JP4416773B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(ZnO−B2O3−SiO2−Al2O3)、
酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(Bi2O3−B2O3−SiO2)、
酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(Bi2O3−B2O3−SiO2−Al2O3)、
酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(Bi2O3−ZnO−B2O3−SiO2)、及び酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アーをミニュムゲ(Bi2O3−ZnO−B2O3−SiO2−Al2O3)で構成される群より選択される1種以上を含める。
a)カルボキシル基含有モノマー類
前記カルボキシル基含有モノマーでは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、琥珀酸(モノ2−(メト)アクリロイルオキシエチル)、またはω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メト)アクリレートが挙げられる。
前記OH基含有モノマーでは、(メト)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メト)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メト)アクリル酸3−ヒドロキシプロピルなどのOH基含有単量体類;O−ヒドロキシスチレン、M−ヒドロキシスチレン、P−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性OH基含有モノマー類が挙げられる。
前記その他の共重合可能なモノマーでは、(メト)アクリル酸メチル、(メト)アクリル酸エチル、(メト)アクリル酸n−ブチル、(メト)アクリル酸n−ラウリル、(メト)アクリル酸ベンジル、グリシジル(メト)アクリレート、ジシクローペンタニル(メト)アクリレート、ホスフェートアクリレートなどの(メト)アクリル酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類;ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類;ポリスチレン、ポリ(メト)アクリル酸メチル、ポリ(メト)アクリル酸エチル、ポリ(メト)アクリル酸ベンジルなどの重合体鎖の一方の末端に(メト)アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類が挙げられる。
1μmの平均粒子直径を有するSiO2−ZnO−B2O3のガラス粉末(69.8重量%のSiO2、28.4重量%のZnO及び1.8重量%のB2O3)を含む誘電層形成用組成物をポルリエチレンテレフタレイト製支持体に塗布または印刷などにより被覆した後乾燥させて、45μmの厚さを有する第1グリーンシートを製造した。
製造例2:グリーンシートの製造
前記製造例1でのSiO2−ZnO−B2O3のガラス粉末の代わりに0.1μmの平均粒子直径を有するB2O3−BaO−ZnOのガラス粉末(70重量%のB2O3、15重量%のBaO、10重量%のZnO)を使って、グリーンシートを製造したことを除いて、前記製造例1と同様な方法で実施してグリ−ンシートを製造した。
前記製造例1でのSiO2−ZnO−B2O3のガラス粉末の代わりに5μmの平均粒子直径を有するBi2O3−B2O3−SiO2−Al2O3−Na2O−MgOのガラス粉末(25重量%のBi2O3、25重量%のB2O3、30重量%のSiO2、15重量%のAl2O3、2重量%のNa2O、及び3重量%のMgO)を使って、グリーンシートを製造することを除いて、前記製造例1と同様な方法で前記製造例1と同様な方法で実施してグリ−ンシートを製造した。
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物をスパッタリングした後、ドライフィルムレジスト(DFR)を積み重ねた。前記DFRの上にパターン形成されたフォトマスクをさらに積み重ねた後、高圧水銀灯を利用して露光して、Na2CO3 0.4%アルカリ水溶液を利用して現像して乾燥して、突出電極形状にDFRをパターニングした。その後、塩酸と硝酸を利用して、エッチングした後、5.0%のNaOH水溶液を利用してDFRパターン部分を剥離した後、焼成して突出電極を形成した。
前記製造例2で製造されたグリーンシートを使うことを除いて、前記実施例1と同様な方法で実施して、プラズマディスプレイパネルを製造した。
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物をスパッタリングした後、ドライフィルムレジスト(DFR)を積み重ねた。前記DFRの上にパターン形成されたフォトマスクをさらに積み重ねた後、高圧水銀灯を利用して露光を行い、0.4%のNa2CO3アルカリ水溶液を利用して現像して乾燥して、突出電極形状にDFRをパターニングした。その後、塩酸と硝酸を利用して、エッチングした後、5.0%のNaOH水溶液を利用してDFRパターンの部分を剥離した後、焼成して突出電極を形成した。
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物をスパッタリングした後、ドライフィルムレジスト(DFR)を積み重ねた。前記DFRの上にパターン形成されたフォトマスクをさらに積み重ねた後、高圧水銀灯を利用して露光して、0.4%のNa2CO3アルカリ水溶液を利用して現像及び乾燥して、突出電極形状にDFRをパターニングした。その後、塩酸と硝酸を利用して、エッチングした後、5.0%のNaOH水溶液を利用してDFRパターン部分を剥離した後、焼成して突出電極を形成した。
20 前面基板
21 維持電極
21’、23’ 表示電極形成空間
23 走査電極
25 表示電極
28 誘電層
32 アドレス電極
32a 突出電極
32b バス電極
280 グリーンシート
280a 第1グリーンシート
280b 第2グリーンシート
280c 第3グリーンシート
Claims (47)
- 前面基板上にアドレス電極を形成する段階と、
前記基板上のアドレス電極を覆って誘電層形成用組成物から製造される第1グリ−ンシートを形成して第1誘電層を形成する段階と、
前記第1クリーンシート上に感光性誘電層形成用組成物から製造される第2グリーンシートを形成する段階と、
前記第2グリ−ンシートを露光、現像及び焼成して複数の誘電層パターンを含む第2誘電層を形成する段階と、
前記誘電層パターン内に表示電極形成用組成物を充填、焼成して維持電極及び走査電極を含む表示電極パターンを形成する段階と、
前記表示電極パターンを覆うように第3誘電層を形成して前面基板を製造する段階と、を含み、
背面基板にパターン化された隔壁及び蛍光層を順次形成する段階と、
前記背面基板と先に製造された前面基板を相互縫着、排気及び密封する段階と、を含む
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記誘電層形成用組成物は、ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、SnO、P2O5、Sb2O3及びBi2O3で構成される群より選択される1種以上を含むガラス粉末を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(ZnO−B2O3−SiO2)、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(ZnO−B2O3−SiO2−Al2O3)、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(Bi2O3−B2O3−SiO2)、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(Bi2O3−B2O3−SiO2−Al2O3)、酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(Bi2O3−ZnO−B2O3−SiO2)、及び酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(Bi2O3−ZnO−B2O3−SiO2−Al2O3で構成される群より選択される1種以上を含むことを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は,1族乃至5族金属元素の酸化物、ランタン系元素の酸化物及び1族金属元素のフッ化物で構成される群より選択される1種以上をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、Na2O、Li2O、K2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO、Sc2O3、Y2O3、TiO2、ZrO2、V2O5、Nb2O5、La2O3、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、LiF、NaF及びKFで構成される群より選択される1種以上をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、0.1乃至5μmの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、0.5乃至2μmの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、誘電層形成用組成物総重量に対して50乃至70重量%が含まれることを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、誘電層形成用組成物総重量に対して55乃至65重量%が含まれることを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性誘電層形成用組成物は、ガラス粉末と、
感光性バインダーと、
少なくとも2以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーと、
光重合開始剤と、
溶媒と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ガラス粉末は、ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、SnO、P2O5、Sb2O3及びBi2O3で構成される群より選択した1種以上を含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(ZnO−B2O3−SiO2)、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(ZnO−B2O3−SiO2−Al2O3)、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(Bi2O3−B2O3−SiO2)、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(Bi2O3−B2O3−SiO2−Al2O3)、酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系(Bi2O3−ZnO−B2O3−SiO2)、及び酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系(Bi2O3−ZnO−B2O3−SiO2−Al2O3)で構成される群より選択される1種以上を含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は,1族乃至5族金属元素の酸化物、ランタン系元素の酸化物、及び1族金属元素のフッ化物で構成される群より選択される1種以上をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は,Na2O、Li2O、K2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO、Sc2O3、Y2O3、TiO2、ZrO2、V2O5、Nb2O5、La2O3、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、LiF、NaF及びKFで構成される群より選択される1種以上をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、0.1乃至5μmの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、0.5乃至2μmの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して50乃至65重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ガラス粉末は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して55乃至60重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂及びポリエステル樹脂で構成される群より選択した1種以上のものを含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性バインダーは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、琥珀酸モノ2−(メト)アクリロイルオキシエチル)、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メト)アクリレート、(メト)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メト)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メト)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、O−ヒドロキシスチレン、M−ヒドロキシスチレン、P−ヒドロキシスチレン、(メト)アクリル酸エステル類、芳香族ビニル系モノマー類、共役ジエン類、重合体鎖の一側の末端に(メト)アクリロイル基の重合性不飽和基を有するマクロモノマー類で構成される群より選択される1種を含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性バインダーは、5、000乃至50、000の数平均分子量を有することを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性バインダーは、20乃至100mgKOH/gの酸価を有することを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性バインダーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して5乃至10重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性バインダーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して5乃至7重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、アクリレート類と、前記アクリレートに対応するメタクリレート類と、多塩基酸と、ヒドロキシアルキル(メト)アクリレートを反応させて、得られたエステル類で構成される群より選択される1種以上を含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記少なくとも2つのエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは1、4−ブタンジオールジアクリレート、1、3−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、1、4−ブタンジオールジメタクリレート、1、3−ブチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート誘導体、トリメチルプロパントリメタクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリメタクリレート、及びジペンタエリスリトールポリメタクリレートで構成される群より選択される1種以上のものを含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記少なくとも2つのエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して1乃至15重量%に含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記少なくとも2つのエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して3乃至10重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記光重合開始剤は、ベンゾイン類、ベンゾインアルキルエーテル類、アセトフェノン類、アミノアセトフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、アセタール類、ベンゾフェノン類、キサントン類、トリアジン類、イミダゾール類、ホスフィンオキシド類及びパーオキシド類で構成される群より選択される1種以上のものを含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記光重合開始剤は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエチル、アセトフェノン、2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2、2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1、1−ジクロロアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2、4−ジメチルチオキサントン、アセトフェノンジメチルアセタール、べンジルジメチルアセタール、ベンゾフェノン、キサントン、トリアジン、イミダゾール、(2、6−ジメトキシベンゾイル)−2、4、4−ペンチルホスフィンオキシド、ビス(2、4、6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、2、4、6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド及びエチル−2、4、6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイトで構成される群では選択される1種以上のものを含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記光重合開始剤は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して0.1乃至8重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記光重合開始剤は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して0.3乃至5重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類及びエーテル系エステル類で構成される群より選択される1種以上のものを含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記溶媒は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して4乃至30重量%が含まれることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記感光性誘電層形成用組成物は、増感剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸光剤、消泡剤、分散剤、平坦化剤及び可塑剤で構成される群から選択した1種以上の添加剤をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第1グリーンシートと第2グリーンシートは、3:1乃至4:1の厚さ比を有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第2グリーンシートは、5乃至30μMの厚さを有することを特徴とする請求項1
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記グリーンシートに対する露光段階は、フォトマスクを利用した露光方式または直接露光方式を利用して、実施されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記グリーンシートに対する現像段階は、塩基を含む水溶液を噴霧したりまたは前記塩基を含む水溶液に浸漬して、実施されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記塩基を含む水溶液は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン及びエタノールアミンで構成される群より選択した1種以上のものを含むことを特徴とする請求項39に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記塩基を含む水溶液は0.1乃至1%の濃度を有することを特徴とする請求項39に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記塩基を含む水溶液は、25℃乃至55℃の温度を有することを特徴とする請求項39に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記グリーンシートに対する現像段階後、不要な現像液の除去のために水洗いや酸中和を行う段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記グリーンシートに対する焼成段階は、480乃至620℃の温度で実施されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記表示電極パターンに誘電層を形成した後、前記誘電層を覆うように保護膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記保護膜はフッ化物膜及び酸化物膜からなる群より選択される1層以上の構造を有することを特徴とする請求項45に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記保護膜は、MgF2、CaF2、LiF、MgO、Al2O3、ZnO、CaO、SrO、SiO2及びLa2O3で構成される群より選択される1層以上の構造を有することを特徴とする請求項45に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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