CN108602750A - 具有酯基的化合物的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种具有酯基的化合物的新的制造方法、将该化合物作为合成中间体而制造的衍生物。另外，提供一种含有通过该制造方法得到的化合物的聚合性组合物，及将其聚合所得到的膜状聚合物。本申请发明为一种具有酯基的化合物的制造方法，该制造方法包括将缩合剂、布仑斯惕酸、羧酸以及酚或醇加以混合组成反应混合物的混合工序，布仑斯惕酸从缩合剂、羧酸及酚以外进行选择。

Description

具有酯基的化合物的制造方法
技术领域
本发明关于一种具有酯基的化合物的制造方法、将该化合物作为合成中间体而制造的衍生物、含有该化合物的聚合性组合物、聚合性液晶组合物及使用该聚合性液晶组合物的光学各向异性体。
背景技术
作为酯基的构建方法，已知有各种方法，但使用缩合剂的反应由于会温和进行，且操作简便，因此被广泛地利用。然而，有时会因使用的基质的种类而造成无法产率良好地得到目标的酯化合物，例如，当使用具有碳二亚胺结构的化合物作为缩合剂时，会副生成大量N-酰基脲(N-acylurea)。这样的情况下，有下述问题：需要用以去除该副产物的工序，或产率下降(专利文献1、非专利文献1及非专利文献2)。另外，当将残留有微量该副产物的酯化合物使用于液晶材料、光学膜时，会有下述担忧：液晶显示器发生烧屏，或膜的耐热、耐光性下降。因此，要求开发难以副生成N-酰基脲的酯基的构建方法。
现有技术文献
专利文献1：DE10146970A1号公报
非专利文献1：Tetrahedron杂志,2007年,63卷,41号,10140-10148页。
非专利文献2：Indian Journal of Chemistry杂志,Section B：OrganicChemistry Including Medicinal Chemistry,2007年,46B卷,1号,170-172页。
发明内容
发明要解决的课题
本发明提供一种具有酯基的化合物的新的制造方法、将该化合物作为合成中间体而制造的化合物。另外，提供一种对制造耐热性、耐光性优异的聚合物有用且含有通过该制造方法而得的化合物或其衍生物的聚合性组合物。进一步，提供一种通过使含有以该制造方法得到的化合物或其衍生物的聚合性组合物聚合而得到的聚合物，以及使用了该聚合物的光学各向异性体。
用于解决课题的手段
本发明人等为了解决上述课题，经潜心研究，结果开发出了具有酯基的化合物的新的制造方法。即，本申请发明提供一种具有酯基的化合物的制造方法，该方法包括将缩合剂、布仑斯惕酸、羧酸及酚或醇加以混合组成反应混合物的混合工序，布仑斯惕酸从缩合剂、羧酸及酚以外进行选择；并同时提供一种将该化合物作为合成中间体而制造的衍生物；含有该化合物的组合物；使用了该化合物的树脂、树脂添加剂、油、滤色器、粘接剂、粘着剂、油脂、油墨(ink)、医药品、化妆品、清洁剂、建筑材料、包装材料、液晶材料、有机EL材料、有机半导体材料、电子材料、显示元件、电子器件(electronic device)、通信设备、汽车部件、飞机部件、机械部件、农药及食品以及使用了它们的制品；聚合性液晶组合物；使该聚合性液晶组合物聚合而得到的聚合物及使用该聚合物的光学各向异性体。
通过本申请发明的制造方法，能够以高产率得到具有酯基的化合物。另外，使用含有以本申请发明的制造方法制造的化合物的聚合性液晶组合物的光学各向异性体，由于经长期间照射紫外光时耐热、耐光性不易下降，因此，通过本申请发明的制造方法制造的化合物对于光学补偿膜等光学材料的用途有用。
具体实施方式
本申请发明提供一种具有酯基的化合物的制造方法；将该化合物作为合成中间体而制造的衍生物；含有该化合物或其衍生物的组合物；使用该化合物的树脂、树脂添加剂、油、滤色器、粘接剂、粘着剂、油脂、油墨、医药品、化妆品、清洁剂、建筑材料、包装材料、液晶材料、有机EL材料、有机半导体材料、电子材料、显示元件、电子器件、通信设备、汽车部件、飞机部件、机械部件、农药及食品以及使用了它们的制品；聚合性液晶组合物；通过使该聚合性液晶组合物聚合而得到的聚合物及使用该聚合物的光学各向异性体。
本申请发明的制造方法包括将缩合剂、布仑斯惕酸、羧酸及酚或醇加以混合组成反应混合物的混合工序。在上述混合工序中，布仑斯惕酸从缩合剂、羧酸及酚以外进行选择。
在以上述混合工序得到的反应混合物中，进行羧酸与酚或醇的缩合反应，从而可抑制副产物的生成，且同时能以高产率得到具有酯基的化合物。本申请发明的制造方法包括酯化工序，该酯化工序为在反应混合物中通过羧酸与酚或醇的缩合反应生成具有酯基的化合物。酯化工序不一定要与混合工序分开设置，可随着混合工序结束而达成。
在上述混合工序中，优选进一步混合碱来组成反应混合物。通过在碱的存在下进行缩合反应，可提升具有酯基的化合物的产率及反应速度。
在上述混合工序中，从取得容易性、产率及反应速度的观点，缩合剂优选为具有选自碳二亚胺、咪唑、三嗪、、脲(uronium)或偶氮二羧酸中的结构的化合物，特别优选为具有碳二亚胺结构的化合物。具体而言，可列举：1-环己基-3-(2-吗啉基乙基)碳二亚胺对甲苯磺酸盐、N-环己基碳二亚胺甲基聚苯乙烯树脂、N,N’-二异丙基碳二亚胺、N,N’-二环己基碳二亚胺、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺树脂、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺等。从取得容易性、成本及以具有酯基的化合物或其衍生物作为原料的膜不易变质的观点，缩合剂优选为选自N-环己基碳二亚胺甲基聚苯乙烯树脂、N,N’-二异丙基碳二亚胺、N,N’-二环己基碳二亚胺、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺树脂、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺中的化合物，更优选为选自N,N’-二异丙基碳二亚胺、N,N’-二环己基碳二亚胺、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺中的化合物，进一步优选为选自N,N’-二异丙基碳二亚胺、N,N’-二环己基碳二亚胺中的化合物，从处理容易性的观点，特别优选为N,N’-二异丙基碳二亚胺。
在上述混合工序中，从产率及反应速度的观点，碱优选为芳香族胺，更优选为具有6元环及/或5元环的芳香族胺，进一步优选为具有选自由异唑、异噻唑、咪唑、二唑、唑、噻二唑、噻唑、四唑、三唑、吡唑、吲唑、吡咯、吲哚、咔唑、咔啉、四嗪、三嗪、吡嗪、吡啶、喹啉、异喹啉、吖啶、哒嗪、酞嗪、嘧啶、喹唑啉、嘌呤及/或蝶啶中的结构的芳香族胺，从取得的容易性及成本的观点，特别优选为具有吡啶结构的芳香族胺。具体而言，可列举：吡啶、4-二甲基氨基吡啶、2,4,6-三基甲基吡啶、4-吡咯烷基吡啶等。
在上述酯化工序中，布仑斯惕酸可在反应混合物内游离，可为盐或络合物，从产率及反应速度的观点，布仑斯惕酸优选为游离。另外，布仑斯惕酸的至少一部份优选为在反应混合物内解离出质子的状态。另外，在上述酯化工序中，优选为反应混合物内的水含量少，例如反应体系内的水含量优选相对于缩合剂，为10摩尔当量以下，更优选相对于缩合剂，为1摩尔当量以下，进一步优选相对于缩合剂，为0.5摩尔当量以下，进一步更优选相对于缩合剂，为0.1摩尔当量以下，特别优选相对于缩合剂，为0.01摩尔当量以下。为了减少反应体系内的水含量，可使用干燥剂、脱水剂及/或吸水剂。例如可使用硅胶、氧化铝、活性炭、硫酸钠、硫酸镁、分子筛、吸水性聚合物等。
当布仑斯惕酸为无机酸时，作为布仑斯惕酸，具体而言可列举：氢氟酸、盐酸、氢溴酸、硝酸、磷酸、硫酸及硼酸等。当布仑斯惕酸为有机酸时，作为布仑斯惕酸可列举：羧酸、磺酸、亚磺酸、磷酸、多磷酸及硼酸等。从处理的容易性及产率的观点，布仑斯惕酸更优选为无机酸、磺酸或亚磺酸，特别优选为盐酸、硫酸、磺酸或亚磺酸。具体而言可列举：盐酸、硫酸、氟磺酸、氯磺酸、甲磺酸、三氟甲磺酸、2-氨基乙烷磺酸、2-[4-(2-羟乙基)-1-哌嗪基]乙烷磺酸、3-吗啉基丙烷磺酸、哌嗪-1,4-双(2-乙烷磺酸)、10-樟脑磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、4-氯苯磺酸、磺胺酸、3-吡啶磺酸、2-氨基乙烷亚磺酸、苯亚磺酸、4-甲基苯亚磺酸等。但是关于布仑斯惕酸，当混合工序中所使用的缩合剂为布仑斯惕酸或含有布仑斯惕酸时，则选择与该缩合剂不同的布仑斯惕酸。
在上述混合工序中，所添加的布仑斯惕酸的量从提升具有酯基的化合物的产率的观点，优选相对于缩合剂，为0.0001摩尔当量至100摩尔当量，更优选相对于缩合剂，为0.001摩尔当量至10摩尔当量，进一步优选相对于缩合剂，为0.01摩尔当量至1摩尔当量，特别优选相对于缩合剂，为0.05摩尔当量至0.5摩尔当量。另外，在上述混合工序中，当进一步使碱与布仑斯惕酸共存于作为反应混合物的溶液中时，关于布仑斯惕酸的添加量，只要布仑斯惕酸以解离的状态存在，则无特别限制，当所添加的布仑斯惕酸的物质量远少于碱的物质量时，由于混合液中解离的布仑斯惕酸变少，故N-酰基脲的生成量会变多，当所添加的布仑斯惕酸的物质量远多于碱的物质量时，虽然溶液中解离的布仑斯惕酸变多，但是反应后的后处理会变得繁杂，或可能会产生其他的副产物，因而导致目标的具有酯基的化合物的产率下降。因此，所添加的布仑斯惕酸的物质量相对于碱，优选为0.001摩尔当量至1000摩尔当量，更优选相对于碱，为0.01摩尔当量至100摩尔当量，进一步优选相对于缩合剂，为0.1摩尔当量至10摩尔当量，特别优选为0.5摩尔当量至5摩尔当量。从减少布仑斯惕酸的使用量的观点，碱优选从布仑斯惕碱以外进行选择。
在上述混合工序中，作为组成反应混合物时的酚或醇、羧酸、碱、布仑斯惕酸及缩合剂的添加顺序，从产率及操作容易性的观点，优选加入布仑斯惕酸后再加入缩合剂。作为具体的次序，例如优选将缩合剂加入于含有布仑斯惕酸与上述任何成分的溶液，更优选将缩合剂加入于含有布仑斯惕酸且至少含有酚或醇的溶液，进一步优选将缩合剂加入于含有布仑斯惕酸且至少含有酚或醇及碱的溶液，特别优选对含有布仑斯惕酸且至少含有酚或醇、羧酸及碱的溶液加入缩合剂。
当制作反应混合物时，将酚或醇、羧酸、碱、布仑斯惕酸及缩合剂加以混合来组成即可，反应混合物中的含有成分、各成分的含量等并没有任何限定。反应混合物可含有酚或醇、羧酸、碱、布仑斯惕酸及缩合剂，或含有来源于它们的成分以外的任意成分。作为上述任意成分，可列举反应溶剂等。作为反应混合物的形态，从处理容易性的观点，优选为分散液或溶液。
在本申请发明的制造方法中，所使用的羧酸、酚或醇并无特别限制，分别可例示以下的化合物。
羧酸优选为下述通式(a-1)表示的化合物。
(式中，Ra1表示氢原子或碳原子数1至1000的有机基团，ma1表示1至20的整数，当下述通式(a-2)中ma2表示1以外的整数时，ma1表示1。)从得到后述优选的具有酯基的化合物的观点，ma1优选表示0至4的整数，更优选表示1至3的整数，进一步优选表示1或2。
酚或醇优选为下述通式(a-2)表示的化合物。
(式中，Ra2表示碳原子数1至1000的有机基团，ma2表示1至20的整数，当上述通式(a-1)中ma1表示1以外的整数时，ma2表示1。)从得到后述优选的具有酯基的化合物的观点，ma1优选表示0至4的整数，更优选表示1至3的整数，进一步优选表示1或2。
具有酯基的化合物优选为下述通式(a-3-1)或通式(a-3-2)表示的化合物。
(式中，Ra1及Ra2表示与上述相同的含义，当上述通式(a-1)中ma1表示1以外的整数时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-1)表示的化合物，当在上述通式(a-2)中ma2表示1以外的整数时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-2)表示的化合物。)另外，当ma1与ma2皆表示1的整数时，使具有酯基的化合物表示通式(a-3-1)。
羧酸与酚或醇优选根据本发明的制造方法以提供下述优选的具有酯基的化合物的方式来选择。此时，Ra1与Ra2基于目标的具有酯基的化合物的结构，依照式(a-3-1)或式(a-3-2)决定即可。
更具体而言，羧酸为下述通式(a-1-1)或通式(a-1-2)表示的化合物，
(式中，Ra11表示氢原子或碳原子数1至100的1价有机基团，Ra12表示碳原子数1至100的2价有机基团。)酚或醇为下述通式(a-2-1)或通式(a-2-2)表示的化合物，
(式中，Ra21表示氢原子或碳原子数1至100的1价有机基团，Ra22表示碳原子数1至100的2价有机基团。)具有酯基的化合物优选为下述通式(a-3-1-1)、式(a-3-2-1)或通式(a-3-1-2)表示的化合物。
(式中，Ra11、Ra12、Ra21及Ra22表示与前述相同的含义，但当羧酸表示前述通式(a-1-1)并且酚或醇表示前述通式(a-2-1)时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-1-1)表示的化合物，当羧酸表示前述通式(a-1-1)并且酚或醇表示前述通式(a-2-2)时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-2-1)表示的化合物，当羧酸表示前述通式(a-1-2)并且酚或醇表示前述通式(a-2-1)时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-1-2)表示的化合物。)
作为具有酯基的化合物的一例，可列举下述通式(I)表示的化合物。
(式中，R1表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基(pentafluorosulfuranyl)、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者R1表示以P1-(Sp1-X1)k1-表示的基团(式中，P1表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，Sp1表示间隔基团(spacer group)或单键，当Sp1存在多个时，它们可以相同也可以不同，X1表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当X1存在多个时，它们可以相同也可以不同(但P1-(Sp1-X1)k1-中不含有-O-O-键。)，k1表示0至10的整数。)，或者R1表示受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基，
R2表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者R2表示以P2-(Sp2-X2)k2-表示的基团(式中，P2表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，Sp2表示间隔基团或单键，当Sp2存在多个时，它们可以相同也可以不同，X2表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当X2存在多个时，它们可以相同也可以不同(但P2-(Sp2-X2)k2-中不含有-O-O-键。)，k2表示0至10的整数。)，或者R2表示受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基，
A1及A2各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基、四氢吡喃-2,5-二基或1,3-二烷-2,5-二基，这些基团可未经取代或被1个以上的取代基L取代，当化合物内存在多个A1时，它们可以相同也可以不同，当化合物内存在多个A2时，它们可以相同也可以不同，
L表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者L可表示以PL-(SpL-XL)kL-表示的基团，此处PL表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpL表示间隔基团或单键，当存在多个SpL时，它们可以相同也可以不同，XL表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当存在多个XL时，它们可以相同也可以不同(但PL-(SpL-XL)kL-中不含有-O-O-键。)，kL表示0至10的整数，当化合物内存在多个L时，它们可以相同也可以不同，
Z1及Z2各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-OCO-NH-、-NH-COO-、-NH-CO-NH-、-NH-O-、-O-NH-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-、-N＝CH-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当Z1存在多个时，它们可以相同也可以不同，当Z2存在多个时，它们可以相同也可以不同，但存在的Z1及Z2中的至少1个表示选自-COO-或-OCO-的基团，
G1表示具有选自由芳香族烃环或芳香族杂环组成的组中的至少1个芳香环的2价基团，以G1表示的基团中的芳香环所含的π电子数为12以上，以G1表示的基团可未经取代或被1个以上的取代基LG1取代，或者G1表示以AG表示的基团或以CG表示的基团，
LG1表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LG1可表示以PLG-(SpLG-XLG)kLG-表示的基团，此处PLG表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpLG表示间隔基团或单键，当SpLG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLG存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PLG-(SpLG-XLG)kLG-中不含有-O-O-键。)，kLG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LG1时，它们可以相同也可以不同，
AG表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基、四氢吡喃-2,5-二基或1,3-二烷-2,5-二基，这些基团被至少1个以上的取代基LAG取代，LAG表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LAG可表示以PLAG-(SpLAG-XLAG)kLAG-表示的基团，此处PLAG表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpLAG表示间隔基团或单键，当SpLAG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLAG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLAG存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PLAG-(SpLAG-XLAG)kLAG-中不含有-O-O-键。)，kLAG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LAG时，它们可以相同也可以不同，存在于化合物内的LAG中的至少1个以上表示如下的基团：基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基中，该基团中的至少1个以上的-CH2-被-CO-取代，
CG表示具有手性结构的基团，CG可未经取代或被1个以上的取代基LCG取代，LCG表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LCG可表示以PLCG-(SpLCG-XLCG)kLCG-表示的基团，此处PLCG表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpLCG表示间隔基团或单键，当SpLCG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLCG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLCG存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PLCG-(SpLCG-XLCG)kLCG-中不含有-O-O-键。)，kLCG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LCG时，它们可以相同也可以不同，m1表示0至8的整数，
m2表示0至8的整数。)当在通式(I)中R1表示以P1-(Sp1-X1)k1-表示的基团时及/或R2表示以P2-(Sp2-X2)k2-表示的基团时，P1及P2表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，更优选各自独立地表示选自下述式(P-1)至式(P-20)中的基团。
尤其是当进行紫外线聚合作为聚合方法时，优选各自独立地表示选自式(P-1)、式(P-2)、式(P-3)、式(P-4)、式(P-5)、式(P-7)、式(P-11)、式(P-13)、式(P-15)或式(P-18)中的基团，更优选各自独立地表示选自式(P-1)、式(P-2)、式(P-3)、式(P-7)、式(P-11)或式(P-13)中的基团，进一步优选各自独立地表示选自式(P-1)、式(P-2)或式(P-3)中的基团，特别优选各自独立地表示选自式(P-1)或式(P-2)中的基团。
Sp1及Sp2各自独立地表示间隔基团或单键，当Sp1及Sp2存在多个时，它们可以相同也可以不同。作为间隔基团，优选表示1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-的碳原子数1至20的亚烷基。当Sp1及Sp2存在多个时，各自可以相同也可以不同，从原料取得容易性及合成容易性的观点，优选各自独立地表示1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-或-C≡C-的碳原子数1至20的亚烷基，更优选各自独立地表示1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-COO-、-OCO-的碳原子数1至10的亚烷基或单键，进一步优选各自独立地表示碳原子数1至10的亚烷基或单键，当存在多个时，各自可以相同也可以不同，特别优选各自独立地表示碳原子数1至8的亚烷基。
X1及X2表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当X1及X2存在多个时，它们可以相同也可以不同。从原料取得容易性及合成容易性的观点，当X1及X2存在多个时，各自可以相同也可以不同，优选各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或单键，更优选各自独立地表示-O-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或单键，当存在多个时，各自可以相同也可以不同，特别优选各自独立地表示-O-、-COO-、-OCO-或单键。
k1及k2各自独立地表示0至10的整数，优选各自独立地表示0至5的整数，更优选各自独立地表示0至2的整数，特别优选各自表示1。
当R1及R2表示受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基时，作为保护基，例如优选为GREENE’S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS(GREENE的有机合成中的保护基)((第四版)、PETER G.M.WUTS、THEODORA W.GREENE共著，John Wiley&Sons,Inc.,Publication)等所举出的保护基，更具体而言，关于R1及R2，可各自独立地列举：四氢吡喃氧基、叔丁氧基、甲氧基甲氧基、乙氧基甲氧基、乙酰氧基、苄氧基、四氢吡喃氧基羰基、叔丁氧基羰基、甲氧基甲氧基羰基、乙氧基甲氧基羰基、苄氧羰基等。
当R1表示以P1-(Sp1-X1)k1-表示的基团及受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基以外的基团时及当R2表示以P2-(Sp2-X2)k2-表示的基团及受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基以外的基团时，从液晶性及合成容易性的观点，R1及R2优选各自独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，更优选各自独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、或者1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-取代的碳原子数1至12的直链或分支烷基，进一步优选各自独立地表示氢原子、氟原子、氯原子或者碳原子数1至12的直链烷基或直链烷氧基，特别优选各自独立地表示碳原子数1至12的直链烷基或直链烷氧基。
当重视制成膜时的机械强度时，优选存在于通式(I)表示的化合物中的R1及R2中的至少一者表示以P1-(Sp1-X1)k1-表示的基团或以P2-(Sp2-X2)k2-表示的基团，更优选存在的R1及R2两者表示以P1-(Sp1-X1)k1-表示的基团及以P2-(Sp2-X2)k2-表示的基团。
在通式(I)中，A1及A2各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或1,3-二烷-2,5-二基，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基L取代。A1及A2更优选各自独立地表示未经取代或可被1个以上的取代基L取代的1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、萘-2,6-二基，进一步优选各自独立地表示选自下述式(A-1)至式(A-11)中的基团，
进一步更优选各自独立地表示选自式(A-1)至式(A-8)中的基团，特别优选各自独立地表示选自式(A-1)至式(A-4)中的基团。
在通式(I)中，L表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者，L可表示以PL-(SpL-XL)kL-表示的基团，此处PL表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpL表示1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-取代的碳原子数1至10的直链状亚烷基或单键，当SpL存在多个时，它们可以相同也可以不同，XL表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XL存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PL-(SpL-XL)kL-中不含有-O-O-键)，kL表示0至10的整数，当化合物内存在多个L时，它们可以相同也可以不同。从液晶性及合成容易性的观点，关于L，优选当存在多个时各自可以相同也可以不同，且表示氟原子、氯原子、五氟硫烷基、硝基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、或任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-中的基团取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，更优选当存在多个时各自可以相同也可以不同，且表示氟原子、氯原子、或任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被选自-O-、-CO-、-COO-或-OCO-中的基团取代的碳原子数1至12的直链状或分支状烷基，进一步优选当存在多个时各自可以相同也可以不同，且表示氟原子、氯原子、或任意氢原子可被取代成氟原子的碳原子数1至12的直链状或分支状烷基或者烷氧基，特别优选当存在多个时各自可以相同也可以不同，且表示氟原子、氯原子或碳原子数1至8的直链烷基或者直链烷氧基。
在通式(I)中，Z1及Z2各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-OCO-NH-、-NH-COO-、-NH-CO-NH-、-NH-O-、-O-NH-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-、-N＝CH-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当Z1存在多个时，它们可以相同也可以不同，当Z2存在多个时，它们可以相同也可以不同，但存在的Z1及Z2中的至少1个表示选自-COO-或-OCO-中的基团。在通式(I)中，当m1与m2的合计值为3以上时，存在的Z1及Z2中，邻接于G1的Z1或者Z2的至少任一者或与邻接于G1的(A1-Z1)单元或者(Z2-A2)单元邻接的Z1或者Z2的至少任一者优选表示选自-COO-或-OCO-中的基团。从液晶性、原料取得容易性及合成容易性的观点，Z1及Z2优选各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CF2O-、-OCF2-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，更优选表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CF2O-、-OCF2-、-CH2CH2-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-CH＝CH-、-C≡C-或单键，进一步优选表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CF2O-、-OCF2-或单键，进一步更优选表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-或单键，特别优选表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-。
在通式(I)中，G1表示具有选自由芳香族烃环或芳香族杂环组成的组中的至少1个芳香环的2价基团，以G1表示的基团中的芳香环所含的π电子数为12以上，以G1表示的基团可未经取代或被1个以上的取代基LG1取代。当重视逆波长分散性时，G1优选为在300nm至900nm具有吸收最大值的基团，更优选为在310nm至500nm具有吸收最大值的基团。从化合物的液晶性、原料取得容易性及合成容易性的观点，G1更优选表示选自下述式(M-1)至式(M-6)的基团、或选自(M-7)至式(M-14)的基团，
(式中，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-，T1表示选自下述式(T1-1)至式(T1-6)中的基团，
(式中，可在任意位置具有连接键，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-。此处，可在任意位置具有连接键是指例如当式(T1-1)连接于式(M-1)至式(M-6)的T1时，在式(T1-1)的任意位置具有1个连接键(以下，在本发明中，可在任意位置具有连接键表示相同的含义。)。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)。)
(式中，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-，T2表示选自下述式(T2-1)或式(T2-2)中的基团，
(式中，W1表示可经取代的碳原子数1至40的包含芳香族基及/或非芳香族基的基团，该芳香族基可为烃环或杂环，该非芳香族基可为烃基或烃基的任意碳原子被取代成杂原子的基团(但氧原子彼此不直接连接)，
W2表示氢原子或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者W2可表示具有至少1个芳香族基的碳原子数2至30的基团(但碳原子数不包含芳香族基的碳原子数)，该基团可未经取代或被1个以上的取代基LW取代，或者W2可表示以PW-(SpW-XW)kW-表示的基团，此处PW表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，优选的聚合性基团表示与上述P1定义的基团相同的基团，SpW表示间隔基团或单键，优选的间隔基团表示与上述Sp1定义的基团相同的基团，当SpW存在多个时，它们可以相同也可以不同，XW表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XW存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PW-(SpW-XW)kW-中不含有-O-O-键)，kW表示0至10的整数，
LW表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LW可表示以PLW-(SpLW-XLW)kLW-表示的基团，此处PLW表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpLW表示间隔基团或单键，当SpLW存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLW表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLW存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PLW-(SpLW-XLW)kLW-中不含有-O-O-键)，kLW表示0至10的整数，当化合物内存在多个LW时，它们可以相同也可以不同，
Y表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者Y可表示以PY-(SpY-XY)kY-表示的基团，PY表示聚合性基团，优选的聚合性基团表示与上述P1定义的基团相同的基团，SpY表示间隔基团或单键，优选的间隔基团表示与上述Sp1定义的基团相同的基团，当SpY存在多个时，它们可以相同也可以不同，XY表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XY存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PY-(SpY-XY)kY-中不含有-O-O-键)，kY表示0至10的整数，W1及W2可成为一体而形成环结构。)。)从在溶剂中的溶解性、合成容易性的观点，G1进一步优选表示选自上述式(M-1)、式(M-3)、式(M-4)、式(M-7)、式(M-8)中的基团，进一步更优选表示选自式(M-1)、式(M-7)、式(M-8)中的基团，特别优选表示选自式(M-7)、式(M-8)中的基团。更具体而言，作为以式(M-1)表示的基团，优选表示选自下述式(M-1-1)至式(M-1-6)中的基团，
(式中，T1表示与上述相同的含义，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)更优选表示选自式(M-1-4)或式(M-1-5)中的基团，特别优选表示以式(M-1-5)表示的基团。作为以式(M-3)表示的基团，优选表示选自下述式(M-3-1)至式(M-3-6)中的基团，
(式中，T1表示与上述相同的含义，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)更优选表示选自式(M-3-4)或式(M-3-5)中的基团，特别优选表示以式(M-3-5)表示的基团。作为以式(M-4)表示的基团，优选表示选自下述式(M-4-1)至式(M-4-6)中的基团，
(式中，T1表示与上述相同的含义，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)更优选表示选自式(M-4-4)或式(M-4-5)中的基团，特别优选表示以式(M-4-5)表示的基团。作为以式(M-7)至式(M-14)表示的基团，优选表示下述式(M-7-1)至式(M-14-1)表示的基团，
(式中，T2表示与上述相同的含义。)更优选表示选自式(M-7-1)至式(M-12-1)中的基团，特别优选表示以式(M-7-1)或式(M-8-1)表示的基团。
另外，在式(M-1)至式(M-6)中，从波长分散性、合成容易性的观点，T1优选表示选自式(T1-1)、式(T1-2)、式(T1-3)、式(T1-6)中的基团，更优选表示选自式(T1-3)、式(T1-6)中的基团，特别优选表示式(T1-3)。更具体而言，作为以式(T1-1)表示的基团，优选表示选自下述式(T1-1-1)至式(T1-1-7)中的基团，
(式中，可在任意位置具有连接键，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)更优选表示选自式(T1-1-2)、式(T1-1-4)、式(T1-1-5)、式(T1-1-6)、式(T1-1-7)中的基团。作为以式(T1-2)表示的基团，优选表示选自下述式(T1-2-1)至式(T1-2-8)中的基团，
(式中，可在任意位置具有连接键。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)更优选表示以式(T1-2-1)表示的基团。作为以式(T1-3)表示的基团，优选表示选自下述式(T1-3-1)至式(T1-3-8)中的基团，
(式中，可在任意位置具有连接键，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)更优选表示以式(T1-3-2)、式(T1-3-3)、式(T1-3-6)、式(T1-3-7)表示的基团。作为以式(T1-4)表示的基团，优选表示选自下述式(T1-4-1)至式(T1-4-6)中的基团。
(式中，可在任意位置具有连接键，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)作为以式(T1-5)表示的基团，优选表示选自下述式(T1-5-1)至式(T1-5-9)中的基团。
(式中，可在任意位置具有连接键，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)作为以式(T1-6)表示的基团，优选表示选自下述式(T1-6-1)至式(T1-6-7)中的基团。
(式中，可在任意位置具有连接键。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)
LG1从合成容易性、原料取得容易性、液晶性的观点，优选表示氟原子、氯原子、硝基、氰基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、或基团中的任意氢原子可取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，优选表示氟原子、氯原子、硝基、氰基、甲基氨基、二甲基氨基、或基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-或-CO-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，更优选表示氟原子、氯原子、硝基、氰基、甲基氨基、二甲基氨基、或基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-取代的碳原子数1至10的直链状烷基，进一步更优选表示氟原子、氯原子、硝基、氰基、二甲基氨基、或基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-取代的碳原子数1或2的直链状烷基。
在通式(I)中，以G1表示的基团可未经取代或被1个以上的取代基LG1取代，当G1表示基团中的芳香环所含的π电子数为12以上且具有选自由芳香族烃环或芳香族杂环组成的组中的至少1个芳香环的2价基团时，G1更优选表示选自下述式(G-1)至式(G-22)中的基团。
(式中，LG1、Y、W2表示与前述相同的含义，q表示0至5的整数，r表示0至4的整数，s表示0至3的整数，t表示0至2的整数，u表示0或1。另外，这些基团可左右反转。)在上述式(G-1)至式(G-10)中，更优选为选自式(G-1)、式(G-3)、式(G-5)、式(G-6)、式(G-7)、式(G-8)、式(G-10)中的基团，进一步更优选t为0的情形，特别优选为选自下述式(G-1-1)至式(G-10-1)中的基团。
(式中，这些基团可左右反转。)另外，在上述式(G-11)至式(G-22)中，更优选Y表示氢原子，进一步优选r、s、t、u表示0，特别优选表示选自下述式(G-11-1)至式(G-20-1)中的基团。
另外，在通式(I)中，G1可表示以AG表示的基团，AG表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基、四氢吡喃-2,5-二基或1,3-二烷-2,5-二基，这些基团被至少1个以上的取代基LAG取代。从合成容易性、在溶剂中的溶解性及液晶性的观点，AG优选表示经至少1个以上的取代基LAG取代的1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、萘-2,6-二基，更优选表示选自下述式(AG-1)至式(AG-8)中的基团，
进一步优选表示选自式(AG-1)、式(AG-2)、式(AG-6)或式(AG-7)中的基团，特别优选表示选自式(AG-1)或式(AG-2)中的基团。
LAG表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LAG可表示以PLAG-(SpLAG-XLAG)kLAG-表示的基团，此处PLAG表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpLAG表示间隔基团或单键，当SpLAG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLAG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLAG存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PLAG-(SpLAG-XLAG)kLAG-中不含有-O-O-键)，kLAG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LAG时，它们可以相同也可以不同，存在于化合物内的LAG中的至少1个以上表示下述的基团：1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基中，该基团中的至少1个以上的-CH2-经-CO-取代的基团。从合成容易性及原料取得容易性的观点，LAG优选表示下述的基团：基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基中，该基团中的至少1个以上的-CH2-经-CO-取代的基团；LAG更优选表示下述的基团：基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状烷基中，该基团中的至少1个以上的-CH2-经-CO-取代的基团；LAG进一步优选表示下述的基团：基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状烷基中，末端部的-CH2-经-CO-取代的基团；LAG进一步更优选表示末端部的-CH2-经-CO-取代的碳原子数1至20的直链状烷基；LAG进一步更优选表示末端部的-CH2-经-CO-取代的碳原子数1至10的直链状烷基；LAG特别优选表示甲酰基。此处，末端部的-CH2-表示LAG所含的-CH2-中直接连接于AG的-CH2-。
另外，当通式(I)中G1表示以CG表示的基团时，以CG表示的基团表示未经取代或可被1个以上的取代基LCG取代的具有手性结构的基团。CG优选表示选自下述式(C-1)至式(C-4)中的基团或选自下述式(C-5)至式(C-12)中的基团。
(式中，可在任意位置具有连接键，任意的-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的取代基LCG取代。)
(式中，在＊的位置，与以Z1及Z2表示的基团连接，这些基团可未经取代或被1个以上的取代基LCG取代。)从产率及品质的观点，CG更优选表示未经取代或可被1个以上的取代基LCG取代的选自上述式(C-1)至式(C-4)、式(C-10)、式(C-11)或式(C-12)中的基团，进一步优选表示未经取代或可被1个以上的取代基LCG取代的选自上述式(C-10)、式(C-11)或式(C-12)中的基团，特别优选表示以上述式(C-12)表示的基团。
LCG从合成容易性、原料取得容易性、液晶性的观点，优选表示氟原子、氯原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、或任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-中的基团取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，LCG更优选表示氟原子、氯原子、或任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被选自-O-、-COO-或-OCO-中的基团取代的碳原子数1至12的直链状或分支状烷基，LCG进一步优选表示氟原子、氯原子、或任意氢原子可被取代成氟原子的碳原子数1至12的直链状或分支状烷基或者烷氧基，LCG特别优选表示氟原子、氯原子、或碳原子数1至8的直链烷基或者直链烷氧基。
在通式(I)中，m1及m2各自独立地表示0至8的整数，从液晶性、溶解性、合成容易性及原料取得容易性的观点，优选各自独立地表示0至6的整数，更优选各自独立地表示0至4的整数，进一步优选各自独立地表示1至3的整数，特别优选各自独立地表示1或2。
上述酯化工序可采用与使用缩合剂的公知反应条件相同的条件。即，反应溶剂优选为非质子性溶剂，例如可列举：氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、丙酮、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲亚砜、二乙醚、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸甲酯、环己酮、1,4-二烷、二氯甲烷、苯乙烯、四氢呋喃、吡啶、1-甲基-2-吡咯烷酮、甲苯、己烷、环己烷、庚烷、苯、甲基异丁基酮、叔丁基甲醚、甲基乙基酮等。当反应体系中的水含量多时，为了防止因水造成的缩合剂的钝化，优选使用水溶性低的溶剂。这种情况下，例如可列举：氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸甲酯、环己酮、二氯甲烷、苯乙烯、甲苯、己烷、环己烷、庚烷、苯等。酯化工序的反应温度优选为-80℃至200℃中的任一温度，更优选为-50℃至150℃中的任一温度，进一步优选为-20℃至120℃中的任一温度，进一步更优选为0℃至60℃中的任一温度，特别优选为室温。
从缩合剂稳定性的观点，优选尽可能地从反应体系将水分去除，更优选在干燥空气中进行反应，特别优选在氮或氩等非活性气体气氛中进行反应。
在上述酯化工序后，可视需要进行纯化。作为纯化方法，可列举：色谱法、重结晶、蒸馏、升华、再沈淀、吸附、过滤、分液处理等。当使用纯化剂时，可列举硅胶、氧化铝、活性炭、活性白土、铈硅石、沸石、介孔二氧化硅、纳米碳管、碳纳米角、备长炭、木炭、石墨烯、离子交换树脂、酸性白土、二氧化硅、硅藻土、珍珠岩、纤维素、有机聚合物、多孔质凝胶等作为纯化剂。
在上述酯化工序中，可采用与使用缩合剂的公知反应条件相同的条件。即，反应溶剂优选为非质子性溶剂，例如可列举：氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、丙酮、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲亚砜、二乙醚、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸甲酯、环己酮、1,4-二烷、二氯甲烷、苯乙烯、四氢呋喃、吡啶、1-甲基-2-吡咯烷酮、甲苯、己烷、环己烷、庚烷、苯、甲基异丁基酮、叔丁基甲醚、甲基乙基酮等。当反应体系中的水含量多时，为了防止因水造成的缩合剂的钝化，优选使用水溶性低的溶剂。这种情况下，例如可列举：氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸甲酯、环己酮、二氯甲烷、苯乙烯、甲苯、己烷、环己烷、庚烷、苯等。酯化工序的反应温度优选为-80℃至200℃中的任一温度，更优选为-50℃至150℃中的任一温度，进一步优选为-20℃至120℃中的任一温度，进一步更优选为0℃至60℃中的任一温度，特别优选为室温。
从缩合剂稳定性的观点，优选尽可能地从反应体系将水分去除，更优选在干燥空气中进行反应，特别优选在氮或氩等非活性气体气氛中进行反应。
在上述酯化工序后，可视需要进行纯化。作为纯化方法，可列举：色谱法、重结晶、蒸馏、升华、再沈淀、吸附、过滤、分液处理等。当使用纯化剂时，可列举硅胶、氧化铝、活性炭、活性白土、铈硅石、沸石、介孔二氧化硅、纳米碳管、碳纳米角、备长炭、木炭、石墨烯、离子交换树脂、酸性白土、二氧化硅、硅藻土、珍珠岩、纤维素、有机聚合物、多孔质凝胶等作为纯化剂。
若根据本申请发明的制造方法，则由于使用通过混合工序得到的反应混合物进行酯化工序，因此可相比于以往的制法抑制来自缩合剂的副产物的生成，尤其当使用具有碳二亚胺结构的化合物作为缩合剂时，可相比于以往的制法更显著地抑制副产物即N-酰基脲的生成。此时，上述N-酰基脲的生成量会因反应体系而有所不同，并无特别限定，但相对于产物即具有酯基的化合物的理论产率，作为上限值可设为5.0％以下，优选设为2.0％以下，更优选设为1.5％以下，作为下限值可设为0.1％以上。
本申请发明的制造方法如上述，由于可抑制副产物的生成，因此可提升具有酯基的化合物的产率。此时，关于具有酯基的化合物的产率，以理论产率为基准，作为下限值可设为75％以上，优选设为80％以上，更优选设为85％以上，进一步优选设为90％以上，作为上限值可设为99.9％以下。
本申请发明包含通过本申请发明的制造方法制造的具有酯基的化合物，及以该化合物作为合成中间体所制造的衍生物。
具有酯基的化合物或其衍生物优选为上述通式(I)表示的化合物。此处，关于具有酯基的化合物的衍生物，为将通过酯化工序得到的具有酯基的化合物作为合成中间体而制造的衍生物即可，并无特别限定，该具有酯基的化合物的衍生物与具有酯基的化合物同样地，优选为上述通式(I)表示的化合物。
具有酯基的化合物或其衍生物从可容易构成聚合性组合物的观点，优选具有聚合性基团。作为聚合性基团，优选为上述P1表示的基团。
具有酯基的化合物或其衍生物从可容易构成液晶性组合物的观点，优选具有液晶性。
通过将具有酯基的化合物或其衍生物使用于聚合物的原料，可提升聚合物的耐热性、耐光性。其原因虽然尚未确定，但认为是由于本申请发明的具有酯基的化合物或其衍生物中的来自于酯化工序的杂质的含量低的缘故。作为杂质，例如可列举当使用具有碳二亚胺结构的化合物作为缩合剂时副生成的N-酰基脲。作为N-酰基脲，可列举下述式(a-4-1)或式(a-4-2)表示的化合物。
(式中，Ra1及Ra2各自表示与通式(a-1)中的Ra1及通式(a-2)中的Ra2相同的含义，ma1及ma2表示与通式(a-1)中的ma1及通式(a-2)中的ma2相同的含义，Ra3及Ra4表示碳二亚胺上的取代基，但在式(a-4-1)及式(a-4-2)中Ra3及Ra4可替换，ma1A表示1至20的整数。)作为Ra3及Ra4，可列举氢原子或碳原子数1～100的有机基团。
作为本申请发明的优选实施方式，可列举制造适合作为聚合性液晶组合物的原料的具有酯基的化合物的衍生物。即，本申请发明包含具有酯基的化合物的衍生物的制造方法，该制造方法包括下述第1制造工序与第2制造工序，
第1制造工序：将缩合剂、布仑斯惕酸、羧酸及酚或醇加以混合来组成反应混合物，在前述反应混合物中使羧酸与酚或醇进行缩合反应，得到合成中间体即通式(I-i)表示的化合物，
(式中，R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2相同的含义，AG表示与通式(I)中的AG相同的含义。)
第2制造工序：基于上述合成中间体，得到以通式(I-ii)表示的化合物，
(式中，R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2相同的含义，M表示选自下述式(M-1)至式(M-6)中的基团或选自下述式(M-7)至式(M-14)中的基团，
(式中，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-，T1表示选自下述式(T1-1)至式(T1-6)中的基团，
(式中，可在任意位置具有连接键，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-。此处，可在任意位置具有连接键是指例如当式(T1-1)连接于式(M-1)至式(M-6)的T1时，在式(T1-1)的任意位置具有1个连接键(以下，在本发明中，可在任意位置具有连接键表示相同的含义。)。另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代。)。)
(式中，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-(式中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基。)、-CS-或-CO-，T2表示选自下述式(T2-1)或式(T2-2)中的基团，
(式中，W1表示可经取代的碳原子数1至40的包含芳香族基及/或非芳香族基的基团，该芳香族基可为烃环或杂环，该非芳香族基可为烃基或烃基的任意碳原子被取代成杂原子的基团(但氧原子彼此不直接连接。)，
W2表示氢原子或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者W2可表示具有至少1个芳香族基的碳原子数2至30的基团(但碳原子数不包含芳香族基的碳原子数)，该基团可未经取代或被1个以上的取代基LW取代，或者W2可表示以PW-(SpW-XW)kW-表示的基团，此处PW表示聚合性基团，优选的聚合性基团表示与上述P1定义的基团相同的基团，SpW表示间隔基团或单键，优选的间隔基团表示与上述Sp1定义的基团相同的基团，当SpW存在多个时，它们可以相同也可以不同，XW表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XW存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PW-(SpW-XW)kW-中不含有-O-O-键)，kW表示0至10的整数，
LW表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LW可表示以PLW-(SpLW-XLW)kLW-表示的基团，此处PLW表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，SpLW表示间隔基团或单键，当SpLW存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLW表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLW存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PLW-(SpLW-XLW)kLW-中不含有-O-O-键)，kLW表示0至10的整数，当化合物内存在多个LW时，它们可以相同也可以不同，
Y表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者Y可表示以PY-(SpY-XY)kY-表示的基团，PY表示聚合性基团，优选表示通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合及阴离子聚合进行聚合的基团，优选的聚合性基团表示与上述P1定义的基团相同的基团，SpY表示间隔基团或单键，优选的间隔基团表示与上述Sp1定义的基团相同的基团，当SpY存在多个时，它们可以相同也可以不同，XY表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XY存在多个时，它们可以相同也可以不同(但PY-(SpY-XY)kY-中不含有-O-O-键)，kY表示0至10的整数，W1及W2可成为一体而形成环结构。)。)。
以通式(I-i)表示的化合物优选为下述通式(I-i-1)表示的化合物，
(式中，R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2相同的含义，AG表示与通式(I)中的AG相同的含义。)
(式中，R11、R21、A11、A21、Z11、Z21及LAG表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2及LAG相同的含义，m11及m21各自独立地表示0至4的整数，r表示0至4的整数。)更优选为下述通式(I-i-1-1)表示的化合物，
(式中，R11、R21及LAG表示与通式(I)中的R1、R2及LAG相同的含义，r表示0至4的整数，A111及A212各自独立地表示可经取代基L取代的1,4-亚环己基或1,4-亚苯基，A112及A211各自独立地表示可经取代基L取代的1,4-亚环己基，Z111及Z212各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-或单键，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-，Z111、Z212、Z112或Z211中的至少1个表示选自-COO-或-OCO-中的基团。)进一步优选为下述通式(I-i-1-1-1)表示的化合物，
(式中，R11、R21、L及LAG表示与通式(I)中的R1、R2、L及LAG相同的含义，r各自独立地表示0至4的整数，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-。)进一步更优选为下述通式(I-i-1-1-1-1)表示的化合物，
(式中，P11及P21各自表示与P1及P2相同的含义，Sp11及Sp21各自表示与Sp1及Sp2相同的含义，X11及X21各自表示与X1及X2相同的含义，k11及k21各自表示与k1及k2相同的含义，L表示与通式(I)中的L相同的含义，LAG表示与通式(I)中的LAG相同的含义，r各自独立地表示0至4的整数，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-。)特别优选为下述通式(I-i-1-1-1-1-1)表示的化合物。
(式中，P11及P21各自表示与P1及P2相同的含义，Sp11及Sp21各自表示与Sp1及Sp2相同的含义，X11及X21各自表示与X1及X2相同的含义，k11及k21各自表示与k1及k2相同的含义，Y1表示氢原子。)其中，在上述(I-i)～(I-i-1-1-1-1)式中，LAG的优选结构与上述相同。
以通式(I-ii)表示的化合物具体而言优选为下述通式(I-ii-1)表示的化合物，
(式中，R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2相同的含义，M表示选自上述式(M-1)至式(M-14)中的基团。)
(式中，R11、R21、A11、A21、Z11及Z21表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1及Z2相同的含义，m11及m21各自独立地表示0至4的整数，T2表示与上述式(T2-1)或式(T2-2)相同的含义。)更优选为下述通式(I-ii-1-1)表示的化合物，
(式中，R11及R21各自表示与通式(I)中的R1及R2相同的含义，T2表示与上述式(T2-1)或式(T2-2)相同的含义，A111及A212各自独立地表示可经取代基L取代的1,4-亚环己基或1,4-亚苯基，A112及A211各自独立地表示可经取代基L取代的1,4-亚环己基，Z111及Z212各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-或单键，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-，Z111、Z212、Z112或Z211中的至少1个表示选自-COO-或-OCO-中的基团。)进一步优选为下述通式(I-ii-1-1-1)表示的化合物，
(式中，R11、R21及L表示与通式(I)中的R1、R2及L相同的含义，T2表示与上述式(T2-1)或式(T2-2)相同的含义，r各自独立地表示0至4的整数，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-。)进一步更优选为下述通式(I-ii-1-1-1-1)表示的化合物，
(式中，P11及P21各自表示与P1及P2相同的含义，Sp11及Sp21各自表示与Sp1及Sp2相同的含义，X11及X21各自表示与X1及X2相同的含义，k11及k21各自表示与k1及k2相同的含义，L表示与通式(I)中的L相同的含义，r各自独立地表示0至4的整数，T2表示与上述式(T2-1)或式(T2-2)相同的含义，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-。)进一步更优选为下述通式(I-ii-1-1-1-2)表示的化合物，
(式中，P11及P21各自表示与P1及P2相同的含义，Sp11及Sp21各自表示与Sp1及Sp2相同的含义，X11及X21各自表示与X1及X2相同的含义，k11及k21各自表示与k1及k2相同的含义，L表示与通式(I)中的L相同的含义，LG1表示与通式(I)中的LG1相同的含义，r各自独立地表示0至4的整数，Y及W2表示与式(T2-1)或式(T2-2)中的Y及W2相同的含义，Z112及Z211各自独立地表示-OCH2-、-CH2O-、-COO-或-OCO-。)特别优选为下述通式(I-ii-1-1-1-2-1)表示的化合物。
(式中，P11及P21各自表示与P1及P2相同的含义，Sp11及Sp21各自表示与Sp1及Sp2相同的含义，X11及X21各自表示与X1及X2相同的含义，k11及k21各自表示与k1及k2相同的含义，LG1表示与通式(I)中的LG1相同的含义，r各自独立地表示0至4的整数，W2表示与式(T2-1)或式(T2-2)中的W2相同的含义，Y1表示氢原子。)
上述通式(I-ii-1)表示的化合物优选从上述通式(I-i-1)表示的合成中间体制造，上述通式(I-ii-1-1)表示的化合物优选从上述通式(I-i-1-1)表示的合成中间体制造，上述通式(I-ii-1-1-1)表示的化合物优选从上述通式(I-i-1-1-1)表示的合成中间体制造，上述通式(I-ii-1-1-1-1)表示的化合物优选从上述通式(I-i-1-1-1-1)表示的合成中间体制造，上述通式(I-ii-1-1-1-2)表示的化合物优选从上述通式(I-i-1-1-1-1)表示的合成中间体制造，上述通式(I-ii-1-1-1-2-1)表示的化合物优选从上述通式(I-i-1-1-1-1-1)表示的合成中间体制造。
上述通式(I-ii-1)表示的化合物优选为单体且具有液晶性的化合物，或是为单体时不具有液晶性但与其他成分混合而制成组合物时具有液晶性的化合物。
在第1制造工序中，上述通式(I-ii-1)、通式(I-ii-1-1)、通式(I-ii-1-1-1)、通式(I-ii-1-1-1-1)、通式(I-ii-1-1-1-2)及通式(I-ii-1-1-1-2-1)表示的化合物各自更优选通过通式(I-i-1)、通式(I-i-1-1)、通式(I-i-1-1-1)、通式(I-i-1-1-1-1)、通式(I-i-1-1-1-1)及通式(I-i-1-1-1-1-1)表示的化合物与下述式(I-iii-1)或式(I-iii-2)表示的化合物的反应来制造。
(式中，W1及W2各自表示与上述式(T2-1)及式(T2-2)中的W1及W2相同的含义。)作为式(I-iii-1)或式(I-iii-2)表示的化合物，进一步优选W1及W2为选自上述优选结构中的基团，进一步更优选为选自下述式(I-iii-1-1)至式(I-iii-2-5)中的化合物。
(式中，LG1、W2表示与前述相同的含义，q表示0至5的整数，r表示0至4的整数，s表示0至3的整数，t表示0至2的整数，u表示0或1。)进一步优选上述式(I-iii-1-1)至式(I-iii-2-5)中，r、s、t、u表示0。更具体而言，可列举下述式(I-iii-1-1-1)至式(I-iii-2-3-1)表示的化合物。
关于上述具有酯基的化合物的衍生物的制造方法，由于在第1制造工序得到的合成中间体的纯度高，可将杂质去除工序简略化或省略，因此，可提升具有酯基的化合物的衍生物的生产率。另外，关于通过该制造方法得到的具有酯基的化合物的衍生物，通过使用于聚合物的材料，可提升所得到的聚合物的耐热性、耐光性。
上述具有酯基的化合物及其衍生物优选使用于聚合性液晶组合物。聚合性液晶组合物优选为向列液晶组合物、近晶液晶组合物、手性近晶液晶组合物及胆甾醇液晶组合物。
聚合性液晶组合物可添加公知的化合物。聚合性液晶组合物中，可在不会大幅损害该组合物的液晶性的程度下添加不具液晶性的化合物。另外，本申请发明的聚合性液晶组合物可含有光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，可使用公知的光聚合引发剂，例如可列举：苯偶姻醚类、二苯甲酮类、苯乙酮类、苯偶酰缩酮类、酰基氧化膦类等。作为光聚合引发剂的具体例，可列举：2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮(IRGACURE 907)、苯甲酸[1-[4-(苯硫基)苯甲酰基]亚庚基]氨基酯(IRGACURE OXE 01)等。作为热聚合引发剂，可列举偶氮化合物、过氧化物等。作为热聚合引发剂的具体例，可列举2,2’-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮二(异丁腈)等。另外，可使用1种聚合引发剂，也可将2种以上的聚合引发剂并用。
该聚合性液晶组合物由于含有通过本申请发明的制造方法所得到的具有酯基的化合物或其衍生物，因此，可使将该聚合性液晶组合物聚合而得到的聚合物的耐热性、耐光性良好。
作为耐热性的评价方法，例如可将聚合物制成膜状样品，以规定的条件加热后，观察样品的变质程度，从而进行评价。加热条件例如可采用90℃、200小时。
作为耐光性的评价方法，例如可将聚合物制成膜状样品，进行规定条件的日晒试验(SUNTEST)，观察样品的变质程度，从而进行评价。日晒试验的条件例如可使用氙灯照射试验机，采用60mW/cm2、28℃且120J的照射条件。
为了从聚合性液晶组合物得到膜状聚合物，可在基板上载持聚合性液晶组合物，以涂膜状态进行聚合。作为在基板上载持聚合性液晶组合物时的方法，可列举旋转涂布、模具涂布、挤出涂布、辊涂布、线棒涂布、凹版涂布、喷涂、浸渍、印刷法等。另外，涂布时，可在聚合性液晶组合物添加有机溶剂。作为有机溶剂，可使用烃系溶剂、卤化烃系溶剂、醚系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂、非质子性溶剂等，例如作为烃系溶剂，可列举甲苯或己烷，作为卤化烃系溶剂，可列举氯化甲烷，作为醚系溶剂，可列举四氢呋喃、乙酰氧基-2-乙氧基乙烷或丙二醇单甲基醚乙酸酯，作为醇系溶剂，可列举甲醇、乙醇或异丙醇，作为酮系溶剂，可列举丙酮、甲基乙基酮、环己酮、γ-丁内酯或N-甲基吡咯烷酮类，作为酯系溶剂，可列举乙酸乙酯或溶纤剂，作为非质子性溶剂，可列举二甲基甲酰胺或乙腈。它们可单独使用，也可组合使用，考虑其蒸气压和聚合性液晶组合物的溶解性，作适当选择即可。作为使添加的有机溶剂挥发的方法，可使用自然干燥、加热干燥、减压干燥、减压加热干燥。为了进一步提升聚合性液晶材料的涂布性，在基板上设置聚酰亚胺薄膜等中间层、在聚合性液晶材料中添加流平剂也有效。在基板上设置聚酰亚胺薄膜等中间层的方法对于提升通过将聚合性液晶材料聚合所得到的聚合物与基板的密合性有效。
作为上述以外的取向处理，可列举利用液晶材料的流动取向、利用电场或磁场。这些取向方法可单独使用，也可组合使用。进一步，作为替代摩擦的取向处理方法，可使用光取向法。作为基板形状，除了平板之外，也可具有曲面作为构成部分。构成基板的材料无论有机材料、无机材料，皆可使用。作为成为基板材料的有机材料，例如可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚芳酯、聚砜、三乙酰纤维素、纤维素、聚醚醚酮等，另外，作为无机材料，例如可列举硅、玻璃、方解石等。
在使聚合性液晶组合物聚合时，由于期望迅速地进行聚合，因此优选通过照射紫外线或电子射线等活性能量射线使其聚合的方法。当使用紫外线时，可使用偏光光源，可使用非偏光光源。另外，当在将液晶组合物夹持于2片基板间的状态下进行聚合时，至少照射面侧的基板必须相对于活性能量射线具有适当的透明性。另外，也可使用下述方法：在光照射时使用掩模仅使特定部分聚合后，改变电场、磁场或温度等条件，从而改变未聚合部分的取向状态，并进一步照射活性能量射线使其聚合。另外，照射时的温度优选在本发明的聚合性液晶组合物的液晶状态得以保持的温度范围内。尤其当想通过光聚合来制造光学各向异性体时，为了避免诱发不期望的热聚合，也优选在尽可能接近室温的温度、即典型而言25℃的温度使其聚合。活性能量射线的强度优选为0.1mW/cm2～2W/cm2。当强度在0.1mW/cm2以下时，完成光聚合需要花费大量时间，生产率会恶化，而当在2W/cm2以上时，会有聚合性液晶化合物或聚合性液晶组合物劣化的危险。
本申请发明含有由本申请发明的制造方法所得到的N-酰基脲组合物，该N-酰基脲组合物含有下述通式(a-5)表示的具有酯基的化合物与下述通式(a-6)表示的N-酰基脲，N-酰基脲相对于具有酯基的化合物的物质量比为0.003以上0.05以下。
(式中，Ra5及Ra6表示碳原子数1至1000的有机基团。)
(式中，Ra5表示与前述相同的含义，Ra3及Ra4表示碳原子数1～100的有机基团。)关于该物质量比，从生产率的观点，优选为0.004以上0.005以下，从将该组合物作为光学各向异性体的合适原料的观点，优选为0.03以下，更优选为0.02以下，进一步优选为0.01以下。
N-酰基脲组合物可含有具有碳二亚胺结构的化合物。关于具有碳二亚胺结构的化合物的含量，以相对于具有酯基的化合物的物质量比计，优选为0.001以上0.5以下。
实施例
以下虽举出实施例进一步叙述本发明，但本发明并不限定于这些实施例。另外，以下的实施例及比较例的组合物中的“％”意思是“质量％”，产率则是基于产物即具有酯基的化合物的理论产率而算出的。在各工序中当处理对氧及/或水分不稳定的物质时，在氮气、氩气等非活性气体中进行操作。
(气相色谱法分析条件)
柱：Agilent Technologies(安捷伦科技)，J&W Column DB-1HT，15m×0.25mm×0.10μm
温度程序：100℃(保持1分钟)-(升温速度20℃/分钟)-250℃-(升温速度10℃/分钟)-380℃-(升温速度7℃/分钟)-400℃(保持2.64分钟)
注入口温度：350℃
检测器温度：400℃
(液相色谱法分析条件)
柱：Waters(沃特世)ACQUITY UPLC BEH C18，2.1×100mm，1.7μm
溶出溶剂：0.1％甲酸-乙腈/水(90：10)或乙腈/水(90：10)
流速：0.5mL/分钟
检测器：UV
柱烘箱：40℃
(实施例1)式(I-1)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-1-1)表示的化合物5.0g、以式(I-1-2)表示的化合物4.4g、4-二甲基氨基吡啶0.69g、二氯甲烷50mL、甲磺酸0.73g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.9g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-1)表示的化合物8.5g。以式(I-1)表示的化合物的产率为95％。反应后，生成了1.1％的以式(I-1-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-1)表示的化合物中未检测出以式(I-1-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：477[M+1]
(比较例1)式(I-1R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-1-1)表示的化合物5.0g、以式(I-1-2)表示的化合物4.4g、4-二甲基氨基吡啶0.69g、二氯甲烷50mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.9g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-1R)表示的化合物7.8g。以式(I-1R)表示的化合物的产率为86％。反应后，生成了5.2％的以式(I-1-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-1R)表示的化合物中未检测出以式(I-1-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：477[M+1]
(实施例2)式(I-2)表示的化合物的制造
通过日本特开2011-207765号公报记载的方法制造了以式(I-2-1)表示的化合物。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-2-1)表示的化合物3.0g、以式(I-2-2)表示的化合物8.1g、4-二甲基氨基吡啶0.35g、二氯甲烷80mL、甲磺酸0.37g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺3.0g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-2)表示的化合物9.6g。以式(I-2)表示的化合物的产率为90％。反应后，生成了1.0％的以式(I-2-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-2)表示的化合物中未检测出以式(I-2-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：1112[M+1]
(比较例2)式(I-2R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-2-1)表示的化合物3.0g、以式(I-2-2)表示的化合物8.1g、4-二甲基氨基吡啶0.35g、二氯甲烷80mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺3.0g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-2R)表示的化合物8.7g。以式(I-2R)表示的化合物的产率为81％。反应后，生成了6.1％的以式(I-2-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-2R)表示的化合物中含有0.1％的以式(I-2-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：1112[M+1]
(实施例3)式(I-3)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-3-1)表示的化合物8.0g、以式(I-3-2)表示的化合物1.3g、4-二甲基氨基吡啶0.58g、二氯甲烷80mL、浓硫酸0.47g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.7g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-3)表示的化合物8.2g。以式(I-3)表示的化合物的产率为91％。反应后，生成了1.6％的以式(I-3-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-3)表示的化合物中未检测出以式(I-3-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：939[M+1]
(比较例3)式(I-3R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-3-1)表示的化合物8.0g、以式(I-3-2)表示的化合物1.3g、4-二甲基氨基吡啶0.58g、二氯甲烷80mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.7g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-3R)表示的化合物7.4g。以式(I-3R)表示的化合物的产率为82％。反应后，生成了6.9％的以式(I-3-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-3R)表示的化合物中未检测出以式(I-3-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：939[M+1]
(实施例4)式(I-4)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-4-1)表示的化合物8.0g、以式(I-4-2)表示的化合物1.3g、4-二甲基氨基吡啶0.23g、二氯甲烷80mL、对甲苯磺酸0.49g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.6g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-4)表示的化合物8.1g。以式(I-4)表示的化合物的产率为90％。反应后，生成了0.5％的以式(I-4-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-4)表示的化合物中未检测出以式(I-4-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：951[M+1]
(比较例4)式(I-4R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-4-1)表示的化合物8.0g、以式(I-4-2)表示的化合物1.3g、4-二甲基氨基吡啶0.23g、二氯甲烷80mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.6g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-4R)表示的化合物7.1g。以式(I-4R)表示的化合物的产率为79％。反应后，生成了8.4％的以式(I-4-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-4R)表示的化合物中含有0.1％的以式(I-4-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：951[M+1]
(实施例5)式(I-5)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-1)表示的化合物20.0g、叔丁醇8.8g、4-二甲基氨基吡啶1.3g、二氯甲烷100mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺16.3g滴入，在室温搅拌8小时。通过过滤将析出物去除，依序用5％盐酸及食盐水清洗滤液。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)进行纯化，得到以式(I-5-2)表示的化合物20.8g。
向反应容器加入以式(I-5-2)表示的化合物20.8g、甲醇200mL、25％氢氧化钠水溶液30mL，在60℃进行加热搅拌。冷却后加入氯仿。加入10％盐酸，使水层的pH为4～5，进行分液处理。用食盐水清洗有机层，用硫酸钠使其干燥。对不溶物进行铈硅石过滤后，将溶剂蒸馏去除，使其干燥，从而得到以式(I-5-3)表示的化合物17.7g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-3)表示的化合物17.7g、四氢呋喃100mL。一边进行冰冷却，一边将0.9mol/L硼烷-四氢呋喃络合物103mL滴入，搅拌1小时。将5％盐酸滴入后，用乙酸乙酯进行萃取，用食盐水清洗。用硫酸钠使其干燥，对溶剂进行蒸馏去除，从而得到以式(I-5-4)表示的化合物14.9g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-4)表示的化合物14.9g、吡啶7.2g、二氯甲烷150mL。一边进行冰冷却，一边将甲磺酰氯8.8g滴入，在室温搅拌3小时。倒入水中，依序用5％盐酸及食盐水清洗。通过柱色谱法(硅胶，己烷/乙酸乙酯)及重结晶(丙酮/己烷)进行纯化，得到以式(I-5-5)表示的化合物16.3g。
在氮气氛下，向反应容器加入2,5-二甲氧基苯甲醛25.0g、二氯甲烷200mL。一边进行冰冷却，一边将三溴化硼113.1g滴入，搅拌2小时。倒入冰水中后，用乙酸乙酯进行萃取，依序用水及食盐水清洗。通过柱色谱法(氧化铝，乙酸乙酯)进行纯化，从而得到以式(I-5-6)表示的化合物18.7g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-6)表示的化合物2.5g、以式(I-5-5)表示的化合物10.6g、磷酸钾11.5g、N,N-二甲基甲酰胺70mL，在90℃加热搅拌12小时。倒入水中，用二氯甲烷进行萃取，用食盐水清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-5-7)表示的化合物7.7g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-7)表示的化合物7.7g、二氯甲烷150mL、甲酸100mL，加热回流8小时。将溶剂蒸馏去除后，加入二异丙醚，分散清洗后使其干燥，从而得到以式(I-5-8)表示的化合物5.5g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-8)表示的化合物3.0g、以式(I-5-9)表示的化合物3.8g、4-二甲基氨基吡啶0.26g、二氯甲烷50mL、甲磺酸0.28g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.1g滴入，以40℃搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-5)表示的化合物5.9g。以式(I-5)表示的化合物的产率为90％。反应后，生成了1.5％的以式(I-5-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-5)表示的化合物中未检测出以式(I-5-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：911[M+1]
(比较例5)式(I-5R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5-8)表示的化合物3.0g、以式(I-5-9)表示的化合物3.8g、4-二甲基氨基吡啶0.26g、二氯甲烷50mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.1g滴入，在40℃搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-5R)表示的化合物3.6g。以式(I-5R)表示的化合物的产率为55％。反应后，生成了31.1％的以式(I-5-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-5R)表示的化合物中未检测出以式(I-5-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：911[M+1]
(实施例6)式(I-6)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-6-1)表示的化合物2.0g、以式(I-6-2)表示的化合物7.2g、4-二甲基氨基吡啶0.35g、二氯甲烷40mL、苯亚磺酸0.90g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺4.0g滴入，在室温搅拌7小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-6)表示的化合物7.9g。以式(I-6)表示的化合物的产率为91％。反应后，生成了1.6％的以式(I-6-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-6)表示的化合物中未检测出以式(I-6-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：603[M+1]
(比较例6)式(I-6R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-6-1)表示的化合物2.0g、以式(I-6-2)表示的化合物7.2g、4-二甲基氨基吡啶0.35g、二氯甲烷40mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺4.0g滴入，在室温搅拌7小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-6R)表示的化合物6.9g。以式(I-6R)表示的化合物的产率为79％。反应后，生成了8.6％的以式(I-6-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-6R)表示的化合物中含有0.2％的以式(I-6-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：603[M+1]
(实施例7)式(I-7)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-7-1)表示的化合物8.0g、以式(I-7-2)表示的化合物2.1g、4-二甲基氨基吡啶0.53g、二氯甲烷100mL、1M氯化氢/二乙醚5.7mL。一边进行冰冷却，一边加入二环己基碳二亚胺6.8g，在室温搅拌7小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-7)表示的化合物8.0g。以式(I-7)表示的化合物的产率为84％。反应后，生成了5.3％的以式(I-7-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-7)表示的化合物中未检测出以式(I-7-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：667[M+1]
(比较例7)式(I-7R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-7-1)表示的化合物8.0g、以式(I-7-2)表示的化合物2.1g、4-二甲基氨基吡啶0.53g、二氯甲烷100mL。一边进行冰冷却，一边加入二环己基碳二亚胺6.8g，在室温搅拌7小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-7R)表示的化合物6.2g。以式(I-7R)表示的化合物的产率为65％。反应后，生成了18.7％的以式(I-7-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-7R)表示的化合物中未检测出以式(I-7-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：667[M+1]
(实施例8)式(I-8)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-8-1)表示的化合物5.0g、吡啶0.50g、二氯甲烷70mL、三氟甲磺酸0.64g。一边进行冰冷却，一边加入二异丙基碳二亚胺2.9g，在室温搅拌20小时。通过过滤将析出物去除后，依序用1％盐酸、水及食盐水清洗滤液。通过柱色谱法(硅胶，己烷/乙酸乙酯)进行纯化，得到以式(I-8)表示的化合物3.7g。以式(I-8)表示的化合物的产率为80％。反应后，生成了1.3％的以式(I-8-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-8)表示的化合物中未检测出以式(I-8-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：219[M+1]
(比较例8)式(I-8R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-8-1)表示的化合物5.0g、吡啶0.50g、二氯甲烷70mL。一边进行冰冷却，一边加入二异丙基碳二亚胺2.9g，在室温搅拌20小时。通过过滤将析出物去除后，依序用1％盐酸、水及食盐水清洗滤液。通过柱色谱法(硅胶，己烷/乙酸乙酯)进行纯化，得到以式(I-8R)表示的化合物2.1g。以式(I-8R)表示的化合物的产率为45％。反应后，生成了13.8％的以式(I-8-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-8R)表示的化合物中未检测出以式(I-8-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：219[M+1]
(实施例9)式(I-9)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-9-1)表示的化合物10.0g、以式(I-9-2)表示的化合物5.3g、二氯甲烷80mL、(±)-10-樟脑磺酸5.6g。一边进行冰冷却，一边加入二环己基碳二亚胺12.0g，在室温搅拌20小时。通过柱色谱法(硅胶，己烷/乙酸乙酯)进行纯化，得到以式(I-9)表示的化合物8.8g。以式(I-9)表示的化合物的产率为61％。反应后，生成了14.2％的以式(I-9-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-9)表示的化合物中未检测出以式(I-9-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：298[M+1]
(比较例9)式(I-9R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-9-1)表示的化合物10.0g、以式(I-9-2)表示的化合物5.3g、二氯甲烷80mL。一边进行冰冷却，一边加入二环己基碳二亚胺12.0g，在室温搅拌20小时。通过柱色谱法(硅胶，己烷/乙酸乙酯)进行纯化，得到以式(I-9R)表示的化合物1.4g。以式(I-9R)表示的化合物的产率为10％。反应后，生成了52.6％的以式(I-9-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-9R)表示的化合物中未检测出以式(I-9-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：298[M+1]
(实施例10)式(I-10)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-10-1)表示的化合物6.0g、以式(I-10-2)表示的化合物1.2g、4-二甲基氨基吡啶0.25g、二氯甲烷600mL、甲磺酸0.26g。一边进行冰冷却，一边加入1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐1.5g，在室温搅拌48小时。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-10)表示的化合物5.3g。以式(I-10)表示的化合物的产率为75％。反应后，生成了5.8％的以式(I-10-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-10)表示的化合物中未检测出以式(I-10-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：1048[M+1]
(比较例10)式(I-10R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-10-1)表示的化合物6.0g、以式(I-10-2)表示的化合物1.2g、4-二甲基氨基吡啶0.25g、二氯甲烷600mL。一边进行冰冷却，一边加入1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐1.5g，在室温搅拌48小时。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-10R)表示的化合物3.2g。以式(I-10R)表示的化合物的产率为46％。反应后，生成了38.1％的以式(I-10-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-10R)表示的化合物中未检测出以式(I-10-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：1048[M+1]
(实施例11)式(I-11)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-11-1)表示的化合物3.0g、以式(I-11-2)表示的化合物3.2g、4-二甲基氨基吡啶0.26g、二氯甲烷50mL、甲磺酸0.28g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.1g滴入，在40℃搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-11)表示的化合物5.3g。以式(I-11)表示的化合物的产率为90％。反应后，生成了1.4％的以式(I-11-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-11)表示的化合物中未检测出以式(I-11-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：827[M+1]
(比较例11)式(I-11R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-11-1)表示的化合物3.0g、以式(I-11-2)表示的化合物3.2g、4-二甲基氨基吡啶0.26g、二氯甲烷50mL、甲磺酸0.28g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.1g滴入，在40℃搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除，用甲醇分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-11R)表示的化合物3.3g。以式(I-11R)表示的化合物的产率为56％。反应后，生成了29.5％的以式(I-11-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-11R)表示的化合物中未检测出以式(I-11-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：827[M+1]
(实施例12)式(I-12)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-12-1)表示的化合物3.0g、以式(I-12-2)表示的化合物7.05g、4-二甲基氨基吡啶0.13g、二氯甲烷50mL、甲磺酸0.40g。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.8g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-12)表示的化合物7.7g。以式(I-12)表示的化合物的产率为80％。反应后，生成了1.2％的以式(I-12-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-12)表示的化合物中未检测出以式(I-12-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：923[M+1]
(比较例12)式(I-12R)表示的化合物的制造
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-12-1)表示的化合物3.0g、以式(I-12-2)表示的化合物7.05g、4-二甲基氨基吡啶0.13g、二氯甲烷50mL。一边进行冰冷却，一边将二异丙基碳二亚胺2.8g滴入，在室温搅拌5小时。通过过滤将析出物去除后，将溶剂蒸馏去除。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及再沈淀(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(I-12)表示的化合物7.8g。以式(I-12R)表示的化合物的产率为81％。反应后，生成了5.3％的以式(I-12-A)表示的N-酰基脲。在纯化后的以式(I-12)表示的化合物中含有0.026％的以式(I-12-A)表示的N-酰基脲。
LC-MS：923[M+1]
从以上的结果，可知本申请发明的制造方法难以副生成N-酰基脲。因此，本申请发明的制造方法作为具有酯基的化合物的制造方法有用。
(实施例13)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-3)表示的化合物来制造式(II-1)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-3)表示的化合物3.0g、以式(II-1-1)表示的化合物0.80g、(±)-10-樟脑磺酸0.15g、四氢呋喃10mL、乙醇5mL，在50℃加热搅拌6小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-1)表示的化合物2.8g。
1H NMR(CDCl3)δ0.90(t，3H)，1.31-1.54(m，14H)，1.66-1.82(m，18H)，2.31-2.35(m，8H)，2.58-2.70(m，4H)，3.95(t，4H)，4.18(t，4H)，4.30(t，2H)，5.82(t，2H)，6.13(dd，2H)，6.40(dd，2H)，6.88(d，4H)，6.98(d，2H)，6.99(d，2H)，7.10(dd，1H)，7.12(d，1H)，7.17(ddd，1H)，7.34(ddd，1H)，7.67-7.70(m，3H)，7.75(d，1H)ppm.
LC-MS：1170[M+1]
(比较例13)使用通过公知的制造方法制造的式(I-3R)表示的化合物来制造式(II-1R)表示的化合物
在实施例13中将以式(I-3)表示的化合物换成以式(I-3R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-1R)表示的化合物。
(实施例14)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-4)表示的化合物来制造式(II-2)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-4)表示的化合物3.0g、以式(II-2-1)表示的化合物0.52g、(±)-10-樟脑磺酸0.15g、四氢呋喃10mL、乙醇5mL，在室温搅拌8小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-2)表示的化合物2.6g。
LC-MS：1098[M+1]
(比较例14)使用通过公知的制造方法制造的式(I-4R)表示的化合物来制造式(II-2R)表示的化合物
在实施例14中将以式(I-4)表示的化合物换成以式(I-4R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-2R)表示的化合物。
(实施例15)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-5)表示的化合物来制造式(II-3)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5)表示的化合物3.0g、以式(II-3-1)表示的化合物0.54g、(±)-10-樟脑磺酸0.15g、四氢呋喃10mL、乙醇5mL，在室温搅拌8小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-3)表示的化合物2.6g。
转变温度(升温速度5℃/分钟)C 90-110N 182-187I
1H NMR(CDCl3)δ1.07(q，2H)，1.24(q，2H)，1.47-1.90(m，24H)，2.09(m，4H)，2.22(d，2H)，2.39(t，1H)，2.53(t，1H)，3.74(d，2H)，3.85(d，2H)，3.94(td，4H)，4.17(td，4H)，5.82(d，2H)，6.13(dd，2H)，6.40(d，2H)，6.80-6.99(m，6H)，6.98(d，4H)，7.16(t，1H)，7.33(t，1H)，7.55(m，2H)，7.67(d，1H)，8.40(s，1H)ppm.
LC-MS：1058[M+1]
(比较例15)使用通过公知的制造方法制造的式(I-5R)表示的化合物来制造式(II-3R)表示的化合物
在实施例15中将以式(I-5)表示的化合物换成以式(I-5R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-3R)表示的化合物。
(实施例16)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-7)表示的化合物来制造式(II-4)表示的化合物
向耐压容器加入以式(I-7)表示的化合物5.0g、四氢呋喃50mL、乙醇10mL、5％钯碳0.50g，在氢压0.5MPa、50℃加热搅拌8小时。将催化剂去除后，将溶剂蒸馏去除，使其干燥，从而得到以式(II-4-1)表示的化合物3.5g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(II-4-1)表示的化合物3.5g、二异丙基乙胺2.2g、二氯甲烷70mL。一边进行冰冷却，一边将丙烯酰氯1.5g滴入，在室温搅拌6小时。依序用1％盐酸、水及食盐水清洗，通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-4)表示的化合物3.2g。
LC-MS：595[M+1]
(比较例16)使用通过公知的制造方法制造的式(I-7R)表示的化合物来制造式(II-4R)表示的化合物
在实施例16中将以式(I-7)表示的化合物换成以式(I-7R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-4R)表示的化合物。
(实施例17)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-11)表示的化合物来制造式(II-5)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-11)表示的化合物3.0g、以式(II-5-1)表示的化合物0.60g、(±)-10-樟脑磺酸0.25g、四氢呋喃20mL、乙醇5mL，在室温搅拌8小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-5)表示的化合物2.5g。
转变温度(升温速度5℃/分钟)C 155N＞220I
1H NMR(CDCl3)δ1.12(q，2H)，1.26(q，2H)，1.50(q，2H)，1.67(qd，2H)，1.91-2.27(m，14H)，2.43(t，1H)，2.56(tt，2H)，3.77(d，2H)，3.88(d，2H)，4.09(t，4H)，4.40(t，4H)，5.88(d，2H)，6.17(ddd，2H)，6.45(d，2H)，6.85(d，1H)，6.92(m，5H)，7.02(d，4H)，7.19(t，1H)，7.37(t，1H)，7.59(m，2H)，7.71(d，1H)，8.44(s，1H)ppm.
LC-MS：974[M+1]
(比较例17)使用通过公知的制造方法制造的式(I-11R)表示的化合物来制造式(II-5R)表示的化合物
在实施例17中将以式(I-11)表示的化合物换成以式(I-11R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-5R)表示的化合物。
(实施例18)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-5)表示的化合物来制造式(II-6)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入氨基钠1.2g、四氢呋喃5mL。一边进行冰冷却，一边滴入将式(II-6-1)表示的化合物5.0g悬浮于四氢呋喃10mL而得的混合液，在室温搅拌3小时。吹入氮气2小时后，滴入将式(II-6-2)表示的化合物6.1g溶解于四氢呋喃6mL而得的溶液，在室温搅拌5小时。用二氯甲烷加以稀释，依序用水及食盐水清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)及分散清洗(己烷)进行纯化，得到以式(II-6-3)表示的化合物6.5g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5)表示的化合物3.0g、以式(II-6-3)表示的化合物0.88g、(±)-10-樟脑磺酸0.23g、四氢呋喃20mL、乙醇5mL，在50℃加热搅拌6小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-6)表示的化合物3.1g。
转变温度(升温5℃/分钟)：C 85N 128I
1H NMR(CDCl3)δ1.22-1.28(m，4H)，1.44-1.47(m，8H)，1.60-1.82(m，12H)，1.90(m，2H)，2.07(t，4H)，2.24(d，4H)，2.53(m，2H)，3.30(s，3H)，3.50(t，2H)，3.66(t，2H)，3.85-3.89(m，6H)，3.93(t，4H)，4.17(t，4H)，4.53(t，2H)，5.82(d，2H)，6.13(q，2H)，6.40(d，2H)，6.83-6.90(m，6H)，6.95-6.98(m，4H)，7.14(t，1H)，7.32(t，1H)，7.52(t，1H)，7.67(t，2H)，8.33(s，1H)ppm.
LC-MS：1160[M+1]
(比较例18)使用通过公知的制造方法制造的式(I-5R)表示的化合物来制造式(II-6R)表示的化合物
在实施例18中将以式(I-5)表示的化合物换成以式(I-5R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-6R)表示的化合物。
(实施例19)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-11)表示的化合物来制造式(II-7)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-11)表示的化合物3.0g、以式(II-7-1)表示的化合物0.97g、(±)-10-樟脑磺酸0.25g、四氢呋喃30mL、乙醇5mL，在50℃加热搅拌6小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-7)表示的化合物3.1g。
转变温度(升温5℃/分钟)：C 89-95 N 145 I
1H NMR(CDCl3)δ1.24(m，4H)，1.65(m，4H)，1.91(m，2H)，2.05-2.25(m，12H)，2.55(m，2H)，3.30(s，3H)，3.51(m，2H)，3.67(m，2H)，3.84-3.89(m，6H)，4.05(t，4H)，4.36(t，4H)，4.54(t，2H)，5.84(dd，2H)，6.13(dd，2H)，6.41(dd，2H)，6.84-6.89(m，6H)，6.97-7.00(m，4H)，7.14(t，1H)，7.33(t，1H)，7.52(d，1H)，7.67(dd，2H)，8.34(s，1H)ppm.
LC-MS：1076[M+1]
(比较例19)使用通过公知的制造方法制造的式(I-11R)表示的化合物来制造式(II-7R)表示的化合物
在实施例19中将以式(I-11)表示的化合物换成以式(I-11R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-7R)表示的化合物。
(实施例20)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-5)表示的化合物来制造式(II-8)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(II-8-1)表示的化合物5.0g、三乙胺4.5g、二甲氧基乙烷30mL。一边以50℃加热，一边滴入将式(II-8-2)表示的化合物2.5g溶解于二甲氧基乙烷5mL而得的溶液，加热搅拌5小时。用二氯甲烷稀释后，依序用水及食盐水清洗。将溶剂蒸馏去除，用己烷分散清洗，从而得到以式(II-8-3)表示的化合物4.3g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5)表示的化合物3.0g、以式(II-8-3)表示的化合物0.69g、(±)-10-樟脑磺酸0.23g、四氢呋喃30mL、乙醇5mL，在50℃加热搅拌6小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-8-4)表示的化合物2.9g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(II-8-4)表示的化合物2.9g、二异丙基乙胺0.41g、二氯甲烷30mL。一边进行冰冷却，一边将丙烯酰氯0.26g滴入，在室温搅拌5小时。依序用1％盐酸、水、食盐水清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-8)表示的化合物2.3g。
转变温度(升温速度5℃/分钟)C 122 N 142 I
1H NMR(CDCl3)δ1.24(m，4H)，1.48(m，8H)，1.60-1.83(m，12H)，1.93(m，2H)，2.08(t，4H)，2.23(m，4H)，2.54(m，2H)，3.86(dd，4H)，3.94(t，4H)，4.17(t，4H)，4.53(t，2H)，4.65(t，2H)，5.78(dd，1H)，5.82(dd，2H)，6.08(dd，1H)，6.12(dd，2H)，6.39(dd，1H)，6.40(dd，2H)，6.88(m，6H)，6.97(dd，4H)，7.16(t，1H)，7.34(t，1H)，7.54(d，1H)，7.66(d，1H)，7.70(d，1H)，8.36(s，1H)ppm.
LC-MS：1156[M+1]
(比较例20)使用通过公知的制造方法制造的式(I-5R)表示的化合物来制造式(II-8R)表示的化合物
在实施例20中将以式(I-5)表示的化合物换成以式(I-5R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-8R)表示的化合物。
(实施例21)使用通过本申请发明的制造方法制造的式(I-5)表示的化合物来制造式(II-9)表示的化合物
在氮气氛下，向反应容器加入以式(II-9-1)表示的化合物5.0g、四氢呋喃25mL。加入叔丁醇钾6.8g，在室温搅拌2小时。滴入将式(II-9-2)表示的化合物5.6g溶解于四氢呋喃6mL而得的溶液，在室温搅拌8小时。用二氯甲烷加以稀释，依序用水及食盐水清洗。通过柱色谱法(氧化铝，二氯甲烷)进行纯化，得到以式(II-9-3)表示的化合物6.3g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(I-5)表示的化合物3.0g、以式(II-9-3)表示的化合物0.98g、(±)-10-樟脑磺酸0.23g、四氢呋喃30mL、乙醇5mL，在50℃加热搅拌6小时。将溶剂蒸馏去除，用甲醇将所得到的固体分散清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-9-4)表示的化合物2.7g。
在氮气氛下，向反应容器加入以式(II-9-4)表示的化合物2.7g、二异丙基乙胺0.36g、二氯甲烷30mL。一边进行冰冷却，一边将丙烯酰氯0.23g滴入，在室温搅拌5小时。依序用1％盐酸、水、食盐水清洗。通过柱色谱法(硅胶，二氯甲烷)及重结晶(二氯甲烷/甲醇)进行纯化，得到以式(II-9)表示的化合物2.0g。
转变温度(升温5℃/分钟)C 71 N 115 I
1H NMR(CDCl3)δ1.19-1.29(m，4H)，1.41-1.82(m，22H)，1.91(m，2H)，2.08(m，4H)，2.24(m，4H)，2.53(m，2H)，3.62(m，3H)，3.67(m，2H)，3.84-3.90(m，5H)，3.94(t，4H)，4.15-4.19(m，6H)，4.53(t，2H)，5.76(dd，1H)，5.82(dd，2H)，6.08(dd，1H)，6.12(dd，2H)，6.37(dd，1H)，6.40(dd，2H)，6.84-6.90(m，6H)，6.95-6.98(m，4H)，7.14(t，1H)，7.32(t，1H)，7.53(d，1H)，7.65(d，1H)，7.69(d，1H)，8.34(s，1H)ppm.
LC-MS：1244[M+1]
(比较例21)使用通过公知的制造方法制造的式(I-5R)表示的化合物来制造式(II-9R)表示的化合物
在实施例21中将以式(I-5)表示的化合物换成以式(I-5R)表示的化合物，除此之外，通过相同的方法，制造以式(II-9R)表示的化合物。
通过与上述实施例相同的方法制造具有酯基的化合物，再由该具有酯基的化合物通过公知的方法制造下述式(II-10)至式(II-29)表示的化合物。
(实施例22～32，比较例22～32)
将上述实施例记载的式(I-2)、式(I-6)、式(II-1)至式(II-9)表示的化合物及上述比较例记载的式(I-2R)、式(I-6R)、式(II-1R)至式(II-9R)表示的化合物作为评价对象的化合物。
使用旋转涂布法将用于取向膜的聚酰亚胺溶液涂布于100×100mm、厚度0.7mm的玻璃基材，在100℃干燥10分钟后，在200℃烧成60分钟，从而得到涂膜。对所得到的涂膜进行摩擦处理。摩擦处理使用市售的摩擦装置进行。
将由公知的下述化合物(X-1)30％，化合物(X-2)30％及化合物(X-3)40％构成的液晶组合物作为母体液晶(X)。
对通过向母体液晶(X)添加20％的成为评价对象的化合物而制备的各个组合物，添加光聚合引发剂Irgacure 907(BASF公司制)1％、4-甲氧基苯酚0.1％及氯仿80％，制备涂布液。通过旋转涂布法将该涂布液涂布于经摩擦的玻璃基材。在80℃使其干燥1分钟后，进一步在120℃干燥1分钟。然后，使用高压水银灯，以40mW/cm2的强度照射紫外线25秒，从而制作评价对象的膜。将评价对象的膜与使用的评价对象的化合物的关系示于下表。
[表1]
评价对象的膜 评价对象的化合物
实施例22 本申请发明的化合物(I-2)
实施例23 本申请发明的化合物(I-6)
实施例24 本申请发明的化合物(II-1)
实施例25 本申请发明的化合物(II-2)
实施例26 本申请发明的化合物(II-3)
实施例27 本申请发明的化合物(II-4)
实施例28 本申请发明的化合物(II-5)
实施例29 本申请发明的化合物(II-6)
实施例30 本申请发明的化合物(II-7)
实施例31 本申请发明的化合物(II-8)
实施例32 本申请发明的化合物(II-9)
[表2]
评价对象的膜 评价对象的化合物
比较例22 比较化合物(I-2R)
比较例23 比较化合物(I-6R)
比较例24 比较化合物(II-1R)
比较例25 比较化合物(II-2R)
比较例26 比较化合物(II-3R)
比较例27 比较化合物(II-4R)
比较例28 比较化合物(II-5R)
比较例29 比较化合物(II-6R)
比较例30 比较化合物(II-7R)
比较例31 比较化合物(II-8R)
比较例32 比较化合物(II-9R)
对所得到的评价对象的膜在90℃进行加热处理200小时。然后进一步使用氙灯照射试验机(ATLUS公司制SUNTEST XLS)，在60mW/cm2、28℃进行120J的日晒试验。将日晒试验后的膜划分为10mm的宽度且纵10方格×横10方格合计100方格的区域，计算通过偏光显微镜观察确认到取向不均、变色及一部份或全部剥离中的任一种变质的格子数。将产生了变质的格子数比例(％)示于下表。
[表3]
评价对象的膜 产生了变质的格子数比例
实施例22 2％
实施例23 0％
实施例24 2％
实施例25 3％
实施例26 1％
实施例27 1％
实施例28 1％
实施例29 0％
实施例30 0％
实施例31 0％
实施例32 0％
[表4]
评价对象的膜 产生了变质的格子数比例
比较例22 8％
比较例23 4％
比较例24 7％
比较例25 7％
比较例26 8％
比较例27 12％
比较例28 8％
比较例29 13％
比较例30 12％
比较例31 8％
比较例32 7％
从表可知，相比于使用了通过公知的制造方法制造的式(I-2R)、式(I-6R)、式(II-1R)至式(II-9R)表示的化合物的膜，使用了通过本申请发明的制造方法制造的式(I-2)，式(I-6)、式(II-1)至式(II-9)表示的化合物的膜变质的比例少，因此耐热、耐光性高。因此，通过本申请发明的制造方法所制造的化合物作为聚合性组合物的构成构件有用。另外，使用了含有通过本申请发明的制造方法所制造的化合物的聚合性液晶组合物的光学各向异性体在光学膜等用途中有用。

Claims (18)

1.一种具有酯基的化合物的制造方法，包括将缩合剂、布仑斯惕酸、羧酸及酚或醇加以混合来组成反应混合物的混合工序，布仑斯惕酸从缩合剂、羧酸及酚以外进行选择。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，在混合工序中，进一步混合碱来组成反应混合物。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，缩合剂为具有碳二亚胺结构的化合物。
4.根据权利要求2或3所述的制造方法，其中，碱为芳香族胺。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的制造方法，其中，布仑斯惕酸为无机酸、磺酸或亚磺酸。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制造方法，其中，布仑斯惕酸在反应混合物内以游离的状态存在。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制造方法，其中，将缩合剂混合于含有布仑斯惕酸的溶液来组成反应混合物。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的制造方法，其中，羧酸为下述通式(a-1)表示的化合物，
式中，Ra1表示氢原子或碳原子数1至1000的有机基团，ma1表示1至20的整数，当下述通式(a-2)中ma2表示1以外的整数时，ma1表示1，
酚或醇为下述通式(a-2)表示的化合物，
式中，Ra2表示碳原子数1至1000的有机基团，ma2表示1至20的整数，当所述通式(a-1)中ma1表示1以外的整数时，ma2表示1，
具有酯基的化合物为下述通式(a-3-1)或通式(a-3-2)表示的化合物，
式中，Ra1及Ra2表示与前述相同的含义，当所述通式(a-1)中ma1表示1以外的整数时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-1)表示的化合物，当所述通式(a-2)中ma2表示1以外的整数时，具有酯基的化合物表示以通式(a-3-2)表示的化合物。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的制造方法，其中，具有酯基的化合物为下述通式(I)表示的化合物，
式中，R1表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者R1表示P1-(Sp1-X1)k1-表示的基团，式P1-(Sp1-X1)k1-中，P1表示聚合性基团，Sp1表示间隔基团或单键，当Sp1存在多个时，它们可以相同也可以不同，X1表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当X1存在多个时，它们可以相同也可以不同，但P1-(Sp1-X1)k1-中不含有-O-O-键，k1表示0至10的整数，或者R1表示受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基，
R2表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者R2表示P2-(Sp2-X2)k2-表示的基团，式P2-(Sp2-X2)k2-中，P2表示聚合性基团，Sp2表示间隔基团或单键，当Sp2存在多个时，它们可以相同也可以不同，X2表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当X2存在多个时，它们可以相同也可以不同，但P2-(Sp2-X2)k2-中不含有-O-O-键，k2表示0至10的整数，或者R2表示受到保护基保护的羟基、氨基、巯基、羰基或羧基，
A1及A2各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基、四氢吡喃-2,5-二基或1,3-二烷-2,5-二基，这些基团可未经取代或可被1个以上的取代基L取代，当化合物内存在多个A1时，它们可以相同也可以不同，当化合物内存在多个A2时，它们可以相同也可以不同，
L表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者L可表示PL-(SpL-XL)kL-表示的基团，此处PL表示聚合性基团，SpL表示间隔基团或单键，当SpL存在多个时，它们可以相同也可以不同，XL表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XL存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PL-(SpL-XL)kL-中不含有-O-O-键，kL表示0至10的整数，当化合物内存在多个L时，它们可以相同也可以不同，
Z1及Z2各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-OCO-NH-、-NH-COO-、-NH-CO-NH-、-NH-O-、-O-NH-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-、-N＝CH-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当Z1存在多个时，它们可以相同也可以不同，当Z2存在多个时，它们可以相同也可以不同，存在的Z1及Z2中的至少1个表示选自-COO-或-OCO-中的基团，
G1表示具有选自由芳香族烃环或芳香族杂环组成的组中的至少1个芳香环的2价基团，G1表示的基团中的芳香环所含的π电子数为12以上，G1表示的基团可未经取代或被1个以上的取代基LG1取代，或者G1表示以AG表示的基或以CG表示的基团，
LG1表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LG1可表示以PLG-(SpLG-XLG)kLG-表示的基团，此处PLG表示聚合性基团，SpLG表示间隔基团或单键，当SpLG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLG存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PLG-(SpLG-XLG)kLG-中不含有-O-O-键，kLG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LG1时，它们可以相同也可以不同，
AG表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基、四氢吡喃-2,5-二基或1,3-二烷-2,5-二基，这些基团被至少1个以上的取代基LAG取代，LAG表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者，LAG可表示以PLAG-(SpLAG-XLAG)kLAG-表示的基团，此处PLAG表示聚合性基团，SpLAG表示间隔基团或单键，当SpLAG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLAG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLAG存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PLAG-(SpLAG-XLAG)kLAG-中不含有-O-O-键，kLAG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LAG时，它们可以相同也可以不同，存在于化合物内的LAG中的至少1个以上表示如下的基团：基团中的任意氢原子可被取代成氟原子且1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基中，该基团中的至少1个以上的-CH2-被-CO-取代；该基团中的任意氢原子可被取代成氟原子，
CG表示具有手性结构的基团，CG可未经取代或被1个以上的取代基LCG取代，LCG表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LCG可表示以PLCG-(SpLCG-XLCG)kLCG-表示的基团，此处PLCG表示聚合性基团，SpLCG表示间隔基团或单键，当SpLCG存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLCG表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLCG存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PLCG-(SpLCG-XLCG)kLCG-中不含有-O-O-键，kLCG表示0至10的整数，当化合物内存在多个LCG时，它们可以相同也可以不同，m1表示0至8的整数，
m2表示0至8的整数。
10.一种具有酯基的化合物的衍生物的制造方法，包括第1制造工序与第2制造工序：
第1制造工序：将缩合剂、布仑斯惕酸、羧酸及酚或醇加以混合来组成反应混合物，在所述反应混合物中使羧酸与酚或醇进行缩合反应，得到合成中间体即通式(I-i)表示的化合物，
式中，R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2相同的含义，AG表示与通式(I)中的AG相同的含义，
第2制造工序：基于所述合成中间体，得到通式(I-ii)表示的化合物，
式中，R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2表示与通式(I)中的R1、R2、A1、A2、Z1、Z2、m1及m2相同的含义，M表示选自下述式(M-1)至式(M-6)中的基团、或选自下述式(M-7)至式(M-14)中的基团，
式中，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-、-CS-或-CO-，式-NRT-中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基，T1表示选自下述式(T1-1)至式(T1-6)中的基团，
式中，可以在任意位置具有连接键，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-、-CS-或-CO-，式-NRT-中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基，此处，在任意位置具有连接键是指例如当式(T1-1)连接于式(M-1)至式(M-6)的T1时，在式(T1-1)的任意位置具有1个连接键，以下，在本发明中，可在任意位置具有连接键表示相同的含义，另外，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，
式中，这些基团可未经取代或被1个以上的上述取代基LG1取代，任意的-CH＝各自独立地可被取代成-N＝，-CH2-各自独立地可被取代成-O-、-S-、-NRT-、-CS-或-CO-，式-NRT-中，RT表示氢原子或碳原子数1至20的烷基，T2表示选自下述式(T2-1)或式(T2-2)中的基团，
式中，W1表示可经取代的碳原子数1至40的包含芳香族基及/或非芳香族基的基团，该芳香族基可为烃环或杂环，该非芳香族基可为烃基或烃基的任意碳原子被取代成杂原子的基团，但氧原子彼此不直接连接，
W2表示氢原子、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者W2可表示具有至少1个芳香族基的碳原子数2至30的基团，但碳原子数不包含芳香族基的碳原子数，该基团可未经取代或被1个以上的取代基LW取代，或者W2可表示以PW-(SpW-XW)kW-表示的基团，此处PW表示聚合性基团，优选的聚合性基团表示与上述P1定义的基团相同的基团，SpW表示间隔基团或单键，优选的间隔基团表示与上述Sp1定义的基团相同的基团，当SpW存在多个时，它们可以相同也可以不同，XW表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XW存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PW-(SpW-XW)kW-中不含有-O-O-键，kW表示0至10的整数，
LW表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者LW可表示以PLW-(SpLW-XLW)kLW-表示的基团，此处PLW表示聚合性基团，SpLW表示间隔基团或单键，当SpLW存在多个时，它们可以相同也可以不同，XLW表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XLW存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PLW-(SpLW-XLW)kLW-中不含有-O-O-键，kLW表示0至10的整数，当化合物内存在多个LW时，它们可以相同也可以不同，
Y表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或1个-CH2-或未邻接的2个以上的-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-CH＝CH-、-CF＝CF-或-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或分支状烷基，该烷基中的任意氢原子可被取代成氟原子，或者Y可表示以PY-(SpY-XY)kY-表示的基团，PY表示聚合性基团，优选的聚合性基团表示与上述P1定义的基团相同的基团，SpY表示间隔基团或单键，优选的间隔基团表示与上述Sp1定义的基团相同的基团，当SpY存在多个时，它们可以相同也可以不同，XY表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH＝CH-COO-、-CH＝CH-OCO-、-COO-CH＝CH-、-OCO-CH＝CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH＝CH-、-N＝N-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-C≡C-或单键，当XY存在多个时，它们可以相同也可以不同，但PY-(SpY-XY)kY-中不含有-O-O-键，kY表示0至10的整数，W1及W2可成为一体而形成环结构。
11.一种N-酰基脲组合物，含有下述通式(a-5)表示的具有酯基的化合物与下述通式(a-6)表示的N-酰基脲，
式中，Ra5及Ra6表示碳原子数1至1000的有机基团，
式中，Ra5表示与前述相同的含义，Ra3及Ra4表示碳原子数1～100的有机基团，
N-酰基脲相对于具有酯基的化合物的物质量比为0.003以上0.05以下。
12.一种化合物，通过权利要求1至10中任一项所述的制造方法制造。
13.一种衍生物，将权利要求12所述的化合物作为合成中间体而制造。
14.一种组合物，含有权利要求12所述的化合物或权利要求13所述的衍生物。
15.一种液晶组合物，含有权利要求12所述的化合物或权利要求13所述的衍生物。
16.一种聚合物，通过将权利要求14或15所述的组合物聚合而得到。
17.一种光学各向异性体，使用了权利要求16所述的聚合物。
18.一种使用了权利要求12所述的化合物或权利要求12所述的衍生物的树脂、树脂添加剂、油、滤色器、粘接剂、粘着剂、油脂、油墨、医药品、化妆品、清洁剂、建筑材料、包装材料、液晶材料、有机EL材料、有机半导体材料、电子材料、显示元件、电子器件、通信设备、汽车部件、飞机部件、机械部件、农药及食品以及使用了它们的制品。
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