JP4968965B2 - 屈折率分布の計測方法および計測装置 - Google Patents
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Description
さらに、本発明の他の一側面としての屈折率分布計測装置は、被検物の屈折率よりも低い屈折率を有する第1の媒質中に該被検物を配置し、該被検物に参照光を入射させて該被検物の透過波面を計測する第1の計測、および該被検物の屈折率よりも低く、かつ第1の媒質の屈折率とは異なる屈折率を有する第2の媒質中に該被検物を配置し、該被検物に該参照光を入射させて該被検物の透過波面を計測する第2の計測を行う計測部と、第1および第2の計測の結果を用いて被検物の屈折率分布を算出する算出部とを有する。計測部は、被検物を透過した後の参照光が被検物に入射する前の参照光に比べて平行光に近づくように第1および第2の光線の進行方向を互いに異ならせて第1および第2の透過波面を計測する。そして、算出部は、第1の透過波面の計測結果と、特定の屈折率分布を有する基準被検物が第1の媒質中に配置された場合の透過波面との差分である第1の波面収差を算出し、第2の透過波面の計測結果と、基準被検物が第2の媒質中に配置された場合の透過波面との差分である第2の波面収差を算出し、第1および第2の光線のそれぞれに沿った被検物の幾何学的厚みを用いて該被検物の実効的厚みを算出し、第1および第2の波面収差と実効的厚みとを用いて被検物の屈折率分布を算出することを特徴とする。
ピンホール20を通過したレーザ光は、第1のコリメータレンズ30および第2のコリメータレンズ31を通過することで収束光となる。被検物40を照明する光を生成する光学系をここでは、照明光学系という。本実施例では、ピンホール20、第1のコリメータレンズ30および第2のコリメータレンズ31によって照明光学系が構成される。
収束光となったレーザ光は、被検物ケース41内の空気又は水の中を通って被検物40に入射し、これを透過する。被検物ケース41内の媒質を通って被検物40に入射するレーザ光を参照光という。参照光21は、照明光学系からの光のうち実際に被検物40を透過する光のみを意味し、被検物ケース41や被検物40の形状によって反射される光等、被検物40を透過しない光は含まない。
被検物ケース41内の空気又は水と被検物40とを透過したレーザ光(透過光)は、概ね平行光となって2次元回折格子である直交回折格子50を通過する。そして、検出器である撮像素子(CCDセンサ又はCMOSセンサであり、以下、CCDという)60により撮像(計測)される。被検物40を透過した透過光のNAが小さい場合、回折格子50とCCD60間の距離Zが以下の式(2)で示されるTalbot条件を満たすと、CCD60上に回折格子50の偽解像が干渉縞として得られる。
次に、被検物40を透過した後の参照光(透過光)が、被検物40に入射する前の参照光に比べてより平行光に近づくように、参照光21のNAを変更する(ステップS20)。参照光21のNAの変更は、CCD60で透過光の光量分布を見ながら、第2のコリメータレンズ31と被検物40との光軸方向の間隔を調整することで行うことができる。第2のコリメータレンズ31は、照明光学系を構成する光学素子のうち被検物40に最も近い光学素子に相当する。
ここで、参照光21のNAとは、照明光学系を透過した直後のNAではなく、媒質中のNAを意味する。透過光の光量分布の観察は、CCD60の代わりに、別途スクリーン等の散乱体を挿入して行ってもよい。透過光の光量分布の観察を行う代わりに、透過光が平行光に近づくように光学素子の配置を設計し、その設計値に基づいて第2のコリメータレンズ31と被検物40を配置してもよい。
図3(a)に示される被検物40内にある点(x,y)におけるWsimは、式(3)で表される。ここでは、式(3)を簡略化するために、被検物ケース41の壁の厚さを無視している。被検物ケース41の壁は、光を透過する材質(例えば、ガラス)である。
L1(x,y)は、基準被検物を用いた光線追跡によって計算することができる。そこで、シミュレーション波面Wsimを計算する際に、任意の点のL1(x,y)も算出しておく。N1は空気の屈折率であり、N(0,0)は、基準被検物の屈折率である。N(0,0)は、被検物40の中心座標(0,0)の屈折率を光軸方向に平均化したときの屈折率に相当する。なお、N(0,0)は、別の測定方法により調べる必要がある。
次に、周波数マップにおけるキャリア周波数の近傍部分のみを切り出して、キャリア周波数が原点になるように座標変換した上で、iFFT(逆高速フーリエ変換)を行う。これにより、複素振幅マップの位相項が求められる。その結果得られた位相マップが、透過波面となる。
次に、水に浸した被検物40が理想的な内部屈折率分布を有する場合のシミュレーション波面Wsimを計算する(ステップS31)。そして、被検物40を水に浸した状態(第2媒質中)で透過波面(第2の透過波面)Wmを計測し(ステップS32)、シミュレーション波面Wsimと透過波面Wmとの差分に相当する波面収差(第2の波面収差)W2を求める(ステップS33)。式(8)に、波面収差W2を示す。
上述したように、第1および第2の計測ステップのそれぞれにおいて、透過光が平行光に近づくように参照光のNAを設定(変更)している。このため、被検物40における光軸上の中心部から離れた周辺部でのある点(同一点)の座標を(x,y)とするとき、必然的にL1(x,y)とL2(x,y)は異なる値をとる。つまり、第1の媒質および点(x,y)を通る光線21aを第1の光線とし、第2の媒質および点(x,y)を通る光線21aを第2の光線とするとき、これら第1および第2の光線の進行方向(光軸に対する傾き)は互いに異なる。さらに言い替えれば、第1および第2の光線の光路は、被検物40内の点(x,y)において互いに交差する。
このように、本実施例では、第1および第2の計測ステップにおいて、参照光のNAを変更して、第1および第2の光線の進行方向を互いに異ならせる。これにより、各計測ステップにおいて、被検物40を透過した後の参照光(透過光)を被検物40に入射する前の参照光に比べて平行光に近づけるようにしている。
なお、本実施例にいう「透過光を平行光に近づける」とは、透過光が平行光であることが望ましいが、平行光でなくてもよいことを意味する。すなわち、わずかに発散又は収束する光であってもよい。この場合、透過光のうち、透過波面計測上の有効光束径(有効径)における光軸側(中心側)の5割以内の光が平行光となることが望ましい。
このように、被検物40の実効的厚みLeff(x,y)は、光線追跡で得られたL1(x,y)とL2(x,y)を用いて算出できる。
最後に、ステップS30およびステップS60にて得られた第1および第2の透過波面W1,W2と、Leff(x,y)とを用いて、被検物40の内部屈折率分布GIを算出する(ステップS70)。
図4には、CCD60の配置位置が60aから60bにずれた場合の光路長の変化を示している。図4(a)は透過光のNAが大きい場合を、図4(b)は透過光のNAが小さい場合をそれぞれ示している。ΔL1d(x,y)は、CCD60の配置誤差によって生じる光線21aの光路長の変化量である。このとき、ΔL1d(x,y)とΔL1d(0,0)の差分が屈折率分布に測定誤差として加算される。屈折率分布の測定誤差は、透過光のNAが大きくなるにつれて増加(NAが小さくなるにつれて減少)し、透過光が完全な平行光である場合は0となる。
屈折率分布の測定誤差と透過光のNAとの関係は、CCD60だけではなく、第2のコリメータレンズ31と被検物40との間隔、被検物40の厚み、被検物ケース41の壁の厚みおよび被検物ケース41の壁と被検物40との間隔にも当てはまる。また、被検物40と回折格子50との間隔、Talbot距離および回折格子の周期の誤差にも当てはまる。
図5は、透過光のNAと屈折率分布の測定誤差との関係を、次のようなシミュレーション方法によって求めた結果を示している。
まず、ある屈折率分布(例えば、光軸上の中心から周辺に向かって二次関数的に変化する屈折率分布)を有する被検物を考える。次に、図1のように各光学素子を配置し、第2のコリメータレンズ31と被検物40との間隔を調整して、被検物40からの透過光のNAをある値(例えば、NA=0)に設定する。
そして、各光学素子に独立に配置誤差を与え、それぞれの屈折率分布を算出する。この屈折率分布は誤差を含んだ値になる。配置誤差が無い理想配置の場合の屈折率分布も別途算出しておき、配置誤差を与えた場合のそれぞれの屈折率分布との差分をとる。
このシミュレーション方法によって、例えばCCD60に配置誤差を与えた場合の上記ΔL1d(x,y)とΔL1d(0,0)の差分に相当する量としての屈折率分布の誤差を算出することができる。さらに、各光学素子の場合において計算した差分量のルート二乗和をとることで、計測装置の屈折率分布の誤差(縦軸)を算出できる。同様の計算を、他のNAについても行い、横軸をNAとし、縦軸を計測装置の屈折率分布の誤差としてプロットすることで、図5のグラフが得られる。
また、図5は、被検物40からの透過光のNAが小さくなるにつれて屈折率分布の測定誤差が減少していくことを示している。NAが0.2以下になると、NAに対する屈折率分布の誤差の勾配が小さくなり、NAが0(平行光)のときに測定誤差が最小値となることがわかる。このため、被検物40からの透過光をできるだけ平行光に近づけることで、高精度な屈折率分布計測が可能となる。
図6は、球面収差が大きい被検物からの透過光を示している。球面収差が大きい場合、図6(a)に示すように、NAを0にすると被検物40の中心付近を通る光線が互いに交差する場合がある。このとき、CCD60で受光した光線が被検物40のどこを通ってきた光線かを判別することができない。このため、被検物40の球面収差が大きい場合は、図6(b)に示すように、被検物40の中心部付近を通った透過光が平行光に近づくようにこのため、被検物40の球面収差が大きい場合は、図6(b)に示すように、被検物40の中心部付近を通った透過光が平行光に近づくように照明光学系の配置を調整すればよい。例えば、前述したように、透過光のうち有効径における光軸側(中心側)の5割以内の光が平行光となるように照明光学系の配置を調整すればよい。
ただし、上述した図5より、少なくともNAに対する屈折率分布誤差の勾配が小さくなるようにNAを0.2以下として、屈折率分布を高精度に計測できるようにするのが望ましい。
前述したように、第1および第2の計測ステップのそれぞれにおいて被検物40からの透過光を平行光に近づけることで、第1および第2の光線は、被検物40内の互いに異なる光路を辿る。このため、被検物40内の第1および第2の光線の光路におけるN(x,y)の値も互いに異なる。第1の光線の進行方向での屈折率をN(x,y)とし、第2の光線の進行方向での屈折率をN(x,y)+ΔN(x,y)とすると、ΔN(x,y)に起因する内部屈折率分布GIの測定誤差ΔGIは、次の式(10)によって表される。
そこで、それぞれの光路の差が特に大きくなる被検物40の周辺部において、被検物40内のそれぞれの光路が互いにできるだけ近づくように、参照光21の有効径を調整すればよい。最適な有効径は、それぞれの媒質中で周辺光線の光線追跡を行い、被検物内の光路の座標から探すことができる。その有効径を計測に適用するには、例えば、ピンホールと被検物の間にダイアフラムを設置して参照光21の光束径を調整すればよい。また、参照光の有効径を調整する代わりに、透過光の有効径、つまり透過波面Wmの解析領域を調整してもよい。
式(10)の誤差ΔGIは、被検物40内での第1および第2の光線の光路(進行方向)を一致させれば0になる。しかしながら、被検物40内での第1および第2の光線の光路を一致させることは、被検物40からの透過光を平行光から遠ざける方向に作用し、該透過光を平行光に近づけることに反することになる。そして、透過光のNA(つまり透過光が平行光から遠ざかること)に起因する誤差の方が、式(10)に示す誤差よりも大きい。このことから、被検物40からの透過光を平行光に近づけることは、被検物40内での第1および第2の光線の光路を一致させることに比べて、計測精度の向上により効果がある。
図7には、本実施例の計測装置の構成を示す。被検物40は負のパワーをもつレンズ等の光学素子である。また、2種類の媒質は、水(第1の媒質)とオイル(第2の媒質)である。
レーザ光源10から射出されたレーザ光は、ピンホール20を通ることで理想球面波となる。レーザ光は、第1および第2のコリメータレンズ30,31(31′)を介して収束光に変換される。第2のコリメータレンズ31(31′)は、本実施例でも被検物40を照明する照明光学系の被検物40に最も近い光学素子であり、交換が可能である。収束光は、被検物ケース41内に配置された被検物40を通過する。被検物40を透過した光(透過光)は、実施例1と同様に概ね平行光となる。そして、透過光の透過波面が、波面計測センサであるTalbot干渉計(回折格子50およびCCD60)により計測される。
まず、図7(a)に示したように、被検物ケース41内に水を満たした状態で水中(第1の媒質中)に被検物40を配置する(図2のステップS10)。次に、被検物40からの透過光が平行光に近づくように、適当なFナンバーおよび口径を有する第2のコリメータレンズ31をセットする(ステップS20)。例えば、被検物40からの透過光が発散光となっている場合は、Fナンバーが小さく、口径が大きい第2のコリメータレンズ31に交換すればよい。この第2のコリメータレンズ31の選択は、計測装置において透過光の光量分布を観察しながら行えばよい。光量分布の観察の代わりに、予め透過光が平行光に近づくように光学素子の配置を設計し、その設計値に基づいて第2のコリメータレンズ31を選択してもよい。
そして、被検物ケース41内の媒質が水である場合の第1の波面収差W1を、実施例1と同様の手順(ステップA)で求める(ステップS30)。
次に、ステップAにより、被検物ケース41内の媒質がオイルの場合の第2の波面収差W2を求める(ステップS60)。
最後に、式(9)を用いて、被検物40の実効的厚みを計算し、さらに被検物40の内部屈折率分布GIを算出する(ステップS70)。
図8には、本実施例の計測装置の構成を示す。被検物40は、正のパワーを有するレンズ等の光学素子である。
レーザ光源10から射出されたレーザ光は、ピンホール20を通ることで理想球面波となる。レーザ光は、第1および第2のコリメータレンズ30,31を介して収束光に変換される。収束光は、一度集光した後に発散光となる。発散光は、被検物ケース41内に配置された被検物40を通過し、該被検物40を透過した光(透過光)は概ね平行光となる。そして、その透過波面が波面計測センサであるシャックハルトマンセンサ61により計測される。被検物40が正のパワーを有する光学素子である場合、第1および第2のコリメータレンズ30,31を介さずに、ピンホール20からの発散光を直接、被検物40に入射させてもよい。
図8(a)は、被検物40からの透過光が平行光に近づくように選択された第1の媒質がエタノールである場合を示している。そして、被検物ケース41内の媒質がエタノールの場合の第1の波面収差W1を、実施例1と同様の手順(ステップA)で求める(ステップS30)。
図8(b)は、第2の媒質が水の場合を示している。そして、ステップAに従って、被検物ケース41内の媒質が水の場合の第2の波面収差W2を求める(ステップS60)。
最後に、式(9)を用いて、被検物40の実効的厚みを計算し、さらにその内部屈折率分布GIを算出する(ステップS70)。
図9において、ステップS200は光学素子を設計するステップであり、設計者が光学設計ソフト等を用いて光学素子を設計する。
ステップS210は、ステップS200で設計された光学素子に基づいて、光学素子をモールド成形するための金型を設計・加工するステップである。
ステップS220は、ステップS210で加工された金型を用いて、光学素子をモールド成形するステップである。
以上説明した各実施例は代表的な例にすぎず、本発明の実施に際しては、各実施例に対して種々の変形や変更が可能である。
21 参照光
40 被検物
41 被検物ケース
60 CCD
Claims (3)
- 被検物の屈折率よりも低い屈折率を有する第1の媒質中に前記被検物を配置し、前記被検物に参照光を入射させて該被検物の透過波面を計測する第1の計測ステップと、
前記被検物の屈折率よりも低く、かつ前記第1の媒質の屈折率とは異なる屈折率を有する第2の媒質中に前記被検物を配置し、前記被検物に前記参照光を入射させて該被検物の透過波面を計測する第2の計測ステップと、
該第1および第2の計測ステップの計測結果を用いて前記被検物の屈折率分布を算出する算出ステップとを有し、
前記第1および第2の計測ステップにおいて、前記被検物に入射する前記参照光のうち、前記被検物における光軸上の中心部から離れた周辺部に入射して該被検物の同一点を通る光線をそれぞれ第1の光線および第2の光線とするとき、前記被検物を透過した後の前記参照光が前記被検物に入射する前の前記参照光に比べて平行光に近づくように前記第1および第2の光線の進行方向を互いに異ならせて前記第1および第2の透過波面を計測し、
前記算出ステップにおいて、
前記第1の透過波面の計測結果と、特定の屈折率分布を有する基準被検物が前記第1の媒質中に配置された場合の透過波面との差分である第1の波面収差を算出し、
前記第2の透過波面の計測結果と、前記基準被検物が前記第2の媒質中に配置された場合の透過波面との差分である第2の波面収差を算出し、
前記第1および第2の光線のそれぞれに沿った前記被検物の幾何学的厚みを用いて該被検物の実効的厚みを算出し、
前記第1および第2の波面収差と前記実効的厚みとを用いて前記被検物の屈折率分布を算出することを特徴とする屈折率分布計測方法。 - 光学素子をモールド成形する成形ステップと、
前記光学素子を評価する評価ステップとを有し、
前記評価ステップにおいて、請求項1に記載の計測方法を用いて前記光学素子の屈折率分布を計測することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 被検物の屈折率よりも低い屈折率を有する第1の媒質中に前記被検物を配置し、前記被検物に参照光を入射させて該被検物の透過波面を計測する第1の計測、および前記被検物の屈折率よりも低く、かつ前記第1の媒質の屈折率とは異なる屈折率を有する第2の媒質中に前記被検物を配置し、前記被検物に前記参照光を入射させて該被検物の透過波面を計測する第2の計測を行う計測部と、
前記第1および第2の計測の結果を用いて前記被検物の屈折率分布を算出する算出部とを有し、
前記第1および第2の計測において前記被検物に入射する前記参照光のうち、前記被検物における光軸上の中心部から離れた周辺部に入射して該被検物の同一点を通る光線をそれぞれ第1の光線および第2の光線とするとき、
前記計測部は、前記被検物を透過した後の前記参照光が前記被検物に入射する前の前記参照光に比べて平行光に近づくように前記第1および第2の光線の進行方向を互いに異ならせて前記第1および第2の透過波面を計測し、
前記算出部は、
前記第1の透過波面の計測結果と、特定の屈折率分布を有する基準被検物が前記第1の媒質中に配置された場合の透過波面との差分である第1の波面収差を算出し、
前記第2の透過波面の計測結果と、前記基準被検物が前記第2の媒質中に配置された場合の透過波面との差分である第2の波面収差を算出し、
前記第1および第2の光線のそれぞれに沿った前記被検物の幾何学的厚みを用いて該被検物の実効的厚みを算出し、
前記第1および第2の波面収差と前記実効的厚みとを用いて前記被検物の屈折率分布を算出することを特徴とする屈折率分布計測装置。
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WO2013119775A1 (en) * | 2012-02-10 | 2013-08-15 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Method and apparatus for determining a thickness profile of an ophthalmic lens using a single point thickness and refractive index measurements |
JP5575161B2 (ja) * | 2012-02-10 | 2014-08-20 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 |
JP5868227B2 (ja) * | 2012-03-12 | 2016-02-24 | キヤノン株式会社 | 屈折率計測方法および屈折率計測装置 |
JP2014016253A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Canon Inc | 屈折率分布計測方法、光学素子の製造方法、および、屈折率分布計測装置 |
JP6157240B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2017-07-05 | キヤノン株式会社 | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 |
JP2016223982A (ja) * | 2015-06-02 | 2016-12-28 | キヤノン株式会社 | 計測方法、計測装置、光学素子の製造方法 |
US10634864B2 (en) | 2017-05-30 | 2020-04-28 | Panduit Corp. | Channel equalization enclosure |
CN110687074A (zh) * | 2019-10-28 | 2020-01-14 | 华中科技大学 | 一种基于波前传感器的光学制件均匀性检测装置与方法 |
CN110779693B (zh) * | 2019-11-11 | 2021-02-19 | 四川大学 | 双棱镜材质折射率的测量方法 |
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Family Cites Families (14)
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JPS57211504A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-25 | Canon Inc | Observation member for talbot interferometer |
JPS5816216A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-29 | Canon Inc | タルボ干渉計 |
IT1155285B (it) * | 1982-02-10 | 1987-01-28 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e apparecchiatura per la determinazione del profilo d'indice di rifrazione di fibre ottiche e preforme per fibre ottiche |
JPS6170436A (ja) * | 1984-09-14 | 1986-04-11 | Univ Kyoto | 円柱内屈折率分布測定方法 |
JP2678464B2 (ja) * | 1988-06-27 | 1997-11-17 | 旭光学工業株式会社 | 屈折率測定方法 |
JP2678463B2 (ja) | 1988-06-16 | 1997-11-17 | 旭光学工業株式会社 | 屈折率測定方法 |
US5151752A (en) * | 1988-06-16 | 1992-09-29 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Method of measuring refractive indices of lens and sample liquid |
JP3264469B2 (ja) * | 1993-12-07 | 2002-03-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 光散乱媒体の屈折率分布情報の計測装置 |
JP3287517B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2002-06-04 | 富士写真光機株式会社 | 干渉縞による測定方法および装置 |
JP3252708B2 (ja) * | 1995-05-31 | 2002-02-04 | キヤノン株式会社 | 光学素子及びそれを用いた走査光学装置 |
JP3699810B2 (ja) * | 1997-07-29 | 2005-09-28 | 株式会社リコー | 屈折率分布の測定方法及び装置 |
JP2001343604A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Ricoh Co Ltd | 光走査用レンズ・光走査装置および画像形成装置 |
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