CN107000425B - 用于减少烧蚀碎屑的新系统 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了用于暴露在载体上包括涂层的热和/或光敏感性印版前体的系统，其包括包括用于产生激光束以生成图像的激光头的制版机，其特征在于，所述制版机还包括能够使所述涂层的表面静电带电的静电发生器。

Description

用于减少烧蚀碎屑的新系统
发明领域
本发明涉及一种通过在激光暴露平版印版之前和/或期间施加静电电荷来减少烧蚀碎屑的新系统。
发明背景
平版印刷通常包括使用安装在轮转印刷机(rotary printing press)的滚筒上的例如印版的所谓的印刷底版(printing master)。底版在其表面上带有平版印刷图像，且通过将油墨施用到所述图像且随后使油墨从底版转移到承印材料上而得到印刷品，所述承印材料通常为纸张。在常规平版印刷中，将油墨以及润版水溶液(也称为润版液体)供应给由亲油(或疏水，即接受油墨而排斥水的)区域以及亲水(或疏油，即接受水而排斥油墨的)区域组成的平版印刷图像。在所谓的无水平版胶印中，平版印刷图像由接受油墨和阻隔油墨的区域组成，在无水平版胶印期间，向底版仅供应油墨。
平版印刷底版通常通过逐图像(image-wise)暴露和加工称作版前体的成像材料而得到。前体的涂层通常借助于例如激光器的数位调整暴露装置逐图像暴露于热或光，所述数位调整暴露装置触发(物理)化学过程，例如烧蚀、聚合、通过聚合物的交联或通过热塑性聚合物胶乳的颗粒絮凝引起的不溶解、通过破坏分子间相互作用或通过增加显影阻挡层的渗透性引起的溶解。
一些版前体能够在暴露之后在没有湿加工的情况下直接制造平版印刷图像，且例如基于一个或多个涂层的烧蚀。在暴露区域，露出底层的表面，其对于油墨或润版液具有与未暴露涂层表面不同的亲和性。能够在无需湿加工的情况下制版的其他热方法例如有基于一个或多个涂层的热引发的亲水/亲油转化，使得与在未暴露涂层的表面上相比在暴露区域产生对油墨或润版液的不同亲和性。
最受欢迎的版前体需要湿加工，因为暴露产生在涂层的暴露区域和非暴露区域之间的显影液中的溶解度或溶解速率的差异。在阳图版(positive working plate)中，涂层的暴露区域溶解于显影液中，而未暴露区域保持对显影液的抵抗性。在阴图版(negativeworking plate)中，涂层的未暴露区域溶解于显影液中，而暴露区域保持对显影液的抵抗性。大多数版含有在亲水载体上的疏水涂层，因此保持对显影液的抵抗性的区域限定版的接受油墨印刷区域，而亲水载体通过在未印刷区域使涂层溶解在显影液中而露出。
热版通常在制版机中暴露于红外光，其可为内鼓(ITD)、外鼓(XTD)或平台型。利用低成本高功率的红外激光二极管能够生产制版机，其中热版材料可以较高的转鼓旋转速度暴露，导致较短的总曝光时间和较高的印版产量。高功率红外激光二极管能够在版表面上提供大功率密度，在较短的像素驻留时间内产生必要量的能量。观察到所谓的非烧蚀性热版，即不被设计成通过烧蚀形成图像的版的这种高功率暴露仍然产生涂层的部分烧蚀。考虑到与烧蚀碎屑的产生相关的问题，例如污染暴露装置的电子元件和光学元件，应该避免这种现象。
本领域中通过优化涂层组合物来提供解决这种烧蚀问题的方案，使得在暴露于大功率红外激光期间发生最少的烧蚀。
日本专利申请JP-A 2008-197566和JP 2008-509245公开了用于抑制烧蚀目的的包含具有特定结构的基料的图像记录层。JP-A 2003-156850公开了在图像记录层上的防止烧蚀的阻挡层，然而，提供在图像记录层上的阻挡层延迟了显影液渗透到图像记录层中，从而降低了涂层的显影性。
JP 2005-99631公开了能够改善薄膜性质的基料抑制使用它的图像记录层的烧蚀。然而，由于改善的薄膜性质，抑制了显影液在非图像部分中的渗透性，因此涂层的显影性也劣化。
US 2013/0029268公开了能够抑制烧蚀与优异的印刷耐久性和显影性相结合的图像记录层，其含有红外吸收剂和含有在侧链中具有两性离子结构的重复单元和在主链中具有杂脂环结构的重复单元的共聚物。
US 5,574,493提供通过包括真空源和真空室的设备的针对烧蚀碎屑问题的解决方案，其在暴露后除去空气传播的烧蚀碎屑。然而，使用这种设备需要在制版机附近有很多空间，产生大量的噪音并需要定期维护。
尽管在现有技术中已经进行了许多尝试来提供减少和/或抑制烧蚀的印版，但在激光暴露期间烧蚀碎屑的形成仍然是本领域的主要关注点。
发明概述
本发明的一个目的在于提供暴露包括在载体上的涂层的热和/或光敏感性印版前体的系统，其特征在于有效地减少和/或甚至防止可在平版印版前体的暴露步骤期间形成的空气传播的烧蚀碎屑。通过减少可能在暴露步骤期间形成的空气传播的烧蚀碎屑，避免了环境的污染，例如，避免了激光暴露设备的光学元件和电子元件的污染。该目的通过权利要求1的系统实现。权利要求1的系统主要包括激光暴露设备和能够使印版前体的涂层的表面静电带电的装置。
惊奇地发现，通过在胶印印版成像期间产生静电电荷，可能在激光暴露步骤期间形成的空气传播的烧蚀碎屑的存在被大大减少和/或甚至完全消除。作为纯粹的物理现象，静电带电减少和/或消除空气传播的烧蚀碎屑，而不会损害印版的化学涂层组成和/或性质。
本发明的另一目的在于提供制造印版的方法，其包括以下步骤：在载体上施用热和/或光敏感性涂层，由此获得印版前体，通过根据本发明的系统逐图像暴露所述前体且任选地使所述前体显影。
本发明的优选实施方案的特定特征在从属权利要求中陈述。自以下描述和附图将显而易见本发明的其他优势和实施方案。
附图简述
图1示出包括外鼓的用于暴露印版前体的系统的一个优选的实施方案；
图2示出包括内鼓的用于暴露印版前体的系统的一个优选的实施方案。
发明详述
本发明的系统包括激光暴露设备和能够使印版前体的涂层的表面静电带电的装置。该装置也被进一步称作“静电发生器”。静电发生器通常为小型且便利的装置，其可以容易地集成到本领域已知的激光暴露设备中，在本文中也称作制版机。静电发生器优选以在激光成像所述版之前和/或同时使成像区域带电的方式安装。换句话说，前体的涂层优选首先静电带电，且随后暴露，或同时带电和暴露。供选地，可以在将印版前体安装在制版机上之前，使印版前体的涂层静电带电。
制版机优选包括平台、其上安装有印版前体的内鼓(ITD)或外鼓(XTD)载体和用于激光成像所述版的激光头。包括内鼓ITD的激光暴露设备通常以高达500m/sec的很高的扫描速度表征且可能需要若干瓦特的激光功率。包括外鼓的激光暴露设备通常以各自具有约20mW至约1W的激光功率的多光束且在例如0.1-10m/sec的较低扫描速度下操作。包括装备有一个或优选多个在750-850nm的波长范围内发射的激光二极管的XTD的激光暴露设备为本发明的一个特别优选的实施方案。
本发明的系统可以作为脱机(off-press)暴露装置使用，其提供减少印刷机停机时间的益处。包括XTD激光暴露设备的本发明的系统也可以用于在机(on-press)暴露，提供在多色印刷机中立即配准的益处。在机暴露设备的更多技术细节描述在例如US 5,174,205和US 5,163,368中。
静电发生器在激光暴露步骤期间使印版前体的涂层的表面和/或(如果存在的话)从该表面喷射的尘粒静电带电。在不受任何理论解释的约束的情况下，可能的工作机制如下。在带电刺激下，印版前体的涂层的表面通过由静电发生器产生的直流电流或DC电流而静电带电。由于涂层的电阻率，该表面电荷在载体和/或安装有前体的鼓或平台上诱发相反电荷(符号相反)，并且形成强电场。因此，在激光暴露期间烧蚀碎屑的形成被大大降低和/或甚至防止。另外，据信位于印版前体和静电发生器之间的空间中的空气传播的烧蚀碎屑(如果存在的话)将被吸引到反电荷载体上。对涂层表面和/或空气传播的尘粒施加的静电电荷可以是正的，由此在安装有前体的载体和/或鼓或平台中形成负的反电荷，或者可以是负的，由此在安装有前体的载体和/或鼓或平台中形成正的反电荷。安装有前体的鼓或平台优选接地。
静电发生器优选包括至少一个充电棒，其连接到以恒定电流源模式或产生电流的恒定电压模式使用的DC高电压发生器。优选地，高电压发生器产生0.5μA或更大的恒定电流，更优选电流范围为5-100μA，最优选电流范围为10-40μA。通过产生电流，形成电场且载体的表面静电带电。根据激光暴露设备的类型，即外部、内部或平台制版机，一方面鼓/扫描加速和/或激光功率，和/或另一方面在静电发生器的激光暴露设备中的类型、尺寸、设置和/位置，在载体的表面上产生比电流密度(μC/m2)。电流密度(μC/m2)优选为2-500μC/m2，更优选为25-400μC/m2且最优选为40-350μC/m2。为了产生充分静电带电的表面，本领域的技术人员能够变化上述变量。
根据本发明的系统优选包括至少一个静电发生器，不过可以包括两个或更多个静电发生器。电荷可通过一个或多个包括特定电极布置的充电棒施用。电极可以例如是针或扣针形(例如，扣针电极)，或呈一根或多根导线的形式。包括扣针电极的充电棒的合适实例可以包括至少一个电极，优选包括2-20个电极，更优选3-10个电极，最优选4-6个电极。呈导线形式的充电棒可以包括1-1000个电极，优选5-500个且最优选10-100个电极。例如，根据系统几何结构和时间选择，包括单点源(例如，单针电极)的充电棒可以足以施加例如用于外鼓制版机的最小所需电荷密度。对于使用固定激光器的平台或内鼓制版机，必须在同一时刻使全扫描或激光线写入长度带电，且因此优选包括多个电极的呈导线形式的充电棒。
本发明的优选实施方案示于图1和图2中。在图1中，示出包括外鼓(4a)的激光暴露设备，其中包括涂层(2)和载体(3)的印版前体(1)安装在具有鼓旋转(5)的外鼓(4a)上。静电发生器(6)位于激光暴露设备中，使得它可以在用激光头(7)暴露涂层之前首先使涂层(2)的表面静电带电。在图2中，提供包括内鼓(4b)的实施方案。在图2中给出的构造适合平台制版机。与图1的主要区别在于，激光暴露设备包括不旋转的内鼓或平台，但是其中激光束通过将激光束引导到涂层上的旋转镜(9)来使版成像。静电发生器(6)位于激光暴露设备中，使得可以在涂层成像之前或同时使全扫描或激光写入宽度带电。鼓(4a)和(4b)为接地的(8)。
平版印版前体的载体具有亲水表面或提供有亲水层。载体可为片状材料，诸如板，或者其可为圆柱形元件，诸如可以围绕印刷机的印刷滚筒滑动的套筒。优选载体为诸如铝或不锈钢的金属载体。载体还可以是包括铝箔和诸如聚酯薄膜的塑料层的层压体，聚酯薄膜包括聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜和聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、醋酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等。塑料薄膜载体可为不透明或透明的。
特别优选的平版印刷载体为糙化(grained)并阳极化的铝载体。铝载体通常具有约0.1-0.6mm的厚度。然而，该厚度可根据所用印版的大小和/或印版前体在其上暴露的制版机的大小而适当地改变。铝优选通过电化学糙化来糙化，且利用阳极化技术采用磷酸或硫酸/磷酸混合物来阳极化。铝的糙化和阳极化的方法在本领域中是众所周知的。阳极层可以与涂层组合充当非导电或绝缘层，由此，下面的铝在用静电发生器使涂层的表面分别静电带正或负电时而分别带负或正反电荷。
通过使铝载体糙化(或变粗糙)，改善印刷图像的粘附性和非图像区域的润湿特性。通过改变糙化步骤中电解质的类型和/或浓度和施加电压，可获得不同类型的晶粒。表面粗糙度通常表示为算术平均中心线粗糙度Ra (ISO 4287/1或DIN 4762)，并且可以在0.05μm和1.5μm之间变化。本发明的铝基材优选具有0.30μm-0.60μm、更优选0.35μm-0.55μm且最优选0.40μm-0.50μm的Ra值。Ra值的下限优选为约0.1μm。关于糙化且阳极化的铝载体的表面的优选Ra值的更多细节描述于EP 1 356 926中。
通过使铝载体阳极化，改善其耐磨性和亲水性。Al2O3层的微观结构以及厚度由阳极化步骤决定，阳极重量(在每平方米铝表面上形成Al2O3的克数)在1g/m2与8g/m2之间变化。阳极重量优选为1.5g/m2-5.0g/m2，更优选为2.5g/m2-4.0g/m2且最优选为2.5g/m2-3.5g/m2。
可对糙化且阳极化的铝载体进行所谓的后阳极处理以改善其表面的亲水性质。例如，铝载体可通过用包含一种或多种碱金属硅酸盐化合物的溶液(例如，包含碱金属磷硅酸盐、原硅酸盐、偏硅酸盐、含水硅酸盐、多硅酸盐或焦硅酸盐的溶液)在例如95℃的高温下处理其表面而硅酸盐化。供选地，可施加磷酸盐处理，它包括用还可含有无机氟化物的磷酸盐溶液处理氧化铝表面。此外，氧化铝表面可用柠檬酸或柠檬酸盐溶液、葡糖酸或酒石酸冲洗。该处理可在室温下进行或可在约30-50℃的稍高温度下进行。另一引人关注的处理包括用碳酸氢盐溶液冲洗氧化铝表面。更进一步，氧化铝表面可用下述材料处理：聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯、通过聚乙烯醇与磺化脂族醛反应形成的缩醛、聚丙烯酸或衍生物，诸如自CibaSpeciality Chemicals购得的GLASCOL E15TM。这些后处理中的一种或多种可单独或组合地进行。这些处理的更详细描述在以下文献中给出：GB-A 1 084 070、DE-A 4 423 140、DE-A4 417 907、EP-A 659 909、EP-A 537 633、DE-A 4 001 466、EP-A 292 801、EP-A 291 760和US 4,458,005。
在一个优选的实施方案中，载体首先用包含一种或多种如上所述的硅酸盐化合物的水性溶液处理，接着用包含具有羧酸基团和/或膦酸基团的化合物或其盐的水性溶液处理载体。特别优选的硅酸盐化合物为原硅酸钠或原硅酸钾及偏硅酸钠或偏硅酸钾。具有羧酸基团和/或膦酸基团的化合物和/或其酯或盐的合适实例为聚合物，诸如聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸和丙烯酸与乙烯基膦酸的共聚物。高度优选包含聚乙烯基膦酸或聚(甲基)丙烯酸的溶液。
载体也可为柔性载体，它可提供有亲水层，下文称作“基底层”。柔性载体例如为纸、塑料薄膜或铝。塑料薄膜的优选实例为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、醋酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等。塑料薄膜载体可为不透明或透明的。
基底层优选为由用硬化剂交联的亲水基料获得的交联亲水层，硬化剂诸如甲醛、乙二醛、多异氰酸酯或水解的原硅酸四烷基酯。特别优选后者。亲水基底层的厚度可在0.2-25μm范围内变化，且优选为1-10μm。基底层的优选实施方案的更多细节可在例如EP-A 1025 992中见到。
可提供有亲水层的柔性载体可以与涂层组合充当非导电或绝缘层，由此在激光暴露设备中前体安装于其上的鼓或平台可在用静电发生器分别使涂层的表面静电带正或负电时而变得分别带负或正反电荷。
根据本发明，还提供制造平版印版的方法，其包括以下步骤：(i) 通过如上所述的根据本发明的暴露系统暴露包括在亲水载体上的热和/或光敏感性涂层的印版前体，和(ii) 任选地显影。在本发明中使用的平版印版前体可基于可变换或烧蚀的机理，其中分别通过变换反应或去除亲水或亲油外涂层获得亲水/亲油差异，从而分别获得下面的亲油或亲水表面。前体还可为阴图制版前体或阳图制版前体，即其分别在暴露区域或非暴露区域形成油墨接受区域。在下文中，详细论述对热和光敏感的涂层和基于可变换或烧蚀的机理的涂层的合适实例。
热敏性印版前体
热敏性印版前体的成像机理可通过例如通过热头直接暴露于热或通过涂层中的一种或多种能够使光(更优选红外光)转变为热的化合物的光吸收来触发。这些热敏性平版印刷印版前体优选对可见光不敏感，即通过暴露于可见光不会对涂层在显影液中的溶解速率引起显著影响。最优选地，涂层对环境日光不敏感。
热敏性印版前体的第一合适实例为基于疏水热塑性聚合物颗粒的热引发聚结的前体，颗粒优选分散在亲水基料中，如在例如以下文献中所述：EP 770 494、EP 770 495、EP770 497、EP 773 112、EP 774 364、EP 849 090、EP 1 614 538、EP 1 614 539、EP 1 614540、EP 1 777 067、EP 1 767 349、WO 2006/037716、WO 2006/133741和WO 2007/045515。根据一个优选的实施方案，热塑性聚合物颗粒包含1:1至5:1(苯乙烯:丙烯腈)的重量比，例如2:1比率的苯乙烯和丙烯腈单元。合适亲水基料的实例有以下各物的均聚物和共聚物：乙烯醇、丙烯酰胺、羟甲基丙烯酰胺、羟甲基甲基丙烯酰胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和马来酸酐/乙烯基甲基醚共聚物。
优选这类图像记录层包含：包含至少一个膦酸基团或至少一个磷酸基团或其盐的有机化合物，如在WO 2007/04551中所述。
在第二合适实施方案中，热式印版前体包括包含芳基重氮磺酸盐均聚物或共聚物的涂层，该均聚物或共聚物为亲水性的且在暴露于热或紫外光之前溶于加工液中，而在所述暴露后导致为疏水性的且溶解性减小。
这类芳基重氮磺酸盐聚合物的优选实例为可通过使芳基重氮磺酸盐单体与其他芳基重氮磺酸盐单体和/或与乙烯基单体(如(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯酰胺、丙烯腈、乙酸乙烯酯、氯乙烯、偏二氯乙烯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等)均聚合或共聚合来制备的化合物。合适的芳基重氮磺酸盐单体公开在EP-A 339393、EP-A 507008和EP-A 771645中，且合适的芳基重氮磺酸盐聚合物公开在EP 507,008、EP 960,729、EP 960,730和EP 1,267,211中。
另一种合适的热式印版前体为阳图制版的，且依靠亲油树脂的热引发溶解。亲油树脂优选为可溶于水性显影液、更优选pH在7.5与14之间的碱性显影水溶液的聚合物。优选的聚合物为酚醛树脂，例如酚醛清漆、甲阶酚醛树脂、聚乙烯基苯酚和羧基取代的聚合物。这些聚合物的典型实例描述在DE-A-4007428、DE-A-4027301和DE-A-4445820中。相对于成像层中存在的所有组分的总重量，成像层中存在的酚醛树脂的量优选为至少50%重量，优选为至少80%重量。
在一个优选的实施方案中，亲油树脂优选为酚醛树脂，其中苯基或羟基用有机取代基化学改性。用有机取代基化学改性的酚醛树脂可对于印刷化学品如润版溶液或版处理液如洁版剂展现出增加的耐化学性。所述化学改性的酚醛树脂的实例描述在以下文献中：EP-A 0 934 822、EP-A 1 072 432、US 5 641 608、EP-A 0 982 123、WO 99/01795、EP-A 02102 446、EP-A 02 102 444、EP-A 02 102 445、EP-A 02 102 443、EP-A 03 102 522。优选在EP-A 02 102 446中所述的改性树脂，特别是其中所述酚醛树脂的苯基用具有结构-N=N-Q的基团取代的那些树脂，其中-N=N-基团共价键合苯基的碳原子，且Q为芳族基团。
在后一实施方案中，涂层可包括包含一种或多种其他基料的第二层，该基料不溶于水而可溶于碱性溶液中，例如为具有小于13的pKa的酸性基团以保证所述层可在水性碱性显影液中溶解或至少溶胀的有机聚合物。该层位于如上所述包含亲油树脂的层与亲水载体之间。基料可选自聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、基于苯乙烯的树脂、聚氨酯树脂或聚脲树脂。基料可具有一种或多种官能团。官能团可选自以下列表：
(i) 磺酰胺基团，诸如-NR-SO2-、-SO2-NR-或-SO2-NR’R”，其中R和R’独立地表示氢或任选被取代的烃基，诸如任选被取代的烷基、芳基或杂芳基；关于这些聚合物的更多细节可在EP 2 159 049中见到；
(ii) 包含酸式氢原子的磺酰胺基团，诸如-SO2-NH-CO-或-SO2-NH-SO2-，如例如在US 6,573,022中所公开；这些化合物的合适实例例如包括N-(对甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺和N-(对甲苯磺酰基)丙烯酰胺；
(iii) 脲基，诸如-NH-CO-NH-，关于这些聚合物的更多细节可在WO 01/96119中见到；
(iv) 星形聚合物，其中至少三个聚合物链键合到核，如在EP 2 497 639中所述；
(v) 羧酸基团；
(vi) 腈基；
(vii) 磺酸基团；和/或
(viii) 磷酸基团。
优选包含磺酰胺基团的(共)聚合物。磺酰胺(共)聚合物优选为通过使含有至少一个磺酰胺基团的单体均聚合或通过使这类单体与其他可聚合单体共聚合制备的高分子量化合物。优选地，在本发明的聚(乙烯醇缩醛)基料存在于第二层中的实施方案中，包含至少一个磺酰胺基团的共聚物存在于定位在包含本发明的聚(乙烯醇缩醛)基料的层与亲水载体之间的第一层中。
与含有至少一个磺酰胺基团单体共聚的单体的实例包括如在以下专利文献中公开的单体：EP 1 262 318、EP 1 275 498、EP 909 657、EP 1 120 246、EP 894 622、US 5,141,838、EP 1 545 878和EP 1 400 351。优选如下单体，诸如(甲基)丙烯酸烷基或芳基酯，诸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-苯基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯；(甲基)丙烯酸；(甲基)丙烯酰胺；N-烷基或N-芳基(甲基)丙烯酰胺，诸如N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-苄基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(4-甲基吡啶基)(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯腈；苯乙烯；被取代的苯乙烯，诸如2-、3-或4-羟基-苯乙烯、4-苯甲酸-苯乙烯；乙烯基吡啶，诸如2-乙烯基吡啶、3-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶；被取代的乙烯基吡啶，诸如4-甲基-2-乙烯基吡啶；乙酸乙烯酯，任选地，共聚的乙酸乙烯酯单体单元至少部分地水解，形成醇基，和/或通过诸如甲醛或丁醛的醛化合物至少部分地反应，形成乙缩醛或丁缩醛基团；乙烯醇；乙烯醇缩乙醛；乙烯醇缩丁醛；乙烯基醚，诸如甲基乙烯基醚；乙烯基酰胺；N-烷基乙烯基酰胺，诸如N-甲基乙烯基酰胺、己内酰胺、乙烯基吡咯烷酮；马来酰亚胺；N-烷基或N-芳基马来酰亚胺，诸如N-苄基马来酰亚胺。
磺酰胺(共)聚合物和/或其制备方法的合适实例公开在EP 933 682、EP 982 123、EP 1 072 432、WO 99/63407、EP 1 400 351和EP 2 159 049中。磺酰胺(共)聚合物的非常优选的实例描述在EP 2 047 988 A中的[0044]-[0046]中。
磺酰胺(共)聚合物的具体优选实例为包含N-(对氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(间氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(邻氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺和/或(甲基)丙烯酸间氨基磺酰基苯酯的聚合物。
还优选包含酰亚胺基团的(共)聚合物作为在热敏涂层中的基料。具体实例包括甲基乙烯基醚/马来酸酐共聚物的衍生物和苯乙烯/马来酸酐共聚物的衍生物，其含有N-取代的环状酰亚胺单体单元和/或N-取代的马来酰亚胺，诸如N-苯基马来酰亚胺单体单元和N-苄基马来酰亚胺单体单元。优选地，该共聚物存在于位于包含本发明的聚(乙烯醇缩醛)基料的层与亲水载体之间的第一层中。该共聚物优选为碱溶性的。合适实例描述在EP 933682、EP 894 622 A [0010]-[0033]、EP 901 902、EP 0 982 123 A [007]-[0114]、EP 1072 432 A [0024]-[0043]和WO 99/63407 (第4页第13行至第9页第37行)中。
还可以将例如通过使苯酚、间苯二酚、甲酚、二甲酚或三甲酚与特别是甲醛的醛或酮反应获得的具有游离酚羟基的缩聚物和聚合物加到热敏性涂层中。氨磺酰基-或氨甲酰基-取代的芳族化合物和醛或酮的缩合物也是合适的。双羟甲基取代的脲、乙烯基醚、乙烯醇、乙烯基缩醛或乙烯基酰胺的聚合物和丙烯酸苯酯的聚合物及羟基-苯基马来酰亚胺的共聚物同样合适。此外，可提到具有乙烯基芳族化合物或(甲基)丙烯酸芳酯的聚合物，对于这些单元中的每一种还可能具有一个或多个羧基、酚羟基、氨磺酰基或氨基甲酰基。具体实例包括具有(甲基)丙烯酸2-羟基苯基酯、4-羟基苯乙烯或羟基苯基马来酰亚胺的单元的聚合物。聚合物可另外含有没有酸性单元的其他单体的单元。所述单元包括乙烯基芳族化合物、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、甲基丙烯酰胺或丙烯腈。
涂层的溶解行为可通过任选的溶解性调节组分来微调。更特别地讲，可使用可显影性增强化合物、显影促进剂和显影抑制剂。在涂层包括多于一层的实施方案中，可将这些成分加到第一层中，和/或加到第二层中，和/或加到涂层的任选其他层中。
合适的可显影性增强化合物为(i) 在加热时释放气体的化合物，如在WO 2003/79113中所公开，(ii) 化合物，如在WO 2004/81662中所公开，(iii) 包含一种或多种含碱性氮的有机化合物的组合物，如在WO 2008/103258中所公开，和(iv) 具有至少一个氨基和至少一个羧酸基的有机化合物，如在WO 2009/85093中所公开。
可在可显影性增强组合物中使用的含碱性氮的有机化合物的实例为N-(2-羟基乙基)-2-吡咯烷酮、1-(2-羟基乙基)哌嗪、N-苯基二乙醇胺、三乙醇胺、2-[双(2-羟基乙基)氨基]-2-羟甲基-1,3-丙二醇、N,N,N,N'-四(2-羟基乙基)-乙二胺、N,N,N,N'-四(2-羟基丙基)-乙二胺、3-[(2-羟基乙基)苯基氨基]丙腈和六氢-1,3,5-三(2-羟基乙基)-s-三嗪。优选使用N,N,N',N'-四(2-羟基丙基)-乙二胺。还可使用这些化合物中的两种或更多种的混合物。含碱性氮的有机化合物可自包括BASF (德国)和Aldrich Chemical Company(Milwaukee, WI)在内的许多商业来源获得。
一种或多种含碱性氮的有机化合物优选在涂层中以基于涂料组合物的总固体计1-30重量%且通常3-15重量%的量存在。
优选地，一种或多种的含碱性氮的有机化合物与一种或多种诸如羧酸或环状酸酐、磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、次膦酸、膦酸酯、酚、磺酰胺或磺酰亚胺的酸性可显影性增强化合物组合使用，因为这种组合可容许进一步改善显影宽度和印刷耐久性。酸性可显影性增强化合物的代表性实例提供在US 2005/0214677的[0030]-[0036]中。它们可以基于涂层组合物的总干重计0.1-30重量%的量存在。一种或多种含碱性氮的有机化合物与一种或多种酸性可显影性增强化合物的摩尔比通常为0.1:1至10:1，且更通常为0.5:1至2:1。
显影促进剂为充当溶解促进剂的化合物，因为它们能够提高涂层的溶解速率。例如，可使用环状酸酐、酚或有机酸以改善水性可显影性。环状酸酐的实例包括邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、3,6-桥氧-4-四氢-邻苯二甲酸酐、四氯苯二甲酸酐、马来酸酐、氯马来酸酐、α-苯基马来酸酐、琥珀酸酐和苯均四酸酐，如在美国专利号4,115,128中所述。酚的实例包括双酚A、对硝基苯酚、对乙氧基苯酚、2,4,4'-三羟基二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4,4',4"-三羟基-三苯甲烷和4,4,3",4"-四羟基-3,5,3',5'-四甲基三苯基甲烷等。有机酸的实例包括磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸盐和羧酸，如例如在JP-A 60-88,942号和JP-A 2-96,755号中所述。这些有机酸的具体实例包括对甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对甲苯亚磺酸、乙基硫酸、苯膦酸、苯次磷酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、间苯二甲酸、己二酸、对甲基苯甲酸、3,4-二甲氧基苯甲酸、3,4,5-三甲氧基苯甲酸、3,4,5-三甲氧基肉桂酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、4-环己烯-1,2-二甲酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗坏血酸。相对于整个涂层，在涂层中所含的环状酸酐、酚或有机酸的量优选为0.05-20重量%。诸如包含至少70摩尔%间甲酚作为重复单体单元的酚醛树脂的聚合物显影促进剂也是合适的显影促进剂。
在一个优选的实施方案中，涂层还含有耐显影剂物质，也称为显影抑制剂，即一种或多种能够在加工期间延迟非暴露区域溶解的成分。溶解抑制作用优选通过加热逆转，因此暴露区域的溶解没有明显延迟且因此可得到暴露区域与非暴露区域之间的大溶解差异。在例如EP-A 823 327和WO97/39894中描述的化合物由于例如通过形成氢桥与涂层中的碱溶性树脂相互作用而充当溶解抑制剂。这类抑制剂通常为包含至少一个芳族基团和可为杂环或氨基取代基、鎓基、羰基、亚硫酰基或磺酰基的一部分的诸如氮原子的氢键合位点的有机化合物。这类合适的溶解抑制剂已经在例如EP 825 927和EP 823 327中公开。以下提及的一些化合物(例如，红外染料，诸如花青；和对比染料(contrast dye)，诸如季铵化三芳基甲烷染料)也可充当溶解抑制剂。
其他合适的抑制剂改善耐显影剂性，因为它们延迟水性碱性显影液向涂层中的渗透。这类化合物可存在于第一层和/或任选的第二层中和/或在所述层之上的显影阻挡层中，如在例如EP 864 420、EP 950 517、WO 99/21725和WO 01/45958中所述。阻挡层在显影液中的溶解性和/或渗透性可通过暴露于热和/或红外光而增加。
拒水聚合物代表另一类型的合适溶解抑制剂。所述聚合物似乎因自所述涂层排斥水性显影液而增加涂层的耐显影剂性。可将拒水聚合物加到涂层的第一层和/或第二层中和/或其可存在于在这些层之上提供的单独层中。在后一实施方案中，拒水聚合物形成阻挡层，其将涂层与显影液屏蔽开，且阻挡层在显影液中的溶解度或显影液对阻挡层的渗透性可通过暴露于热或红外光而增加，如在例如EP 864 420、EP 950 517和WO99/21725中所述。
延迟水性碱性显影液向涂层的渗透的抑制剂的优选实例包括包含硅氧烷和/或全氟烷基单元的拒水聚合物。聚硅氧烷可为直链、环状或复杂交联的聚合物或共聚物。术语聚硅氧烷化合物应包括含有多于一个硅氧烷基团-Si(R,R’)-O-的任何化合物，其中R和R’为任选被取代的烷基或芳基。优选的硅氧烷为苯基烷基硅氧烷和二烷基硅氧烷。聚合物中的硅氧烷基团的数量为至少2个，优选至少10个，更优选至少20个。其可小于100，优选小于60。
拒水聚合物可为包含极性嵌段如聚或低聚(环氧烷)和疏水嵌段如长链烃基、聚硅氧烷和/或全氟烃基的嵌段共聚物或接枝共聚物。全氟表面活性剂的典型实例为自Dainippon Ink & Chemicals, Inc.购得的Megafac F-177。其他合适的共聚物包含约15-25个硅氧烷单元和50-70个环氧烷基团。优选的实例包括包含苯基甲基硅氧烷和/或二甲基硅氧烷以及环氧乙烷和/或环氧丙烷的共聚物，如Tego Glide 410、Tego Wet 265、TegoProtect 5001或Silikophen P50/X，均自Tego Chemie, Essen, Germany购得。
这种拒水聚合物在涂层中的合适量为0.5-25mg/m2，优选为0.5-15mg/m2且最优选为0.5-10mg/m2。当拒水聚合物也排斥油墨时，例如在聚硅氧烷的情形下，高于25mg/m2的量可引起非暴露区域的不良油墨接受度。另一方面，低于0.5mg/m2的量可引起不能令人满意的耐显影性。
认为在涂覆和干燥期间，拒水聚合物或共聚物充当表面活性剂，且由于其双官能结构而倾向于本身定位在涂层与空气之间的界面处，由此即使在作为涂布溶液的成分施用时也形成单独的顶层。同时，这种表面活性剂还充当改善涂层品质的铺展剂。供选地，拒水聚合物或共聚物可在单独溶液中施用，涂布在包括一个或任选多个层的涂层之上。在该实施方案中，可有利地使用在单独溶液中的溶剂，它不能溶解在其他层中存在的成分，因此在涂层之上得到高度浓缩的拒水相。
上文描述的热敏性印版前体的涂层优选还含有红外光吸收染料或颜料，在涂层包括多于一层的实施方案中，其可存在于第一层和/或第二层和/或任选的其他层中。优选的IR吸收染料有花青染料、部花青染料、靛苯胺染料、氧杂菁染料、吡喃鎓(pyrilium)染料和方酸鎓(squarilium)染料。合适IR染料的实例描述在例如EP A 823327、EP A 978376、EP A1029667、EP A 1053868、EP A 1093934、WO 97/39894和WO 00/29214中。优选的化合物有下列花青染料：
相对于整个涂层，IR染料在涂层中的浓度优选为0.25-15.0重量%，更优选为0.5-10.0重量%，最优选为1.0-7.5重量%。
涂层还可包含一种或多种着色剂，诸如染料或颜料，其为涂层提供可见颜色且其保留在涂层的图像区域中，其在加工步骤期间未被除去。由此形成可见图像，且变得可以检查在显影的印版上的平版印刷图像。这样的染料常称为对比染料或指示染料。优选染料具有蓝色且最大吸收在600nm-750nm的波长范围内。此类对比染料的典型实例为氨基取代的三-或二芳基甲烷染料，例如结晶紫、甲基紫、维多利亚纯蓝、flexoblau 630、basonylblau640、碱性槐黄和孔雀绿。在EP-A 400,706中深入讨论的染料也为合适的对比染料。与特殊的添加剂组合仅使涂层略微染色但在曝光后强烈染色的染料也可以作为着色剂使用，如在例如WO2006/005688中描述。为了保护热和/或光敏感性印版前体的涂层的表面，尤其是使其免于机械损坏，还可任选地施用保护层。保护层通常包含至少一种水溶性基料，诸如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、部分水解的聚乙酸乙烯酯、明胶、碳水化合物或羟乙基纤维素，并且可用任何已知的方式制造，诸如可由水性溶液或分散体制造，如果需要，所述水性溶液或分散体可含有少量(即，基于保护层所用涂布溶剂的总重量计算，小于5%重量)的有机溶剂。保护层的厚度可合适地为任何量，有利地高达5.0μm，优选为0.1-3.0μm，特别优选为0.15-1.0μm。
涂层任选还可含有其他成分，诸如：表面活性剂，特别是全氟表面活性剂；二氧化硅或二氧化钛颗粒或聚合物颗粒，诸如消光剂和隔离剂(spacer)。
可使用任何涂布方法以将一种或多种涂布溶液施用到载体的亲水表面上。多层涂层可通过连续地涂布/干燥各层或通过一次性同时涂布数种涂布溶液来施用。在干燥步骤中，挥发性溶剂直到涂层具有自撑性且触摸时干燥时才被除去。然而，没有必要(且即使可能也可不)在干燥步骤中除去全部溶剂。实际上，剩余溶剂含量可认为是可使组成最优化的额外组成变量。干燥通常通过吹送热空气到涂层上通常在至少70℃、合适地在80-150℃且特别是在90-140℃的温度下进行。还可使用红外灯。干燥时间通常可为15-600秒。
如在WO 99/21715、EP-A 1074386、EP-A 1074889、WO 00/29214和WO/04030923、WO/04030924、WO/04030925中所述，在涂布与干燥之间或在干燥步骤之后，热处理和随后的冷却可提供额外益处。
印版前体可通过例如LED或激光器暴露于红外光。最优选暴露所用的光为发射波长为约750nm到约1500nm、更优选750nm到1100nm的近红外光的激光器，例如半导体激光二极管、Nd:YAG激光器或Nd:YLF激光器。所需要的激光功率取决于版前体的灵敏度；激光束的像素驻留时间，其通过斑点直径测定(现代制版机在1/e2的最大强度下的典型值：5-25μm)；暴露设备的扫描速度和再溶解(即，每单位直线距离中可寻址像素的数目，常以每英寸点数或dpi表示；典型值：1000-4000dpi)。
在暴露后，前体可通过诸如碱性水溶液的合适加工液体显影，由此除去涂层的非图像区域；显影步骤可与机械摩擦(例如，通过使用旋转刷)相组合。在显影期间，还除去存在的任何水溶性保护层。基于胶乳聚结的热敏性印版前体还可使用淡水或水溶液例如如在EP 1,342,568中描述的上胶溶液来显影。或者，这类印版前体可在暴露后直接安装于印刷机上，且可通过供应油墨和/或润版液给前体而在机显影。
水性碱性显影液优选包含碱性剂，其可为无机碱性剂，诸如碱金属氢氧化物；有机碱性剂，诸如胺；和/或碱性硅酸盐，诸如碱金属硅酸盐或碱金属偏硅酸盐。显影液优选具有高于8、更优选高于10且最优选高于12的pH。显像液还可含有以下组分，诸如缓冲物质、络合剂、消泡剂、有机溶剂、缓蚀剂、染料、抗淤剂、防溶解剂(诸如非离子表面活性剂、阴离子、阳离子或两性表面活性剂)和/或本领域已知的水溶助剂。显像液还可含有：多羟基化合物，诸如山梨糖醇，优选以至少40g/l的浓度；以及含聚氧化乙烯的化合物，诸如自RHODIA购得的Supronic B25，优选以至多0.15g/l的浓度。
关于显影步骤的更多细节可在例如EP 1 614 538、EP 1 614 539、EP 1 614 540和WO2004/071767中见到。
光敏性印版前体
除了上述热材料以外，还可使用光敏涂层。这类版的典型实例有紫外敏感性“PS”版和含有在曝光后硬化的光可聚合组合物的所谓的感光聚合物版。
在本发明的一个特定实施方案中，使用常规的UV敏感性“PS”版前体。这类版前体的合适实例(即，在300-450nm(近紫外光和蓝光)范围敏感)已在EP 1,029,668 A2中论述。阳图制版组合物和阴图制版组合物通常在“PS”版前体中使用。
阳图制版成像层优选包含邻萘醌重氮化合物(NQD)和碱溶性树脂。特别优选的是各种羟基化合物的邻萘醌重氮磺酸酯或邻萘醌重氮羧酸酯和各种芳族胺化合物的邻萘醌重氮磺酸酰胺或邻萘醌重氮羧酸酰胺。可使用NQD系统的两种变体：单组分系统和双组分系统。这类光敏性印版已广泛公开在现有技术中，例如公开在U.S. 3,635,709、J.P. KOKAI第55-76346号、J.P. KOKAI第Sho 50-117503号、J.P. KOKAI第Sho 50-113305号、U.S. 3,859,099、U.S. 3,759,711、GB-A 739654、US 4,266,001和J.P. KOKAI第55-57841号中。
“PS”版的阴图制版层优选包含重氮盐、重氮盐树脂或芳基重氮磺酸盐均聚物或共聚物。低分子量重氮盐的合适实例包括：氯化联苯胺四唑鎓、氯化3,3'-二甲基联苯胺四唑鎓、氯化3,3'-二甲氧基联苯胺四唑鎓、氯化4,4'-二氨基联苯基胺四唑鎓、硫酸3,3'-二乙基联苯基胺四唑鎓、硫酸4-氨基联苯基胺重氮盐、氯化4-氨基联苯基胺重氮盐、硫酸4-哌啶基苯胺重氮盐、硫酸4-二乙基氨基苯胺重氮盐和重氮联苯基胺与甲醛的低聚缩合产物。重氮树脂的实例包括作为光敏性物质的芳族重氮盐的缩合产物。这类缩合产物例如描述在DE-P-1 214 086中。光敏性或热敏性层优选还含有基料，例如聚乙烯醇。
在暴露时，重氮树脂或重氮盐由水溶性转变为水不溶性(由于重氮基团受到破坏)，此外，重氮的光解产物又可增加聚合物基料或重氮树脂的交联水平，因此使涂层选择性地以图像图形从水溶性转变为水不溶性。非暴露区域保持不变，即为水溶性的。
这类印版前体可使用如上所述的碱性水溶液显影。
在第二合适实施方案中，光敏性印版前体基于光聚合反应，且含有包含光可固化组合物的涂层，该光可固化组合物包含：自由基引发剂(如在例如US 5,955,238、US 6,037,098、US 5,629,354、US 6,232,038、US 6,218,076、US 5,955,238、US 6,037,098、US 6,010,824、US 5,629,354、DE 1,470,154、EP 024,629、 EP 107,792、US 4,410,621、EP 215,453、DE 3,211,312和EP A 1,091,247中所公开)、可聚合的化合物(如在EP1,161,4541、EP1349006、WO2005/109103和未公开的欧洲专利申请EP 5,111,012.0、EP 5,111,025.2、EP5110918.9和EP 5, 110,961.9中所公开)和聚合物基料(如在例如US2004/0260050、US2005/0003285、US2005/0123853、EP 1,369,232、EP 1,369,231、EP 1,341,040、US 2003/0124460、EP 1 241 002、EP 1 288 720、US 6,027,857、US 6,171,735、US 6,420,089、EP152,819、EP 1,043、627、US 6,899,994、US2004/0260050、US 2005/0003285、US2005/0170286、US2005/0123853、US2004/0260050、US2005/0003285、US 2004/0260050、US 2005/0003285、US 2005/0123853和US2005/0123853中所公开)。任选可加入其他成分，诸如增敏剂、共引发剂、抑制剂、促粘化合物、着色剂、表面活性剂和/或印出剂。这些印版前体可用蓝光、绿光或红光(即波长范围在450nm与750nm之间)、紫光(即波长范围在350nm与450nm之间)或红外光(即波长范围在750nm与1500nm之间)使用例如Ar激光器(488nm)或FD-YAG激光器(532nm)、半导体激光器InGaN (350-450nm)、红外激光二极管(1064nm)或Nd-YAG激光器(1064nm)来敏化。
感光聚合物印版前体通常在pH > 10(参见上文)的碱性显影液中加工，且随后上胶。或者，暴露的感光聚合物版前体还可通过施用胶溶液到涂层上由此除去非暴露区域来显影。合适的上胶溶液描述在WO2005/111727中。在暴露步骤之后，成像的前体还可直接安装于印刷机上，且通过施用油墨和/或润版液在机加工。制备所述版的方法公开在WO 93/05446、US 6,027,857、US 6,171,735、US 6,420,089、US 6,071,675、US 6,245,481、US 6,387,595、US 6,482,571、US 6,576,401、US 6,548,222、WO 03/087939、US 2003/16577和US2004/13968中。
为了保护热和/或光敏感性印版前体的涂层的表面，特别是使其免于机械损坏，还可任选地施用保护层。保护层通常包含至少一种水溶性基料，诸如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、部分水解的聚乙酸乙烯酯、明胶、碳水化合物或羟乙基纤维素，并且可用任何已知的方式制造，诸如可由水性溶液或分散体制造，如果需要，所述水性溶液或分散体可含有少量(即，基于保护层所用涂布溶剂的总重量计算，小于5%重量)的有机溶剂。保护层的厚度可合适地为任何量，有利地高达5.0μm、优选0.1-3.0μm、特别优选0.15-1.0μm。
涂层任选还可含有其他成分，诸如表面活性剂，特别是全氟表面活性剂，二氧化硅或二氧化钛颗粒，有机或无机隔离颗粒或消光剂。
可使用任何涂布方法将两种或更多种涂布溶液施用到载体的亲水表面上。多层涂层可通过连续地涂布/干燥各层或通过一次性同时涂布数种涂布溶液来施用。在干燥步骤中，挥发性溶剂直到涂层具有自撑性且触摸时干燥时才被除去。然而，没有必要(且即使可能也可不)在干燥步骤中除去全部溶剂。实际上，剩余溶剂含量可认为是可使组合物最优化的额外组成变量。干燥通常通过吹送热空气到涂层上通常在至少70℃、合适地在80-150℃且特别是在90-140℃的温度下进行。还可使用红外灯。干燥时间通常可为15-600秒。
如在WO 99/21715、EP-A 1074386、EP-A 1074889、WO 00/29214和WO/04030923、WO/04030924、WO/04030925中所述，在涂布与干燥之间或在干燥步骤之后，热处理和随后的冷却可提供额外益处。
可变换和烧蚀的热敏性印版前体
这些印版前体的成像机制可通过例如通过热头或通过涂层中的一种或多种能够使光(更优选红外光)转变为热的化合物的光吸收而直接暴露于热来触发。印版前体可通过例如LED或激光器暴露于红外光。最优选暴露所用的光为发射波长为约750nm-约1500nm、更优选750nm-1100nm的近红外光的激光器，例如半导体激光二极管、Nd:YAG激光器或Nd:YLF激光器。
热敏性涂层可包含可变换的聚合物，其能够改变热敏性涂层的表面的亲水/疏水平衡，这归因于在用红外辐射的暴露步骤期间产生的热。通常，所述印版可在印刷机上直接使用，但可使用另外的湿式显影步骤，诸如在机显影步骤或脱机显影步骤。
这种系统的典型实例为如在WO 92/9934、EP 652 483和EP 1 787 810中所述的自聚合物主链悬垂的不稳定基团的热诱发裂解；自载体烧蚀或在加热时解聚的聚合物系统；如在US 4,081,572中所述的具有酰肼基团的聚酰胺酸的热环化脱水；如在EP 200 488中所述的在聚合物上的电荷的热诱发破坏或产生；如在US 5,569,573、EP 646 476、WO 94/2395、WO 98/29258中所述的包封反应性材料的热诱发破裂；如在JP 10069089中所述的水溶性底层与酚顶层的逐图像交联；如在US 6,162,578中所述的含有热敏性活性末端基团的热敏性超支化聚合物；和如在EP 1 129 861中所述的极性可变换图像形成材料。
热敏性版可为烧蚀版，其为无加工版(processless plate)，即不需要任何加工且因此可在暴露后直接作为印版使用的版。在这种烧蚀版的记录层中，在通过红外吸收剂(如上文对于热敏性印版前体所述)进行光吸收时产生的热除去亲水或亲油顶涂层，由此分别露出亲油或亲水的下层表面，由此获得在图像(印刷)区域和非图像(非印刷)区域之间的油墨接受性的必要差异。
热和/或光敏性印版可用于常规的所谓湿胶印刷(wet offset printing)中，其中将油墨和水性润版液体供应到版。另一合适的印刷方法使用所谓的无润版液的单流体油墨。合适的单流体油墨已描述于US 4,045,232、US 4,981,517和US 6,140,392中。在一个最优选的实施方案中，如WO 00/32705所述，单流体油墨包含油墨相(也称为疏水或亲油相)和多元醇相。
实施例
本发明将参考以下实施例详细地描述，但本发明不限于此。实施例用自AgfaGraphics N.V.购得的Thermostar P970印版前体进行。
1. 版暴露
商业印版前体Thermostar P970 (745mm x 605mm)用自Eastman Kodak Corp.购得的具有40W红外激光头(830nm)在150rpm和2400dpi下操作的Creo Trendsetter制版机在一定范围的能量密度下逐图像暴露，以获得200mJ/cm2。记录的图像具有0%点覆盖度。
连续暴露5个版以说明本发明不取决于暴露的版的量。
2. 静电发生器
静电发生器安装在成像器Creo Trendesetter 上(参见上文)。自SIMCO-ION购得的SIMCO线性6扣针电极DC正静电发生器安装在激光头上距接地的鼓滚筒20-30mm处，且尽可能远离激光器托架。从静电发生器到版表面的最佳距离通过实验确定。在适当地调节时，烧蚀粉尘的形成被减少/阻止，且不发生从电极到印版的火花放电。
紧邻静电发生器的金属部件可影响相关的电动势，且因此带电作用可被改进和/或甚至破坏。因此，应该考虑在静电发生器与在制版机中的金属部件之间的最短距离，例如约70mm的距离。
在该机构中，充电棒以使得涂层的表面可在其成像之前带电的方式置于制版机中。充电棒通常临到暴露开始时才启动。在带电刺激时，涂层的表面静电带电，同时响应性铝基材反向带电。涂层的表面在成像之前带电，因为带电区域的宽度明显大于激光条带宽度。
在下表1中，给出由静电发生器对于30mm的在静电发生器与铝版之间的距离关于电动势产生的电流。
表1：静电发生器的充电条件
产生的电流 相关的电动势
10μA 8.8kV
20μA 12kV
40μA 16kV
3. 烧蚀
商业印版前体P970的烧蚀特性根据如下所述的烧蚀试验方法试验。烧蚀试验的结果示于照片和下表2中。
烧蚀试验方法
在第一步骤中，烧蚀粉尘经由快速过滤器收集(Fast Filter Collection, FFC)方法收集。接着，总有机碳(TOC)测量提供每版表面释放的固体粉尘的精确重量值(例如，mg碳/m2)。
快速过滤器收集
快速过滤器收集(FFC)方法在自Eastman Kodak Corp.购得的具有20 W红外激光头(830nm)在140rpm和2400dpi下操作的制版机Creo Trendsetter上进行。
过滤器(PallflexTM Membrame Filter Tissu；Quartzmm；记录号7202)置于激光头和真空清洁器之前，直接置于激光头之后。过滤器阻挡在栅板和载体之间。暴露约4000cm2的版表面积，且在11cm2的过滤器上收集粉尘。
一次测量持续约5-10分钟。接着，烧蚀水平通过总有机碳(TOC)测量量化。
总有机碳(TOC)测量
TOC分析为提供在通过FFC方法获得的样品中存在的所有有机碳原子的总重量的定量方法。获得在暴露步骤期间由于烧蚀现象释放的碳原子的量(即，mg碳/m2)，这给出关于烧蚀度的概念。
关于该测量的更多细节可在以下标准中见到。
ISO NBN EN 15936/2012：污泥、处理过的生物废物、土壤和废物-通过干式燃烧测定总有机碳(TOC)
NBN EN 13137/2001：废物的表征-测定在废物、污泥和沉降物中的总有机碳(TOC)。
结果
在暴露步骤时或临近暴露步骤时，启动静电发生器，产生分别为10μA、15μA和20μA的电流。作为参考样品，在不启动静电发生器的情况下进行相同的暴露步骤。快速过滤器收集的结果示于以下照片中，TOC分析的结果示于下表2中。
快速过滤器收集(20μA)
TOC分析
表2：TOC分析的结果
*P970 自Agfa Graphics NV购得，在200mJ/m2下暴露
** 分批驱动
在照片中显现且在表2中提供的结果指示，通过产生10μA、15μA或 20μA的电荷，并未检测到烧蚀粉尘。

Claims (16)

1.用于暴露在载体上包括涂层的热和/或光敏感性印版前体的系统，其包括：包括用于产生激光束以生成图像的激光头的制版机，
其特征在于，所述制版机还包括能够使所述涂层的表面静电带电的静电发生器。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述涂层的表面变得静电带正或负电。
3.权利要求1所述的系统，其中所述静电发生器包括高电压直流发生器和至少一个充电棒。
4.根据权利要求3所述的系统，其中所述高电压直流发生器产生0.5μA或更大的电流。
5.根据权利要求3或4所述的系统，其中所述充电棒包括一个或多个扣针电极。
6.根据权利要求3或4所述的系统，其中所述充电棒包括4-6个扣针电极。
7.根据权利要求3所述的系统，其中所述充电棒包括一个或多个导线电极。
8.根据权利要求7所述的系统， 其中所述导线电极包括5-500个电极。
9.根据权利要求1-4、7和8中任一项所述的系统，其中所述制版机包括外鼓。
10.根据权利要求1-4、7和8中任一项所述的系统，其中所述制版机包括内鼓。
11.根据权利要求1-4、7和8中任一项所述的系统，其中所述载体为糙化且阳极化的铝载体。
12.根据权利要求1-4、7和8中任一项所述的系统，其中所述涂层包含红外吸收剂和热敏亲油树脂。
13.根据权利要求1-4、7和8中任一项所述的系统，其中所述涂层包含红外吸收剂、疏水热塑性聚合物颗粒和亲水基料。
14.制造平版印版的方法，其包括以下步骤：
在载体上施用热和/或光敏感性涂层，由此获得印版前体；
通过根据前述权利要求中任一项所述的系统逐图像暴露所述前体。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述方法包括使所述前体显影的步骤。
16.根据权利要求14或15所述的方法，其中在生成所述图像之前使所述涂层的表面静电带电。
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