CN102576192A - 感光性树脂组合物 - Google Patents
感光性树脂组合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102576192A CN102576192A CN2010800482131A CN201080048213A CN102576192A CN 102576192 A CN102576192 A CN 102576192A CN 2010800482131 A CN2010800482131 A CN 2010800482131A CN 201080048213 A CN201080048213 A CN 201080048213A CN 102576192 A CN102576192 A CN 102576192A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- photosensitive polymer
- polymer combination
- weight
- mentioned
- insulating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
本发明涉及感光性树脂组合物,特别是涉及一种感光性树脂组合物,其为用于形成层间有机绝缘膜的正型感光性树脂组合物,其特征在于,含有选自a)UV稳定剂、b)自由基清除剂、以及c)抗氧化剂中的1种以上的化合物。本发明的感光性树脂组合物用作TFT-LCD的层间有机绝缘膜,不仅能在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时改善液晶变形现象,而且容易调节图案的分辨率,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成。
Description
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物,更详细的涉及用作层间有机绝缘膜,而不仅能在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时改善液晶变形现象,而且容易调节图案的分辨率,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成的感光性树脂组合物。
背景技术
TFT型液晶显示元件或集成电路元件中,为了使配置在层间的配线之间绝缘而使用有机绝缘膜。
特别是为了TFT-LCD的光取向,需要使用大量的曝光能,使得不发生残像等问题。对为了光取向而使用的层间有机绝缘膜使用现有的感光性树脂时,耐光性降低,从而层间有机绝缘膜由于过渡曝光而老化,产生升华物或产生分解物而污染液晶,通过这样的现象而液晶受污染时,存在产生像素内的液晶未充满的区域的问题,迫切需要对其进行改善。
发明内容
技术课题
为了解决上述现有技术中的问题,本发明的目的是提供一种感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物用作层间有机绝缘膜,不仅能在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时改善液晶变形现象,而且图案的分辨率调节容易,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成。
解决课题的手段
为了实现上述目的,本发明提供一种感光性树脂组合物,其为用于形成层间有机绝缘膜的正型感光性树脂组合物,其特征在于,含有:选自a)UV稳定剂、b)自由基清除剂、以及c)抗氧化剂中的1种以上的化合物。
优选上述感光性树脂组合物是具有以下特征的感光性树脂组合物,即该感光性树脂组合物含有:
A)选自丙烯酸系树脂、环氧系树脂、以及氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂中的1种以上的粘合剂树脂5-40重量%;
B)醌二叠氮化合物1-30重量%;
C)增塑剂1-20重量%;
D)选自a)UV稳定剂、b)自由基清除剂、以及c)抗氧化剂中的1种以上的化合物0.01-30重量%;以及
E)余量的溶剂。
另外,本发明提供利用了上述感光性树脂组合物的层间有机绝缘膜形成方法。
另外,本发明提供含有上述感光性树脂组合物的固化物作为有机绝缘膜的显示装置。
发明效果
根据本发明的感光性树脂组合物用于层间有机绝缘膜形成,不仅能在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时改善液晶变形现象,而且图案的分辨率调节容易,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成。
具体实施方式
以下详细说明本发明。
本发明的发明人确认了在用作层间有机绝缘膜的正型感光性树脂组合物中包含含有选自UV稳定剂、自由基清除剂和抗氧化剂中的1种以上的化合物0.01至30重量%时,不仅在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时能够改善液晶变形现象,而且图案的分辨率调节容易,特别适合TFT-LCD的层间有机绝缘膜的平坦化膜形成,从而完成了本发明。
优选,本发明的正型感光性树脂组合物为具有如下特征的感光性树脂组合物,上述感光性树脂组合物含有:
A)选自丙烯酸系树脂、环氧系树脂和氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂中的1种以上的粘合剂树脂5-40重量%;
B)醌二叠氮化合物1-30重量%;
C)增塑剂1-20重量%;
D)选自a)UV稳定剂、b)自由基清除剂和c)抗氧化剂中的1种以上的化合物0.01-30重量%;以及
E)余量的溶剂。
在本发明的感光性树脂组合物中,上述选自A)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、以及氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂中的1种以上的粘合剂树脂可以使用通常用于感光性树脂组合物的粘合剂树脂。
具体而言,上述丙烯酸系树脂可以如下获得:上述丙烯酸系共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含有环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃系不饱和化合物作为单体,在溶剂和聚合引发剂的存在下进行自由基合成后,通过沉淀和过滤、真空干燥工序而除去未反应单体。
用于本发明的上述i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物可以将丙烯酸、甲基丙烯酸等不饱和单羧酸;马来酸、富马酸、柠康酸、甲基富马酸、衣康酸等不饱和二羧酸;或者它们的不饱和二羧酸的酐等单独使用或将2种以上混合使用,特别是从共聚反应性和对于作为显影液的碱水溶液的溶解性方面考虑,更优选使用丙烯酸、甲基丙烯酸、或马来酸酐。
相对于全部总单体量,上述不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物优选含有15至45重量份。该含量在上述范围内时,在碱水溶液中的溶解性最理想。
本发明中使用的上述ii)的含有环氧基的不饱和化合物可以使用丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧丁酯、丙烯酸-6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、或对乙烯基苄基缩水甘油醚、甲基丙烯酸3,4-环氧环己酯等,上述化合物可以单独使用或将2种以上混合使用。
特别是,从提高共聚反应性和获得的图案的耐热性方面考虑,优选上述含有环氧基的不饱和化合物使用甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、或对乙烯基苄基缩水甘油醚、甲基丙烯酸3,4-环氧环己酯等。
相对于全部的总单体量,上述含有环氧基的不饱和化合物优选含有15至45重量份。其含量在上述范围内时,可以同时满足有机绝缘膜的耐热性和感光性树脂组合物的保存稳定性。
在本发明中使用的上述iii)的烯烃系不饱和化合物可以使用甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸二环戊烷基酯、甲基丙烯酸二环戊烯基酯、甲基丙烯酸二环戊烷基酯、丙烯酸1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸二环戊烷基氧乙基酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烷基氧乙基酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄基酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1,3-丁二烯、异戊二烯、或2,3-二甲基1,3-丁二烯等,上述化合物可以单独使用或将2种以上混合使用。
特别是,从共聚反应性和对于作为显影液的碱水溶液的溶解性方面考虑,更优选上述烯烃系不饱和化合物使用苯乙烯、甲基丙烯酸二环戊烷基酯、或对甲氧基苯乙烯。
相对于全部的总单体量,上述烯烃系不饱和化合物优选含有25至70重量份,更优选含有25至45重量份。其含量在上述范围内时,显影后不产生膨胀,能够理想地维持在作为显影液的碱水溶液中的溶解性。
为了将上述单体溶液聚合而使用的聚合引发剂可以使用自由基聚合引发剂,具体而言,可以使用2,2-偶氮二异丁腈、2,2-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、2,2-偶氮二(4-甲氧基2,4-二甲基戊腈)、1,1-偶氮二(环己烷-1-腈)、或二甲基2,2′-偶氮二异丁酸酯等。
使上述单体在溶剂与聚合引发剂存在下进行自由基反应,通过沉淀和过滤、真空干燥工序除去未反应单体而得到的丙烯酸系共聚物的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)优选为5000至30000。
另外,上述环氧系树脂具体可以使用双酚A型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、杂环式环氧树脂、或将与上述丙烯酸系共聚物不同的缩水甘油基甲基丙烯酸酯(共)聚合的树脂等,特别是优选使用双酚A型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、或缩水甘油酯型环氧树脂。
另外,上述氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂可以使用下述化学式1表示的化合物。
化学式1
在上述化学式1的式中,
R1为芳基或烷基,
R2和R3各自独立地为氢或甲基,
n为0至10的整数。
在本发明中,上述A)的粘合剂树脂优选在本发明的感光性树脂组合物中含有5至40重量%。在上述范围内时,不仅可以满足灵敏度,还可以同时满足平坦度、分辨率、耐热性、透过度、耐冲击性。
在本发明的感光性树脂组合物中,上述B)醌二叠氮化合物可以使用用于感光性树脂组合物的公知的化合物,作为具体的例子,可以使用1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯、或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯等。
上述醌二叠氮化合物可以将萘醌二叠氮磺酸卤化物和酚化合物在弱碱下进行反应而制造。
作为上述酚化合物,可以使用2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,2′-四羟基二苯甲酮、4,4′-四羟基二苯甲酮、2,3,4,3′-四羟基二苯甲酮、2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮、2,3,4,2′-四羟基4′-甲基二苯甲酮、2,3,4,4′-四羟基3′-甲氧基二苯甲酮、2,3,4,2′-五羟基二苯甲酮、2,3,4,6′-五羟基二苯甲酮、2,4,6,3′-六羟基二苯甲酮、2,4,6,4′-六羟基二苯甲酮、2,4,6,5′-六羟基二苯甲酮、3,4,5,3′-六羟基二苯甲酮、3,4,5,4′-六羟基二苯甲酮、3,4,5,5′-六羟基二苯甲酮、双(2,4-二羟基苯基)甲烷、双(对羟基苯基)甲烷、三(对羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷、双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、2,2-双(2,3,4-三羟基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基4-羟基苯基)-3-苯基丙烷、4,4′-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚、或双(2,5-二甲基4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷等,上述化合物可以单独使用,或将2种以上混合使用。
由如上所述的苯酚化合物和萘醌二叠氮磺酸卤化物合成醌二叠氮化合物时,酯化度优选为50%至90%。上述酯化度小于50%时,残膜率可能变差,大于90%时,保存稳定性可能降低。
上述1,2-醌二叠氮化合物可以在本发明的感光性树脂组合物中含有1-30重量%,此时,可以同时满足图案的轮廓和显影性。
另外,在本发明的感光性树脂组合物中,上述C)增塑剂可以使用用于感光性树脂组合物的公知的增塑剂化合物,具体而言,可以是选自邻苯二甲酸酯系、己二酸酯系、磷酸酯系、以及单异丁酸酯系增塑剂中的1种以上的化合物。
更具体而言,邻苯二甲酸酯系增塑剂可以为选自二辛基邻苯二甲酸酯和二异壬基邻苯二甲酸酯中的任一种,己二酸酯系增塑剂可以包含二辛基己二酸酯,磷酸酯系增塑剂可以为选自己二酸酯系和磷酸三甲苯酯中的任一种以上,单异丁酸酯系增塑剂可以为选自2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯中的一种以上。
上述增塑剂优选在本发明的感光性树脂组合物中含有1-20重量%,在上述范围内时,可以同时满足交联密度调节容易性和耐热性。
另外,本发明的感光性树脂组合物可以含有0.01-30重量%的D)选自a)UV稳定剂、b)自由基清除剂和c)抗氧化剂中的1种以上的化合物。
作为上述a)UV稳定剂的具体例子,可以将苯并三唑及其衍生物、三嗪及其衍生物、哌啶及其衍生物单独或2种以上混合使用,优选在感光性树脂组合物中含有0.01至20重量%。
另外,上述b)自由基清除剂起到将光分解时生成的自由基清除并停止的作用。作为具体例子,自由基清除剂可以使用芳酯、苯甲酸酯、酚和胺系化合物等,优选在感光性树脂组合物中含有0.01至10重量%。
另外,上述c)抗氧化剂起到防止感光性树脂组合物的氧化而提高热稳定性的作用,包括直接参与氧化而防止氧化的第1抗氧化剂、使在氧化反应中起到催化剂作用的金属非活性化的第2抗氧化剂、以及它们的混合物。
具体而言,作为上述第1抗氧化剂可以使用选自醌系化合物、胺系化合物、酚系化合物以及它们的混合物中的抗氧化剂,作为代表性的化合物,可以举出四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸]季戊四醇酯(pentaerythritoltetrakis:3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate)。另外,作为上述第2抗氧化剂,可以举出亚磷酸酯(phosphite)系化合物,作为代表性的化合物,可以举出三(2,4-二叔丁基苯基)亚磷酸酯(tert(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite)。上述第1和第2抗氧化剂可以各自单独使用,也可以混合使用,优选在感光性树脂组合物中含有0.01至10重量%。在上述范围内时,可以同时满足热稳定性和防止图案的剥离的效果。
在本发明的感光性树脂组合物中,优选上述D)含有a)UV稳定剂0.01-20重量%和b)自由基清除剂0.01-10重量%;或a)UV稳定剂0.01-20重量%和c)抗氧化剂0.01-10重量%,更优选上述D)含有a)UV稳定剂0.01-20重量%、b)自由基清除剂0.01-10重量%、和c)抗氧化剂0.01-10重量%。
另外,用于本发明的上述E)的溶剂会使有机绝缘膜平坦且不产生涂布斑点,从而能够形成均匀的图案轮廓(pattern profile)。
上述溶剂可以使用用于感光性树脂组合物的公知的溶剂,具体而言,有甲醇、乙醇、苯甲醇、己醇等醇类;乙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯类;乙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯等乙二醇烷基醚丙酸酯类、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等乙二醇单烷基醚类;二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚等二乙二醇烷基醚类;丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等丙二醇烷基醚乙酸酯类;丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等丙二醇烷基醚丙酸酯类;丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇基醚等丙二醇单烷基醚类;二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等二丙二醇烷基醚类、丁二醇单甲醚、丁二醇单乙醚等丁二醇单甲醚类;二丁二醇二甲醚、二丁二醇二乙醚等二丁二醇烷基醚类等。
上述溶剂含有全体感光性树脂组合物的余量,优选含有50至90重量%。在上述范围内时,可以同时提高感光性树脂组合物的涂布性和保存稳定性。
由上述成分构成的本发明的感光性树脂组合物可以根据需要选择性地进一步含有粘接剂、灵敏度增进剂或表面活性剂。
上述粘接剂起到提高与基板的粘接性的作用,相对于本发明的感光性树脂组合物,优选含有0.01至10重量%。
上述粘接剂可以使用羧基、甲基丙烯(methacryl)基、异氰酸酯基、或环氧基等具有反应性取代基的硅烷偶联剂等。具体而言,可以使用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、或β-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷等。
另外,作为上述灵敏度增进剂,可以使用选自二辛基邻苯二甲酸酯、二异壬基邻苯二甲酸酯、二辛基己二酸酯、磷酸三甲苯酯、以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯中的1种以上的化合物,其含量优选含有感光性树脂组合物的0.1至10重量%。
另外,上述表面活性剂起到提高感光性组合物的涂布性或显影性的作用。
上述表面活性剂可以使用聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、F171、F172、F173(商品名:大日本油墨公司)、FC430、FC431(商品名:住友3M公司)、或KP341(商品名:信越化学工业公司)等。
上述表面活性剂优选相对于本发明的感光性树脂组合物含有0.0001至2重量%,其含量在上述范围内时,对感光性组合物的涂布性或显影性的提高更有利。
由上述成分构成的本发明的感光性树脂组合物的固体成分浓度优选为10至50重量%,具有上述范围的固体成分的组合物优选用0.1-0.2μm的微孔过滤器等过滤后使用。
另外,本发明提供利用上述感光性树脂组合物的层间有机绝缘膜形成方法以及含有上述感光性树脂组合物的固化物作为层间有机绝缘膜的显示装置。优选上述显示装置为TFT-LCD。
本发明的层间有机绝缘膜形成方法,是将感光性树脂组合物形成为有机绝缘膜而形成图案的方法,其特征在于,使用上述感光性树脂组合物,可以使用公知的图案形成方法。
作为具体的一个例子,形成有机绝缘膜的方法如下。
首先,将本发明的感光性树脂组合物用喷雾法、辊涂法、旋转涂布法等涂布在基板表面,通过预烘焙除去溶剂,形成涂膜。此时,上述预烘焙优选在80-115℃的温度下实施1-15分钟。
然后,根据预先准备的图案,向上述形成的涂膜照射可见光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等,用显影液进行显影,清除不需要的部分,从而形成规定图案。
上述显影液优选使用碱水溶液,具体可以使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱类;乙胺、正丙胺等伯胺类;二乙胺、正丙胺等仲胺类;三甲胺、甲基二乙胺、二甲基乙基胺、三乙胺等叔胺类;二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类;或四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐的水溶液等。此时,上述显影液是将碱性化合物以0.1-10重量%的浓度溶解而使用,还可以添加适量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂和表面活性剂。
另外,用上述显影液进行显影后,用超纯水清洗30-90秒而除去不需要的部分,进行干燥,形成图案,对上述形成的图案照射紫外线等光后,将图案利用烘箱等加热装置在150-250℃的温度中进行30-90分钟的加热处理,可以获得最终图案。
根据本发明的感光性树脂组合物用于层间有机绝缘膜形成而在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时,不仅能够改善液晶变形现象,而且图案的分辨率调节容易,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成。
以下,为了有助于理解本发明而提供优选实施例,但下述实施例仅例示本发明,本发明的范围不限于下述实施例。
[实施例]
实施例1
(丙烯酸系共聚物的制造)
在具备冷却管和搅拌器的烧瓶中加入2,2′-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)10重量份、四氢呋喃200重量份、甲基丙烯酸30重量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯25重量份、苯乙烯30重量份和甲基丙烯酸甲酯15重量份,进行氮置换后,缓慢搅拌。将上述反应溶液升温至62℃,将该温度保持5小时,制造含有丙烯酸系共聚物的聚合物溶液。
将上述制造的丙烯酸系共聚物滴加到己烷5000重量份中,进行析出,过滤分离后,向其中加入二乙二醇二甲醚200重量份,加热至30℃,制造了固体成分浓度为45重量份、聚合物的重均分子量为11000的聚合物溶液。此时,重均分子量是使用GPC测定的聚苯乙烯换算平均分子量。
(1,2-醌二叠氮化合物的制造)
使4,4′-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1摩尔和1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰[氯]2摩尔进行缩合反应而制造4,4′-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。
(感光性树脂组合物的制造)
在上述制造的含有丙烯酸系共聚物的聚合物溶液100重量份和上述制造的4,4′-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯25重量份中混合作为增塑剂的单异丁酸酯系5重量份和作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份后,加入二乙二醇二甲醚进行溶解,使该混合物的固体成分浓度为35重量份,用0.2μm的微孔过滤器过滤,制造了感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例2
在上述实施例1的感光性树脂组合物的制造中作为UV稳定剂使用2-(2-羟基-3-叔丁基-5-辛基羰基乙基苯基)-苯并三唑10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例3
在上述实施例1的感光性树脂组合物的制造中作为UV稳定剂使用Tinuvin479(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例4
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中作为自由基清除剂使用Tinuvin123(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例5
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中作为自由基清除剂使用Tinuvin144(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例6
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中作为自由基清除剂使用Tinuvin292(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例7
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中作为抗氧化剂使用Irganox1135(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例8
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中作为抗氧化剂使用Irganox1520(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例9
代替上述实施例1的丙烯酸系共聚物使用作为环氧树脂的甲酚酚醛清漆型环氧树脂100重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例10
代替上述实施例1的丙烯酸系共聚物使用化学式1的氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂100重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例11
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为自由基清除剂的Tinuvin123(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例12
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为抗氧化剂的Irganox1135(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例13
在上述实施例9的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为自由基清除剂的Tinuvin123(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例14
在上述实施例10的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为抗氧化剂的Irganox1135(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例15
在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为自由基清除剂的Tinuvin123(巴斯夫公司)10重量份以及作为抗氧化剂的Irganox1135(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例16
在上述实施例9的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为自由基清除剂的Tinuvin123(巴斯夫公司)10重量份以及作为抗氧化剂的Irganox1135(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
实施例17
在上述实施例10的感光性树脂组合物制造中使用作为UV稳定剂的2,4-双(2-羟基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪10重量份和作为自由基清除剂的Tinuvin123(巴斯夫公司)10重量份以及作为抗氧化剂的Irganox1135(巴斯夫公司)10重量份,除此以外,按照与上述实施例1相同的方法实施而制造感光性树脂组合物涂布溶液。
比较例1
在上述制造的含有丙烯酸系共聚物的聚合物溶液100重量份和上述制造的4,4′-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯25重量份中混合作为增塑剂的单异丁酸酯系5重量份后,加入二乙二醇二甲醚进行溶解,使得该混合物的固体成分浓度为35重量份,用0.2μm的微孔过滤器进行过滤,制造感光性树脂组合物涂布溶液。
比较例2
在上述比较例1的感光性树脂组合物制造中代替丙烯酸系共聚物使用作为环氧树脂的甲酚酚醛清漆型环氧树脂100重量份,除此以外,按照与上述比较例2相同的方法实施而制造了感光性树脂组合物涂布溶液。
比较例3
在上述比较例1的感光性树脂组合物制造中代替丙烯酸系共聚物使用化学式1的氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂100重量份,除此以外,按照与上述比较例1相同的方法实施而制造了感光性树脂组合物涂布溶液。
利用上述实施例1至17和比较例1至3的感光性树脂组合物如下评价了显影后的平坦度、灵敏度、分辨率、透过度和用于液晶变形现象的过渡曝光后透过度变化。
在玻璃(glass)基板上使用旋涂仪涂布在上述实施例1至17以及比较例1至3中制造的感光性树脂组合物后,以90℃在热板上预烘焙2分钟,形成了厚度为3.0μm的膜。
甲)显影后的平坦度:为了测定上述形成的膜的显影后的平坦度(uniformity),利用椭圆偏振仪(Elipsometer)。此时,以整体基板为基准,平坦度大于95%的情况表示为○、90~95%的情况表示为△、小于90%的情况表示为×。
乙)分辨率:对上述甲)中形成的膜,使用规定图案掩膜(pattern mask),将435nm处的强度为20mW/cm2的紫外线照射灵敏度10μm线与间隔1∶1CD基准Dose量后,用四甲基氢氧化铵2.38重量份的水溶液在23℃中显影1分钟后,用超纯水清洗1分钟。
然后,对上述显影的图案照射365nm处的强度为30mW/cm2的紫外线500mJ/cm2,在烘箱中以230℃固化60分钟,测定形成的图案膜的最小尺寸。
丙)透过度:透过度评价是利用分光光度计测定图案膜的400nm处的透过率。
然后,对上述固化的图案膜照射365nm处的强度为30mW/cm2的紫外线50000mJ/cm2而得到了过渡曝光的图案膜。
丁)过渡曝光后透过度变化:液晶变形现象模拟评价是在紫外线曝光机中由50000mJ/cm2照射前和照射后的313nm透过度变化程度进行测定。
表1
由上述表1可知,根据本发明的实施例的感光性树脂组合物的显影后的平坦度、分辨率优异,特别是过渡曝光后透过度变化与比较例1至3相比优异,所以液晶变形现象减少,适合用于光取向用层间有机绝缘膜。
产业上的利用可能性
根据本发明的感光性树脂组合物用于层间有机绝缘膜形成,不仅能在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时改善液晶变形现象,而且图案的分辨率调节容易,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成。
Claims (9)
1.一种感光性树脂组合物,其为用于形成层间有机绝缘膜的正型感光性树脂组合物,其特征在于,含有选自由a)UV稳定剂、b)自由基清除剂、以及c)抗氧化剂组成的组中的1种以上的化合物。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂组合物含有:
A)选自由丙烯酸系树脂、环氧系树脂、以及氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂组成的组中的1种以上的粘合剂树脂5-40重量%;
B)1,2-醌二叠氮化合物1-30重量%;
C)增塑剂1-20重量%;
D)选自由a)UV稳定剂、b)自由基清除剂、以及c)抗氧化剂组成的组中的1种以上的化合物0.01-30重量%;以及
E)余量的溶剂。
3.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂组合物用作TFT-LCD的光取向用层间绝缘膜。
4.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述D)含有:
a)UV稳定剂0.01-30重量%;以及
b)自由基清除剂或c)抗氧化剂0.01-10重量%。
5.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述D)含有:
a)UV稳定剂0.01-30重量%;
b)自由基清除剂0.01-10重量%;以及
c)抗氧化剂0.01-10重量%。
6.一种层间有机绝缘膜形成方法,其特征在于,利用权利要求1~5中任一项所述的感光性树脂组合物。
7.根据权利要求6所述的层间有机绝缘膜形成方法,其特征在于,所述感光性树脂组合物用作TFT-LCD的光取向用层间绝缘膜。
8.一种显示装置,其特征在于,含有权利要求1~5中任一项所述的感光性树脂组合物的固化物作为有机绝缘膜。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置为TFT-LCD。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20090101606 | 2009-10-26 | ||
KR10-2009-0101606 | 2009-10-26 | ||
KR10-2010-0100717 | 2010-10-15 | ||
KR1020100100717A KR20110046281A (ko) | 2009-10-26 | 2010-10-15 | 감광성 수지 조성물 |
PCT/KR2010/007220 WO2011052925A2 (ko) | 2009-10-26 | 2010-10-21 | 감광성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102576192A true CN102576192A (zh) | 2012-07-11 |
CN102576192B CN102576192B (zh) | 2014-01-01 |
Family
ID=43922771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201080048213.1A Active CN102576192B (zh) | 2009-10-26 | 2010-10-21 | 感光性树脂组合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102576192B (zh) |
TW (1) | TWI495954B (zh) |
WO (1) | WO2011052925A2 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102504564A (zh) * | 2011-10-25 | 2012-06-20 | 常熟市申华化工贸易有限公司 | 一种新型改性树脂 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004198812A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-15 | Nippon Zeon Co Ltd | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2005274845A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Nippon Zeon Co Ltd | 感放射線性組成物およびこれを用いてなる積層体 |
US20060008734A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-12 | Dino Amoroso | Photosensitive dielectric resin compositions, films formed therefrom and semiconductor and display devices encompassing such films |
JP2009116223A (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-28 | Toray Ind Inc | ポジ型感光性組成物、それから形成された硬化膜、硬化膜を有する素子、および素子の製造方法 |
JP2009204805A (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性樹脂組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品 |
CN102549496A (zh) * | 2009-10-16 | 2012-07-04 | 夏普株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物以及层间绝缘膜的形成方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2622267B2 (ja) * | 1988-03-23 | 1997-06-18 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
CA2453237A1 (en) * | 2001-07-26 | 2003-02-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Photosensitive resin composition |
KR100935148B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2010-01-06 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 조성물 |
KR20100099048A (ko) * | 2009-03-02 | 2010-09-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
-
2010
- 2010-10-21 WO PCT/KR2010/007220 patent/WO2011052925A2/ko active Application Filing
- 2010-10-21 CN CN201080048213.1A patent/CN102576192B/zh active Active
- 2010-10-25 TW TW099136298A patent/TWI495954B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004198812A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-15 | Nippon Zeon Co Ltd | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2005274845A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Nippon Zeon Co Ltd | 感放射線性組成物およびこれを用いてなる積層体 |
US20060008734A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-12 | Dino Amoroso | Photosensitive dielectric resin compositions, films formed therefrom and semiconductor and display devices encompassing such films |
JP2009116223A (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-28 | Toray Ind Inc | ポジ型感光性組成物、それから形成された硬化膜、硬化膜を有する素子、および素子の製造方法 |
JP2009204805A (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性樹脂組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品 |
CN102549496A (zh) * | 2009-10-16 | 2012-07-04 | 夏普株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物以及层间绝缘膜的形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011052925A2 (ko) | 2011-05-05 |
WO2011052925A3 (ko) | 2011-10-20 |
TWI495954B (zh) | 2015-08-11 |
CN102576192B (zh) | 2014-01-01 |
TW201122726A (en) | 2011-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1702554B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
CN108027555B (zh) | 正型感光性树脂组合物 | |
CN1828416B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
CN1955843B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
CN102087473B (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其制造方法 | |
JP6271272B2 (ja) | 感放射線組成物および放射線リソグラフィー構造物の製造方法 | |
CN101122740B (zh) | 层间绝缘膜用感光性树脂组合物及层间绝缘膜的形成方法 | |
TWI482802B (zh) | 感光性矽氧烷組成物、由其形成的硬化膜及具有硬化膜的元件 | |
CN101200566B (zh) | 用于形成有机绝缘膜的光敏树脂组合物和使用该组合物的设备 | |
CN1811597B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
CN107003607A (zh) | 正型感光性树脂组合物 | |
TWI398725B (zh) | A photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate using the same | |
CN101334587B (zh) | 有机薄膜晶体管用感光性树脂组合物 | |
TWI470349B (zh) | 感光性組成物、由此組成物所獲得的硬化膜以及具有此硬化膜的顯示元件 | |
JP2007286620A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
CN106462064B (zh) | 正型感光性树脂组合物 | |
CN105938298A (zh) | 负型感光性树脂组合物、使用其形成的光固化图案和图像显示装置 | |
JP2007226214A (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
CN1904734B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
JP7035889B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物およびその用途 | |
CN102483570B (zh) | 含有共聚物的感光性树脂组合物以及固化膜、微透镜 | |
TWI803587B (zh) | 感放射線性組合物、硬化膜及顯示元件 | |
JP5753074B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルムおよびパターン形成方法 | |
CN102576192B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
CN101566796A (zh) | 低温固化性感光性树脂组合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |