JPH11627A - 洗浄液供給系及び供給方法 - Google Patents
洗浄液供給系及び供給方法Info
- Publication number
- JPH11627A JPH11627A JP15624197A JP15624197A JPH11627A JP H11627 A JPH11627 A JP H11627A JP 15624197 A JP15624197 A JP 15624197A JP 15624197 A JP15624197 A JP 15624197A JP H11627 A JPH11627 A JP H11627A
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- Japan
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- valve
- cleaning liquid
- main valve
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、バルブの開閉動作により生じる圧
力変動を抑制し、それに伴って配管系から発生するパー
ティクルを抑えた洗浄液供給系及び供給方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 洗浄用ノズルに洗浄液を供給するための
洗浄液供給配管に分岐配管を設け、前記供給配管及び前
記分岐配管の当該分岐点の下流側にそれぞれメインバル
ブ及びサブバルブを設け、メインバルブの開閉により生
じる洗浄液の圧力変動を抑制するために前記メイン及び
サブバルブの開閉のタイミングを制御する手段を設けた
ことを特徴とする。
力変動を抑制し、それに伴って配管系から発生するパー
ティクルを抑えた洗浄液供給系及び供給方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 洗浄用ノズルに洗浄液を供給するための
洗浄液供給配管に分岐配管を設け、前記供給配管及び前
記分岐配管の当該分岐点の下流側にそれぞれメインバル
ブ及びサブバルブを設け、メインバルブの開閉により生
じる洗浄液の圧力変動を抑制するために前記メイン及び
サブバルブの開閉のタイミングを制御する手段を設けた
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄液供給系及び
洗浄液供給方法に係り、特に、半導体ウエハやＬＣＤ用
基板を枚葉式で高速洗浄することを可能とする枚葉式洗
浄装置の洗浄液供給系及び供給方法に関する。
洗浄液供給方法に係り、特に、半導体ウエハやＬＣＤ用
基板を枚葉式で高速洗浄することを可能とする枚葉式洗
浄装置の洗浄液供給系及び供給方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造において、基板の汚染を防ぐ
ことは歩留まり向上のために不可欠な最も重要な因子の
一つであり、従来から、汚染防止の観点から半導体製造
環境の改艮がおこなわれてきた。近年、ウエハの大口径
化にともなって、半導体製造装置は一度に多くのウエハ
を処理するバッチ式から、一枚づつウエハを処理する枚
葉式へと移行している。洗浄装置も例外ではなく、薬液
量の低減、プロセスの安定性、再現性を求めて、バッチ
式から枚葉式へと変化しつつある。
ことは歩留まり向上のために不可欠な最も重要な因子の
一つであり、従来から、汚染防止の観点から半導体製造
環境の改艮がおこなわれてきた。近年、ウエハの大口径
化にともなって、半導体製造装置は一度に多くのウエハ
を処理するバッチ式から、一枚づつウエハを処理する枚
葉式へと移行している。洗浄装置も例外ではなく、薬液
量の低減、プロセスの安定性、再現性を求めて、バッチ
式から枚葉式へと変化しつつある。
【０００３】しかしながら、枚葉式洗浄装置には大きな
問題がある。それはバルブの開閉時に生じる圧力変動と
それに伴って配管系から発生するパーティクルである。
従来のバッチ式洗浄装置において薬液は洗浄槽に溜めら
れ、その中で被洗浄物であるウエハを洗浄処理する。洗
浄槽内の薬液は随時ポンプとフィルタを介して循環ろ過
される。バルブはタンク内の薬液を交換するときのみ開
閉動作をおこなうので、その際に多少のパーティクルが
発生したとしても、フィルタにより循環ろ過され、洗浄
プロセスに影響を与えることは少ない。ところが一方、
枚葉式洗浄装置においては被洗浄物であるウエハ一枚一
枚に薬液を供給する形となるため、バルブの開閉動作回
数はバッチ式の場合に比べ著しく多くなる。また、その
構成上、薬液の循環ろ過ができないため、バルブ開閉時
に発生するパーティクルは直接、洗浄プロセスに多大な
影響を与える。
問題がある。それはバルブの開閉時に生じる圧力変動と
それに伴って配管系から発生するパーティクルである。
従来のバッチ式洗浄装置において薬液は洗浄槽に溜めら
れ、その中で被洗浄物であるウエハを洗浄処理する。洗
浄槽内の薬液は随時ポンプとフィルタを介して循環ろ過
される。バルブはタンク内の薬液を交換するときのみ開
閉動作をおこなうので、その際に多少のパーティクルが
発生したとしても、フィルタにより循環ろ過され、洗浄
プロセスに影響を与えることは少ない。ところが一方、
枚葉式洗浄装置においては被洗浄物であるウエハ一枚一
枚に薬液を供給する形となるため、バルブの開閉動作回
数はバッチ式の場合に比べ著しく多くなる。また、その
構成上、薬液の循環ろ過ができないため、バルブ開閉時
に発生するパーティクルは直接、洗浄プロセスに多大な
影響を与える。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の枚薬
式洗浄方式が有する上記問題点を解決することを目的と
する。即ち、本発明の目的は、バルブの開閉動作により
生じる圧力変動を抑制し、それに伴って配管系から発生
するパーティクルを抑えた洗浄液供給系及び供給方法を
提供するものである。
式洗浄方式が有する上記問題点を解決することを目的と
する。即ち、本発明の目的は、バルブの開閉動作により
生じる圧力変動を抑制し、それに伴って配管系から発生
するパーティクルを抑えた洗浄液供給系及び供給方法を
提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄液供給系
は、洗浄用ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給
配管に分岐配管を設け、前記供給配管及び前記分岐配管
の当該分岐点の下流側にそれぞれメインバルブ及びサブ
バルブを設け、前記メインバルブの開閉により生じる洗
浄液の圧力変動を抑制するために前記メインバルブ及び
サブバルブの開閉のタイミングを制御する手段を設けた
ことを特徴とする。
は、洗浄用ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給
配管に分岐配管を設け、前記供給配管及び前記分岐配管
の当該分岐点の下流側にそれぞれメインバルブ及びサブ
バルブを設け、前記メインバルブの開閉により生じる洗
浄液の圧力変動を抑制するために前記メインバルブ及び
サブバルブの開閉のタイミングを制御する手段を設けた
ことを特徴とする。
【０００６】本発明の洗浄液供給方法は、洗浄用ノズル
に洗浄液を供給する洗浄液供給配管に分岐配管を設け、
前記供給配管及び前記分岐配管の当該分岐点の下流側に
それぞれメインバルブ及びサブバルブを設けた洗浄液供
給系において、洗浄液を前記洗浄用ノズルに供給するた
めに前記メインバルブを開けるときは前もって前記サブ
バルブを開けた状態としておき、前記洗浄用ノズルへの
洗浄液の供給を停止するため前記メインバルブを閉じる
ときは前もって前記サブバルブを開の状態としておくこ
とを特徴とする。
に洗浄液を供給する洗浄液供給配管に分岐配管を設け、
前記供給配管及び前記分岐配管の当該分岐点の下流側に
それぞれメインバルブ及びサブバルブを設けた洗浄液供
給系において、洗浄液を前記洗浄用ノズルに供給するた
めに前記メインバルブを開けるときは前もって前記サブ
バルブを開けた状態としておき、前記洗浄用ノズルへの
洗浄液の供給を停止するため前記メインバルブを閉じる
ときは前もって前記サブバルブを開の状態としておくこ
とを特徴とする。
【０００７】本発明は、ひとつのバルブの開閉動作時に
そのラインにつながっているもうひとつのバルブをタイ
ミングを合わせて開閉することにより、系にかかる圧力
変動を抑え、その結果パーティクルの発生を抑え、高清
浄な洗浄を可能とするものである。
そのラインにつながっているもうひとつのバルブをタイ
ミングを合わせて開閉することにより、系にかかる圧力
変動を抑え、その結果パーティクルの発生を抑え、高清
浄な洗浄を可能とするものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明を図１を用いて説明する。
【０００９】図１は本発明の洗浄液供給系の一例であ
り、超純水供給ライン１０１にメインバルブ１０２を介
して洗浄チャンバー内の洗浄ノズル（不図示）に接続さ
れ、分岐点１０３で接続された分岐ライン１０４はサブ
バルブ１０５を介して排水口（不図示）に接続されてい
る。１０６はバルブ１０２、１０５の開閉のタイミング
を制御する制御系である。
り、超純水供給ライン１０１にメインバルブ１０２を介
して洗浄チャンバー内の洗浄ノズル（不図示）に接続さ
れ、分岐点１０３で接続された分岐ライン１０４はサブ
バルブ１０５を介して排水口（不図示）に接続されてい
る。１０６はバルブ１０２、１０５の開閉のタイミング
を制御する制御系である。
【００１０】図１の洗浄液供給系を使用した場合のバル
ブ開閉動作手順を表１に示す。
ブ開閉動作手順を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１の動作手順について説明する。まず、
メインバルブを閉状態から開状態とする場合であるが、
初期状態はメインバルブ、サブバルブは共に閉じてお
り、超純水供給ラインの圧力は高い値で安定している。
そこから、まず、サブバルブを開け、系にかかっている
圧力を分岐ライン側に逃がす。その後、充分に時間を取
った後、メインバルブを開け、洗浄用ノズルへ液を供給
する。このときには、系に余分な圧力はかかっていない
ので、圧力変動はほとんど起こらない。そして、サブバ
ルブを閉じて動作終了となる。
メインバルブを閉状態から開状態とする場合であるが、
初期状態はメインバルブ、サブバルブは共に閉じてお
り、超純水供給ラインの圧力は高い値で安定している。
そこから、まず、サブバルブを開け、系にかかっている
圧力を分岐ライン側に逃がす。その後、充分に時間を取
った後、メインバルブを開け、洗浄用ノズルへ液を供給
する。このときには、系に余分な圧力はかかっていない
ので、圧力変動はほとんど起こらない。そして、サブバ
ルブを閉じて動作終了となる。
【００１３】一方、メインバルブ開状態から閉状態とす
る場合であるが、通常のようにいきなりメインバルブを
閉じるとメインバルブより前の系に急激な圧力変動が生
じるので、まずはサブバルブを開ける。その後、充分に
時間を取った後、メインバルブを閉じて、そして、サブ
バルブも閉じる。サブバルブを閉じる際には通常と同じ
く圧力変動を生じ、パーティクルの発生が起こるが、メ
インバルブとサブバルブを充分離しておけばそのパーテ
ィクルが供給ライン側に影響を及ぼすことはない。
る場合であるが、通常のようにいきなりメインバルブを
閉じるとメインバルブより前の系に急激な圧力変動が生
じるので、まずはサブバルブを開ける。その後、充分に
時間を取った後、メインバルブを閉じて、そして、サブ
バルブも閉じる。サブバルブを閉じる際には通常と同じ
く圧力変動を生じ、パーティクルの発生が起こるが、メ
インバルブとサブバルブを充分離しておけばそのパーテ
ィクルが供給ライン側に影響を及ぼすことはない。
【００１４】さらに、サブバルブの開閉の動作に要する
時間をメインバルブに比べて長くすることにより、バル
ブ開閉に伴う圧力変動を十分小さくすることができ、こ
の変動に伴って配管系から発生するパーティクルの発生
を抑制できる。
時間をメインバルブに比べて長くすることにより、バル
ブ開閉に伴う圧力変動を十分小さくすることができ、こ
の変動に伴って配管系から発生するパーティクルの発生
を抑制できる。
【００１５】上記の動作時に分岐ラインに流す液は捨て
ることとなるが、サブバルブが開状態になっている時間
は数秒程度であり、また、分岐ラインへ流す流量は必ず
しも供給ライン側と同量である必要はなく減らすことも
可能であるので捨てる液はわずかで済む。
ることとなるが、サブバルブが開状態になっている時間
は数秒程度であり、また、分岐ラインへ流す流量は必ず
しも供給ライン側と同量である必要はなく減らすことも
可能であるので捨てる液はわずかで済む。
【００１６】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明の効果を示す
が、本発明がこの実施例に限定されることはない。
が、本発明がこの実施例に限定されることはない。
【００１７】本実施例においては、図２に示す実験系を
用いて本発明の効果を調べた。図２において、超純水ラ
イン２０１には、流量計２０２、テストバルブ（メイン
バルブ）２０３が配設されるとともに、サブバルブ２０
４を配した分岐ライン２０９が接続されている。
用いて本発明の効果を調べた。図２において、超純水ラ
イン２０１には、流量計２０２、テストバルブ（メイン
バルブ）２０３が配設されるとともに、サブバルブ２０
４を配した分岐ライン２０９が接続されている。
【００１８】超純水ラインに１Ｌ／ｍｉｎの超純水を流
し、テストバルブを通った超純水は石英ビーカ２０５で
圧力を逃がした後、シリンジ２０７で液中パーティクル
モニタ２０６に導入して液中のパーティクル個数を測定
した。さらに、バルブの前にかかる圧力変動を圧力計２
０８で測定した。
し、テストバルブを通った超純水は石英ビーカ２０５で
圧力を逃がした後、シリンジ２０７で液中パーティクル
モニタ２０６に導入して液中のパーティクル個数を測定
した。さらに、バルブの前にかかる圧力変動を圧力計２
０８で測定した。
【００１９】以下の手順で、サブバルブを使用した場合
と使用しない場合の、圧力変動と液中パーティクル個数
を測定した。
と使用しない場合の、圧力変動と液中パーティクル個数
を測定した。
【００２０】1)テストバルブを実験系に取り付け、流量
を１Ｌ／ｍｉｎにあわせる。 2)洗浄済みの石英ビーカにテストバルブからの超純水を
オーバーフローさせる。 3)液中パーティクルモニタによりビーカー内の超純水を
測定し、試験系のパーティクルレベルがバックグラウシ
ドレベルになるまでフラッシングをおこなう。 4)バルブ開閉を２分間３０回おこなう（開２秒、閉２秒
で１回）。この際、サブバルブを使用する場合はテスト
バルブ開のときサブバルブ閉、テストバルブ閉のときサ
ブバルブ開とする。 5)バルブ開閉動作終了後、ビーカ内の超純水を測定す
る。
を１Ｌ／ｍｉｎにあわせる。 2)洗浄済みの石英ビーカにテストバルブからの超純水を
オーバーフローさせる。 3)液中パーティクルモニタによりビーカー内の超純水を
測定し、試験系のパーティクルレベルがバックグラウシ
ドレベルになるまでフラッシングをおこなう。 4)バルブ開閉を２分間３０回おこなう（開２秒、閉２秒
で１回）。この際、サブバルブを使用する場合はテスト
バルブ開のときサブバルブ閉、テストバルブ閉のときサ
ブバルブ開とする。 5)バルブ開閉動作終了後、ビーカ内の超純水を測定す
る。
【００２１】試験結果を表２に示す。
【００２２】
【表２】
【００２３】表２に示すように単純に２つのバルブを切
り替えて使用するだけでもパーティクルの発生は１／１
０以下に抑えることが出来る。さらに、バルブ開閉のタ
イミングやサブバルブに流す流量を制御することによ
り、パーティクル個数を抑制することも可能である。
り替えて使用するだけでもパーティクルの発生は１／１
０以下に抑えることが出来る。さらに、バルブ開閉のタ
イミングやサブバルブに流す流量を制御することによ
り、パーティクル個数を抑制することも可能である。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄用ノズルへの洗浄
液の供給・停止のためにバルブを開閉する際に生じる急
激な圧力変動を緩和することができ、その結果、圧力変
動に伴い発生するパーティクルの発生を防止し、高清浄
な洗浄が可能となる。
液の供給・停止のためにバルブを開閉する際に生じる急
激な圧力変動を緩和することができ、その結果、圧力変
動に伴い発生するパーティクルの発生を防止し、高清浄
な洗浄が可能となる。
【００２５】即ち、本発明を用いることにより、超高密
度集積回路やＬＣＤの製造に適した枚葉式洗浄装置を提
供することが可能となる。
度集積回路やＬＣＤの製造に適した枚葉式洗浄装置を提
供することが可能となる。
【図１】本発明の洗浄液供給系の一例を示す模式図であ
る。
る。
【図２】本発明の効果を確認するために用いた実験系で
ある。
ある。
１０１ 超純水供給ライン、 １０２ メインバルブ、 １０３ 分岐点、 １０４ 分岐ライン、 １０５ サブバルブ、 １０６ バルブ制御系、 ２０１ 超純水ライン、 ２０２ 流量計、 ２０３ テストバルブ、 ２０４ サブバルブ、 ２０５ 石英ビーカ、 ２０６ 液中パーティクルモニタ、 ２０７ シリンジ、 ２０８ 圧力計、 ２０９ 分岐ライン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田代 浩一郎 東京都文京区本郷４丁目１番４号株式会社 ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所 内 (72)発明者 新田 雄久 東京都文京区本郷４丁目１番４号株式会社 ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所 内 (72)発明者 木村 美良 群馬県新田郡藪塚本町六千石東浦５株式会 社ベンカン群馬製作所内 (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ヶ袋２の１の17の 301
Claims (2)
- 【請求項１】 洗浄用ノズルに洗浄液を供給するための
洗浄液供給配管に分岐配管を設け、前記供給配管及び前
記分岐配管の当該分岐点の下流側にそれぞれメインバル
ブ及びサブバルブを設け、メインバルブの開閉により生
じる洗浄液の圧力変動を抑制するために前記メインバル
ブ及びサブバルブの開閉のタイミングを制御する手段を
設けたことを特徴とする洗浄液供給系。 - 【請求項２】 洗浄用ノズルに洗浄液を供給するための
洗浄液供給配管に分岐配管を設け、前記供給配管及び前
記分岐配管の当該分岐点の下流側にそれぞれメインバル
ブ及びサブバルブを設けた洗浄液供給系において、洗浄
液を前記洗浄用ノズルに供給するために前記メインバル
ブを開けるときは前もって前記サブバルブを開けた状態
としておき、前記洗浄用ノズルへの洗浄液の供給を停止
するため前記メインバルブを閉じるときは前もって前記
サブバルブを開の状態としておくことを特徴とする洗浄
液供給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15624197A JPH11627A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | 洗浄液供給系及び供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15624197A JPH11627A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | 洗浄液供給系及び供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11627A true JPH11627A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15623468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15624197A Pending JPH11627A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | 洗浄液供給系及び供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11627A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1170328A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Urutora Clean Technol Kaihatsu Kenkyusho:Kk | 薬液定量注入装置および方法 |
| JP2016063035A (ja) * | 2014-09-17 | 2016-04-25 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| WO2020209064A1 (ja) * | 2019-04-09 | 2020-10-15 | 株式会社荏原製作所 | 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置 |
-
1997
- 1997-06-13 JP JP15624197A patent/JPH11627A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1170328A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Urutora Clean Technol Kaihatsu Kenkyusho:Kk | 薬液定量注入装置および方法 |
| JP2016063035A (ja) * | 2014-09-17 | 2016-04-25 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| WO2020209064A1 (ja) * | 2019-04-09 | 2020-10-15 | 株式会社荏原製作所 | 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050303 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050315 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050516 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051018 |