TWI704369B

TWI704369B - 偏光膜之製造方法

Info

Publication number: TWI704369B
Application number: TW105139851A
Authority: TW
Inventors: 古谷勉; 北河佑介; 田中陽祐
Original assignee: 日商住友化學股份有限公司
Priority date: 2015-12-07
Filing date: 2016-12-02
Publication date: 2020-09-11
Also published as: KR102538828B1; CN108292006A; KR20180090836A; JP6649068B2; JP2017106969A; TW201728916A; CN108292006B; WO2017099017A1

Abstract

本發明係提供一種方法，其係儘管抑制含硼量而減少收縮力，也可製造具有高光學特性的偏光膜。

本發明之偏光膜的製造方法，係由聚乙烯醇系樹脂膜製造含硼率為1.5至3.0重量%的偏光膜之方法，包含：將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色的染色步驟；將染色步驟後之膜以至少含有硼酸的交聯劑進行處理之交聯步驟；在前述交聯步驟中及/或在其之前，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的第1延伸步驟；及，在前述交聯步驟後，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的第2延伸步驟。

Description

偏光膜之製造方法

本發明係有關由聚乙烯醇系樹脂製造偏光膜的方法。

偏光板已被廣泛使用作為液晶顯示器等圖像顯示器中的偏光元件等。偏光板通常是在偏光膜的單面或兩面使用接著劑等而貼合透明樹脂膜(保護膜等)的構成者。

偏光膜主要是對於由聚乙烯醇系樹脂所構成的胚膜施加：浸漬在含有碘等二色性色素的染色浴中之處理，接著浸漬在含有硼酸等交聯劑的交聯浴中之處理，同時藉由在任何階段中將膜進行單軸延伸而製造。單軸延伸中係有在空中進行延伸的乾式延伸、及在上述染色浴及交聯浴等的液中進行延伸的濕式延伸。

由於偏光膜被交聯，故若被加熱，有時容易收縮、且耐久性不充分。日本特開2013-148806號公報(專利文獻1)中係記載提供一種使硼含量低至1至3.5重量%之含量而耐久性優異的偏光膜。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2013-148806號公報

不過，在偏光膜中，減少含硼量時，有時不能獲得充分的交聯度、而光學特性降低。本發明的目的係提供一種偏光膜的製造方法，其係儘管抑制含硼量並減少收縮力，也可製造具有高光學特性的偏光膜之方法。

本發明係提供以下表示的偏光膜之製造方法。

[1]一種偏光膜的製造方法，係由聚乙烯醇系樹脂膜製造含硼率為1.5至3.0重量%的偏光膜之方法，包含：將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色的步驟；將染色步驟後之膜以至少含有硼酸的交聯劑進行處理之交聯步驟；在前述交聯步驟中及/或其之前，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的第1延伸步驟；及，在前述交聯步驟之後，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的第2延伸步驟。

[2]如[1]項所述之偏光膜的製造方法，其中，前述第2延伸步驟中進行的單軸延伸之倍率為1.04至1.2倍。

[3]如[1]或[2]項所述之偏光膜的製造方法，其中，前述第2延伸步驟係在絕對濕度100g/m³以上的環境下將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸。

[4]如[1]至[3]項中任一項所述之偏光膜的製造方法，其中，前述第2延伸步驟中，前述聚乙烯醇系樹脂膜係與一個或數個輥接觸，由最初與輥接觸至最後自輥釋放之間的至少70%的時間為與任一輥接觸而進行單軸延伸。

藉由本發明的製造方法，可獲得硼含量低的偏光膜，且具有優異光學特性之偏光膜。

S10、S20、S30、S40、S50、S60‧‧‧步驟

第1圖表示本發明的偏光膜之製造方法的一實施形態之流程圖。

<偏光膜的製造方法>

參照第1圖，本發明的偏光膜之製造方法，係由聚乙烯系樹脂膜製造含硼率為1.5至3.0重量%的偏光膜之方法，包含以下的步驟：將聚乙烯系樹脂膜以二色性色素進行染色的染色步驟S20；將染色步驟後之膜以至少含有硼酸的交聯劑進行處理之交聯步驟S30；在交聯步驟中及/或其之前，將聚乙烯系樹脂膜進行單軸延伸的第1延伸步驟S40；及交聯步驟後，將聚乙烯系樹脂膜進行單軸延伸的第2延伸步驟S60。

藉由本發明，可製造含硼率為低至1.5至3.0重量%且可抑制收縮力的偏光膜，且具有優異光學特性的偏光膜。含硼率係以2.0至2.8重量%為佳。

本發明的偏光膜之製造方法係可更包含上述以外的其他步驟，其具體例如第1圖表示，係在染色步驟S20之前進行膨潤步驟S10、及在交聯步驟S30之後進行洗淨步驟S50。

本發明的製造方法中所包含的各種處理步驟，係沿著偏光膜製造裝置的膜運送途徑，將胚膜的聚乙烯醇系樹脂膜連續地運送而連續地實施。膜運送途徑係依實施順序具備實施上述各種處理步驟的設備(處理浴或爐等)。所謂處理浴，如膨潤浴、染色浴、交聯浴、洗淨浴，係指收容對於聚乙烯醇系樹脂膜施以處理的處理液之浴。

膜運送途徑，除了上述設備以外，也可將導輥或軋輥等配置在適宜的位置上而建構。例如，導輥可配置在各處理浴的前後或處理浴中，藉由此等設備可進行將膜對處理浴的導入、浸漬及自處理浴的拉出。更具體言之，可在各處理浴中設置2個以上的導輥，將膜藉由沿著此等導輥運送，而使膜浸漬在各處理浴中。

構成胚膜的聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂，可使用已將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可例示乙酸乙烯酯與可和此共聚合的其他單體之共聚物。可和乙酸乙烯酯共聚合的其他單體，可列舉：例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為約85莫耳%以上，並以約90莫耳%以上為佳，而以約99莫耳%以上為更佳。

聚乙烯醇系樹脂可改質，也可使用例如經醛類改質的聚乙烯縮甲醛、聚乙烯縮乙醛、聚乙烯縮丁醛等。

聚乙烯醇系樹脂膜的平均聚合度係以100至10,000為佳，並以1,500至8,000為更佳，而以2,000至5,000為又更佳。聚乙烯醇系樹脂膜的平均聚合度可依照JIS K6726(1994)而求得。在平均聚合度未達100時，難以獲得良好的偏光性能，超過10,000時，有時加工性差。

聚乙烯醇系樹脂膜的厚度，係例如10至150μm左右，就偏光膜的薄型化之觀點而言，係以100μm以下為佳，並以70μm以下更佳，而以50μm以下又更佳，而以40μm以下再更佳。

胚膜的聚乙烯醇系樹脂膜可準備例如長條的未延伸聚乙烯醇系樹脂膜之輥(繞捲物)。此時，偏光膜也可形成為長條物而獲得。以下，詳細說明各步驟。

(1)膨潤步驟S10

在本步驟中的膨潤處理，係視需要的胚膜之聚乙烯醇系樹脂膜的去除異物、去除塑化劑、賦予易染色性、膜之塑化等目的而實施的處理，具體上，可為將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有水的膨潤浴中之處理。該膜可浸漬在1個膨潤浴中，也可依次浸漬在2個以上的膨潤浴中。也可在膨潤處理前、膨潤處理時、或膨潤處理前及膨潤處理時，對膜進行單軸延伸處理。

膨潤浴係除了可為水(例如純水)以外，另外也可為已添加如醇類的水溶性有機溶劑之水溶液。

浸漬膜時的膨潤浴之溫度，通常為10至70℃左右，以15至50℃左右為佳，膜之浸漬時間通常為10至600秒左右，以20至300秒左右為佳。

(2)染色步驟S20

本步驟中的染色處理係以使二色性色素吸附、定向在聚乙烯醇系樹脂膜之目的而進行之處理，具體上，可為使聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有二色性色素的染色浴中之處理。該膜係可浸漬在1個染色浴中，也可依序浸漬在2個以上的染色浴中。為提高二色性色素的染色性，供應至染色步驟中的膜，也可施加至少某程度的單軸延伸處理。取代染色處理前的單軸延伸處理，或除了染色處理前的單軸延伸處理，也可在染色處理時進行單軸延伸處理。

二色性色素可為碘或二色性有機染料。二色性有機染料的具體例，係包含：紅BR、紅LR、紅R、粉紅LB、魯賓(Rubin)BL、波爾多(Bordeaux)GS、天空藍LG、檸檬黃、藍BR、藍2R、海軍藍RY、綠LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黃3G、黃R、橙LR、橙3R、猩紅GL、猩紅KGL、剛果紅、亮紫BK、超藍G、超藍GL、超橙GL、直接天空藍、直接快速橙S、快速黑。二色性色素係可僅單獨使用1種，也可將2種以上組合使用。

使用碘作為二色性色素時，在染色浴中，可使用含有碘及碘化鉀之水溶液。可使用碘化鋅等其他的碘化物取代碘化鉀，也可將碘化鉀與其他的碘化物組合使用。同時，也可使碘化物以外的化合物，例如硼酸、氯化鋅、氯化鈷等共存。添加硼酸時，可就含有碘之點而言，與後述的交聯處理區別。上述水溶液中的碘含量，通常是水每100重量份為0.003至1重量份左右。同時，碘化鉀等碘化物的含量，通常是水每100重量份為0.1至20重量份左右。

浸漬膜時的染色浴之溫度，通常是10至45℃左右，以10至40℃左右為佳，以20至35℃左右為更佳，膜之浸漬時間，通常是30至600秒左右，以60至300秒左右為佳。

使用二色性有機染料作為二色性色素時，在染色浴中可使用含有二色性有機染料的水溶液。該水溶液中的二色性有機染料之含量，通常是水每100重量份為1×10^-4至10重量份左右，以1×10^-3至1重量份左右為佳。在此染色浴中也可使染色助劑等共存，例如也可含有硫酸鈉等無機鹽或界面活性劑等。二色性有機染料可僅單獨使用1種，也可將2種以上組合使用。浸漬膜時的染色浴之溫度，係例如20至80℃左右，以30至70℃左右為佳，膜之浸漬時間，通常是20至600秒左右，以30至300秒左右為佳。

(3)交聯步驟S30

將染色步驟後的聚乙烯醇系樹脂膜以交聯劑進行處理的交聯處理，係以交聯進行耐水化或調節色相等之目的而進行之處理，具體上，係可為將染色步驟後之膜浸漬在含有交聯劑的交聯浴中之處理。該膜係可浸漬在1個交聯浴中，也可依次浸漬在2個以上的交聯浴中。交聯處理時也可進行單軸延伸處理。

交聯劑係含有硼酸，進一步也可為含有其他的交聯劑之乙二醛、戊二醛等者。交聯浴中的硼酸之含量，通常是水每100重量份為0.1至15重量份左右，以1至10重量份左右為佳。二色性色素為碘時，交聯浴除了硼酸以外含有碘化物為佳。交聯浴中的碘化物之含量，通常是水每100重量份為0.1至20重量份左右，以5至15重量份左右為佳。碘化物可舉出碘化鉀、碘化鋅等。同時，也可使碘化物以外的化合物例如氯化鋅、氯化鈷、氯化鋯、硫代硫酸鈉、亞硫酸鉀、硫酸鈉等在交聯浴中共存。

浸漬膜時的交聯浴之溫度，通常是50至85℃左右，以50至70℃左右為佳，膜之浸漬時間，通常是10至600秒左右，以20至300秒左右為佳。

(4)第1延伸步驟S40

如上述，當製造偏光膜時，聚乙烯醇系樹脂膜可在交聯步驟S30中及/或其之前，亦即可在膨潤步驟S10之前至交聯步驟S30的任一步驟以1或2以上的階段進行單軸延伸處理。就提高二色性色素的染色性而言，供應至染色步驟之膜，係以至少已施加某程度的單軸延伸處理之膜為佳，或除了染色處理前的單軸延伸處理以外，在染色處理時進行單軸延伸處理取代染色處理前的單軸延伸處理為佳。

第1延伸步驟S40中的單軸延伸處理，可在空中進行延伸的乾式延伸、在浴中進行延伸的濕式延伸之任一種，也可進行此等之二種。單軸延伸處理係在2個軋輥之間賦予周速差而進行縱單軸延伸的輥間延伸、熱輥延伸、拉幅機延伸等，較佳是包含輥間延伸。以胚膜作為基準的第1延伸步驟S40之總延伸倍率(以2以上的階段進行延伸處理時，係該等之累計延伸倍率)，係3至8倍左右。為賦予良好的偏光特性，延伸倍率是以4倍以上為佳，以4.5倍以上更佳。同時，本發明的製造方法，由於包含第2延伸步驟S60，故第1延伸步驟S40中的總延伸倍率，可為7倍以下，也可為6倍以下，進一步也可為5倍以下。

(5)洗淨步驟S50

本步驟中的洗淨處理，係就將附著在聚乙烯醇系樹脂膜之多餘的交聯劑或二色性色素等藥劑去除之目的而視需要實施的處理，使用含有水的洗淨液而將交聯步驟後之聚乙烯醇系樹脂膜洗淨的處理。具體上，係將交聯步驟後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在洗淨浴(洗淨液)中的處理。該膜可浸漬在1個洗淨浴中，也可依序浸漬在2個以上的洗淨浴中。或是，洗淨處理係可使洗淨液形成為淋浴而對交聯步驟後之聚乙烯醇系樹脂膜噴霧之處理，也可將上述浸漬與噴霧組合。

洗淨液除了可為水(例如純水)以外，也可為已添加如同醇類的水溶性有機溶劑之水溶液。洗淨液的溫度可為例如5至40℃左右。

洗淨步驟S50是隨意的步驟，可被省略，也可如後述，在第2延伸步驟S60中進行洗淨處理。較佳係對已進行洗淨步驟S50後的膜進行第2延伸步驟S60。

(6)第2延伸步驟S60

本步驟中的第2延伸處理，係將交聯步驟S30後之膜進行單軸延伸的處理。在實施洗淨步驟S50時，較佳係對於洗淨步驟後之膜進行第2延伸處理。在洗淨步驟S50之後，實施乾燥處理時，較佳係對於乾燥處理後之膜進行第 2延伸處理。第2延伸步驟S60中的單軸延伸之倍率，係以1.01至1.3倍為佳，以1.04至1.2倍為更佳。使延伸倍率為1.3倍以下，有利於抑制收縮力的上昇或膜破裂。

第2延伸步驟S60係以使交聯步驟S30後之膜在絕對濕度40g/m²以上的高濕環境下進行為佳。藉由將第2延伸步驟S60在此種高濕環境下實施延伸處理，更可抑制偏光膜的收縮力。咸認為其主要原因為，藉由在高濕環境下的延伸處理，可使構成偏光膜的聚乙烯醇系樹脂的分子鏈之定向性降低，藉此，可抑制膜內的殘留應力增大。所謂設置第2延伸步驟S60而在高濕環境下實施延伸處理，也有利於一邊防止膜破裂一邊有效地提高累計延伸倍率(合計第1延伸步驟S40中的延伸之累計延伸倍率)，同時，也有利於因累計延伸倍率的提高而擴大偏光膜的使用面積、及伴隨其的原單元減少之面。

進行第2延伸處理的環境之絕對濕度，就可更有效抑制收縮力之上昇而言，係以75g/m³以上為佳，以100g/m³以上更佳。另一方面，絕對濕度過高時，因擔心在處理區域內發生結露或結露水所致之膜的污染，故絕對濕度是以550g/m³以下為佳，並以400g/m³以下更佳，而以300g/m³以下又更佳，而以180m³以下尤佳。

第2延伸處理中，延伸方法並無限制，例如可藉由輥間延伸或拉幅機延伸進行單軸延伸。第2延伸處理中，就可抑制收縮力而言，係以將聚乙烯醇系樹脂膜與一個或數個輥接觸為佳。第2延伸步驟中，具體上，係使聚乙烯醇系樹脂膜與一個或數個輥接觸，較佳係由最初接觸輥至最後自輥釋放之間的至少50%的時間為與任一輥接觸而進行單軸延伸，以至少70%的時間與任一輥接觸而進行單軸延伸更佳，而以至少75%的時間與任一輥接觸又更佳。即使加長輥接觸時間，亦能使施加在聚乙烯醇系樹脂膜上的負荷均勻，故第2延伸步驟中以可與聚乙烯醇系樹脂膜接觸的輥為2個以上為佳。第2延伸處理中，可成為延伸的周圍氣體環境，就可抑制膜之破裂而延伸而言，以40℃以上為佳，就容易將絕對濕度調整至上述的較佳數值範圍而言，及良好地維持膜之運送性而言，以55℃以上更佳，而以60℃以上又更佳。同時，該環境溫度係以100℃以下為佳，就獲得優異的光學特性而言，以90℃以下為佳。

合計第1延伸步驟S40與第2延伸步驟S60的延伸倍率之累計延伸倍率，係4至9倍左右。為賦予良好的偏光特性，累計延伸倍率以4.5倍以上為佳，並以5.0倍以上更佳，而以5.5倍以上又更佳。

藉由施加第2延伸步驟S60，即使壓低第1延伸步驟S40中的延伸倍率時，因亦可確保充分的延伸倍率作為總延伸倍率，故可賦予偏光膜優異的光學特性。同時，即使總延伸倍率相同，藉由第1延伸步驟S40與第2延伸步驟S60進行單軸延伸，在與不設置第2延伸步驟S60時比較，可賦予偏光膜優異的光學特性。此外，藉由第1延伸步驟S40與第2延伸步驟S60中進行單軸延伸，即使含硼率低至1.5至3.0重量%時，也可獲得具有與含硼率為例如超過3.0重量%時同等優異的光學特性之偏光膜。同時，藉由本發明的製造方法所製造之偏光膜，因含硼率低至1.5至3.0重量%，故可抑制收縮力，並可防止偏光板、甚至液晶面板的翹曲。

又，不設置第2延伸步驟S60，為僅以第1延伸步驟S40中之單軸延伸可獲得更優異的光學特性，若提高第1延伸步驟S40之延伸倍率，則收縮力變大，有時產生偏光板、甚至液晶面板翹曲的問題。

第2延伸步驟S60中的單軸延伸處理，雖然可為乾式延伸及濕式延伸的任一種延伸，但在高濕環境下進行延伸時，通常為乾式延伸。以乾式延伸所致的單軸延伸處理，係可為在2個軋輥間附予周速差而進行縱單軸延伸的輥間延伸、熱輥延伸、拉幅機延伸等。

在高濕環境下的第2延伸處理，係例如可為藉由將交聯步驟S30後之膜導入於可調整濕度(視必要的溫度)的棚(booth)中，一邊進行高濕處理一邊進行延伸的處理。高濕環境下的第2延伸處理，係以5秒以上為佳，並以10秒以上更佳。同時，該時間雖然可依溫度而異，但太長時，恐有光學特性變差之虞，故以60分鐘以下為佳，並以30分鐘以下更佳，而以10分鐘以下又更佳，而以5分鐘以下尤佳。

第2延伸步驟S60較佳係在洗淨步驟S50之後實施，但也可一邊在設定高濕環境下進行延伸一邊將洗淨液噴霧等，在高濕環境下同時進行延伸處理與洗淨處理，同時，也可藉由放置在高濕環境下而實質進行膜之洗淨的情形等，第2延伸步驟兼具洗淨處理。

第2延伸處理係一邊將長條的聚乙烯醇系樹脂膜沿著膜運送途徑運送一邊進行，就可更有效抑制收縮力之上昇而言，其張力以50至5,000N/m為佳。就抑制發生膜之皺紋而言，膜張力以300至1,500N/m更佳。

第2延伸處理係可兼具聚乙烯醇系樹脂膜乾燥的處理，亦即，使其水分率降低的處理。藉此，不一定需要在第2延伸處理之前或後另外再實施乾燥處理。

提供至第2延伸處理之膜的水分率，雖然取決於膜之厚度，但通常是13至50重量%左右，並以30至50重量%左右為佳。以第2延伸處理降低水分率的程度，即第2延伸處理前的水分率與第2延伸處理後的水分率之差(水分率差ΔS)雖然也取決於膜之厚度，但例如是5至45重量%，並以8至35重量%為佳。例如胚膜之厚度為40μm左右以下時，水分率差ΔS可為未達15重量%。

第2延伸處理後之膜(第2延伸處理為最後步驟時是偏光膜)的水分率雖然亦取決於膜之厚度，但以5至30重量%為佳，就其後的膜之運送性而言，係以6至15重量%更佳。水分率太低時，容易使膜在運送中破裂，同時水分率太高時，有可能因放濕而容易在膜端產生捲曲。

一般情況下，膜越薄水分越容易消散，因此胚膜越薄越容易使第2延伸處理前及第2延伸處理中的水分率降低。水分率太低時，容易降低膜之運送性。

第2延伸步驟S60可在交聯步驟S30或洗淨步驟S50後立刻進行，也可接著交聯步驟S30或洗淨步驟S50而實施其他的步驟之後進行。其他的步驟，可舉出乾燥處理。但，就更有效地抑制收縮力之上昇而言，係以直接將交聯步驟S30或洗淨步驟S50之膜提供至第2延伸步驟S60中為佳。

經過以上的步驟，可獲得在經單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜上二色性色素經吸附定向而成之偏光膜。偏光膜的含硼率，係1.5至3.0重量%，並以2.0至2.8重量%為佳。偏光膜中的含硼率，可以交聯浴中的硼酸量、交聯步驟S30的處理溫度及處理時間調整。偏光膜的厚度通常是5至40μm，並以30μm以下為佳，而以20μm以下更佳。若藉由本發明所獲得的偏光膜，即使厚度為30μm以下、進一步薄至20μm以下時，也可具有優異的光學特性，同時可抑制收縮力的上昇。

例如為調節水分率，也可在第2延伸步驟S60之後施加乾燥處理。但，因可藉由第2延伸步驟S60而調節水分率，故此乾燥處理是可視需要而進行者。

所獲得的偏光膜，例如也可直接運送至其後之偏光板製作步驟(在偏光膜的單面或兩面上膨潤保護膜的步驟)中。

<偏光板>

在如上述而製造的偏光膜之至少一面上，可藉由透過接著劑貼合保護膜而獲得偏光板。保護膜係可為熱塑性樹脂，例如由鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)的聚烯烴系樹脂；如三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素的纖維素酯系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯的聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂的(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等的混合物、共聚物等所構成之透明樹脂膜。

保護膜也可為兼具如相位差膜、增亮膜的光學功能之保護膜。例如，可藉由將上述材料所構成的透明樹脂膜延伸(單軸延伸或二軸延伸等)，或在該膜上形成液晶層等，形成為賦予任意的相位差值之相位差膜。

在與保護膜中的偏光膜相反側之表面上，也可形成如硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層的表面處理層(塗布層)。

保護膜的厚度，就偏光板的薄型化而言，係以薄者為佳，但太薄時，由於強度會降低而加工性變差，故以5至150μm為佳，並以5至100μm更佳，而以10至50μm又更佳。

使用於偏光膜與保護膜的貼合之接著劑，可舉出如紫外線硬化性接著劑的活性能量線硬化性接著劑，或聚己烯醇系樹脂的水溶液、或已在其中調配交聯劑的水溶液、如聚胺酯系乳液接著劑的水性接著劑。在偏光膜的兩面上貼合保護膜時，形成2個接著劑層之接著劑可為相同種類，也可為不同種類。例如在兩面上貼合保護膜時，可在單面使用水性接著劑而貼合，另一單面上使用活性能量線硬化性接著劑而貼合。紫外線硬化型接著劑可為自由基聚合性的丙烯酸系化合物與光自由基聚合起始劑之混合物、或陽離子聚合性的環氧化合物與光陽離子聚合起始劑的混合物等。同時，可將陽離子聚合性的環氧化合物與自由基聚合性的丙烯酸系化合物組合使用，也可將光陽離子聚合起始劑與光自由基聚合起始劑組合使用作為起始劑。

使用活性能量線硬化性接著劑時，係膨潤後，藉由照射活活性能量線而使接著劑硬化。活性能量線的光源，雖然無特別的限制，但以在波長400nm以下具有發光分布的活性能量線(紫外線)為佳，具體上，係以使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等為佳。

為提高偏光膜與保護膜之接著性，在偏光膜與保護膜之貼合前，也可先在偏光膜及/或保護膜的膨潤面上，施加電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線照射處理、底漆塗布處理、皂化處理等表面處理。

本發明的偏光板，如上述，雖然藉由在單層膜之偏光膜上貼合保護膜而製作，但不限於此方法，也可藉由例如日本特開2009-98653號公報所述之方法製作。後者的方法是有利於獲得具有薄膜的偏光膜(偏光片層)之偏光板，可包含例如以下的步驟。

藉由在基材膜的至少一面上塗布含有聚乙烯醇系樹脂的塗布液之後，使其乾燥而形成聚乙烯醇系樹脂層而獲得積層膜的樹脂層形成步驟；將積層膜延伸而得到延伸膜的延伸步驟；藉由將延伸膜的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素進行染色而形成偏光片層(相當於偏光膜)，而獲得偏光性積層膜之染色步驟；在偏光性積層膜的偏光片層上使用接著劑貼合保護膜，而獲得貼合膜之第1貼合步驟；自貼合膜上將基材膜剝離去除而得到單面附保護膜的偏光板之剝離步驟。

在偏光片層(偏光膜)的兩面上積層保護膜時，進一步包含在單面附保護膜之偏光板的偏光片面上使用接著劑而貼合保護膜的第2膨潤步驟。

[實施例]

以下，雖然是表示實施例而更具體說明本發明，但本發明並不受此等之例限定。

<實施例1>

一邊將厚度30μm的長條聚乙烯醇(PVA)胚膜[(股)Kuraray製的商品名「Kuraray Poval Film VF-PE＃3000」，平均聚合度2,400，皂化度99.9莫耳%以上]自輥捲出一邊連續運送，浸漬在20℃的純水所構成之膨潤浴中(膨潤步驟)滯留時間31秒。然後，將從膨潤浴中拉出之膜浸漬在碘化鉀/硼酸/水為2/3/100(重量比)的含碘之30℃的染色浴中滯留時間122秒(染色步驟)。然後，將從染色浴中拉出之膜浸漬在碘化鉀/硼酸/水為12/2/100(重量比)的56℃之第1交聯浴中滯留時間70秒(交聯步驟)；接著，浸漬在碘化鉀/硼酸/水為9/2/100(重量比)的40℃之第2交聯浴中滯留時間13秒(交聯步驟)。在染色步驟及交聯步驟中，在浴中之藉由輥間延伸進行縱單軸延伸(第1延伸步驟)。以胚膜為基準的總延伸倍率為5.81倍。

其次，將自交聯浴中拉出之膜浸漬在由5℃的純水所構成之洗淨浴中滯留時間3秒(洗淨步驟)。接著，藉由導入可調節濕度的棚中於高濕周圍環境下施加縱單軸延伸處理(第2延伸步驟)，獲得偏光膜。第2延伸步驟中的棚內溫度設為87℃，棚內的絕對濕度設為113g/m³，使聚乙烯醇系樹脂膜最初與輥接觸至最後自輥釋放之間的75%的時間為與任一個輥接觸。在第2延伸步驟中，以導入棚前之膜作為基準的延伸倍率為1.08倍。所獲得的偏光膜之厚度為9.3μm。

[偏光膜的評估]

針對下述項目，測定各實施例及比較例中所獲得的偏光膜之特性。

(1)偏光膜的含硼率

將偏光膜0.2g加入於純水170mL中，於95℃中使其完全溶解之後，添加甘露醇水溶液(12.5重量%)30g作成測定用試料溶液。滴下氫氧化鈉水溶液(1mol/L)直至此測定用試料溶液達到中和點，由該滴入量以下述式計算出聚乙烯醇系樹脂膜中的含硼率(重量%)。

含硼率(重量%)=1.08×氫氧化鈉水溶液滴入量(mL)/偏光膜的重量(g)

(2)MD收縮力

從獲得的偏光膜切出以吸收軸方向(MD、延伸方向)為長邊的寬度2mm、長度10mm之測定用試料。將此試料安裝在SII奈米科技(股)製的熱機械分析裝置(TMA)「EXSTAR-6000」上，維持在一定的尺寸，測定保持在80℃中4小時之時產生的長邊方向(吸收軸方向，MD)之收縮力(MD收縮力)。

(3)光學特性

利用附積分球之分光光度計[日本分光(股)製的「V7100」]，對所獲得的偏光膜測定波長380至780nm的範圍中之MD穿透率與TD穿透率，依據下述式：單體穿透率(%)=(MD+TD)/2

偏光度(%)={(MD-TD)/(MD+TD)}×100計算出各波長中的單體穿透率及偏光度。

「MD穿透率」係指使由格蘭-湯姆森稜鏡出來的偏光方向與偏光膜試料的穿透軸呈平行時之穿透率，上述式中表示為「MD」。同時，「TD穿透率」係指使由格蘭-湯姆森稜鏡出來的偏光方向與偏光膜試料的穿透軸呈垂直時之穿透率，上述式中表示為「TD」。對於所獲得的單體穿透率及偏光度，藉由JIS Z 8701：1999「色的表示方法-XYZ表色系及X₁₀Y₁₀Z₁₀表色系」的2度視角(C光源)進行視感度校正，求出視感度校正單體穿透率(Ty)及視感度校正偏光度(Py)。將各評估的結果表示於表1中。

<實施例2至7>

第1延伸步驟中的總延伸倍率、第2延伸步驟的延伸倍率、及第2延伸步驟的棚內之溫度及絕對濕度、由最初與輥接觸至最後從輥上釋放之間對輥之接觸時間之比例如表1所示。其餘係進行與實施例1相同的操作，獲得偏光膜。實施例2至7的偏光膜之厚度，分別為9.6μm、11.4μm、11.4μm、12.4μm、12.7μm、9.5μm。對於所獲得的偏光膜，與實施例1相同地進行各項評估。將各項評估的結果表示於表1中。

<比較例1至6>

在交聯步驟中適當調整第1交聯浴及第2交聯浴的組成(相對於水100重量份的硼酸量)、溫度、浸漬時間，獲得表1所示的含硼率之偏光膜。對於第2延伸步驟，在比較例1至3中，進行與實施例1相同的第2延伸步驟中之縱單軸延伸，比較例4至6中，則不進行第2延伸步驟。對各別例，第1延伸步驟中的總延伸倍率、第2延伸步驟的延伸倍率、及第2延伸步驟的棚內之溫度及絕對濕度、由最初與輥接觸至最後從輥釋放之間對輥之接觸時間之比例如表1所示。比較例1至6的偏光膜之厚度，分別為11.5μm、12.8μm、13.4μm、13.2μm、12.4μm、11.9μm。對於所獲得的偏光膜，進行與實施例1相同的各項評估。將各項評估的結果表示於表1中。又，第2延伸步驟中，聚乙烯醇系樹脂膜接觸的輥之最大直徑，在輥接觸時間為70%以上時，為270mm，10%時為75mm。

如表1所示，比較例1至4的偏光膜，係含硼率為3.3重量%以上，且為收縮力大者。未進行第2延伸步驟的比較例5之偏光膜，雖然含硼率為3.0重量%以下，但觀察到光學特性的降低。未進行第2延伸步驟的比較例6之偏光膜，在第1延伸步驟中的延伸倍率高，雖然可得到優異之光學特性，但為收縮力大者。

S10、S20、S30、S40、S50、S60‧‧‧步驟

Claims

一種偏光膜的製造方法，係由聚乙烯醇系樹脂膜製造含硼率為1.5至3.0重量%的偏光膜之方法，包含：將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色的步驟；將染色步驟後之膜以至少含有硼酸的交聯劑進行處理之交聯步驟；在前述交聯步驟中及/或其之前，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的第1延伸步驟；及在前述交聯步驟後，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的第2延伸步驟；其中，前述第2延伸步驟係在絕對濕度100g/m³以上的環境下將前述聚乙烯醇系樹脂膜以乾式延伸進行單軸延伸。
如申請專利範圍第1項所述之偏光膜的製造方法，其中，前述第2延伸步驟中進行的單軸延伸之倍率為1.04至1.2倍。
如申請專利範圍第1或2項所述之偏光膜的製造方法，其中，前述第2延伸步驟中，前述聚乙烯醇系樹脂膜係與一個或數個輥接觸，由最初與輥接觸至最後自輥釋放之間的至少70%的時間為與任一輥接觸而進行單軸延伸。