CN113376851B - 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法 - Google Patents

一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113376851B
CN113376851B CN202011529920.4A CN202011529920A CN113376851B CN 113376851 B CN113376851 B CN 113376851B CN 202011529920 A CN202011529920 A CN 202011529920A CN 113376851 B CN113376851 B CN 113376851B
Authority
CN
China
Prior art keywords
collimating
layer
film
collimation
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011529920.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113376851A (zh
Inventor
李刚
夏寅
付坤
高斌基
刘建凯
陈建文
唐海江
张彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo Exciton Technology Co Ltd
Original Assignee
Ningbo Exciton Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ningbo Exciton Technology Co Ltd filed Critical Ningbo Exciton Technology Co Ltd
Publication of CN113376851A publication Critical patent/CN113376851A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113376851B publication Critical patent/CN113376851B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29—Laminated material
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/30—Collimators
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

本发明属于图像识别领域，尤其涉及一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法。为了解决采用较厚遮光层设计的贴合型准直膜的气泡问题，本发明提供一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法。所述封孔贴合型准直膜包括准直透镜层、柔性基体层、一层准直孔层和贴合胶层；所述准直透镜层包含微透镜阵列和肉厚；所述准直孔层为准直通路层，所述准直通路层包含柱状准直通路阵列和遮光介质。本发明提供的封孔贴合型准直膜应用于图像识别模组，使其识别准确率高。

Description

一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法
技术领域
本发明属于图像识别领域，尤其涉及一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法。
背景技术
在图像识别领域，常用的图像传感器如CMOS型或photo-TFT型，传感器模组中一般都含有准直器件，用以加强信噪比，提高识别率，减少串扰。准直器件的功能(如图1所示)主要是对图像单点像素处的漫射光进行准直过滤，形成的法向的准直光或接近准直的光(信号)，可以顺利传输到相应光电感应器处，而偏离法向的大角度光(噪音)只能极少地甚至无法进入非对应的光电感应器处，由此信噪比得以加强。
准直器件通常都具有顶部准直结构层和底部准直结构层：首先，顶层和底层双层准直结构需要精确对位，否则会大大降低信号光的强度(如图2所示)；其次，需增加顶层(入光)准直结构和底层(出光)准直结构之间距离，或缩小微结构尺寸(如图3所示)，以提高整体长径比，否则会增加串扰光的透过。
传统的准直器件一般为刚性的准直片，如光纤集束切片，或是玻璃基两侧形成的微透镜(Microlens)、准直光阑等，这类刚性准直片普遍需保持较高的厚度，一方面用以保持长径比，一方面用以保持其机械性能，防止在应用环境中破碎。然而即便如此，这类刚性准直片仍然无法满足大尺寸的图像识别模组的应用。特别是还需要压缩整体厚度的应用场合(如超薄大屏手机)，它将变得更脆，更易碎，生产良率更低，不论是性能，还是成本都无法满足需求。另外显而易见的是，此类刚性准直片更不可能在柔性图像识别模组中。
除了光纤集束类的准直片(顶层和底层准直结构本就对齐)，绝大多数刚性准直片均需要完成两层准直结构(准直光阑)的对位。然而，依次制备的两层结构要进行高精度对位，具有相当大的难度：首先，需要非常复杂、昂贵的双轴定位设备，定位过程繁琐、耗时，若准直结构尺度小于50μm(图像精度DPI>508)，点阵规模必会达到每平米上亿个点，生产效率极其低下；其次，这种对位方式实际上精度并不高，特别是准直结构的尺寸缩小，数量增加时，累积误差会变得愈发明显，导致信号光强度下降，而频繁地原点校正也将变得更加费时。
综上，传统刚性准直片存在厚度高，厚度低的情况下易碎、性能差，两层准直结构(准直光阑)的对位难、良率低、产能低的问题，难以在大尺寸、超薄、柔性的图像识别领域中应用。
发明内容
为了解决传统刚性准直片中两层准直光阑对位难的问题，本发明提供一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法、及一种图像识别模组及其制备方法。本发明提供的准直膜只包括一层准直孔层，解决了两层准直光阑对位难的问题。与有序准直膜相比，本发明提供的减干涉准直膜能够减轻光干涉现象，提高图像识别准确率。
为了解决上述技术问题，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种准直膜，所述准直膜依次包括准直透镜层、柔性基体层和准直孔层。
所述准直孔层为准直光阑。
本发明提供的准直膜只包括一层准直光阑。本发明提供的准直膜只包括一层准直孔层。
所述准直膜依次包括准直透镜层、柔性基体层和一层准直孔层。
所述准直透镜层置于柔性基体的上表面，准直孔层置于柔性基体的下表面。
所述准直透镜层包含微透镜阵列和肉厚。
所述准直孔层包含准直孔阵列。
所述准直孔层包含遮光介质层和准直孔阵列。
所述准直孔层包含遮光介质和介质镂空后形成的准直孔阵列。
所述准直孔阵列与微透镜阵列的分布完全一致。每一个准直孔均在相对应微透镜的主光轴上。进一步的，每一个准直孔的圆心均在相对应微透镜的主光轴上。
所述准直膜采用微聚焦法打孔，所述准直孔阵列与微透镜阵列的分布完全一致，任意准直孔的圆心均在相应微透镜主光轴上，一对一高精度对位，对位偏差Δ<1μm。所述柔性基体层的厚度T选自10～50μm，优选为25～38μm。
所述准直透镜层的微透镜阵列为有序排布。前述准直膜称为有序准直膜(也称为有序准直结构)。前述有序排布的特点在于相邻微透镜的主光轴的间距P为一个定值。
所述准直透镜层的微透镜阵列与所述准直孔层的准直孔阵列均为有序排布。前述准直膜称为有序准直膜(也称为有序准直结构)。
进一步的，所述准直透镜层的微透镜阵列为无序排布。微透镜阵列为无序排布的准直膜称为减干涉准直膜(也称为无序准直结构，或无序阵列准直膜)。前述无序排布的特点在于相邻微透镜的主光轴的间距P为在一个范围内变化的值。与有序准直膜相比，所述减干涉准直膜能够减轻光干涉现象，提高图像识别准确率(识别率)。
进一步的，所述准直透镜层的微透镜阵列与所述准直孔层的准直孔阵列均为无序排布。前述准直膜称为减干涉准直膜(也称为无序准直结构)。
进一步的，在所述的减干涉准直膜中，在所述准直透镜层的微透镜阵列中，相邻的三个微透镜的主光轴的坐标相连形成非正三角形。
所述准直孔阵列中的一个准直孔与微透镜阵列中的一个微透镜的位置相对应，所述微透镜的主光轴与所述准直孔的中心相重合或其偏差小于1μm。与一个准直孔位置相对应的一个微透镜称为这个准直孔的相对应微透镜。相邻的三个微透镜的主光轴的坐标相连形成正三角形(由三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接而成)，或者，相邻的四个微透镜的主光轴的坐标相连形成正方形(由四个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接而成)。
所述微透镜阵列中的微透镜紧密排列。即相邻的微透镜相互接触或相互交叠。
所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形(由三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接而成)紧密排列，或正方形(由四个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接而成)紧密排列。
进一步的，在所述准直透镜层中，相邻微透镜的主光轴的间距P为10～50μm，微透镜的半径R为6.1μm-30.2μm，准直透镜层的高度H为1.1μm-27.4μm，准直透镜层材质的折射率n1为1.4～1.6；在所述柔性基体层中，柔性基体层的厚度T为10～50μm，柔性基体层材质的折射率n2为1.5～1.65；在所述准直孔层中，准直孔层的厚度t为0.5～7μm，准直孔阵列中的准直孔的直径Φ为1～10μm。
在有序准直膜中，相邻微透镜的主光轴间距P均相同，P选自10～50μm，优选为15～30μm，进一步优选为18～25μm。
所述准直膜的微透镜将垂直入射的光线聚焦，在柔性基体层下表面形成直径为D的光斑，D选自0.1～7.8μm，优选为0.5～4.9μm，进一步优选为1～2μm。
所述光斑直径D由微透镜的曲率半径R(球半径R)、折射率n1、准直透镜层厚度H(微透镜顶点至基体上表面的垂直距离)以及柔性基体层的折射率n2、厚度T共同确定。
所述微透镜的曲率半径R选自6.1～30.2μm，准直透镜层厚度H选自1.1～27.4μm，R和H不做优选，依据其他参数进行适配。
所述准直透镜层(即微透镜层)折射率n1选自1.4～1.6，优选为1.5。
所述柔性基体层的折射率n2,选自1.5～1.65，依材质而异，不做优选，允许±0.02同材质不同工艺造成的误差。
所述准直膜的微透镜阵列与肉厚材质相同，材质均为透明聚合物。
进一步的，所述微透镜层的透明聚合物选自AR(Acrylic resin，丙烯酸树脂或改性丙烯酸改性树脂)、PC(聚碳酸酯)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)、PI(聚酰亚胺)、PS(聚苯乙烯)、SR(Silicon Resin，硅树脂)、FEP(全氟乙烯丙烯共聚物)或EVA(乙烯-醋酸乙烯共聚物)中的一种。进一步的，优选为，PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC、或PS中的一种。
所述准直膜的柔性基体层为透明聚合物薄膜。
进一步的，所述透明聚合物薄膜的材质选自PET、PEN、PI、PC、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PP(聚丙烯)、PO(聚烯烃)、SR或COP(环烯烃共聚物)中的一种。进一步的，优选为，PET、PI、PC、或PMMA中的一种。
所述准直膜的准直孔层的遮光介质为有机涂料、无机镀层中的一种或至少两种的组合。
所述遮光介质的有机涂料选自不透明聚合物油墨体系。
进一步的，所述不透明聚合物油墨体系包含吸光物质以及聚合物固化体系。
进一步的，所述吸光物质选自碳质(如碳黑、碳纤维、石墨等)、碳化物(如碳化铬、碳化钛、碳化硼等)、碳氮化物(如碳氮化钛、碳氮化硼等)、硫化物(如硫化亚铁、二硫化钼、二硫化钴、硫化镍等)中的一种或至少两种的组合。
进一步的，所述聚合物固化体系可选自丙烯酸体系(AR)、聚氨酯体系(PU)、硅树脂体系(SR)、环氧树脂体系(EP)、密胺树脂体系(MF)、酚醛树脂体系(PF)、脲醛树脂体系(UF)、或热塑性弹性材料(例如乙烯-醋酸乙烯共聚物，热塑性弹性体TPE，或热塑性聚氨酯弹性体TPU)中的一种或至少两种的组合。
进一步的，所述聚合物固化体系可选自丙烯酸树脂体系、聚氨酯体系、有机硅体系、环氧树脂体系、或热塑性弹性材料中的一种或至少两种的组合。
所述遮光介质的无机镀层选自碳单质、碳化物、碳氮化物、硫化物中的一种或至少两种的组合。
所述准直膜的准直孔层的厚度t选自0.5～7μm，优选为1～5μm，进一步优选为2～3μm。
所述准直膜的准直孔层的准直孔直径Φ选自1～10μm，进一步优选为3～5μm。
进一步的，所述柔性基体层厚度T可以为10μm-50μm，例如10μm，15μm，20μm，25μm，38μm或50μm。
进一步的，所述准直透镜层的相邻微透镜主光轴间距P可以为10μm-15μm，例如10μm，15μm，18μm，20μm，25μm，30μm或50μm。
进一步的，所述准直透镜层的微透镜曲率半径R可以为6.1μm-30.2μm，例如6.1μm，6.9μm，7.9μm，9.4μm，11.2μm，11.3μm，12μm，12.1μm，12.6μm，12.8μm，13.3μm，13.6μm，14μm，14.3μm，14.3μm，14.8μm，15μm，15.1μm，15.7μm，15.9μm，16μm，16.1μm，16.7μm，17μm，17.2μm，17.3μm，18μm，18.1μm，18.3μm，18.8μm，19.3μm，19.4μm，19.6μm，19.8μm，20μm，20.6μm，20.8μm，21.6μm，22.5μm，25.6μm，或30.2μm。
进一步的，所述准直透镜层厚度H可以为1.1μm-27.4μm，例如1.1μm，2.4μm，2.5μm，3.0μm，3.1μm，3.2μm，3.5μm，3.8μm，4.1μm，5.0μm，5.8μm，6.0μm，6.2μm，6.8μm，7.2μm，7.8μm，8.5μm，8.6μm，8.7μm，9.2μm，10.4μm，10.7μm，10.8μm，11μm，11.1μm，11.4μm，11.5μm，12.9μm，13.6μm，14.1μm，14.6μm，15.0μm，15.4μm，16.3μm，17.3μm，18.1μm，19.8μm，20.5μm，21.3μm，22.2μm，22.7μm，25μm，或27.4μm。
进一步的，所述微透镜在柔性基体层下表面形成的光斑直径D可以为0.1μm-7.8μm，例如0.1μm，0.3μm，0.4μm，0.5μm，0.6μm，0.7μm，0.8μm，1.0μm，1.1μm，1.2μm，1.4μm，1.5μm，1.6μm，1.7μm，1.8μm，2.0μm，2.2μm，2.4μm，2.5μm，2.6μm，2.8μm，3.1μm，3.4μm，3.6μm，3.7μm，3.9μm，4.0μm，4.9μm，或7.8μm。
进一步的，所述准直孔层的厚度t可以为0.5-7μm，例如0.5μm，1μm，2μm，3μm，4μm，5μm，或7μm。
进一步的，所述准直孔直径Φ可以为1-10μm，例如1μm，2μm，3μm，4μm，5μm，6μm，8μm，或10μm。
进一步的，所述准直透镜层的折射率n1可以为1.34-1.7，例如1.34，1.4，1.47，1.48，1.5，1.59，1.6，1.65，1.66，或1.7。
进一步的，所述柔性基材层的折射率n2可以为1.48-1.7，例如1.48，1.49，1.5，1.6，1.65，1.66或1.7。
进一步的，本发明提供的准直膜，包括准直透镜层(41)、柔性基体层(42)(简称为基体)和准直孔层(43)，准直透镜层置于基体的上表面，准直孔层置于基体的下表面，所述准直透镜层(41)包含微透镜阵列(41A)和肉厚(41B)，所述准直孔层(43)包含遮光介质(43A)和介质镂空后形成的准直孔阵列(由一定数量准直孔(43B)构成)。
在实施例1-24中，所述准直膜中的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，柔性基体层(42)的材质为PET，准直孔层(43)的遮光介质(43A)为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔(43B)。其它各项参数如下：
P为10～30μm，R为9.4μm-20.6μm，H为3μm-27.4μm，n1为1.5；
T为25μm，n2为1.65，D为0.3～4.0μm；
t为2.0μm，Φ为4.0μm。进一步的，偏差Δ为0.18-0.90μm。
在实施例25-30中，所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，柔性基体层(42)的材质为PET，准直孔层(43)的遮光介质(43A)为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔(43B)，所述其他各项参数如下：
P为10～25μm，R为6.1μm-19.8μm，H为2.5μm-10.7μm，n1为1.5；
T为10-50μm，n2为1.65，D为0.6～3.9μm；
t为1.0-3.0μm，Φ为2.0-5.0μm。进一步的，偏差Δ为0.26-0.49μm。
在实施例31-40中，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，柔性基体层(42)的材质为PET，准直孔层(43)的遮光介质(43A)为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔(43B)，其他各项参数如下：
P为10～50μm，R为16μm-30.2μm，H为1.1μm-21.3μm，n1为1.5；
T为50μm，n2为1.65，D为0.1～7.8μm；
t为0.5μm，Φ为1.0-8.0μm。进一步的，偏差Δ为0.21-0.88μm。
在实施例(41)-47中，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，柔性基体层(42)的材质为PET，准直孔层(43)的遮光介质(43A)为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔(43B)，其他各项参数如下：
P为30μm，R为19.3μm，H为10.8μm，n1为1.5；
T为38μm，n2为1.65，D为3.6μm；
t为0.5-7μm，Φ为5.0-10.0μm。进一步的，偏差Δ为0.46-0.99μm。
在实施例48-57中，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，进一步的，由光固化丙烯酸树脂聚合而成，折射率n1从1.4～1.6可调，当n2＝1.65时，柔性基体层(42)的材质为PET，当n2＝1.5时，柔性基体层(42)的材质为COP，准直孔层(43)的遮光介质(43A)为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔(43B)，其他各项参数如下：
P为20-25μm，R为15.9-22.5μm，H为3.2-9.2μm，n1为1.4-1.6；
T为38-50μm，n2为1.5-1.65，D为0.5-3.6μm；
t为2.0μm，Φ为4.0μm。进一步的，偏差Δ为0.25-0.66μm。
在实施例58中，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正方形紧密排列(如图7所示)，所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，柔性基体层(42)的材质为PET，准直孔层(43)的遮光介质(43A)为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔(43B)，其他各项参数如下：
P为25μm，R为19.6μm，H为11.1μm，n1为1.5；
T为38μm，n2为1.65，D为3.9μm；
t为2.0μm，Φ为4.0μm。进一步的，偏差Δ为0.69μm。
本发明还提供所述准直膜的制备方法，所述的准直孔采用微聚焦法打孔。
进一步的，所述制备方法中，使激光垂直照射准直透镜层，激光通过准直透镜层的微透镜聚焦，聚焦形成的光斑落在准直孔层上打出准直孔。通过该法制备的中，所述准直孔阵列与微透镜阵列的分布完全一致，任意准直孔的圆心均在相应微透镜的主光轴上。
进一步的，所述制备方法包括下述步骤：
(1)采用透镜阵列(凹)模具，将准直透镜层在柔性基体层上表面成型(可采用光固化、热固化、热压成型等方式)，形成透镜阵列(凸)；
(2)采用湿法/干法涂布技术，在基体层下表面涂上/镀上遮光介质；
(3)采用大面积平顶激光(高斯波束整形后的平行激光)，以适当的低能量垂直照射微透镜阵列，通过每一个微透镜后均聚焦在遮光介质(即微聚焦法)，并打出相应准直孔，产生相同分布的准直孔阵列，形成准直孔层。
进一步的，所述微聚焦法包含以下特征：
(1)采用波束整形后的平顶激光作为激光源，整形后辐照面积变大，能量密度降低；
(2)必须从正面照射，较低能量密度，通过微透镜自身的微聚焦过程集中能量，实现高能量密度；
(3)微聚焦的光斑在合理范围内要足够小，焦点位置需设计在PET下表面或更深处，让能量集中于遮光层(遮光介质)；
(4)对微透镜层普适性高，不规整微透镜层，如透镜排列精度、形状精度较差、间距不均甚至无序时，同样适用。
进一步的，所述微聚焦法的过程(如图4所示)分为四个基本步骤：(a)平顶激光(5)以合适的能量(过高孔太大，甚至烧到基体，过低，打不穿孔)，打在准直膜半成品的准直透镜层(41)，微透镜(41A)实现微聚焦，肉厚(41B)实现光斑面积的预缩小，最终激光穿过基体层(42)，在遮光介质(43A)上聚焦成极小的光斑，实现能量的高度集中；(b)由于遮光介质对光线的吸收，能量瞬间累积导致光斑位置的遮光介质被瞬间烧穿，并产生一些灰分，实际上前两步的过程仅需要微秒级别，非常迅速；(c)灰分被抽走后，露出准直孔(43B)，这些准直孔本就在微透镜主光轴(40)上，因此和微透镜(41A)高度对齐，避免了费时的对位过程，此时本发明的准直膜(4)已经是成品，包含完整的结构——准直透镜层(41)、基体层(42)、准直孔层(43)；(d)准直膜(4)此时已满足法向或接近法向的准直光高透过，在线生产时可以用普通强度的检验光源(如白光、绿光、三波灯)从微透镜面照射，光会从准直孔透出，使背面可以观察到透光孔阵列图像，并可以量化透过的光强，以此来检验打孔的品质，该过程可以轻易地在流水线上实现自动检测，特定位置抽检捕捉得到地图像也可以进行数据化分析(孔的大小、间距、阵列形态等)。
相比本发明提供的微聚焦法打孔，传统的打孔方式会有较大的局限性(如图5所示)：(a)高斯激光(7)，通过激光头的透镜组聚焦，从半成品背面方向打在遮光介质(43A)上；(b)遮光层不同位置被依次烧穿，并产生一些灰分；(c)当灰分抽走，便露出了准直孔。可以看到，整个对位过程需定位原点O(或称Mark点)，正面的CCD(Charge Coupled Device电荷耦合器件)高清摄像头对准透镜光心，背面的激光头会与正面CCD镜头联动，寻找到相应准直孔位置，从而计算出第一点与位置的初始位移量(矢量或坐标差值)，这个初始定位过程是非常耗时且复杂的，对设备要求也较高；然后，依据初始位移量和点间位移量即可计算定位出所有点位置，依次打出2～n个点，这个过程可以虽然可以利用振镜组缩短时间，然而n不可以设置太大，否则累积误差必然超过1μm，甚至会更大，特别是振镜会导致角度倾斜，光斑变大变形，误差累积越来越快；最后，当误差累积到不可接受时，需退回原点O，并重新寻找第一个点，即重复初始定位过程。纵观整个过程，虽然采用振镜组缩短时间，但由于n不可太大，需要频繁进行初始定位过程，因此导致该种方法极为耗时、复杂又依赖设备，打孔过程不仅成本高而且精度低。
进一步的，传统打孔方法的局限性还不止如此：上述定位第一个点，计算2～n的点的过程需要有一个前提条件，那就是微透镜的间距是完全准确的；事实上一方面，微透镜的模具也是通过激光打孔制备出来，必然会有误差，因此传统方式的对位误差会进一步增大，特别是模具精度并不那么高时；另一方面，有些特殊模具，所制备的不规整微透镜层，其微透镜的排列精度、形状精度较差，或设计的间距本就不均甚至无序。因此传统过程，变相又增加了微透镜层的模具精度和制备成本，导致整个准直膜成本非常高，更不用说来实现不规则微透镜层的对位打孔(而本发明的微聚焦法可以轻松实现)。
应当注意，微透镜阵列成型方式应根据透明聚合物种类和应用场合进行选择，本发明不做优选；遮光介质的涂布方式应根据遮光介质的种类进行选择，有机涂料需选择湿法涂布方式，无机镀层需选择干法涂布(即物理气相沉积)方式。
应当注意，本发明提供的准直膜制备方法，适用于片材的生产，也适用于卷材的生产。
该准直膜可以作为柔性准直器件用于图像传感器模组。该准直膜能对图像单点像素处的漫射光进行一定程度的准直过滤，形成法向小波束光信号，并将其传输到相应光电感应器处，特别适用于大尺寸、超薄、甚至柔性的图像识别模组中。
与现有技术相比，本发明提供的准直膜，采用了厚度为10～50μm的聚合物薄膜作为柔性基体层，实现了准直器件的柔性、超薄、大尺寸化，特别适用于大尺寸、超薄、甚至柔性的图像识别模组中。
与现有技术相比，本发明提供的准直膜，采用微聚焦法打孔，所述准直孔阵列与微透镜阵列的分布完全一致，每一个准直孔的圆心均在相应微透镜的主光轴上，一对一高精度对准，对位偏差<1μm，不仅大大提高信号光的透过，允许准直结构进一步缩小(如微透镜和准直孔同步缩小)以减少串扰，提高了准直膜的信噪比，而且大大提高了生产效率，降低了成本。
与现有技术相比，本发明提供的准直膜只包括一层准直孔层，根本上解决了两层准直光阑相互之间对位难的问题，且，厚度低，韧性好、不易碎，采用微聚焦法制备得到的准直孔的圆心在相应微透镜的主光轴上、准直孔与相应微透镜对位精确。本发明提供的准直膜的制备方法易于操作，能够大量生产，提高了生产良率。本发明提供的准直膜的性能优异，能通过准直光，过滤漫射光。本发明提供的准直膜可应用于大尺寸、超薄的图像识别模组中，使大尺寸、超薄、甚至柔性的图像识别模组的量产性大大提高，当应用于手机(OLED屏)等消费类电子产品的指纹解锁方案时，因其市场需求极大，且对超薄、大屏、柔性等特性有更高追求，本发明的准直膜优势明显。
此外，有序分布的准直结构(指准直透镜层的微透镜阵列为有序排布)在实际应用中可以满足基本的图像识别要求，但存在因规整性过高产生的干涉条纹，如图11a所示。因此，有必要把准直结构优化为无序分布，破坏规整性，减弱干涉条纹，如图11b所示，以进一步提高图像识别准确率(识别率)。
本发明提供的减干涉准直膜的准直透镜层的微透镜阵列为无序排布，由于采用了微聚焦打孔方式，使得准直孔层的准直孔阵列与微透镜阵列完全一致，不仅保持了无序分布的特点，还维持了高精度的同轴对位，是传统打孔方式始终无法实现的。所述无序微透镜阵列准直膜能破坏有序微透镜阵列的规整性，减弱因规整性导致的干涉条纹(如图11b所示)，以进一步提高本发明提供的准直膜的图像识别准确率(识别率)。
所述无序阵列准直膜(减干涉准直膜)的准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形(不是正三角形))。在减干涉准直膜(无序准直膜)中，P的取值范围为5～55μm，所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围内无序变化，相邻主光轴间距P的变化量为A(P的取值范围中最高值与最低值的差)，相邻主光轴间距P的中值为Pm(P的取值范围中最高值与最低值的平均值)，则Pm-0.5A≤P≤Pm+0.5A；中值Pm选自10～50μm，优选为15～30μm，进一步优选为18～25μm，主光轴间距P的变化量A选自1～10um，优选为2～6um。
进一步的，在减干涉准直膜(无序准直膜)中，微透镜的半径R为6.1μm-30.2μm，准直透镜层的高度H为1.1μm-27.4μm，准直透镜层材质的折射率n1为1.34～1.7；在所述柔性基体层中，柔性基体层的厚度T为10～50μm，柔性基体层材质的折射率n2为1.48～1.7；在所述准直孔层中，准直孔层的厚度t为0.5～7μm，准直孔阵列中的准直孔的直径Φ为1～10μm。
在实施例81-86中，所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形(不是正三角形)。所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围(Pm±0.5A)内无序变化。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，其他各项参数如下：
P为Pm±0.5A，Pm为30μm，A为1-10μm，R为20.6μm，H为27.4μm，n1为1.5；
T为25μm，n2为1.65，D为3.1μm；
t为2.0μm，Φ为4.0μm。进一步的，偏差Δ为0.81μm。
与现有技术相比，本发明提供的减干涉准直膜只包括一层准直孔层，根本上解决了两层准直光阑相互之间对位难的问题，且，厚度低，韧性好、不易碎，采用微聚焦法制备得到的准直孔的圆心在相应微透镜的主光轴上、准直孔与相应微透镜对位精确。本发明提供的减干涉准直膜的制备方法易于操作，能够大量生产，提高了生产良率。本发明提供的减干涉准直膜的性能优异，能通过准直光，过滤漫射光，且光干涉现象减轻。本发明提供的减干涉准直膜可应用于大尺寸、超薄的图像识别模组中，使大尺寸、超薄、甚至柔性的图像识别模组的量产性大大提高，当应用于手机(OLED屏)等消费类电子产品的指纹解锁方案时，因其市场需求极大，且对超薄、大屏、柔性等特性有更高追求，本发明的减干涉准直膜优势明显。
另一方面，本发明提供一种贴合型准直膜，所述贴合型准直膜包括贴合胶层和本发明所述的减干涉准直膜；所述贴合胶层与减干涉准直膜中的准直孔层贴合在一起。
进一步的，所述贴合胶层选自固态光学透明胶、高透光率压敏胶或透明热熔胶中的一种。
进一步的，所述贴合胶层的厚度是5～35μm。
另一方面，本发明还提供一种图像识别模组，所述图像识别模组依次包括准直层、滤光层和光电感应层；所述准直层选自本发明所述的贴合型准直膜或本发明所述的减干涉准直膜。
图14为图像识别模组大屏化趋势的示意图(以OLED手机指纹识别模组为例)，展示了四种设计的OLED手机(01)的俯视图，OLED屏幕(02)下方存在指纹识别模组(03)，手指(04)需要放置在这些特定区域方能进行识别并实现解锁：其中(a)为传统的定域识别设计，由于指纹识别模组特别小，激活屏幕时往往在该区域显示一个图标，用以指示手指精确放置的位置；(b)的指纹识别模组覆盖面积已经达到约1/4屏，从单指识别解锁拓展到双指识别解锁已不成问题；(c)、(d)的设计拟实现半屏化甚至全屏化，对指纹识别模组的大屏化提出了更高的要求。
如图15为图像识别模组的架构示意图(以OLED手机指纹识别模组为例)，在完整的指纹模组中，准直膜层(05)处于中间层位置，准直膜的上方是OLED屏幕(02)，下方还有滤光层(06)和光电感应层(07)。当准直膜是软基部件时，其尺寸稳定性(热收缩、热膨胀、褶皱等)是其弱点，因此在大面积使用时需要和下层部件进行绑定以增加整体的挺性以及厚度，下层部件可以是硬基部件(如滤光层)，也可以是与软基部件(如滤光层也可以用软基制备，光电感应芯片也可以用TFT(薄膜晶体管)制备。
本发明提供的贴合型准直膜具有贴合胶层(44)，能将软基(即柔性基体层)的准直膜与图像识别模组的下层部件进行贴合，提高了准直膜的尺寸稳定性，如图16所示。显然，经过贴合之后准直膜的平整度更高，可以减少因膜材波浪(Waving)引起的光学畸变，加强了其图像识别的准确性。
所述贴合型准直膜从上至下具有四层主要结构，分别是无序阵列准直透镜层(41)、柔性基体层(42)、准直孔层(43)以及贴合胶层(44)，如图17所示。其中，所述无序阵列准直透镜层(41)、柔性基体层(42)以及准直孔层(43)的设计参数与减干涉准直膜完全相同，所述贴合胶层(44)的厚度为T2，选自5～50μm，优选为10～25μm，太薄胶层会导致贴合不紧密(无论信赖性前后)，太厚会导致信号光损失或串扰。如图18所示：(a)正常情况下如信号光在准直孔层聚焦后会发散在光电感应器上，产生比小孔大、但比光电感应器小的光斑，此时信号被完全接收；(b)但如果胶层变厚导致光电感应器距离变远、光斑变大，则会产生损失；(c)当胶层过厚，光电感应器距离过远、光斑过大，甚至会产生临近光斑叠加的互相串扰现象。
进一步的，所述贴合胶层可选自固态OCA(光学透明胶)、高透PSA(压敏胶)或透明热熔胶等，优选为具有高透光率和重工性的OCA和PSA。进一步的，所述OCA和PSA的材质分别选自热固聚丙烯酸酯体系或光固聚丙烯酸酯体系。
进一步的，在贴合性型准直膜中，所述准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形(不是正三角形)。在减干涉准直膜(无序准直膜)中，P的取值范围为5～55μm，所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围内无序变化，相邻主光轴间距P的变化量为A(P的取值范围中最高值与最低值的差)，相邻主光轴间距P的中值为Pm(P的取值范围中最高值与最低值的平均值)，则Pm-0.5A≤P≤Pm+0.5A；中值Pm选自10～50μm，优选为15～30μm，进一步优选为18～25μm，主光轴间距P的变化量A选自1～10um，优选为2～6um。
进一步的，微透镜的半径R为6.1μm-30.2μm，准直透镜层的高度H为1.1μm-27.4μm，准直透镜层材质的折射率n1为1.34～1.7；在所述柔性基体层中，柔性基体层的厚度T为10～50μm，柔性基体层材质的折射率n2为1.48～1.7；在所述准直孔层中，准直孔层的厚度t为0.5～7μm，准直孔阵列中的准直孔的直径Φ为1～10μm。
本发明还提供所述贴合型准直膜的制备方法，所述的准直孔采用微聚焦法打孔。
进一步的，所述制备方法中，使激光垂直照射准直透镜层，激光通过准直透镜层的微透镜聚焦，聚焦形成的光斑落在准直孔层上打出准直孔。通过该法制备的贴合型准直膜中，所述准直孔阵列与微透镜阵列的分布完全一致，任意准直孔的圆心均在相应微透镜的主光轴上。
本发明还提供所述的贴合型准直膜的制备方法，所述制备方法包括下述步骤：
(1)制备减干涉准直膜；
(2)将OCA/PSA胶带撕开轻离型膜，粘合胶层与准直孔层进行贴合。
进一步的，所述制备方法包括下述步骤：
(1)制备本发明提供的减干涉准直膜；
(2)将OCA/PSA胶带撕开轻离型膜，粘合胶层与准直膜背面(准直孔层)进行贴合，通过加压、升温、抽真空进行排气、除泡；
(3)使用前撕掉重离型膜，即可获得贴合型准直膜，OCA/PSA胶层用于下层部件的贴合。
在实施例93-102中，所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形。所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围(Pm±0.5A)内无序变化，其中，中值Pm为18μm或15μm，变化量A为4μm，即P的取值范围为18±2μm或15±2μm，其他参数如表10所列。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛。所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表10所列。实施例93～99的贴合胶层44为固态OCA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例100的贴合胶层44为高透PSA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例101的贴合胶层44为固态OCA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系；实施例102的贴合胶层44为高透PSA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系。其他各项参数如下：
P为Pm±0.5A，Pm为18μm，A为4μm，R为14.8μm，H为16.3μm，n1为1.5；
T为25μm，n2为1.65，D为1.1μm；
t为2μm，Φ为4μm。进一步的，偏差Δ为0.41μm。
或者，P为Pm±0.5A，Pm为15μm，A为4μm，R为17μm，H为2.4μm，n1为1.5；
T为50μm，n2为1.65，D为0.5μm；
t为0.5μm，Φ为5.0μm。进一步的，偏差Δ为0.25μm。
与现有技术相比，本发明提供的贴合型准直膜只包括一层准直孔层，根本上解决了两层准直光阑相互之间对位难的问题，且，厚度低，韧性好、不易碎，采用微聚焦法制备得到的准直孔的圆心在相应微透镜的主光轴上、准直孔与相应微透镜对位精确。本发明提供的贴合型准直膜的制备方法易于操作，能够大量生产，提高了生产良率。本发明提供的贴合型准直膜的性能优异，能通过准直光，过滤漫射光，且光干涉现象减轻。本发明提供的贴合型准直膜具有贴合胶层，能与下层部件进行贴合，提高了柔性准直膜的尺寸稳定性，减少光学畸变。本发明提供的贴合型准直膜可应用于大尺寸、超薄的图像识别模组中，使大尺寸、超薄、甚至柔性的图像识别模组的量产性大大提高，当应用于手机(OLED屏)等消费类电子产品的指纹解锁方案时，因其市场需求极大，且对超薄、大屏、柔性等特性有更高追求，本发明的贴合型准直膜优势明显。本发明提供的图像识别模组的识别准确率高，可应用于手机(OLED屏)等消费类电子产品的指纹解锁等。
我们发现，上述贴合型准直膜由于采用成品贴合胶带(OCA/PSA)贴合在准直膜背面，当采用较厚的遮光层设计时，准直孔较深，贴合胶层与准直孔之间会留有较多空气，即形成一个个气泡，在信赖性测试后气泡与贴合胶层交界处发生形变，外凸会使光线更加发散，内凹会使光线更加收敛，有异于正常区域光路，从而影响成像质量。如图20所示：当贴合胶层44与气泡09的交界处仍水平时，正常信号光路如081所示，最终在贴合胶层44中的传播方向，只取决于基底层42与贴合胶层44的折射率(中间介质空气的折射率在两次计算中会互相抵消)；而当贴合胶层44与气泡09的交界处发生形变时，异常信号光路如082所示，最终在贴合胶层44中的传播方向，不仅基底层42与贴合胶层44的折射率差有影响，中间介质空气的折射率以及变形界面的法线方向(已不垂直与水平面)也有影响，图示为信赖性后气泡09外凸，因而光线会变更发散。
为了改善或解决采用较厚遮光层(准直孔层)设计的贴合型准直膜的气泡问题，用透明介质制备出准直(光)通路是一种更直接的改善方法。
本发明提供一种封孔贴合型准直膜，所述封孔贴合型准直膜包括准直透镜层、柔性基体层、一层准直孔层和贴合胶层；所述准直透镜层包含微透镜阵列和肉厚；所述准直孔层为准直通路层，所述准直通路层包含柱状准直通路阵列和遮光介质。
所述柱状准直通路分布在遮光介质中。
遮光介质分布在准直通路间隙，与柱状准直通路阵列互补。
所述准直通路层包含遮光介质层(简称遮光层)和柱状准直通路阵列。
进一步的，所述遮光介质为黑色负性光阻层，单层设计。
进一步的，所述遮光介质为黑色负性光阻。所述黑色负性光阻为单层(即一层)结构。
进一步的，所述遮光介质为单层的黑色负性光阻。
进一步的，所述黑色负性光阻包含黑色吸光物质与透明负性光阻。
所述黑色吸光物质选自碳单质、碳化物、碳氮化物、硫化物中的一种。
进一步的，所述柱状准直通路阵列为单层的透明负性光阻层。
所述透明负性光阻选自聚乙烯醇肉桂酸酯或环化橡胶-双叠氮体系。
所述透明负性光阻优选为聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶-双叠氮体系中的一种。这两种体系均可采用紫外全谱进行曝光，采用高压汞灯固化，同传统UV固化树脂一样便捷。
进一步的，所述遮光介质与柱状准直通路阵列的透明负性光阻优选为相同体系，提高两者的相容性和结合力。
进一步的，所述贴合胶层选自固态光学透明胶、高透光率压敏胶或透明热熔胶中的一种。
进一步的，所述贴合胶层可选自固态OCA(光学透明胶)、高透PSA(压敏胶)或透明热熔胶等，优选为具有高透光率和重工性的OCA和PSA。进一步的，所述OCA和PSA的材质分别选自热固化聚丙烯酸酯体系或光固化聚丙烯酸酯体系。
进一步的，所述准直通路层采用如图21所示的工序进行制备，所述柱状准直通路阵列采用透明负性光阻制备，通过涂布(a)、软烘(b)、微聚焦法曝光(c)、曝光后烘(d)、显影(e)、硬烘(f)等工艺过程，洗掉未曝光区域，保留经过曝光的、性能稳定的透明柱状阵列，作为成像时信号光的准直通路；所述遮光介质采用黑色负性光阻制备，通过涂布(g)、软烘(h)、曝光(i)、硬烘(j)等工艺过程，最终转变为性能稳定的黑色遮光层；成品准直膜最后进行光学检验(k)，证明具有准直性能。其中，透明负性光阻制备过程的聚焦法曝光(c)工序采用的是平顶波束紫外光源8，黑色负性光阻制备过程的曝光(i)工序采用的是普通紫外光源9。
进一步的，所述准直通路层的厚度t为3～7μm。
进一步的，所述准直通路层的遮光介质(黑色负性光阻)对可见光与红外光的截止性能至少达到OD2级别，即透过率小于或等于1％。
进一步的，所述贴合胶层的厚度T2为5～50μm，优选为10～25μm。
进一步的，本发明提供的准直膜的制备方法，其特征在于，所述准直膜的准直孔层为准直通路层；所述准直通路层的柱状准直通路阵列采用透明负性光阻，微聚焦法紫外曝光；所述准直通路层的遮光介质采用黑色负性光阻，紫外曝光；在所述制备方法中，微聚焦法紫外曝光需采用平顶波束紫外激光，通过准直透镜层的微透镜聚焦，聚焦形成的光斑落在透明负性光阻上，曝光固化成柱状准直通路阵列。
进一步的，本发明提供的减干涉准直膜中，所述准直孔层为准直通路层，包含柱状准直通路阵列和遮光介质。
进一步的，本发明提供的贴合型准直膜中，所述准直孔层为准直通路层，包含柱状准直通路阵列和遮光介质。
进一步的，本发明提供的减干涉准直膜中，所述遮光介质为黑色负性光阻，单层设计。
进一步的，本发明提供的贴合型准直膜中，所述遮光介质为黑色负性光阻，单层设计。
所述封孔贴合型准直膜从上至下具有四层主要结构，分别是准直透镜层(41)、柔性基体层(42)、准直孔层(43)以及贴合胶层(44)，如图22所示。其中，所述准直透镜层(41)、柔性基体层(42)以及准直孔层(43)的设计参数与准直膜完全相同，所述准直孔层为准直通路层。
实施例103-118提供一种封孔贴合型准直膜，其横截面如图23所示，包括准直透镜层(41)、柔性基体层(42)、准直孔层(43)和贴合胶层(44)，准直透镜层(41)置于基体(4)2的上表面，准直孔层(43)置于基体(42)的下表面，所述准直透镜层(41)包含微透镜阵列(41A)和肉厚(41B)，所述准直孔层(43)为准直通路层，包含遮光介质(43E)和柱状准直通路阵列，准直孔层(43)下表面与贴合胶层(44)贴合在一起；所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为有序排列，为正三角形紧密排列(如图8所示)。所述准直透镜层(41)的材质为PMMA，柔性基体层(42)的材质为PET，准直孔层(43)的遮光介质(43E)为黑色负性光阻，准直孔层(43)的柱状准直通路阵列(43D)为透明负性光阻。所述准直膜采用微透镜聚焦的方式曝光固化制备柱状准直通路阵列。
所述柔性基体层(42)的厚度T为38μm。实施例103～115的贴合胶层(44)为固态OCA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例116的贴合胶层(44)为高透PSA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例117的贴合胶层(44)为固态OCA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系；实施例118的贴合胶层(44)为高透PSA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系。实施例103～108的透明负性光阻为聚乙烯醇肉桂酸酯，黑色吸光物质为炭单质(即炭黑)，实施例109～112的透明负性光阻为环化橡胶-双叠氮体系，黑色吸光物质为炭单质，实施例113～115的透明负性光阻为聚乙烯醇肉桂酸酯，黑色吸光物质分别为碳化物、碳氮化物、硫化物。
其中，P为微透镜的主光轴最小间距，为30μm；R为微透镜的曲率半径，为19.3μm；H为准直透镜层厚度，为10.8μm；n1为准直透镜层的折射率，无量纲单位，为1.5；T为柔性基体层的厚度，为38μm；n2为柔性基体层的折射率，无量纲单位，为1.65；D为经过微透镜聚焦后在柔性基体层下表面形成的光斑直径，为3.6μm；t为准直孔层的厚度，为5-7μm，例如为5μm，或7μm；Φ为准直孔的直径，为3.0-5.0μm，例如为3.0μm，或5.0μm；Δ为0.19-0.33，例如，Δ为0.19，0.20，0.21，0.22，0.23，或0.33。T2为贴合胶层的厚度，单位μm，厚度T2为5～50μm，例如，5μm，10μm，25μm，35μm或50μm；ΔSNR为信噪比信赖性前后变化，SNR降低即ΔSNR为负，意味着成像性能变差，ΔSNR为-1.0至-2.4，例如，ΔSNR为-1.0，-2.0，-2.1，-2.2，-2.3，或2.4。
本发明还提供所述封孔贴合型准直膜的制备方法，所述的准直通路采用微聚焦法曝光。
进一步的，所述制备方法中，使平顶波束紫外激光垂直照射准直透镜层，激光通过准直透镜层的微透镜聚焦，聚焦形成的光斑落在透明负性光阻上曝光固化成柱状准直通路阵列。通过该法制备的封孔贴合型准直膜中，所述柱状准直通路阵列与微透镜阵列的分布完全一致，任意准直通路的旋转对称中心均在相应微透镜的主光轴上。
本发明还提供所述的封孔贴合型准直膜的制备方法，所述制备方法包括下述步骤：
(1)在柔性基体层上表面制备出准直透镜层；
(2)在柔性基体层下表面涂布透明负性光阻，采用微聚焦法曝光透明负性光阻，使透明负性光阻固化形成柱状准直通路，洗掉未曝光区域，形成准直通路阵列；
(3)在柔性基体层下表面，准直通路阵列周围涂布黑色负性光阻，形成遮光介质。
进一步的，所述制备方法包括下述步骤：
(1)在柔性基体层上表面制备出准直透镜层；
(2)在柔性基体层下表面涂布透明负性光阻，通过如图21(a～f)所示的一系列工序，形成准直通路阵列；
(3)在柔性基体层下表面，准直通路阵列周围涂布黑色负性光阻，通过如图21(g～j)所示的一系列工序，形成遮光介质。准直通路阵列与遮光介质共同组成了准直通路层，即准直膜的准直孔层；该准直孔层与柔性基体层、准直透镜层共同组成了准直膜。
(4)将OCA/PSA胶带撕开轻离型膜，粘合胶层与准直膜背面(准直孔层背面)进行贴合，形成封孔贴合型准直膜。
与现有技术相比，本发明提供的封孔贴合型准直膜只包括一层准直孔层，根本上解决了两层准直光阑相互之间对位难的问题，且，厚度低，韧性好、不易碎，采用微聚焦法制备得到的准直孔的圆心在相应微透镜的主光轴上、准直孔与相应微透镜对位精确。本发明提供的封孔贴合型准直膜的制备方法易于操作，能够大量生产，提高了生产良率。本发明提供的封孔贴合型准直膜的性能优异，能通过准直光，过滤漫射光，且光干涉现象减轻。本发明提供的封孔贴合型准直膜具有贴合胶层，能与下层部件进行贴合，提高了柔性准直膜的尺寸稳定性，减少光学畸变。本发明提供的封孔贴合型准直膜的准直孔层为准直通路层，用柱状准直通路阵列代替准直孔阵列，较大程度解决了较厚遮光层设计时，孔内气泡影响成像质量的问题。本发明提供的封孔贴合型准直膜可应用于大尺寸、超薄的图像识别模组中，使大尺寸、超薄、甚至柔性的图像识别模组的量产性大大提高，当应用于手机(OLED屏)等消费类电子产品的指纹解锁方案时，因其市场需求极大，且对超薄、大屏、柔性等特性有更高追求，本发明的封孔贴合型准直膜优势明显。本发明提供的封孔贴合型准直膜应用于图像识别模组，使其识别准确率高。本发明提供的图像识别模组的识别准确率高，可应用于手机(OLED屏)等消费类电子产品的指纹解锁等。
附图说明
图1为准直器件的基本原理示意图；
图2为准直结构的对位精度对信号强度的影响；对位精度越高，信号强度越大；
图3为准直结构的长径比对串扰强度的影响；长径比越高，串扰强度越小；
图4为微聚焦法打孔原理；
图5为传统打孔的对位误差累积过程；
图6为本发明所提供的准直膜横截面示意图；
图7为本发明所提供的准直膜立体示意图(正方形排列)；
图8为本发明所提供的准直膜立体示意图(正三角形排列)；
图9为对比例所提供的准直膜(准直片)横截面示意图；
图10为本发明所提供的准直膜挡光性能(最小挡光角度)测试过程；
图11a为有序准直结构产生的干涉条纹；
图11b为无序准直结构产生的干涉条纹；
图12为无序分布的准直透镜层顶视图(用于说明无序分布的含义)；
图13为本发明所提供的减干涉准直膜立体示意图(微透镜阵列为无序分布)；
图14为图像识别模组大屏化趋势的示意图(以OLED手机指纹识别模组为例)；
图15为图像识别模组的架构示意图(以OLED手机指纹识别模组为例)；
图16为贴合型准直膜与下方部件贴合后的示意图(以OLED手机指纹识别模组为例)；
图17为贴合型准直膜的四层基本结构；
图18为贴合胶层厚度对光电传感器信号接收的影响；
图19为贴合型准直膜结构示意图；
图20为厚遮光层设计的贴合型准直膜的气泡问题；
图21为准直通路层的制备过程示意图；
图22为封孔贴合型准直膜的四层基本结构；
图23为封孔贴合型准直膜结构示意图。
其中：
1：目标图像，11～17：目标图像7个连续像素点；2：准直器件，21：顶部(入光)准直结构层，22：底部(出光)准直结构层；3：光电感应芯片，31～37：7个连续像素点所对应的光电感应器；4：本发明所提供的准直膜，4’：对比例所提供的准直膜，40：准直结构的中轴(微透镜主光轴)，41：准直透镜层，41A：微透镜阵列，41B：肉厚，41C：微透镜顶点，42：柔性基体层，43：准直孔层，43A：遮光介质，43B：准直孔，43C：透明负性光阻，43D：透明柱状准直通路阵列，43E：黑色负性光阻；5：平顶波束激光；6：检验光源；7：高斯波束激光；8：平顶波束紫外光源；9：普通紫外光源；O：激光器定位原点；01：OLED手机，02：OLED屏幕，03：指纹识别模组，04：手指，05：准直膜层，06：红外滤光层，07：光电感应层(含光电感应芯片、柔性电路板和补强基板)，44：贴合胶层，081：正常信号光路，082：异常信号光路(OCA变形后的信号光路)，09：气泡。
具体实施方式
为了更易理解本发明的结构及所能达成的功能特征和优点，下文将本发明的较佳的实施例，并配合图式做详细说明如下。
对比例1
如图9所示为用于对比的一个准直膜，包括准直透镜层41、柔性基体层(简称基体)42和准直孔层43，准直透镜层置于基体的上表面，准直孔层置于基体的下表面，所述准直透镜层41包含微透镜阵列41A和肉厚41B，所述准直孔层43包含遮光介质43A和介质镂空后形成的准直孔阵列(由一定数量准直孔43B构成)；所述柔性基体层的厚度T为25μm。所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列(如图8所示)。所述微透镜的主光轴最小间距P为18μm，曲率半径R为12.6μm，准直透镜层厚度H(微透镜顶点至基体上表面垂直距离)为8.5μm，所述准直孔层的厚度t为2μm，准直孔直径Φ为4μm。所述准直透镜层的微透镜阵列与肉厚的材质均为透明聚合物PMMA，折射率n1为1.5，所述柔性基体层的材质为透明聚合物薄膜PET，折射率n2为1.65，所述准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛。所述准直膜采用传统激光打孔方式(如图5所示)打出一个个准直孔43B，微透镜主光轴40与准直孔43B中心位置存在对位偏差，从激光器定位原点O朝一个方向逐个打孔，第一个孔的对位偏差为Δ1，第n个孔的对位偏差为Δn，Δn-1<Δn(n为大于2的自然数)，存在n使对位偏差Δ超过1μm甚至更大。透光系数k很容易下降，甚至会低于0.6，达到“差”的评价水平。
实施例1
如图6所示为本发明提供的准直膜，包括准直透镜层41、柔性基体层42和准直孔层43，准直透镜层置于基体的上表面，准直孔层置于基体的下表面，所述准直透镜层41包含微透镜阵列41A和肉厚41B，所述准直孔层43包含遮光介质43A和介质镂空后形成的准直孔阵列(由一定数量准直孔43B构成)；所述柔性基体层的厚度T为25μm。所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列(如图8所示)。所述微透镜的主光轴最小间距P为18μm，曲率半径R为12.6μm，准直透镜层厚度H为8.5μm，所述准直孔层的厚度t为2μm,准直孔直径Φ为4μm。所述准直透镜层的微透镜阵列与肉厚的材质均为透明聚合物PMMA，折射率n1为1.5，所述柔性基体层的材质为透明聚合物薄膜PET，折射率n2为1.65，所述准直孔层的遮光介质43A为无机镀层碳化钛。所述准直膜采用微聚焦法打孔方式(如图4所示)打出准直孔43B，准直孔阵列与微透镜阵列的分布完全一致，任意准直孔的圆心均在相应微透镜主光轴40上，一对一高精度对准，准直孔的圆心与相对应的微透镜的主光轴的对位偏差Δ为0.47μm，<1μm。打孔时激光恰恰微聚焦在PET下表面，光斑直径D为1.7μm，最小挡光角度θ为7.5°，透光系数k为0.98，整体上与对比例1性能优势明显。
实际上，准直透镜结构参数组合并非局限上述实施例：针对同样准直滤光效果，可以根据准直透镜层的材质、折射率、柔性基体层的材质、折射率做各种各样的改变，例如相应改变P、R、H、Φ、t等；针对同样厚度t准直孔的遮光效果，可以对遮光介质做各种各样的改变，例如改变有机涂料、无机镀层的种类、组合、甚至比例等。
按照下述方式评价本发明提供的准直膜的性能。
(A)挡光性能
准直膜的最终重要的性能指标是挡住杂光的能力，一般用所能挡住斜射光的最小角度来评价。当准直膜各项参数确定时，可以通过常规光学模拟软件(Light tools、ZeMax、Tracepro等)，或是理论计算得出能完全遮挡住斜射光的最小角度θ。如图10所示准直膜最小角度测试过程，本发明根据θ的大小(精确到0.5°)，将挡光性能进行了5个等级的划分，依次对应关系为：极优：0°≤θ<5°、优：5°≤θ<7.5°、良：7.5°≤θ<10°、中：10°≤θ<15°)、差：θ≥15°。
(B)透光性能
准直膜另一重要的性能指标是透过信号光的能力。用垂直准直光源入射可以检验准直孔和微透镜之间的对位精度：当对齐程度足够高时，光斑始终在准直孔直径范围中，此时透光性能最好，透过率最大(利用光学模拟或激光头高精度条件下的标准样测试得到，一般在90％附近)；当对位误差增加时透过率会不断衰减；由于准直孔数量非常大，用该方式可以在宏观条件下测试出透过率变化，以此来比较对齐程度。本发明将测试所得的透过率与最高透过率(最高透过率指微透镜的主光轴与对应的准直孔的中心线完全重合的情况下测得的光透过率)的比值定义为透光系数k，对齐程度足够高时为1。本发明根据k的大小，将透光性能进行了5个等级的划分，依次对应关系为：极优：1≥k>0.95、优：0.95≥k>0.9、良：0.9≥k>0.8、中：0.8≥k>0.6、差：k≤0.6。
显然，上述两个性能对于准直膜都是至关重要的：k越大，信号越强；θ越小，噪音越少；两个参数都对加强图像识别信噪比(SNR)有极大的帮助。
实施例2-24
如实施例1提供的准直膜，所述准直膜中的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表1所列。
表1实施例1～24的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000211
Figure GDA0002996894430000221
注1：P为微透镜的主光轴最小间距，单位μm；R为微透镜的曲率半径，单位μm；H为准直透镜层厚度，单位μm；n1为准直透镜层的折射率，无量纲单位；T为柔性基体层的厚度，单位μm；n2为柔性基体层的折射率，无量纲单位；D为经过微透镜聚焦后在柔性基体层下表面形成的光斑直径，单位μm；t为准直孔层的厚度，单位μm；Φ为准直孔的直径，单位μm；θ为准直膜可以滤掉的最小斜射光角度，用以衡量准直滤光效果，单位°；k为准直膜实际透过率与最高透过率的比值，用以衡量准直孔与微透镜的对位精度。
如表1所示，为25μm厚度的柔性基底层上不同P值设计相对较优的实施例。当P值分别为10、15、18、20、25、30μm时，各有四个实施例对应。可以发现，当P值和其他条件不变时，增加R值时，会让透镜变浅(指肉厚层的高度增加；而透镜的拱高，即透镜顶点至肉厚层上表面的高度变小)，焦距变远，遮光层上微聚焦的光斑变大，因此还需配合H的增加，使焦点回归到遮光层上，光斑缩小，R、H的配合变化，可以让微聚焦光斑直径D不断缩小，最小挡光角θ逐渐降低，挡光性能提升。针对透光性能，光斑直径D越接近开孔(准直孔)直径Φ时，对位偏差Δ对透光率影响越大，稍有偏离，就会产生信号光的损失，而D相对Φ较小时，对位偏差的影响就小，无论向哪个方向移动都仍在孔内。本发明提供的实施例1-24都固定开孔直径Φ为4μm，除了实施例21～23中D和Φ比较接近外，其他实施例均保持一定的差异，透光系数k大于0.9。总体而言，实施例1-24绝大部分都可以达到挡光性能和透光性能双优以上的水准，是基于25μm厚度柔性基底的较优实施效果。
实施例25-30
如实施例1提供的准直膜，所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表2所列。
表2实施例25～30的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000222
Figure GDA0002996894430000231
注1同表1。
如表2所示，为不同柔性基体厚度的实施例25～30。实施例25～27分别为P＝10μm，其他参数不变的条件下，T＝10、15、20μm的一组准直膜，实施例28～30分别为P＝25μm，其他参数不变的条件下，T＝25、38、50μm的另一组准直膜。当T不断增加时，为保持微聚焦效果(焦点始终落在基体下表面与遮光层附近且光斑尽量缩小)，微透镜结构显然需要变浅，即固定P值和折射率搭配的情况下，R值增加，H变低(相比于表1实施例的差异，焦距设计已经随着T的增加进行适配，因而H不需要增加，反而是下降的)。可以发现，其他条件不变时，厚度T增加，有助于结构变浅，光斑D缩小，最小挡光角θ降低，挡光性能提升，且透光系数也进一步提升。因此，在厚度能允许的范围里(超薄应用越来越普遍，太厚也是不允许的)，用相对较厚的基体，对准直膜的性能提高是有帮助的，符合大长径比的准直膜性能更优的原理(如图3所示原理)。综合上述，本发明中T选自10～50μm，进一步优选为25～38μm。
实施例31-40
如实施例1提供的准直膜，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表3所列。
表3实施例31～40的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000232
Figure GDA0002996894430000241
注1同表1。
如表3所示，对比实施例31～36可以发现，当其他条件不变，P值不断增大时，R值变大，若保持原深宽比，按照相似原则，焦距会变远，因而H变大。即便能控制焦距，但仍无法防止光斑半径D以及θ增加，相同开孔直径下，k也会因此下降。因此，总体而言，P值变大是不利于准直膜性能的，这也符合大长径比的准直膜性能更优的原理(如图3所示原理)。此外，对比实施例37与33，38与34，39与35，当光斑D足够小时，可以通过调整激光能量使开孔直径Φ减小，并不一定局限一个固定值，可以发现开孔直径降低后可以进一步提高挡光性能，但透光效果会有所降低。实施例40的P值为50μm，相应的R和H都较大，整体而言对于本发明的准直膜而言，微透镜尺寸已经达到设计上限，包括光斑直径D也较大(D特别小，尤其是小于0.5μm也并不好，容易造成单点能量过高，烧伤基体)导致开孔直径Φ达到上限8μm，同时最小挡光角θ为12度也较大，挡光性能并不算太好。综合上述，本发明中P选自10～50μm，优选为15～30μm，进一步优选为18～25μm。Φ选自1～10μm(10μm来自实施例47)，进一步优选为3～5μm。D选自0.1～7.8μm，优选为0.5～4.9μm，进一步优选为1～2μm。
实施例41-47
如实施例1提供的准直膜，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表4所列。
表4实施例41～47的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000242
Figure GDA0002996894430000251
注1同表1。
如表4所示，为不同准直孔层厚度t的实施例41～47。对比第一组实施例41～44或对比第二组实施例45～47可知，在其他条件不变时，增加t有助于提高挡光性能，t太薄并非优选值。由于激光打孔一般会形成较小深宽比的空洞，因而开孔直径往往比t要大一些，因此实际上当t太厚时，会导致开孔直径过大(如第二组实施例)反而逐渐降低挡光性能。本发明中t选自0.5～7μm，优选为1～5μm，进一步优选为2～3μm。
实施例48-57
如实施例1提供的准直膜，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，所述准直透镜层41的材质为PMMA，进一步的，由光固化丙烯酸树脂聚合而成，折射率n1从1.4～1.6可调，当n2＝1.65时，柔性基体层42的材质为PET，当n2＝1.5时，柔性基体层42的材质为COP，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表5所列。
表5实施例48～57的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000252
注1同表1。
如表5所示，为不同折射率搭配的实施例48～57。对比第一组实施例48～52可知，在其他条件不变时：1.增加n1(对比实施例50、48、49或对比实施例51、52)有助于缩小光斑D，降低θ并提高挡光性能，n1＝1.6时最佳，n1＝1.4时最差；2.降低n2(实施例51、52与实施例48、49对比)同样有效。对比第二组实施例53～57，折射率影响的规律仍相同，然由于第二组结构较浅，性能本就足够优异，因此影响并没有那么大。对于n1而言，太高或太低折射率的成型材料选择面会比较窄，而对于n2而言，更多的是考虑柔性基体本身的物理性能和透光率等性能，而折射率仅用于准确设计结构而已。因此，本发明中n1选自1.4～1.6，优选为1.5。n2选自1.5～1.65，依据材料差异，不做优选。
实施例58
如实施例48提供的准直膜，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正方形紧密排列(如图7所示)，所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表6所列。
表6实施例48、58的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000261
注1同表1。
从表6可知，当其他参数不变时，微透镜的分布方式从正三角形改为正方形，依然可以通过R、H的搭配设计，获得一款准直膜。但准直膜的性能相对于正三角形的分布稍差。主要原因是因为正方形分布没有正三角形致密，对角线与P之间的比值，正方形更大，因而相同P值，正方形排布的球冠显得更凸一些，从而导致光斑更散，D更大，同时θ上升，挡光效果变差，D变大又同时导致透光性能变差。当然，正方形排布并非不可取，为达到相同效果，需要设计更小的P值即可。本发明不再赘述更多正方形分布的实施例，正方形分布始终在本发明的保护范围内。
实施例59-80
如实施例53～57提供的准直膜，所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列，准直透镜层微透镜的主光轴最小间距P为20μm，曲率半径R为18.3μm，准直透镜层总厚4.1μm，柔性基体层厚度50μm，准直孔层厚度为2μm，准直孔直径Φ为4μm，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，微透镜与准直孔对位误差Δ均<1μm。挡光角度θ均小于5°，挡光性能极优，透光系数k均大于0.95，透光性能极优。所述准直透镜层的材质、柔性基体层的材质以及准直孔层遮光介质的材质如表7所列，准直透镜层折射率n1和柔性基体层折射率n2依据材质，依材质而异，且允许±0.02同材质不同工艺造成的误差，表中不再列出。
表7实施例59～80的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000271
Figure GDA0002996894430000281
注1同表1。
注2：对于准直透镜层同种材质，成型方式不限于光固化、热固化、注塑、热压等。
如表7所示，比较实施例59～80可知，改变材质前后，若材质的折射率相同或接近，对准直膜的性能影响不会太大。
实施例81-86
如实施例24提供的准直膜，其横截面如图6所示，立体图如图13所示。所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形(不是正三角形)。所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围(Pm±0.5A)内无序变化，其中，中值Pm，变化量A如表8所列。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表8所列。
表8实施例24和实施例81-86的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000282
注1：P为互相交叠的两个微透镜的主光轴间距，P取值范围为Pm±0.5A，单位μm；Pm为P的取值范围中的最大值与最小值的平均值，称为中值，A为P的取值范围中的最大值与最小值的差，称为变化量，单位μm；R为微透镜的曲率半径，单位μm；H为准直透镜层厚度(或称高度)，单位μm；n1为准直透镜层的折射率，无量纲单位；T为柔性基体层的厚度，单位μm；n2为柔性基体层的折射率，无量纲单位；D为经过微透镜聚焦后在柔性基体层下表面形成的光斑直径，单位μm；t为准直孔层的厚度，单位μm；Φ为准直孔的直径，单位μm；θ为准直膜可以滤掉的最小斜射光角度，用以衡量准直滤光效果，单位°；k为准直膜实际透过率与最高透过率的比值，用以衡量准直孔与微透镜的对位精度
注2：实施例24的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列；实施例81～86的准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，紧密排列；
从表8可知，当其他参数不变时，准直膜从固定P值，变成无序变化的P值，基本不影响性能。A值为变化量，选自1～10μm，优选为2～6μm。当A太小时，减干涉效果不明显，当A太大时，阵列形态变得不好控制，重现性差，且有较多因距离太远所导致的漏光区域出现。
实施例87-92
如实施例4提供的准直膜，其横截面如图6所示，立体图如图13所示。所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形(不是正三角形)。所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围(Pm±0.5A)内无序变化，其中，中值Pm，变化量A如表9所列。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛，所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表9所列。
表9实施例4和实施例87-92的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000291
注1同表8；
注2：实施例4的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列；实施例87～92的准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，紧密排列；
从表9可知，当其他参数不变时，准直膜从固定18μm的P值，变成无序变化(最窄17.5～18.5μm范围内，最宽13～23μm范围内无序变化)的P值，基本不影响性能。A值为变化量，选自1～10μm，优选为2～6μm。当A太小时，减干涉效果不明显，当A太大时，阵列形态变得不好控制，重现性差，且有较多因距离太远所导致的漏光区域出现。
实施例93-102
如实施例93～102提供的准直膜，其横截面如图19所示。所述准直膜中准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，且微透镜紧密排列互相交叠(如图12所示，任意三个互相交叠的微透镜的主光轴坐标连接成普通三角形。所述互相交叠的两个微透镜的主光轴间距P在一定取值范围(Pm±0.5A)内无序变化，其中，中值Pm为18μm或15μm，变化量A为4μm，即P的取值范围为18±2μm或15±2μm，其他参数如表10所列。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为无机镀层碳化钛。所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数如表10所列。实施例93～99的贴合胶层44为固态OCA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例100的贴合胶层44为高透PSA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例101的贴合胶层44为固态OCA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系；实施例102的贴合胶层44为高透PSA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系。
表10实施例93～102的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000301
Figure GDA0002996894430000311
注1同表8；
注2：实施例93～102的准直透镜阵列与准直孔阵列均为无序阵列，紧密排列；
注3：T2为贴合胶层的厚度，单位μm；
从表10实施例93～98可知，当减干涉准直膜的三层核心结构(41、42、43)的参数不变时，贴合胶层(44)的厚度不影响光学准直性能(挡光性能和透光性能)。但厚度T2太小时，会导致贴合不紧密(无论信赖性前后)，太大时仍会导致信号光损失或串扰。特别是，当厚度T2的值增加到一定临界值时，需要搭配微透镜结构更浅，长径比更大的准直膜，如实施例98和实施例99，采用了50μm厚度的柔性基体层(若仍采用25μm厚度，就会发生问题)以及2.4μm的H。对比实施例97、100～102可知，当减干涉准直膜的三层核心结构(41、42、43)的参数不变时，贴合胶层(44)的材质不影响光学准直性能。
应当理解，本发明中的任何一例有序准直膜都可以让P值进行一定程度的无序变化，获得新的无序准直膜，因此无序准直膜中的Pm值与有序准直膜中的P值，均选自10～50μm，优选为15～30μm，进一步优选为18～25μm。本发明仅以实施例24进行无序优化，不再列举更多实施例进行赘述，但这不影响本发明提供的无序准直膜的专利范围。
对比例2～3
如实施例93提供的贴合型准直膜，其横截面如图19所示，包括准直透镜层41、柔性基体层42、准直孔层43和贴合胶层44，准直透镜层41置于基体42的上表面，准直孔层43置于基体42的下表面，所述准直透镜层41包含微透镜阵列41A和肉厚41B，所述准直孔层43包含遮光介质43A和介质镂空后形成的准直孔阵列，所述准直孔阵列由一定数量准直孔43B构成，所述准直孔层下表面与贴合胶层44贴合在一起；所述柔性基体层42的厚度T为38μm。所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列(如图8所示)。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43A为有机涂层黑色油墨，贴合胶层44为固态OCA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系。所述准直膜采用微透镜打孔方式打出准直孔43B，所述其他各项参数以及光学性能如表11所列。
实施例103-118
实施例103-118提供一种封孔贴合型准直膜，其横截面如图23所示，包括准直透镜层41、柔性基体层42、准直孔层43和贴合胶层44，准直透镜层41置于基体42的上表面，准直孔层43置于基体42的下表面，所述准直透镜层41包含微透镜阵列41A和肉厚41B，所述准直孔层43为准直通路层，包含遮光介质43E和柱状准直通路阵列，准直孔层43下表面与贴合胶层44贴合在一起；所述柔性基体层42的厚度T为38μm。所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为正三角形紧密排列(如图8所示)。所述准直透镜层41的材质为PMMA，柔性基体层42的材质为PET，准直孔层43的遮光介质43E为黑色负性光阻，准直孔层43的柱状准直通路阵列43D为透明负性光阻。所述准直膜采用微透镜聚焦的方式曝光固化制备柱状准直通路阵列，所述其他各项参数以及光学性能如表11所列。实施例103～115的贴合胶层44为固态OCA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例116的贴合胶层44为高透PSA，材质为热固化聚丙烯酸酯体系；实施例117的贴合胶层44为固态OCA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系；实施例118的贴合胶层44为高透PSA，材质为光固化聚丙烯酸酯体系。实施例103～108的透明负性光阻为聚乙烯醇肉桂酸酯，黑色吸光物质为炭单质，实施例109～112的透明负性光阻为环化橡胶-双叠氮体系，黑色吸光物质为炭单质，实施例113～115的透明负性光阻为聚乙烯醇肉桂酸酯，黑色吸光物质分别为碳化物、碳氮化物、硫化物。
表11对比例2～3、实施例103～118的设计参数和光学性能
Figure GDA0002996894430000321
Figure GDA0002996894430000331
注1同表8；
注2：实施例103～118的准直透镜阵列与准直孔阵列均为有序阵列，正三角形紧密排列；
注3：T2为贴合胶层的厚度，单位μm；ΔSNR为信噪比信赖性前后变化(初始值一般校到10左右，即信号为串扰的10倍)，SNR降低即ΔSNR为负，意味着成像性能变差，反之亦然；
注4：信赖性条件一般为双85(85℃&85％RH)500小时；
从表11对比例2、3与实施例103、104的对比可知，当准直孔为空心孔时，信赖性之后的SNR下降较大，而为实心柱时(准直通路)下降明显减小，成像性能下降得到明显缓解。对比实施例104～108可知，贴合胶层的厚度对信赖性后的成像效果影响不大。对比实施例105～108与109～112可知，透明负性光阻的体系选择影响不大。对比实施例104与113～115可知，黑色吸光物质的材质选择影响不大。对比实施例104与116～118可知，贴合胶层的材质影响不大。应当理解，本发明并未对准直膜层的微透镜阵列进行限定，上述实施例的准直膜层同样可以更换为减干涉准直膜层。
应当注意，以上所述，仅为本发明的几种典型的实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。

Claims (3)

1.一种封孔贴合型准直膜，其特征在于，所述封孔贴合型准直膜包括准直透镜层、柔性基体层、一层准直孔层和贴合胶层；所述准直透镜层包含微透镜阵列和肉厚；所述准直孔层为准直通路层，所述准直通路层包含柱状准直通路阵列和遮光介质，所述柱状准直通路分布在遮光介质中；所述柱状准直通路阵列为单层的透明负性光阻层；所述透明负性光阻选自聚乙烯醇肉桂酸酯或环化橡胶-双叠氮体系；
所述准直膜的准直透镜阵列与准直孔阵列均为有序排列，为正三角形紧密排列，所述准直透镜层的材质为PMMA，柔性基体层的材质为PET，准直孔层的遮光介质为黑色负性光阻；
P为微透镜的主光轴最小间距，为30μm；R为微透镜的曲率半径，为19.3μm；H为准直透镜层厚度，为10.8μm；n1为准直透镜层的折射率，为1.5；T为柔性基体层的厚度，为38μm；n2为柔性基体层的折射率，为1.65；D为经过微透镜聚焦后在柔性基体层下表面形成的光斑直径，为3.6μm；t为准直孔层的厚度，为5-7μm；Φ为准直孔的直径，为3.0-5.0μm；T2为贴合胶层的厚度，为5～50μm。
2.一种根据权利要求1所述的封孔贴合型准直膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：
(1)在柔性基体层上表面制备出准直透镜层；
(2)在柔性基体层下表面涂布透明负性光阻，采用微聚焦法曝光透明负性光阻，使透明负性光阻固化形成柱状准直通路，洗掉未曝光区域，形成准直通路阵列；
(3)在柔性基体层下表面，准直通路阵列周围涂布黑色负性光阻，形成遮光介质。
3.一种图像识别模组，其特征在于，所述图像识别模组依次包括准直层、滤光层和光电感应层；所述准直层为权利要求1所述的封孔贴合型准直膜。
CN202011529920.4A 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法 Active CN113376851B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010111523 2020-02-24
CN2020101115239 2020-02-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113376851A CN113376851A (zh) 2021-09-10
CN113376851B true CN113376851B (zh) 2023-04-07

Family

ID=73248380

Family Applications (19)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202020206263.9U Active CN211857087U (zh) 2020-02-24 2020-02-25 一种减干涉准直膜
CN202010116381.5A Pending CN113296277A (zh) 2020-02-24 2020-02-25 一种准直膜、及一种减干涉准直膜及其制备方法
CN202010123030.7A Active CN113296278B (zh) 2020-02-24 2020-02-27 减干涉准直膜、贴合型准直膜、图像识别模组及制备方法
CN202010179964.2A Active CN113296279B (zh) 2020-02-24 2020-03-16 减干涉准直膜及制备方法、贴合型准直膜、图像识别模组
CN202010210996.4A Active CN113296280B (zh) 2020-02-24 2020-03-24 减干涉准直膜及制备方法、贴合型准直膜、图像识别模组
CN202010222563.0A Pending CN113296281A (zh) 2020-02-24 2020-03-26 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202010977879.0A Active CN113296169B (zh) 2020-02-24 2020-09-17 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202011530184.4A Active CN113296282B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种封孔贴合型准直膜及其制备方法及一种图像识别模组
CN202011528176.6A Active CN113376848B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202011529692.0A Active CN113376850B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜及一种封孔贴合型准直膜
CN202011527309.8A Active CN113376847B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202011529343.9A Active CN113376849B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜及一种封孔贴合型准直膜
CN202011529920.4A Active CN113376851B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法
CN202110203533.XA Active CN113376718B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜及其制备方法、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202110204285.0A Active CN113296172B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种全贴合准直膜及一种图像识别模组
CN202110204803.9A Active CN113296174B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种全贴合准直膜、及一种图像识别模组
CN202110203646.XA Active CN113296171B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜、一种防阳光准直膜、一种减干涉准直膜及一种图像识别模组
CN202110203642.1A Active CN113296170B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种防阳光准直膜及一种图像识别模组
CN202110204323.2A Active CN113296173B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组

Family Applications Before (12)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202020206263.9U Active CN211857087U (zh) 2020-02-24 2020-02-25 一种减干涉准直膜
CN202010116381.5A Pending CN113296277A (zh) 2020-02-24 2020-02-25 一种准直膜、及一种减干涉准直膜及其制备方法
CN202010123030.7A Active CN113296278B (zh) 2020-02-24 2020-02-27 减干涉准直膜、贴合型准直膜、图像识别模组及制备方法
CN202010179964.2A Active CN113296279B (zh) 2020-02-24 2020-03-16 减干涉准直膜及制备方法、贴合型准直膜、图像识别模组
CN202010210996.4A Active CN113296280B (zh) 2020-02-24 2020-03-24 减干涉准直膜及制备方法、贴合型准直膜、图像识别模组
CN202010222563.0A Pending CN113296281A (zh) 2020-02-24 2020-03-26 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202010977879.0A Active CN113296169B (zh) 2020-02-24 2020-09-17 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202011530184.4A Active CN113296282B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种封孔贴合型准直膜及其制备方法及一种图像识别模组
CN202011528176.6A Active CN113376848B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202011529692.0A Active CN113376850B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜及一种封孔贴合型准直膜
CN202011527309.8A Active CN113376847B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202011529343.9A Active CN113376849B (zh) 2020-02-24 2020-12-22 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜及一种封孔贴合型准直膜

Family Applications After (6)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110203533.XA Active CN113376718B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜及其制备方法、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN202110204285.0A Active CN113296172B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种全贴合准直膜及一种图像识别模组
CN202110204803.9A Active CN113296174B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种全贴合准直膜、及一种图像识别模组
CN202110203646.XA Active CN113296171B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜、一种防阳光准直膜、一种减干涉准直膜及一种图像识别模组
CN202110203642.1A Active CN113296170B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种防阳光准直膜及一种图像识别模组
CN202110204323.2A Active CN113296173B (zh) 2020-02-24 2021-02-23 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组

Country Status (2)

Country Link
CN (19) CN211857087U (zh)
WO (1) WO2021169726A1 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN211857087U (zh) * 2020-02-24 2020-11-03 宁波激智科技股份有限公司 一种减干涉准直膜
WO2021169725A1 (zh) * 2020-02-24 2021-09-02 宁波激智科技股份有限公司 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
WO2022188161A1 (zh) * 2021-03-12 2022-09-15 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN114002769A (zh) * 2021-10-20 2022-02-01 武汉华星光电技术有限公司 滤光准直复合膜及其制造方法、显示装置
WO2023111738A1 (en) * 2021-12-14 2023-06-22 3M Innovative Properties Company Optical construction including lens film and mask layer
WO2023214197A1 (zh) * 2022-05-02 2023-11-09 刘正锋 应用光学新理论提升光学仪器分辨能力的方法及装置

Family Cites Families (137)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3704949A (en) * 1970-06-22 1972-12-05 Rms Ind Inc Method and apparatus for personal identification
CA2056842A1 (en) * 1991-02-07 1992-08-08 Jay M. Eastman System for scanning and reading symbols, such as bar codes, which is adapted to be configured in a hand held unit and can automatically read symbols on objects which are placed inthe detection zone of the unit
CA2083969A1 (en) * 1991-12-31 1993-07-01 Leslie James Button Measurement of fiber diameters and detection of defects
US5479275A (en) * 1993-12-03 1995-12-26 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Backlit liquid crystal display with integral collimating, refracting, and reflecting means which refracts and collimates light from a first light source and reflects light from a second light source
JP3239314B2 (ja) * 1994-09-16 2001-12-17 日本板硝子株式会社 平板レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子
JPH1039108A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Toray Ind Inc マイクロレンズアレイシートの製造方法
US5822125A (en) * 1996-12-20 1998-10-13 Eastman Kodak Company Lenslet array system
AU1357102A (en) * 1998-03-23 2002-03-14 Cepheid Multi-site reactor system with dynamic independent control of indvidual reaction sites
US6487017B1 (en) * 1999-07-23 2002-11-26 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration, Inc Trimodal microlens
US6168319B1 (en) * 1999-08-05 2001-01-02 Corning Incorporated System and method for aligning optical fiber collimators
US6847491B1 (en) * 1999-09-27 2005-01-25 Arrayed Fiberoptics Corporation Hybrid microlens array
JP2001201611A (ja) * 2000-01-21 2001-07-27 Hitachi Ltd 光学的機能性シート及びこれを用いた面状光源並びに画像表示装置
US6876408B2 (en) * 2000-02-14 2005-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Collimating plate, lighting apparatus and liquid crystal display apparatus
JP2002049326A (ja) * 2000-08-02 2002-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平面光源およびそれを用いた表示素子
GB0030410D0 (en) * 2000-12-13 2001-01-24 Screen Technology Ltd Collimator
JP2002313121A (ja) * 2001-04-16 2002-10-25 Nitto Denko Corp タッチパネル付照明装置及び反射型液晶表示装置
WO2003048856A1 (fr) * 2001-12-03 2003-06-12 Toppan Printing Co., Ltd. Feuille de mosaique de lentilles, ecran de transmission et afficheur de type retroprojecteur
US6939014B1 (en) * 2001-12-31 2005-09-06 Jenmar Visual Systems, Inc. Liquid transmissive filter having anisotropic properties and method of fabrication
JP3900982B2 (ja) * 2002-03-25 2007-04-04 凸版印刷株式会社 透過型スクリーン
CA2485602C (en) * 2002-05-14 2013-10-01 Amersham Biosciences Niagara, Inc. System and methods for rapid and automated screening of cells
AU2002341789A1 (en) * 2002-09-19 2004-04-08 Rainbow Displays, Inc. Backlight assembly for collimated illumination
US6859326B2 (en) * 2002-09-20 2005-02-22 Corning Incorporated Random microlens array for optical beam shaping and homogenization
AU2003902319A0 (en) * 2003-05-14 2003-05-29 Garrett Thermal Systems Limited Laser video detector
DE102004020250A1 (de) * 2004-04-26 2005-11-10 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg Vorrichtung und Verfahren zur optischen Strahlhomogenisierung
JP4513653B2 (ja) * 2004-12-27 2010-07-28 日本ビクター株式会社 マイクロレンズアレイシートの製造方法
EP1715361B1 (en) * 2005-04-19 2015-02-25 Deutsches Krebsforschungszentrum Stiftung des öffentlichen Rechts Dual-modality imaging using a PET scanner and an optical detector
WO2007002797A2 (en) * 2005-06-29 2007-01-04 Reflexite Corporation Method and apparatus for aperture sculpting in a microlens array film
GB0601287D0 (en) * 2006-01-23 2006-03-01 Ocuity Ltd Printed image display apparatus
TW200809327A (en) * 2006-04-19 2008-02-16 3M Innovative Properties Co Transflective LC display having narrow band backlight and spectrally notched transflector
JP4863112B2 (ja) * 2006-09-15 2012-01-25 Ｎｌｔテクノロジー株式会社 光学素子アレイ、表示装置、ならびに表示装置の製造方法
WO2008039912A2 (en) * 2006-09-27 2008-04-03 Evident Technologies Retro-emission systems comprising microlens arrays and luminescent emitters
JP4384214B2 (ja) * 2007-09-27 2009-12-16 株式会社 日立ディスプレイズ 面発光素子，画像表示素子及びそれを用いた画像表示装置
JP5405763B2 (ja) * 2008-03-28 2014-02-05 日東電工株式会社 指向性拡散フィルム、偏光板、液晶表示装置および指向性拡散フィルムの製造方法
CN101544468B (zh) * 2008-03-28 2013-05-01 Hoya株式会社 氟磷酸玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件坯料、光学元件以及它们的制造方法
JP5610254B2 (ja) * 2008-06-18 2014-10-22 株式会社リコー 撮像装置及び路面状態判別方法
JP5298695B2 (ja) * 2008-08-06 2013-09-25 コニカミノルタ株式会社 光学ガラス及び光学素子
JP5114348B2 (ja) * 2008-09-08 2013-01-09 日東電工株式会社 光拡散フィルムの製造方法
JP5509566B2 (ja) * 2008-10-01 2014-06-04 凸版印刷株式会社 光学部品、および液晶ディスプレイユニット
EP2237079B1 (de) * 2009-04-03 2013-05-29 Innovavent GmbH Vorrichtung zum Homogenisieren kohärenter Strahlung
WO2010124028A2 (en) * 2009-04-21 2010-10-28 Vasylyev Sergiy V Light collection and illumination systems employing planar waveguide
KR101116140B1 (ko) * 2009-07-16 2012-03-06 엘지이노텍 주식회사 규칙 패턴 광학 시트
CN102026478A (zh) * 2009-09-21 2011-04-20 欣兴电子股份有限公司 线路板的基材及其钻孔方法
CN101674517B (zh) * 2009-09-25 2012-08-29 广东长虹电子有限公司 一种发声装置
JP4968965B2 (ja) * 2009-11-18 2012-07-04 キヤノン株式会社 屈折率分布の計測方法および計測装置
CN101794962B (zh) * 2010-03-10 2013-08-28 中国科学院光电技术研究所 一种自适应高阶横模激光相干合成装置
CN101866029B (zh) * 2010-06-09 2011-09-21 宁波激智新材料科技有限公司 抗变形光学反射薄膜、液晶显示装置及led照明设备
KR20120007944A (ko) * 2010-07-15 2012-01-25 주식회사 엘지화학 광학 성능이 향상된 광학필름 및 이를 포함하는 백라이트 유닛
KR101211723B1 (ko) * 2010-09-20 2012-12-12 엘지이노텍 주식회사 광학용시트, 광학유닛 및 이를 적용한 조명장치
CN201876568U (zh) * 2010-09-25 2011-06-22 福州高意通讯有限公司 一种阵列准直器
JP6246592B2 (ja) * 2010-12-16 2017-12-13 ロッキード マーティン コーポレーション 画素レンズを有するコリメーティングディスプレイ
KR101265312B1 (ko) * 2011-03-15 2013-05-16 주식회사 엘지화학 마이크로 렌즈 어레이 시트 및 이를 포함하는 백라이트 유닛
GB201113324D0 (en) * 2011-08-02 2011-09-14 Cambridge Entpr Ltd Laser system and method for operating laser system
JP5310810B2 (ja) * 2011-08-27 2013-10-09 株式会社デンソー ヘッドアップディスプレイ装置
JP5966405B2 (ja) * 2012-02-14 2016-08-10 セイコーエプソン株式会社 光学フィルターデバイス、及び光学フィルターデバイスの製造方法
US9179982B2 (en) * 2012-03-20 2015-11-10 Varian Medical Systems, Inc. Method and system for automatic patient identification
WO2013146353A1 (ja) * 2012-03-28 2013-10-03 シャープ株式会社 光制御フィルム、表示装置、および光制御フィルムの製造方法
JP2014207253A (ja) * 2012-04-17 2014-10-30 キヤノン株式会社 イメージセンサおよび撮像装置
JP5673607B2 (ja) * 2012-05-30 2015-02-18 株式会社デンソー スクリーン部材及びヘッドアップディスプレイ装置
KR101960402B1 (ko) * 2012-08-03 2019-03-20 쑤저우 에스브이쥐 옵트로닉스 테크놀러지 컴퍼니 리미티드 컬러 다이나믹 증폭 보안 필름
AU2013101454B4 (en) * 2013-05-16 2014-05-22 Lumenco Llc Improved printing of security devices
CN110286484A (zh) * 2013-10-20 2019-09-27 Mtt创新公司 光场投影装置及方法
US9651718B2 (en) * 2014-01-27 2017-05-16 Forelux Inc. Photonic apparatus with periodic structures
JP6300029B2 (ja) * 2014-01-27 2018-03-28 ソニー株式会社 撮像素子、製造装置、製造方法
KR102105065B1 (ko) * 2014-05-13 2020-04-28 코에룩스 에스알엘 광원 및 태양광 모방 조명 시스템
JP2015227999A (ja) * 2014-06-02 2015-12-17 リコー光学株式会社 マイクロレンズアレイ基板及びその製造方法
CN105445833A (zh) * 2014-08-21 2016-03-30 万维云视（上海）数码科技有限公司 一种3d成像光栅组件及3d显示装置
US9534156B2 (en) * 2014-09-17 2017-01-03 Appvion, Inc. Linerless record material
CN104457600B (zh) * 2014-11-20 2017-02-22 华中科技大学 一种光纤准直器阵列的测试装置
JP6697849B2 (ja) * 2015-01-21 2020-05-27 ソニー株式会社 ウェアラブルディスプレイ装置および画像表示方法
US10181070B2 (en) * 2015-02-02 2019-01-15 Synaptics Incorporated Low profile illumination in an optical fingerprint sensor
US9829614B2 (en) * 2015-02-02 2017-11-28 Synaptics Incorporated Optical sensor using collimator
US10147757B2 (en) * 2015-02-02 2018-12-04 Synaptics Incorporated Image sensor structures for fingerprint sensing
CN104570369B (zh) * 2015-02-05 2017-03-15 合肥京东方光电科技有限公司 3d显示眼镜
US9851577B2 (en) * 2015-07-17 2017-12-26 Dicon Fiberoptics, Inc. Nano-structured lens for collimating light from surface emitters
CN105092117B (zh) * 2015-08-19 2017-06-09 东南大学 一种压阻式压力传感器及其制备方法
CN105137644B (zh) * 2015-09-23 2018-08-10 宁波激智科技股份有限公司 一种减干涉光学增亮膜
AT517885B1 (de) * 2015-10-23 2018-08-15 Zkw Group Gmbh Mikroprojektions-Lichtmodul für einen Kraftfahrzeugscheinwerfer zur Erzeugung von abbildungsfehlerfreien Lichtverteilungen
CN105372726A (zh) * 2015-12-14 2016-03-02 中山大学 一种金刚石微透镜阵列及其制备方法
CN106199788A (zh) * 2016-01-12 2016-12-07 宁波激智科技股份有限公司 一种光学增亮膜及其制备方法
CN106199790A (zh) * 2016-01-12 2016-12-07 宁波激智科技股份有限公司 一种复合光学增亮膜
US10229316B2 (en) * 2016-01-29 2019-03-12 Synaptics Incorporated Compound collimating system using apertures and collimators
CN105809115B (zh) * 2016-03-02 2019-07-30 上海师范大学 一种双通道多指纹光学加密方法
US10108841B2 (en) * 2016-03-31 2018-10-23 Synaptics Incorporated Biometric sensor with diverging optical element
AU2016100402B4 (en) * 2016-04-13 2017-08-17 Ccl Secure Pty Ltd Micro-optic device with integrated focusing element and image element structure
AU2016100401B4 (en) * 2016-04-13 2017-02-09 Ccl Secure Pty Ltd Micro-optic device with double sided optical effect
CN105959672B (zh) * 2016-05-03 2017-12-22 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 基于主动发光型显示技术的裸眼三维显示装置
US11009631B2 (en) * 2016-05-25 2021-05-18 Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. Microlens array diffusers
CN105868742B (zh) * 2016-05-26 2020-07-03 京东方科技集团股份有限公司 显示组件和显示装置
CN106019613B (zh) * 2016-07-27 2019-03-26 广州弥德科技有限公司 一种指向性背光立体显示装置
JP6818468B2 (ja) * 2016-08-25 2021-01-20 キヤノン株式会社 光電変換装置及びカメラ
US10203431B2 (en) * 2016-09-28 2019-02-12 Ricoh Company, Ltd. Microlens array, image display apparatus, object apparatus, and mold
US10948734B2 (en) * 2016-10-28 2021-03-16 3M Innovative Properties Company Light control film with varied viewing angle
CN108174059B (zh) * 2016-12-08 2021-04-13 松下知识产权经营株式会社 摄像装置
CN106815554B (zh) * 2016-12-19 2024-03-12 王金玉 内指纹快速成像和生物识别系统和方法
EP3343619A1 (en) * 2016-12-29 2018-07-04 Thomson Licensing An image sensor comprising at least one sensing unit with light guiding means
CN106773550B (zh) * 2017-01-20 2018-12-14 苏州亿拓光电科技有限公司 光学加工系统和方法
CN108399352A (zh) * 2017-02-04 2018-08-14 上海箩箕技术有限公司 指纹成像模组和电子设备
CN106842398A (zh) * 2017-02-23 2017-06-13 宁波视睿迪光电有限公司 光栅膜、立体显示装置及对位方法
CN106886767B (zh) * 2017-02-23 2019-07-05 京东方科技集团股份有限公司 一种光学指纹识别装置和显示面板
CN107065307B (zh) * 2017-06-05 2019-12-27 京东方科技集团股份有限公司 一种光线准直结构、基板、背光模组和显示装置
CN109037248A (zh) * 2017-06-08 2018-12-18 上海箩箕技术有限公司 图像传感器及其形成方法、指纹成像模组
CN107346075A (zh) * 2017-07-31 2017-11-14 京东方科技集团股份有限公司 一种准直膜结构以及显示装置
CN107563318B (zh) * 2017-08-23 2020-09-08 上海天马微电子有限公司 一种显示装置和电子设备
CN107516089A (zh) * 2017-09-08 2017-12-26 北京眼神科技有限公司 一种指纹采集装置
TW201915818A (zh) * 2017-10-05 2019-04-16 香港商印芯科技股份有限公司 光學識別模組
US10809853B2 (en) * 2017-12-11 2020-10-20 Will Semiconductor (Shanghai) Co. Ltd. Optical sensor having apertures
CN209514111U (zh) * 2017-12-12 2019-10-18 宁波激智科技股份有限公司 一种背板组件用反光贴条
SE1751613A1 (en) * 2017-12-21 2019-06-22 Fingerprint Cards Ab Biometric imaging device and method for manufacturing the biometric imaging device
JP6770082B2 (ja) * 2018-02-06 2020-10-14 シェンチェン グディックス テクノロジー カンパニー，リミテッド アンダースクリーンバイオメトリクス認証装置、バイオメトリクス認証ユニット及び端末装置
EP3766003A4 (en) * 2018-03-15 2021-05-12 Fingerprint Cards AB BIOMETRIC IMAGING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING A BIOMETRIC IMAGING DEVICE
CN108647558B (zh) * 2018-03-21 2021-01-08 京东方科技集团股份有限公司 一种指纹识别显示设备
CN110502960B (zh) * 2018-05-17 2022-04-08 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、指纹识别面板、指纹识别方法及显示装置
CN110502955A (zh) * 2018-05-17 2019-11-26 京东方科技集团股份有限公司 指纹识别面板、指纹识别方法及显示装置
JP2019211530A (ja) * 2018-05-31 2019-12-12 ウシオ電機株式会社 光源装置、プロジェクタ
US10867198B2 (en) * 2018-07-03 2020-12-15 Gingy Technology Inc. Image capturing device and image capturing module
CN108897081A (zh) * 2018-07-23 2018-11-27 宁波激智科技股份有限公司 一种光学薄膜及其制备方法
KR20210042929A (ko) * 2018-08-15 2021-04-20 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 마이크로렌즈 어레이를 포함하는 광학 요소
EP3644222A4 (en) * 2018-08-24 2020-08-26 Shenzhen Goodix Technology Co., Ltd. BACKLIGHT MODULE, METHOD AND DEVICE FOR FINGERPRINT RECOGNITION UNDER A SCREEN AND ELECTRONIC DEVICE
CN209492257U (zh) * 2018-09-13 2019-10-15 东莞市赛越新材料科技有限公司 指纹解锁手机保护光固化膜
WO2020132974A1 (zh) * 2018-12-26 2020-07-02 深圳市汇顶科技股份有限公司 指纹识别装置和电子设备
CN110337655B (zh) * 2018-12-26 2023-05-05 深圳市汇顶科技股份有限公司 指纹识别装置和电子设备
CN109683377B (zh) * 2018-12-26 2021-10-26 宁波激智科技股份有限公司 一种高雾度粘合层组合物及一种高雾度高亮度复合增亮膜
CN109471267A (zh) * 2019-01-11 2019-03-15 珠海迈时光电科技有限公司 一种激光匀化器
CN211349383U (zh) * 2019-01-22 2020-08-25 深圳市汇顶科技股份有限公司 指纹识别的装置和电子设备
CN209357076U (zh) * 2019-01-23 2019-09-06 南昌欧菲生物识别技术有限公司 柔性准直器、指纹识别模组以及电子设备
EP3731133B8 (en) * 2019-03-12 2022-04-20 Shenzhen Goodix Technology Co., Ltd. Under-screen fingerprint recognition apparatus and electronic device
CN109829452B (zh) * 2019-03-26 2024-02-27 上海箩箕技术有限公司 光学指纹传感器模组及其形成方法
CN109901341B (zh) * 2019-04-10 2022-02-11 曲阜师范大学 基于宽带光纤准直器的分波前马赫-曾德干涉仪及方法
CN210038821U (zh) * 2019-04-10 2020-02-07 深圳市汇顶科技股份有限公司 光学指纹识别装置和电子设备
CN110799988B (zh) * 2019-04-30 2023-09-12 深圳市汇顶科技股份有限公司 指纹识别的装置和电子设备
CN209746551U (zh) * 2019-05-17 2019-12-06 上海思立微电子科技有限公司 生物特征识别模组及电子设备
CN110277430A (zh) * 2019-06-26 2019-09-24 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种显示面板、其制备方法及显示装置
CN209373637U (zh) * 2019-07-30 2019-09-10 上海菲戈恩微电子科技有限公司 一种屏下指纹图像信息采集装置及电子设备
CN110580473A (zh) * 2019-09-23 2019-12-17 上海思立微电子科技有限公司 指纹识别组件、显示组件、以及电子设备
CN211857086U (zh) * 2020-02-24 2020-11-03 宁波激智科技股份有限公司 一种准直膜
CN113296276A (zh) * 2020-02-24 2021-08-24 宁波激智科技股份有限公司 一种准直膜及其制备方法
CN211857087U (zh) * 2020-02-24 2020-11-03 宁波激智科技股份有限公司 一种减干涉准直膜

Also Published As

Publication number Publication date
CN113296172B (zh) 2023-04-18
CN113376848B (zh) 2023-04-07
CN113376718B (zh) 2023-04-18
CN113296170B (zh) 2023-04-18
CN113296172A (zh) 2021-08-24
CN113376851A (zh) 2021-09-10
CN113376849A (zh) 2021-09-10
CN113296277A (zh) 2021-08-24
CN113296174A (zh) 2021-08-24
CN113296278A (zh) 2021-08-24
CN113296280A (zh) 2021-08-24
CN113296279A (zh) 2021-08-24
CN113296174B (zh) 2023-04-18
CN113296282B (zh) 2023-04-11
CN113296169B (zh) 2023-04-11
CN113296173A (zh) 2021-08-24
CN211857087U (zh) 2020-11-03
WO2021169726A1 (zh) 2021-09-02
CN113296169A (zh) 2021-08-24
CN113376850A (zh) 2021-09-10
CN113296171B (zh) 2023-04-18
CN113296173B (zh) 2023-04-18
CN113376847B (zh) 2023-03-21
CN113376847A (zh) 2021-09-10
CN113296281A (zh) 2021-08-24
CN113376849B (zh) 2023-03-21
CN113296279B (zh) 2023-04-18
CN113296280B (zh) 2023-04-18
CN113296282A (zh) 2021-08-24
CN113376718A (zh) 2021-09-10
CN113296278B (zh) 2023-04-18
CN113376850B (zh) 2023-04-07
CN113296170A (zh) 2021-08-24
CN113296171A (zh) 2021-08-24
CN113376848A (zh) 2021-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113376851B (zh) 一种准直膜、一种减干涉准直膜、一种贴合型准直膜、一种封孔贴合型准直膜及其制备方法
CN211857086U (zh) 一种准直膜
US9121994B2 (en) Method of fabricating a wafer level optical lens assembly
NL2012262C2 (en) Method of fabricating a wafer level optical lens assembly.
TW201310626A (zh) 製造被動光學元件的方法及包含該元件的裝置
CN218383360U (zh) 角度滤光器
CN113296276A (zh) 一种准直膜及其制备方法
CN112084996A (zh) 屏下指纹识别装置及电子设备
KR20090037570A (ko) 플라스틱 몰딩을 이용한 카메라 모듈 제작방법
WO2021169725A1 (zh) 一种准直膜、一种减干涉准直膜及其制备方法、一种贴合型准直膜及一种图像识别模组
CN102147511B (zh) 制造聚合物微型透镜的方法及具有该聚合物透镜的准直器
JP2021076682A (ja) 光制御フィルター

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant