JP5008650B2 - 屈折率分布計測方法及び屈折率分布計測装置 - Google Patents
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Description
ただし、Zは回折格子130とCCD140間の距離を示し、ここではTalbot距離と呼ぶ。また、mは0を除く整数であり、dは回折格子130のピッチである。Z0は回折格子130から被検物120の像面までの距離である。回折格子130の格子ピッチdは、被検物120の収差の大きさに応じて決められる。
ただし、L1〜L5は、図5に示される光線102aに沿った上記各構成要素間の幾何学的距離である。光線102aは、図4に示す被検物120′内の点(x,y)を通る光線である。また、N1は空気の屈折率であり、Ngは、被検物120の理想的な屈折率(基準被検物の屈折率)を示す。なお、ここでは式1を簡略化するため、被検物ケース121の壁の厚さは無視する。
ただし、N(x,y)は、座標(x,y)における被検物120の厚み方向に平均化された屈折率を示す。dLは、座標(x,y)における被検物120の厚み誤差を示す。
但し、
とする。
次に、以下の式6により、波面収差W1と波面収差W2とから被検物120の形状成分dLを除去し、被検物120の屈折率分布Windexを算出する(ステップS50)。これにより、屈折率分布Windexの算出が完了する。
式6において、例えば、Ng=1.600、N1=1.000、N2=1.333とすると、Windexは式7のようになる。
式4で用いた近似の影響を調べるために、仮にNg=1.600、N(x,y)=1.601として近似のないWindexを求めると、
となる。このWindexと式7で得られるWindexとの差は1%に満たないため、式4における近似はこの誤差の範囲で問題なく使用できる。
式9から誤差ΔWindex/Windexを低減するには、ΔLとNg−N1を小さくし、N2−N1を大きくすればよい。Ngは高屈折率硝材の屈折率であり、本実施例では被検物と同じ屈折率の媒質を利用するのが困難な場合を想定している。このため、誤差を低減するには、媒質を変えたときの被検物内を通る光線(参照光の光線)の傾きを一致させ、ΔLを小さくするか、2種類の媒質の屈折率差を大きくするかする必要があることが分かる。
式10は、式0と、回折格子130上の光束の直径D0とを用いて、以下の式11のようにも表せる。
式11から、シア量と回折格子130の格子ピッチとは比例することが分かる。回折格子130のピッチは、式0から分かるように、Talbot距離Zにも影響を与えるため、計測装置の構成要素間の干渉を考えて決定する必要がある。例えば、m=1のとき、D0が10〜20mm程度であるとすると、格子ピッチは40〜180μm程度が望ましい。
110 ピンホール
120 被検物
121 被検物ケース
130 2次元直交回折格子
Z Talbot距離
140 CCD
150 レール
600 照明光学系
610 シャックハルトマンセンサ
Claims (9)
- 被検物の屈折率よりも0.01以上小さい第1の屈折率を有する第1の媒質中で、前記被検物に参照光を入射させて該被検物の第1の透過波面を計測するステップと、
前記被検物の屈折率よりも0.01以上小さく、かつ前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有する第2の媒質中で、前記被検物に前記参照光を入射させて該被検物の第2の透過波面を計測するステップと、
前記第1の透過波面の計測結果と特定の屈折率分布を有する基準被検物が前記第1の媒質中に配置されているときの透過波面との差分である第1の波面収差を算出するステップと、
前記第2の透過波面の計測結果と前記基準被検物が前記第2の媒質中に配置されているときの透過波面との差分である第2の波面収差を算出するステップと、
前記第1の波面収差と前記第2の波面収差に基づいて、前記被検物の形状成分を除去しつつ、前記被検物の屈折率分布を算出するステップとを有することを特徴とする屈折率分布計測方法。 - 前記第1及び第2の透過波面の計測において、該透過波面の波面形状の勾配に相当する量を計測することを特徴とする請求項1に記載の屈折率分布計測方法。
- 前記第1及び第2の透過波面の計測を、2次元回折格子を含むTalbot干渉計を用いて行うことを特徴する請求項1又は2に記載の屈折率分布計測方法。
- 前記第1及び第2の透過波面の計測を、シャックハルトマンセンサを用いて行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の屈折率分布計測方法。
- 前記第1の屈折率と前記第2の屈折率とが互いに0.01以上異なることを特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載の屈折率分布計測方法。
- 前記第1及び第2の透過波面の計測において、前記被検物内を通る前記参照光の光線の該被検物に対する傾きを等しくすることを特徴とする請求項1から5のいずれか1つに記載の屈折率分布計測方法。
- 光源と、
該光源からの光を用いて参照光を生成する光学部材と、
被検物の屈折率よりも0.01以上小さい第1の屈折率を有する第1の媒質中で、前記光学部材からの前記参照光を前記被検物に入射させて該被検物の第1の透過波面を計測し、前記被検物よりも屈折率が0.01以上小さく、かつ前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有する第2の媒質中で、前記被検物に前記参照光を入射させて該被検物の第2の透過波面を計測する計測手段と、
前記第1の透過波面の計測結果と特定の屈折率分布を有する基準被検物が前記第1の媒質中に配置されているときの透過波面との差分である第1の波面収差を算出し、前記第2の透過波面の計測結果と前記基準被検物が前記第2の媒質中に配置されているときの透過波面との差分である第2の波面収差を算出し、前記第1の波面収差と前記第2の波面収差に基づいて、前記被検物の形状成分を除去しつつ、前記被検物の屈折率分布を算出する演算手段とを有することを特徴とする屈折率分布計測装置。 - 前記被検物は光学素子であり、
該計測装置は、前記被検物と該計測装置の構成要素とが、該被検物の光軸方向に相対移動可能に構成されていることを特徴とする請求項7に記載の屈折率分布計測装置。 - 光学素子をモールド成形するステップと、
成形した光学素子を評価するステップとを有する光学素子の製造方法であって、
前記評価するステップは、請求項1から6のいずれか1つに記載の屈折率分布計測方法を用いて、前記成形した光学素子を評価することを特徴とする光学素子の製造方法。
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