成された試料について、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍの光の透過率Ｔ_４５０（単位：％）、Ｔ_５５０（単位：％）、Ｔ_６３０（単位：％）を以下に述べるようにして測定した。
Ｔ_４５０、Ｔ_５５０、Ｔ_６３０：日立製作所社製の積分球型自記分光光度計Ｕ−３５００を用いて波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍの光の透過率を測定した（試料のない状態を１００％とした。）。

また、銀層が形成されたガラス基板上に前記ガラス層が形成された試料について黄変現象の有無を調べた。その結果、例１〜１８のいずれのガラス層の色も無色、青色または青緑色であり、ガラス層の色が茶色または黄色となる黄変現象は認められなかった。

本発明のガラスはＰＤＰの前面または背面基板の電極被覆に利用できる。
また、本発明のＰＤＰ前面基板およびＰＤＰ背面基板はＰＤＰの製造に利用できる。

Claims

ＣｕおよびＣｏを含有し、ＣｕのＣｕＯ換算含有量が０．０５〜２モル％かつＣｏのＣｏＯ換算含有量が０．０５〜２モル％である電極被覆用ガラス。
Ｃｅを含有し、そのＣｅＯ_２換算含有量が２モル％以下である請求項１に記載の電極被覆用ガラス。
Ｍｎを含有し、そのＭｎＯ_２換算含有量が２モル％以下である請求項１または２に記載の電極被覆用ガラス。
Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスである請求項１、２または３に記載の電極被覆用ガラス。
下記酸化物基準のモル百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３２０〜６０％、ＳｉＯ_２５〜５０％、ＰｂＯ＋ＺｎＯ１０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ０〜２０％、ＴｉＯ_２０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ０〜１６％、ＣｕＯ０．０５〜２％、ＣｏＯ０．０５〜２％、ＣｅＯ_２０〜２％、ＭｎＯ_２０〜２％、から本質的になる電極被覆用ガラス。
Ｂ_２Ｏ_３が２０〜５５％、ＰｂＯが１０〜３５％、ＺｎＯが０〜１０％、ＳｒＯが０〜１５％である請求項５に記載の電極被覆用ガラス。
Ｂ_２Ｏ_３が２０〜５０％、ＳｉＯ_２が５〜３５％、ＺｎＯが１０〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜１０％、ＳｒＯが０〜１０％、ＢａＯが０〜１６％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜１０％であり、ＰｂＯを含有しない請求項５に記載の電極被覆用ガラス。
Ｎｉを含有しない、またはＮｉを含有しそのＮｉＯ換算含有量が質量百分率表示で０．００５％未満である請求項１〜７のいずれかに記載の電極被覆用ガラス。
透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているプラズマディスプレイパネル前面基板であって、ガラス層のガラスが請求項１〜８のいずれかに記載の電極被覆用ガラスであるプラズマディスプレイパネル前面基板。
電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆され、そのガラス層の上に隔壁が形成されているプラズマディスプレイパネル背面基板であって、ガラス層のガラスが請求項１〜８のいずれかに記載の電極被覆用ガラスであるプラズマディスプレイパネル背面基板。