JP2005309439A - 感熱性のポジ作用性平版材料における小ドットの正確な露出方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】湿潤処理を必要とする感熱性のポジ作用性コーティングを含んでなる平版材料によるマイクロドットを含んでなる高品質ハーフトーン像の正確な再現方法が開示される。そのようなマイクロドットは<25μmのドット寸法を有しそして150lpiより少なくない罫引きにおける確率スクリーニングによりまたは振幅変調スクリーニングにより得られうる。「物理的な正確な露出エネルギー密度」(物理的REED)はCP〜1.5*CPの範囲内にあることが制定され、ここで物理的REEDは像データ中の50%ハーフトーンに相当するマイクロドットにより占有される版上の物理的領域が50%目標値と一致するエネルギー密度として定義され、そしてCPは処理後にコーティングの95%の溶解を得るために必要な最小エネルギー密度として定義される版のヌケ点である。
【選択図】 図4
Description
湿潤処理を必要とするポジ作用性熱版材料に伴う問題は、小さい印刷ドット、例えば確率スクリーニング方法により製造されるマイクロドットまたは高い罫引きにおける従来の振幅変調スクリーン中の小さいハーフトーンドット、例えば1インチ当たり150本の線(1cm当たり約60本の線)のスクリーン罫引きにおける1%ドットの不充分な再現可能性である。これらのスクリーニング方法の各々において、像の少なくとも一部の品質は小ドットの正確な再現性に依存する。そのような印刷作業は、印刷機上のドットゲインの如き現象を考慮に入れた製版および印刷工程全体の極めて厳密な調整を必要とする。そうしたとしても、<25μmの寸法を有するドットが製版(露出および処理)工程中にしばしば損失されることが観察されるためこの作業のためにポジ作用性熱版を使用することは依然として難しい。そのような高解像度スクリーンでは、25μmドットの損失は像(一次確率スクリーン中の完全な像でも)のかなりの部分の損失を意味する。
図面の簡単な記述
図1はそれぞれが8×8の像−記録計画素よりなる4つのハーフトーン像セルの図式的表示である。
発明の詳細な記述
インキが版により受容されるかまたは受容されない平版印刷方法の二元性質のために、像の一連のドットへの分解を包含するハーフトーンスクリーニング方法により連続的な色濃度を再現しなければならない。従来の振幅変調(AM)スクリーニングでは、格子内のハーフトーンセルとしてしばしば表示される規則的な固定された位置における変動寸法のドットにより、オリジナル像が模倣される(図1)。一般には、ハーフトーンセルの全領域がインキ−受容性である場合にいわゆる100%黒色ドットが生成される。0%ドットは、完全に水−受容性であるハーフトーンセルに相当する。図1中のハーフトーンドットは領域の40/64=62.5%を占有する。
ドット領域(%)=(1−10−De)/(1−10−Du)*100
「式中、Du=露出されていない版の光学濃度であり、そして
De=ハーフドット像で露出された版の光学濃度である」
を用いて反射デンシトメトリーにより測定される。
(a)ベタウエッジを赤外線のエネルギー密度はウエッジの一端における最小値からウエッジの他端における最大値までの範囲にわたるイメージセッターにより発生させた赤外線により印刷版前駆体上で露出し、
(b)版前駆体を現像剤中で処理し、それによりコーティングの非像領域を支持体から除去し、
(c)コーティングの光学濃度をベタウエッジにおける複数領域で測定し、
(d)0.05*Du[ここでDuは露出されていない状態でのコーティングの光学濃度である]に相当するコーティングの光学濃度を得るのに必要なウエッジ中の最小エネルギー密度として定義されるヌケ点CPを制定し、そして
(e)イメージセッターのエネルギー密度をCP〜1.5*CPの範囲内の値に設定する
段階を含んでなる方法も提供する。
各R1は水素、場合により置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、複素環、アリール、ヘテロアリール、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基、−SO2−NH−R2、−NH−SO2−R4、−CO−NR2−R3、−NR2−CO−R4、−O−CO−R4、−CO−O−R2、−CO−R2、−SO3−R2、−SO2−R2、−SO−R4、−P(=O)(−O−R2)(−O−R3)、−NR2−R3、−O−R2、−S−R2、−CN、−NO2、ハロゲン、−N−フタルイミジル、−M−N−フタルイミジル、または−M−R2から選択され、Mは炭素数1〜8の2価結合基を表わし、
R2、R3、R5およびR6は水素または場合により置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、複素環、アリール、ヘテロアリール、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基から独立して選択され、
R4は場合により置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、複素環、アリール、ヘテロアリール、アラルキルまたはヘテロアラルキル基から選択され、
或いは各R1〜R4から選択される少なくとも2つの基は一緒になって環式構造を形成するのに必要な原子を表わし、
或いはR5およびR6は一緒になって環式構造を形成するのに必要な原子を表わす]
を有する重合体が最も好ましい。
(a)現像剤中に不溶性であるかまたは現像剤により不透過性である重合体状物質、例えば疎水性もしくは水−反撥性の重合体または共重合体、例えばアクリル系重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリル系共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリウレタン、ニトロセルロースおよびエポキシ樹脂;またはシロキサン(シリコーン)および/もしくはペルフルオロアルキル単位を含んでなる重合体。
(b)二官能性化合物、例えば極性基および疎水性基、例えば長鎖炭化水素基、ポリ−もしくはオリゴシロキサンおよび/または過弗素化された炭化水素基、を含んでなる界面活性剤。代表例は、ダイニッポン・インキ・アンド・ケミカルズ・インク(Dainippon Ink & Chemicals,Inc.)から入手可能な過弗素化された界面活性剤であるメガファック(Megafac)F−177である。そのような化合物の適量は10〜100mg/m2の間、より好ましくは50〜90mg/m2の間である。
(c)極性ブロック、例えばポリ−もしくはオリゴ(アルキレンオキシド)および疎水性ブロック、例えば長鎖炭化水素基、ポリ−もしくはオリゴシロキサンおよび/または過弗素化された炭化水素基、を含んでなる二官能性ブロック−共重合体。そのような化合物の適量は0.5〜25mg/m2の間、より好ましくは0.5〜15mg/m2の間、そして最も好ましくは0.5〜10mg/m2の間である。適する共重合体は約15〜25個のシロキサン単位および50〜70個のアルキレンオキシド基を含んでなる。好ましい例は、フェニルメチルシロキサンおよび/またはジメチルシロキサン並びにエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドを含んでなる共重合体、例えば全てドイツ、エッセンのテゴ・ヘミー(Tego Chemie)から市販されているテゴ・グライド(Tego Glide)410、テゴ・ウエット(Tego Wet)265、テゴ・プロテクト(Tego Protect)5001またはシリコフェン(Silikophen)P50/Xを包含する。該ポリ−もしくはオリゴシロキサンは、線状、環式もしくは複合架橋結合重合体または共重合体でありうる。用語ポリシロキサン化合物は、1個より多いシロキサン基−Si(R,R’)−O−[式中、RおよびR’は場合により置換されていてもよいアルキルまたはアリール基である]を含有するいずれの化合物も包含する。好ましいシロキサンはフェニルアルキルシロキサンおよびジアルキルシロキサンである。重合体またはオリゴマー中のシロキサン基の数は少なくとも2、好ましくは少なくとも10、より好ましくは少なくとも20である。それは100より少なく、好ましくは60より少なくてよい。
ポジ作用性熱版、水性アルカリ性現像剤および赤外プレートセッターよりなる6つのシステムを評価した:
実施例1:カナダ、クレオの商標であるトレンドセッター(Trendsetter)TE318で露出した、両者ともベルギー、アグファ−ゲベルトN.V.の商標であるサーモスター(Thermostar)P970版およびEP26現像剤(22℃、19s)。
実施例2:ベルギー、アグファ−ゲベルトN.V.の商標であるエクスカリブル(Xcalibur)45で露出した、両者とも米国、コダック・ポリクローム・グラフィックス(Kodak Polychrome Graphics)の商標であるエレクトラ・エクセル(Electra Excel)版およびゴールドスター(Goldstar)現像剤(23℃、38s)。
実施例3:ベルギー、アグファ−ゲベルトN.V.の商標であるエクスカリブル45で露出した、両者とも米国、ウエスターン・リトテク(Western Litotech)の商標であるダイアモンド(Diamond)LT2版およびEDR−K現像剤(28℃、26s)。
実施例4:ベルギー、アグファ−ゲベルトN.V.の商標であるエクスカリブル45で露出した、両者とも日本、フジ・フォト・フィルム(Fuji Photo Film)の商標であるブリリア(Brillia)PSE版およびLHDS現像剤(29℃、25s)。
実施例5:カナダ、クレオの商標であるトレンドセッターTE318で露出した、下記の通りにして製造された版材料P1および現像剤D1(25℃、25s)。
実施例6:カナダ、クレオの商標であるトレンドセッターTE318で露出した、下記の通りにして製造された版材料P2および現像剤D2(25℃、25s)。
版材料P1
下記のコーティング溶液を製造した:
−フェノール系重合体溶液の製造:
45.9gのアルノボルSPN452(アルノボルSPN452はクラリアントGmbHから得られるノボラック樹脂のダワノールPM中40重量%溶液である)、16.3gのNaOAc.3H2Oおよび200mlの1−メトキシ−2−プロパノールの混合物を撹拌しそして10℃に冷却した。以上で製造されたジアゾニウム溶液をフェノール系重合体溶液に30分間の期間にわたり滴下し、その後に撹拌を120分間にわたり15℃で続けた。生じた混合物を次に2リットルの氷水に30分間の期間にわたり連続的に撹拌しながら加えた。重合体が水性媒体から沈殿しそしてそれを濾過により単離した。水洗および45℃におけるその後の乾燥により所望する生成物が最終的に得られた。
(2)ボルデン・ヘム・インク(BORDEN CHM.INC.)から得られるメタ−クレゾールノボラック樹脂(Mn/Mwは700/1700である)
以上の溶液を従来の研磨されそして陽極酸化されたアルミニウム支持体上に26μmの湿潤コーティング厚さでコーティングしそして乾燥した。乾燥コーティング重量は1.47g/m2であった。切断しそして包装した後に、版を倉庫内で5日間にわたり50℃で時効処理した。
現像剤D1
下記の溶液を製造した:
下記の溶液を製造した:
nxnの市松模様パターンを種々のエネルギー密度で露出しそして「巨視的」および「微視的」デンシトメトリー並びに以上で定義されたムレイ−デービス式から得られるドット被覆率が50%に相当するエネルギー密度を制定することにより、上記のシステムの光学REEDおよび物理的REED値を以上で説明したように測定した。
−反射方式で使用されそして20xレンズが装備されたライツ(Leitz)の商品名である光学顕微鏡タイプのエルゴプラ(Ergopla)、
−1024×1024の画素CCDおよび16ビット・アナログ−ツー−デジタル転換器を装備したホトメトリックス(Photometrics)からのモノクロームデジタルカメラタイプCH250、
−標準フレーム・グラッバー・カードを装備したパーソナル・コンピューター、
−メルツハウザー(Maerzhauser)からのA4−サイズXYテーブルタイプMCL、
−メディア・シベルネティクス(Media Cybernetics)からの像分析ソフトウエアであるイメージプロプラス(ImageProPlus)バージョン4.5。
結果
表1は、1×1、2×2および6×6の市松模様パターンを用いて種々のエネルギー密度で露出された6種のシステムの光学ドット領域値を示す。
Claims (7)
- −支持体およびその上のコーティングを含んでなる感熱性のポジ作用性平版印刷版前駆体を準備し、
−版前駆体上に25μm以下の寸法を有するマイクロドットを含んでなるハーフトーン像を赤外線により露出し、そして
−版前駆体を現像剤中で処理し、それによりコーティングの非像領域を支持体から除去する
段階を含んでなる平版印刷版の作製方法であって、赤外線がCP〜1.5*CP[ここでCPは処理段階後に0.05*Duに相当する完全に露出された領域におけるコーティングの光学濃度を得るのに必要な最小エネルギー密度として定義されるヌケ点(clearing point)であり、Duは露出されていない状態でのコーティングの光学濃度である]の範囲内のエネルギー密度を有することを特徴とする方法。 - ハーフトーン像が一次確率スクリーニング方法により得られる請求項1に記載の方法。
- ハーフトーン像が二次確率スクリーニング方法により得られる請求項1に記載の方法。
- ハーフトーン像が150lpiより少なくない罫引きにおける振幅変調スクリーニング方法により得られる請求項1に記載の方法。
- ハーフトーン像が、像の或る部が一次または二次確率スクリーニングにより与えられる25μm以下の寸法を有するマイクロドットを含んでなりそして像の他の部分が振幅変調スクリーニングにより与えられる、ハイブリッドクリーニング方法により得られる請求項1に記載の方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の方法により得られる平版を平版印刷機上に設置しそしてインキを該版に供給しそして該版から紙に像通りに転写する平版印刷方法。
- (i)イメージセッター、(ii)支持体およびその上に設けられたコーティングを含んでなるポジ作用性感熱性平版印刷版前駆体、並びに(iii)現像剤を含んでなる平版作製システムを校正する方法であって、該方法が
(a)赤外線のエネルギー密度がウエッジの一端における最小値からウエッジの他端における最大値までの範囲にわたるイメージセッターにより発生させた赤外線によりベタウエッジ(solid wedge)を印刷版前駆体上で露出し、
(b)版前駆体を現像剤中で処理し、それによりコーティングの非像領域を支持体から除去し、
(c)コーティングの光学濃度をベタウエッジにおける複数領域で測定し、
(d)0.05*Du[ここでDuは露出されていない状態でのコーティングの光学濃度である]に相当するコーティングの光学濃度を得るのに必要なウエッジの最小エネルギー密度として定義されるヌケ点CPを制定し、そして
(e)イメージセッターのエネルギー密度をCP〜1.3*CPの範囲内の値に設定する
段階を含んでなる方法。
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Publications (3)
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012519305A (ja) * | 2009-03-04 | 2012-08-23 | セキュレンシー インターナショナル プロプライアタリー リミテッド | レンズアレイの作製方法の改良 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1788435B1 (en) * | 2005-11-21 | 2013-05-01 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate |
DE602006009919D1 (de) | 2006-08-03 | 2009-12-03 | Agfa Graphics Nv | Flachdruckplattenträger |
EP3290220B1 (en) * | 2015-04-30 | 2019-07-31 | FUJIFILM Corporation | Flexographic printing plate |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10191045A (ja) * | 1996-12-11 | 1998-07-21 | Agfa Gevaert Nv | 印画可能な媒体用の目視管理ストリツプ |
US6121996A (en) * | 1998-05-04 | 2000-09-19 | Creo Srl | Laser recording method |
JP2001174981A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 印刷版の製造方法 |
JP2002062660A (ja) * | 2000-08-16 | 2002-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2002296790A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2003098684A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像評価方法及び平版印刷版の品質管理方法 |
JP2003228164A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2004029680A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原板 |
JP2004266802A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-09-24 | Agfa Gevaert Nv | コンピュータ・トゥ・プレートインクジェットシステムのためのサブドット位相変調 |
JP2004341036A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
JP2005181964A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Agfa Gevaert Nv | 感熱性平版印刷版前駆体 |
JP2006520485A (ja) * | 2003-03-14 | 2006-09-07 | クレオ インク. | 放射線感受性素子の現像性促進 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69517503T2 (de) * | 1995-03-22 | 2001-02-08 | Agfa Gevaert Nv | Intensitätsmodulierte stochastische Rasterung zur Herstellung lithographischer Druckplatten |
JP3814961B2 (ja) * | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
EP1295717B1 (en) * | 2001-09-24 | 2007-07-25 | Agfa Graphics N.V. | Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
EP1380417B1 (en) * | 2002-07-03 | 2006-08-23 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
-
2004
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- 2004-04-21 DE DE200460006378 patent/DE602004006378T2/de not_active Expired - Lifetime
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2005
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- 2005-04-21 CN CN 200510067607 patent/CN1689802B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10191045A (ja) * | 1996-12-11 | 1998-07-21 | Agfa Gevaert Nv | 印画可能な媒体用の目視管理ストリツプ |
US6121996A (en) * | 1998-05-04 | 2000-09-19 | Creo Srl | Laser recording method |
JP2001174981A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 印刷版の製造方法 |
JP2002062660A (ja) * | 2000-08-16 | 2002-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2002296790A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2003098684A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像評価方法及び平版印刷版の品質管理方法 |
JP2003228164A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2004029680A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原板 |
JP2004266802A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-09-24 | Agfa Gevaert Nv | コンピュータ・トゥ・プレートインクジェットシステムのためのサブドット位相変調 |
JP2006520485A (ja) * | 2003-03-14 | 2006-09-07 | クレオ インク. | 放射線感受性素子の現像性促進 |
JP2004341036A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
JP2005181964A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Agfa Gevaert Nv | 感熱性平版印刷版前駆体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012519305A (ja) * | 2009-03-04 | 2012-08-23 | セキュレンシー インターナショナル プロプライアタリー リミテッド | レンズアレイの作製方法の改良 |
JP2017027063A (ja) * | 2009-03-04 | 2017-02-02 | イノヴィア セキュリティー プロプライアタリー リミテッド | レンズアレイの作製方法の改良 |
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