JPH05144787A - 洗浄槽への純水供給方法および装置 - Google Patents
洗浄槽への純水供給方法および装置Info
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- JPH05144787A JPH05144787A JP30792591A JP30792591A JPH05144787A JP H05144787 A JPH05144787 A JP H05144787A JP 30792591 A JP30792591 A JP 30792591A JP 30792591 A JP30792591 A JP 30792591A JP H05144787 A JPH05144787 A JP H05144787A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体製造工程におけるウェーハを純水洗浄
する際に生菌に汚染されずにかつ純水を節減し得る洗浄
槽への純水供給方法および装置を提供する。 【構成】 オーバフロー溝２ａ〜２ｄを有する複数の洗
浄槽１ａ〜１ｄに循環ループ配管４からの純水を調節弁
６ａ〜６ｄと流量計７ａ〜７ｄを遮断弁12ａ〜12ｄを接
続した供給支管５ａ〜５ｄで供給し、オーバフロー溝２
ａ〜２ｄに接続されるオーバフロー支管８ａ〜８ｄを三
方切換弁13ａ〜13ｄを介して排水本管９に接続し、三方
切換弁13ａ〜13ｄと供給支管５ａ〜５ｄを接続管14ａ〜
14ｄを介して接続する。一方、弁切換調節計10において
洗浄槽１ａ〜１ｄに取付けた水質検出器11ａ〜11ｄから
の水質信号を入力して規定値と比較演算し、洗浄槽１ａ
〜１ｄのいずれかの水質が規定値以下のときは該当する
三方切換弁, 遮断弁を操作して、常に水質のよい純水を
供給するようにする。
する際に生菌に汚染されずにかつ純水を節減し得る洗浄
槽への純水供給方法および装置を提供する。 【構成】 オーバフロー溝２ａ〜２ｄを有する複数の洗
浄槽１ａ〜１ｄに循環ループ配管４からの純水を調節弁
６ａ〜６ｄと流量計７ａ〜７ｄを遮断弁12ａ〜12ｄを接
続した供給支管５ａ〜５ｄで供給し、オーバフロー溝２
ａ〜２ｄに接続されるオーバフロー支管８ａ〜８ｄを三
方切換弁13ａ〜13ｄを介して排水本管９に接続し、三方
切換弁13ａ〜13ｄと供給支管５ａ〜５ｄを接続管14ａ〜
14ｄを介して接続する。一方、弁切換調節計10において
洗浄槽１ａ〜１ｄに取付けた水質検出器11ａ〜11ｄから
の水質信号を入力して規定値と比較演算し、洗浄槽１ａ
〜１ｄのいずれかの水質が規定値以下のときは該当する
三方切換弁, 遮断弁を操作して、常に水質のよい純水を
供給するようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オーバフロー方式の複
数の洗浄槽を用いてウェーハを純水で洗浄するに際の純
水供給方法および装置に関する。
数の洗浄槽を用いてウェーハを純水で洗浄するに際の純
水供給方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程においては、各処理工程
の前または後にウェーハを洗浄する工程が数多く必要と
される。この洗浄工程には、純水洗浄や酸，アルカリな
どの薬品洗浄、界面活性剤薬品洗浄、有機洗浄などがそ
の用途に応じて単独であるいは組み合わされて用いられ
るのが一般的であるが、その中で最も重要な過程は純水
洗浄であり、その他の薬品などによる洗浄工程を停止さ
せてそれらの薬品成分や表面生成物を流出させる役割を
担っている。
の前または後にウェーハを洗浄する工程が数多く必要と
される。この洗浄工程には、純水洗浄や酸，アルカリな
どの薬品洗浄、界面活性剤薬品洗浄、有機洗浄などがそ
の用途に応じて単独であるいは組み合わされて用いられ
るのが一般的であるが、その中で最も重要な過程は純水
洗浄であり、その他の薬品などによる洗浄工程を停止さ
せてそれらの薬品成分や表面生成物を流出させる役割を
担っている。
【０００３】ここで使用される純水には、微粒子や有機
物，イオン，生菌などの混入を極力無くした非常に純度
の高いものが要求され、とくに生菌に関しては純水１ml
当たり0.01〜0.1 個以下に抑制することが要請されてい
る。その理由は、生菌除去が不十分な純水でウェーハを
洗浄して生菌がウェーハに凝着したまま加熱したとする
と、生菌の構成原子であるところのＣ，Ｐ，Ｓなどがウ
ェーハ上に残るから、ウェーハに形成されるＬＳＩ素子
の性能に悪影響を及ぼし、歩留りや性能の劣化を招くか
らである。
物，イオン，生菌などの混入を極力無くした非常に純度
の高いものが要求され、とくに生菌に関しては純水１ml
当たり0.01〜0.1 個以下に抑制することが要請されてい
る。その理由は、生菌除去が不十分な純水でウェーハを
洗浄して生菌がウェーハに凝着したまま加熱したとする
と、生菌の構成原子であるところのＣ，Ｐ，Ｓなどがウ
ェーハ上に残るから、ウェーハに形成されるＬＳＩ素子
の性能に悪影響を及ぼし、歩留りや性能の劣化を招くか
らである。
【０００４】このような純水洗浄工程は、通常、図２に
示すように構成されている。すなわち、たとえば４槽の
それぞれオーバフロー溝２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄが設け
られた洗浄槽１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに、純水装置３に
接続された循環ループ配管４から分岐された供給支管５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄがそれぞれ調節弁６ａ，６ｂ，６
ｃ，６ｄ、流量計７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄを介して接続
される。また、オーバフロー溝２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ
の底部はオーバフロー支管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを介
して排水本管９に接続される。
示すように構成されている。すなわち、たとえば４槽の
それぞれオーバフロー溝２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄが設け
られた洗浄槽１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに、純水装置３に
接続された循環ループ配管４から分岐された供給支管５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄがそれぞれ調節弁６ａ，６ｂ，６
ｃ，６ｄ、流量計７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄを介して接続
される。また、オーバフロー溝２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ
の底部はオーバフロー支管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを介
して排水本管９に接続される。
【０００５】そして、調節弁６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの
開度を調節することにより、所定量たとえば３〜５l/mi
n 程度の純水がユースポイントである洗浄槽１ａ，１
ｂ，１ｃ，１ｄに供給され、オーバフロー溝２ａ，２
ｂ，２ｃ，２ｄからオーバフローした排水がオーバフロ
ー支管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを介して排水本管９から
排水させる。こうして、純水を常時オーバフローさせる
ことにより、洗浄槽１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄや供給支管
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄでの純水の滞留を回避すること
によって生菌の発生を防止するのである。
開度を調節することにより、所定量たとえば３〜５l/mi
n 程度の純水がユースポイントである洗浄槽１ａ，１
ｂ，１ｃ，１ｄに供給され、オーバフロー溝２ａ，２
ｂ，２ｃ，２ｄからオーバフローした排水がオーバフロ
ー支管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを介して排水本管９から
排水させる。こうして、純水を常時オーバフローさせる
ことにより、洗浄槽１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄや供給支管
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄでの純水の滞留を回避すること
によって生菌の発生を防止するのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような従来の純水洗浄装置においては、オーバフロー
した純水を回収することができずにそのまま排水せざる
を得ないから、常に高純度化処理を施した純水を新たに
かつ大量供給する必要があり、純水のランニングコスト
の上昇を招くという欠点があった。本発明は、このよう
な課題を解決した洗浄槽への純水供給方法および装置を
提供することを目的とする。
たような従来の純水洗浄装置においては、オーバフロー
した純水を回収することができずにそのまま排水せざる
を得ないから、常に高純度化処理を施した純水を新たに
かつ大量供給する必要があり、純水のランニングコスト
の上昇を招くという欠点があった。本発明は、このよう
な課題を解決した洗浄槽への純水供給方法および装置を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、オーバフロー
方式の複数の洗浄槽を用いてウェーハを純水で洗浄する
際の純水供給方法であって、前記洗浄槽の水質がいずれ
も規定値以内であるときは初段の洗浄槽のオーバフロー
水をその次段以降の洗浄槽の洗浄水として順次供給して
最終段の洗浄槽から排水するようにし、前記洗浄槽のい
ずれかの水質が規定値を超えたときは当該洗浄槽の前段
の洗浄槽からのオーバフロー水を直接排水するとともに
当該洗浄槽へは新たな純水を供給して最終段の洗浄槽か
ら排水するようにしたことを特徴とする洗浄槽への純水
供給方法である。
方式の複数の洗浄槽を用いてウェーハを純水で洗浄する
際の純水供給方法であって、前記洗浄槽の水質がいずれ
も規定値以内であるときは初段の洗浄槽のオーバフロー
水をその次段以降の洗浄槽の洗浄水として順次供給して
最終段の洗浄槽から排水するようにし、前記洗浄槽のい
ずれかの水質が規定値を超えたときは当該洗浄槽の前段
の洗浄槽からのオーバフロー水を直接排水するとともに
当該洗浄槽へは新たな純水を供給して最終段の洗浄槽か
ら排水するようにしたことを特徴とする洗浄槽への純水
供給方法である。
【０００８】また、本発明は、オーバフロー溝を有する
複数の洗浄槽と、これら洗浄槽に純水を供給する循環ル
ープ配管と、この循環ループ配管と前記洗浄槽との間を
調節弁と流量計を介して接続する供給支管と、前記オー
バフロー溝に接続されるオーバフロー支管と、これらオ
ーバフロー支管を接続する排水本管とからなる洗浄槽へ
の純水供給装置において、前記供給支管の流量計の下流
に取付けられる遮断弁と、最終段の洗浄槽を除く各洗浄
槽のオーバフロー支管に取付けられる三方切換弁と、こ
れら三方切換弁と前記供給支管の遮断弁の下流側とを接
続する接続管と、前記洗浄槽に取付けられる水質検出器
と、これら水質検出器からの水質信号を入力して規定値
と比較演算するとともに前記三方切換弁および前記遮断
弁を開閉操作する信号を出力する弁切換調節計と、を備
えたことを特徴とする洗浄槽への純水供給装置である。
複数の洗浄槽と、これら洗浄槽に純水を供給する循環ル
ープ配管と、この循環ループ配管と前記洗浄槽との間を
調節弁と流量計を介して接続する供給支管と、前記オー
バフロー溝に接続されるオーバフロー支管と、これらオ
ーバフロー支管を接続する排水本管とからなる洗浄槽へ
の純水供給装置において、前記供給支管の流量計の下流
に取付けられる遮断弁と、最終段の洗浄槽を除く各洗浄
槽のオーバフロー支管に取付けられる三方切換弁と、こ
れら三方切換弁と前記供給支管の遮断弁の下流側とを接
続する接続管と、前記洗浄槽に取付けられる水質検出器
と、これら水質検出器からの水質信号を入力して規定値
と比較演算するとともに前記三方切換弁および前記遮断
弁を開閉操作する信号を出力する弁切換調節計と、を備
えたことを特徴とする洗浄槽への純水供給装置である。
【０００９】
【作 用】本発明によれば、複数の洗浄槽内の純水の水
質を同時にモニタすることにより、いずれの洗浄槽の水
質も規定値以内にあるときは、初段の洗浄槽からのオー
バフロー水を次段以降の洗浄槽の洗浄水として供給して
最終段の洗浄槽から排水するようにしたので、供給する
純水の量を節減することができる。なお、純水の水質が
規定値を超えた洗浄槽が検出された場合には、その前段
の洗浄槽からのオーバフロー水を直接排出し、当該洗浄
槽には新しい純水を供給してやることにより、汚染のな
い洗浄を行うことができる。
質を同時にモニタすることにより、いずれの洗浄槽の水
質も規定値以内にあるときは、初段の洗浄槽からのオー
バフロー水を次段以降の洗浄槽の洗浄水として供給して
最終段の洗浄槽から排水するようにしたので、供給する
純水の量を節減することができる。なお、純水の水質が
規定値を超えた洗浄槽が検出された場合には、その前段
の洗浄槽からのオーバフロー水を直接排出し、当該洗浄
槽には新しい純水を供給してやることにより、汚染のな
い洗浄を行うことができる。
【００１０】
【実施例】以下に、本発明の実施例について、図１を参
照して詳しく説明する。なお、図中、従来例と同一部材
は同一符号を付している。図に示すように、各洗浄槽１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄには水質発信器11ａ，11ｂ，11
ｃ，11ｄが取付けられ、測定されたそれぞれの水質信号
は弁切換調節計10に入力される。
照して詳しく説明する。なお、図中、従来例と同一部材
は同一符号を付している。図に示すように、各洗浄槽１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄには水質発信器11ａ，11ｂ，11
ｃ，11ｄが取付けられ、測定されたそれぞれの水質信号
は弁切換調節計10に入力される。
【００１１】また、各供給支管５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ
の流量計７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの下流には遮断弁12
ａ，12ｂ，12ｃ，12ｄがそれぞれ取付けられ、弁切換調
節計10からの出力信号により開閉自在とされる。さら
に、最終段の洗浄槽１ｄを除く各洗浄槽１ａ，１ｂ，１
ｃのオーバフロー支管８ａ，８ｂ，８ｃには三方切換弁
13ａ，13ｂ，13ｃが取付けられ、やはり弁切換調節計10
からの出力信号により開閉自在とされる。これら三方切
換弁13ａ，13ｂ，13ｃは、遮断弁12ｂ，12ｃ，12ｄの下
流側の供給支管５ｂ，５ｃ，５ｄとも接続管14ａ，14
ｂ，14ｃを介して接続される。
の流量計７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの下流には遮断弁12
ａ，12ｂ，12ｃ，12ｄがそれぞれ取付けられ、弁切換調
節計10からの出力信号により開閉自在とされる。さら
に、最終段の洗浄槽１ｄを除く各洗浄槽１ａ，１ｂ，１
ｃのオーバフロー支管８ａ，８ｂ，８ｃには三方切換弁
13ａ，13ｂ，13ｃが取付けられ、やはり弁切換調節計10
からの出力信号により開閉自在とされる。これら三方切
換弁13ａ，13ｂ，13ｃは、遮断弁12ｂ，12ｃ，12ｄの下
流側の供給支管５ｂ，５ｃ，５ｄとも接続管14ａ，14
ｂ，14ｃを介して接続される。
【００１２】つぎに、このように構成された純水供給装
置の動作について説明する。 まず、弁切換調節計10からの出力信号により遮断弁
12ａ，12ｂ，12ｃ，12ｄを全開して、供給支管５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄから各洗浄槽１ａ，１ｂ，１ｃ,１ｄに
純水を供給する。このとき、各三方切換弁13ａ，13ｂ，
13ｃは接続管14ａ，14ｂ，14ｃ側に通の状態とする。 純水が各オーバフロー溝２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄか
らオーバフローし始めた時点で、弁切換調節計10からの
出力信号により次段の洗浄槽１ｂ以降の遮断弁11ｂ，11
ｃ，11ｄを全閉にする。 同時に、初段の洗浄槽１ａの流量計７ａの測定信号
によって調節弁６ａを調節し、純水をたとえば３〜５l/
min 程度で流す。 これによって、初段の洗浄槽１ａからは常時３〜５
l/min 程度の純水がオーバフローして、オーバフロー支
管８ａ→三方切換弁13ａ→接続管14ａ→供給支管５ｂ→
次段の洗浄槽１ｂと流れて、オーバフロー溝２ｂから３
〜５l/min 程度オーバフローする。 そして、後続の洗浄槽１ｃにおいても同様にして常
時３〜５l/min 程度のオーバフローが繰り返され、最終
段の洗浄槽１ｄにおいてはオーバフロー支管８ｄから排
水本管９に排水されることになる。このようなランニン
グ中には、各洗浄槽の純水の水質は水質発信器11ａ，11
ｂ，11ｃ，11ｄによってモニタされる。 一方、弁切換調節計10においてたとえば２番目の洗
浄槽１ｂの水質計11ｂの信号が規定値たとえば10ＭΩ・
cmよりも低い値になったことが検出されると、洗浄され
るウェーハが汚染される恐れがあるから、直ちに弁切換
調節計10によって遮断弁11ｂを全開にして新たな純水を
循環ループ配管４から所定量供給するとともに、三方切
換弁13ａをオーバフロー支管８ａ側に切り換えて初段の
洗浄槽１ａのオーバフロー水を排水本管９に直接排出す
る。これにより、２番目以降の洗浄槽の純水の水質を規
定値以内に維持することができる。
置の動作について説明する。 まず、弁切換調節計10からの出力信号により遮断弁
12ａ，12ｂ，12ｃ，12ｄを全開して、供給支管５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄから各洗浄槽１ａ，１ｂ，１ｃ,１ｄに
純水を供給する。このとき、各三方切換弁13ａ，13ｂ，
13ｃは接続管14ａ，14ｂ，14ｃ側に通の状態とする。 純水が各オーバフロー溝２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄか
らオーバフローし始めた時点で、弁切換調節計10からの
出力信号により次段の洗浄槽１ｂ以降の遮断弁11ｂ，11
ｃ，11ｄを全閉にする。 同時に、初段の洗浄槽１ａの流量計７ａの測定信号
によって調節弁６ａを調節し、純水をたとえば３〜５l/
min 程度で流す。 これによって、初段の洗浄槽１ａからは常時３〜５
l/min 程度の純水がオーバフローして、オーバフロー支
管８ａ→三方切換弁13ａ→接続管14ａ→供給支管５ｂ→
次段の洗浄槽１ｂと流れて、オーバフロー溝２ｂから３
〜５l/min 程度オーバフローする。 そして、後続の洗浄槽１ｃにおいても同様にして常
時３〜５l/min 程度のオーバフローが繰り返され、最終
段の洗浄槽１ｄにおいてはオーバフロー支管８ｄから排
水本管９に排水されることになる。このようなランニン
グ中には、各洗浄槽の純水の水質は水質発信器11ａ，11
ｂ，11ｃ，11ｄによってモニタされる。 一方、弁切換調節計10においてたとえば２番目の洗
浄槽１ｂの水質計11ｂの信号が規定値たとえば10ＭΩ・
cmよりも低い値になったことが検出されると、洗浄され
るウェーハが汚染される恐れがあるから、直ちに弁切換
調節計10によって遮断弁11ｂを全開にして新たな純水を
循環ループ配管４から所定量供給するとともに、三方切
換弁13ａをオーバフロー支管８ａ側に切り換えて初段の
洗浄槽１ａのオーバフロー水を排水本管９に直接排出す
る。これにより、２番目以降の洗浄槽の純水の水質を規
定値以内に維持することができる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、洗
浄槽内の純水の水質をモニタしながら、水質が規定値以
内のときは初段の洗浄槽からのオーバフロー水をその次
段以降の洗浄槽の洗浄水として供給することにより、純
水を節減するようにしたので、これによって生菌の増殖
を防止し得るとともに純水のランニングコストを低減す
ることが可能である。
浄槽内の純水の水質をモニタしながら、水質が規定値以
内のときは初段の洗浄槽からのオーバフロー水をその次
段以降の洗浄槽の洗浄水として供給することにより、純
水を節減するようにしたので、これによって生菌の増殖
を防止し得るとともに純水のランニングコストを低減す
ることが可能である。
【図１】本発明の実施例の構成を示す概要図である。
【図２】従来例の構成を示す概要図である。
１ 洗浄槽 ２ オーバフロー溝 ３ 純水装置 ４ 循環ループ配管 ５ 供給支管 ６ 調節弁 ７ 流量計 ８ オーバフロー支管 ９ 排水本管 10 弁切換調節計 11 水質発信器 12 遮断弁 13 三方切換弁 14 接続管
Claims (2)
- 【請求項１】 オーバフロー方式の複数の洗浄槽を用
いてウェーハを純水で洗浄する際の純水供給方法であっ
て、前記洗浄槽の水質がいずれも規定値以内であるとき
は初段の洗浄槽のオーバフロー水をその次段以降の洗浄
槽の洗浄水として順次供給して最終段の洗浄槽から排水
するようにし、前記洗浄槽のいずれかの水質が規定値を
超えたときは当該洗浄槽の前段の洗浄槽からのオーバフ
ロー水を直接排水するとともに当該洗浄槽へは新たな純
水を供給して最終段の洗浄槽から排水するようにしたこ
とを特徴とする洗浄槽への純水供給方法。 - 【請求項２】 オーバフロー溝を有する複数の洗浄槽
と、これら洗浄槽に純水を供給する循環ループ配管と、
この循環ループ配管と前記洗浄槽との間を調節弁と流量
計を介して接続する供給支管と、前記オーバフロー溝に
接続されるオーバフロー支管と、これらオーバフロー支
管を接続する排水本管とからなる洗浄槽への純水供給装
置において、前記供給支管の流量計の下流に取付けられ
る遮断弁と、最終段の洗浄槽を除く各洗浄槽のオーバフ
ロー支管に取付けられる三方切換弁と、これら三方切換
弁と前記供給支管の遮断弁の下流側とを接続する接続管
と、前記洗浄槽に取付けられる水質検出器と、これら水
質検出器からの水質信号を入力して規定値と比較演算す
るとともに前記三方切換弁および前記遮断弁を開閉操作
する信号を出力する弁切換調節計と、を備えたことを特
徴とする洗浄槽への純水供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30792591A JPH05144787A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 洗浄槽への純水供給方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30792591A JPH05144787A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 洗浄槽への純水供給方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05144787A true JPH05144787A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=17974822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30792591A Pending JPH05144787A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 洗浄槽への純水供給方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05144787A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5419351A (en) * | 1993-04-02 | 1995-05-30 | National Semiconductor Corporation | Final rinse/dry system for critical cleaning applications |
| US5896874A (en) * | 1996-07-02 | 1999-04-27 | Hirama Rika Kenkyujo Ltd. | Apparatus for controlling resist stripping solution |
| DE19813488A1 (de) * | 1998-03-26 | 1999-10-07 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zum Reinigen von Halbleiterscheiben |
| US6209553B1 (en) * | 1999-05-20 | 2001-04-03 | Mitsubishidenki Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for washing photomask and washing solution for photomask |
| US8931352B2 (en) | 2012-12-25 | 2015-01-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cleaning quality control system using electromagnetic flow meter, and cleaning quality control method |
-
1991
- 1991-11-22 JP JP30792591A patent/JPH05144787A/ja active Pending
Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
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