CN1078359C - 光刻胶剥离液管理装置 - Google Patents

Abstract

光刻胶剥离液管理装置，为把光刻胶剥离液品质控制为恒定，削减液体使用量、减少工作时间和降低价格，构成为具有：光刻胶剥离液排出装置，用于用吸光光度计16检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度以排出光刻胶剥离液；第1补给装置，用于用液面水平计3检测光刻胶剥离液的液面水平以补给光刻胶剥离原液和纯水；第2补给装置，用于用吸光光度计15检测光刻胶剥离液的水分浓度以补给光刻胶剥离原液和纯水中的至少一方。

Description

光刻胶剥离液管理装置

本发明涉及在半导体制造工序或液晶基板制造工序中，用于进行光刻胶的剥离的光刻胶剥离液的管理装置，说得更为详细的话，涉及具有把光刻胶剥离液的循环使用中的连续自动补给机构、水分浓度调整机构、以及用于抑制在光刻胶剥离中伴随着已溶出的光刻胶的浓缩化而产生的光刻胶剥离性能的劣化的光刻胶剥离液自动排出机构合在一起的装置。

在半导体或液晶基板制造工序中的光刻工序里所使用的光刻胶材料有因曝光而可溶化的正胶和因曝光而不溶化的负胶，用得多的主要是正胶。

作为正光刻胶的代表例子，有以萘醌二叠氮化物(naphthoquinonediazide)系感光剂和碱性可溶性树脂(酚醛树脂)为主成分的正胶。

在光刻工序的最后阶段，必须有把光刻胶从基板上完全剥离下来的工序。

在特开平7-235487号公报中，登有一种光刻胶剥离液管理装置，该装置具备有下述装置：光刻胶剥离液排出装置，在用吸光光度计对光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度进行检测后把光刻胶剥离液排出去；第1补给装置，用液面水平计对光刻胶剥离液的液面水平进行检测并补给有机溶剂与链烷醇胺(alkanolamine)或者已预先把有机溶剂与链烷醇胺调合的光刻胶剥离新液；第2补给装置，用吸光光度计检测光刻胶剥离液的链烷醇胺浓度并补给有机溶剂和链烷醇胺中的至少一方。

在液晶基板的光刻胶剥离工序中，虽然如上所述，作为光刻胶剥离液主要使用把有机碱或有机溶剂进行组合的溶液。但现已明白，再添进适量的水的溶液具有优良的效果。

即，若使用含有适量的水的光刻胶剥离液，则可使基板的处理温度从不含水的光刻胶剥离液的约80℃下降到约40℃，具有可以减少对基板或形成半导体电路的基底金属的损伤，可以作为不燃物进行处理、具有安全性高、蒸发损耗主要是廉价的水、剥离速度高等等的效果。

例如，可以以喷射的方式或浸泡方式等等使用二亚甲砜系原液与纯水的溶液，N-甲基吡咯烷酮系原液与纯水的溶液。链烷醇胺与乙二醇醚(glycol-ether)和纯水的溶液等等。

在现有方法中，采用批作业的形态：先向光刻胶剥离处理槽中充填规定浓度的一定量的光刻胶剥离新液并开始剥离，以根据经验等等为依据的基板处理片数等的指标，在光刻胶剥离液边减量边达到了规定劣化浓度区域时、一举全量换用已事先准备好了的新液。这一液体交换时期取决于槽容量和基板的种类、片数等等并不是固定不变的，但是一般以大约4天前后换一次的频度来进行。

当光刻胶剥离液劣化后，就得不到一定的剥离速度，还会产生剥离残渣，引起成品率下降。在作为光刻工序的最后阶段的光刻胶剥离工序里产生不合格品时，损害额很大。

含水分的光刻胶剥离液，通常在30～60℃下使用。

光刻胶剥离液中所使用的成分的沸点，有机碱或有机溶剂约为160～250℃，水为100℃。

因此，由于与用于对光刻胶剥离槽进行大气密封的纯净氮气协同在一起使用时低沸点的水分优先蒸发，故水分下降而产生浓度变化。因此光刻胶剥离性能将逐次下降、但是以前并不实时测定水分浓度，而且也未进行过使规定浓度保持恒定的控制。

当水分浓度进一步降低时，就会变得使之有引火点，会产生爆炸的危险性。

另外，因进行光刻胶剥离处理使已溶解于光刻胶剥离液中的光刻胶逐次浓缩、变成了使剥离速度降低或产生剥离残渣等光刻胶剥离性能劣化的一个因素，但以前没有对溶解光刻胶浓度进行过实时测定，而且也没有进行过使规定浓度保持恒定的控制。

因此，由于在这期间的水分浓度和溶解光刻胶浓度时间性地变化而不恒定，故将产生光刻胶的剥离残渣、难于进行液晶基板的高精细尺寸的精度控制、使产品的品质不稳定，因而使成品率降了下来。

另外，由于在交换液体时要停止作业，故会带来劳动效率大幅度地下降，伴随着光刻胶剥离液的交换作业的劳务成本是必须的。

本发明是以上述诸点为借鉴的发明，本发明的目的是充分利用已应用于液晶基板制造工序的大量生产中的简便的现有技术的生产线搬运方式的长处，同时消除上边已说过的现有技术的那些问题。

就是说，本发明的目的是：在准备好了具有规定的成分比的原液后，把光刻胶剥离液自动地控制为规定的水分浓度和溶解光刻胶浓度，且对于光刻胶剥离处理槽的液体补给进行恰当的管理，以此使得把光刻胶剥离性能保持稳定，同时还可削减使用的原液量、确保安全、大幅度地缩短作业停止时间以降低综合造价。

本发明是这样一个发明：由于已用实验确认已溶解于光刻胶剥离处理槽的光刻胶剥离液中的光刻胶浓度，如图8所示，与其吸光度之间有密切的关系(高度直线关系)。故采用测定吸光度的办法来调制、控制溶解光刻胶浓度，此外，由于已用实验确认，光刻胶剥离液中的水分浓度，如图5所示，与其吸光度之间具有密切的关系(高度直线关系)，故借助于测定吸光度来调整、控制水分浓度，并同时对水分浓度和光刻胶浓度这两者进行管理。

就是说，为了达到上述目的，本发明的光刻胶剥离管理液管理装置的特征是具备下述装置：供给光刻胶剥离原液和纯水并保持恒定的液面水平的液面调节补给装置；用吸光光度计检测该光刻胶剥离处理槽内的光刻胶剥离液的水分浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水二者中的至少一方的补给装置。

另外，本发明的光刻胶剥离液管理装置的特征是：在补给装置中，不补给光刻胶剥离原液和纯水而代之以补给已预先把光刻胶剥离原液和纯水调合后的光刻胶剥离新液。

就是说，为了达到上述目的，本发明的光刻胶剥离液管理装置的特征是具备下述装置：光刻胶剥离液排出装置，用于在用吸光光度计检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度后排放光刻胶剥离液；第1补给装置，用于用液面水平计检测光刻胶剥离液的液面水平并补给光刻胶剥离原液和纯水；第2补给装置，用于用吸光光度计检测光刻胶剥离液的水分浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水二者中的至少一方(参看图1)。

另外，本发明的光刻胶剥离液管理装置的特征是：在第1补给装置中，不补给光刻胶剥离原液和纯水，而代之以用已预先把光刻胶原液和纯水进行调合后的光刻胶剥离新液(参看图2)。

再有，本发明的光刻胶剥离液管理装置的特征是具备有：第3补给装置，用于用吸光光度计检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水；第2补给装置，用于用吸光光度计检测光刻胶剥离液的水分浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水这二者中的至少一方(参看图3)。

另外，本发明的光刻胶剥离液管理装置的特征是：在补给光刻胶剥离原液和纯水的第3补给装置中，不供给光刻胶剥离原液和纯水而代之以已把光刻胶剥离原液和纯水预先进行了调合后的光刻胶剥离新液(参看图4)。

作为光刻胶剥离原液，比如说可以应用二甲亚砜(di-methyl-sulfoxide)系原液，N甲基吡咯烷酮(N-methyl-pyrrolidone)系原液。链烷醇胺(alkanolamine)和乙二醇醚(glycol-ether)的混合原液等等。

作为链烷醇胺，可以举出单乙醇胺(mono-ethanol-amine)、二乙醇胺(di-ethanol-amine)、三乙醇胺(tri-ethanol-amine)、N，N-二甲基乙醇胺(N，N-di-methyl-ethanol-amine)、N，N-二乙基乙醇胺(N，N-di-ethyl-ethanol-amine)、氨基乙基乙醇胺(amino-ethyl-ethanol-amine)、N-甲基-N，N-二乙醇胺(N-methyl-N，N-di-ethanol-amine)、N，N-二丁基乙醇胺(N，N-di-butyl-ethanol-amine)、N-甲基乙醇胺(N-methyl-ethanol-amine)、3-氨基-1-丙醇(3-amino-1-propanol)等等。

作为乙二醇醚系溶剂，可以举出：丁基二乙醇(butyl-di-glycol)、二甘醇一甲基醚(di-ethylene-glycol-mono-methyl-ether)、二甘醇一乙基醚(di-ethylene-glycol-mono-ethyl-ether)、二甘醇一丙基醇(di-ethylene-glycol-mono-propyl-ether)等等。

下面说明附图。

图1是本发明的第1实施例的光刻胶剥离液管理装置的系统图。

图2是本发明的第2实施例的光刻胶剥离液管理装置的系统图。

图3是本发明的第3实施例的光刻胶剥离液管理装置的系统图。

图4是本发明的第4实施例的光刻胶剥离液管理装置的系统图。

图5是本发明的光刻胶剥离液的水分浓度和吸光度之间的关系的曲线图。

图6是光刻胶剥离处理片数与溶解光刻胶浓度之间的关系的作业例的曲线图。

图7的曲线图示出的是本发明的光刻胶剥离片数与溶解光刻胶浓度测定所用的吸光度之间的关系。

图8的曲线图示出的是本发明的光刻胶剥离处理液的溶解光刻胶浓度与吸光度之间的关系。

图9的曲线图示出的是现有方法中的光刻胶剥离液的水分浓度与作业时间之间的关系。

图10的曲线图示出的是在已应用了本发明的装置的情况下的光刻胶剥离液的水分浓度与作业时间的关系。

图11的曲线图示出的是现有方法中的溶解光刻胶浓度与作业时间之间的关系。

图12的曲线图示出的是在已应用了本发明的装置的情况下的溶解光刻胶浓度与作业时间之间的关系。

由于本发明被构成为上述那样，故具有下述效果。

(1)通过把本发明应用到半导体或液晶基板的光刻胶剥离工序中去，就可以实时且连续地监视光刻胶剥离液的水分浓度和溶解光刻胶浓度、可以恒定地、精度良好地控制到规定的浓度。

因此基板的光刻胶剥离性能也被稳定，并且大幅度地提高产品的成品率。

另外，由于可把水分浓度控制为规定值，故可以确保光刻胶剥离液没有引火点这一安全性，同时可以在稳定的液面水平下长时间地连续操作。

(2)由于可以使用廉价的光刻胶剥离液且把其品质控制为恒定以及可进行连续作业，消除了液交换的停止和白白的废弃，故可以实现液使用量和剥离液价钱的大幅度降低，可以实现因装置运转率的提高而带走的生产性的大幅度的提高，还可以实现因无人化而产生的劳务费降低等综合性效果。

(3)在应用现有的把有机碱和有机溶剂组合起来的光刻胶剥离液的情况下，作为基板的处理温度需要80℃前后的温度，但在本发明的装置中，由于在光刻胶剥离液中含有适量的水，故可以把基板的处理温度降低至40℃前后。因此，可以减轻基板和形成半导体电路的基底金属的损伤，另外，由于可以把已含有水分的光刻胶剥离液作为不燃物来处理，故安全性增高，还有，由于蒸发损耗主要是便宜的水，故还可发挥剥离速度增大之类的优良的效果。

实施例

以下，参照附图对本发明的优选的实施例详细地进行说明。但是，在这些实施例中所述的构成机器的形状及其相对配置，只要没有特别地进行特定的说明，就不是把本发明的范围限定于这些实施例的形状及其相对配置，而只不过是一个说明例。

图1的系统图示出了本发明的第1实施例的光刻胶剥离液管理装置。图中的参照序号1～13是构成现有的已设有的光刻胶剥离处理装置的机器。即该现有的光刻胶剥离处理装置由下述部分构成。它们是：贮存光刻胶剥离液的光刻胶剥离处理槽1，溢流槽2，液面水平计3，光刻胶剥离室罩4，光刻胶剥离液喷头7，向光刻胶剥离液喷头送液的送液泵8，用于除去光刻胶剥离液中的微细粒子等等的过滤器9，配置基板且边进行光刻胶剥离边移动的辊式输送机5，基板6，用于使光刻胶剥离液净化和进行搅拌的循环泵11，用于除去微细粒子的过滤器13以及N2气、纯水等的输送管等等。

根据本发明且被附设到上述光刻胶剥离处理装置中去的机器是吸光光度计15，吸光光度计16，排液泵18，光刻胶剥离原液供给罐19，光刻胶剥离原液供给用的流量调节阀21，纯水供给用的流量调节阀22，以及这些各个机器的管道类、电气测量类或空气测量类的部件等等。

贮存于光刻胶剥离处理槽1中的液量，只要能供给光刻胶剥离液喷头7所需的量就够了，但从工序的稳定上看，必须进行控制。液面水平计3检测在光刻胶剥离处理期间附着于基板上，并把基板拿到系统之外时因自然减量而产生的液面水平降低，或者检测在已强制性地排放出光刻胶剥离性能已劣化了的液体时液面水平的降低，把光刻胶剥离处理槽1的液量管理到一定范围。在这里，光刻胶剥离劣化液采用使排出泵18动作的办法向下流入排放所用的管道。另外，也有不经排放用管道而直接把光刻胶剥离劣化液抽出到系统之外的情况。

贮存光刻胶剥离原液，比如说，单乙醇胺(以下简称为MEA)和丁基二乙醇(以下简称为BDG)的规定浓度混合液的光刻胶剥离原液供给罐19用来自管道20的N₂气加压到1～2kgf/cm²，并由光刻胶剥离原液流量调节阀21的打开进行压送。另外，纯水则通过来自既设管道的分枝管道，由纯水流量调节阀22的打开来送液。该光刻胶剥离原液和纯水通过调节各自的阀门送液，在管道23处合流后流入管道12，进行循环流的同时，边被混合边送入光刻胶剥离处理槽1。

此外，还可以不使光刻胶剥离原液与纯水合流地分别连接到管道12或光刻胶剥离槽1上。

另外，对于已用联机方式设置于光刻胶剥离液喷头所用的管道10上的吸光光度计15和吸光光度计16(比如说，两者构成一个整体)从管道14导入样品液体并连续测量各自的吸光度，测定完毕的液体则经管道17回到管道10。

也可以把吸光光度计15和吸光光度计16作为单体进行设置，或者使用测试用的循环泵把样品液体导入吸光光度计15和吸光光度计16中去。

图2的装置系统图示出了本发明的第2实施例。本实施例的构成为，不用液面水平计3检测光刻胶剥离液的液面水平以补给光刻胶剥离原液和纯水，而代之以(如图2所示)用液面水平计3检测光刻胶剥离液的液面水平，补给已把光刻胶剥离原液和纯水预先进行了调合后的光刻胶剥离新液。27是光刻胶剥离新液供给罐，28是新液流量调节阀，其余的构成与图1的情况相同。

图3的装置系统图示出了本发明的第3实施例。本实施例的构成是用吸光光度计16检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度以补给光刻胶剥离原液和纯水。如图3所示，在通常情况下，液面水平处于溢流用的堤堰的位置附近，在已补给了光刻胶剥离原液和纯水二者中的至少一方的情况下，已劣化了的光刻胶剥离液从溢流用的堤堰溢流而自动排放出去。另外，排出泵18并不是非要不可，也可不设置排出泵18而代之以设一个阀门。其余的构成与图1的情况一样。

图4的装置系统图示出了本发明的第4实施例。本实施例的构成为在用吸光光度计16检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度以进行补给的第3补给装置中，不补给光刻胶剥离原液和纯水，而如图4所示。代之以补给已预先对光刻胶剥离原液与纯水进行调合后的光刻胶剥离新液。其余的构成与图1和图3的情况一样。

其次对图1的第1实施例的装置的控制系统进行说明。

液面水平计3和光刻胶剥离处理槽1的液面水平，吸光光度计15和光刻胶剥离液的水分浓度，吸光光度计16和光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度这三者本质上分别作为独立的功能来起作用，但在本发明中，其特征是使它们在互相补充的关连中起作用。

此外，在最初，必须根据操作的实际成绩和计算，把制成品基板的质量管理上所必须的光刻胶剥离液的水分浓度的目标值、溶解光刻胶浓度的浓缩界限值等等事先设定于各控制器中。

以下，对把已使MEA与BDG和纯水混合后的溶液用作光刻胶剥离液的实施例进行说明。

通常，已被保持为约40℃的恒定温度的光刻胶剥离液的水分浓度，主要通过与净化N₂气一起使水分蒸发，并随着基板处理片数的增加而减少，故光刻胶剥离液的光刻胶剥离性能将不断劣化起来。

因此，水分浓度必须管理为规定的目标值，比如说29.0±1.0％。以往根据与来自经验的基板处理片数的相关或根据化学分析对光刻胶剥离液劣化的程度进行判定，但难于迅速且正确地进行把握。

本发明人用实验对光刻胶剥离液的水分浓度与吸光度之间的关系进行了研究，吸光度的测定波长从近红外区的950nm到1010nm的范围是令人满意的，在976nm附近敏度高且特别良好。

另外，测定波长可从近红外区选择，并根据剥离液和光刻胶的种类和浓度分开来使用。

如图5所示，在测定波长λ＝976nm时的吸光度与光刻胶剥离液的水分浓度处于高度的直线关系，因而借助于对吸光度进行检测，已经确认可以正确地测定水分浓度。

以联机方式已设置于管道10上的吸光光度计15已具备用于把测定误差定为最小限的各补偿功能和吸光度控制器25。把已从管道10导入进来的样品液体的吸光度测定值输入至吸光度控制器25中去，利用输出信号用流量调节阀21、22分别对光刻胶剥离原液和纯水中的至少一方进行自动控制。使吸光度测定值变成目标值，然后进行补给直到把水分浓度调整为目标值。

光刻胶剥离性能的劣化除去上边说过的水分浓度的原因之外，与溶解光刻胶浓度也有关系，由于基板处理的光刻胶剥离液，用送液泵8从光刻胶剥离处理槽1中取出、经光刻胶剥离液喷头7后循环使用，所以溶解物质就在光刻胶剥离液中逐渐浓缩了起来。其主要溶解物质是光刻胶，就如在图6中作为作业例而示出的那样，随着基板处理片数的增加而浓缩，结果使光刻胶剥离性能显著地劣化。以往，未进行过对该浓度变化的实时测定。而且，也不曾进行过把光刻胶剥离性能管理为恒定值的管理。

就是说，虽然曾把基板的处理片数当作劣化指标，但由于基板的形状或光刻胶的膜厚或光刻胶剥离图形并不固定，每一基板种类的溶解光刻胶量都不相同，故把处理片数定为判定因素是不合理的。

本发明人从因光刻胶中的光刻胶浓缩而产生的污染状态的研究开始，在与吸光度之间的关系中，着眼于测定光刻胶浓度，用实验得到了图7和图8中所示的那样的结果。如从图8中所看到的那样，溶解光刻胶浓度与吸光度处于高度的直线关系而无水分浓度之类的影响，可以判定与基板处理片数无关的、由溶解光刻胶浓度本身所产生的光刻胶剥离性能界限值。作为溶解光刻胶浓度的妥当的测定波长使用的是λ＝560nm。另外，测定波长，可从可见光区域400nm到近红外区域800nm的范围内选择，并根据光刻胶的种类和浓度而分开使用。

在管道10上与吸光光度计15形成一体或分成两个而设置的吸光光度计16，连续测定光胶剥离液的溶解光刻胶浓度并检测已超过了劣化界限值的情况。用吸光度控制器26的输出信号使排出泵18动作，从光刻胶剥离处理槽1中抽出已劣化了的光刻胶剥离液后废弃于排出管中，或是直接废弃于系统之外。结果是向已减量后的光刻胶剥离处理槽1中，采用使液面水平计3检测下降后的液面水平的办法立即补给新鲜的光刻胶剥离液。采用把溶解光刻胶浓度稀释为劣化界限值的办法恢复光刻胶剥离性能，使排出泵18停止。

在这里，对图1所示的第1实施例的装置所希望的控制系统功能上的关连进行计述。

在光刻胶剥离处理槽1不存在还原液时，液面水平计3检测是空的这一情况，就用液面水平控制器24的输出信号，用流量调节阀21、22调节阀门打开程度使光刻胶剥离原液和纯水以恰当的流量比送液。

接着，吸光光度计15连续测量还原液光刻胶剥离液的吸光度，并用吸光度控制器25的输出信号进行自动控制：用流量调节阀21和22的至少一方调节阀门打开程度使光刻胶剥离液和纯水中的至少一方以适宜的微小流量送液使之变成目标值的水分浓度。

其次，当光刻胶剥离处理开始后，就将进行因水分浓度下降，及拿出基板而产生的液体的减量和溶解光刻胶浓缩。

在水分浓度下降的情况下。吸光光度计15连续测定光刻胶剥离液的吸光度，并用吸光度控制器25的输出信号进行自动控制：用流量调节阀门22调节阀门打开程序使纯水在合适的微小流量下送液，使之变成目标值的水分浓度。

在因拿出基板而使液体减量的情况下，液面水平计3检测已下降的液面水平，并用液面水平控制器24的输出信号，用流量调节阀21、22调节阀门打开程度使光刻胶剥离原液和纯水以正确的流量比送液。

在溶解光刻胶浓度被浓缩并已达到了劣化界限值的情况下，吸光光度计16连续测定光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度以检测超过了劣化界限值的情况后，就用吸光度控制器26的输出信号使排出泵18动作，从光刻胶剥离处理槽1中抽出已劣化了的光刻胶剥离液后，或者废弃于排放管中，或者直接废弃于系统之外。

结果是，由于液面水平将降低，故液面水平计3检测已下降了的液面水平，并用液面水平控制器24的输出信号，用流量调节阀21，22调节阀门打开程度使光刻胶剥离原液和纯水以正确的流量比送液。由于向光刻胶剥离槽1中补给新鲜的光刻胶剥离液，把溶解光刻胶浓度稀释至劣化界限值恢复光刻胶剥离性能，使排出泵18停止下来。

虽然已把溢流用的堤堰设置于从液面水平计3往上通常不溢流的位置上，但也可使之有某种程度的溢流。

其次，对示于图3的第3实施例的装置所希望的控制系统的功能上的关连进行说明。

在光刻胶剥离处理槽1不存在还原液时，借助于手动操作，用流量调节阀21、22调节阀门打开程度，使光刻胶剥离原液和纯水以正确的流量比送液，直到达到规定的液面水平。

其次，吸光光度计15连续测定还原液光刻胶剥离液的吸光度并用吸光度控制器25的输出信号进行自动控制：用流量调节阀21和22中的至少一方调节阀门打开程度使光刻胶剥离原液和纯水的至少一方以恰当的微小流量送液使之达到目标值的水分浓度。

其次，当开始光刻胶剥离处理后，就将进行因水分浓度下降及拿出基板而形成的液体减量和溶解光刻胶浓缩。

在水分浓度下降的情况下，吸光光度计15连续测定光刻胶剥离液的吸光度并用吸光度控制器25的输出信号进行自动控制：用流量调节阀22调节阀门打开程度使纯水从适当的微小流量送液，使之变成目标值的水分浓度。

在因拿出基板而形成液体减量的情况下，液面水平计的位置比溢流所用的堤堰的位置低一些。

在溶解光刻胶浓度被浓缩后达到了极限值的情况下，吸光光度计16连续测定光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度并在检测到已超过了劣化界限值的情况时，用吸光度控制器26的输出信号，用流量调节阀21和22调节阀门打开程度使光刻胶剥离原液和纯水以合适的流量比送液。

由于补给了新鲜的光刻胶剥离液，故溶解光刻胶浓度被稀释到劣化界限值，恢复光刻胶剥离性能。

液面水平处于溢流用的堤堰的位置附近，在已供给了光刻胶剥离原液或纯水的时候，已劣化了的光刻胶剥离液就从溢流用的堤堰溢流出去。

本发明人从实验中发现通过采用用互相补充完善的关连来像上述那样地运用以各控制功能为基础的结果的办法，就可以容易地实现综合性地光刻胶剥离性能的恢复、连续作业和光刻胶剥离液使用量的削减。

其次，为了进行概念上的理解，图9～图12中示出了本发明与现有法的作业图形的效果的比较。在现有法中，如图9所示，开始时的水分浓度比如说为30.0wt％、该浓度随着时间的流逝而下降，在达到了比如说20.09wt％(化学分析值)时进行液交换。在这种情况下，由于水分浓度的时间性变化变成为锯齿状，在其浓度上产生了幅度变化，故光刻胶剥离性能不固定。

但是，若应用本发明的装置，则如图10所示即使时间流逝水分浓度也是恒定的，比如说为29.0±1.0wt％，光刻胶剥离性能稳定、同时也不再需要液交换作业。

另外，在现有法中，如图11所示，从开始时开始，溶解光刻胶浓度随着时间的流逝而增加，在该浓度达到了使光刻胶剥离性能降低的区域值后进行液交换。在这种情况下，如图11所示，溶解光刻胶浓度的时间性变化将变成锯齿状，由于将产生溶解光刻胶浓度的幅度变化，故光刻胶剥离性能不固定。

但是，倘应用本发明的装置，则如图12所示，溶解光刻胶浓度在经过某一时间之后变为恒定，因此，光刻胶剥离性能稳定下来的同时，也不再需要进行换液。

另外，在以上说明中，本发明不限于把MEA和BDG和纯水作为光刻胶剥离液使用的情况，也可适用于把有机碱和纯水的溶液，有机溶剂与纯水的溶液，有机碱与有机溶剂与纯水的溶液，有机碱与有机溶剂与纯水与添加剂的溶液等等作为光刻胶剥离液使用的情况。

上述实施例虽然说明的是喷射方式的情况，但是也可以作成为浸泡方式和旋转方式。另外，也可设置多台光刻胶剥离处理槽、并和循环槽(reserver tank)及上述管理装置组合起来。

Claims (6)

1.一种光刻胶剥离液管理装置，其特征是具备有下述装置：供给光刻胶剥离原液和纯水以保持恒定液面水平的液面调节补给装置；用吸光光度计检测该光刻胶剥离处理槽内的光刻胶水系剥离液的水分浓度并补给光刻胶剥离原液与纯水之中的至少一方的补给装置。

2.权利要求1所述的光刻胶剥离液管理装置，其特征是：在补给装置中，不供给光刻胶剥离原液和纯水，而代之以补给已预先把光刻胶原液与纯水调合之后的光刻胶水系剥离新液。

3.一种光刻胶剥离液管理装置，其特征是具备下述装置：光刻胶水系剥离液排出装置，用于用吸光光度计检测光刻胶水系剥离液的溶解光刻胶浓度并排出光刻胶水系剥离液；第1补给装置，用于用液面水平计检测光刻胶水系剥离液的液面水平并补给光刻胶水系剥离原液和纯水；第2补给装置，用于用吸光光度计检测光刻胶水系剥离液的水分浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水中的至少一方。

4.权利要求3所述的光刻胶剥离液管理装置，其特征是：在第1补给装置中，，不补给光刻胶剥离原液和纯水，而代之以补给已预先把光刻胶剥离原液和纯水调合后的光刻胶水系剥离新液。

5.一种光刻胶剥离液管理装置，其特征是具备下述装置：第3补给装置，用于用吸光光度计检测光刻胶水系剥离液的溶解光刻胶浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水；第2补给装置，用于用吸光光度计检测光刻胶水系剥离液的水分浓度并补给光刻胶剥离原液和纯水中的至少一方。

6.权利要求5所述的光刻胶剥离液管理装置，其特征是：在第3补给装置中，不补给光刻胶剥离原液和纯水，而代之以补给已预先把光刻胶剥离原液与纯水调合后的光刻胶水系剥离新液。

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