WO2023243864A1 - 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법 - Google Patents

위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
WO2023243864A1
WO2023243864A1 PCT/KR2023/006098 KR2023006098W WO2023243864A1 WO 2023243864 A1 WO2023243864 A1 WO 2023243864A1 KR 2023006098 W KR2023006098 W KR 2023006098W WO 2023243864 A1 WO2023243864 A1 WO 2023243864A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
formula
compound represented
liquid crystal
retardation film
independently
Prior art date
Application number
PCT/KR2023/006098
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
김진희
권오준
김재선
서강일
김상묵
김성호
Original Assignee
주식회사 클랩
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020220128274A external-priority patent/KR20230172374A/ko
Application filed by 주식회사 클랩 filed Critical 주식회사 클랩
Publication of WO2023243864A1 publication Critical patent/WO2023243864A1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal compound for a retardation film, a retardation film containing the same, a display device containing the same, and a manufacturing method thereof. More specifically, a liquid crystal compound for a retardation film with excellent high-temperature durability even in a state of low reverse dispersion; It relates to a retardation film containing the same, a display device containing the same, and a method of manufacturing the same.
  • Optically anisotropic materials such as retardation films and polarizers used in liquid crystal displays are prepared by applying a solution containing a polymerizable liquid crystal compound to a substrate that has been subjected to a rubbing treatment or a substrate on which a photo-aligned photo-alignment film has been formed, and then drying the solvent. It can be manufactured by polymerization using ultraviolet rays or heat.
  • As an optical characteristic of the retardation film in order to improve the viewing angle of the liquid crystal display, it is required to reduce the wavelength dispersion of the birefringence ( ⁇ n) or make it the opposite. In order to realize this characteristic, development of inversely dispersed polymerizable compounds is being conducted.
  • the introduction of a vertical unit changes the absorption spectrum of the polymerizable compound, and in most cases, the absorption becomes longer wavelength. This often results in a decrease in optical stability and may cause yellowing or cracking of the retardation film.
  • the present invention was conceived in consideration of the above points, and its purpose is to provide a liquid crystal compound for a retardation film and a method for manufacturing the same.
  • liquid crystal compound for a retardation film having excellent high-temperature durability even in a state of low reverse dispersion, a retardation film containing the same, a display device containing the same, and a manufacturing method thereof can be provided.
  • the present invention provides a liquid crystal compound for retardation film represented by the following formula (1).
  • the liquid crystal compound for retardation film of the present invention, the retardation film containing the same, the display device containing the same, and the manufacturing method thereof have excellent high-temperature durability even in a state of low reverse dispersion.
  • the method for producing a liquid crystal compound for a retardation film of the present invention may include the step of reacting a compound represented by the following Chemical Formula 2 with a compound represented by the following Chemical Formula 3 to produce a liquid crystal compound for a retardation film represented by the following Chemical Formula 1. .
  • B 1 , B 2 , B 3 , B 4 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2
  • R 1 is , , , Or it is a straight chain alkyl group of C1 to C12.
  • B 6 , B 7 , B 8 , B 9 , B 10 , B 11 , B 12 , B 13 , B 14 and B 15 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , preferably each independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group or a C3 to C12 branched alkyl group, preferably a C1 to C3 linear alkyl group. .
  • B 1 , B 2 , B 3 and B 4 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably B 1 and B 2 are each Independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 - am.
  • R 1 is , , , Or it is a straight chain alkyl group of C1 to C12.
  • B 6 , B 7 , B 8 , B 9 , B 10 , B 11 , B 12 , B 13 , B 14 and B 15 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , preferably each independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group or a C3 to C12 branched alkyl group, preferably a C1 to C3 linear alkyl group. .
  • the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3 may be reacted at a weight ratio of 1:0.20 to 0.63. If the weight ratio is less than 1:0.20, there may be a problem of deterioration of high temperature reliability, If it exceeds 1:0.63, there may be a problem of orientation deterioration.
  • the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-1 below are It can be prepared by reacting, and at this time, the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-1 below may be reacted at a weight ratio of 1:0.37 to 0.56, preferably 1:0.42 to 0.51. .
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver , B 6 and B 7 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 2 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is , B 6 and B 7 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 2 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 is a liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1-2
  • the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-2 are reacted It can be prepared by reacting the compound represented by Chemical Formula 2 with the compound represented by Chemical Formula 3-2 below at a weight ratio of 1:0.42 to 0.63, preferably at a weight ratio of 1:0.47 to 0.58.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver and B 8 , B 9 and B 10 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 3 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -
  • R 1 is ,
  • B 8 , B 9 and B 10 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and
  • R 3 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 is a liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1-3
  • the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-3 are reacted It can be prepared by reacting the compound represented by Chemical Formula 2 with the compound represented by Chemical Formula 3-3 below at a weight ratio of 1:0.41 to 0.62, preferably at a weight ratio of 1:0.46 to 0.57.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver and B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 4 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group. am.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -
  • R 1 is and B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -
  • R 4 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 is a liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1-7
  • the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-4 are reacted It can be prepared by reacting the compound represented by Chemical Formula 2 with the compound represented by Chemical Formula 3-4 below at a weight ratio of 1:0.33 to 0.51, preferably at a weight ratio of 1:0.37 to 0.46.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver and B 15 is each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 5 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is , B 15 is each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 5 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • the compound represented by Formula 2 is reacted with the compound represented by Formula 3-5 below. It can be prepared by reacting the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-5 below at a weight ratio of 1:0.20 to 0.32, preferably at a weight ratio of 1:0.23 to 0.29.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is a straight chain alkyl group of C1 to C3.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring at 20°C to 30°C, preferably 23 to 27°C, for 12 to 24 hours, preferably 16 to 20 hours.
  • p-toluenesulfonic acid may be added to serve as a catalyst, and p-toluenesulfonic acid is 4 to 6 parts by weight, preferably 4.5 to 5.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 2.
  • the prepared reaction mixture was washed with dilute hydrochloric acid and brine after adding dichloromethane, dried, and distilled under reduced pressure.
  • the solid obtained was purified by silica gel column chromatography, and then the solution passed through the column was filtered and dried.
  • the liquid crystal compound for retardation film represented by Chemical Formula 1 can be manufactured.
  • dichloromethane may be added to play a recrystallization role.
  • the compound represented by Formula 3 can be prepared by reacting a compound represented by Formula 4 below and a compound represented by Formula 5 below.
  • R 1 is , , , Or it is a straight chain alkyl group of C1 to C12.
  • B 6 , B 7 , B 8 , B 9 , B 10 , B 11 , B 12 , B 13 , B 14 and B 15 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , preferably each independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group or a C3 to C12 branched alkyl group, preferably a C1 to C3 linear alkyl group. .
  • the compound represented by Formula 3 can be prepared by reacting the compound represented by Formula 4 with the compound represented by Formula 5 at a weight ratio of 1:0.43 to 2.11, and if the weight ratio is less than 1:0.43, There may be a problem with the reaction, and if the ratio exceeds 1:2.11, there may be a problem with an increase in impurities.
  • the compound represented by Formula 3 when the compound represented by Formula 3 is a compound represented by Formula 3-1, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 4 with the compound represented by Formula 5-1 below, In this case, the compound represented by Formula 4 may be reacted with the compound represented by Formula 5-1 below at a weight ratio of 1:0.76 to 1.14, preferably 1:0.85 to 1.04.
  • R 1 is am.
  • B 6 and B 7 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 2 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group. am.
  • the compound represented by Formula 3 when the compound represented by Formula 3 is a compound represented by Formula 3-2, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 4 with the compound represented by Formula 5-2 below, in which case, The compound represented by Formula 4 may be reacted with the compound represented by Formula 5-2 below at a weight ratio of 1:1.16 to 1.74, preferably 1:1.31 to 1.60.
  • R 1 is am.
  • B 8 , B 9 and B 10 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 3 is one of C1 to C3. It is a straight-chain alkyl group.
  • the compound represented by Formula 3 when the compound represented by Formula 3 is a compound represented by Formula 3-3, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 4 with the compound represented by Formula 5-3 below, in which case, The compound represented by Formula 4 may be reacted with the compound represented by Formula 5-3 below at a weight ratio of 1:1.39 to 2.1, preferably at a weight ratio of 1:1.57 to 1.92.
  • R 1 is am.
  • B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 4 is C1 ⁇ It is a straight chain alkyl group of C3.
  • the compound represented by Formula 3 when the compound represented by Formula 3 is a compound represented by Formula 3-4, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 4 with the compound represented by Formula 5-4 below, in which case, The compound represented by Formula 4 may be reacted with the compound represented by Formula 5-4 below at a weight ratio of 1:0.69 to 1.04, preferably at a weight ratio of 1:0.78 to 0.95.
  • R 1 is am.
  • B 15 is each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 5 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • the compound represented by Formula 3 when the compound represented by Formula 3 is a compound represented by Formula 3-5, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 4 with the compound represented by Formula 5-5 below, in which case, The compound represented by Formula 4 may be reacted with the compound represented by Formula 5-5 below at a weight ratio of 1:0.43 to 0.65, preferably at a weight ratio of 1:0.48 to 0.59.
  • R 1 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring at 20°C to 30°C, preferably 23 to 27°C, for 1 to 5 hours, preferably 1 to 3 hours, and more preferably 1.5 to 2.5 hours.
  • ginseng potassium may be added to act as a base, and ginseng potassium is added in an amount of 141 to 213 parts by weight, preferably 159 to 195 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 4.
  • the compound represented by Formula 3-2 when preparing the compound represented by Formula 3-2, the compound represented by Formula 5-2, the compound represented by Formula 4, tripotassium, and dimethylacetamide are sequentially added to the reactor, and incubated at 20°C.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring at ⁇ 30°C, preferably 23 ⁇ 27°C, for 1 ⁇ 5 hours, preferably 1 ⁇ 3 hours, more preferably 1.5 ⁇ 2.5 hours.
  • ginseng potassium may be added to act as a base, and ginseng potassium will be added in an amount of 164 to 247 parts by weight, preferably 185 to 226 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 4.
  • the compound represented by Formula 3-3 when preparing the compound represented by Formula 3-3, the compound represented by Formula 5-3, the compound represented by Formula 4, tripotassium, and dimethylacetamide are sequentially added to the reactor, and incubated at 20°C.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring at ⁇ 30°C, preferably 23 ⁇ 27°C, for 1 ⁇ 5 hours, preferably 2 ⁇ 4 hours.
  • ginseng potassium may be added to act as a base, and ginseng potassium will be added in an amount of 163 to 246 parts by weight, preferably 184 to 225 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 4.
  • the compound represented by Formula 3-4 when preparing the compound represented by Formula 3-4, the compound represented by Formula 5-4, the compound represented by Formula 4, tripotassium, and dimethylacetamide are sequentially added to the reactor, and incubated at 20°C.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring at ⁇ 30°C, preferably 23 ⁇ 27°C, for 1 ⁇ 7 hours, preferably 4 ⁇ 6 hours.
  • ginseng potassium may be added to act as a base, and ginseng potassium will be added in an amount of 163 to 246 parts by weight, preferably 184 to 225 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 4.
  • the compound represented by Formula 5-5 when preparing the compound represented by Formula 5-5, the compound represented by Formula 5-5, the compound represented by Formula 4, tripotassium, and dimethylacetamide are sequentially added to the reactor and incubated at 20°C.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring at ⁇ 30°C, preferably 23 ⁇ 27°C, for 1 ⁇ 7 hours, preferably 3 ⁇ 5 hours.
  • ginseng potassium may be added to act as a base, and ginseng potassium will be added in an amount of 131 to 197 parts by weight, preferably 147 to 181 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 4.
  • the compound represented by Formula 5 can be prepared by reacting a compound represented by Formula 6 below and a compound represented by Formula 7 below.
  • R 1 is , , , Or it is a straight chain alkyl group of C1 to C12.
  • B 6 , B 7 , B 8 , B 9 , B 10 , B 11 , B 12 , B 13 , B 14 and B 15 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , preferably each independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group or a C3 to C12 branched alkyl group, preferably a C1 to C3 linear alkyl group. .
  • the compound represented by Formula 5 can be prepared by reacting the compound represented by Formula 6 with the compound represented by Formula 7 at a weight ratio of 1:0.29 to 0.72, and if the weight ratio is less than 1:0.29, the reaction There may be a problem of decreased yield, and if it exceeds 1:1.72, there may be a problem of increased impurities.
  • the compound represented by Formula 5 when the compound represented by Formula 5 is a compound represented by Formula 5-1, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 6-1 and the compound represented by Formula 7, In this case, the compound represented by the following Chemical Formula 6-1 and the compound represented by the Chemical Formula 7 may be reacted at a weight ratio of 1:0.48 to 0.72, preferably 1:0.54 to 0.66.
  • R 1 is am.
  • B 6 and B 7 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 2 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group. am.
  • the compound represented by Formula 5 when the compound represented by Formula 5 is a compound represented by Formula 5-2, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 6-2 with the compound represented by Formula 7, wherein, The compound represented by the following Chemical Formula 6-2 and the compound represented by the Chemical Formula 7 may be reacted at a weight ratio of 1:0.35 to 0.53, preferably 1:0.39 to 0.48.
  • R 1 is am.
  • B 8 , B 9 and B 10 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 3 is one of C1 to C3. It is a straight-chain alkyl group.
  • the compound represented by Formula 5 when the compound represented by Formula 5 is a compound represented by Formula 5-3, it can be prepared by reacting the compound represented by Formula 6-3 with the compound represented by Formula 7, wherein, The compound represented by the following Chemical Formula 6-3 and the compound represented by the Chemical Formula 7 may be reacted at a weight ratio of 1:0.29 to 0.44, preferably at a weight ratio of 1:0.32 to 0.40.
  • R 1 is am.
  • B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 4 is C1 ⁇ It is a straight chain alkyl group of C3.
  • the reaction mixture can be prepared by refluxing for 3 to 7 hours, preferably 4 to 6 hours, using a Dean-Stark trap.
  • p-toluenesulfonic acid may be added to act as an acid catalyst, and p-toluenesulfonic acid is added in an amount of 25 to 38 parts by weight, preferably 28 to 28 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Chemical Formula 6-1. 35 parts by weight can be added.
  • the reaction time is less than 3 hours, there may be a problem of decreased yield, and if it exceeds 7 hours, there may be a problem of increased impurities.
  • the prepared reaction mixture was cooled to 15 to 35°C, preferably 20 to 30°C, then washed sequentially with water, sodium bicarbonate, and brine, dried with sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to obtain the formula
  • the compound represented by 5-1 can be prepared. At this time, if the cooling temperature is less than 15°C or exceeds 35°C, there may be a problem in that it is difficult to remove impurities.
  • the compound represented by Formula 5-2 when preparing the compound represented by Formula 5-2, the compound represented by Formula 6-2, the compound represented by Formula 7, p-toluenesulfonic acid, and toluene are sequentially added to the reactor, and dine-
  • the reaction mixture can be prepared by refluxing for 3 to 7 hours, preferably 4 to 6 hours, using a Dean-Stark trap.
  • p-toluenesulfonic acid may be added to serve as a catalyst, and p-toluenesulfonic acid is used in an amount of 18 to 28 parts by weight, preferably 20 to 26 parts, based on 100 parts by weight of the compound represented by Chemical Formula 6-2. Parts by weight can be added.
  • the prepared reaction mixture was cooled to 15 to 35°C, preferably 20 to 30°C, then washed sequentially with water, sodium bicarbonate, and brine, dried with sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to obtain the formula
  • the compound represented by 5-2 can be prepared. At this time, if the cooling temperature is less than 15°C or exceeds 35°C, there may be a problem in that it is difficult to remove impurities.
  • the compound represented by Formula 5-3 when preparing the compound represented by Formula 6-3, the compound represented by Formula 6-3, the compound represented by Formula 7, p-toluenesulfonic acid, and toluene are sequentially added to the reactor, and dine-
  • the reaction mixture can be prepared by refluxing for 3 to 7 hours, preferably 4 to 6 hours, using a Dean-Stark trap.
  • p-toluenesulfonic acid may be added to serve as a catalyst, and p-toluenesulfonic acid is added in an amount of 14 to 22 parts by weight, preferably 16.4 to 20.1 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Chemical Formula 6-3. Parts by weight can be added.
  • the prepared reaction mixture was cooled to 15 to 35°C, preferably 20 to 30°C, then washed sequentially with water, sodium bicarbonate, and brine, dried with sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to obtain the formula
  • the compound represented by 5-3 can be prepared. At this time, if the cooling temperature is less than 15°C or exceeds 35°C, there may be a problem in that it is difficult to remove impurities.
  • the compound represented by Formula 2 can be prepared by reacting a compound represented by Formula 8 below with a compound represented by Formula 9 below.
  • B 3 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • B 1 and B 2 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or - CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • the compound represented by Formula 2 can be prepared by reacting the compound represented by Formula 8 with the compound represented by Formula 9 at a weight ratio of 1:0.67 to 1.01, preferably 1:0.76 to 0.93. , if the weight ratio is less than 1:0.67, there may be problems with reduced reaction yield and increased impurities, and if it exceeds 1:1.01, there may be problems with difficulty removing unreacted starting materials.
  • the compound represented by Formula 2 in the reactor is a compound represented by Formula 8, a compound represented by Formula 9, N,N-dimethylaminopyridine, and methanesulfonic acid. and dichloromethane are sequentially added, cooled to an internal temperature of 5 to 10°C, preferably 6 to 9°C, and then stirred for 5 to 15 minutes, preferably 8 to 12 minutes. .
  • N,N-dimethylaminopyridine may be added to serve as a catalyst, and N,N-dimethylaminopyridine is preferably 7 to 10.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 9. 7.8 to 9.6 parts by weight can be added.
  • methanesulfonic acid may be added to act as a catalyst, and methane sulfonic acid may be added in an amount of 7.3 to 11.0 parts by weight, preferably 8.2 to 10.1 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 9. If it is added in less than 7.3 parts by weight, there may be a problem of reduced yield due to unreaction, and if it exceeds 11.0 parts by weight, there may be a problem of an increase in impurities due to excessive reaction.
  • dichloromethane may be added to serve as a solvent.
  • the internal temperature after addition is less than 5°C, there may be a problem of unreaction, and if it exceeds 10°C, there may be a problem of increase in impurities.
  • diisopropylcarbodiimide can be added dropwise over 0.5 to 2 hours, preferably over 0.75 to 1 hour.
  • diisopropylcarbodiimide can be added dropwise at 55.9 to 83.9 parts by weight, preferably 62.8 to 76.9 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 9. If it is added dropwise at less than 55.9 parts by weight, There may be a problem of decreased yield due to non-reaction, and if it exceeds 83.9 parts by weight, there may be a problem of an increase in impurities due to overreaction.
  • the temperature is raised to an internal temperature of 15 to 35°C, preferably 20 to 30°C, and then stirred to prepare a reaction mixture.
  • the internal temperature is less than 15°C, there may be a problem of unreaction, and if it exceeds 35°C, there may be a problem of increased impurities.
  • the compound represented by Formula 9 can be prepared by hydrolysis reaction of a compound represented by Formula 10 below.
  • B 1 and B 2 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • the compound represented by Formula 10, tetrahydrofuran, and methanol are sequentially added to the reactor, cooled to an internal temperature of 5 to 10°C, preferably 6 to 9°C, and then incubated for 5 to 15 minutes, preferably. Typically, it can be stirred for 8 to 12 minutes.
  • tetrahydrofuran may be added to serve as a solvent
  • methanol may be added to serve as an auxiliary solvent.
  • the internal temperature after addition is less than 5°C, there may be a problem of reaction time delay, and if it exceeds 10°C, there may be a problem of an increase in impurities.
  • 15 to 35% by weight, preferably 20 to 30% by weight, of caustic soda aqueous solution can be added dropwise over 0.5 to 3 hours, preferably 1 to 2 hours.
  • 15 to 35% by weight, preferably 20 to 30% by weight, of caustic soda aqueous solution is added dropwise at 86 to 129 parts by weight, preferably 96.7 to 118.2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 10. If the amount is less than 86 parts by weight, there may be a problem of reduced yield due to some unreaction, and if it exceeds 129 parts by weight, there may be a problem of increased wastewater treatment costs during work-up. Additionally, if the dropping time is less than 1 hour, there may be a problem with reaction temperature control, and if it exceeds 3 hours, there may be a problem with an increase in reaction time.
  • the temperature is raised to an internal temperature of 15 to 35°C, preferably 20 to 30°C, and then stirred to prepare a reaction mixture.
  • the internal temperature is less than 15°C, there may be a problem of increased reaction time due to a delay in the reaction rate, and if it exceeds 35°C, there may be a problem of increased impurities.
  • 0.5N to 2.5N preferably 1.0N to 2.0N aqueous hydrochloric acid solution is added dropwise over 0.2 to 2 hours, preferably 0.5 to 1.5 hours, and then added dropwise for 0.5 to 1.5 hours. It can be stirred for an hour, preferably 0.8 to 1.2 hours.
  • the dropping time is less than 0.2 hours, there may be a problem of temperature control difficulty due to increased heat generation during neutralization, and if the dropping time exceeds 2 hours, there may be a problem of increased warcup time.
  • the stirring time is less than 0.5 hours, there may be problems with pH control, and if it exceeds 1.5 hours, there may be problems with overall reaction and increased workcup time.
  • the compound represented by Formula 9 can be prepared by sequentially washing with distilled water and methanol, and drying at a temperature of 30 to 70°C, preferably 40 to 60°C, under vacuum conditions.
  • the compound represented by Formula 10 can be prepared by reacting a compound represented by Formula 11 below and a compound represented by Formula 12 below.
  • B 1 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - am.
  • the compound represented by Formula 10 can be prepared by reacting the compound represented by Formula 11 and the compound represented by Formula 12 at a weight ratio of 1:0.22 to 0.34, preferably 1:0.25 to 0.31. , if the weight ratio is less than 1:0.22, there may be a problem of reduced yield due to unreacted, and if it exceeds 1:0.34, there may be a problem of reduced yield due to an increase in mono-compounds.
  • the compound represented by Formula 11, the compound represented by Formula 12, dimethylacetamide, and tripotassium are sequentially added to the reactor, and the internal temperature is adjusted to 80 to 95°C, preferably 85 to 90°C.
  • the reaction mixture can be prepared by stirring for 1 to 5 hours, preferably 2 to 3 hours.
  • dimethylacetamide may be added to act as a solvent
  • potassium ginseng may be added to act as a base.
  • Potassium ginseng can be added at 102 to 154 parts by weight, preferably 115 to 141 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 11. If less than 102 parts by weight is added, the yield decreases due to non-reaction.
  • the prepared reaction mixture was cooled to 20°C to 30°C, preferably to 23°C to 27°C, diluted with ethyl acetate, and then washed sequentially with water, sodium bicarbonate, and brine. After drying with sodium sulfate, distillation under reduced pressure can be performed to prepare the compound represented by Chemical Formula 10.
  • the compound represented by Formula 11 can be prepared by reacting a compound represented by Formula 13 below with mesyl chloride (MsCl).
  • B 1 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - am.
  • the compound represented by Formula 11 can be prepared by reacting the compound represented by Formula 13 with mesyl chloride at a weight ratio of 1:0.58 to 0.88, preferably 1:0.65 to 0.80, if the weight ratio is 1. : If it is less than 0.58, there may be a problem of reduced yield due to unreaction, and if it exceeds 1:0.88, there may be a problem of removal of excess mesyl chloride.
  • the compound represented by Formula 13 dichloromethane, and trimethylamine are sequentially added to the reactor, and cooled to an internal temperature of 3 to 12°C, preferably 5 to 10°C. .
  • dichloromethane may be added to act as a solvent
  • trimethylamine may be added to act as a base.
  • Trimethylamine can be added 52 to 78 parts by weight, preferably 58.5 to 71.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 13. If less than 52 parts by weight is added, the yield may decrease due to lack of base. There may be a problem, and if more than 78 parts by weight is added, there may be a problem with trimethylamine removal.
  • the internal temperature after addition is less than 3°C, there may be a problem of increased reaction time due to the low reaction temperature, and if it exceeds 12°C, there may be problems of increased impurities and additional purification processes.
  • mesyl chloride can be added dropwise for 0.5 to 2 hours, preferably 1 to 1.5 hours. If the drop time is less than 0.5 hours, there may be a problem with internal temperature control, and if it exceeds 2 hours, the reaction time increases. There may be a problem.
  • mesyl chloride can be added dropwise in an amount of 58.4 to 87.6 parts by weight, preferably 65.7 to 80.3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 13. If less than 58.4 parts by weight is added dropwise, there is a problem of reduced yield. There may be, and if it exceeds 87.6 parts by weight, there may be a problem with removing the excess mesyl chloride.
  • the internal temperature can be raised to 15 to 30°C, preferably 20 to 25°C, and the reaction product can be prepared by stirring for 1 to 5 hours, preferably 2 to 4 hours.
  • the internal temperature is less than 15°C, there may be a problem of increased reaction time due to the low reaction temperature, and if it exceeds 30°C, there may be a problem of increased impurities due to overreaction and additional purification processes.
  • the stirring time is less than 1 hour, there may be a problem of non-reaction, and if it exceeds 5 hours, there may be a problem of increased reaction time.
  • the prepared reactant was sequentially washed with water, sodium hydrogen carbonate, 0.5 to 1.5 N aqueous hydrochloric acid solution, and brine, dried with sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to obtain the formula 11-1.
  • Compounds that can be manufactured can be produced.
  • the compound represented by Formula 13 can be prepared by reducing the compound represented by Formula 14 below.
  • the compound represented by Formula 14 and tetrahydrofuran anhydrous can be added to the reactor, and cooled to an internal temperature of -10 to 5°C, preferably -5 to 0°C. At this time, anhydrous tetrahydrofuran can be added to act as a solvent. If the internal temperature after addition is less than -10°C, there may be a problem of increased reaction time due to a decrease in reaction temperature, and if it exceeds 5°C, overreaction may occur. There may be a problem of increased impurities due to this.
  • the prepared iodine solution can be added dropwise over 1 to 5 hours, preferably over 2 to 4 hours, while maintaining the internal temperature.
  • the dropping time is less than 1 hour, there may be a problem of an increase in impurities due to an increase in the internal temperature of the reaction, and if the dropping time exceeds 5 hours, there may be a problem of an increase in the reaction time.
  • a sulfuric acid solution prepared by dissolving sulfuric acid in tetrahydrofuran can be added dropwise over 0.5 to 1.5 hours, preferably 0.8 to 1.2 hours. At this time, if the dropping time is less than 0.5 hours, there may be a problem of an increase in the internal temperature of the reaction, and if it exceeds 1.5 hours, there may be a problem of an increase in the reaction time.
  • the reaction solution can be prepared by raising the internal temperature to 15 to 30°C, preferably 20 to 25°C, and stirring for 0.5 to 1.5 hours, preferably 0.8 to 1.2 hours.
  • the internal temperature is less than 15°C, there may be a problem of increased reaction time due to the low reaction temperature, and if it exceeds 30°C, there may be a problem of increased impurities due to the high reaction temperature.
  • the stirring time is less than 0.5 hours, there may be a problem of decreased yield due to lack of sufficient reaction time, and if the stirring time exceeds 1.2 hours, there may be a problem of increased reaction time.
  • the prepared reaction solution is filtered, 1 to 2N hydrochloric acid is added to terminate the reaction, and then the reaction solution can be concentrated.
  • the concentrated reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed sequentially with water, aqueous hydrochloric acid solution, and brine, dried with sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to obtain the compound represented by Formula 13. It can be manufactured.
  • the compound represented by Formula 14 can be prepared by esterification of the compound represented by Formula 15 below.
  • the compound represented by Formula 15 and methanol are added and stirred into the reactor, then potassium hydroxide is added and reacted under reflux conditions for 3 to 9 hours, preferably 5 to 7 hours, to form a reaction solution. can be manufactured.
  • the reaction time is less than 3 hours, there may be a problem of decreased yield due to insufficient reaction time, and if it exceeds 9 hours, there may be a problem of increased reaction time.
  • potassium hydroxide can be added to serve as a dimethylation reagent, and 13.4 to 20.2 parts by weight, preferably 15.1 to 18.5 parts by weight, can be added based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 15, If less than 13.4 parts by weight is added, there may be a problem of decreased yield due to insufficient reaction equivalent, and if it exceeds 20.2 parts by weight, there may be a problem of increased reaction time due to difficulty in removing the base.
  • the prepared reaction solution may be cooled and concentrated, and water may be added to the residue.
  • the reason for adding water to the residue is to send the compound represented by Formula 14 to the water layer.
  • dilute hydrochloric acid is added until the pH reaches 1 to 3, preferably 1.5 to 2.5, and the precipitated crystals can be filtered. If the pH is less than 1, there may be problems with acid wastewater treatment, and if it exceeds 3, there may be problems with reduced yield due to lack of sufficient acidification.
  • the present invention provides a liquid crystal compound for retardation film represented by the following formula (1).
  • B 1 , B 2 , B 3 , B 4 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2
  • R 1 is , , , Or it is a straight chain alkyl group of C1 to C12.
  • B 6 , B 7 , B 8 , B 9 , B 10 , B 11 , B 12 , B 13 , B 14 and B 15 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , preferably each independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group or a C3 to C12 branched alkyl group, preferably a C1 to C3 linear alkyl group. .
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 may include a liquid crystal compound for a retardation film represented by the following Formula 1-1.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver , B 6 and B 7 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 2 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 may include a liquid crystal compound for a retardation film represented by the following Formula 1-2.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver and B 8 , B 9 and B 10 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 3 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 may include a liquid crystal compound for a retardation film represented by the following Formula 1-3.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver and B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 4 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group. am.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 may include a liquid crystal compound for a retardation film represented by the following Formulas 1-7.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 silver and B 15 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 5 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • liquid crystal compound for a retardation film represented by Formula 1 may include a liquid crystal compound for a retardation film represented by the following Formulas 1-8.
  • B 1 , B 2 and B 5 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently Independently, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is a straight chain alkyl group of C1 to C3.
  • the liquid crystal compound for retardation film of the present invention may include a reactant of a compound represented by Formula 2 below and a compound represented by Formula 3 below.
  • B 1 , B 2 , B 3 and B 4 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably B 1 , B 2 and B 5 is each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 3 and B 4 are each independently -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 1 is , , , Or it is a straight chain alkyl group of C1 to C12.
  • B 6 , B 7 , B 8 , B 9 , B 10 , B 11 , B 12 , B 13 , B 14 and B 15 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - , preferably each independently, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group or a C3 to C12 branched alkyl group, preferably a C1 to C3 linear alkyl group. .
  • reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3 may be a reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-1 below.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is , B 6 and B 7 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 2 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • the reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-1 is a mixture of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-1 below at a weight ratio of 1:0.37 to 0.56, preferably It may be a reactant reacted at a weight ratio of 1:0.42 to 0.51.
  • the reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3 may be a reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-2 below.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -
  • R 1 is ,
  • B 8 , B 9 and B 10 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and
  • R 3 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • the reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-2 is a compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-2 at a weight ratio of 1:0.42 to 0.63, preferably It may be a reactant reacted at a weight ratio of 1:0.47 to 0.58.
  • reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3 may be a reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-3 below.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -
  • R 1 is and B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -
  • R 4 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group.
  • the reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-3 is a compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-3 at a weight ratio of 1:0.41 to 0.62, preferably It may be a reactant reacted at a weight ratio of 1:0.46 to 0.57.
  • reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3 may be a reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-4 below.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is , B 15 is each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 5 is a C1 to C3 linear alkyl group.
  • the reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-4 is a compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-4 at a weight ratio of 1:0.33 to 0.51, preferably It may be a reactant reacted at a weight ratio of 1:0.37 to 0.46.
  • reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3 may be a reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-5 below.
  • B 5 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, and R 1 is a C1 to C3 straight-chain alkyl group.
  • the reactant of the compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-5 is a compound represented by Formula 2 and the compound represented by Formula 3-5 at a weight ratio of 1:0.20 to 0.32, preferably It may be a reactant reacted at a weight ratio of 1:0.23 to 0.29.
  • the retardation film of the present invention may include a horizontal photo-alignment film and a reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film formed on one surface of the horizontal photo-alignment film.
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film may include the liquid crystal compound for the retardation film described above.
  • a horizontal photo-alignment film can be manufactured on one side of a plastic substrate.
  • a photo-alignment film is applied to one side of a plastic substrate and dried at a temperature of 60 to 100°C, preferably 70 to 90°C.
  • a horizontal photo-alignment film can be manufactured by irradiating linearly polarized ultraviolet rays of 200 to 500 mJ/cm3, preferably 300 to 400 mJ/cm3, through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • the horizontal photo-alignment film may be a horizontal photo-alignment film with a thickness of 100-500 nm, preferably 200-400 nm, with a slow axis of 40-50°, preferably 43-47°.
  • the reverse dispersion polymerizable liquid crystal film can be formed by applying a liquid crystal compound for a retardation film to one side of the horizontal photo-alignment film and curing it.
  • the liquid crystal compound for a retardation film is applied to one side of the horizontal photo-alignment film
  • the liquid crystal compound for a retardation film is applied to one side of the horizontal photo-alignment film.
  • ultraviolet rays of 100 to 300 mW/cm3, preferably 150 to 250 mW/cm3 are applied in a vacuum nitrogen atmosphere blocked from oxygen for 1 to 30 seconds, preferably for 3 to 8 seconds.
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition is crosslinked and polymerized, thereby forming a reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film with a thickness of 1 to 10 ⁇ m, preferably 1.5 to 3.5 ⁇ m, on one side of the horizontal photo-alignment film.
  • Retardation film can be used in anti-reflection films for reflective or transmissive liquid crystal displays (LCDs), anti-reflection films for organic light-emitting diode (OLED) displays, and semiconductor devices that require prevention of external light reflection due to deposition of metallic materials. there is.
  • LCDs liquid crystal displays
  • OLED organic light-emitting diode
  • the display device of the present invention may include the retardation film described above.
  • the display device may be, for example, a liquid crystal display such as a reflective or transflective liquid crystal display, or an organic light emitting device.
  • the arrangement form of the retardation film in the display device is not particularly limited, and for example, known forms may be adopted.
  • a laminated film can be used to construct one of the circular polarizer plates of the liquid crystal panel to prevent reflection of external light and ensure visibility.
  • the organic light emitting device When the retardation film is applied to an organic light emitting device, the organic light emitting device includes a reflective electrode, a transparent electrode, an organic layer interposed between the reflective electrode and the transparent electrode and having a light emitting layer, and the retardation film, and the retardation film. This may be present on the outside of the reflective or transparent electrode.
  • reaction solution was prepared, 1.5N hydrochloric acid was added to terminate the reaction, and the reaction solution was concentrated.
  • the concentrated reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed sequentially with water, aqueous hydrochloric acid solution, and salt water, dried with sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to obtain 157 g of the compound represented by the following formula 13-1. Obtained.
  • B 1 is -CH 2 -.
  • B 1 is -CH 2 -.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -
  • B 3 and B 4 are -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • B 3 is -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
  • R 1 is , B 6 and B 7 are -CH 2 CH 2 -, and R 2 is a methyl group.
  • R 1 is , B 6 and B 7 are -CH 2 CH 2 -, and R 2 is a methyl group.
  • R 1 is , B 5 , B 6 and B 7 are -CH 2 CH 2 -, and R 2 is a methyl group.
  • R 1 is , B 8 , B 9 and B 10 are -CH 2 CH 2 -, and R 3 is a methyl group.
  • R 1 is , B 8 , B 9 and B 10 are -CH 2 CH 2 -, and R 3 is a methyl group.
  • R 1 is , B 5 , B 8 , B 9 and B 10 are -CH 2 CH 2 -, and R 3 is a methyl group.
  • R 1 is , B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are -CH 2 CH 2 -, and R 4 is a methyl group.
  • R 1 is , B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are -CH 2 CH 2 -, and R 4 is a methyl group.
  • R 1 is , B 5 , B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are -CH 2 CH 2 -, and R 4 is a methyl group.
  • R 1 is , B 5 and B 15 are -CH 2 CH 2 -, and R 5 is a methyl group.
  • R 1 is and B 15 is -CH 2 CH 2 -, and R 5 is a methyl group.
  • R 1 is an ethyl group
  • B 5 is -CH 2 CH 2 -.
  • R 1 is an ethyl group.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -
  • B 3 and B 4 are -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -
  • B 5 is -CH 2 CH 2 -
  • R 1 is ,
  • B 6 and B 7 are -CH 2 CH 2 -, and
  • R 2 is a methyl group.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -
  • B 3 and B 4 are -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -
  • B 5 is -CH 2 CH 2 -
  • R 1 is , B 8 , B 9 and B 10 are -CH 2 CH 2 -
  • R 3 is a methyl group.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -
  • B 3 and B 4 are -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -
  • B 5 is -CH 2 CH 2 -
  • R 1 is , B 11 , B 12 , B 13 and B 14 are -CH 2 CH 2 -
  • R 4 is a methyl group.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -
  • B 3 and B 4 are -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -
  • B 5 is -CH 2 CH 2 -
  • R 1 is
  • B 15 is -CH 2 CH 2 -
  • R 5 is a methyl group.
  • B 1 and B 2 are -CH 2 -
  • B 3 and B 4 are -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -
  • B 5 is -CH 2 CH 2 -
  • R 1 is an ethyl group.
  • a liquid crystal composition was prepared by mixing 2.5 g of the liquid crystal compound for retardation film represented by Chemical Formulas 1-4 prepared in Example 1 in a solvent containing 5.0 g of toluene and 2.5 g of cyclohexanone.
  • a reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound was prepared by adding 5% by weight of omnirad 907 (IGM, formerly Irgacure907), a radical photoinitiator, based on the total weight% of the prepared liquid crystal composition.
  • the prepared reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound had a short-wavelength dispersibility of Ro (450/550 nm) of about 0.75 to 0.80, and a long-wavelength dispersibility of Ro (650/550 nm) of about 1.04 to 1.07.
  • a liquid crystal composition was prepared by mixing 2.5 g of the liquid crystal compound for retardation film represented by Chemical Formulas 1-5 prepared in Example 2 in a solvent containing 5.0 g of toluene and 2.5 g of cyclohexanone.
  • a reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound was prepared by adding 5% by weight of omnirad 907 (IGM, formerly Irgacure907), a radical photoinitiator, based on the total weight% of the prepared liquid crystal composition.
  • the prepared reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound had a short-wavelength dispersibility of Ro (450/550 nm) of about 0.75 to 0.80, and a long-wavelength dispersibility of Ro (650/550 nm) of about 1.04 to 1.07.
  • a liquid crystal composition was prepared by mixing 2.5 g of the liquid crystal compound for retardation film represented by Chemical Formulas 1-6 prepared in Example 3 in a solvent containing 5.0 g of toluene and 2.5 g of cyclohexanone.
  • a reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound was prepared by adding 5% by weight of omnirad 907 (IGM, formerly Irgacure907), a radical photoinitiator, based on the total weight% of the prepared liquid crystal composition.
  • the prepared reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound had a short-wavelength dispersibility of Ro (450/550 nm) of about 0.75 to 0.80, and a long-wavelength dispersibility of Ro (650/550 nm) of about 1.04 to 1.07.
  • a liquid crystal composition was prepared by mixing 2.5 g of the liquid crystal compound for retardation film represented by Chemical Formula 1-9 prepared in Example 4 in a solvent containing 5.0 g of toluene and 2.5 g of cyclohexanone.
  • a reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound was prepared by adding 5% by weight of omnirad 907 (IGM, formerly Irgacure907), a radical photoinitiator, based on the total weight% of the prepared liquid crystal composition.
  • the prepared reverse-dispersion polymerizable liquid crystal compound had a short-wavelength dispersibility of Ro (450/550 nm) of about 0.75 to 0.80, and a long-wavelength dispersibility of Ro (650/550 nm) of about 1.04 to 1.07.
  • a photo-alignment film (manufacturer: BASF Rolic) is applied to one side of a plastic substrate (manufacturer: TacBrigh, Normal TAC, thickness: 60 ⁇ m), dried at a temperature of 80°C, and then polarized through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition prepared in Preparation Example 1 was applied to one side of the horizontal photo-alignment film, oriented according to the orientation of the horizontal photo-alignment film, and then heated at 200 mW/min in a nitrogen atmosphere in a vacuum state where oxygen was blocked.
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition was crosslinked and polymerized by irradiating cm3 ultraviolet rays for 5 seconds to prepare a retardation film in which a 2.9 ⁇ m thick reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film was formed on one side of the horizontal photo-alignment film.
  • the in-plane retardation for a wavelength of 550 nm was 138 ⁇ 140 nm.
  • the in-plane phase difference was measured by polarization measurement using Axoscan (Axometrics), a birefringence measuring instrument.
  • a photo-alignment film (manufacturer: BASF Rolic) is applied to one side of a plastic substrate (manufacturer: TacBrigh, Normal TAC, thickness: 60 ⁇ m), dried at a temperature of 80°C, and then polarized through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition prepared in Preparation Example 2 was applied to one side of the horizontal photo-alignment film, oriented according to the orientation of the horizontal photo-alignment film, and then heated at 200 mW/min in a nitrogen atmosphere in a vacuum state where oxygen was blocked.
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition was crosslinked and polymerized by irradiating cm3 ultraviolet rays for 5 seconds to prepare a retardation film in which a 2.9 ⁇ m thick reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film was formed on one side of the horizontal photo-alignment film.
  • the in-plane retardation for a wavelength of 550 nm was 138 ⁇ 140 nm.
  • the in-plane phase difference was measured by polarization measurement using Axoscan (Axometrics), a birefringence measuring instrument.
  • a photo-alignment film (manufacturer: BASF Rolic) is applied to one side of a plastic substrate (manufacturer: TacBrigh, Normal TAC, thickness: 60 ⁇ m), dried at a temperature of 80°C, and then polarized through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition prepared in Preparation Example 3 was applied to one side of the horizontal photo-alignment film, oriented according to the orientation of the horizontal photo-alignment film, and then heated at 200 mW/min in a nitrogen atmosphere in a vacuum state where oxygen was blocked.
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition was crosslinked and polymerized by irradiating cm3 ultraviolet rays for 5 seconds to prepare a retardation film in which a 2.8 ⁇ m thick reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film was formed on one side of the horizontal photo-alignment film.
  • the in-plane retardation for a wavelength of 550 nm was 138 ⁇ 140 nm.
  • the in-plane phase difference was measured by polarization measurement using Axoscan (Axometrics), a birefringence measuring instrument.
  • a photo-alignment film (manufacturer: BASF Rolic) is applied to one side of a plastic substrate (manufacturer: TacBrigh, Normal TAC, thickness: 60 ⁇ m), dried at a temperature of 80°C, and then polarized through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition prepared in Preparation Example 4 was applied to one side of the horizontal photo-alignment film, oriented according to the orientation of the horizontal photo-alignment film, and then heated at 200 mW/min in a nitrogen atmosphere in a vacuum state where oxygen was blocked.
  • the reverse-dispersion polymerizable liquid crystal composition was crosslinked and polymerized by irradiating cm3 ultraviolet rays for 5 seconds to prepare a retardation film in which a 2.8 ⁇ m thick reverse-dispersion polymerizable liquid crystal film was formed on one side of the horizontal photo-alignment film.
  • a photo-alignment film (manufacturer: BASF Rolic) is applied to one side of a plastic substrate (manufacturer: TacBrigh, Normal TAC, thickness: 60 ⁇ m), dried at a temperature of 80°C, and then polarized through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • LC242 (manufacturer: BASF AG), a nematic liquid crystal composition, was applied to one side of the manufactured horizontal photo-alignment film, aligned according to the orientation of the horizontal photo-alignment film, and then irradiated with ultraviolet rays of 200 mW/cm3 for 5 seconds in an air atmosphere.
  • a retardation film was prepared in which a 1.2 ⁇ m thick nematic liquid crystal film was formed on one side of the horizontal photo-alignment film.
  • the in-plane retardation for a wavelength of 550 nm was 138 ⁇ 140 nm.
  • the in-plane phase difference was measured by polarization measurement using Axoscan (Axometrics), a birefringence measuring instrument.
  • a photo-alignment film (manufacturer: BASF Rolic) is applied to one side of a plastic substrate (manufacturer: TacBrigh, Normal TAC, thickness: 60 ⁇ m), dried at a temperature of 80°C, and then polarized through a wire grid polarizer (WGP).
  • WGP wire grid polarizer
  • RMM2083 (manufacturer: Merck), a nematic liquid crystal composition, was applied to one side of the manufactured horizontal photo-alignment film, dried for 2 minutes at a temperature of 65°C, and then dried according to the orientation of the horizontal photo-alignment film at room temperature (23°C). After alignment, RMM2083 was crosslinked and polymerized by irradiating 200 mW/cm3 of ultraviolet rays for 5 seconds in a vacuum nitrogen atmosphere where oxygen was blocked, and a 3.4 ⁇ m thick nematic liquid crystal film was formed on one side of the horizontal photo-alignment film. A film was prepared.
  • the in-plane retardation for a wavelength of 550 nm was 138 ⁇ 140 nm.
  • the in-plane phase difference was measured by polarization measurement using Axoscan (Axometrics), a birefringence measuring instrument.
  • the in-plane retardation (Ro) at a wavelength of 550 nm, the in-plane retardation (Ro) at a wavelength of 450 nm/550 nm, the in-plane retardation (Ro) at a wavelength of 650 nm/550 nm, and ⁇ n were measured. It is shown in Table 1 below.
  • the in-plane retardation (Ro) was measured at a wavelength of 400 to 800 nm and is shown in FIG. 1.
  • the in-plane phase difference was measured by polarization measurement using Axoscan (Axometrics), a birefringence measuring instrument, and LC242 (manufacturer: BASF), a normally dispersive liquid crystal, was used to evaluate the dispersibility of the retardation films prepared in Preparation Examples 1 to 4.
  • Axoscan Axometrics
  • LC242 manufactured by BASF
  • BASF normally dispersive liquid crystal

Abstract

본 발명은 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 낮은 역분산성을 가진 상태에서도 고온 내구성이 우수한 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

Description

위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법
본 발명은 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 낮은 역분산성을 가진 상태에서도 고온 내구성이 우수한 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
액정 디스플레이에 사용되는 위상차 필름, 편광판 등의 광학 이방체는, 러빙 처리를 실시한 기재나 광배향시킨 광배향막을 성막한 기재에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 용액을 도포하고, 용제를 건조시킨 후, 자외선 또는 열에 의해 중합시킴에 의해서 제조할 수 있다. 위상차 필름의 광학 특성으로서는, 액정 디스플레이의 시야각을 향상시키기 위해서, 복굴절률(△n)의 파장 분산을 작게, 혹은 반대로 하는 것이 요구되고 있다. 이 특성을 실현하기 위하여, 역분산형의 중합성 화합물의 개발이 행해지고 있다. 또, 위상차 필름에 대한 입사광의 파장 λ를 횡축에 취하고, 그 복굴절률을 종축에 플롯해서 얻은 그래프의 기울기가 양일 경우, 그 복굴절률의 파장 분산은 반대이거나, 또는 그 위상차 필름을 구성하는 재료의 중합성 화합물은 역분산형이라고 일반적으로 말해지고 있다.
위상차 필름을 구성하는 중합성 화합물을 역분산형으로 하기 위해서는, 분자 장축에 대해서 수직 방향으로 큰 복굴절률을 갖는 부위(수직 유닛)를 분자 내에 도입하는 방법이 있다.
그러나, 이 수직 유닛을 도입함에 의해서, 액정성이 악화하는 경향이나, 배향성이 나빠지는 경향이 있기 때문에, 배향성을 흐트러뜨리지 않는 중합성 화합물을 얻기 위해서는 적지 않은 시행 착오가 필요하게 된다.
또한, 기재 상에 중합성 화합물을 도포할 때, 기재를 침범하지 않는 용제에 중합성 화합물을 적량 용해시킬 필요가 있다. 그러나, 수직 유닛의 도입에 의해서, 용제에의 용해성이 종종 저하하여, 충분한 농도의 용액을 얻을 수 없는, 보관 중에 결정이 석출하는 등의 문제가 일어난다.
또한, 수직 유닛의 도입에 의해서, 중합성 화합물의 흡수 스펙트럼이 변화하여, 대부분의 경우 흡수가 장파장화한다. 이것은, 종종 광학안정성의 저하를 초래하여, 위상차 필름의 황변이나 깨짐 등을 일으키는 경우가 있다.
본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 위상차 필름용 액정 화합물 및 이의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.
또한, 낮은 역분산성을 가진 상태에서도 고온 내구성이 우수한 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
상술한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000001
상기 화학식 1에 있어서, B1, B2, B3, B4 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000002
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000003
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000004
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000005
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이다.
본 발명의 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법은 낮은 역분산성을 가진 상태에서도 고온 내구성이 우수하다.
도 1은 제조예 1 ~ 4에서 제조된 위상차 필름, LC242(제조사: BASF AG)을 사용하여 제조된 위상차 필름과 RMM2083(제조사: Merck)을 사용하여 제조된 위상차 필름의 파장 400 ~ 800nm에서 면내위상차(Ro)을 측정한 그래프이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 부가한다.
본 발명의 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 제조하는 단계를 포함할 수 있다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000006
상기 화학식 1에 있어서, B1, B2, B3, B4 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000007
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000008
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000009
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000010
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이다.
상기 화학식 1에 있어서, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 1에 있어서, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이고, 바람직하게는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
[화학식 2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000011
상기 화학식 2에 있어서, B1, B2, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
[화학식 3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000012
상기 화학식 3에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000013
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000014
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000015
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000016
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이다.
상기 화학식 3에 있어서, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 3에 있어서, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이고, 바람직하게는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
구체적으로, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 1 : 0.20 ~ 0.63 중량비로 반응시킨 것일 수 있으며, 만일 중량비가 1 : 0.20 미만이면 고온신뢰성 저하의 문제가 있을 수 있고, 1 : 0.63를 초과하면 배향성 저하의 문제가 있을 수 있다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물이 하기 화학식 1-1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물일 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물을 1 : 0.37 ~ 0.56 중량비, 바람직하게는 1 : 0.42 ~ 0.51 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 1-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000017
상기 화학식 1-1에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000018
이고, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
[화학식 3-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000019
상기 화학식 3-1에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000020
이며, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물이 하기 화학식 1-2로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물일 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 1 : 0.42 ~ 0.63 중량비, 바람직하게는 1 : 0.47 ~ 0.58 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 1-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000021
상기 화학식 1-2에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000022
이고, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
[화학식 3-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000023
상기 화학식 3-2에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000024
이며, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물이 하기 화학식 1-3으로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물일 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 1 : 0.41 ~ 0.62 중량비, 바람직하게는 1 : 0.46 ~ 0.57 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 1-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000025
상기 화학식 1-3에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000026
이고, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
[화학식 3-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000027
상기 화학식 3-3에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000028
이며, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물이 하기 화학식 1-7로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물일 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-4로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-4로 표시되는 화합물을 1 : 0.33 ~ 0.51 중량비, 바람직하게는 1 : 0.37 ~ 0.46 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 1-7]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000029
상기 화학식 1-7에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000030
이고, B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
[화학식 3-4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000031
상기 화학식 3-4에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000032
이며, B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물이 하기 화학식 1-8로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물일 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-5로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-5로 표시되는 화합물을 1 : 0.20 ~ 0.32 중량비, 바람직하게는 1 : 0.23 ~ 0.29 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 1-8]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000033
상기 화학식 1-8에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
[화학식 3-5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000034
상기 화학식 3-5에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 2로 표시되는 화합물, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물, p-톨루엔설폰산 및 테트라히드로퓨란을 순차적으로 투입하고, 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23 ~ 27℃에서 12 ~ 24시간, 바람직하게는 16 ~ 20시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, p-톨루엔설폰산은 촉매 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, p-톨루엔설폰산은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 4 ~ 6 중량부, 바람직하게는 4.5 ~ 5.5 중량부가 투입될 수 있고, 만일 4 중량부 미만으로 투입된다면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 6 중량부를 초과하면 부산물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 테트라히드로퓨란은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응온도가 20℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 부반응 증가의 문제가 있을 수 있다.
또한, 제조한 반응 혼합물은 디클로로메탄을 투입한 후, 묽은 염산과 소금물로 세척하고, 건조 후 감압 증류하여 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 제조할 수 있다. 이 때, 디클로로메탄은 재결정 역할을 하기 위해 투입될 수 있다.
한편, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000035
[화학식 5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000036
상기 화학식 5에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000037
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000038
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000039
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000040
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이다.
상기 화학식 5에 있어서, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 5에 있어서, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이고, 바람직하게는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
구체적으로, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 1 : 0.43 ~ 2.11 중량비로 반응시켜 제조할 수 있으며, 만일 중량비가 1 : 0.43 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 1 : 2.11를 초과하면 불순물이 증가하는 문제가 있을 수 있다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물일 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-1로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-1로 표시되는 화합물을 1 : 0.76 ~ 1.14 중량비, 바람직하게는 1 : 0.85 ~ 1.04 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 5-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000041
상기 화학식 5-1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000042
이다.
상기 화학식 5-1에 있어서, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물일 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-2로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-2로 표시되는 화합물을 1 : 1.16 ~ 1.74 중량비, 바람직하게는 1 : 1.31 ~ 1.60 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 5-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000043
상기 화학식 5-2에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000044
이다.
상기 화학식 5-2에 있어서, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물일 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-3로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-3으로 표시되는 화합물을 1 : 1.39 ~ 2.1 중량비, 바람직하게는 1 : 1.57 ~ 1.92 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 5-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000045
상기 화학식 5-3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000046
이다.
상기 화학식 5-3에 있어서, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물일 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-4로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-4으로 표시되는 화합물을 1 : 0.69 ~ 1.04 중량비, 바람직하게는 1 : 0.78 ~ 0.95 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 5-4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000047
상기 화학식 5-4에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000048
이다.
상기 화학식 5-4에 있어서, B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물일 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-5로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5-5으로 표시되는 화합물을 1 : 0.43 ~ 0.65 중량비, 바람직하게는 1 : 0.48 ~ 0.59 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 5-5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000049
상기 화학식 5-5에 있어서, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 5-1로 표시되는 화합물, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물, 제삼인삼칼륨 및 디메틸아세트아미드를 순차적으로 투입하고, 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23 ~ 27℃에서 1 ~ 5시간, 바람직하게는 1 ~ 3시간, 더욱 바람직하게는 1.5 ~ 2.5시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 제삼인삼칼륨은 염기의 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, 제삼인삼칼륨은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 141 ~ 213 중량부, 바람직하게는 159 ~ 195 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 141 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 213 중량부를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 디메틸아세트아미드는 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응온도가 20℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서, 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
또한, 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 5-2로 표시되는 화합물, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물, 제삼인삼칼륨 및 디메틸아세트아미드를 순차적으로 투입하고, 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23 ~ 27℃에서 1 ~ 5시간, 바람직하게는 1 ~ 3시간, 더욱 바람직하게는 1.5 ~ 2.5시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 제삼인삼칼륨은 염기 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, 제삼인삼칼륨은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 164 ~ 247 중량부, 바람직하게는 185 ~ 226 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 164 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 247 중량부를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 디메틸아세트아미드는 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응온도가 20℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서, 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
또한, 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 5-3로 표시되는 화합물, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물, 제삼인삼칼륨 및 디메틸아세트아미드를 순차적으로 투입하고, 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23 ~ 27℃에서 1 ~ 5시간, 바람직하게는 2 ~ 4시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 제삼인삼칼륨은 염기 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, 제삼인삼칼륨은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 163 ~ 246 중량부, 바람직하게는 184 ~ 225 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 163 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 246 중량부를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 디메틸아세트아미드는 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응온도가 20℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서, 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
또한, 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 5-4로 표시되는 화합물, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물, 제삼인삼칼륨 및 디메틸아세트아미드를 순차적으로 투입하고, 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23 ~ 27℃에서 1 ~ 7시간, 바람직하게는 4 ~ 6시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 제삼인삼칼륨은 염기 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, 제삼인삼칼륨은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 163 ~ 246 중량부, 바람직하게는 184 ~ 225 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 163 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 246 중량부를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 디메틸아세트아미드는 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응온도가 20℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서, 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
또한, 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 5-5로 표시되는 화합물, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물, 제삼인삼칼륨 및 디메틸아세트아미드를 순차적으로 투입하고, 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23 ~ 27℃에서 1 ~ 7시간, 바람직하게는 3 ~ 5시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 제삼인삼칼륨은 염기 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, 제삼인삼칼륨은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 131 ~ 197 중량부, 바람직하게는 147 ~ 181 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 131 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 197 중량부를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 디메틸아세트아미드는 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응온도가 20℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서, 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
나아가, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물과 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있다.
[화학식 6]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000050
[화학식 7]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000051
상기 화학식 6에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000052
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000053
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000054
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000055
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이다.
상기 화학식 6에 있어서, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 6에 있어서, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이고, 바람직하게는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
구체적으로, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 상기 화학식 6으로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 1 : 0.29 ~ 0.72 중량비로 반응시켜 제조할 수 있으며, 만일 중량비가 1 : 0.29 미만이면 반응 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 1 : 1.72를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물이 상기 화학식 5-1로 표시되는 화합물일 때, 하기 화학식 6-1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 하기 화학식 6-1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 1 : 0.48 ~ 0.72 중량비, 바람직하게는 1 : 0.54 ~ 0.66 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 6-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000056
상기 화학식 6-1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000057
이다.
상기 화학식 6-1에 있어서, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물이 상기 화학식 5-2로 표시되는 화합물일 때, 하기 화학식 6-2로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 하기 화학식 6-2로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 1 : 0.35 ~ 0.53 중량비, 바람직하게는 1 : 0.39 ~ 0.48 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 6-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000058
상기 화학식 6-2에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000059
이다.
상기 화학식 6-2에 있어서, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물이 상기 화학식 5-3으로 표시되는 화합물일 때, 하기 화학식 6-3으로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 이 때, 하기 화학식 6-3으로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 1 : 0.29 ~ 0.44 중량비, 바람직하게는 1 : 0.32 ~ 0.40 중량비로 반응시킨 것일 수 있다.
[화학식 6-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000060
상기 화학식 6-3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000061
이다.
상기 화학식 6-3에 있어서, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 5-1로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 6-1로 표시되는 화합물, 상기 화학식 7로 표시되는 화합물, p-톨루엔설폰산 및 톨루엔을 순차적으로 투입하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 3 ~ 7시간, 바람직하게는 4 ~ 6시간동안 환류하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, p-톨루엔설폰산은 산 촉매 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, p-톨루엔설폰산은 상기 화학식 6-1로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 25 ~ 38 중량부, 바람직하게는 28 ~ 35 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 25 중량부 미만으로 투입된다면 반응 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 38 중량부를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 톨루엔은 용매 및 수분 제거 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 혼합 반응물을 제조시, 반응시간이 3시간 미만이면 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 7시간을 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 15 ~ 35℃, 바람직하게는 20 ~ 30℃로 냉각시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 상기 화학식 5-1로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다. 이 때, 냉각온도가 15℃ 미만이거나 35℃를 초과하면 불순물 제거가 어려운 문제가 있을 수 있다.
또한, 상기 화학식 5-2로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 6-2로 표시되는 화합물, 상기 화학식 7로 표시되는 화합물, p-톨루엔설폰산 및 톨루엔을 순차적으로 투입하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 3 ~ 7시간, 바람직하게는 4 ~ 6시간동안 환류하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, p-톨루엔설폰산은 촉매 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, p-톨루엔설폰산은 상기 화학식 6-2로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 18 ~ 28 중량부, 바람직하게는 20 ~ 26 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 18 중량부 미만으로 투입된다면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 28 중량부를 초과하면 부산물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 톨루엔은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 15 ~ 35℃, 바람직하게는 20 ~ 30℃로 냉각시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 상기 화학식 5-2로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다. 이 때, 냉각온도가 15℃ 미만이거나 35℃를 초과하면 불순물 제거가 어려운 문제가 있을 수 있다.
또한, 상기 화학식 5-3으로 표시되는 화합물을 제조시, 반응기에 상기 화학식 6-3으로 표시되는 화합물, 상기 화학식 7로 표시되는 화합물, p-톨루엔설폰산 및 톨루엔을 순차적으로 투입하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 3 ~ 7시간, 바람직하게는 4 ~ 6시간동안 환류하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, p-톨루엔설폰산은 촉매 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, p-톨루엔설폰산은 상기 화학식 6-3으로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 14 ~ 22 중량부, 바람직하게는 16.4 ~ 20.1 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 14 중량부 미만으로 투입된다면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 22 중량부를 초과하면 부산물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 톨루엔은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 제조한 반응 혼합물은 15 ~ 35℃, 바람직하게는 20 ~ 30℃로 냉각시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 상기 화학식 5-3으로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다. 이 때, 냉각온도가 15℃ 미만이거나 35℃를 초과하면 불순물 제거가 어려운 문제가 있을 수 있다.
한편, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 하기 화학식 8로 표시되는 화합물과 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있다.
[화학식 8]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000062
상기 화학식 8에 있어서, B3는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
[화학식 9]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000063
상기 화학식 9에 있어서, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
구체적으로, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 상기 화학식 8로 표시되는 화합물과 상기 화학식 9로 표시되는 화합물을 1 : 0.67 ~ 1.01 중량비, 바람직하게는 1 : 0.76 ~ 0.93 중량비로 반응시켜 제조할 수 있으며, 만일 중량비가 1 : 0.67 미만이면 반응 수율 저하와 불순물 증가의 문제가 있을 수 있고, 1 : 1.01를 초과하면 미반응된 출발물질을 제거하기 어려운 문제가 있을 수 있다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제조하는 방법은 다음과 같다.
먼저, 반응기에 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 상기 화학식 8로 표시되는 화합물, 상기 화학식 9로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘(N,N-dimethylaminopyridine), 메테인술폰산(methanesulfonic acid) 및 디클로로메탄(dichloromethane)을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 5 ~ 10℃, 바람직하게는 6 ~ 9℃가 되도록 냉각한 후, 5 ~ 15분, 바람직하게는 8 ~ 12분 동안 교반할 수 있다. 이 때, N,N-디메틸아미노피리딘은 촉매 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, N,N-디메틸아미노피리딘은 상기 화학식 9로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 7 ~ 10.5 중량부, 바람직하게는 7.8 ~ 9.6 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 7 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 반응 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 10.5 중량부를 초과하면 미반응된 출발 물질 제거의 문제가 있을 수 있다. 또한, 메테인술폰산은 촉매 역할을 하기 위해 투입될 수 있으며, 메테인술폰산은 상기 화학식 9로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 7.3 ~ 11.0 중량부, 바람직하게는 8.2 ~ 10.1 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 7.3 중량부 미만으로 투입된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 11.0 중량부를 초과하면 초과 반응으로 인한 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 디클로로메탄은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 투입 후의 내부온도가 5℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 10℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 교반 하, 내부온도를 유지하면서 디이소프로필카보디이미드(diisopropylcarbodiimide)을 0.5 ~ 2 시간, 바람직하게는 0.75 ~ 1시간동안 적하할 수 있다. 이 때, 디이소프로필카보디이미드는 상기 화학식 9로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 55.9 ~ 83.9 중량부, 바람직하게는 62.8 ~ 76.9 중량부를 적하할 수 있으며, 만일 55.9 중량부 미만으로 적하된다면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 83.9 중량부를 초과하면 과반응으로 인한 불순물 상승의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 내부온도가 15 ~ 35℃, 바람직하게는 20 ~ 30℃가 되도록 승온한 후, 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 내부온도가 15℃ 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 35℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다.
마지막으로, 제조한 반응 혼합물에 물을 투입하여 수층 및 유기층을 가지도록 분리하고, 수층을 디클로로메탄으로 추출한 후, 분리된 유기층은 묽은 염산, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하고, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
나아가, 상기 화학식 9로 표시되는 화합물은 하기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 가수분해 반응(hydrolysis reaction)시켜 제조할 수 있다.
[화학식 10]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000064
상기 화학식 10에 있어서, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
구체적으로, 상기 화학식 9로 표시되는 화합물을 제조하는 방법은 다음과 같다.
먼저, 반응기에 상기 화학식 10으로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란 및 메탄올을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 5 ~ 10℃, 바람직하게는 6 ~ 9℃가 되도록 냉각한 후, 5 ~ 15분, 바람직하게는 8 ~ 12분 동안 교반할 수 있다. 이 때, 테트라히드로퓨란은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있고, 메탄올은 보조 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 또한, 투입 후의 내부온도가 5℃ 미만이면 반응 시간 지연의 문제가 있을 수 있고, 10℃를 초과하면 불순물의 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 교반 하, 내부온도를 유지하면서 15 ~ 35 중량%, 바람직하게는 20 ~ 30 중량% 가성소다 수용액을 0.5 ~ 3 시간, 바람직하게는 1 ~ 2 시간동안 적하할 수 있다. 이 때, 15 ~ 35 중량%, 바람직하게는 20 ~ 30 중량% 가성소다 수용액은 상기 화학식 10으로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 86 ~ 129 중량부, 바람직하게는 96.7 ~ 118.2 중량부를 적하할 수 있으며, 만일 86 중량부 미만으로 적하된다면 일부 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 129 중량부를 초과하면 워컵(Work-Up)시 폐수의 처리 비용의 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한 적하 시간이 1 시간 미만이면 반응 온도 조절의 문제가 있을 수 있고, 3시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 내부온도가 15 ~ 35℃, 바람직하게는 20 ~ 30℃가 되도록 승온한 후, 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 내부온도가 15℃ 미만이면 반응 속도 지연으로 인한 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있고, 35℃를 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 제조한 반응 혼합물에 물을 투입한 후, 0.5N ~ 2.5N, 바람직하게는 1.0N ~ 2.0N 염산 수용액을 0.2 ~ 2시간, 바람직하게는 0.5 ~ 1.5 시간동안 적하하고, 0.5 ~ 1.5시간, 바람직하게는 0.8 ~ 1.2시간동안 교반할 수 있다. 이 때, 적하시간이 0.2시간 미만이면 중화시 열발생 증가로 인한 온도 조절 어려움의 문제가 있을 수 있고, 2시간을 초과하면 워컵 시간 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 교반 시간이 0.5시간 미만이면 pH 조절의 문제가 있을 수 있고, 1.5시간을 초과하면 전체 반응 및 워컵 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
마지막으로, 증류수 및 메탄올 순으로 순차적으로 세척하고, 30 ~ 70℃, 바람직하게는 40 ~ 60℃의 온도 및 진공 조건에서 건조하여 상기 화학식 9로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
한편, 상기 화학식 10으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 11로 표시되는 화합물과 하기 화학식 12로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조할 수 있다.
[화학식 11]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000065
상기 화학식 11에 있어서, B1는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
[화학식 12]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000066
구체적으로, 상기 화학식 10으로 표시되는 화합물은 상기 화학식 11로 표시되는 화합물과 상기 화학식 12로 표시되는 화합물을 1 : 0.22 ~ 0.34 중량비, 바람직하게는 1 : 0.25 ~ 0.31 중량비로 반응시켜 제조할 수 있으며, 만일 중량비가 1 : 0.22 미만이면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 1 : 0.34를 초과하면 모노(mono)-화합물의 증가로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 제조하는 방법은 다음과 같다.
먼저, 반응기에 상기 화학식 11로 표시되는 화합물, 상기 화학식 12로 표시되는 화합물, 디메틸아세트아미드 및 제삼인삼칼륨을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 80 ~ 95℃, 바람직하게는 85 ~ 90℃가 되도록 냉각한 후, 1 ~ 5시간, 바람직하게는 2 ~ 3시간 동안 교반하여 반응 혼합물을 제조할 수 있다. 이 때, 디메틸아세트아미드는 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있고, 제삼인삼칼륨은 염기 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 제삼인삼칼륨은 상기 화학식 11로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 102 ~ 154 중량부, 바람직하게는 115 ~ 141 중량부를 투입할 수 있으며, 만일 102 중량부 미만으로 투입하면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 154 중량부를 초과하여 투입하면 워컵시 제거의 어려움의 문제가 있을 수 있다. 또한, 투입 후의 내부온도가 80℃ 미만이면 반응 온도의 낮음으로 인한 반응 시간 증가 및 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 95℃를 초과하면 과반응으로 인한 불순물의 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 교반 시간이 1시간 미만이면 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 5시간을 초과하면 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 제조한 반응 혼합물을 20℃ ~ 30℃, 바람직하게는 23℃ ~ 27℃까지 냉각시키고, 에틸아세테이트(ethyl acetate)로 희석시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 상기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
나아가, 상기 화학식 11로 표시되는 화합물은 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물과 메실 클로라이드(MsCl ; mesyl chloride)를 반응시켜 제조할 수 있다.
[화학식 13]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000067
상기 화학식 13에 있어서, B1는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
구체적으로, 상기 화학식 11로 표시되는 화합물은 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물과 메실 클로라이드를 1 : 0.58 ~ 0.88 중량비, 바람직하게는 1 : 0.65 ~ 0.80 중량비로 반응시켜 제조할 수 있으며, 만일 중량비가 1 : 0.58 미만이면 미반응으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 1 : 0.88을 초과하면 초과된 메실 클로라이드 제거의 문제가 있을 수 있다.
더욱 구체적으로, 상기 화학식 11로 표시되는 화합물을 제조하는 방법은 다음과 같다.
먼저, 반응기에 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물, 디클로로메탄(dichloromethane) 및 트리메틸아민(trimethylamine)을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 3 ~ 12℃, 바람직하게는 5 ~ 10℃가 되도록 냉각할 수 있다. 이 때, 디클로로메탄은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있고, 트리메틸아민은 염기 역할을 하기 위해 투입될 수 있다. 트리메틸아민은 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 52 ~ 78 중량부, 바람직하게는 58.5 ~ 71.5 중량부를 투입할 수 있으며, 만일 52 중량부 미만으로 투입하면 염기 부족으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 78 중량부를 초과하여 투입하면 트리메틸아민 제거의 문제가 있을 수 있다. 또한, 투입 후의 내부온도가 3℃ 미만이면 반응 온도의 낮음으로 인한 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있고, 12℃를 초과하면 불순물 증가 및 정제 과정 추가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 메실 클로라이드를 0.5 ~ 2 시간, 바람직하게는 1 ~ 1.5시간동안 적하할 수 있으며, 만일 적하 시간이 0.5시간 미만이면 내부 온도 조절의 문제가 있을 수 있고, 2 시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다. 이 때, 메실 클로라이드는 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 58.4 ~ 87.6 중량부, 바람직하게는 65.7 ~ 80.3 중량부를 적하할 수 있으며, 만일 58.4 중량부 미만으로 적하된다면 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 87.6 중량부를 초과하면 초과된 메실 클로라이드 제거의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 내부온도를 15 ~ 30℃, 바람직하게는 20 ~ 25℃까지 승온시키고, 1 ~ 5시간, 바람직하게는 2 ~ 4시간동안 교반하여 반응물을 제조할 수 있다. 이 때, 내부온도가 15℃ 미만이면 반응 온도의 낮음으로 인한 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 과반응으로 인한 불순물 증가 및 정제 과정 추가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 교반 시간이 1시간 미만이면 미반응의 문제가 있을 수 있고, 5시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
마지막으로, 제조한 반응물을 물, 탄산수소나트륨(sodium hydrogen carbonate), 0.5 ~ 1.5N 염산 수용액 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 상기 화학식 11-1로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
한편, 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 14로 표시되는 화합물을 환원 반응(reduction)시켜 제조할 수 있다.
[화학식 14]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000068
구체적으로, 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물을 제조하는 방법은 다음과 같다.
먼저, 반응기에 상기 화학식 14로 표시되는 화합물과 무수 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran anhydrous)을 투입하고, 내부온도가 -10 ~ 5℃, 바람직하게는 -5 ~ 0℃가 되도록 냉각할 수 있다. 이 때, 무수 테트라히드로퓨란은 용매 역할을 하기 위해 투입될 수 있고, 투입 후의 내부온도가 -10℃ 미만이면 반응 온도 저하로 인한 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있고, 5℃를 초과하면 과반응으로 인한 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 요오드(iodine)을 테트라히드로퓨란 250ml에 용해시킨 요오드 용액을 준비하고, 내부온도를 유지하면서 준비한 요오드 용액을 1 ~ 5시간동안, 바람직하게는 2 ~ 4시간동안 적하할 수 있다. 이 때, 적하시간이 1시간 미만이면 반응 내부 온도의 상승으로 인한 불순물 증가의 문제가 있을 수 있고, 5시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 황산(sulfuric acid)을 테트라히드로퓨란에 용해시킨 황산 용액을 준비하고, 준비한 황산 용액을 0.5 ~ 1.5시간, 바람직하게는 0.8 ~ 1.2시간동안 적하할 수 있다. 이 때, 적하시간이 0.5시간 미만이면 반응 내부 온도 상승의 문제가 있을 수 있고, 1.5시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 내부온도를 15 ~ 30℃, 바람직하게는 20 ~ 25℃까지 승온시키고, 0.5 ~ 1.5시간, 바람직하게는 0.8 ~ 1.2시간동안 교반하여 반응액을 제조할 수 있다. 이 때, 내부온도가 15℃ 미만이면 낮은 반응 온도로 인한 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있고, 30℃를 초과하면 높은 반응 온도로 인한 불순물 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 교반 시간이 0.5 시간 미만이면 충분한 반응 시간 부족으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 1.2시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 제조한 반응액을 여과하고, 1 ~ 2N 염산을 투입하여 반응을 종결시킨 후, 반응액을 농축할 수 있다.
마지막으로, 농축시킨 반응액을 에틸아세테이트(ethyl acetate)로 희석시킨 후, 물, 염산 수용액 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
나아가, 상기 화학식 14로 표시되는 화합물은 하기 화학식 15로 표시되는 화합물을 에스터화 반응(esterification)시켜 제조할 수 있다.
[화학식 15]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000069
구체적으로, 상기 화학식 14로 표시되는 화합물을 제조하는 방법은 다음과 같다.
먼저, 반응기에 상기 화학식 15로 표시되는 화합물과 메탄올을 투입 및 교반한 후, 수산화칼륨(potassium hydroxide)을 투입하고, 환류 조건하에 3 ~ 9시간, 바람직하게는 5 ~ 7시간 동안 반응시켜 반응액을 제조할 수 있다. 이 때, 반응시간이 3시간 미만이면 반응 시간 부족으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 9시간을 초과하면 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다. 또한, 수산화칼륨은 디메틸화 시약의 역할을 하기 위해 투입될 수 있고, 상기 화학식 15로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여, 13.4 ~ 20.2 중량부, 바람직하게는 15.1 ~ 18.5 중량부가 투입될 수 있으며, 만일 13.4 중량부 미만으로 투입되면 반응 당량 부족으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있고, 20.2 중량부를 초과하면 염기 제거의 어려움으로 인한 반응 시간 증가의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 제조한 반응액을 냉각 및 농축하고, 잔사에 물을 투입할 수 있다. 이 때, 잔사에 물을 투입하는 이유는 상기 화학식 14로 표시되는 화합물을 물층으로 보내기 위해서이다.
다음으로, pH가 1 ~ 3, 바람직하게는 1.5 ~ 2.5가 될 때까지 묽은 염산(hydrochloric acid)을 투입하고, 석출된 결정을 여과할 수 있다. 만일 pH가 1 미만이면 산 폐수 처리의 문제가 있을 수 있고, 3을 초과하면 충분한 산성화의 부족으로 인한 수율 저하의 문제가 있을 수 있다.
마지막으로, 여과한 결정을 물로 세정한 후 감압 건조하여, 상기 화학식 14로 표시되는 화합물을 제조할 수 있다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000070
상기 화학식 1에 있어서, B1, B2, B3, B4 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000071
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000072
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000073
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000074
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이다.
상기 화학식 1에 있어서, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 1에 있어서, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이고, 바람직하게는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 1-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000075
상기 화학식 1-1에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000076
이고, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-2로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 1-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000077
상기 화학식 1-2에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000078
이고, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-3으로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 1-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000079
상기 화학식 1-3에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000080
이고, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-7로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 1-7]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000081
상기 화학식 1-7에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000082
이고, B15는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-8로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 1-8]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000083
상기 화학식 1-8에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
한편, 본 발명의 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물을 포함할 수 있다.
[화학식 2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000084
상기 화학식 2에 있어서, B1, B2, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
[화학식 3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000085
상기 화학식 3에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000086
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000087
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000088
,
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000089
또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이다.
상기 화학식 3에 있어서, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
상기 화학식 3에 있어서, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이고, 바람직하게는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물의 반응물일 수 있다.
[화학식 3-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000090
상기 화학식 3-1에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000091
이며, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물을 1 : 0.37 ~ 0.56 중량비, 바람직하게는 1 : 0.42 ~ 0.51 중량비로 반응시킨 반응물일 수 있다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-2로 표시되는 화합물의 반응물일 수 있다.
[화학식 3-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000092
상기 화학식 3-2에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000093
이며, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 1 : 0.42 ~ 0.63 중량비, 바람직하게는 1 : 0.47 ~ 0.58 중량비로 반응시킨 반응물일 수 있다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물의 반응물일 수 있다.
[화학식 3-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000094
상기 화학식 3-3에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000095
이며, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 1 : 0.41 ~ 0.62 중량비, 바람직하게는 1 : 0.46 ~ 0.57 중량비로 반응시킨 반응물일 수 있다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-4로 표시되는 화합물의 반응물일 수 있다.
[화학식 3-4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000096
상기 화학식 3-4에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000097
이며, B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물을 1 : 0.33 ~ 0.51 중량비, 바람직하게는 1 : 0.37 ~ 0.46 중량비로 반응시킨 반응물일 수 있다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-5로 표시되는 화합물의 반응물일 수 있다.
[화학식 3-5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000098
상기 화학식 3-5에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물을 1 : 0.20 ~ 0.32 중량비, 바람직하게는 1 : 0.23 ~ 0.29 중량비로 반응시킨 반응물일 수 있다.
나아가, 본 발명의 위상차 필름은 수평 광배향막 필름 및 상기 수평 광배향막 필름의 일면에 형성된 역분산 중합성 액정 필름을 포함할 수 있다. 이 때, 역분산 중합성 액정 필름은 앞서 설명한 위상차 필름용 액정 화합물을 포함할 수 있다.
수평 광배향막 필름으로는 다양한 종류의 필름이 적용될 수 있다. 구체적으로, 수평 광배향막 필름은 플라스틱 기재 일면에서 제조될 수 있으며, 일 예로서, 플라스틱 기재 일면에 광 배향막을 도포하고, 60 ~ 100℃, 바람직하게는 70 ~ 90℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 200 ~ 500mJ/㎤, 바람직하게는 300 ~ 400mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 수평 광배향막 필름을 제조한 것을 사용할 수 있다. 또한, 수평 광배향막 필름은 40 ~ 50°, 바람직하게는 43 ~ 47°를 이루는 지상축을 가지는 100 ~ 500nm, 바람직하게는 200 ~ 400nm 두께인 수평 광배향막 필름일 수 있다.
또한, 역분산 중합성 액정 필름은 수평 광배향막 필름 일면에 위상차 필름용 액정 화합물을 도포하고, 경화시켜 형성할 수 있으며, 바람직하게는 수평 광배향막 필름 일면에 위상차 필름용 액정 화합물을 도포하고, 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 산소가 차단된 진공 상태의 질소 분위기에서 100 ~ 300mW/㎤, 바람직하게는 150 ~ 250mW/㎤의 자외선을 1 ~ 30초, 바람직하게는 3 ~ 8초 동안 조사함으로서 역분산 중합성 액정 조성물을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 1 ~ 10㎛, 바람직하게는 1.5 ~ 3.5㎛ 두께의 역분산 중합성 액정 필름을 형성할 수 있다.
위상차 필름은 반사형 또는 투과형 액정표시장치 (LCD)용 반사방지 필름, 유기발광다이오드(OLED) 표시장치용 반사방지 필름, 금속성 물질의 증착으로 인한 외부광 반사의 방지가 필요한 반소체 소자 등에 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 디스플레이 장치는 앞서 설명한 위상차 필름을 포함할 수 있다.
상기 디스플레이 장치는, 예를 들면, 반사형 또는 반투과반사형 액정 표시장치(Liquid Crystal Display)와 같은 액정 표시장치이거나, 유기발광 장치(Organic Light Emitting Device) 등일 수 있다.
디스플레이 장치에서 위상차 필름의 배치 형태는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 공지의 형태가 채용될 수 있다. 예를 들어, 반사형 액정 표시장치에서 적층 필름은, 외부 광의 반시 방지 및 시인성의 확보를 위하여 액정 패널의 원편광판 중에서 어느 하나의 원편광판을 구성하는 것에 사용될 수 있다.
유기발광장치에 상기 위상차 필름이 적용되는 경우 상기 유기발광장치는, 반사 전극, 투명 전극, 상기 반사 전극과 투명 전극의 사이에 개재되고, 발광층을 가지는 유기층 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 상기 위상차 필름이 상기 반사 또는 투명 전극의 외측에 존재할 수 있다.
준비예 1 : 화학식 2-1로 표시되는 화합물의 제조
(1) 2L 4구 플라스크에, 하기 화학식 15-1로 표시되는 화합물 100g과 메탄올(methanol) 1L를 투입 및 교반한 후, 수산화칼륨(potassium hydroxide) 16.8g을 투입하고, 환류 조건하에 6시간 동안 반응시켜 반응액을 제조하였다. 제조한 반응액을 냉각 및 농축하고, 잔사에 물을 투입하였다. 그 후, pH가 2가 될 때까지 묽은 염산(hydrochloric acid)을 투입하고, 석출된 결정을 여과하였다. 여과한 결정을 물로 세정한 후 감압 건조하여, 하기 화학식 14-1로 표시되는 화합물 50g을 수득하였다.
[화학식 14-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000099
[화학식 15-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000100
(2) 3L 4구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 14로 표시되는 화합물 289g과 무수 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran anhydrous) 2.5L 투입하고, 내부온도가 -3℃가 되도록 냉각하였다. 요오드(iodine) 82g을 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran) 250ml에 용해시킨 요오드 용액을 준비하고, 내부온도를 유지하면서 준비한 요오드 용액을 3시간동안 적하하였다. 그 후, 황산(sulfuric acid) 30g을 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran) 150ml에 용해시킨 황산 용액을 준비하고, 준비한 황산 용액을 1시간동안 적하하였다. 그 후, 내부온도를 23℃까지 승온시키고, 1시간동안 교반하여 반응액을 제조하였다. 제조한 반응액을 여과하고, 1.5N 염산을 투입하여 반응을 종결시킨 후, 반응액을 농축하였다. 농축시킨 반응액을 에틸아세테이트(ethyl acetate)로 희석시킨 후, 물, 염산 수용액 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 하기 화학식 13-1로 표시되는 화합물 157g을 수득하였다.
[화학식 13-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000101
상기 화학식 13-1에 있어서, B1는 -CH2-이다.
(3) 2L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 13-1로 표시되는 화합물 100g, 디클로로메탄(dichloromethane) 1.5L 및 트리메틸아민(trimethylamine) 6.5g을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 8℃가 되도록 냉각하였다. 내부온도를 유지하면서 메실 클로라이드(MsCl ; mesyl chloride) 73g을 1 시간동안 적하하였다. 그 후, 내부온도를 23℃까지 승온시키고, 3시간동안 교반하여 반응물을 제조하였다. 제조한 반응물을 물, 탄산수소나트륨(sodium hydrogen carbonate), 1N 염산 수용액 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 하기 화학식 11-1로 표시되는 화합물 134g을 수득하였다.
[화학식 11-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000102
상기 화학식 11-1에 있어서, B1는 -CH2-이다.
(4) 1L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 11-1로 표시되는 화합물 117g, 하기 화학식 12로 표시되는 화합물 33.3g, 디메틸아세트아미드(dimethylacetamide) 675ml 및 제삼인삼칼륨(potassium phosphate tribasic) 150g을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 87℃가 되도록 승온한 후, 3시간 동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물을 상온(25℃)까지 냉각시키고, 에틸아세테이트(ethyl acetate)로 희석시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여, 하기 화학식 10-1로 표시되는 화합물 96.3g을 수득하였다.
[화학식 10-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000103
상기 화학식 10-1에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이다.
[화학식 12]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000104
(5) 2L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 10-1로 표시되는 화합물 96.3g, 테트라히드로퓨란 300ml 및 메탄올 300ml을 순차적으로 투입하고, 내부온도가 8℃가 되도록 냉각한 후, 10분 동안 교반하였다. 교반 하, 내부온도를 유지하면서 25 중량% 가성소다 수용액 103.5g을 1 시간동안 적하하였다. 그 후, 내부온도가 25℃가 되도록 승온한 후, 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 물 500ml을 투입한 후, 1.5N 염산 수용액 431ml를 30분 동안 적하하고, 1시간동안 교반하였다. 그 후, 증류수 및 메탄올 순으로 순차적으로 세척하고, 50℃의 온도 및 진공 조건에서 건조하여 하기 화학식 9-1로 표시되는 화합물 80g을 수득하였다.
[화학식 9-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000105
상기 화학식 9-1에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이다.
(6) 1L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 9-1로 표시되는 화합물 80g, 하기 화학식 8-1로 표시되는 화합물 94.7g, N,N-디메틸아미노피리딘(N,N-dimethylaminopyridine) 7g, 메테인술폰산(methanesulfonic acid) 7.35g 및 디클로로메탄(dichloromethane) 400ml를 순차적으로 투입하고, 내부온도가 8℃가 되도록 냉각한 후, 10분 동안 교반하였다. 교반 하, 내부온도를 유지하면서 디이소프로필카보디이미드(diisopropylcarbodiimide) 55.9g을 1 시간동안 적하하였다. 그 후, 내부온도가 25℃가 되도록 승온한 후, 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 물 500ml을 투입하여 수층 및 유기층을 가지도록 분리하고, 수층을 디클로로메탄으로 추출하였다. 분리된 유기층은 묽은 염산, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하고, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물 168g을 수득하였다.
[화학식 2-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000106
상기 화학식 2-1에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이고, B3 및 B4는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
[화학식 8-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000107
상기 화학식 8-1에 있어서, B3는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
준비예 2-1 : 화학식 3-1로 표시되는 화합물의 제조
(1) 1L 3구 플라스크에, 하기 화학식 6-1로 표시되는 화합물 100g, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물 59.9g, p-톨루엔설폰산(p-toluene sulfonic acid) 31.7g 및 톨루엔 450ml를 순차적으로 투입하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 5시간동안 환류하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물을 25℃로 냉각시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여 하기 화학식 5-1로 표시되는 화합물 92.6g을 수득하였다.
[화학식 5-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000108
상기 화학식 5-1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000109
이고, B6 및 B7는 -CH2CH2-이며, R2는 메틸기이다.
[화학식 6-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000110
상기 화학식 6-1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000111
이고, B6 및 B7는 -CH2CH2-이며, R2는 메틸기이다.
[화학식 7]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000112
(2) 0.5L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 5-1로 표시되는 화합물 47.4g, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 50g, 제삼인삼칼륨 88.6g 및 디메틸아세트아미드 250ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 2시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물 95.4g을 수득하였다.
[화학식 3-1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000113
상기 화학식 3-1에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000114
이고, B5, B6 및 B7는 -CH2CH2-이며, R2는 메틸기이다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000115
준비예 2-2 : 화학식 3-2로 표시되는 화합물의 제조
(1) 1L 3구 플라스크에, 하기 화학식 6-2로 표시되는 화합물 100g, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물 43.9g, p-톨루엔설폰산(p-toluene sulfonic acid) 23.2g 및 톨루엔 450ml를 순차적으로 투입하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 5시간동안 환류하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물을 25℃로 냉각시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여 하기 화학식 5-2로 표시되는 화합물 80.6g을 수득하였다.
[화학식 5-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000116
상기 화학식 5-2에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000117
이고, B8, B9 및 B10는 -CH2CH2-이며, R3는 메틸기이다.
[화학식 6-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000118
상기 화학식 6-2에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000119
이고, B8, B9 및 B10는 -CH2CH2-이며, R3는 메틸기이다.
[화학식 7]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000120
(2) 0.5L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 5-2로 표시되는 화합물 58.1g, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 40g, 제삼인삼칼륨 82.2g 및 디메틸아세트아미드 250ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 2시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 3-2로 표시되는 화합물 95.5g을 수득하였다.
[화학식 3-2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000121
상기 화학식 3-2에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000122
이고, B5, B8, B9 및 B10는 -CH2CH2-이며, R3는 메틸기이다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000123
준비예 2-3 : 화학식 3-3으로 표시되는 화합물의 제조
(1) 1L 3구 플라스크에, 하기 화학식 6-3으로 표시되는 화합물 25g, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물 9.15g, p-톨루엔설폰산(p-toluene sulfonic acid) 4.56g 및 톨루엔 150ml를 순차적으로 투입하고, 딘-스타크 트랩(Dean-Stark trap)을 이용하여 5시간동안 환류하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물을 25℃로 냉각시킨 후, 물, 탄산수소나트륨 및 소금물 순으로 순차적으로 세척하고, 황산 나트륨으로 건조한 후, 감압증류하여 하기 화학식 5-3으로 표시되는 화합물 23.5g을 수득하였다.
[화학식 5-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000124
상기 화학식 5-3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000125
이고, B11, B12, B13 및 B14는 -CH2CH2-이며, R4는 메틸기이다.
[화학식 6-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000126
상기 화학식 6-3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000127
이고, B11, B12, B13 및 B14는 -CH2CH2-이며, R4는 메틸기이다.
[화학식 7]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000128
(2) 0.5L 3구 플라스크에, 수득한 상기 화학식 5-3으로 표시되는 화합물 22.0g, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 12.6g, 제삼인삼칼륨 25.8g 및 디메틸아세트아미드 100ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 3시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물 27.8g을 수득하였다.
[화학식 3-3]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000129
상기 화학식 3-3에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000130
이고, B5, B11, B12, B13 및 B14는 -CH2CH2-이며, R4는 메틸기이다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000131
준비예 2-4 : 화학식 3-4로 표시되는 화합물의 제조
0.5L 3구 플라스크에, 하기 화학식 5-4로 표시되는 화합물 21.7g, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 25g, 제삼인삼칼륨 51.4g 및 디메틸아세트아미드 300ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 5시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 3-4로 표시되는 화합물 39.5g을 수득하였다.
[화학식 3-4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000132
상기 화학식 3-4에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000133
이고, B5 및 B15는 -CH2CH2-이며, R5는 메틸기이다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000134
[화학식 5-4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000135
상기 화학식 5-4에 있어서, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000136
이고 B15는 -CH2CH2-이며, R5는 메틸기이다.
준비예 2-5 : 화학식 3-5로 표시되는 화합물의 제조
0.5L 3구 플라스크에, 하기 화학식 5-5로 표시되는 화합물 13.5g, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 25g, 제삼인삼칼륨 41.1g 및 디메틸아세트아미드 150ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 4시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄 및 물을 투입한 후, 물로 세척하고, 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 3-5로 표시되는 화합물 30.5g을 수득하였다.
[화학식 3-5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000137
상기 화학식 3-5에 있어서, R1은 에틸기이고, B5는 -CH2CH2-이다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000138
[화학식 5-5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000139
상기 화학식 5-5에 있어서, R1은 에틸기이다.
실시예 1 : 위상차 필름용 액정 화합물의 제조
(1) 0.25L 3구 플라스크에, 준비예 2-1에서 제조된 화학식 3-1로 표시되는 화합물 7.0g, 준비예 1에서 제조된 화학식 2-1로 표시되는 화합물 15g, p-톨루엔설폰산 0.75g 및 테트라히드로퓨란 150ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 18시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄을 투입한 후, 묽은 염산과 소금물로 세척하고, 건조 후 감압 증류하여 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 1-4로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물 12.1g을 수득하였다.
[화학식 1-4]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000140
상기 화학식 1-4에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이고, B3 및 B4는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, B5는 -CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000141
이며, B6 및 B7는 -CH2CH2-이고, R2는 메틸기이다.
실시예 2 : 위상차 필름용 액정 화합물의 제조
(1) 0.25L 3구 플라스크에, 준비예 2-2에서 제조된 화학식 3-2로 표시되는 화합물 7.9g, 준비예 1에서 제조된 화학식 2-1로 표시되는 화합물 15g, p-톨루엔설폰산 0.75g 및 테트라히드로퓨란 150ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 18시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄을 투입한 후, 묽은 염산과 소금물로 세척하고, 건조 후 감압 증류하여 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 1-5로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물 9.1g을 수득하였다.
[화학식 1-5]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000142
상기 화학식 1-5에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이고, B3 및 B4는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, B5는 -CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000143
이며, B8, B9 및 B10는 -CH2CH2-이고, R3는 메틸기이다.
실시예 3 : 위상차 필름용 액정 화합물의 제조
(1) 0.5L 3구 플라스크에, 준비예 2-3에서 제조된 화학식 3-3으로 표시되는 화합물 10.3g, 준비예 1에서 제조된 화학식 2-1로 표시되는 화합물 20.0g, p-톨루엔설폰산 1g 및 테트라히드로퓨란 200ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 18시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄을 투입한 후, 묽은 염산과 소금물로 세척하고, 건조 후 감압 증류하여 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 1-6으로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물 20.1g을 수득하였다.
[화학식 1-6]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000144
상기 화학식 1-6에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이고, B3 및 B4는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, B5는 -CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000145
이고, B11, B12, B13 및 B14는 -CH2CH2-이며, R4는 메틸기이다.
실시예 4 : 위상차 필름용 액정 화합물의 제조
(1) 0.5L 3구 플라스크에, 준비예 2-4에서 제조된 화학식 3-4로 표시되는 화합물 7g, 준비예 1에서 제조된 화학식 2-1로 표시되는 화합물 16.6g, p-톨루엔설폰산 0.9g 및 테트라히드로퓨란 200ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 18시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄을 투입한 후, 묽은 염산과 소금물로 세척하고, 건조 후 감압 증류하여 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 1-9로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물 18g을 수득하였다.
[화학식 1-9]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000146
상기 화학식 1-9에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이고, B3 및 B4는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, B5는 -CH2CH2-이고, R1은
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000147
이고, B15는 -CH2CH2-이며, R5는 메틸기이다.
실시예 5 : 위상차 필름용 액정 화합물의 제조
(1) 0.5L 3구 플라스크에, 준비예 2-5에서 제조된 화학식 3-5로 표시되는 화합물 5.24g, 준비예 1에서 제조된 화학식 2-1로 표시되는 화합물 20g, p-톨루엔설폰산 1g 및 테트라히드로퓨란 200ml를 순차적으로 투입하고, 상온(25℃)에서 18시간동안 교반하여 반응 혼합물을 제조하였다. 제조한 반응 혼합물에 디클로로메탄을 투입한 후, 묽은 염산과 소금물로 세척하고, 건조 후 감압 증류하여 얻어진 고형물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한 후, 칼럼을 통과시킨 후의 용액을 여과 및 건조함으로서 하기 화학식 1-10으로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물 19.5g을 수득하였다.
[화학식 1-10]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000148
상기 화학식 1-10에 있어서, B1 및 B2는 -CH2-이고, B3 및 B4는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, B5는 -CH2CH2-이고, R1은 에틸기이다.
제조실시예 1 : 역분산 중합성 액정 조성물의 제조
톨루엔(Toluene) 5.0g 및 싸이크로헥사논(cyclohexanone) 2.5g가 혼합된 용매에 실시예 1에서 제조된 화학식 1-4로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물2.5g을 혼합하여 액정 조성물을 제조하였다. 제조한 액정 조성물 전체 중량%에 대하여, 라디칼 광개시제인 omnirad 907(IGM社, 전 Irgacure907)을 5중량%로 첨가하여 역분산 중합성 액정 화합물을 제조하였다. 제조한 역분산 중합성 액정 화합물은 Ro(450/550nm)의 단파장 분산성이 0.75 내지 0.80 정도의 수준이며, Ro(650/550nm)의 장파장 분산성이 1.04 내지 1.07 정도의 수준으로 측정되었다.
제조실시예 2 : 역분산 중합성 액정 조성물의 제조
톨루엔(Toluene) 5.0g 및 싸이크로헥사논(cyclohexanone) 2.5g가 혼합된 용매에 실시예 2에서 제조된 화학식 1-5로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물2.5g을 혼합하여 액정 조성물을 제조하였다. 제조한 액정 조성물 전체 중량%에 대하여, 라디칼 광개시제인 omnirad 907(IGM社, 전 Irgacure907)을 5중량%로 첨가하여 역분산 중합성 액정 화합물을 제조하였다. 제조한 역분산 중합성 액정 화합물은 Ro(450/550nm)의 단파장 분산성이 0.75 내지 0.80 정도의 수준이며, Ro(650/550nm)의 장파장 분산성이 1.04 내지 1.07 정도의 수준으로 측정되었다.
제조실시예 3 : 역분산 중합성 액정 조성물의 제조
톨루엔(Toluene) 5.0g 및 싸이크로헥사논(cyclohexanone) 2.5g가 혼합된 용매에 실시예 3에서 제조된 화학식 1-6으로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물2.5g을 혼합하여 액정 조성물을 제조하였다. 제조한 액정 조성물 전체 중량%에 대하여, 라디칼 광개시제인 omnirad 907(IGM社, 전 Irgacure907)을 5중량%로 첨가하여 역분산 중합성 액정 화합물을 제조하였다. 제조한 역분산 중합성 액정 화합물은 Ro(450/550nm)의 단파장 분산성이 0.75 내지 0.80 정도의 수준이며, Ro(650/550nm)의 장파장 분산성이 1.04 내지 1.07 정도의 수준으로 측정되었다.
제조실시예 4 : 역분산 중합성 액정 조성물의 제조
톨루엔(Toluene) 5.0g 및 싸이크로헥사논(cyclohexanone) 2.5g가 혼합된 용매에 실시예 4에서 제조된 화학식 1-9로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물2.5g을 혼합하여 액정 조성물을 제조하였다. 제조한 액정 조성물 전체 중량%에 대하여, 라디칼 광개시제인 omnirad 907(IGM社, 전 Irgacure907)을 5중량%로 첨가하여 역분산 중합성 액정 화합물을 제조하였다. 제조한 역분산 중합성 액정 화합물은 Ro(450/550nm)의 단파장 분산성이 0.75 내지 0.80 정도의 수준이며, Ro(650/550nm)의 장파장 분산성이 1.04 내지 1.07 정도의 수준으로 측정되었다.
제조예 1 : 위상차 필름의 제조
플라스틱 기재(제조사: TacBrigh, Normal TAC, 두께: 60㎛) 일면에 광 배향막(제조사: BASF Rolic社)을 도포하고, 80℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 350mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 45°를 이루는 지상축을 가지는 300nm 두께인 수평 광배향막 필름을 제조하였다.
제조한 수평 광배향막 필름 일면에 제조실시예 1에서 제조된 역분산 중합성 액정 조성물을 도포하고, 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 산소가 차단된 진공 상태의 질소 분위기에서 200mW/㎤의 자외선을 5초 동안 조사함으로서 역분산 중합성 액정 조성물을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 2.9㎛ 두께의 역분산 중합성 액정 필름이 형성된 위상차 필름을 제조하였다.
제조한 위상차 필름에 대하여 면내 위상차를 측정한 결과, 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 138 ~ 140 nm임을 확인하였다. 이 때, 면내 위상차는 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정하였다.
제조예 2 : 위상차 필름의 제조
플라스틱 기재(제조사: TacBrigh, Normal TAC, 두께: 60㎛) 일면에 광 배향막(제조사: BASF Rolic社)을 도포하고, 80℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 350mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 45°를 이루는 지상축을 가지는 300nm 두께인 수평 광배향막 필름을 제조하였다.
제조한 수평 광배향막 필름 일면에 제조실시예 2에서 제조된 역분산 중합성 액정 조성물을 도포하고, 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 산소가 차단된 진공 상태의 질소 분위기에서 200mW/㎤의 자외선을 5초 동안 조사함으로서 역분산 중합성 액정 조성물을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 2.9㎛ 두께의 역분산 중합성 액정 필름이 형성된 위상차 필름을 제조하였다.
제조한 위상차 필름에 대하여 면내 위상차를 측정한 결과, 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 138 ~ 140 nm임을 확인하였다. 이 때, 면내 위상차는 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정하였다.
제조예 3 : 위상차 필름의 제조
플라스틱 기재(제조사: TacBrigh, Normal TAC, 두께: 60㎛) 일면에 광 배향막(제조사: BASF Rolic社)을 도포하고, 80℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 350mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 45°를 이루는 지상축을 가지는 300nm 두께인 수평 광배향막 필름을 제조하였다.
제조한 수평 광배향막 필름 일면에 제조실시예 3에서 제조된 역분산 중합성 액정 조성물을 도포하고, 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 산소가 차단된 진공 상태의 질소 분위기에서 200mW/㎤의 자외선을 5초 동안 조사함으로서 역분산 중합성 액정 조성물을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 2.8㎛ 두께의 역분산 중합성 액정 필름이 형성된 위상차 필름을 제조하였다.
제조한 위상차 필름에 대하여 면내 위상차를 측정한 결과, 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 138 ~ 140 nm임을 확인하였다. 이 때, 면내 위상차는 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정하였다.
제조예 4 : 위상차 필름의 제조
플라스틱 기재(제조사: TacBrigh, Normal TAC, 두께: 60㎛) 일면에 광 배향막(제조사: BASF Rolic社)을 도포하고, 80℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 350mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 45°를 이루는 지상축을 가지는 300nm 두께인 수평 광배향막 필름을 제조하였다.
제조한 수평 광배향막 필름 일면에 제조실시예 4에서 제조된 역분산 중합성 액정 조성물을 도포하고, 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 산소가 차단된 진공 상태의 질소 분위기에서 200mW/㎤의 자외선을 5초 동안 조사함으로서 역분산 중합성 액정 조성물을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 2.8㎛ 두께의 역분산 중합성 액정 필름이 형성된 위상차 필름을 제조하였다.
비교제조예 1 : 위상차 필름의 제조
플라스틱 기재(제조사: TacBrigh, Normal TAC, 두께: 60㎛) 일면에 광 배향막(제조사: BASF Rolic社)을 도포하고, 80℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 350mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 45°를 이루는 지상축을 가지는 300nm 두께인 수평 광배향막 필름을 제조하였다.
제조한 수평 광배향막 필름 일면에 네마틱 액정 조성물인 LC242(제조사: BASF AG)을 도포하고, 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 대기 분위기에서 200mW/㎤의 자외선을 5초 동안 조사함으로서 LC242을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 1.2㎛ 두께의 네마틱 액정 필름이 형성된 위상차 필름을 제조하였다.
제조한 위상차 필름에 대하여 면내 위상차를 측정한 결과, 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 138 ~ 140 nm임을 확인하였다. 이 때, 면내 위상차는 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정하였다.
비교제조예 2 : 위상차 필름의 제조
플라스틱 기재(제조사: TacBrigh, Normal TAC, 두께: 60㎛) 일면에 광 배향막(제조사: BASF Rolic社)을 도포하고, 80℃의 온도에서 건조를 진행한 후, 와이어 그리드 편광기(WGP)를 매개로 350mJ/㎤의 선평광된 자외선을 조사하여 45°를 이루는 지상축을 가지는 300nm 두께인 수평 광배향막 필름을 제조하였다.
제조한 수평 광배향막 필름 일면에 네마틱 액정 조성물인 RMM2083(제조사: Merck)을 도포하고, 65℃의 온도에서 2분간 건조를 진행한 후, 상온(23℃)에서 수평 광배향막 필름의 배향에 따라 배향을 시킨 다음, 산소가 차단된 진공 상태의 질소 분위기에서 200mW/㎤의 자외선을 5초 동안 조사함으로서 RMM2083을 가교 및 중합시켜, 수평 광배향막 필름 일면에 3.4㎛ 두께의 네마틱 액정 필름이 형성된 위상차 필름을 제조하였다.
제조한 위상차 필름에 대하여 면내 위상차를 측정한 결과, 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 138 ~ 140 nm임을 확인하였다. 이 때, 면내 위상차는 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정하였다.
실험예 1 : 위상차 필름의 분산성 평가
제조예 1 ~ 4에서 제조된 위상차 필름 각각에 대하여, 파장 550nm의 면내위상차(Ro), 파장 450nm/550nm의 면내위상차(Ro), 파장 650nm/550nm의 면내위상차 (Ro) 및 △n을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 또한, 제조예 1 ~ 4에서 제조된 위상차 필름 각각에 대하여, 파장 400 ~ 800nm에서 면내위상차(Ro)을 측정하여 도 1에 나타내었다. 이 때, 면내 위상차는 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정하였고, 제조예 1 ~ 4에서 제조된 위상차 필름의 분산성을 평가하기 위해 정분산 액정인 LC242(제조사: BASF AG)와 역분산 액정인 RMM2083(제조사: Merck)을 각각 사용하여 제조된 위상차 필름에 대해서도 파장 550nm의 면내위상차(Ro), 파장 450nm/550nm의 면내위상차(Ro), 파장 650nm/550nm의 면내위상차 (Ro) 및 △n과 파장 400 ~ 800nm에서 면내위상차(Ro)을 측정하여 하기 표 1 및 도 1에 각각 나타내었다.
[표 1]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000149
실험예 2 : 위상차 필름의 고온 내구성 평가
제조예 1 ~ 4에서 제조된 위상차 필름 각각에 대하여, 고온 내구성을 평가하여 하기 표 2에 나타내었다. 고온 내구성은 85℃의 온도 조건에서 500시간 동안 유지하기 전후의 각각의 550nm 파장의 면내 위상차의 변화량을 통해 평가하였다.
[표 2]
Figure PCTKR2023006098-appb-img-000150
본 발명의 단순한 변형이나 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해서 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (34)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000151
    상기 화학식 1에 있어서, B1, B2, B3, B4 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000152
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000153
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000154
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000155
    또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 1-1]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000156
    상기 화학식 1-1에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000157
    이고, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-2로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 1-2]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000158
    상기 화학식 1-2에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000159
    이고, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-3으로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 1-3]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000160
    상기 화학식 1-3에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000161
    이고, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-7로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 1-7]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000162
    상기 화학식 1-7에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000163
    이고, B15는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물은 하기 화학식 1-8로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 1-8]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000164
    상기 화학식 1-8에 있어서, B1, B2 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이며, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  7. 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 2]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000165
    [화학식 3]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000166
    상기 화학식 2에 있어서, B1, B2, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고,
    상기 화학식 3에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000167
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000168
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000169
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000170
    또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이다.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물의 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 3-1]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000171
    상기 화학식 3-1에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000172
    이며, B6 및 B7는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R2는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물을 1 : 0.37 ~ 0.56 중량비로 반응시킨 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-2로 표시되는 화합물의 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 3-2]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000173
    상기 화학식 3-2에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000174
    이며, B8, B9 및 B10는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R3는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 1 : 0.42 ~ 0.63 중량비로 반응시킨 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물의 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 3-3]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000175
    상기 화학식 3-3에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000176
    이고, B11, B12, B13 및 B14는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R4는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 1 : 0.41 ~ 0.62 중량비로 반응시킨 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물.
  14. 제7항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-4으로 표시되는 화합물의 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 3-4]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000177
    상기 화학식 3-4에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000178
    이고, B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, R5는 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-4로 표시되는 화합물을 1 : 0.33 ~ 0.51 중량비로 반응시킨 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물.
  16. 제7항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3-5로 표시되는 화합물의 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물;
    [화학식 3-5]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000179
    상기 화학식 3-5에 있어서, B5는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이고, R1은 C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기이다.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물의 반응물은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 3-5로 표시되는 화합물을 1 : 0.20 ~ 0.32 중량비로 반응시킨 반응물인 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물.
  18. 수평 광배향막 필름; 및
    상기 수평 광배향막 필름의 일면에 형성된 역분산 중합성 액정 필름; 을 포함하고,
    상기 역분산 중합성 액정 필름은 제1항의 위상차 필름용 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
  19. 제18항의 위상차 필름을 포함하는 디스플레이 장치.
  20. 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 위상차 필름용 액정 화합물을 제조하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000180
    [화학식 2]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000181
    [화학식 3]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000182
    상기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3에 있어서, B1, B2, B3, B4 및 B5는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000183
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000184
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000185
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000186
    또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이다.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 1 : 0.20 ~ 0.63 중량비로 반응시키는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물과 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 4]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000187
    [화학식 5]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000188
    상기 화학식 5에 있어서, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000189
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000190
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000191
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000192
    또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이다.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물과 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 1 : 0.43 ~ 2.11 중량비로 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
  24. 제22항에 있어서,
    상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물과 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 6]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000193
    [화학식 7]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000194
    상기 화학식 6에 있어서, R1은
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000195
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000196
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000197
    ,
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000198
    또는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, B6, B7, B8, B9, B10, B11, B12, B13, B14 및 B15는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이고, R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기 또는 C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기이다.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 상기 화학식 6으로 표시되는 화합물과 상기 화학식 7로 표시되는 화합물을 1 : 0.29 ~ 0.72 중량비로 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
  26. 제20항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 하기 화학식 8로 표시되는 화합물과 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 8]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000199
    [화학식 9]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000200
    상기 화학식 8 및 화학식 9에 있어서, B1, B2 및 B3는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
  27. 제26항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 상기 화학식 8로 표시되는 화합물과 상기 화학식 9로 표시되는 화합물을 1 : 0.67 ~ 1.01 중량비로 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
  28. 제26항에 있어서,
    상기 화학식 9로 표시되는 화합물은 하기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 가수분해 반응(hydrolysis reaction)시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 10]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000201
    상기 화학식 10에 있어서, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
  29. 제28항에 있어서,
    상기 화학식 10으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 11로 표시되는 화합물과 하기 화학식 12로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 11]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000202
    [화학식 12]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000203
    상기 화학식 11에 있어서, B1는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
  30. 제28항에 있어서,
    상기 화학식 10으로 표시되는 화합물은 상기 화학식 11로 표시되는 화합물과 상기 화학식 12로 표시되는 화합물을 1 : 0.22 ~ 0.34 중량비로 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
  31. 제30항에 있어서,
    상기 화학식 11로 표시되는 화합물은 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물과 메실 클로라이드(MsCl ; mesyl chloride)를 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 13]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000204
    상기 화학식 13에 있어서, B1는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-이다.
  32. 제31항에 있어서,
    상기 화학식 11로 표시되는 화합물은 상기 화학식 13으로 표시되는 화합물과 메실 클로라이드를 1 : 0.58 ~ 0.88 중량비로 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
  33. 제31항에 있어서,
    상기 화학식 13으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 14로 표시되는 화합물을 환원 반응(reduction)시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 14]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000205
  34. 제33항에 있어서,
    상기 화학식 14로 표시되는 화합물은 하기 화학식 15로 표시되는 화합물을 에스터화 반응(esterification)시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 위상차 필름용 액정 화합물의 제조방법.
    [화학식 15]
    Figure PCTKR2023006098-appb-img-000206
PCT/KR2023/006098 2022-06-15 2023-05-04 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법 WO2023243864A1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20220072766 2022-06-15
KR10-2022-0072766 2022-06-15
KR10-2022-0128274 2022-10-07
KR1020220128274A KR20230172374A (ko) 2022-06-15 2022-10-07 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023243864A1 true WO2023243864A1 (ko) 2023-12-21

Family

ID=89191468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2023/006098 WO2023243864A1 (ko) 2022-06-15 2023-05-04 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2023243864A1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150073177A (ko) * 2012-10-22 2015-06-30 니폰 제온 가부시키가이샤 위상차판, 원편광판, 및 화상 표시 장치
KR20180125144A (ko) * 2016-03-10 2018-11-22 디아이씨 가부시끼가이샤 에스테르기를 가지는 화합물의 제조 방법
JP2019117222A (ja) * 2017-12-26 2019-07-18 日本ゼオン株式会社 液晶組成物、液晶硬化層及び光学フィルム
CN111655672A (zh) * 2018-02-05 2020-09-11 日本瑞翁株式会社 1,1-二取代肼化合物的制造方法及聚合性化合物的制造方法
KR20210082369A (ko) * 2019-12-25 2021-07-05 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 중합성 액정 혼합물, 및 중합성 액정 조성물

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150073177A (ko) * 2012-10-22 2015-06-30 니폰 제온 가부시키가이샤 위상차판, 원편광판, 및 화상 표시 장치
KR20180125144A (ko) * 2016-03-10 2018-11-22 디아이씨 가부시끼가이샤 에스테르기를 가지는 화합물의 제조 방법
JP2019117222A (ja) * 2017-12-26 2019-07-18 日本ゼオン株式会社 液晶組成物、液晶硬化層及び光学フィルム
CN111655672A (zh) * 2018-02-05 2020-09-11 日本瑞翁株式会社 1,1-二取代肼化合物的制造方法及聚合性化合物的制造方法
KR20210082369A (ko) * 2019-12-25 2021-07-05 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 중합성 액정 혼합물, 및 중합성 액정 조성물

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2020138867A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2020022751A1 (ko) 유기 전계 발광 소자
WO2018066830A1 (ko) 장수명, 저전압 및 고효율 특성을 갖는 유기 발광 소자
WO2020138873A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2013081315A1 (ko) 유기전기소자용 화합물, 이를 포함하는 유기전기소자 및 그 전자 장치
WO2013105747A1 (ko) 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
WO2020138871A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2013069939A1 (ko) 유기전기소자용 화합물, 이를 포함하는 유기전기소자 및 그 전자 장치
WO2020138872A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2010150988A2 (ko) 안트라센 유도체 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
WO2018066872A1 (ko) 3-페닐-2,3,4,8,9,10-헥사히드로피라노[2,3-f]크로멘 유도체 및 이의 광학 이성질체 합성 방법
WO2015016456A1 (ko) 위상차 필름 및 이를 구비하는 화상 표시 장치
WO2019212183A1 (ko) 중합성 액정 화합물, 광학 소자용 액정 조성물, 중합체, 광학 이방체 및 디스플레이 장치용 광학 소자
WO2022045825A1 (ko) 중수소화 방향족 화합물의 제조 방법 및 중수소화 반응 조성물
WO2022086149A1 (ko) 유기전자소자용 화합물, 이를 포함하는 유기전자소자 및 유기전자소자를 포함하는 표시장치
WO2021137512A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2021137511A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2021137510A1 (en) Organic light emitting diode and organic light emitting device including the same
WO2016085087A9 (ko) 고굴절률 (메트)아크릴계 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 광학시트 및 이를 포함하는 광학표시장치
WO2023243864A1 (ko) 위상차 필름용 액정 화합물, 이를 포함하는 위상차 필름, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 이의 제조방법
WO2020080625A1 (ko) 요오드를 포함한 다이아세틸렌계 유방성 액정 혼합물을 이용한 코팅형 편광필름 및 그 제조방법
WO2018097630A1 (ko) 중합성 화합물 및 이를 포함하는 액정 조성물
WO2020080784A1 (ko) 화합물 및 이를 포함하는 색변환 필름
WO2020105933A1 (ko) 액정 배향제 조성물, 이를 이용한 액정 배향막의 제조 방법, 이를 이용한 액정 배향막 및 액정표시소자
WO2022182014A1 (ko) 광결정 구조체 및 이의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 23824090

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1