CN107111035B - 偏振膜的制造方法和偏振膜 - Google Patents
偏振膜的制造方法和偏振膜 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107111035B CN107111035B CN201580067338.1A CN201580067338A CN107111035B CN 107111035 B CN107111035 B CN 107111035B CN 201580067338 A CN201580067338 A CN 201580067338A CN 107111035 B CN107111035 B CN 107111035B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film
- temperature
- treatment
- polarizing film
- polarizing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims abstract description 78
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims abstract description 75
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 65
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 58
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 45
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 26
- 206010042674 Swelling Diseases 0.000 description 23
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 14
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 14
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 13
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 10
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 6
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L zinc iodide Chemical compound I[Zn]I UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N alpha-ketodiacetal Natural products O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003705 background correction Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 244000248349 Citrus limon Species 0.000 description 1
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000012223 aqueous fraction Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- XKNUVBQTZXGYHL-UHFFFAOYSA-N chembl1092449 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC2=CC(NC(=O)NC=3C=C4C=C(C(N=NC=5C=CC=CC=5)=C(O)C4=CC=3)S(O)(=O)=O)=CC=C2C(O)=C1N=NC1=CC=CC=C1 XKNUVBQTZXGYHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L congo red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(/N=N/C3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)/N=N/C3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- ACPKAJPNUOBWGE-UHFFFAOYSA-L disodium 4-hydroxy-3-[[4-[4-[(1-hydroxy-4-sulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]naphthalene-1-sulfonate Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S(=O)(=O)O)[O-])OC)N=NC5=C(C6=CC=CC=C6C(=C5)S(=O)(=O)O)[O-].[Na+].[Na+] ACPKAJPNUOBWGE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 235000012736 patent blue V Nutrition 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005629 polypropylene homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- OLSOUGWNONTDCK-UHFFFAOYSA-J tetrasodium 5-amino-3-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-3,6-disulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]-4-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=CC=C(C=C3OC)C=3C=C(C(=CC=3)N=NC=3C(=CC4=CC(=CC(N)=C4C=3O)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)OC)=C(O)C2=C1N OLSOUGWNONTDCK-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明提供一种偏振膜的制造方法,其包含:将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的染色工序;将染色工序后的膜用交联剂处理的交联工序;以及将交联工序后的并且处于湿润状态的膜放置在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的气氛下的高温高湿处理工序,本发明提供一种偏振膜,其是二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜而得的偏振膜,且该偏振膜具有特定的取向度(%);以及含有该偏振膜的偏振板。
Description
技术领域
本发明涉及可以作为偏振板的构成构件来使用的偏振膜的制造方法。此外,本发明涉及偏振膜和含有该偏振膜的偏振板。
背景技术
对于偏振膜来说,以往使用使碘、二色性染料之类的二色性色素在单轴拉伸后的聚乙烯醇系树脂膜上吸附并取向而得的偏振膜。通常,偏振膜如下地制造:依次实施将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的染色处理、以及用交联剂进行处理的交联处理,并且在制造工序之间实施单轴拉伸处理,从而制作出偏振膜〔例如,日本特开平7-325218号公报(专利文献1)〕。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平7-325218号公报
发明内容
发明要解决的课题
偏振膜用于以液晶显示装置为代表的图像显示装置。偏振膜通常在其单面或两面贴合保护膜而形成偏振板,然后被组装到图像显示装置中。例如,液晶显示装置搭载有在作为图像显示元件的液晶单元的两面贴合偏振板而成的液晶面板。
近年日益要求偏振板的薄型化,偏振板在为薄型的情况下特别容易在高温环境下和高湿环境下产生翘曲(弯曲)。当将产生了翘曲的偏振板贴合于液晶单元而构建液晶面板时,某些情况下液晶面板也产生翘曲。担心液晶面板的翘曲对液晶显示装置的辨识性产生不良影响。
对于抑制偏振板的翘曲、进而抑制液晶面板的翘曲而言,降低偏振板中使用的偏振膜在吸收轴方向上的收缩力(以下也称为“MD收缩力”。是有效的。作为降低MD收缩力的方法,可以列举制造偏振膜时降低拉伸倍率的方法,但该方法会导致偏振膜的光学特性(例如,偏振度)变得不充分。
本发明的目的在于,提供用于制造具有良好的光学特性且MD收缩力小的偏振膜的方法。此外,本发明的另一目的在于,提供具有良好的光学特性且MD收缩力小的偏振膜、以及含有该偏振膜的偏振板。
用于解决课题的手段
本发明提供以下所示的偏振膜的制造方法、偏振膜和偏振板。
[1]一种偏振膜的制造方法,其包含:
将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的染色工序;
将染色工序后的膜用交联剂处理的交联工序;以及
将交联工序后的并且处于湿润状态的膜放置在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的气氛下的高温高湿处理工序。
[2]根据[1]所述的制造方法,其还包含使用含有水的洗涤液对前述交联工序后的膜进行洗涤的洗涤工序,
前述高温高湿处理工序对前述洗涤工序后的并且处于湿润状态的膜来实施。
[3]根据[1]或[2]所述的制造方法,其中,前述高温高湿处理工序的处理时间为5秒~60分钟。
[4]根据[1]~[3]中任一项所述的制造方法,其中,通过前述高温高湿处理工序来降低膜的水分率。
[5]根据[4]所述的制造方法,其中,在前述高温高湿处理工序前后,膜的水分率之差小于15重量%。
[6]一种偏振膜,其为二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜而得的偏振膜,
前述偏振膜的厚度为20μm以上时,基于通过广角X射线衍射测定而得到的方位角分布曲线,由下述式求出的取向度为71%以下,前述偏振膜的厚度为10μm以上且小于20μm时,基于通过广角X射线衍射测定而得到的方位角分布曲线,由下述式求出的取向度为74.0%。
取向度(%)=(360-W)/360
〔式中,W为:在将所述方位角分布曲线的峰整体的积分值设为100%时,对所有的峰求出积分值达到50%的峰全宽,此时的这些峰全宽之和。〕
[7]一种偏振板,其含有[6]所述的偏振膜和层叠于其至少一个面的保护膜。
发明的效果
根据本发明,可以提供具有良好的光学特性且MD收缩力小的偏振膜、以及其制造方法。使用了本发明的偏振膜的偏振板和液晶面板在高温环境下或高湿环境下不易产生翘曲。
附图说明
图1为示出本发明的偏振膜的制造方法的一例的流程图。
图2为示出背景校正后的方位角分布曲线的一例的图。
具体实施方式
<偏振膜的制造方法>
参照图1,本发明的偏振膜的制造方法包含以下工序:
将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的染色工序S20;
将染色工序后的膜用交联剂处理的交联工序S30;以及
将交联工序后的并且处于湿润状态的膜放置在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的气氛下的高温高湿处理工序S50。
本发明的偏振膜的制造方法可以进一步含有除上述以外的其它工序,其具体例子如图1所示,为在染色工序S20前进行的溶胀工序S10、和在交联工序S30后进行的洗涤工序S40。此外,聚乙烯醇系树脂膜可以在偏振膜制造工序中的任意1个以上的阶段、更具体来说在从溶胀工序S10前至交联工序S30中的任意1个以上的阶段进行单轴拉伸处理(拉伸工序)。
本发明的制造方法中包含的各种处理工序可以通过沿着偏振膜制造装置的膜搬送路径连续地搬送作为卷料原膜的聚乙烯醇系树脂膜来连续地实施。膜搬送路径中按照这些工序的实施顺序而具备用于实施上述各种处理工序的设备(处理浴、炉等)。处理浴是指溶胀浴、染色浴、交联浴、洗涤浴之类的收容对聚乙烯醇系树脂膜实施处理的处理液的浴。
除了上述设备以外,还可以通过在适当位置配置导辊、夹辊等而构建膜搬送路径。例如,导辊可以配置在各处理浴的前后、处理浴中,由此可以进行膜向处理浴中的导入、浸渍和从处理浴中的拉出。更具体而言,通过在各处理浴中设置2个以上导辊,并沿着这些导辊搬送膜,从而可以使膜浸渍在各处理浴中。
作为构成作为卷料原膜的聚乙烯醇系树脂膜的聚乙烯醇系树脂,可以使用对聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化而得的树脂。作为聚乙酸乙烯酯系树脂,除了作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外,还可以例示乙酸乙烯酯与能够和其共聚的其它单体的共聚物。作为能够和乙酸乙烯酯共聚的其它单体,可以列举例如:不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的(甲基)丙烯酰胺类等。聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为约85摩尔%以上、优选约90摩尔%以上、更优选约99摩尔%以上。本说明书中,“(甲基)丙烯*”是指选自丙烯*和甲基丙烯*中的至少一方。“(甲基)丙烯酰”也同样。
聚乙烯醇系树脂可以经过了改性,例如也可以使用利用醛类改性而得的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丁醛等。
聚乙烯醇系树脂的平均聚合度优选100~10000,更优选1500~8000,进一步优选2000~5000。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度可以基于JIS K 6726(1994)来求出。平均聚合度小于100时,难以得到优选的偏振性能,超过10000时,有时膜加工性差。
聚乙烯醇系树脂膜的厚度为例如10~150μm左右,从偏振膜的薄型化的观点出发,优选100μm以下、更优选70μm以下、进一步优选50μm以下,更进一步优选40μm以下。
作为卷料原膜的聚乙烯醇系树脂膜例如可以以长条的未拉伸聚乙烯醇系树脂膜的卷(卷绕品)的形式来准备。这种情况下,偏振膜也以长条物的形式而得到。以下,对各工序进行详细说明。
(1)溶胀工序S10
本工序中的溶胀处理是出于作为卷料原膜的聚乙烯醇系树脂膜的异物除去、增塑剂除去、易染色性的赋予、膜的塑化等目的而根据需要实施的处理,具体而言,可以为在含有水的溶胀浴中浸渍聚乙烯醇系树脂膜的处理。该膜可以在1个溶胀浴中进行浸渍,也可以在2个以上的溶胀浴中依次进行浸渍。溶胀处理前、溶胀处理时、或者溶胀处理前和溶胀处理时可以对膜进行单轴拉伸处理。
溶胀浴可以为水(例如纯水),此外,也可以是添加有醇类之类的水溶性有机溶剂的水溶液。
浸渍膜时的溶胀浴的温度通常为10~70℃左右、优选15~50℃左右,膜的浸渍时间通常为10~600秒左右、优选20~300秒左右。
(2)染色工序S20
本工序中的染色处理是出于使二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜的目的而进行的处理,具体而言,可以为在含有二色性色素的染色浴中浸渍聚乙烯醇系树脂膜的处理。该膜可以在1个染色浴中进行浸渍,也可以依次在2个以上染色浴中进行浸渍。为了提高二色性色素的染色性,供于染色工序的膜可以至少被实施了某种程度的单轴拉伸处理。可以在染色处理时进行单轴拉伸处理来代替染色处理前的单轴拉伸处理,或者在染色处理前的单轴拉伸处理的基础上,在染色处理时也进行单轴拉伸处理。
二色性色素可以是碘或二色性有机染料。二色性有机染料的具体例子包括:红色BR、红色LR、红色R、粉红色LB、品红BL、枣红GS、天蓝LG、柠檬黄、蓝色BR、蓝色2R、海蓝RY、绿色LG、紫色LB、紫色B、黑色H、黑色B、黑色GSP、黄色3G、黄色R、橙色LR、橙色3R、猩红GL、猩红KGL、刚果红、亮紫BK、直接蓝G、直接蓝GL、直接橙GL、直接天蓝、直接耐晒橙S、耐晒黑。二色性色素可以仅单独使用1种,也可以将2种以上组合使用。
在使用碘作为二色性色素的情况下,染色浴中可以使用含有碘和碘化钾的水溶液。可以使用碘化锌等其它碘化物来代替碘化钾,还可以将碘化钾和其它碘化物组合使用。此外,还可以使碘化物以外的化合物、例如硼酸、氯化锌、氯化钴等共存。在添加硼酸的情况下,可通过含有碘这一点来与后述交联处理相区别。上述水溶液中的碘含量通常相对于水100重量份为0.01~1重量份左右。此外,碘化钾等碘化物的含量通常相对于水100重量份为0.5~20重量份左右。
浸渍膜时的染色浴的温度通常为10~45℃左右、优选10~40℃左右,更优选20~35℃左右,膜的浸渍时间通常为30~600秒左右、优选60~300秒左右。
在使用二色性有机染料作为二色性色素时,染色浴中可以使用含有二色性有机染料的水溶液。该水溶液中的二色性有机染料的含量通常相对于水100重量份为1×10-4~10重量份左右,优选1×10-3~1重量份左右。可以使染色助剂等共存于该染色浴,例如可以含有硫酸钠等无机盐、表面活性剂等。二色性有机染料可以仅单独使用1种,也可以将2种以上组合使用。浸渍膜时的染色浴的温度为例如20~80℃左右、优选30~70℃左右,膜的浸渍时间通常为30~600秒左右、优选60~300秒左右。
(3)交联工序S30
用交联剂对染色工序后的聚乙烯醇系树脂膜进行处理的交联处理是出于通过交联来进行耐水化、调整色调等目的而进行的处理,具体而言,可以是在含有交联剂的交联浴中浸渍染色工序后的膜的处理。该膜可以在1个交联浴中进行浸渍,也可以依次在2个以上交联浴中进行浸渍。交联处理时,可以进行单轴拉伸处理。
作为交联剂,可以列举硼酸、乙二醛、戊二醛等,优选使用硼酸。还可以将2种以上交联剂组合使用。交联浴中的硼酸的含量通常相对于水100重量份为0.1~15重量份左右,优选1~10重量份左右。在二色性色素为碘时,优选交联浴中除了硼酸以外还含有碘化物。交联浴中的碘化物的含量通常相对于水100重量份为0.1~15重量份左右,优选5~12重量份左右。作为碘化物,可以列举:碘化钾、碘化锌等。此外,还可以使碘化物以外的化合物、例如氯化锌、氯化钴、氯化锆、硫代硫酸钠、亚硫酸钾、硫酸钠等共存于交联浴。
浸渍膜时的交联浴的温度通常为50~85℃左右,优选50~70℃左右,膜的浸渍时间通常为10~600秒左右,优选20~300秒左右。
如上所述,在制造偏振膜时,聚乙烯醇系树脂膜可以在从溶胀工序S10前至交联工序S30中的任意1个或2个以上的阶段进行单轴拉伸处理(拉伸工序,图1)。从提高二色性色素的染色性的观点出发,供于染色工序的膜优选为至少实施了某种程度的单轴拉伸处理的膜,或者优选在染色处理时进行单轴拉伸处理来代替染色处理前的单轴拉伸处理、或在染色处理前的单轴拉伸处理的基础上在染色处理时也进行单轴拉伸处理。
单轴拉伸处理可以为在空气中进行拉伸的干式拉伸、在浴中进行拉伸的湿式拉伸中的任一种,也可以进行上述两种。单轴拉伸处理可以为在2个夹辊间设置圆周速度差而进行纵向单轴拉伸的辊间拉伸、热辊拉伸、拉幅机拉伸等,优选包含辊间拉伸。以卷料原膜为基准的拉伸倍率(在2个以上的阶段中进行拉伸处理时,为它们的累积拉伸倍率)为3~8倍左右。为了赋予良好的偏光特性,拉伸倍率优选设为4倍以上、更优选设为5倍以上。
(4)洗涤工序S40
本工序中的洗涤处理是出于除去附着在聚乙烯醇系树脂膜上的多余的交联剂、二色性色素等药剂的目的而根据需要实施的处理,是使用含有水的洗涤液来洗涤交联工序后的聚乙烯醇系树脂膜的处理。具体而言,可以是在洗涤浴(洗涤液)中浸渍交联工序后的聚乙烯醇系树脂膜的处理。该膜可以在1个洗涤浴中进行浸渍,也可以依次在2个以上洗涤浴中进行浸渍。或者,洗涤处理可以为对交联工序后的聚乙烯醇系树脂膜以喷淋的形式喷雾洗涤液的处理,还可以将上述浸渍和喷雾组合。
洗涤液可以为水(例如纯水),此外还可以是添加有醇类之类的水溶性有机溶剂的水溶液。洗涤液的温度可以为例如5~40℃左右。
洗涤工序S40是任选工序,是可以省略的,如后所述,也可以在高温高湿处理工序S50中进行洗涤处理(高温高湿处理可以兼作洗涤处理)。优选对进行了洗涤工序S40后的膜进行高温高湿处理工序S50。
(5)高温高湿处理工序S50
本工序中的高温高湿处理是将交联工序S30后或洗涤工序S40后的膜放置在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的气氛下的处理。通过实施高温高湿处理来抑制偏振膜的光学特性劣化,与进行绝对湿度小于40g/m3下的高温处理(干燥处理)来代替高温高湿处理的情况相比,可以减小其MD收缩力。可认为主要原因在于,不会扰乱二色性色素的取向性,且构成偏振膜的聚乙烯醇系树脂的分子链的取向性下降。
与此相对,如上述专利文献1中具体记载的方法那样,在洗涤工序后按照现有方法实施以往通常进行的绝对湿度小于40g/m3下的高温处理(干燥处理),然后实施高温高湿处理,在此情况下,出乎意料的是,MD收缩力不仅不降低反而会上升。
高温高湿处理对处于湿润状态的交联工序S30后或洗涤工序S40后的膜来实施。“处于湿润状态”是指:将交联工序S30后或洗涤工序S40后的高水分率的膜(不进行现有的绝对湿度小于40g/m3下的高温处理(干燥处理))直接供于高温高湿处理,更具体而言,是指膜的水分率为13重量%以上(优选15重量%以上)。膜的水分率通过后述实施例部分所述的方法来测定。
高温高湿处理可以是下述处理:将交联工序S30后或洗涤工序S40后的膜导入能够调节温度和湿度的炉(加热炉)、棚或室内的处理。除了导入炉(加热炉)、棚或室内的处理以外,还可以组合使用远红外线加热器、热辊等加热手段。高温高湿处理优选在洗涤工序S40后实施,也可以在规定的高温高湿气氛下喷雾洗涤液等即同时进行高温高湿处理和洗涤处理,此外,高温高湿处理还可以兼作洗涤处理,如通过在高温高湿气氛下放置而实质上进行膜的洗涤的情况等。
高温高湿处理的温度如上所述为40℃以上,从更有效地降低MD收缩力的观点出发,优选55℃以上、更优选60℃以上。此外,高温高湿处理的温度如上所述为100℃以下,从更有效地抑制光学特性的劣化的观点出发,优选90℃以下。
高温高湿处理中的绝对湿度如上所述为40g/m3以上,从更有效地降低MD收缩力的观点出发,优选75g/m3以上、更优选85g/m3以上、进一步优选100g/m3以上。另一方面,如果绝对湿度过高,则担心处理区域内发生结露、结露水污染膜,因此绝对湿度优选550g/m3以下、更优选400g/m3以下、进一步优选300g/m3以下、特别优选160g/m3以下。
从更有效地降低MD收缩力的观点出发,高温高湿处理的时间优选5秒以上,更优选10秒以上。此外,虽然该时间也取决于温度,但如果时间过长则担心光学特性劣化,因此优选60分钟以下,更优选30分钟以下,进一步优选10分钟以下,特别优选5分钟以下。
高温高湿处理可以为下述处理:将长条的聚乙烯醇系树脂膜沿着膜搬送路径搬送,连续导入上述炉等中并从其中通过的处理,从更有效地降低MD收缩力的观点出发,这样的高温高湿处理中的膜的张力优选50~1000N/m。从抑制膜产生褶皱的观点出发,膜张力更优选300N/m以上。
高温高湿处理还可以兼作对聚乙烯醇系树脂膜进行干燥的处理、即降低其水分率的处理,只要不采用极端的高温高湿条件,则通常同时进行干燥处理。由此,必须在高温高湿处理后另行实施干燥处理变得并非必须,因此与在绝对湿度小于40g/m3下的高温处理(干燥处理)后实施高温高湿处理的此前方法相比,在制造工艺的简化和效率化方面变得有利。
供于高温高湿处理的膜、即交联工序S30后或洗涤工序S40后的处于湿润状态的膜的水分率依存于膜的厚度,但通常为13~50重量%左右。高温高湿处理所导致的水分率的减低程度、即高温高湿处理前的水分率与高温高湿处理后的水分率之差(水分率差ΔS)还依存于膜的厚度,但为例如5~45重量%,优选8~35重量%。例如在卷料原膜的厚度为40μm左右以下时,水分率差ΔS可以小于15重量%。
高温高湿处理后的膜(高温高湿处理为最终工序时为偏振膜)的水分率也依存于膜的厚度,通常为5~30重量%,从此后的膜的搬送性的观点出发,优选6~15重量%。水分率过低时,搬送中膜容易破裂,此外水分率过高时,由于湿气释放而容易在膜端部产生卷曲。
大体上,膜越薄则水分越容易散逸,因此卷料原膜越薄则高温高湿处理前和高温高湿处理中水分率越容易下降。水分率过低时,膜的搬送性容易下降。因此,卷料原膜的厚度为40μm左右以下时,将高温高湿处理的温度设为较低,优选设为40~70℃。
经过以上的工序,可以得到使二色性色素吸附取向于单轴拉伸后的聚乙烯醇系树脂膜而得的偏振膜。偏振膜的厚度通常为5~40μm,优选30μm以下。根据由本发明得到的偏振膜,即使厚度为30μm以下、进而薄至25μm以下时,也由于MD收缩力小而可以有效地抑制制成偏振板、液晶面板时的翘曲。
例如为了调整水分率,可以在高温高湿处理工序S50后实施干燥处理(绝对湿度小于40g/m3下的高温处理)。但由于通过高温高湿处理工序S50也能调整水分率,因此该干燥处理是根据需要而进行的处理。
得到的偏振膜例如还可以直接搬送到此后的偏振板制作工序(在偏振膜的单面或两面贴合保护膜的工序)。
在1个实施方式中,本发明的偏振膜可以为使二色性色素吸附取向于单轴拉伸后的聚乙烯醇系树脂膜而得的膜,且在取向度(%)方面具有特征,所述取向度为:通过广角X射线衍射(WAXD:Wide Angle X-ray Diffraction)的透过法所测得的、表示构成偏振膜的聚乙烯醇系树脂在MD上的取向性。可推测:通过具有该特征,本实施方式的偏振膜可以显示出具有良好的光学特性且MD收缩力小的特性、效果。
具体而言,关于本实施方式的偏振膜,在其厚度为20μm以上时,上述取向度优选71%以下、更优选70%以下、进一步优选67%以下。在其厚度为20μm以上时,偏振膜的取向度通常为60%以上,优选65%以上。厚度为20μm以上的偏振膜的厚度通常为30μm以下、优选25μm以下,此外优选22μm以上。
关于本实施方式的偏振膜,在其厚度为10μm以上且小于20μm时,上述取向度优选74.0%以下、更优选73%以下、进一步优选72%以下。在其厚度为10μm以上且小于20μm时,偏振膜的取向度通常为65%以上,优选70%以上。厚度为10μm以上且小于20μm的偏振膜的厚度优选15μm以下,更优选13μm以下,此外优选11μm以上,更优选12μm以上。
关于本实施方式的偏振膜,在其厚度小于10μm时,上述取向度优选75%以下、更优选74%以下。在其厚度小于10μm时,偏振膜的取向度通常为70%以上。厚度小于10μm的偏振膜的厚度通常为3μm以上,优选7μm以上,此外优选9μm以下。
显示出如上所述的取向度的偏振膜可以通过上述本发明的偏振膜的制造方法来适当制造。在此所述的取向度通过后述实施例部分记载的方法来测定。
此外,在另一实施方式中,本发明的偏振膜可以为使二色性色素吸附取向于单轴拉伸后的聚乙烯醇系树脂膜而得的膜,并且在表示偏振膜的基于交联剂的交联状态的、波数775cm-1的吸收轴方向的拉曼散射光强度与透射轴方向的拉曼散射光强度之比(以下也称为“拉曼散射光强度比”。)这方面具有特征。可推测:通过具有该特征,本实施方式的偏振膜可以显示出具有良好的光学特性且MD收缩力小的特性、效果。
具体而言,本实施方式的偏振膜的上述拉曼散射光强度比优选0.86以上、更优选0.89以上。拉曼散射光强度比通常为1.00以下,优选0.95以下。
显示出如上所述的拉曼散射光强度比的偏振膜可以通过上述本发明的偏振膜的制造方法而适当制造。在此所述的拉曼散射光强度比通过后述实施例部分记载的方法来测定。
进而,在另一实施方式中,本发明的偏振膜为使二色性色素吸附取向于单轴拉伸后的聚乙烯醇系树脂膜而得的膜,并且,显示出上述范围内的取向度且显示上述范围内的拉曼散射光强度比。从具有良好的光学特性且减小MD收缩力的方面考虑,显示出上述范围内的取向度且显示出上述范围内的拉曼散射光强度比是有利的。
<偏振板>
可通过将保护膜经由粘接剂贴合(层叠)于如上述制造的、或显示上述取向度及上述拉曼散射光强度比中的至少一者的偏振膜的至少单面上而获得偏振板。作为保护膜,可以是含有如下物质的透明树脂膜,所述物质为:热塑性树脂、例如链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂;三乙酰纤维素、二乙酰纤维素之类的纤维素酯系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯之类的聚酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;聚甲基丙烯酸甲酯系树脂之类的(甲基)丙烯酸系树脂;或它们的混合物、共聚物等。
保护膜还可以为相位差膜、亮度提高膜之类的兼具光学功能的保护膜。例如,通过对包含上述材料的透明树脂膜进行拉伸(单轴拉伸或双轴拉伸等)、或在该膜上形成液晶层等,从而可以制成赋予了任意相位差值的相位差膜。
还可以在保护膜的与偏振膜相反侧的表面上形成硬涂层、防眩层、防反射层、抗静电层、防污层之类的表面处理层(涂布层)。
保护膜的厚度从偏振板的薄型化的观点出发优选较薄,但过薄时,强度下降,加工性差,因此优选5~150μm、更优选5~100μm、进一步优选10~50μm。
作为在偏振膜与保护膜的贴合中使用的粘接剂,可以列举:紫外线固化性粘接剂之类的活性能量射线固化性粘接剂、聚乙烯醇系树脂的水溶液、或其中配合有交联剂的水溶液、氨基甲酸酯系乳液粘接剂之类的水系粘接剂。在偏振膜的两面贴合保护膜的情况下,形成2个粘接剂层的粘接剂可以为同种也可以为异种。例如,在两面贴合保护膜的情况下,可以在一面使用水系粘接剂来贴合,而在另一面使用活性能量射线固化性粘接剂来贴合。紫外线固化型粘接剂可以为自由基聚合性的(甲基)丙烯酸系化合物与光自由基聚合引发剂的混合物、阳离子聚合性的环氧化合物与光阳离子聚合引发剂的混合物等。此外,可以将阳离子聚合性的环氧化合物与自由基聚合性的(甲基)丙烯酸系化合物组合使用,并组合使用光阳离子聚合引发剂和光自由基聚合引发剂作为引发剂。
在使用活性能量射线固化性粘接剂时,通过在贴合后照射活性能量射线而使粘接剂固化。活性能量射线的光源没有特别限定,优选在波长400nm以下具有发光分布的活性能量射线(紫外线),具体而言,优选使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。
为了提高偏振膜与保护膜的粘接性,可以在将偏振膜与保护膜贴合前,对偏振膜和/或保护膜的贴合面实施电晕处理、火焰处理、等离子体处理、紫外线照射处理、底涂剂涂布处理、皂化处理等表面处理。
如上所述,本发明的偏振板可以通过在作为单层膜的偏振膜上贴合保护膜而制作,但并不仅限于该方法,例如还可以通过日本特开2009-98653号公报记载的利用基材膜的方法来制作。后一种方法在得到具有薄膜的偏振膜(偏振片层)的偏振板的方面有利,例如可以包含下述工序。
树脂层形成工序,其在基材膜的至少一个面涂敷含有聚乙烯醇系树脂的涂敷液后进行干燥,从而形成聚乙烯醇系树脂层,从而得到层叠膜;
拉伸工序,其对层叠膜进行拉伸而得到拉伸膜;
染色工序,其利用二色性色素对拉伸膜的聚乙烯醇系树脂层进行染色,形成偏振片层(相当于偏振膜),从而得到偏振性层叠膜;
第1贴合工序,其在偏振性层叠膜的偏振片层上利用粘接剂来贴合保护膜,从而得到贴合膜;
剥离工序,其从贴合膜中剥离除去基材膜,从而得到单面带保护膜的偏振板。
在偏振片层(偏振膜)的两面层叠保护膜时,进一步包含第2贴合工序,其利用粘接剂在单面带保护膜的偏振板的偏振片面贴合保护膜。
在利用基材膜的上述方法中,可以使得到偏振性层叠膜的染色工序(例如,得到偏振性层叠膜的染色工序中的交联工序后或洗涤工序后)中包含高温高湿处理工序。上述偏振性层叠膜、单面带保护膜的偏振板、和经过第2贴合工序而得到的两面带保护膜的偏振板中含有的偏振膜或从这些中分离出的偏振膜也属于本发明的偏振膜,且优选显示出上述范围内的取向度和上述范围内的拉曼散射光强度比中的至少一者。
实施例
以下示出实施例对本发明进行更具体的说明,但本发明不受这些例子限定。
<实施例1>
一边将厚度60μm的长条的聚乙烯醇(PVA)卷料原膜〔可乐丽株式会社制,商品名“KURARAY POVAL FILM VF-PE#6000”、平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔%以上〕从辊卷出一边连续搬送,使其在30℃的包含纯水的溶胀浴中以停留时间81秒进行浸渍(溶胀工序)。然后,将从溶胀浴中拉出的膜在碘化钾/水为2/100(重量比)的含碘的30℃的染色浴中以停留时间143秒进行浸渍(染色工序)。然后,将从染色浴中拉出的膜在碘化钾/硼酸/水为12/4.1/100(重量比)的56℃的交联浴中以停留时间67秒进行浸渍,然后,在碘化钾/硼酸/水为9/2.9/100(重量比)的40℃的交联浴中以停留时间11秒进行浸渍(交联工序)。在染色工序和交联工序中,通过浴中的辊间拉伸而进行了纵向单轴拉伸。以卷料原膜为基准的总拉伸倍率设为5.7倍。
然后,使从交联浴拉出的膜在5℃的包含纯水的洗涤浴中以停留时间3秒进行浸渍后(洗涤工序),接下来导入到能够调节湿度的第1加热炉中,从而以停留时间161秒进行高温高湿处理(高温高湿处理工序),得到厚度22.9μm、宽度207mm的偏振膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别设为80℃、88g/m3,高温高湿处理时的膜张力设为565N/m。在即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理)之前、进行第1加热炉导入后即刻的膜水分率分别为33.3重量%、7.9重量%,水分率差ΔS为25.4重量%。
<实施例2>
如表1所示那样改变第1加热炉内的温度和绝对湿度、以及用第1加热炉处理时的膜张力,除此以外,与实施例1同样制作厚度23.7μm、宽度200mm的偏振膜。
<比较例1>
如表1所示那样改变第1加热炉内的温度和绝对湿度、以及用第1加热炉处理时的膜张力,除此以外,与实施例1同样制作厚度23.2μm、宽度206mm的偏振膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别为76℃、8g/m3,第1加热炉中不进行高温高湿处理,而仅进行加热(干燥)处理。
<比较例2>
利用温度、绝对湿度分别为76℃、8g/m3的第1加热炉进行加热(干燥)处理后,进一步导入另一能调节湿度的第2加热炉中,从而以停留时间161秒进行高温高湿处理,除此以外,与比较例1同样制作厚度23.4μm、宽度208mm的偏振膜。第2加热炉内的温度、绝对湿度分别为80℃、88g/m3,第2加热炉内的高温高湿处理时的膜张力设为2N/m。
<比较例3>
如表1那样改变第2加热炉内的温度和绝对湿度,除此以外,与比较例2同样地制作厚度23.3μm、宽度207mm的偏振膜。
<实施例3>
一边将厚度30μm的长条的聚乙烯醇(PVA)卷料原膜〔可乐丽株式会社制的商品名“KURARAY POVAL FILM VF-PE#3000”、平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔%以上〕从辊卷出一边连续搬送,在20℃的包含纯水的溶胀浴中以停留时间31秒进行浸渍(溶胀工序)。然后,将从溶胀浴中拉出的膜在碘化钾/水为2/100(重量比)的含碘的30℃的染色浴中以停留时间122秒进行浸渍(染色工序)。然后,将从染色浴中拉出的膜在碘化钾/硼酸/水为12/4.1/100(重量比)的56℃的交联浴中以停留时间70秒进行浸渍,然后在碘化钾/硼酸/水为9/2.9/100(重量比)的40℃的交联浴中以停留时间13秒进行浸渍(交联工序)。在染色工序和交联工序中,通过浴中的辊间拉伸而进行了纵向单轴拉伸。以卷料原膜为基准的总拉伸倍率设为5.4倍。
然后,使从交联浴拉出的膜在5℃的包含纯水的洗涤浴中以停留时间3秒进行浸渍后(洗涤工序),接下来导入能够调节湿度的第1加热炉中,从而以停留时间190秒进行高温高湿处理(高温高湿处理工序),得到厚度12.1μm、宽度208mm的偏振膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别设为73℃、89g/m3,高温高湿处理时的膜张力设为601N/m。在即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理)之前、进行第1加热炉导入后即刻的膜的水分率分别为19.4重量%、8.0重量%,水分率差ΔS为11.4重量%。
<实施例4~8>
如表1那样改变第1加热炉内的温度和绝对湿度、以及用第1加热炉进行高温高湿处理时的膜张力,除此以外,与实施例3同样地制作偏振膜。
<比较例4>
如表1所示那样改变第1加热炉内的温度和绝对湿度、以及用第1加热炉处理时的膜张力,除此以外,与实施例3同样地制作厚度12.5μm、宽度203mm的偏振膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别为60℃、12g/m3,第1加热炉中不进行高温高湿处理,而仅进行加热(干燥)处理。
<比较例5>
利用温度、绝对湿度分别为59℃、10g/m3的第1加热炉进行加热(干燥)处理后,进一步导入到另一能够调节湿度的第2加热炉,由此以停留时间161秒进行高温高湿处理,并且如表1那样改变用第1加热炉处理时的膜张力,除此以外,与比较例4同样地制作厚度12.9μm、宽度204mm的偏振膜。第2加热炉内的温度、绝对湿度分别设为73℃、89g/m3,第2加热炉内的高温高湿处理时的膜张力设为1N/m。
将各实施例和比较例中的偏振膜的制造条件、即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理)之前、进行第1加热炉导入后即刻的膜的水分率、以及作为二者之差的水分率差ΔS汇总于表1。
需要说明的是,加热炉内的绝对湿度由炉内温度和相对湿度的测定值来算出。所得的偏振膜的厚度用尼康株式会社制的数字测微计“MH-15M”来测定。此外,膜(偏振膜)的水分率通过如下方法来求出。
预先使用水分率不同的多个偏振膜试样,将表示利用干燥重量法得到的水分率与红外线吸收式水分计(株式会社Fujiwork制的“IM 3SCVMODEL-1900L”)的测定值的相关性的标准曲线(换算式)如下式的 方式求出:
在使用厚度60μmPVA卷料原膜的偏振膜时,利用干燥重量法得到的水分率(重量%)=0.0600×(水分计测定值)-50.0252
在使用厚度30μmPVA卷料原膜的偏振膜时,利用干燥重量法得到的水分率(重量%)=0.0495×(水分计测定值)-38.8379。此时,将在105℃干燥2小时时的偏振膜的重量设为W1、将干燥前的偏振膜的重量设为W0时,利用干燥重量法得到的水分率基于下式来求出。
利用干燥重量法得到的水分率(重量%)={(W0-W1)÷W0}×100
表1记载的水分率如下得到:使用上述水分计得到测定值,将其代入上述标准曲线(换算式)而换算成利用干燥重量法得到的水分率(重量%)。通过从即将进行第1加热炉导入之前的水分率减去进行第1加热炉导入后即刻的水分率来算出水分率差ΔS。
〔偏振膜的评价〕
对于下述项目,测定各实施例和比较例中得到的偏振膜的特性。将结果示于表1。
(1)视感度修正单体透过率(Ty)和视感度修正偏振度(Py)
对于所获得的偏振膜,使用附有积分球的分光光度计[日本分光(株)制造的“V7100”]测定波长380~780nm的范围的MD透过率及TD透过率,基于下述式算出各波长下的单体透过率及偏振度:
单体透过率(%)=(MD+TD)/2
偏振度(%)={(MD-TD)/(MD+TD)}×100。
所谓“MD透过率”,为使从格兰-汤普生棱镜射出的偏振光的朝向与偏振膜试样的透射轴平行时的透过率,上述式中表示为“MD”。另外,所谓“TD透过率”,为使从格兰-汤普生棱镜射出的偏振光的朝向与偏振膜试样的透射轴正交时的透过率,上述式中表示为“TD”。关于所获得的单体透过率及偏振度,是根据JIS Z 8701:1999“色的表示方法-XYZ表色系及X10Y10Z10表色系”的2度视野(C光源)进行视感度修正,求出视感度修正单体透过率(Ty)及视感度修正偏振度(Py)。
(2)MD收缩力
从所获得的偏振膜切出将吸收轴方向(MD、拉伸方向)作为长边的宽2mm、长10mm的测定用试样。将该试样设置于SII Nano Technology(株)制造的热机械分析装置(TMA)“EXSTAR-6000”,将尺寸保持为固定不变,测定在80℃下保持4小时时产生的长边方向(吸收轴方向、MD)的收缩力(MD收缩力)。
(3)取向度
通过广角X射线衍射(WAXD:Wide Angle X-ray Diffraction)的通过法求出表示构成偏振膜的聚乙烯醇系树脂于MD上的取向性的“取向度”。首先,从所获得的偏振膜切出多片将吸收轴方向(MD、拉伸方向)作为长边的长方形的膜。将切出的膜以它们的MD(长边)成为平行的方式重叠多片并固定,将其作为测定用试样。测定用试样的厚度设为0.1mm左右。使用下述X射线衍射装置,从相对于测定用试样的表面垂直的方向,以下述X射线输出条件将X射线照射至测定用试样的一个表面,摄取利用透过法的衍射像。
X射线衍射装置:(株)Rigaku制造的“NANO-Viewer”、
X射线输出条件:Cu靶、40kV、20mA。
根据所获得的衍射像,关于衍射角度28=20°附近的峰,通过将2θ=19.5~20.5°的范围进行圆环积分,首先算出未修正方位角分布曲线(方位角度(β角度)-强度分布曲线)。所谓未修正方位角分布曲线,是指实施背景修正前的方位角分布曲线。接下来,从X射线的光轴上取下测定用试样,除此以外,以相同条件进行测定,算出方位角分布曲线的背景。进行透过率修正后,从上述未修正方位角分布曲线去除背景,获得背景修正后的方位角分布曲线(以下也简称为“方位角分布曲线”)。图2中示出背景修正后的方位角分布曲线的一例。该方位角分布曲线的峰为取向性峰,本测定中,将测定用试样的MD设置为铅垂方向,将出现于水平方向上的取向性峰的最大强度下的β角度设为0°。取向性峰的最大强度下的β角度(0°及180°)来自于取向于偏振膜的MD的成分。由得到的方位角分布曲线通过下述式求出取向度。
取向度(%)=(360-W)/360
W为:在将方位角分布曲线的峰整体的积分值设为100%时,对所有的取向性峰,求出积分值达到50%的峰全宽,此时的这些峰全宽之和。上述峰全宽中的中心位置(°)与峰显示最大强度的β角度(°)一致。
(4)拉曼散射光强度比
为了求出所获得的偏振膜的拉曼散射光强度比,除染色浴不含碘以外,以与各实施例及各比较例相同的方式制作分析用膜。确认所获得的偏振膜的拉曼散射光强度比与该分析用膜的拉曼散射光强度比相同。
关于所获得的分析用膜,使用日本分光(株)制造的激光拉曼分光光度计“NRS-5100”,根据下述式求出波数775cm-1下的吸收轴方向的拉曼散射光强度与透射轴方向的拉曼散射光强度的比(拉曼散射光强度比),将其作为所获得的偏振膜的拉曼散射光强度比:
拉曼散射光强度比=(波数775cm-1下的分析用膜的拉伸方向的拉曼散射光强度)/(波数775cm-1下的分析用膜的与拉伸方向正交的方向的拉曼散射光强度)。
此处,波数775cm-1下的分析用膜的拉伸方向的拉曼散射光强度是使激光以激光的偏振面与分析用膜的拉伸方向成为平行的方式从分析用膜表面垂直地入射,使检偏镜的偏振面与激光的偏振面成为平行而进行测定的。同样地,波数775cm-1下的分析用膜的与拉伸方向正交的方向的拉曼散射光强度是使激光以激光的偏振面与分析用膜的拉伸方向正交的方式从分析用膜表面垂直地入射,使检偏镜的偏振面与激光的偏振面成为平行而进行测定的。
用于上述拉曼光谱测定的条件如以下所述。
·激发波长:532nm、
·光栅:600l/mm、
·狭缝宽:100×1000μm、
·孔径:φ40μm、
·物镜:100倍。
[表1]
<实施例9>
一边将厚度20μm的长条的聚乙烯醇(PVA)卷料原膜〔可乐丽株式会社制的商品名“KURARAY POVAL FILM VF-PE#2000”、平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔%以上〕从辊卷出一边连续搬送,同时进行干式单轴拉伸至4.1倍,进而在保持着张紧状态的状态下在30℃的包含纯水的溶胀浴中以停留时间50秒进行浸渍(溶胀工序)。然后,将从溶胀浴中拉出的膜在碘化钾/水为5/100(重量比)的含碘的30℃的染色浴中以停留时间88秒进行浸渍(染色工序)。然后,将从染色浴中拉出的膜在碘化钾/硼酸/水为18/5.6/100(重量比)的65℃的交联浴中以停留时间115秒进行浸渍(交联工序)。染色工序和交联工序中,通过浴中的辊间拉伸来进一步进行纵向单轴拉伸。以卷料原膜为基准的总拉伸倍率设为4.3倍。
然后,将从交联浴拉出的膜在4℃的包含纯水的洗涤浴中以停留时间7秒进行浸渍后(洗涤工序),接下来导入能够调节湿度的第1加热炉中,从而以停留时间97秒进行高温高湿处理(高温高湿处理工序),得到厚度8.1μm、宽度216mm的偏振膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别设为71℃、135g/m3,高温高湿处理时的膜张力设为208N/m。即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理工序)之前、进行第1加热炉导入后即刻的膜的水分率分别为15.5重量%、9.7重量%,水分率差ΔS为5.8重量%。
<比较例6>
如表2所示那样改变第1加热炉内的温度和绝对湿度、以及用第1加热炉高温高湿处理时的膜张力,除此以外,与实施例9同样地制作偏振膜。
将实施例9和比较例6中的偏振膜的制造条件、即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理)之前、进行第1加热炉导入后即刻的膜的水分率、以及作为二者之差的水分率差ΔS汇总于表2。此外,对于上述项目,测定实施例9和比较例6的偏振膜的特性。将结果示于表2。
[表2]
<实施例10>
(1)基材膜的制作
使用多层挤出成型机,通过共挤出成型制作3层结构的基材膜,该基材膜在由含有约5重量%的乙烯单元的丙烯/乙烯无规共聚物(住友化学(株)制的商品名“SumitomoNoblen W151”、熔点Tm=138℃)构成的树脂层的两侧配置有由作为丙烯的均聚物的均聚聚丙烯(住友化学(株)制的商品名“Sumitomo Noblen FLX80E4”、熔点Tm=163℃)构成的树脂层。所得的基材膜的合计厚度为100μm,各层的厚度比(FLXS0E4/W151/FLX80E4)为3/4/3。
(2)底涂层形成用涂敷液的制备
将聚乙烯醇粉末(日本合成化学工业(株)制的商品名“Z-200”、平均聚合度1100、皂化度99.5摩尔%)溶解于95℃的热水,从而制备出度3重量%的聚乙烯醇水溶液。在得到的水溶液中,以相对于聚乙烯醇粉末2重量份为1重量份的比例混合交联剂(田冈化学工业(株)制的商品名“Sumirez Resin 650”),从而得到底涂层形成用涂敷液。
(3)聚乙烯醇系树脂层形成用涂敷液的制备
将聚乙烯醇粉末(可乐丽株式会社制的商品名“PVA124”、平均聚合度2400、平均皂化度98.0~99.0摩尔%)溶解于95℃的热水,从而制备出浓度8重量%的聚乙烯醇水溶液,将其作为聚乙烯醇系树脂层形成用涂敷液。
(4)聚乙烯醇系树脂层的形成
一边连续搬送上述(1)中制作的基材膜,一边对其一个面实施电晕处理,然后使用小径凹版涂布机在电晕处理后的面上连续涂敷上述(2)中制备的底涂层形成用涂敷液,在60℃干燥3分钟,从而形成厚度0.2μm的底涂层。接下来,一边搬送膜一边使用逗号涂布机在底涂层上连续涂敷上述(3)中制备的聚乙烯醇系树脂层形成用涂敷液,在90℃干燥4分钟,从而在底涂层上形成厚度9.5μm的聚乙烯醇系树脂层(以下称为“第1PVA层”。)。
接下来,在基材膜的与形成有第1PVA层的面相反侧的面上,与上述同样地形成厚度0.2μm的底涂层,在底涂层上涂敷聚乙烯醇系树脂层形成用涂敷液,在90℃下干燥4分钟,从而在底涂层上形成厚度9.4μm的聚乙烯醇系树脂层(以下称为“第2PVA层”。),得到两面具有PVA层的层叠膜。
(5)拉伸膜的制作
一边连续搬送上述(4)中制作的层叠膜,一边通过夹辊间的拉伸方法在拉伸温度160℃下沿着纵向(膜搬送方向)以5.3倍的倍率进行单轴拉伸,从而得到拉伸膜。拉伸膜中,第1PVA层的厚度变为5.0μm,第2PVA层的厚度变为4.9μm。
(6)包含偏振膜(偏振片层)的偏振性层叠膜的制作
将上述(5)中制作的拉伸膜在碘化钾/水为7.5/100(重量比)的含碘的30℃的染色浴中以停留时间230秒进行浸渍(染色工序)。然后,将从染色浴中拉出的膜在碘化钾/硼酸/水为10/9.5/100(重量比)的78℃的交联浴中以停留时间240秒进行浸渍,然后,在碘化钾/硼酸/水为4.5/5.0/100(重量比)的70℃的交联浴中以停留时间77秒进行浸渍(交联工序)。
然后,将从交联浴拉出的膜在4℃的包含纯水的洗涤浴中以停留时间22秒进行浸渍后(洗涤工序),接下来导入能够调节湿度的第1加热炉中,从而以停留时间276秒进行高温高湿处理(高温高湿处理工序),得到包含由上述第2PVA层形成的厚度5.3μm、宽度210mm的偏振膜(偏振片层)的偏振性层叠膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别设为80℃、117g/m3,高温高湿处理时的膜张力设为1290N/m。即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理)之前、进行第1加热炉导入后即刻的膜的水分率分别为18.2重量%、10.7重量%,水分率差ΔS为7.5重量%。
<比较例7>
如表3所示那样改变第1加热炉内的温度和绝对湿度、以及用第1加热炉处理时的膜张力,除此以外,与实施例10同样地制作包含厚度5.3μm、宽度210mm的偏振膜(偏振片层)的偏振性层叠膜。第1加热炉内的温度、绝对湿度分别设为65℃、8g/m3,第1加热炉中不进行高温高湿处理,而仅进行加热(干燥)处理。
将实施例10和比较例7中的偏振性层叠膜的制造条件、即将进行第1加热炉导入(高温高湿处理)之前、进行第1加热炉导入后即刻的偏振膜的水分率、以及作为二者之差的水分率差ΔS汇总于表3。此外,对于上述项目(除取向度外。),测定实施例10和比较例7中的偏振膜的特性。将结果示于表3。需要说明的是,在使用带积分球的分光光度计〔日本分光(株)制的“V7100”〕测定Ty和Py时,从得到的偏振性层叠膜中剥离除去由第1PVA层形成的偏振膜,将由此所得的层叠膜用作测定样品。此时,从偏振膜(由第2PVA层形成的偏振膜)侧入射光而进行测定。此外,关于MD收缩力,从所得的偏振性层叠膜中仅取出由第2PVA层形成的偏振膜,并将其作为测定样品。
[表3]
Claims (8)
1.一种偏振膜的制造方法,其为二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜而得的偏振膜的制造方法,
对于所述偏振膜,所述偏振膜的厚度为20μm以上时,基于通过广角X射线衍射测定而得到的方位角分布曲线,由下述式求出的取向度为71%以下,所述偏振膜的厚度为10μm以上且小于20μm时,基于通过广角X射线衍射测定而得到的方位角分布曲线,由下述式求出的取向度为74.0%以下,
取向度(%)=(360-W)/360
式中,W为:在将所述方位角分布曲线的峰整体的积分值设为100%时,对所有的峰求出积分值达到50%的峰全宽,此时的这些峰全宽之和,
所述偏振膜的制造方法包含:
将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的染色工序;
将染色工序后的膜用交联剂处理的交联工序;以及
将交联工序后的并且处于湿润状态的膜放置在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的气氛下的高温高湿处理工序。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其还包含用含有水的洗涤液对所述交联工序后的膜进行洗涤的洗涤工序,并且
所述高温高湿处理工序对所述洗涤工序后的并且处于湿润状态的膜实施。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,所述高温高湿处理工序的处理时间为5秒~60分钟。
4.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,通过所述高温高湿处理工序来降低膜的水分率。
5.根据权利要求3所述的制造方法,其中,通过所述高温高湿处理工序来降低膜的水分率。
6.根据权利要求4所述的制造方法,其中,在所述高温高湿处理工序前后,膜的水分率之差小于15重量%。
7.根据权利要求5所述的制造方法,其中,在所述高温高湿处理工序前后,膜的水分率之差小于15重量%。
8.一种偏振板的制造方法,其包含:
在通过权利要求1~7所述的偏振膜的制造方法制造而得的偏振膜的至少一个面层叠保护膜的工序。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014251791 | 2014-12-12 | ||
JP2014-251791 | 2014-12-12 | ||
PCT/JP2015/084534 WO2016093278A1 (ja) | 2014-12-12 | 2015-12-09 | 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107111035A CN107111035A (zh) | 2017-08-29 |
CN107111035B true CN107111035B (zh) | 2020-05-29 |
Family
ID=56107456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201580067338.1A Active CN107111035B (zh) | 2014-12-12 | 2015-12-09 | 偏振膜的制造方法和偏振膜 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6346307B2 (zh) |
KR (1) | KR102645999B1 (zh) |
CN (1) | CN107111035B (zh) |
TW (1) | TWI684032B (zh) |
WO (1) | WO2016093278A1 (zh) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101819414B1 (ko) * | 2016-08-10 | 2018-01-16 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광 필름 |
KR102512665B1 (ko) * | 2016-08-18 | 2023-03-21 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광 필름의 제조 방법 및 제조 장치 |
KR102535102B1 (ko) * | 2016-08-18 | 2023-05-19 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광 필름의 제조 방법 및 제조 장치 |
JP2019066747A (ja) * | 2017-10-03 | 2019-04-25 | 日本合成化学工業株式会社 | 偏光フィルムの製造方法 |
JP6535406B1 (ja) * | 2018-08-27 | 2019-06-26 | 日東電工株式会社 | 延伸樹脂膜の製造方法、偏光子の製造方法、延伸樹脂膜の水分率を測定する方法、および延伸樹脂膜の製造装置 |
JP6535799B1 (ja) * | 2018-08-27 | 2019-06-26 | 日東電工株式会社 | 延伸樹脂膜の製造方法、偏光子の製造方法、および延伸樹脂膜の製造装置 |
KR102235481B1 (ko) * | 2018-10-17 | 2021-04-02 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
WO2020080859A1 (ko) * | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
JP7382974B2 (ja) * | 2019-02-08 | 2023-11-17 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 |
WO2020175242A1 (ja) * | 2019-02-26 | 2020-09-03 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 |
WO2020242117A1 (ko) * | 2019-05-28 | 2020-12-03 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
JP7246477B2 (ja) * | 2019-06-19 | 2023-03-27 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 |
JP7397605B2 (ja) * | 2019-09-12 | 2023-12-13 | 住友化学株式会社 | 偏光板の製造方法 |
CN114502995A (zh) * | 2019-09-30 | 2022-05-13 | 日东电工株式会社 | 带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置 |
TWI727746B (zh) * | 2020-04-17 | 2021-05-11 | 住華科技股份有限公司 | 用於製造偏光膜的系統、製造偏光膜的方法及由其製造的偏光膜 |
JP7475403B2 (ja) * | 2021-09-13 | 2024-04-26 | 住友化学株式会社 | 偏光フィルム及び偏光板 |
TW202328306A (zh) * | 2021-09-13 | 2023-07-16 | 日商住友化學股份有限公司 | 偏光膜及偏光板 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07325218A (ja) * | 1994-04-08 | 1995-12-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光フィルムの製造方法 |
JP2001100038A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ディスコティック色素液晶膜からなる偏光シート |
CN1867637A (zh) * | 2003-10-14 | 2006-11-22 | 三菱化学株式会社 | 各向异性染料膜用染料、各向异性染料膜用染料组合物、各向异性染料膜和偏振元件 |
JP2010169870A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Sony Corp | 偏光フィルムの製造方法、および該製造方法を用いた偏光板の製造方法 |
CN102890301A (zh) * | 2011-07-20 | 2013-01-23 | 富士胶片株式会社 | 偏振片及液晶显示装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01260402A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-17 | Sumitomo Chem Co Ltd | 染料系偏光膜 |
JPH07134210A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-05-23 | Kurabo Ind Ltd | 偏光フィルムの製法 |
JP3446302B2 (ja) * | 1994-05-31 | 2003-09-16 | 住友化学工業株式会社 | 偏光フィルムの製造方法 |
JP3315914B2 (ja) * | 1997-12-18 | 2002-08-19 | 日本合成化学工業株式会社 | 偏光フィルムおよびそれを用いた偏光板 |
JP4593827B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2010-12-08 | 西工業株式会社 | 偏光フィルムの製造方法及び製造装置 |
CN100473519C (zh) * | 2001-11-07 | 2009-04-01 | 富士胶片株式会社 | 起偏振片、其制备方法和使用这种起偏振片的液晶显示器 |
JP2003227927A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光膜、偏光板、偏光膜の製造方法、および液晶表示装置 |
JP2004279931A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板およびその製造方法 |
JP2005049779A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板および液晶表示装置 |
JP4433462B2 (ja) * | 2004-05-12 | 2010-03-17 | 株式会社クラレ | ポリビニルアルコール系重合体フィルムおよびその製造方法 |
JP2009073960A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学用フィルム |
JP5399082B2 (ja) * | 2008-01-17 | 2014-01-29 | 日東電工株式会社 | 偏光板および偏光板を用いた画像表示装置 |
JP2009198666A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Fujifilm Corp | 偏光板の製造方法、偏光板およびそれを用いた液晶表示装置 |
CN102349170B (zh) * | 2009-03-13 | 2015-04-08 | 三井化学株式会社 | 高分子压电材料及其制造方法以及压电元件 |
JP5563413B2 (ja) * | 2010-09-07 | 2014-07-30 | 日東電工株式会社 | 薄型偏光膜の製造方法 |
US10160173B2 (en) * | 2010-09-09 | 2018-12-25 | Nitto Denko Corporation | Method of producing thin polarizing film involving in-air stretching, underwater stretching, and stretching while drying |
JP5782297B2 (ja) * | 2010-09-09 | 2015-09-24 | 日東電工株式会社 | 薄型偏光膜の製造方法 |
JP5722255B2 (ja) * | 2012-02-28 | 2015-05-20 | 住友化学株式会社 | 偏光板の製造方法 |
JP6071459B2 (ja) * | 2012-11-19 | 2017-02-01 | 日東電工株式会社 | 偏光板および画像表示装置、ならびにそれらの製造方法 |
JP6000103B2 (ja) * | 2012-12-13 | 2016-09-28 | 日東電工株式会社 | 偏光板の製造方法 |
KR20140090430A (ko) * | 2013-01-09 | 2014-07-17 | 동우 화인켐 주식회사 | 빛샘 현상이 개선된 편광판 |
-
2015
- 2015-12-09 WO PCT/JP2015/084534 patent/WO2016093278A1/ja active Application Filing
- 2015-12-09 JP JP2016563715A patent/JP6346307B2/ja active Active
- 2015-12-09 KR KR1020177018648A patent/KR102645999B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-09 CN CN201580067338.1A patent/CN107111035B/zh active Active
- 2015-12-11 TW TW104141819A patent/TWI684032B/zh active
-
2017
- 2017-08-29 JP JP2017164284A patent/JP2017219861A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07325218A (ja) * | 1994-04-08 | 1995-12-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光フィルムの製造方法 |
JP2001100038A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ディスコティック色素液晶膜からなる偏光シート |
CN1867637A (zh) * | 2003-10-14 | 2006-11-22 | 三菱化学株式会社 | 各向异性染料膜用染料、各向异性染料膜用染料组合物、各向异性染料膜和偏振元件 |
JP2010169870A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Sony Corp | 偏光フィルムの製造方法、および該製造方法を用いた偏光板の製造方法 |
CN102890301A (zh) * | 2011-07-20 | 2013-01-23 | 富士胶片株式会社 | 偏振片及液晶显示装置 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
"Polarization and structural properties of high-energy electron irradiated polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer films";Vivek Bharti;《Journal of Applied Physics》;20000101;第87卷(第1期);第452-461页 * |
"基于定向电纺纤维膜的可调制偏振片的制备";韩国志;《高等学校化学学报》;20090131;第30卷(第1期);第185-190页 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017219861A (ja) | 2017-12-14 |
JP6346307B2 (ja) | 2018-06-20 |
WO2016093278A1 (ja) | 2016-06-16 |
TWI684032B (zh) | 2020-02-01 |
TW201629543A (zh) | 2016-08-16 |
CN107111035A (zh) | 2017-08-29 |
KR102645999B1 (ko) | 2024-03-08 |
JPWO2016093278A1 (ja) | 2017-09-21 |
KR20170095924A (ko) | 2017-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107111035B (zh) | 偏振膜的制造方法和偏振膜 | |
CN107003464B (zh) | 偏振膜的制造方法及偏振膜 | |
TWI704369B (zh) | 偏光膜之製造方法 | |
US11137530B2 (en) | Wide-band wavelength film, method for producing same, and method for producing circular polarization film | |
CN111103648B (zh) | 偏振片及其制造方法 | |
US11366258B2 (en) | Wide-band wavelength film, method for producing same, and method for producing circular polarization film | |
CN111103649B (zh) | 偏振片及其制造方法 | |
JP2022065070A (ja) | 偏光板の製造方法 | |
JP7475403B2 (ja) | 偏光フィルム及び偏光板 | |
WO2023038076A1 (ja) | 偏光フィルム及び偏光板 | |
CN117940812A (zh) | 偏振膜和偏振板 | |
CN115443425A (zh) | 偏振板及其制造方法 | |
KR20230086604A (ko) | 편광 필름의 제조 방법 및 편광 필름 | |
JP2023050227A (ja) | 偏光膜の製造方法 | |
JP2023050226A (ja) | 偏光膜の製造方法 | |
CN115047553A (zh) | 偏振膜的制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |