CN1702554B - 感光性树脂组合物 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及感光性树脂组合物,特别是涉及的感光性树脂组合物含有:a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物及iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物;b)1,2-醌二叠氮化合物;以及c)选自由苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种或者1种以上的溶剂。本发明涉及的感光性树脂组合物不仅光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能优越,特别是还可以显著地提高平坦性和涂布性,适宜于形成LCD制造工序的层间绝缘膜。
Description
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物,更具体来说,所涉及的感光性树脂组合物不仅光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能优越,特别是还可以显著地提高平坦性和涂布性,适宜于形成液晶显示(LCD)制造工序的层间绝缘膜。
背景技术
在TFT型液晶显示装置和集成电路元件中为了使配置在层间的配线之间绝缘,使用层间绝缘膜。
在形成这样的层间绝缘膜时为了得到所必需的图案形状的层间绝缘膜,使用步骤少、平坦性优越的感光性材料。
最近,随着基板的大型化,适用于液晶显示器(LCD)制造工序的层间绝缘膜要求用低粘度的光致抗蚀剂(photoresist)。
以往,层间绝缘膜由PAC、粘合剂、溶剂等成分形成,作为所述溶剂一直主要使用醋酸酯类。但是,所述醋酸酯类存在的问题有层间绝缘膜的非平坦化和涂布不均等,由此存在光照工序后产生平坦性不良等问题。
因而,为了提高适用于LCD制造工序的层间绝缘膜的平坦性还需要进行研究。
发明内容
为了解决上述的现有技术的问题,本发明的目的是提供感光性树脂组合物、含有感光性树脂固化物的LCD基板以及利用了所述感光性树脂组合物的LCD基板的图案形成方法,所述感光性树脂组合物不仅光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能优越,特别是还可以显著地提高平坦性和涂布性,适宜用作膜厚度厚的LCD制造工序的层间绝缘膜。
本发明的另一目的是提供具有优越的平坦性和涂布性且光照工序后不会使应用于LCD制造工序的层间绝缘膜产生图案不良的感光性树脂组合物。
为了实现所述目的,本发明提供了一种感光性树脂组合物,在该感光性树脂组合物中含有:
a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物及iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物;
b)1,2-醌二叠氮化合物;以及
c)选自由苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种或者1种以上的溶剂。
优选该感光性树脂组合物中含有如下组分,
a)100重量份使5重量%~40重量%的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、10重量%~70重量%的ii)含有环氧基的不饱和化合物及10重量%~70重量%的iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物;
b)5重量份~100重量份1,2-醌二叠氮化合物;以及
c)选自由苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种或者1种以上的溶剂以使感光性树脂组合物内的固体成分的含量为10重量%~50重量%。
另外,本发明提供含有所述感光性树脂的固化物的LCD。
进而,本发明提供利用了所述感光性树脂组合物的图案形成方法。
具体实施方式
以下详细地说明本发明。
本发明的感光性树脂组合物含有:
a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物及iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物;
b)1,2-醌二叠氮化合物;以及
c)选自由苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种或者1种以上的溶剂。
用于本发明的所述a)丙烯酸类共聚物具有在显影时可以容易地形成不产生浮渣的规定图案的作用。
所述a)丙烯酸类共聚物以i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物及iii)烯烃类不饱和化合物为单体,通过在溶剂和聚合引发剂的存在下进行自由基聚合而合成,并通过沉淀和过滤、真空干燥工序除去未反应的单体。
用于本发明的所述a)中的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物可以单独或者混合2种或2种以上而使用丙烯酸、甲基丙烯酸等不饱和单羧酸;马来酸、富马酸、柠康酸、中糠酸、衣康酸等不饱和二羧酸;或者这些不饱和二羧酸的酸酐等,特别是在共聚反应性和在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性方面更优选使用丙烯酸、甲基丙烯酸或者马来酸酐。
相对于全部单体优选含有5重量%~40重量%的所述不饱和羧酸酐或者它们的混合物,更优选含有10重量%~30重量%。该含量不足5重量%时,存在难以溶解于碱性水溶液的问题;超过40重量%时,存在在碱性水溶液中的溶解性过大的问题。
本发明中使用的所述a)中的ii)含有环氧基的不饱和化合物,可以使用丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧丁酯、丙烯酸-6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯苯甲基缩水甘油醚、间乙烯苯甲基缩水甘油醚或者对乙烯苯甲基缩水甘油醚等,上述化合物可以单独使用,或者混合2种或2种以上使用。
特别是在提高共聚反应性和所得图案的耐热性方面,所述含有环氧基的不饱和化合物更优选使用甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯苯甲基缩水甘油醚、间乙烯苯甲基缩水甘油醚或者对乙烯苯甲基缩水甘油醚。
相对于全部单体优选含有10重量%~70重量%的所述含有环氧基的不饱和化合物,更优选含有20重量%~60重量%。该含量不足10重量%时,存在所得图案的耐热性低的问题;超过70重量%时,存在共聚物的保存稳定性低的问题。
在本发明中使用的所述a)中的iii)烯烃类不饱和化合物,可以使用甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯酯(ジシクロペンテニルアクリレ—ト)、丙烯酸二环戊酯(ジシクロペンタニルアクリレ—ト)、甲基丙烯酸二环戊烯酯、甲基丙烯酸二环戊酯、丙烯酸-1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸-1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸二环戊氧基酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯氧乙酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1,3-丁二烯、异戊二烯或者2,3-二甲基-1,3-丁二烯等,可以单独或者混合2种或2种以上而使用上述化合物。
特别是在共聚反应性和在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性方面,所述烯烃类不饱和化合物更优选使用苯乙烯、甲基丙烯酸二环戊酯或者对甲氧基苯乙烯。
相对于全部单体优选含有10重量%~70重量%的所述烯烃类不饱和化合物,更优选含有20重量%~50重量%。该含量不足10重量%时,存在丙烯酸类共聚物的保存稳定性低的问题;超过70重量%时,存在丙烯酸类共聚物难以溶解于作为显影液的碱性水溶液中的问题。
如上所述的单体溶液聚合所使用的溶剂,还可以使用甲醇、四氢呋喃、甲苯或者二噁烷等。
如上所述的单体溶液聚合所使用的聚合引发剂,可以使用自由基聚合引发剂,具体来说可以使用2,2-偶氮二异丁腈、2,2-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、2,2-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、1,1-偶氮二(环己烷-1-腈)或者二甲基-2,2’-偶氮二异丁酸酯等。
在溶剂和聚合引发剂的存在下使如上所述的单体进行自由基反应,再进行沉淀和过滤,并通过真空干燥工序除去未反应的单体,由此得到的所述a)丙烯酸类共聚物优选换算成聚苯乙烯的重均分子量(Mw)为5,000~30,000,更优选为5,000~20,000。对于所述换算成聚苯乙烯的重均分子量不足5,000的层间绝缘膜的情况,存在的问题是显影性、残膜率等低,或者图案显影、耐热性等差等;对于重均分子量超过30,000的层间绝缘膜的情况,存在的问题是光敏度低或者图案显影差等。
在本发明中使用的所述b)1,2-醌二叠氮化合物作为感光性化合物使用。
所述1,2-醌二叠氮化合物可以使用1,2-醌二叠氮-4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯或者1,2-醌二叠氮-6-磺酸酯等。
如上所述的醌二叠氮化合物可以通过在弱碱下使萘醌二叠氮磺酸卤化物和酚化合物反应而制造。
所述酚化合物可以使用2,3,4-三羟基二苯酮、2,4,6-三羟基二苯酮、2,2’-四羟基二苯酮、4,4’-四羟基二苯酮、2,3,4,4’-四羟基二苯酮、2,3,4,2’-四羟基-4’-甲基二苯酮、2,3,4,4’-四羟基-3’-甲氧基二苯酮、2,3,4,2’-五羟基二苯酮、2,4,6,3’-六羟基二苯酮、2,4,6,4’-六羟基二苯酮、2,4,6,5’-六羟基二苯酮、2,4,5,3’-六羟基二苯酮、3,4,5,5’-六羟基二苯酮、二(2,4-二羟基苯基)甲烷、三(对羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷、二(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、2,2-二(2,3,4-三羟基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚或者二(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟苯基甲烷等,可以单独或者混合2种或2种以上而使用所述化合物。
在用上述的酚化合物和萘醌二叠氮磺酸卤化物合成醌二叠氮化合物时,酯化度优选为50%~85%。所述酯化度不足50%时,残膜率有时会下降;超过85%时,存在保存稳定性低的问题。
相对于100重量份a)丙烯酸类共聚物,优选含有5重量份~100重量份所述1,2-醌二叠氮化合物,更优选含有10重量份~50重量份。该含量不足5重量份时,曝光部和非曝光部的溶解度差小,难以形成图案;超过100重量份时,存在的问题是照射短时间的间歇光时会残存大量未反应的1,2-醌二叠氮化合物,且在显影液的碱性水溶液中的溶解度过低,从而难以显影。
在本发明中使用的所述c)溶剂要能够形成平坦的层间绝缘膜,不会产生涂布不均,且要形成均一的图案轮廓。
所述溶剂可以使用苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚等。
优选含有的所述溶剂可以使感光性树脂组合物全部固体成分的含量为10重量%~50重量%,更优选使其为15重量%~40重量%。所述组合物全部固体成分的含量不足10重量%时,涂层厚度薄,存在涂层平板性低的问题;超过50重量%时,涂层厚度厚,存在涂布时涂布装置难以进行涂布等问题。
含有如上所述成分的本发明的感光性树脂组合物,根据需要可以追加含有d)环氧树脂、c)胶粘剂、f)丙烯酸类化合物及g)表面活性剂。
所述d)环氧树脂具有提高由感光性树脂组合物得到的图案的耐热性、光敏度等的作用。
所述环氧树脂可以使用双酚A型环氧树脂、线型酚醛清漆型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、双小环型树脂或者将a)丙烯酸类共聚物和其他的甲基丙烯酸缩水甘油酯(共)聚合而得到的树脂等,特别优选使用双酚A型环氧树脂、甲酚醛清漆型环氧树脂或者缩水甘油酯型环氧树脂。
相对于100重量份所述a)丙烯酸类共聚物,优选含有0.1重量份~30重量份所述环氧树脂,该含量超出所述范围时,存在丙烯酸类共聚物的商用性降低、不能得到充分的涂布性能等问题。
进而,所述e)胶粘剂具有提高与基板的粘结性的作用,相对于100重量份所述a)丙烯酸类共聚物优选含有0.1重量份~20重量份所述e)胶粘剂。
所述胶粘剂可以使用具有羧基、甲基丙烯基、异氰酸酯基或者环氧基等这样的反应性取代基的硅烷偶联剂等。具体来说,可以使用γ-甲基丙烯氧丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷或者β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。
进而,所述f)丙烯酸类化合物具有提高由感光性树脂组合物得到的图案的透过率、耐热性、光敏度等的作用。
所述丙烯酸类化合物优选为用下述化学式1表示的化合物。
[化学式1]
在所述化学式1中,R为氢原子、碳原子数为1~5的烷基、碳原子数为1~5的烷氧基或者碳原子数为1~5的烷酰基,且1<a<6,a+b=6。
相对于100重量份所述丙烯酸类共聚物,优选含有0.1重量份~30重量份所述丙烯酸类化合物,更优选含有0.1重量份~15重量份。该含量在所述范围内时,在提高图案的透过率、耐热性、光敏度等方面更为良好。
另外,g)表面活性剂具有提高感光性组合物的涂布性和显影性的作用。
所述表面活性剂可以使用聚氧乙烯苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚、F171,f172,f173(商品名、大日本油墨社)、FC430,FC431(商品名、住友トリエム社)或者KP341(商品名、信越化学工业社)等。
相对于100重量份所述a)丙烯酸类共聚物,优选含有0.0001重量份~2重量份所述表面活性剂,该含量在所述范围内时,在提高感光性组合物的涂布性和显影性方面更为良好。
包含如上所述成分的本发明的感光性树脂组合物的固体成分浓度优选为10重量%~50重量%,具有所述范围的固体成分的组合物可以用0.1μm~0.2μm的微孔过滤器等过滤后使用。
进而,本发明提供含有所述感光性树脂固化物的LCD基板及利用了所述感光性树脂组合物的图案形成方法。
本发明中,所述图案形成方法是以感光性树脂组合物形成有机绝缘膜并形成LCD基板的图案的方法,其特征在于使用了所述感光性树脂组合物。
具体来说,利用所述感光性树脂组合物而形成LCD基板的图案的方法如下所述。
首先,用喷雾法、辊涂法、旋转涂布法等在基板表面上涂布本发明的感光性树脂组合物,并通过预烘焙除去溶剂而形成涂膜。此时所述预烘焙优选在70℃~110℃的温度实施1分钟~15分钟。
随后,通过预先准备的图案向所述形成的涂膜照射可见光、紫外线、远红外线、电磁射线、X-射线等,再通过用显影液显影除去不需要的部分,形成规定的图案。
所述显影液可以使用碱性水溶液,具体来说可以使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱类;乙胺、正丙胺等伯胺类;二乙胺等仲胺类;三甲胺、甲基二乙基胺、二甲基乙基胺、三乙胺等叔胺类;二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类;或者氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵等季铵盐的水溶液等。此时通过将碱性化合物溶解至0.1重量%~10重量%的浓度而用作所述显影液,也可以适量添加甲醇、乙醇等这样的水溶性有机溶剂和表面活性剂。
进而,用如上所述的显影液显影,并用超纯水洗涤30秒~90秒而除去不需要的部分,再通过干燥形成图案,向上述形成的图案照射紫外线等光后,通过烘箱等加热装置在150℃~250℃的温度对图案加热处理30秒~90秒,从而得到最终图案。
本发明涉及的感光性树脂组合物和由所述感光性树脂组合物固化而得到的固化物,其光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能优越,其特征是可以显著提高平坦性和涂布性,且适于用作膜厚度厚的LCD制造工序的层间绝缘膜,不仅如此,利用了所述感光性树脂组合物的本发明的LCD基板的图案的形成方法还具有可以形成在光照工序后适用于LCD制造工序的层间绝缘膜的优越的图案的优点。
以下,为了理解本发明,举出了优选的实施例,但是下述实施例仅是例示了本发明,本发明的范围并不限于下述实施例。
实施例
实施例1
(丙烯酸类共聚物的制造)
向具有冷却管和搅拌器的烧瓶中,加入10重量份2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、500重量份四氢呋喃、20重量份甲基丙烯酸、25重量份甲基丙烯酸缩水甘油酯、40重量份苯乙烯、5重量份丙烯酸2-羟基乙酯及10重量份丙烯酸异冰片酯,氮气置换后缓慢地搅拌。加热所述反应溶液至62℃,维持该温度5小时,制造含有丙烯酸类共聚物的聚合物溶液。
为了除去所述聚合物溶液中的未反应单体,相对于100重量份不良溶剂,使100重量份所述聚合物溶液沉淀,所述不良溶剂是由醚和正己烷以1:1混合形成的。随后,通过利用了筛(mesh)的过滤工序,除去溶解有未反应物的不良溶剂。然后,在30℃或30℃以下进行真空干燥,将过滤工序后含有仍残留的未反应单体的溶剂完全除去,从而制造重均分子量为10,000的丙烯酸类共聚物。此时,重均分子量是使用GPC测定的换算成聚苯乙烯的平均分子量。
(1,2-醌二叠氮化合物的制造)
使1摩尔4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚与2摩尔1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸氯化物反应,制造4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。
(感光性树脂组合物的制造)
混合100重量份上述制造的丙烯酸类共聚物和25重量份上述制造的4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。用苄醇溶解,以使所述混合物的固体成分的含量为20重量%,然后,用0.2μm的微孔过滤器过滤,从而制造感光性树脂组合物。
实施例2
除了使用己醇代替所述实施例1中作为溶剂的苄醇以外,以和所述实施例1同样的方法实施,制造感光性树脂组合物。
实施例3
除了使用二乙二醇甲乙醚代替所述实施例1中作为溶剂的苄醇以外,以和所述实施例1同样的方法实施而制造感光性树脂组合物。
实施例4
除了使用二乙二醇二乙醚代替所述实施例1中作为溶剂的苄醇以外,以和所述实施例1同样的方法实施而制造感光性树脂组合物。
实施例5
除了使用二丙二醇甲醚代替所述实施例1中作为溶剂的苄醇以外,以和所述实施例1同样的方法实施而制造感光性树脂组合物。
比较例1
除了使用丙二醇甲醚醋酸酯代替所述实施例1中作为溶剂的苄醇以外,以和所述实施例1同样的方法实施而制造感光性树脂组合物。
利用所述实施例1~5及比较例1制造的感光性树脂组合物用如下所述的方法评价物性,然后在下述表1中示出其结果。
1)涂布可靠性的测定(RPM)
利用旋转涂布器在玻璃基板上涂布所述实施例1~5及比较例1制造的感光性树脂组合物后,于90℃在加热板上预烘焙2分钟而形成膜厚0.3μm的膜。
2)平坦度
为了测定所述1)中形成的膜的涂布平坦度,利用椭圆率计(Elipsometer)进行测定。此时,以整个基板为基准,平坦度超过95%时表示为○,95%~90%时表示为△,不足90%时表示为×。
3)光敏度
使用规定的图案掩模并向所述1)中形成的膜照射15秒在365nm处强度为15mW/cm2的紫外线。随后用0.38重量%的氢氧化四甲基铵水溶液在25℃显影2分钟,然后用超纯水洗涤1分钟。
接着,向所述已显影的图案照射34秒在365nm处强度为15mW/cm2的紫外线,再在120℃,中烘焙3分钟,然后在烘箱中于220℃加热60分钟进行固化,从而得到图案膜。
4)析象图
以所述3)的光敏度测定时显影的图案膜的最小的大小进行测定。
5)耐热性
测定所述3)的光敏度测定时显影的图案膜的上、下和左、右的宽度。此时以中烘焙前为基准,角的变化率为0%~20%时表示为○,20%~40%时表示为△,超过40%时表示为×。
6)透明性
利用透明性评价分光光度计,测定图案膜在400nm的透过率。
7)耐热变色性
在220℃的烘箱中对耐热变色性的评价测定基板加热1小时,通过加热前后的图案膜的透过率变化来评价耐热变色性。此时,变化率为0%~5%时表示为○,5%~10%时表示为△,超过10%时表示为×。
表1
项目 | 涂布RPM | 平坦度 | 光敏度(mJ/cm<sup>2</sup>) | 析象图μm | 耐热性 | 透明度 | 耐热变色性 |
实施例1 | 1000 | ○ | 270 | 3 | ○ | 90 | ○ |
实施例2 | 1050 | ○ | 260 | 3 | ○ | 90 | ○ |
实施例3 | 1050 | ○ | 270 | 3 | ○ | 90 | ○ |
实施例4 | 1000 | ○ | 260 | 3 | ○ | 90 | ○ |
实施例5 | 1020 | ○ | 270 | 3 | ○ | 90 | ○ |
比较例1 | 1300 | × | 310 | 5 | ○ | 90 | ○ |
通过所述表1可以知道,根据本发明在实施例1~5中制造的感光性树脂组合物,其光敏度、析象图、耐热性、透明性及耐热变色性均优越,特别是通过制造低粘度感光性树脂组合物,涂布性和平坦度均远远优越于比较例1,可以适用于伴随着基板的大型化的LCD工序的层间绝缘膜。与此相反,比较例1的情况下,光敏度和分辨度会产生一些不良情况,平坦度差,难以适用于层间绝缘膜。
发明效果
本发明涉及的感光性树脂组合物和使感光性树脂组合物固化后的固化物,其光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能均同时优越,特别是具有可显著提高平坦性和涂布性并可形成膜厚度厚的LCD制造工序的层间绝缘膜的优越的图案的效果。
Claims (8)
1.一种LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物,其特征在于,在该感光性树脂组合物中含有:
a)使5重量%~40重量%的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、10重量%~70重量%的ii)含有环氧基的不饱和化合物及10重量%~70重量%的iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物100重量份,该丙烯酸类共聚物换算成聚苯乙烯的重均分子量(Mw)为5,000~30,000;
b)5重量份~100重量份的1,2-醌二叠氮化合物;以及
c)选自由己醇、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种以上的溶剂,所述溶剂使感光性树脂组合物内的固体成分的含量为10重量%~50重量%。
2.根据权利要求1所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物,其特征在于,所述a)中的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、富马酸、柠康酸、中糠酸、衣康酸及这些不饱和二羧酸的酸酐组成的组中的1种以上。
3.根据权利要求1所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物,其特征在于,所述a)中的ii)含有环氧基的不饱和化合物选自由丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧丁酯、丙烯酸-6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、α-乙基异丁烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯苯甲基缩水甘油醚、间乙烯苯甲基缩水甘油醚及对乙烯苯甲基缩水甘油醚组成的组中的1种以上。
4.根据权利要求1所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物,其特征在于,所述a)中的iii)烯烃类不饱和化合物选自由甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸二环戊酯、甲基丙烯酸二环戊烯酯、甲基丙烯酸二环戊酯、丙烯酸1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸二环戊氧乙酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯氧乙酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1,3-丁二烯、异戊二烯及2,3-二甲基-1,3-丁二烯组成的组中的1种以上。
5.根据权利要求1所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物,其特征在于,所述b)1,2-醌二叠氮化合物选自由1,2-醌二叠氮-4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯及1,2-醌二叠氮-6-磺酸酯组成的组中的1种以上。
6.根据权利要求1所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂组合物追加含有添加剂,该添加剂选自由0.1重量份~30重量份的d)环氧树脂、0.1重量份~20重量份的e)胶粘剂、0.1重量份~30重量份的f)丙烯酸类化合物及0.0001重量份~2重量份的g)表面活性剂组成的组中的1种以上。
7.一种液晶显示基板,其含有权利要求1~6中任一项所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物的固化物。
8.一种液晶显示基板的图案形成方法,其利用了权利要求1~6中任一项所述的LCD的层间绝缘膜用感光性树脂组合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040037951 | 2004-05-27 | ||
KR10-2004-0037951 | 2004-05-27 | ||
KR1020040037951A KR20050113351A (ko) | 2004-05-27 | 2004-05-27 | 감광성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1702554A CN1702554A (zh) | 2005-11-30 |
CN1702554B true CN1702554B (zh) | 2010-08-18 |
Family
ID=35492413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2005100758284A Active CN1702554B (zh) | 2004-05-27 | 2005-05-27 | 感光性树脂组合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005338849A (zh) |
KR (1) | KR20050113351A (zh) |
CN (1) | CN1702554B (zh) |
TW (1) | TWI403836B (zh) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006126397A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル |
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- 2004-05-27 KR KR1020040037951A patent/KR20050113351A/ko not_active Application Discontinuation
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2005
- 2005-05-20 TW TW094116579A patent/TWI403836B/zh active
- 2005-05-26 JP JP2005153818A patent/JP2005338849A/ja active Pending
- 2005-05-27 CN CN2005100758284A patent/CN1702554B/zh active Active
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KR20050113351A (ko) | 2005-12-02 |
CN1702554A (zh) | 2005-11-30 |
JP2005338849A (ja) | 2005-12-08 |
TW200613907A (en) | 2006-05-01 |
TWI403836B (zh) | 2013-08-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |