CN106660309A - 转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置 - Google Patents

转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置 Download PDF

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Abstract

一种转印膜，作为第一形态，其特征在于：具有临时支撑体、以及包含金属氧化抑制剂的第一透明树脂层，且第一透明树脂层的折射率为1.60以上。一种转印膜，作为第二形态，其特征在于：具有临时支撑体、以及第一透明树脂层，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。

Description

转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法、静电 电容型输入装置及图像显示装置
技术领域
本发明涉及一种转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置。
背景技术
近年来，在静电电容型输入装置(触摸屏)中，为了降低透明电极的视认性，提出有在透明电极图案上形成高折射率的透明树脂层。
例如，已知有专利文献1中所记载的转印膜。
另外，提出有在制造静电电容型输入装置时，将转印材料层压于基板上。例如，已知有专利文献1或专利文献2中所记载的转印膜或感光性片材。
[现有技术文献]
[专利文献]
专利文献1：日本专利特开2014-108541号公报
专利文献2：日本专利特开2005-208559号公报
发明内容
[发明要解决的问题]
在形成触摸屏用电极图案膜的绝缘层或保护层时，为了取出信号，需要通过图案显影(图案化)等方法，在透明电极周边的金属配线部的一部分中制作去除了绝缘层或保护层的区域。所述不形成绝缘层或保护层的区域因金属会露出，故有在其后的步骤的中途劣化之虞。
现有技术对使用转印膜来形成绝缘层或保护层等的方法进行了揭示，但非图案形成部可能会氧化。
本发明要解决的问题在于提供一种用于绝缘层或保护层的形成，且图案隐蔽性、及去除了绝缘层或保护层的区域中的保护性优异的转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法。
进而，本发明要解决的问题在于提供一种使用所述转印膜制作而成的静电电容型输入装置、包含所述层叠体的静电电容型输入装置、及具备所述静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置。
[解决问题的技术手段]
本发明的所述课题通过以下的＜1＞、＜3＞、＜16＞～＜20＞、＜27＞、＜30＞或＜32＞中所记载的手段来解决。以下一并记载作为优选的实施形态的＜2＞～＜15＞、＜21＞～＜26＞、＜28＞～＜29＞及＜31＞。
＜1＞一种转印膜，其特征在于：具有临时支撑体、以及包含金属氧化抑制剂的第一透明树脂层，且所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上，
＜2＞根据＜1＞所述的转印膜，其中所述第一透明树脂层含有金属氧化物粒子，
＜3＞一种转印膜，其特征在于：具有临时支撑体、以及第一透明树脂层，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子，
＜4＞根据＜2＞或＜3＞所述的转印膜，其中所述金属氧化物粒子为氧化钛粒子、钛复合氧化物粒子、或氧化锆粒子，
＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的转印膜，其在所述临时支撑体与所述第一透明树脂层之间还具有第二透明树脂层，且所述第二透明树脂层具有感光性，
＜6＞根据＜5＞所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层包含聚合性化合物及光聚合引发剂，
＜7＞根据＜5＞或＜6＞所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层为能够进行碱显影的层，
＜8＞根据＜5＞至＜7＞中任一项所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层的折射率小于所述第一透明树脂层的折射率，
＜9＞根据＜5＞至＜8＞中任一项所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层的折射率未满1.60，
＜10＞根据＜1＞至＜9＞中任一项所述的转印膜，其中所述金属氧化抑制剂为具有包含氮原子作为环员的芳香环的化合物，
＜11＞根据＜10＞所述的转印膜，其中所述包含氮原子作为环员的芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环、及这些环与其他芳香环的缩合环所组成的群组中的至少一种环，
＜12＞根据＜10＞或＜11＞所述的转印膜，其中所述包含氮原子作为环员的芳香环为咪唑环、三唑环、咪唑环与其他芳香环的缩合环、或三唑环与其他芳香环的缩合环，
＜13＞根据＜1＞至＜12＞中任一项所述的转印膜，其中所述金属氧化抑制剂为苯并咪唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、或羧基苯并三唑，
＜14＞根据＜1＞至＜13＞中任一项所述的转印膜，其中相对于所述第一透明树脂层的总质量的所述金属氧化抑制剂的含量为0.1质量％以上，
＜15＞根据＜1＞至＜14＞中任一项所述的转印膜，其中所述第一透明树脂层具有光硬化性和/或热硬化性，
＜16＞一种转印膜的制造方法，其特征在于：具有在临时支撑体上形成第二透明树脂层的步骤、以及在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上，
＜17＞一种转印膜的制造方法，其特征在于：具有在临时支撑体上形成第二透明树脂层的步骤、以及在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子，
＜18＞一种转印膜的制造方法，其特征在于：具有在临时支撑体上形成包含聚合性化合物及光聚合引发剂的第二透明树脂层的步骤、以及在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上，
＜19＞一种层叠体，其特征在于：具有基材；透明电极图案，位于所述基材上；第一透明树脂层，邻接并位于所述透明电极图案上；第二透明树脂层，位于所述第一透明树脂层上；且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上，
＜20＞一种层叠体，其特征在于：具有基材；透明电极图案，位于所述基材上；第一透明树脂层，邻接并位于所述透明电极图案上；第二透明树脂层，位于所述第一透明树脂层上；且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子，
＜21＞根据＜19＞或＜20＞所述的层叠体，其中所述基材为透明膜基板，
＜22＞根据＜21＞所述的层叠体，其中在所述透明膜基板的两面分别具有所述透明电极图案、所述第一透明树脂层、及所述第二透明树脂层，
＜23＞根据＜21＞或＜22＞所述的层叠体，其中在所述透明电极图案与所述透明膜基板之间还具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜，
＜24＞根据＜19＞至＜23＞中任一项所述的层叠体，其还具有与所述透明电极图案导通的金属配线部，
＜25＞根据＜24＞所述的层叠体，其中在所述第一透明树脂层、及所述第二透明树脂层经去除的区域中的金属配线部上具有金属氧化抑制剂，
＜26＞根据＜19＞至＜25＞中任一项所述的层叠体，其中所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层经图案化，
＜27＞一种层叠体的制造方法，其特征在于：依次包含准备根据＜1＞至＜15＞中任一项所述的转印膜的步骤；在位于基材上的透明电极图案上，以与所述透明电极图案接触的方式层叠所述转印膜的所述第一透明树脂层的步骤；以及将所述临时支撑体剥离的步骤，
＜28＞根据＜27＞所述的层叠体的制造方法，其中所述基材为透明膜基板，
＜29＞根据＜27＞或＜28＞所述的层叠体的制造方法，其还包含对层叠于所述透明电极图案上的所述第一透明树脂层进行图案化的步骤，
＜30＞一种静电电容型输入装置，其使用根据＜1＞至＜15＞中任一项所述的转印膜制作而成，
＜31＞一种静电电容型输入装置，其包含根据＜19＞至＜26＞中任一项所述的层叠体，
＜32＞一种图像显示装置，其具备根据＜30＞或＜31＞所述的静电电容型输入装置作为构成要素。
[发明的效果]
根据本发明，可提供一种用于绝缘层或保护层的形成，且图案隐蔽性、及去除了绝缘层或保护层的区域中的保护性优异的转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法。进而，本发明可提供一种使用所述转印膜制作而成的静电电容型输入装置、包含所述层叠体的静电电容型输入装置、及具备所述静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置。
附图说明
图1A是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的一例的剖面概略图。
图1B是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的另一例的剖面概略图。
图2是表示本发明中的层叠体的一例的说明图。
图3是表示本发明中的透明电极图案与非图案区域的关系的一例的说明图。
图4是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。
图5是表示形成有掩模层的层叠体的一例的俯视图。
图6是表示形成有第一透明电极图案的层叠体的一例的俯视图。
图7是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案的层叠体的一例的俯视图。
图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的层叠体的一例的俯视图。
图9是表示本发明的层叠体的另一例的剖面概略图。
图10是表示透明电极图案的端部的锥形形状的一例的说明图。
图11是表示本发明的层叠体的构成的一例的剖面概略图。
图12是表示本发明的转印膜的构成的一例的剖面概略图。
图13是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的另一例的俯视图，且是表示图案化后的包含未被第一透明树脂层覆盖的路由配线的终端部(末端部分)的形态的概略图。
图14是表示通过层压而将具有第一透明树脂层及第二透明树脂层的本发明的转印膜层叠于静电电容型输入装置的透明电极图案上后、图案化前的状态的一例的概略图。
图15是表示第一透明树脂层与第二透明树脂层经硬化的所期望的图案的一例的概略图。
具体实施方式
以下，对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明有时基于本发明的具有代表性的实施形态来进行，但本发明并不限定于此种实施形态。再者，在本申请说明书中，“～”是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义来使用。另外，所谓有机EL元件，是指有机电致发光元件。
在本说明书中的基(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述包含不具有取代基的基，并且也包含具有取代基的基。例如，所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。
再者，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸基”表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基。
另外，在本发明中，“质量％”与“重量％”的含义相同，“质量份”与“重量份”的含义相同。
另外，在本发明中，优选的形态的组合更优选。
在本发明中，关于聚合物成分，分子量为将四氢呋喃(Tetrahydrofuran，THF)作为溶剂时的由凝胶渗透色谱法(Gel Permeation Chromatography，GPC)所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量。
(转印膜)
本发明的转印膜的第一形态的特征在于：具有临时支撑体、以及包含金属氧化抑制剂的第一透明树脂层，且第一透明树脂层的折射率为1.60以上。以下，只要无特别记载，则本发明中的折射率为25℃下的值。
本发明的转印膜的第二形态的特征在于：具有临时支撑体、以及第一透明树脂层，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
在本发明中，所谓“透明树脂层”，是指当将树脂层转印至透过率为90％以上的基材上来形成层叠体时，所述层叠体的透过率为80％以上者。作为所述透过率，可使用在400nm～750nm的波长范围内，以10nm的间距所测定的值的算术平均值。
＜转印膜中的折射率、及厚度的测定方法＞
在本发明中，第一透明树脂层的折射率、第一透明树脂层的厚度、及后述的第二透明树脂层的折射率可使用反射分光膜厚计FE-3000(大冢电子(股份)制造)，如下述般求出。另外，以下的测定是在25℃的条件下进行。
(1)准备临时支撑体，并将其切出纵横的边的长度为10cm×10cm。经由透明粘着带(光学透明胶带(Optically Clear Adhesive Tape，OCA Tape)8171CL：3M公司制造)，使黑色聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)材接触所切出的临时支撑体的一个表面来制作层叠体(第一层叠体)。使用反射分光膜厚计FE-3000评价第一层叠体的反射光谱(波长：430nm～800nm)，并求出各波长中的临时支撑体的折射率n0。
(2)准备在临时支撑体上仅形成有第二透明树脂层的样品，并将其切出纵横的边的长度为10cm×10cm。经由透明粘着带(OCA带8171CL：3M公司制造)，使黑色PET材接触所切出的样品的临时支撑体面来制作层叠体(第二层叠体)。使用透射型电子显微镜(Transmission Electron Microscope，TEM)对第二层叠体进行结构分析。在10处测定第二透明树脂层的厚度并求出平均值，且求出第二透明树脂层的厚度的平均值的第1预估值T2(I)。使用反射分光膜厚计FE-3000评价第二层叠体的反射光谱(波长：430nm～800nm)。求出各波长中的第二透明树脂层的折射率n2及第二透明树脂层的厚度的平均值的第2预估值T2(II)。此时，因考虑到第二透明树脂层与临时支撑体的界面的反射，故在将所述(1)中所求出的折射率n0的值与第1预估值T2(I)代入至计算式中的状态下，根据第二层叠体的反射光谱，通过模拟计算进行拟合来求出折射率n2及第2预估值T2(II)。
(3)准备在临时支撑体上形成有第二透明树脂层及第一透明树脂层的转印膜，并将其切出纵横的边的长度为10cm×10cm(当具有保护膜时将其剥离)。经由透明粘着带(OCA带8171CL：3M公司制造)，使黑色PET材接触所切出的转印膜的临时支撑体面来制作样品片(第三层叠体)。使用透射型电子显微镜(TEM)对样品片进行结构分析，在10处测定第一透明树脂层的厚度并求出平均值，且求出第一透明树脂层的厚度的平均值的预估值T1(I)。针对样品片，使用反射分光膜厚计FE-3000，以测定点：直径为φ40μm，并以0.2mm间隔，在任意方向的直线上评价200处测定点(即4cm长)的反射光谱。在与所述直线方向正交的方向上每隔1cm将其分成5行，合计重复1,000处。此时，因考虑到第二透明树脂层与临时支撑体的界面、及第二透明树脂层与第一透明树脂层的界面的反射，故在将所述(1)中所求出的折射率n0、所述(2)中所求出的折射率n2及第2预估值T2(II)、以及第1预估值T1(I)代入至计算式中的状态下，根据第三层叠体的反射光谱，通过模拟计算进行拟合来求出第一透明树脂层的折射率n1、以及1000处测定点中的第二透明树脂层及第一透明树脂层的厚度。进而，算出第二透明树脂层及第一透明树脂层的厚度的平均值、最大值、最小值及标准偏差，并求出n1、n2、T1、T2、σ1及H1。n1表示第一透明树脂层的折射率，n2表示第二透明树脂层的折射率，T1表示第一透明树脂层的平均厚度，T2表示第二透明树脂层的平均厚度，σ1表示第二透明树脂层的厚度的标准偏差，H1表示第一透明树脂层的厚度的最大值与最小值的差。
将利用TEM对第二透明树脂层的厚度及第一透明树脂层的厚度进行结构分析所获得的预估值输入至反射分光膜厚计中，由此可提高模拟的拟合精度。
另外，本发明的转印膜优选为在临时支撑体与第一透明树脂层之间还具有第二透明树脂层，且第二透明树脂层具有感光性。
通过设为如上所述的构成，可形成具有透明电极图案的视认性的降低效果的层叠体。虽然也不拘泥于任何理论，但通过减小透明电极图案(优选为氧化铟锡(Indium TinOxide，ITO))与所述第一透明树脂层的折射率差、以及所述第一透明树脂层与所述第二透明树脂层的折射率差，光反射减少且难以看到透明电极图案，可改善视认性。
另外，通过使第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，当将第一透明树脂层层叠于基材上时，可对与第一透明树脂层直接接触的金属配线部进行表面处理。可认为由所述表面处理所产生的金属配线部的保护性在将第一透明树脂层(及第二透明树脂层)去除后也有效。
以下，对本发明的转印膜的优选的形态进行说明。再者，本发明的转印膜优选为绝缘层或保护层用转印膜，更优选为静电电容型输入装置的透明绝缘层用或透明保护层用转印膜。
＜临时支撑体＞
本发明的转印膜具有临时支撑体。
所谓临时支撑体，是指在将转印膜所具有的第一透明树脂层和/或第二透明树脂层转印后被剥离的支撑体。
作为所述临时支撑体，可使用具有可挠性，在加压下或加压及加热下不产生显著的变形、收缩或伸展的材料。作为此种支撑体的例子，可列举聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中，特别优选为双轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
临时支撑体的厚度并无特别限制，通常为5μm～200μm的范围，就处理容易性、通用性等的观点而言，特别优选为10μm～150μm的范围。
另外，临时支撑体可为透明，也可含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
另外，可通过日本专利特开2005-221726号公报中所记载的方法等而对所述临时支撑体赋予导电性。
＜第一透明树脂层及第二透明树脂层＞
本发明的转印膜的第一形态中的转印膜的特征在于：具有临时支撑体、以及包含金属氧化抑制剂的第一透明树脂层，且第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
本发明的转印膜的第二形态中的转印膜的特征在于：具有临时支撑体、以及第一透明树脂层，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
另外，本发明的转印膜优选为在临时支撑体与第一透明树脂层之间还具有第二透明树脂层，且第二透明树脂层具有感光性。
所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层可为热硬化性，也可为光硬化性，也可兼具热硬化性及光硬化性。
其中，就在转印后通过热进行硬化而可赋予膜的可靠性的观点而言，所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层优选为至少具有热硬化性的透明树脂层，就在转印后进行光硬化而容易制膜、且在制膜后进行热硬化而可赋予膜的可靠性的观点而言，更优选为具有热硬化性、且具有光硬化性的透明树脂层。
另外，所述形态之中，优选为至少第二透明树脂层兼具热硬化性及光硬化性，就硬化后的硬化膜的物理的耐受性的观点而言，更优选为第一透明树脂层与第二透明树脂层均兼具热硬化性及光硬化性。
只要满足如上所述的第一透明树脂层的折射率的范围，则第一透明树脂层及第二透明树脂层的材料并无特别限制。本发明的转印膜可为负型材料，也可为正型材料。
当本发明的转印膜为负型材料时，所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层优选为通过涂布使粘合剂聚合物、聚合性化合物、聚合引发剂等成分溶解于溶媒中而成的树脂组合物来形成。
另外，优选为第一透明树脂层及第二透明树脂层中的任一者为显示出水溶性的层，另一者为显示出非水溶性的层，更优选为第一透明树脂层为显示出水溶性的层，第二透明树脂层为显示出非水溶性的层。
根据所述形态，即便在临时支撑体上层叠第二透明树脂层后不使第二透明树脂层硬化而层叠第一透明树脂层，层分离也变得良好，可通过所述机制来改善透明电极图案视认性。另外，在自转印膜将折射率调整层(即第一透明树脂层及第二透明树脂层)转印至透明电极图案上后，可通过光刻来显影成所期望的图案。再者，若第一透明树脂层及第二透明树脂层的层分离差，则由所述机制所产生的折射率调整的效果容易变得不充分，透明电极图案视认性的改善容易变得不充分。
所谓显示出水溶性的层，是指当浸渍于25℃的水中时，每单位膜厚在10min/μm以内的浸渍时间内完全地溶解和/或分散的层。
另外，所谓显示出非水溶性的层，是指当浸渍于25℃的水中时，每单位膜厚在10min/μm以内的浸渍时间内不完全地溶解和/或分散的层。
再者，在本发明中，当第一透明树脂层和/或第二透明树脂层具有硬化性时，利用所述朝水中的浸渍的测定是使用硬化前的第一透明树脂层和/或第二透明树脂层来进行。
-溶媒-
在用于形成第一透明树脂层和/或第二透明树脂层的树脂组合物(以下，也分别称为“第一透明树脂层形成用组合物”、“第二透明树脂层形成用组合物”)中，可使用下述的溶剂。
当第一透明树脂层和/或第二透明树脂层为显示出非水溶性的层时，在用于形成显示出非水溶性的层的第一透明树脂层形成用组合物和/或第二透明树脂层形成用组合物中可使用一般的有机溶剂，例如可列举：甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮、甲基异丁基酮、甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺等。
当第一透明树脂层和/或第二透明树脂层为显示出水溶性的层时，用于形成显示出水溶性的层的第一透明树脂层形成用组合物、和/或第二透明树脂层形成用组合物优选为使用水、或碳原子数为1～3的低级醇与水的混合溶媒作为水系溶媒。本发明的转印膜优选为显示出水溶性的层是涂布水或碳原子数为1～3的低级醇与水的混合溶媒而形成，更优选为涂布水/碳原子数为1～3的醇含有率以质量比计为20/80～100/0的包含水或混合溶媒的涂布液而形成。水/碳原子数为1～3的醇含有率以质量比计，特别优选为30/70～80/20的范围，最优选为35/65～65/35。
作为水系溶媒，优选为水、水及甲醇的混合溶剂、水及乙醇的混合溶剂，就干燥及涂布性的观点而言，优选为水及甲醇的混合溶剂。
尤其，当第一透明树脂层为水溶性，第二透明树脂层为非水溶性时，在第一透明树脂层形成用组合物中，在使用水及甲醇的混合溶剂的情况下，水/甲醇的质量比(质量％比率)优选为20/80～100/0，更优选为30/70～90/10的范围，特别优选为35/65～65/35，最优选为38/62～60/40。若与所述水/碳原子数为1～3的醇含有率以质量比计为20/80的范围相比，甲醇变多，则第二透明树脂层溶解、或产生白浊而不佳。
通过控制成所述范围，可不与第二透明树脂层产生层混合而实现涂布与迅速的干燥。以下，对本发明的转印膜为负型材料时的各层中所包含的成分进行详述。
[第一透明树脂层及第二透明树脂层的材料]
第一透明树脂层包含金属氧化抑制剂。
作为第一透明树脂层及第二透明树脂层所含有的化合物，可列举：金属氧化物粒子、粘合剂聚合物、聚合性化合物及光聚合性引发剂等。
各层的详细情况将后述。
第一透明树脂层优选为显示出水溶性的层，第二透明树脂层优选为显示出非水溶性的层。
-金属氧化抑制剂-
本发明中所使用的第一透明树脂层包含金属氧化抑制剂。
本发明中所使用的第二透明树脂层可包含金属氧化抑制剂。
作为本发明中所使用的金属氧化抑制剂，优选为具有包含氮原子作为环员的芳香环的化合物。
另外，作为本发明中所使用的金属氧化抑制剂，所述包含氮原子的芳香环优选为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环、及这些环与其他芳香环的缩合环所组成的群组中的至少一种环，所述包含氮原子的芳香环更优选为咪唑环、三唑环、咪唑环与其他芳香环的缩合环、或三唑环与其他芳香环的缩合环，进而更优选为咪唑环、或咪唑环与其他芳香环的缩合环。
作为所述其他芳香环，可为单环，也可为杂环，但优选为单环，更优选为苯环或萘环，进而更优选为苯环。
以下，将具有苯并咪唑结构的化合物也称为苯并咪唑化合物，将具有苯并三唑结构的化合物也称为苯并三唑化合物。
本发明中所使用的金属氧化抑制剂优选为苯并咪唑化合物或苯并三唑化合物。
作为所述苯并咪唑化合物，只要是具有苯并咪唑结构的化合物，则并无特别限定，可列举：苯并咪唑、2-苯基苯并咪唑、2-甲苯甲酰基苯并咪唑、2-苯基-5-氯苯并咪唑、2-甲基苯并咪唑、2-乙基苯并咪唑、2-丙基苯并咪唑、2-(2'-乙基丙基)苯并咪唑、2-(苯基甲基)苯并咪唑、2-(二苯基甲基)苯并咪唑、2-二苯基甲基-5-甲基苯并咪唑、2-(萘基甲基)苯并咪唑、2-萘基甲基-5-氯苯并咪唑、2-噻吩基苯并咪唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并咪唑、2-巯基-5-羧基苯并咪唑、2-巯基-5-甲基苯并咪唑、2-羟基苯并咪唑、2-溴苯并咪唑、2-巯基-5-硝基苯并咪唑、2-巯基-5-氨基苯并咪唑等。
另外，作为所述苯并三唑化合物，只要是具有苯并三唑结构的化合物，则并无特别限定，但就可获得更优异的防腐蚀效果这一观点而言，优选为具有由下述式(A)所表示的结构。
[化1]
所述式(A)中，R1及R2分别独立，R1表示氢原子、碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基、碳数6～14的芳基、由式(B)所表示的基、巯基、碳数1～6的烷氧基羰基等取代基，n为0～4的整数，当n为2以上时，n个R1可相同，也可不同，R2表示氢原子、碳数1～12的烷基、碳数1～12的烷氧基、碳数6～14的芳基、由式(B)所表示的基、巯基、或碳数1～12的烷氧基羰基等取代基。
[化2]
式(B)中，R3及R4分别独立地表示氢原子、或碳数1～10的烷基，R5表示单键或碳数1～6的亚烷基，*表示与其他结构的键结部位。
作为优选的金属氧化抑制剂，可优选地例示咪唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑、苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、2,2'-{[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基}双乙醇、及羧基苯并三唑，更优选为咪唑、苯并咪唑、苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、及羧基苯并三唑，进而更优选为苯并咪唑、苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N,N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、及羧基苯并三唑，特别优选为苯并咪唑及苯并三唑。
另外，相对于本发明中所使用的第一透明树脂层的总质量，金属氧化抑制剂的含量优选为0.1质量％～20质量％，更优选为0.5质量％～10质量％，进而更优选为1质量％～5质量％。
-金属氧化物粒子-
为了调节折射率或透光性，第一透明树脂层优选为含有金属氧化物粒子。为了调节折射率或透光性，第二透明树脂层可含有金属氧化物粒子。金属氧化物粒子因透明性高、且具有透光性，故可获得折射率高、透明性优异的第一透明树脂层。
所述金属氧化物粒子优选为折射率高于包含除金属氧化物粒子以外的材料的层的折射率者。具体而言，作为第一透明树脂层中所使用的金属氧化物粒子，更优选为具有400nm～750nm的波长的光中的折射率为1.70以上的粒子，进而更优选为折射率为1.80以上的粒子，特别优选为折射率为1.90以上的粒子。另外，作为第二透明树脂层中所使用的金属氧化物粒子，更优选为具有400nm～750nm的波长的光中的折射率为1.50以上的粒子，进而更优选为折射率为1.80以上的粒子，特别优选为折射率为1.90以上的粒子。
此处，所谓具有400nm～750nm的波长的光中的折射率为1.50以上，是指具有所述范围的波长的光中的平均折射率为1.50以上，不需要具有所述范围的波长的所有光中的折射率为1.50以上。另外，平均折射率是对于具有所述范围的波长的各光的折射率的测定值的总和除以测定点的数量所得的值。
再者，所述金属氧化物粒子的金属亦包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
作为透光性且折射率高的金属氧化物粒子，优选为包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更优选为氧化钛粒子、钛复合氧化物粒子、氧化锌粒子、氧化锆粒子、铟/锡氧化物粒子、锑/锡氧化物粒子，进而更优选为氧化钛粒子、钛复合氧化物粒子、氧化锆粒子，特别优选为氧化钛粒子、氧化锆粒子、氧化锡粒子，就化学性质及物理性质稳定且容易获得微粒子分散液而言，最优选为氧化锆粒子。为了赋予分散稳定性，还可利用有机材料对这些金属氧化物粒子的表面进行处理。
就树脂组合物的透明性的观点而言，所述金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，特别优选为3nm～80nm。此处，粒子的平均一次粒径是指利用电子显微镜测定任意的200个粒子的粒径的算术平均。另外，当粒子的形状并非球形时，将粒子的外径中的最大径设为粒径。
另外，所述金属氧化物粒子可单独使用一种，还可并用两种以上。
另外，后述的第一透明树脂层形成用组合物中的金属氧化物粒子的含量只要考虑对所获得的光学构件所要求的折射率、或透光性等而适宜决定即可，相对于所述组合物的总固体成分，优选为设为5质量％～80质量％，更优选为设为10质量％～70质量％。
就将折射率控制成所述第一透明树脂层的折射率的范围的观点而言，本发明的转印膜优选为所述第一透明树脂层具有ZrO2粒子及TiO2粒子中的至少一者，更优选为具有ZrO2粒子。
-粘合剂聚合物-
第一透明树脂层及第二透明树脂层优选为含有粘合剂聚合物。作为所述粘合剂聚合物，只要不违反本发明的主旨，则并无特别限制，可自公知的粘合剂聚合物中适宜选择，优选为碱可溶性树脂，作为所述碱可溶性树脂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落0025、日本专利特开2010-237589号公报的段落0033～段落0052中所记载的聚合物。其中，优选为具有酸性基的丙烯酸聚合物。
另外，当第一透明树脂层和/或第二透明树脂层为显示出水溶性的层时，作为粘合剂聚合物，可使用对于所述水系溶媒具有溶解性的聚合物。
作为对于水系溶媒具有溶解性的聚合物，只要不违反本发明的主旨，则并无特别限制，可自公知的聚合物中适宜选择。例如可列举：所述具有酸性基的丙烯酸聚合物、或日本专利特开昭46-2121号公报或日本专利特公昭56-40824号公报中所记载的聚乙烯基醚/顺丁烯二酸酐聚合物、羧基烷基纤维素的水溶性盐、水溶性纤维素醚类、羧基烷基淀粉的水溶性盐、聚乙烯醇、水溶性聚乙烯丁醛或水溶性聚乙烯缩醛等聚乙烯醇衍生物、聚乙烯吡咯烷酮、各种聚丙烯酰胺类、各种水溶性聚酰胺、聚丙烯酸的水溶性盐、明胶、环氧乙烷聚合物、由各种淀粉及其类似物所组成的群组的水溶性盐、苯乙烯/顺丁烯二酸的共聚物、顺丁烯二酸酯树脂等。
粘合剂聚合物能够以使聚合物溶解于溶媒中而成的聚合物溶液的形态，含有于后述的第一透明树脂层形成用组合物、和/或第二透明树脂层形成用组合物中。作为所述溶媒，并无特别限制，使用通常用于聚合物的溶解的溶媒，可例示：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、甲基乙基酮等。
作为对于水系溶媒具有溶解性的聚合物，优选为具有酸性基的丙烯酸聚合物及聚乙烯醇衍生物，具体而言，特别优选为具有酸性基的丙烯酸聚合物、聚乙烯丁醛、聚乙烯缩醛、完全皂化聚乙烯醇、或对聚乙酸乙烯酯进行部分皂化而成的聚乙烯醇。
-聚合性化合物-
第一透明树脂层及第二透明树脂层优选为含有聚合性化合物。
作为所述聚合性化合物，优选为自由基聚合性化合物。
作为第一透明树脂层及第二透明树脂层中所使用的聚合性化合物，可列举：
聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；
聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)氰尿酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；
在三羟甲基丙烷或甘油等多官能醇中加成环氧乙烷或环氧丙烷后，进行(甲基)丙烯酸酯化而成者等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
进而，可列举：日本专利特公昭48-41708号公报、日本专利特公昭50-6034号公报及日本专利特开昭51-37193号公报中所记载的丙烯酸氨基甲酸酯类；日本专利特开昭48-64183号公报、日本专利特公昭49-43191号公报及日本专利特公昭52-30490号公报中所记载的聚酯丙烯酸酯类；作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外，还可适宜地使用如以下述式(1)为代表的丙烯酰胺单体。所述聚合性化合物之中，优选为多官能丙烯酸酯、丙烯酸氨基甲酸酯及丙烯酰胺单体。
[化3]
作为第一透明树脂层和/或第二透明树脂层为显示出水溶性的层时所使用的聚合性化合物，除所述聚合性化合物以外，还可列举具有羟基的单体，分子内具有环氧乙烷或聚环氧丙烷、及磷酸基的单体。
-聚合引发剂-
第一透明树脂层及第二透明树脂层优选为含有聚合引发剂。
作为第一透明树脂层及第二透明树脂层中所使用的所述聚合引发剂，优选为光聚合引发剂，优选为光自由基聚合引发剂。
当第一透明树脂层和/或第二透明树脂层为水溶性的层时，优选为使用对于水系溶媒具有溶解性的光聚合性引发剂，可优选地例示艳佳固(IRGACURE)2959(巴斯夫(BASF)公司制造)、或由下述式(2)所表示的聚合引发剂。
[化4]
另一方面，作为显示出非水溶性的层中所使用的光聚合引发剂或聚合引发系，可使用日本专利特开2011-95716号公报中所记载的段落0031～段落0042中所记载的光聚合引发剂。例如除1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(O-苯甲酰基肟)](商品名：艳佳固(IRGACURE)OXE-01，巴斯夫公司制造)以外，可优选地使用乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(0-乙酰基肟)商品名：艳佳固(IRGACURE)OXE-02，巴斯夫公司制造)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)379EG，巴斯夫公司制造)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)907，巴斯夫公司制造)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)127，巴斯夫公司制造)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮-1(商品名：艳佳固(IRGACURE)369，巴斯夫公司制造)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)1173，巴斯夫公司制造)、1-羟基-环己基-苯基-酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)184，巴斯夫公司制造)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)651，巴斯夫公司制造)、肟酯系的(商品名：露娜(Lunar)6，大昌华嘉日本(DKSH Japan)(股份)制造)等。
-聚合物乳胶-
另外，当第一透明树脂层形成用组合物和/或第二透明树脂层形成用组合物含有水系溶媒时，第一透明树脂层及第二透明树脂层也可包含源自聚合物乳胶的聚合物粒子。此处所述的聚合物乳胶是指水不溶的聚合物的微粒子分散于水中而成者。关于聚合物乳胶，例如在室井宗一著《高分子乳胶的化学(高分子发行会发行(1973年))》中有记载。
作为可使用的聚合物粒子，优选为丙烯酸系、乙酸乙烯酯系、橡胶系(例如苯乙烯-丁二烯系、氯丁二烯系)、烯烃系、聚酯系、聚氨基甲酸酯系、聚苯乙烯系等的聚合物，及包含这些的共聚物的聚合物粒子。优选为增强构成聚合物粒子的聚合物链彼此间的键结力。作为增强聚合物链彼此间的键结力的方法，可列举与利用由氢键结所产生的相互作用者生成共价键的方法。作为赋予氢键结力的方法，优选为使在聚合物链中具有极性基的单体进行共聚、或进行接枝聚合来导入。作为极性基，可列举羧基(含有于丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、反丁烯二酸、顺丁烯二酸、巴豆酸、部分酯化顺丁烯二酸等中)，一级氨基、二级氨基及三级氨基，铵盐基，磺酸基(苯乙烯磺酸基)等，特别优选为羧基、磺酸基。相对于聚合物100质量％，具有这些极性基的单体的共聚比的优选范围为5质量％～35质量％，更优选为5质量％～20质量％，进而更优选为15质量％～20质量％的范围内。另一方面，作为生成共价键的方法，可列举：使羟基、羧基、一级氨基、二级氨基、乙酰乙酰基、磺酸基等与环氧化合物、封闭异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等进行反应的方法。
利用这些反应的聚合物之中，优选为由多元醇类与聚异氰酸酯化合物的反应所获得的聚氨基甲酸酯衍生物，更优选为并用多元胺作为扩链剂，特别优选为进而向聚合物链中导入所述极性基而变成离子聚合物型者。
聚合物的重量平均分子量优选为1万以上，更优选为2万～10万。作为适合于本发明的聚合物，可列举作为乙烯与甲基丙烯酸的共聚物的乙烯离子聚合物、聚氨基甲酸酯离子聚合物。
可用于本发明的聚合物乳胶可为通过乳化聚合所获得者，也可为通过乳化所获得者。关于这些聚合物乳胶的制备方法，例如在《乳液·乳胶手册》(乳液·乳胶手册编辑委员会编辑，大成社(股份)发行(1975年))中有记载。作为可用于本发明的聚合物乳胶，例如可列举：对聚乙烯离子聚合物的水性分散液(商品名：开米帕(Chemipearl)S120三井化学(股份)制造。固体成分为27％)、(商品名：开米帕(Chemipearl)S100三井化学(股份)制造。固体成分为27％)、(商品名：开米帕(Chemipearl)S111，三井化学(股份)制造。固体成分为27％)、(商品名：开米帕(Chemipearl)S200，三井化学(股份)制造。固体成分为27％)、(商品名：开米帕(Chemipearl)S300，三井化学(股份)制造。固体成分为35％)、(商品名：开米帕(Chemipearl)S650，三井化学(股份)制造。固体成分为27％)、(商品名：开米帕(Chemipearl)S75N，三井化学(股份)制造。固体成分为24％)，或聚醚系聚氨基甲酸酯的水性分散液(商品名：海德兰(Hydran)WLS-201，迪爱生(DIC)(股份)制造。固体成分为35％，Tg-50℃)、(商品名：海德兰(Hydran)WLS-202，迪爱生(股份)制造。固体成分为35％，Tg-50℃)、(商品名：海德兰(Hydran)WLS-221，迪爱生(股份)制造。固体成分为35％，Tg-30℃)、(商品名：海德兰(Hydran)WLS-210，迪爱生(股份)制造。固体成分为35％，Tg-15℃)、(商品名：海德兰(Hydran)WLS-213，迪爱生(股份)制造。固体成分为35％，Tg-15℃)、(商品名：海德兰(Hydran)WLI-602，迪爱生(股份)制造。固体成分为39.5％，Tg-50℃)、(商品名：海德兰(Hydran)WLI-611，迪爱生(股份)制造。固体成分为39.5％，Tg-15℃)，丙烯酸烷基酯共聚合物铵(商品名：朱利莫(Julimer)AT-210，日本纯药(股份)制造)、丙烯酸烷基酯共聚合物铵(商品名：朱利莫(Julimer)ET-410，日本纯药(股份)制造)、丙烯酸烷基酯共聚合物铵(商品名：朱利莫(Julimer)AT-510，日本纯药(股份)制造)、聚丙烯酸(商品名：朱利莫(Julimer)AC-10L，日本纯药(股份)制造)进行氨中和，并加以乳化而成者。
-其他添加剂-
在第一透明树脂层或第二透明树脂层中，也可使用添加剂。作为所述添加剂，例如可列举日本专利第4502784号公报的段落0017、日本专利特开2009-237362号公报的段落0060～段落0071中所记载的表面活性剂，或日本专利第4502784号公报的段落0018中所记载的热聚合防止剂，进而可列举日本专利特开2000-310706号公报的段落0058～段落0071中所记载的其他添加剂。
以上，以本发明的转印膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但本发明的转印膜也可为正型材料。当本发明的转印膜为正型材料时，在第一透明树脂层和/或第二透明树脂层中可使用例如日本专利特开2005-221726号公报中所记载的材料等，但并不限定于此。
[第一透明树脂层]
本发明的转印膜的第一形态中的第一透明树脂层的折射率为1.60以上，优选为1.62以上，更优选为1.65以上。
另外，折射率的上限值并无特别限制，但优选为1.85以下，更优选为1.74以下。
本发明的转印膜的第二形态中的第一透明树脂层的折射率优选为1.60以上，更优选为1.62以上，进而更优选为1.65以上。
另外，折射率的上限值并无特别限制，但优选为小于所使用的金属氧化物粒子的折射率，另外，具体而言，优选为1.85以下，更优选为1.74以下。
本发明中的第一透明树脂层可为热硬化性，也可为光硬化性，也可兼具热硬化性及光硬化性。
就硬化后的硬化膜的物理的耐受性的观点而言，所述第一透明树脂层优选为具有光硬化性和/或热硬化性。
其中，就在转印后通过热进行硬化而可赋予膜的可靠性的观点而言，所述第一透明树脂层、及后述的第二透明树脂层优选为至少具有热硬化性的透明树脂层，就在转印后进行光硬化而容易制膜、且在制膜后进行热硬化而可赋予膜的可靠性的观点而言，更优选为兼作热透明树脂层及光透明树脂层。优选为具有光硬化性和/或热硬化性。
本发明的转印膜的第一形态中的第一透明树脂层包含所述金属氧化抑制剂，就将所述第一透明树脂层的折射率控制成所述范围的观点而言，优选为还包含所述金属氧化物粒子。另外，所述第一透明树脂层更优选为还包含所述金属氧化物粒子、所述粘合剂聚合物、所述聚合性化合物、及所述聚合引发剂，可还包含源自所述聚合物乳胶的树脂、及所述其他添加剂。
本发明的转印膜的第二形态中的第一透明树脂层包含所述金属氧化抑制剂、及所述金属氧化物粒子，优选为还包含所述粘合剂聚合物、所述聚合性化合物、及所述聚合引发剂，可还包含源自所述聚合物乳胶的树脂、及所述其他添加剂。
就优选为具有光硬化性和/或热硬化性这一观点而言，本发明中所使用的第一透明树脂层优选为含有聚合性化合物及聚合引发剂。
在所述第一透明树脂层中，可对应于所使用的聚合物或聚合性化合物的种类，以任意的比例包含金属氧化物粒子，但在所述第一透明树脂层中，相对于所述第一透明树脂层的总质量，优选为包含40质量％～95质量％的所述金属氧化物粒子，更优选为包含50质量％～90质量％的所述金属氧化物粒子，特别优选为包含55质量％～85质量％的所述金属氧化物粒子。
另外，当金属氧化物粒子为氧化锆粒子时，相对于所述第一透明树脂层的总质量，优选为含有40质量％～90质量％的金属氧化物粒子，更优选为含有50质量％～88质量％的金属氧化物粒子，特别优选为含有60质量％～85质量％的金属氧化物粒子。当金属氧化物粒子为氧化钛粒子时，相对于所述第一透明树脂层的总质量，优选为含有20质量％～80质量％的金属氧化物粒子，更优选为含有30质量％～75质量％的金属氧化物粒子，特别优选为含有40质量％～70质量％的金属氧化物粒子。
本发明的转印膜的第一形态、及第二形态中的第一透明树脂层优选为使用第一透明树脂层形成用组合物来形成。
第一透明树脂层形成用组合物包含金属氧化抑制剂，视需要可含有所述溶媒、所述金属氧化物粒子、所述粘合剂聚合物、所述聚合性化合物、及所述聚合引发剂、所述聚合物乳胶、以及所述其他添加剂。
就金属配线部的保护性的观点而言，本发明中所使用的第一透明树脂层优选为在本发明的转印膜上，除后述的保护膜以外，位于最外层。
即，当使用本发明的转印膜时，优选为第一透明树脂层与作为转印目的地的金属配线部直接接触的形态。后述的保护膜可位于比第一透明树脂层更外层，但在此情况下，在转印前将保护膜去除。
本发明的转印膜中所使用的第一透明树脂层的膜厚优选为500nm以下，更优选为110nm以下。另外，第一透明树脂层的膜厚优选为55nm以上，更优选为60nm以上，进而更优选为70nm以上。
[第二透明树脂层]
本发明的转印膜中所使用的第二透明树脂层的折射率优选为小于第一透明树脂层的折射率。另外，第二透明树脂层的折射率优选为未满1.60，更优选为1.48～1.55，进而更优选为1.50～1.53，特别优选为1.50～1.52，最优选为1.51～1.52。
本发明中的第二透明树脂层优选为具有感光性。所谓“感光性”，是指对于显影液的溶解度因光的照射而变化的性质。
通过使第二透明树脂层为感光性，本发明的转印膜可用作正型材料或负型材料。
就本发明的转印膜优选为负型材料的观点而言，第二透明树脂层优选为光硬化性的层。
只要第二透明树脂层具有感光性，则第一透明树脂层可不具有感光性，但优选为第二透明树脂层及第一透明树脂层均具有感光性，特别优选为第二透明树脂层及第一透明树脂层均具有光硬化性。
另外，就硬化后的硬化膜的物理的耐受性的观点而言，本发明中的第二透明树脂层优选为具有光硬化性及热硬化性。
另外，第二透明树脂层优选为能够进行碱显影的层。所谓能够进行碱显影的层，是指在接触碱性水溶液的情况下，显示出溶解性和/或膨润性的层。
本发明中的第二透明树脂层优选为包含所述聚合性化合物、及所述光聚合引发剂。通过使本发明的第二透明树脂层含有聚合性化合物及光聚合引发剂，第二透明树脂层变成具有光硬化性的层。
所述第二透明树脂层更优选为还包含所述粘合剂聚合物，可还包含所述金属氧化抑制剂、所述金属氧化物粒子、所述源自聚合物乳胶的树脂、及所述其他添加剂。
作为第二透明树脂层的材料，可无特别限制地使用任意的所述粘合剂聚合物或所述聚合性化合物，但就用作静电电容型输入装置的透明保护膜的观点而言，优选为表面硬度、耐热性高者，所述粘合剂聚合物或所述聚合性化合物之中，可优选地使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。
另外，就优选为所述第二透明树脂层能够进行碱显影这一观点而言，本发明的转印膜优选为含有碱可溶性树脂作为所述粘合剂聚合物。
所述第二透明树脂层中，相对于所述第二透明树脂层的固体成分，优选为包含1质量％以上的所述光聚合引发剂，更优选为包含2质量％以上的所述光聚合引发剂，特别优选为包含3质量％以上的所述光聚合引发剂。
所述第二透明树脂层可包含金属氧化物粒子，也可不含金属氧化物粒子。为了将所述第二透明树脂层的折射率控制成所述范围，可对应于所使用的聚合物或聚合性化合物的种类，以任意的比例包含金属氧化物粒子。所述第二透明树脂层中，相对于所述第二透明树脂层的固体成分，优选为包含0质量％～35质量％的所述金属氧化物粒子，更优选为包含0质量％～10质量％的所述金属氧化物粒子，特别优选为不含所述金属氧化物粒子。
本发明的转印膜中的第二透明树脂层优选为使用第二透明树脂层形成用组合物来形成。
第二透明树脂层形成用组合物优选为包含所述聚合性化合物、及所述聚合引发剂，视需要可含有所述溶媒、所述金属氧化抑制剂、所述金属氧化物粒子、所述粘合剂聚合物、所述聚合物乳胶、及所述其他添加剂。
本发明中所使用的转印膜中所包含的第二透明树脂层的膜厚优选为1μm以上，更优选为1μm～20μm，进而更优选为1μm～10μm，特别优选为2μm～9μm，最优选为3μm～8μm。
若第二透明树脂层的膜厚为所述范围，则当使用本发明的转印膜制造保护层时，可获得保护性优异的保护层，故优选。
[透明树脂层的粘度]
第一透明树脂层及第二透明树脂层在100℃下所测定的粘度优选为处于2,000Pa·sec～50,000Pa·sec的区域内。
此处，所述粘度可如以下般测定。自临时支撑体上剥离第一透明树脂层及第二透明树脂层，在加热平台上以85℃进行一次熔融后冷却至室温为止来进行试样整形。可使用熔融粘度测定装置(装置名：DHR-2，日本TA仪器(TA Instruments Japan)(股份)制造)，在以下的条件下进行测定。测定条件：温度：40℃～140℃，升温速度：5℃/min，频率：1Hz，变形：0.5％。
＜保护膜＞
本发明的转印膜优选为邻接于第一透明树脂层上而具有保护膜。
在转印膜中，将与第一透明保护层接触的保护膜剥离后进行转印，由此变成在转印时作为转印目的地的基材与第一透明保护层邻接的形态。
可适宜使用日本专利特开2006-259138号公报的段落0083～段落0087及段落0093中所记载的保护膜。
所述保护膜可通过将由所述原材料所形成的片材压接于形成有所述第一透明树脂层等的膜上来形成。
作为所述压接方法，并无特别限制，可使用公知的方法。
＜其他层＞
本发明的转印膜可对应于目的而具有其他层。作为其他层，例如可列举：为了对转印后的第二透明树脂层的表面赋予物理耐久性而设置在第二透明树脂层与临时支撑体之间的硬涂层、或为了使转印时的临时支撑体的剥离变得容易而设置在临时支撑体与第二透明树脂层之间的剥离层等。如上所述，第一透明树脂层优选为位于(除保护膜以外)转印膜的最外层，因此当存在其他层时，其他层优选为位于比第一透明树脂层更靠近临时支撑体侧。
图12表示本发明的转印膜的优选的构成的一例。图12为临时支撑体26、第二透明树脂层7、第一透明树脂层12及保护剥离层(保护膜)29以所述层构成相互邻接并层叠而成的作为本发明的一实施形态的转印膜30的概略图。
(转印膜的制造方法)
本发明的转印膜可依据日本专利特开2006-259138号公报的段落0094～段落0098中所记载的感光性转印材料的制作方法来制作。其中，本发明的转印膜优选为通过以下的本发明的转印膜的制造方法来制造。
本发明的转印膜的制造方法的第一形态的特征在于：具有在临时支撑体上形成第二透明树脂层的步骤、以及在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
本发明的转印膜的制造方法的第二形态的特征在于：具有在临时支撑体上形成第二透明树脂层的步骤、以及在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
本发明的转印膜的制造方法的第三形态的特征在于：具有在临时支撑体上形成包含聚合性化合物及光聚合引发剂的第二透明树脂层的步骤、以及在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
本发明的转印膜的制造方法中的临时支撑体、第二透明树脂层、及第一透明树脂层的优选的形态与所述本发明的转印膜中的这些的优选的形态相同。
＜形成第二透明树脂层的步骤＞
本发明的转印膜的制造方法的第一形态～第三形态包含在临时支撑体上形成各个形态中的第二透明树脂层的步骤。
作为第二透明树脂层的形成方法，优选为将所述第二透明树脂层形成用组合物涂布于临时支撑体上来形成。
作为所述树脂组合物的涂布方法，可无特别限定地使用公知的方法，例如可优选地列举：通过使用旋转器、旋转涂膜机(whirler)、辊涂机、帘幕式涂布机、刮刀式涂布机、线棒涂布机、挤压机(extruder)等涂布机进行涂布，并加以干燥来形成的方法。
＜在第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤＞
本发明的转印膜的制造方法包含在第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤。
作为第一透明树脂层的形成方法，优选为将所述第一透明树脂层形成用组合物涂布于第二透明树脂层上来形成。
作为第一透明树脂层形成用组合物的涂布方法，可无特别限定地使用公知的方法，例如可优选地列举：通过使用旋转器、旋转涂膜机、辊涂机、帘幕式涂布机、刮刀式涂布机、线棒涂布机、挤压机等涂布机进行涂布，并加以干燥来形成的方法。
在本发明的转印膜的制造方法中，优选为用于形成第一透明树脂层与所述第二透明树脂层的第一透明树脂层形成用组合物及第二透明树脂层形成用组合物中的任一种组合物中，水及碳原子数为1～3的醇在其涂布溶媒中所占的含量合计为70质量％以上，另一种组合物中，水及碳原子数为1～3的醇在其涂布溶媒中所占的含量合计为20质量％以下。更优选为水及碳原子数为1～3的醇在第一透明树脂层形成用组合物的涂布溶媒中所占的含量合计为70质量％以上，水及碳原子数为1～3的醇在第二透明树脂层形成用树脂组合物的涂布溶媒中所占的含量合计为20质量％以下。
依据此种构成，即便在层叠第二透明树脂层后不使其进行硬化而层叠第一透明树脂层，层分离也变得良好，两者的折射率得到保持，并可如期望般改善透明电极图案视认性(难以被视认)。而且，在此情况下，因在第一透明树脂层及第二透明树脂层未硬化的状态下制作转印膜，故可在将第一透明树脂层及第二透明树脂层转印至透明电极图案上后，通过光刻来制作所期望的图案。
相反地，当不依据如上所述的构成而是在第二透明树脂层上层叠第一透明树脂层时，两者容易混合且难以保持所期望的折射率，因此难以获得透明电极图案视认性的改善效果。在此情况下，当在层叠第一透明树脂层前使第二透明树脂层硬化时，两层的层分离变得容易，但如此制作的转印膜因第二透明树脂层已得到硬化，故无法通过光刻来进行图案化。
(层叠体)
本发明的层叠体的第一形态的特征在于：具有基材；透明电极图案，位于所述基材上；第一透明树脂层，邻接并位于所述透明电极图案上；第二透明树脂层，位于所述第一透明树脂层上；且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
本发明的层叠体的第二形态的特征在于：具有基材；透明电极图案，位于所述基材上；第一透明树脂层，邻接并位于所述透明电极图案上；第二透明树脂层，位于所述第一透明树脂层上；且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
根据所述形态，可降低所述透明电极图案的视认性。
本发明的层叠体中的第二透明树脂层、及第一透明树脂层的优选的形态与所述本发明的转印膜中的这些的优选的形态相同。
另外，本发明的层叠体优选为透明层叠体。所谓透明层叠体，是指至少一部分透明的层叠体，优选为包含后述的透明电极图案的一部分的区域透明。所谓层叠体透明，是指层叠体的透过率变成80％以上。所述透过率可使用在400nm～750nm的波长范围内，以10nm的间距所测定的值的算术平均值。
本发明的层叠体的第一形态中的第一透明树脂层的折射率为1.60以上，优选为1.62以上，更优选为1.65以上。
另外，折射率的上限值并无特别限制，但优选为1.85以下，更优选为1.74以下。
本发明的层叠体的第二形态中的第一透明树脂层的折射率优选为1.60以上，更优选为1.62以上，进而更优选为1.65以上。
另外，折射率的上限值并无特别限制，但优选为小于所使用的金属氧化物粒子的折射率，另外，具体而言，优选为1.85以下，更优选为1.74以下。
本发明的层叠体的第一形态及第二形态中所使用的第二透明树脂层的折射率优选为小于第一透明树脂层的折射率。另外，第二透明树脂层的折射率优选为未满1.60，更优选为1.48～1.55，进而更优选为1.50～1.53，特别优选为1.50～1.52，最优选为1.51～1.52。
＜层叠体中的折射率、及厚度测定方法＞
所获得的透明层叠体中的n1、n2、T2、σ1及H1可使用反射分光膜厚计FE-3000(大冢电子(股份)制造)，对每一层重复与转印膜中的n1、n2、T2、σ1及H1的算出相同的方法来求出。以下表示其概略。另外，以下的测定是在25℃的条件下进行。
当使用透明的基材(以下，也称为“透明基板”)作为基材时，折射率可如下述般进行测定。所谓透明的基材，是指基材的透过率变成80％以上的基材。所述透过率可使用在400nm～750nm的波长范围内，以10nm的间距所测定的值的算术平均值。另外，将基材的透过率未满80％的基材称为不透明的基材。
(1)关于透明层叠体，针对依次层叠有透明基板、透明膜、透明电极图案的样品，或依次层叠有透明基板、透明膜、透明电极图案及第一透明树脂层的样品等，事先测定各层的折射率与各层的厚度的预估值。
(2)在透明层叠体中，针对透明基板/透明膜/透明电极图案/第一透明树脂层/第二透明树脂层的5层构成的部分，切出纵横的边的长度为10cm×10cm。经由透明粘着带(OCA带8171CL：3M公司制造)，使黑色PET材接触所切出的透明层叠体来制作样品片。使用透射型电子显微镜(TEM)对样品片进行结构分析，并求出各层的厚度的预估值。针对样品片，使用FE-3000(大冢电子(股份)制造)，以测定点：直径为φ40μm，并以0.2mm间隔，在任意方向的直线上评价100处测定点中的反射光谱。此时，因考虑到第一透明树脂层与透明电极图案的界面、及第二透明树脂层与第一透明树脂层的界面，故在将第一透明树脂层、透明基板、透明膜及透明电极图案的折射率及第二透明树脂层的厚度的平均值的预估值，以及第一透明树脂层的厚度的平均值的预估值代入至计算式中的状态下，根据透明基板/透明膜/透明电极图案/第一透明树脂层/第二透明树脂层的5层构成的部分的反射光谱，通过模拟计算进行拟合来求出第二透明树脂层的折射率n2、第一透明树脂层的折射率n1、以及100处测定点中的第二透明树脂层及第一透明树脂层的厚度。进而，算出第二透明树脂层及第一透明树脂层的厚度的平均值、最大值、最小值及标准偏差，并求出n1、n2、T1、T2、σ1及H1。在本说明书中，将任意的方向设为与样品片的一边平行的方向，并将100处测定点(即2cm长)设为自样品片的一边的中心起均等地每隔1cm的范围。
当使用不透明的基材时，事先制作经由透明粘着带将黑色PET材贴附在基材的背面而成的样品片，使用反射分光膜厚计FE-3000评价基材与黑色PET材的层叠体的反射光谱(波长：430nm～800nm)，并求出各波长中的折射率n、厚度T、及消光系数k。在5层构成样品的模拟计算时，代入作为基材的特性的所述折射率n、厚度T、消光系数k，由此可利用拟合来求出第二透明树脂层与第一透明树脂层的折射率、厚度。
＜透明膜＞
本发明的层叠体也可在所述透明电极图案的与形成有所述第二透明树脂层的一侧为相反侧，进而具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜(以下，也简称为“透明膜”)、或公知的硬涂层。就进一步改善透明电极图案的视认性的观点而言，优选为进而具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜。再者，本说明书中，只要事先无特别说明，则当记载为“透明膜”时，是指所述“折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜”。
本发明的层叠体优选为在所述折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜的与形成有所述透明电极图案的一侧为相反侧，进而具有后述的透明基板。所述透明基板优选为透明膜基板。在此情况下，所述透明膜优选为配置在所述透明电极图案与所述透明膜基板之间。
另外，本发明的层叠体优选为所述透明电极图案为形成于透明膜基板上的透明电极图案。
图9表示本发明的层叠体的形态的一例。
图9中的层叠体为透明层叠体。
在图9中，具有透明基板1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜11，进而透明电极图案4、后述的垫部分3a、金属配线部6、第一透明树脂层12及第二透明树脂层7以所述层构成层叠。
另外，在金属配线部6上的一部分的区域14中，通过图案化而将第一透明树脂层12及第二透明树脂层7去除。
图11表示本发明的层叠体的构成的一例。
图11中的层叠体为透明层叠体。
在图11中，具有透明基板1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜11、透明电极图案4、第一透明树脂层12及第二透明树脂层7。图11中的层叠体在面内具有以第一透明树脂层12与透明电极图案4接触的方式而层叠的区域21。
所谓面内，是指相对于与层叠体的透明基板1平行的面大致平行的方向。所谓在面内包含透明电极图案4、第一透明树脂层12及第二透明树脂层7以所述层构成层叠的区域，是指透明电极图案4、第一透明树脂层12及第二透明树脂层7以所述层构成层叠的区域对于与层叠体的透明基板平行的面的正投影存在于与层叠体的透明基板平行的面内。
此处，当将本发明的层叠体用于后述的静电电容型输入装置时，有时在行方向与列方向的大致正交的2个方向上分别设置透明电极图案作为第一透明电极图案及第二透明电极图案(例如，参照图3)。例如在图3的构成中，本发明的层叠体中的透明电极图案可为第二透明电极图案4，也可为第一透明电极图案3的垫部分3a。换言之，在以下的本发明的层叠体的说明中，有时由“4”来代表表示透明电极图案的符号，但本发明的层叠体中的透明电极图案并不限定于用于本发明的静电电容型输入装置中的第二透明电极图案4，例如也可用作第一透明电极图案3的垫部分3a。
本发明的层叠体优选为包含未形成所述透明电极图案的非图案区域。本说明书中，所谓非图案区域，是指未形成透明电极图案的区域。
图11表示本发明的层叠体包含非图案区域22的形态。
本发明的层叠体优选为在面内含有所述透明基板、所述透明膜及所述第一透明树脂层以所述层构成而在未形成所述透明电极图案4的非图案区域22的至少一部分中层叠而成的区域。
本发明的层叠体优选为在所述透明基板、所述透明膜及所述第一透明树脂层以所述层构成层叠而成的区域中，所述透明膜及所述第一透明树脂层相互邻接。
但是，在所述非图案区域22的其他区域中，只要不违反本发明的主旨，则也可在任意的位置上配置其他构件，例如当将本发明的层叠体用于后述的静电电容型输入装置时，可层叠掩模层2、或绝缘层5或金属配线部6等。
本发明的层叠体优选为所述基材及透明膜相互邻接。
图11表示所述透明膜11邻接并层叠于所述透明基板1上的形态。
但是，只要不违反本发明的主旨，则也可在所述基材及所述透明膜之间层叠第三透明膜。例如，优选为在所述基材及所述透明膜之间包含折射率为1.5～1.52的第三透明膜(图11中未图示)。
本发明的层叠体优选为所述透明膜及所述透明电极图案相互邻接。
图11表示所述透明电极图案4邻接并层叠于所述透明膜11的一部分的区域上的形态。
如图11所示，所述透明电极图案4的端部的形状并无特别限制，但可具有锥形形状，例如，可具有如所述基材侧的面比与所述基材相反侧的面宽广的锥形形状。
此处，所述透明电极图案的端部为锥形形状时的透明电极图案的端部的角度(以下，也称为锥角)优选为30°以下，更优选为0.1°～15°，特别优选为0.5°～5°。
本说明书中的锥角的测定方法可拍摄所述透明电极图案的端部的显微镜照片，将所述显微镜照片的锥形部分近似成三角形，并直接测定锥角来求出。
图10表示透明电极图案的端部为锥形形状时的一例。图10中的近似锥形部分的三角形的底面为800nm，高度(与底面大致平行的上底部分的膜厚)为40nm，此时的锥角α约为3°。近似锥形部分的三角形的底面优选为10nm～3,000nm，更优选为100nm～1,500nm，特别优选为300nm～1,000nm。再者，近似锥形部分的三角形的高度的优选的范围与透明电极图案的膜厚的优选的范围相同。
本发明的层叠体优选为在面内含有所述透明电极图案及所述第一透明树脂层相互邻接的区域。
图11表示在所述透明电极图案、所述第一透明树脂层及第二透明树脂层以第一透明树脂层与透明电极图案接触的方式层叠的区域21中，所述透明电极图案、所述第一透明树脂层及第二透明树脂层相互邻接的形态。
另外，本发明的层叠体优选为在形成透明电极图案的区域上，所述透明电极图案及非图案区域22两者连续并直接被所述透明膜及所述第一透明树脂层包覆、或经由其他层而被所述透明膜及所述第一透明树脂层包覆。
此处，所谓“连续”，是指所述透明膜及所述第一透明树脂层并非图案膜，而是连续膜。即，就使透明电极图案难以被视认的观点而言，所述透明膜及所述第一透明树脂层优选为在形成透明电极图案的区域上不具有开口部。
另外，与所述透明电极图案及所述非图案区域22经由其他层而被所述透明膜及所述第一透明树脂层包覆相比，优选为所述透明电极图案及所述非图案区域22被所述透明膜及所述第一透明树脂层直接包覆。作为经由其他层而被包覆时的所述“其他层”，可列举后述的本发明的静电电容型输入装置中所含有的绝缘层5、或当如后述的本发明的静电电容型输入装置般含有两层以上的透明电极图案时，可列举第二层的透明电极图案等。
图11表示横跨所述透明膜11上的未层叠透明电极图案4的区域与透明电极图案4上，并与两者分别邻接而层叠有所述第一透明树脂层12的形态。
另外，当透明电极图案4的端部为锥形形状时，优选为沿着锥形形状(以与锥角相同的斜度)层叠所述第一透明树脂层12。
图11表示在所述第一透明树脂层12的与形成有所述透明电极图案的表面为相反侧的表面上层叠有第二透明树脂层7的形态。
＜透明电极图案＞
本发明的层叠体包含透明电极图案。
所述透明电极图案优选为位于基材上、且形成于后述的透明基板上的透明电极图案，更优选为形成于透明膜基板上的透明电极图案。
所述透明电极图案的折射率优选为1.75～2.1。
所述透明电极图案的材料并无特别限制，可使用公知的材料。例如可利用氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)或氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)等透光性的导电性金属氧化膜来制作。Zn的氧化物(IZO)或将这些作为主成分的透明导电膜具有蚀刻速度比ITO膜快这一优点，因此对应于用途而受到瞩目。作为此种导电膜，可列举：ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金属膜；SiO2等的金属氧化膜等。
所述透明电极图案的膜厚优选为10nm～200nm。另外，因通过煅烧来使非晶的ITO膜变成多晶的ITO膜，故还可减少电阻。
此外，当利用ITO等来形成第一导电性图案等时，可参考日本专利第4506785号公报的段落0014～段落0016等。其中，所述透明电极图案优选为ITO膜或IZO膜，特别优选为ITO膜。
本发明的层叠体中的所述透明电极图案优选为折射率为1.75～2.1的ITO膜。
＜与所述透明电极图案导通的金属配线部＞
本发明的层叠体优选为包含与所述透明电极图案导通的金属配线部。
作为所述金属配线部，例如可使用铜、金、银、铝或含有所述金属的合金。若考虑导电性与成本的平衡，则优选为使用铜或含有铜的合金的配线。
关于使所述金属配线部与透明电极图案导通的方法，并无特别限制，只要进行电性连接即可。
优选为第一透明树脂层和/或第二透明树脂层经图案化，更优选为第一透明树脂层及第二透明树脂层均经图案化，进而更优选为在所述金属配线部上的区域中，第一透明树脂层及第二透明树脂层均经图案化。
所谓层经图案化，是指通过有意图地将层的一部分去除而在面内方向上制作存在层的区域与不存在层的区域，作为图案化的方法，可优选地列举利用后述的图案化步骤中的曝光及显影的方法。
根据所述形态，所述金属配线部与进而其他的挠性配线的连接变得容易。所述形态的透明层叠体的一例为图9所示的形态。
本发明的层叠体优选为在所述第一透明树脂层、及所述第二透明树脂层经去除的区域中的金属配线部上具有金属氧化抑制剂。
所谓第一透明树脂层、及所述第二透明树脂层经去除的区域，是指通过所述图案化所形成的在面内方向上不存在层的区域。
在所述图9中，记载有金属配线部6上的第一透明树脂层12及第二透明树脂层7通过图案化而被去除的一部分的区域14。
在图13中，作为路由配线的终端部、且作为通过图案化而将第一透明树脂层(及第二透明树脂层)去除的区域，记载有路由配线的终端部31。针对图13的详细说明将后述。
在所述金属配线部上具有金属氧化抑制剂可通过以下的方法来确认。根据使用爱发科(ULVAC-PHI)公司制造的特里夫特Ⅱ(TRIFTⅡ)，对试样照射一次离子的Au+离子，且并用中和枪所获得的质谱，确认生成有Cu与苯并三唑的络合物离子。详细的测定条件只要适宜设定即可，例如可设为一次离子加速电压为22kV、测定面积为80μm×80μm、测定时间为3分钟。
基板＜基材＞
本发明的层叠体优选为含有基材。
作为所述基材，优选为透明基板。
作为所述透明基板，可为透明玻璃基板，也可为透明膜基板，但优选为折射率为1.50～1.55的透明膜基板。另外，所述透明基板的折射率优选为1.5～1.52，优选为折射率为1.50～1.52的透明膜基板。
当所述透明基板为透明玻璃基板(也称为玻璃的透光性基板)时，可使用以康宁公司的大猩猩玻璃(Gorilla Glass)为代表的强化玻璃等。另外，作为所述透明基板，可优选地使用日本专利特开2010-86684号公报、日本专利特开2010-152809号公报及日本专利特开2010-257492号公报中所使用的材料，这些文献的内容可被编入至本说明书中。
当所述透明基板为透明膜基板时，透明膜基板优选为透明树脂膜。作为形成透明树脂膜的树脂材料，例如可列举：聚(甲基)丙烯酸系树脂、三乙酸纤维素(TriacetateCellulose，TAC)系树脂、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)系树脂、聚碳酸酯系树脂、环烯烃系树脂等。这些之中，就通用性等的观点而言，优选为三乙酸纤维素(TAC)系树脂、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)系树脂、及环烯烃系树脂。透明树脂膜的厚度优选为2μm～200μm的范围内，更优选为2μm～100μm的范围内。若厚度为2μm以上，则膜基板的机械强度充分，辊的处理操作变得容易。另一方面，若厚度为200μm以下，则弯曲特性提升，辊的处理操作变得容易。
＜透明膜＞
本发明的层叠体优选为在所述透明电极图案与所述透明膜基板之间进而具有界面反射减少用的透明膜。所述透明膜的折射率优选为1.60～1.78，更优选为1.65～1.74。另外，所述透明膜的膜厚优选为55nm～110nm，更优选为60nm～110nm，进而更优选为70nm～110nm。
此处，所述透明膜可为单层结构，也可为两层以上的层叠结构。当所述透明膜为两层以上的层叠结构时，所述透明膜的折射率是指所有层的折射率，所述透明膜的膜厚是指所有层的合计膜厚。只要满足此种折射率的范围，则所述透明膜的材料并无特别限制。
所述透明膜的材料的优选的范围与折射率等物性的优选的范围与所述第一透明树脂层的这些的优选的范围相同。
本发明的层叠体优选为所述透明膜为透明树脂膜。作为透明树脂膜中所使用的金属氧化物粒子或粘合剂聚合物或其他添加剂，只要不违反本发明的主旨，则并无特别限制，可优选地使用本发明的转印膜中的所述第一透明树脂中所使用的树脂或其他添加剂。
本发明的层叠体的所述透明膜也可为无机膜。
作为所述无机膜，可使用日本专利特开2010-86684号公报、日本专利特开2010-152809号公报及日本专利特开2010-257492号公报等中所使用的无机膜，就控制折射率的观点而言，优选为使用这些文献中所记载的低折射率材料与高折射率材料的层叠结构的无机膜、或低折射率材料与高折射率材料的混合膜的无机膜。所述低折射率材料与所述高折射率材料可优选地使用所述日本专利特开2010-86684号公报、日本专利特开2010-152809号公报及日本专利特开2010-257492号公报中所使用的材料，这些文献的内容可被编入至本说明书中。
所述无机膜也可为SiO2与Nb2O5的混合膜，在此情况下，更优选为通过溅镀所形成的SiO2与Nb2O5的混合膜。
＜追加的透明膜＞
本发明的层叠体可还包含追加的透明膜。
追加的透明膜优选为包含在基材与透明膜之间，更优选为包含在透明基板与透明膜之间。
就通过接近所述基材的折射率来改善透明电极图案的视认性的观点而言，所述追加的透明膜的折射率优选为1.50～1.55，更优选为1.50～1.52。
＜硬涂层＞
在所述基材与透明电极图案之间也可导入硬涂层来代替所述折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜。硬涂层可利用真空蒸镀法、溅镀法、离子镀法等干式工艺，或湿式法(涂敷法)等来形成。作为湿式法(涂敷法)，可使用利用辊涂机、反向辊涂机、凹版涂布机、微凹版涂布机、刮刀式涂布机、棒式涂布机、线棒涂布机、模涂机、浸渍涂布机的涂布方法。
硬涂层是以易滑性或提升硬度的观点而导入，例如由如下的硬化物来形成，所述硬化物是利用热、紫外线(Ultraviolet，UV)或游离辐射使四乙氧基硅烷等反应性硅化合物、或具有多官能(甲基)丙烯酸酯等的硬化性组合物硬化而成者。另外，也可添加胶体二氧化硅等无机微粒子，将硬涂层的折射率调整成1.45～1.55左右。
＜朝基材的两面上形成透明电极图案＞
所述透明电极图案可仅形成于基材的一面上，也可形成于两面上。作为所述基材，优选为透明基板，更优选为透明膜基板。当在基材的两面上形成电极图案时，形成在基材与透明电极图案之间的硬涂层及透明膜能够以厚度或层构成变成两面对称的方式形成，也可非对称地形成。当在基材的两面上形成有透明电极图案时，本发明的转印膜中所包含的第一透明树脂层及第二透明树脂层优选为转印至两面上。
即，本发明的层叠体优选为在透明膜基板的两面上分别具有所述透明电极图案、第一透明树脂层及第二透明树脂层。所述情况下的层叠体的构成的一例为后述的图1A所示的形态。
(层叠体的制造方法)
本发明的层叠体的制造方法的特征在于：依次包含准备本发明的转印膜的步骤；在位于基材上的透明电极图案上，以与所述透明电极图案接触的方式层叠所述转印膜的所述第一透明树脂层的步骤；以及将所述临时支撑体剥离的步骤。
根据所述形态，可一次性转印层叠体的第一透明树脂层、及视需要包含于转印膜中的所述第二透明树脂层，且可容易地、生产性良好地制造不存在透明电极图案被视认的问题的层叠体。
所述基材优选为透明基板，优选为透明膜基板。
再者，本发明的层叠体的制造方法中的第一透明树脂层在所述透明电极图案上与所述非图案区域中，直接制膜于所述透明膜或所述金属配线部上。
本发明的层叠体的制造方法优选为所述透明电极图案为形成于透明膜基板上的透明电极图案。
＜以与透明电极图案接触的方式层叠第一透明树脂层的步骤＞
本发明的层叠体的制造方法包含在透明树脂图案上，以与所述透明电极图案接触的方式层叠所述第一透明树脂层的步骤。
以与所述透明电极图案接触的方式层叠转印膜的第一透明树脂层的步骤为将本发明的转印膜的第一透明树脂层层压(贴合)于透明电极图案上的步骤，或者当转印膜具有第二透明树脂层时，为将第一透明树脂层及第二透明树脂层层压(贴合)于透明电极图案上的步骤。此时，当转印膜具有所述保护膜时，在层压前将保护膜去除。
所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层朝透明电极图案表面上的层压可[通过]将所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层叠加于透明电极图案表面，并进行加压、加热来进行。在贴合时，可使用层压机、真空层压机、及可进一步提高生产性的自动切割层压机等公知的层压机。
＜将临时支撑体剥离的步骤＞
本发明的层叠体的制造方法在以与透明电极图案接触的方式层叠所述第一透明树脂层的步骤后，包含将临时支撑体剥离的步骤。作为临时支撑体的剥离方法，并无特别限制，可使用公知的方法。另外，当本发明的层叠体的制造方法包含后述的进行图案化的步骤时，将临时支撑体剥离的步骤可在进行图案化的步骤前进行，也可在进行图案化的步骤的中途(进行曝光的步骤与进行显影的步骤之间)进行。
＜对基材进行表面处理的步骤＞
另外，为了提高由以与透明电极图案接触的方式层叠所述第一透明树脂层的步骤中的层压所产生的各层的密接性，本发明的层叠体的制造方法可在以与透明电极图案接触的方式层叠所述第一透明树脂层的步骤前，包含事先对基材(透明膜基板或前面板)的非接触面实施表面处理的“对基材进行表面处理的步骤”。作为所述表面处理，优选为实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷偶合处理)。作为硅烷偶合剂，优选为具有与感光性树脂进行相互作用的官能基者。例如通过喷淋来吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液，商品名：KBM603，信越化学(股份)制造)20秒，然后进行纯水喷淋清洗。其后，通过加热来进行反应。也可使用加热槽，即便是层压机的基板预加热，也可促进反应。
基材的优选的形态与本发明的层叠体中的基材的优选的形态相同。
＜对透明电极图案进行制膜的步骤＞
本发明的层叠体的制造方法也可包含对透明电极图案进行制膜的步骤。
所述透明电极图案可使用后述的本发明的静电电容型输入装置的说明中的第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及金属配线部6的形成方法等，在基材上或所述折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜上进行制膜，优选为使用感光性膜的方法。对透明电极图案进行制膜的步骤优选为比以与透明电极图案接触的方式层叠所述第一透明树脂层的步骤更早地进行。
＜对透明树脂层进行图案化的步骤＞
本发明的层叠体的制造方法优选为还包含对第一透明树脂层进行图案化的步骤。
所述进行图案化的步骤优选为对第二透明树脂层及第一透明树脂层进行图案化的步骤。
图案化步骤包含进行曝光的步骤及进行显影的步骤。
作为所述进行曝光的步骤、进行显影的步骤、及其他步骤的例子，在本发明中，还可适宜地使用日本专利特开2006-23696号公报的段落号0035～段落号0051中所记载的方法。
再者，视需要可对第二透明树脂层及第一透明树脂层以外的层进行图案化步骤。
以后的说明是以对第二透明树脂层和/或第一透明树脂层进行图案化的情况为例进行说明。
[进行曝光的步骤]
所述进行曝光的步骤例如为对转印至透明电极图案上的所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层进行曝光的步骤。
具体而言，可列举：在形成于所述透明电极图案上的所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层的上方配置规定的掩模，其后隔着所述掩模自掩模上方对所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层进行曝光的方法，或不使用掩模而对所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层进行全面曝光的方法。
此处，作为所述曝光的光源，只要是可照射能够使所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层硬化的波段的光(例如365nm、405nm等)者，则可适宜选定来使用。具体而言，可列举：超高压水银灯、高压水银灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，通常为5mJ/cm2～200mJ/cm2左右，优选为10mJ/cm2～100mJ/cm2左右。
[进行显影的步骤]
进行显影的步骤例如为对经曝光的第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层进行显影的步骤。
所述显影可使用显影液来进行。作为所述显影液，并无特别制约，可使用日本专利特开平5-72724号公报中所记载的显影液等公知的显影液。再者，显影液优选为进行使所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层溶解的类型的显影行为者，例如优选为以0.05mol/L～5mol/L的浓度含有pKa＝7～13的化合物者。另一方面，所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层本身不形成图案时(利用蚀刻时等)的显影液优选为进行不使所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层溶解的类型的显影行为者，例如优选为以0.05mol/L～5mol/L的浓度含有pKa＝7～13的化合物者。在显影液中，进而可添加少量的与水具有混合性的有机溶剂。作为与水具有混合性的有机溶剂，可列举：甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单-正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。所述有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。另外，在所述显影液中，可进而添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
作为所述显影的方式，可为覆液式显影、喷淋显影、喷淋&旋转显影、浸渍显影等的任一种。此处，若对所述喷淋显影进行说明，则通过喷淋来对曝光后的所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层吹附显影液，由此可去除未硬化部分。再者，当在用于透明电极图案的蚀刻的具有光硬化性树脂层的感光性膜中设置有热塑性树脂层或中间层时，优选为在显影前通过喷淋等来吹附光硬化性树脂层的溶解性低的碱性的液体，而先将热塑性树脂层、中间层等去除。另外，优选为在显影后，通过喷淋来吹附洗涤剂等，并一面利用刷子等进行摩擦，一面去除显影残渣。显影液的液温优选为20℃～40℃，另外，显影液的pH优选为8～13。
再者，进行曝光的步骤可在剥离临时支撑体后进行，也可在剥离临时支撑体前进行曝光，其后剥离临时支撑体。可为隔着掩模的曝光，也可为使用激光等的数字曝光。
＜其他步骤＞
所述层叠体的制造方法也可具有进行后曝光的步骤、进行后烘烤的步骤等其他步骤。当所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层为热透明树脂层时，优选为在进行显影的步骤后进行后烘烤步骤。
＜对透明膜进行制膜的步骤＞
本发明的层叠体的制造方法优选为包含对透明膜进行制膜的步骤。
在对透明膜进行制膜的步骤中，当在所述透明电极图案的与形成有所述第二透明树脂层的一侧为相反侧，进而具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜时，所述透明膜在所述透明电极图案上直接进行制膜、或隔着所述追加的透明膜等其他层而进行制膜。
作为所述透明膜的制膜方法，并无特别限制，但优选为通过转印或溅镀来进行制膜。
其中，对透明膜进行制膜的步骤优选为将形成于临时支撑体上的透明硬化性树脂膜转印至所述基材上来进行制膜的对透明膜进行制膜的步骤，更优选为在转印后进行硬化来进行制膜的对透明膜进行制膜的步骤。作为转印及硬化的方法，可列举：使用后述的本发明的静电电容型输入装置的说明中的感光性膜，与本发明的层叠体的制造方法中的转印所述第一透明树脂层及所述第二透明树脂层的方法同样地进行转印、曝光、显影及其他步骤的方法。在此情况下，优选为使所述金属氧化物微粒子分散于感光性膜中的光硬化性树脂层中，由此将所述透明膜的折射率调整成所述范围。
另一方面，当所述透明膜为无机膜时，优选为通过溅镀来形成。即，本发明的层叠体通过溅镀来形成所述透明膜也优选。
作为溅镀的方法，可优选地使用日本专利特开2010-86684号公报、日本专利特开2010-152809号公报及日本专利特开2010-257492号公报中所使用的方法，这些文献的内容可被编入至本说明书中。
＜对追加的透明膜进行制膜的步骤＞
本发明的层叠体的制造方法优选为包含对追加的透明膜进行制膜的步骤。
所述对追加的透明膜进行制膜的步骤为与对透明膜进行制膜的步骤相同的步骤。
(静电电容型输入装置)
本发明的静电电容型输入装置的特征在于：使用本发明的转印膜制作而成、或包含本发明的层叠体。
本发明的静电电容型输入装置优选为具有自本发明的转印膜转印后经图案化的第一透明树脂层及第二透明树脂层。再者，优选为在自本发明的转印膜转印第一透明树脂层和/或第二透明树脂层前，自本发明的转印膜上剥离保护膜。本发明的静电电容型输入装置需要以路由配线的终端部与其他配线构件(挠性印刷基板等)进行连接，因此优选为路由配线的终端部未被第一透明树脂层(及第二透明树脂层)覆盖。
将所述形态示于图13中。图13表示包含透明电极图案的路由配线(金属配线部6)与路由配线的终端部31的以下的构成的静电电容型输入装置。
路由配线的终端部31上的第一透明树脂层(及第二透明树脂层)经由图案化步骤(进行曝光的步骤及进行显影的步骤)而被去除，路由配线的终端部31露出。
将具体的曝光、显影的形态示于图14及图15中。图14表示通过层压而将具有第一透明树脂层及第二透明树脂层的转印膜30层叠于静电电容型输入装置的透明电极图案上的状态，且表示通过曝光等来进行硬化前的状态。当利用光刻时，即当通过曝光来进行硬化时，通过使用掩模来进行图案曝光及未曝光部的显影而获得图15所示的形状的第一透明树脂层与第二透明树脂层的硬化部(曝光部)33。具体而言，图15表示作为第一透明树脂层与第二透明树脂层的未硬化部且对应于路由配线的终端部的开口部34、与朝静电电容型输入装置的框部的轮廓的外侧露出的具有第一透明树脂层及第二透明树脂层的本发明的转印膜的端部经去除，并以不覆盖路由配线的终端部(取出配线部)为目的的第一透明树脂层及第二透明树脂层的硬化部(所期望的图案)。
由此，可将其他配线构件直接连接于路由配线的终端部31上，由此，可将传感器的信号输送至电路中。
以下，对本发明的静电电容型输入装置的优选的形态的详细情况进行说明。
本发明的静电电容型输入装置优选为具有基材(相当于本发明的层叠体中的所述基材)、及在所述基材的一侧或两侧至少具有下述(3)及下述(6)～下述(8)的要素，且具有本发明的层叠体。
(3)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸存在所形成的多个第一透明电极图案
(6)与所述第一透明电极图案导通的金属配线部
(7)以覆盖所述(3)及所述(6)的要素的全部或一部分的方式形成的第一透明树脂层
(8)以覆盖所述(7)的要素的方式形成的第二透明树脂层
此处，所述(7)第一透明树脂层相当于本发明的层叠体中的所述第一透明树脂层。另外，(7)第一透明树脂层优选为与(6)金属配线部邻接而形成，且优选为通过图案化，在金属配线部上的区域中将一部分或全部去除。
另外，所述(8)第二透明树脂层相当于本发明的层叠体中的所述第二透明树脂层。再者，所述第一透明树脂层优选为作为静电电容型输入装置中的透明保护层发挥功能。
本发明的静电电容型输入装置也可在所述(3)第一透明电极图案和/或所述(6)金属配线部与所述(7)第一透明树脂层之间具有下述(4)及下述(5)的要素。尤其当所述(3)及所述(6)～所述(8)的要素仅存在于所述基材的一侧时，优选为具有下述(4)及下述(5)的要素。
(4)与所述第一透明电极图案电性绝缘、且包含在与所述第一方向交叉的方向上延伸存在所形成的多个垫部分的多个第二电极图案
(5)使所述第一透明电极图案与所述第二电极图案电性绝缘的绝缘层
本发明的静电电容型输入装置优选为所述(4)第二电极图案为透明电极图案。
所述(3)第一透明电极图案与(4)第二透明电极图案中的透明者相当于本发明的层叠体中的透明电极图案。再者，当均为透明时，均相当于本发明的层叠体中的透明电极图案。
本发明的静电电容型输入装置优选为在所述(3)第一透明电极图案与所述基材之间、所述(4)第二透明电极图案与所述基材之间、或所述(6)金属配线部与所述基材之间进而具有(2)透明膜。此处，就进一步改善透明电极图案的视认性的观点而言，优选为所述(2)透明膜相当于本发明的层叠体中的折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜。
本发明的静电电容型输入装置视需要可进而具有(1)掩模层和/或装饰层。所述掩模层还可作为黑色的边框，为了无法自接触侧视认透明电极图案的路由配线、或为了进行装饰而设置于利用手指或触屏笔等所接触的区域的周围。所述装饰层是为了装饰而设置，例如可设置白色的装饰层。
当存在所述(1)掩模层和/或装饰层时，优选为在所述(2)透明膜与所述基材之间、所述(3)第一透明电极图案与所述基材之间、所述(4)第二透明电极图案与所述基材之间、或所述(6)金属配线部与所述基材之间具有(1)掩模层和/或装饰层。所述(1)掩模层和/或装饰层更优选为邻接于所述基材而设置。
再者，当所述基材为透明膜基板时，所述(1)掩模层和/或装饰层优选为与进而配置在基材的视认侧的盖玻璃一体化。在此种形态的情况下，就自本发明的转印膜转印所述第二透明树脂层及所述第一透明树脂层时，可减少成为气泡混入的原因等的段差的观点而言，优选为本发明的层叠体不具有所述(1)掩模层和/或装饰层。
本发明的静电电容型输入装置即便在包含所述各种构件的情况下，通过包含邻接于透明电极图案而配置的所述第二透明树脂层、及邻接于所述第二透明树脂层而配置的所述第一透明树脂层，也可不使透明电极图案变得显眼，并可改善透明电极图案的视认性的问题。进而，如所述般使用所述折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜与所述第二透明树脂层，并设为夹入透明电极图案的构成，由此可进一步改善透明电极图案的视认性的问题。
＜静电电容型输入装置的构成＞
首先，关于本发明的静电电容型输入装置的优选的构成，结合构成装置的各构件的制造方法来进行说明。图1A为本发明的层叠体或静电电容型输入装置的优选的构成的一例，且为表示在基材的两侧各设置有一层透明电极图案的静电电容型输入装置的构成的剖面图。图1A中，静电电容型输入装置10包括：透明基板(透明膜基板)1；折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜11，对称地分别设置于透明基板1的两面；透明电极图案4；金属配线部6；第二透明树脂层12；以及第一透明树脂层7。本发明的层叠体或静电电容型输入装置并不限定于图1A的构成，仅在透明基板1的1个面上设置有透明膜11、透明电极图案4、金属配线部6、第二透明树脂层12、及第一透明树脂层7的形态也优选。
另外，表示后述的图3中的X-X1剖面的图1B为在透明基板的一侧，在行方向与列方向的大致正交的2个方向上分别设置有第一透明电极图案及第二透明电极图案作为透明电极图案的静电电容型输入装置的一例，且为表示本发明的静电电容型输入装置的优选的构成的一例的剖面图。图1B表示静电电容型输入装置10包含基材1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜11、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、第二透明树脂层12、及第一透明树脂层7的形态。
透明基板(透明膜基板或前面板)1可使用作为本发明的层叠体中的透明电极图案的材料所列举者。
将具有掩模层的本发明的静电电容型输入装置的例子示于图2。掩模层2是设置于触摸屏透明基板的显示区域周围的边框状的图案，且是为了使路由配线等不被看见而形成。
在静电电容型输入装置10中，如图2所示，也能够以覆盖透明基板1的一部分的区域(图2中，输入面以外的区域)的方式设置掩模层2。进而，如图2所示，可在透明基板1的一部分上设置开口部8。在开口部8中，可设置利用按压的机械开关。
将在透明基板的一侧具有两层的透明电极图案的静电电容型输入装置的例子示于图3。在透明基板1的表面形成有多个第一透明电极图案3、多个第二透明电极图案4、及绝缘层5，所述多个第一透明电极图案3是多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸存在来形成，所述多个第二透明电极图案4与第一透明电极图案3电性绝缘、且包含在与第一方向交叉的第二方向上延伸存在所形成的多个垫部分，所述绝缘层5使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电性绝缘。所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、及后述的金属配线部6可使用作为本发明的层叠体中的透明电极图案的材料所列举者，优选为ITO膜。
使用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4进一步进行说明。图3是表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示，第一透明电极图案3是垫部分3a经由连接部分3b而在第一方向上延伸存在来形成。另外，第二透明电极图案4通过绝缘层5而与第一透明电极图案3电性绝缘、且包含在与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向)上延伸存在所形成的多个垫部分。此处，当形成第一透明电极图案3时，可将所述垫部分3a与连接部分3b制作成一体，也可仅制作连接部分3b，而将垫部分3a与第二透明电极图案4制作成一体(图案化)。当将垫部分3a与第二透明电极图案4制作成一体(图案化)时，如图3所示，以如下方式形成各层：连接部分3b的一部分与垫部分3a的一部分相连结、且第一透明电极图案3与第二透明电极图案4通过绝缘层5而电性绝缘。
另外，图3中的未形成第一透明电极图案3或第二透明电极图案4或后述的金属配线部6的区域相当于本发明的层叠体中的非图案区域22。
优选为在掩模层2的表面设置有金属配线部6。金属配线部6为与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一者电性连接、且与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的要素。
另外，优选为以将各构成要素全部覆盖的方式设置有第一透明树脂层7。第1透明树脂层7能够以仅覆盖各构成要素的一部分的方式构成。绝缘层5与第一透明树脂层7可为相同的材料，也可为不同的材料。作为构成绝缘层5的材料，可优选地使用作为本发明的层叠体中的第一透明树脂层或第二透明树脂层的材料所列举者。
(静电电容型输入装置的制造方法)
作为制造本发明的静电电容型输入装置的过程中所形成的形态例，可列举图4～图8的形态。图4是表示形成有开口部8的强化处理玻璃的一例的俯视图。图5是表示形成有掩模层2的基材的一例的俯视图。图6是表示形成有第一透明电极图案3的基材的一例的俯视图。图7是表示形成有第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的基材的一例的俯视图。图8是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案与金属配线部6的基材的一例的俯视图。这些图是表示对以下的说明加以具体化的例子的图，本发明的范围并不由这些图式限定性地进行解释。
在静电电容型输入装置的制造方法中，当形成所述第一透明树脂层12及所述第二透明树脂层7时，可通过使用本发明的转印膜，将所述第一透明树脂层12及所述第二透明树脂层7转印至任意地形成有各要素的所述透明基板1的表面来形成。
在静电电容型输入装置的制造方法中，关于掩模层2、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、及金属配线部6，也可使用具有临时支撑体与光硬化性树脂层的感光性膜来形成。
在使用所述感光性膜来形成利用所述掩模层、绝缘层、光硬化性树脂层时的第一透明电极图案、第二透明电极图案及金属配线部等永久材料的情况下，将感光性膜层压于任意的被转印构件上后，视需要曝光成图案状，在负型材料的情况下对非曝光部分进行显影处理来将其去除，在正型材料的情况下对曝光部分进行显影处理来将其去除，由此可获得图案。显影可利用不同的液体将热塑性树脂层与光硬化性树脂层显影去除，也可利用同一种液体将热塑性树脂层与光硬化性树脂层去除。视需要，也可组合刷子或高压喷射等公知的显影设备。显影后，视需要可进行后曝光、后烘烤。
＜感光性膜＞
对制造本发明的静电电容型输入装置时可优选地使用的本发明的转印膜以外的所述感光性膜进行说明。所述感光性膜优选为具有临时支撑体与光硬化性树脂层，且在临时支撑体与光硬化性树脂层之间具有热塑性树脂层。若使用具有所述热塑性树脂层的感光性膜来形成掩模层等，则在转印光硬化性树脂层而形成的要素中难以产生气泡，在图像显示装置中难以产生图像不均等，可获得优异的显示特性。
所述感光性膜可为负型材料，也可为正型材料。
-光硬化性树脂层以外的层的制作方法-
作为所述感光性膜中的所述临时支撑体，可使用与本发明的转印膜中所使用的临时支撑体相同者。作为所述感光性膜中所使用的所述热塑性树脂层，可使用日本专利特开2014-10814号公报的段落0056～段落0060中所记载者。再者，也可与所述热塑性树脂层一并使用公知的中间层或阻氧层。另外，作为所述感光性膜的制作方法，也可使用与本发明的转印膜的制作方法相同的方法。
-光硬化性树脂层-
所述感光性膜对应于其用途而将添加物添加至光硬化性树脂层中。即，当将所述感光性膜用于掩模层的形成时，在光硬化性树脂层中含有着色剂。
当所述感光性膜为负型材料时，光硬化性树脂层优选为含有碱可溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发系。进而，可使用着色剂、其他添加剂等，但并不限定于此。
-碱可溶性树脂、聚合性化合物、所述聚合引发剂-
作为所述感光性膜中所含有的碱可溶性树脂、聚合性化合物、所述聚合引发剂或聚合引发系，可使用与本发明的转印膜中所使用的碱可溶性树脂、聚合性化合物、所述聚合引发剂或聚合引发系相同者。
-着色剂(用作掩模层的情况)-
另外，当将所述感光性膜用作掩模层时，可将着色剂用于光硬化性树脂层。作为用于本发明的着色剂，可适宜地使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。再者，在本发明中，除黑色着色剂以外，可使用红色、蓝色、绿色等的颜料的混合物等。
当将所述光硬化性树脂层用作黑色的掩模层时，就光学浓度的观点而言，优选为含有黑色着色剂。作为黑色着色剂，例如可列举炭黑、钛碳、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中，优选为炭黑。
当将所述光硬化性树脂层用作白色的掩模层时，可使用日本专利特开2005-7765公报的段落0015或段落0114中所记载的白色颜料。为了用作其他颜色的掩模层，也可将日本专利第4546276号公报的段落0183～段落0185等中所记载的颜料、或染料混合使用。具体而言，可适宜地使用日本专利特开2005-17716号公报的段落0038～段落0054中所记载的颜料及染料、日本专利特开2004-361447号公报的段落0068～段落0072中所记载的颜料、日本专利特开2005-17521号公报的段落0080～段落0088中所记载的着色剂等。
所述着色剂(优选为颜料，更优选为炭黑)理想的是用作分散液。所述分散液可通过如下方式来制备：向后述的有机溶媒(或载色剂(vehicle))中添加事先将所述着色剂与颜料分散剂混合所获得的组合物并使其分散。所述载色剂是指在涂料处于液体状态时使颜料分散的介质的部分，包含与所述颜料结合而形成涂膜的液状的成分(粘合剂)、及将其溶解稀释的成分(有机溶媒)。
作为使所述颜料分散时所使用的分散机，并无特别限制，例如可列举：朝仓邦造著，《颜料的百科词典》，第一版，朝仓书店，2000年，438页中所记载的捏合机、辊磨机、磨碎机、高速研磨机、溶解器(dissolver)、均质混合机、砂磨机等公知的分散机。进而，也可通过所述文献310页中记载的机械式磨碎，利用摩擦力来进行微粉碎。
就分散稳定性的观点而言，所述着色剂优选为数量平均粒径为0.001μm～0.1μm者，更优选为数量平均粒径为0.01μm～0.08μm者。再者，此处所述的“粒径”是指将粒子的电子显微镜照片图像设为同面积的圆时的直径，另外，“数量平均粒径”是指对多个粒子所求出的所述粒径中的100个的平均值。
就与其他层的厚度的差的观点而言，含有着色剂的光硬化性树脂层的层厚优选为0.5μm～10μm，更优选为0.8μm～5μm，特别优选为1μm～3μm。作为着色感光性树脂组合物的固体成分中的着色剂的含有率，并无特别限制，但就充分地缩短显影时间的观点而言，优选为15质量％～70质量％，更优选为20质量％～60质量％，进而更优选为25质量％～50质量％。
本说明书中所述的总固体成分是指自着色感光性树脂组合物中去除溶剂等后的不挥发成分的总质量。
再者，当使用所述感光性膜来形成绝缘层时，就维持绝缘性的观点而言，光硬化性树脂层的层厚优选为0.1μm～5μm，更优选为0.3μm～3μm，特别优选为0.5μm～2μm。
-其他添加剂-
进而，所述光硬化性树脂层也可使用其他添加剂。作为所述添加剂，可使用与本发明的转印膜中所使用的添加剂相同者。另外，作为通过涂布来制造所述感光性膜时的溶剂，可使用与本发明的转印膜中所使用的溶剂相同者。
以上，以所述感光性膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但所述感光性膜也可为正型材料。当所述感光性膜为正型材料时，在光硬化性树脂层中可使用例如日本专利特开2005-221726号公报中所记载的材料等，但并不限定于此。
-热塑性树脂层及光硬化性树脂层的粘度-
所述热塑性树脂层在100℃下所测定的粘度处于1,000Pa·sec～10,000Pa·sec的区域内，光硬化性树脂层在100℃下所测定的粘度处于2,000Pa·sec～50,000Pa·sec的区域内，进而，优选为满足下式(A)。
式(A)：热塑性树脂层的粘度＜光硬化性树脂层的粘度
此处，各层的粘度可如以下般测定。通过大气压及减压干燥，而自热塑性树脂层用涂布液或光硬化性树脂层用涂布液中去除溶剂来作为测定样品，然后例如可使用振动子(DD-III型：东洋鲍德温(股份)制造)作为测定器，在测定开始温度为50℃、测定结束温度为150℃、升温速度为5℃/min及振动频率为1Hz/deg的条件下进行测定，并使用100℃的测定值。
(利用感光性膜的掩模层、绝缘层的形成)
所述掩模层2、绝缘层5可通过使用所述感光性膜将光硬化性树脂层转印至透明基板1等上来形成。例如，黑色的掩模层2可通过使用具有黑色光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的所述感光性膜，将所述黑色光硬化性树脂层转印至所述透明基板1的表面上来形成。绝缘层5可通过使用具有绝缘性的光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的所述感光性膜，将所述光硬化性树脂层转印至形成有第一透明电极图案的所述透明基板1的表面上来形成。
进而，通过将具有在光硬化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层构成的所述感光性膜用于需要遮光性的掩模层2的形成，而可防止感光性膜层压时的气泡产生，并可形成无漏光的高品质的掩模层2。
＜利用感光性膜的第一透明电极图案及第二透明电极图案、金属配线部的形成＞
所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及金属配线部6可利用蚀刻处理或具有导电性光硬化性树脂层的所述感光性膜来形成、或者将感光性膜用作剥离(lift-off)材料来形成。
-蚀刻处理-
当通过蚀刻处理来形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及金属配线部6时，首先通过溅镀而在形成有掩模层2等的透明基板1的非接触面上形成ITO等的透明电极层。继而，使用具有蚀刻用光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的所述感光性膜，并通过曝光·显影而在所述透明电极层上形成蚀刻图案。其后，对透明电极层进行蚀刻来对透明电极进行图案化，并将蚀刻图案去除，由此可形成第一透明电极图案3等。
在将所述感光性膜用作蚀刻抗蚀剂(蚀刻图案)的情况下，也能够以与所述方法相同的方式获得抗蚀剂图案。所述蚀刻可利用日本专利特开2010-152155公报的段落0048～段落0054等中所记载的公知的方法来应用蚀刻、抗蚀剂剥离。
例如，作为蚀刻的方法，可列举通常所进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。用于湿式蚀刻的蚀刻液只要结合蚀刻的对象而适宜选择酸性类型或碱性类型的蚀刻液即可。作为酸性类型的蚀刻液，可例示：盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等单一酸性成分的水溶液，酸性成分与氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等的盐的混合水溶液等。酸性成分也可使用将多种酸性成分组合而成者。另外，作为碱性类型的蚀刻液，可例示：如氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、氢氧化四甲基铵般的有机胺的盐等单一碱成分的水溶液，碱成分与高锰酸钾等的盐的混合水溶液等。碱成分也可使用将多种碱成分组合而成者。
蚀刻液的温度并无特别限定，但优选为45℃以下。在本发明中，用作蚀刻掩模(蚀刻图案)的树脂图案由于使用所述光硬化性树脂层来形成，对于此种温度范围内的酸性及碱性的蚀刻液发挥特别优异的耐受性。因此，在进行蚀刻的步骤中防止树脂图案剥离，而选择性地蚀刻不存在树脂图案的部分。
在所述蚀刻后，为了防止线污染，视需要可实施进行清洗的步骤·进行干燥的步骤。关于进行清洗的步骤，例如在常温下利用纯水对形成有各层的基材清洗10秒～300秒来进行，关于进行干燥的步骤，只要使用鼓风，并适宜调整鼓风压力(0.1kg/cm2～5kg/cm2左右)来进行即可。
继而，作为树脂图案的剥离方法，并无特别限定，例如可列举：在30℃～80℃，优选为50℃～80℃下使形成有各层的基材在搅拌中的剥离液中浸渍5分钟～30分钟的方法。在本发明中，用作蚀刻掩模的树脂图案如所述般在45℃以下显示出优异的耐药液性，但若药液温度变成50℃以上，则显示出因碱性的剥离液而膨润的性质。根据此种性质，若使用50℃～80℃的剥离液实施进行剥离的步骤，则具有步骤时间缩短、树脂图案的剥离残渣变少这一优点。即，在所述进行蚀刻的步骤与进行剥离的步骤之间对于药液温度设定差，由此在本发明中用作蚀刻掩模的树脂图案在进行蚀刻的步骤中发挥良好的耐药液性，另一方面，在进行剥离的步骤中显示出良好的剥离性，而可同时满足耐药液性与剥离性这一相反的特性。
作为剥离液，例如可列举：使氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分，或三级胺、四级铵盐等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、或这些的混合溶液中而成的剥离液。也可使用所述剥离液，通过喷雾法、喷淋法、覆液法等来进行剥离。
-具有导电性光硬化性树脂层的感光性膜-
当使用具有导电性光硬化性树脂层的所述感光性膜，形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及金属配线部6时，可通过将所述导电性光硬化性树脂层转印至所述透明基板1的表面来形成。
若使用具有所述导电性光硬化性树脂层的感光性膜来形成所述第一透明电极图案3等，则即便是具有开口部的基材，抗蚀剂成分也不会自开口部分漏出，且不会污染基板背面侧，而能够以简单的步骤制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。
进而，通过将具有在导电性光硬化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层构成的所述感光性膜用于第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及金属配线部6的形成，而可防止感光性膜层压时的气泡产生，并形成导电性优异、电阻少的第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及金属配线部6。
-感光性膜的作为剥离材料的使用-
另外，还可将所述感光性膜用作剥离材料，而形成第一透明电极层、第二透明电极层及其他导电性构件。在此情况下，使用所述感光性膜进行图案化后，在形成有各层的基材整个面上形成透明导电层后，连同所堆积的透明导电层一起进行所述光硬化性树脂层的溶解去除，由此可获得所期望的透明导电层图案(剥离法)。
(图像显示装置)
本发明的图像显示装置的特征在于：具备本发明的静电电容型输入装置作为构成要素。
本发明的静电电容型输入装置、及具备所述静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置可应用《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行，技术时代(Techno Times)(股份))、三谷雄二监修，《触摸屏的技术与开发》、CMC出版(2004,12)，平板显示器国际论坛2009(FPD International 2009Forum)T-11讲演教材，赛普拉斯半导体公司(CypressSemiconductor Corporation)应用指南AN2292等中所揭示的构成。
[实施例]
以下列举实施例来更具体地说明本发明。只要不脱离本发明的主旨，则以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理程序等可适宜变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。再者，只要事先无特别说明，则“份”、“％”为质量基准。
(1.各实施例及比较例的转印膜的制作)
＜第二透明树脂层的形成＞
以变成下述表1中所记载的组成的方式制备第二透明树脂层用的材料-A1、材料-A2及材料-A3。在厚度为25μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜即临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，以干燥后的膜厚变成8μm的方式对材料-A1～材料-A3的任一种进行调整、涂布。其后，对其进行干燥，而在临时支撑体上形成第二透明树脂层。
再者，表1中，原材料栏中所记载的％表示各原材料中所包含的化合物的含有率(质量％)，材料-A1～材料-A3的栏中所记载的数值表示各原材料的含量(质量份)，“-”的记载表示不含符合的成分。
[表1]
[化5]
再者，表示由结构式(3)所表示的化合物中的各构成单元的括号的右下方的数值表示质量比，另外，环氧丁烷基中的括号的右下方的数值表示重复数。
＜第一透明树脂层的形成＞
以变成下述表2～表4中所记载的组成的方式制备第一透明树脂层用的材料-B1～材料-B16。以下述表5中所记载的组合，在第二透明树脂层上，以干燥后的膜厚变成0.1μm的方式对材料-B1～材料-B16的任一种进行调整、涂布。其后，对其进行干燥，而在第二透明树脂层上形成第一透明树脂层。再者，在比较例2中，不进行第一透明树脂层用的材料的涂布，而未形成第一透明树脂层。
再者，表2～表4中，原材料栏中所记载的％在未记载为mol％的情况下，表示各原材料中所包含的化合物的含有率(质量％)，材料-B1～材料-B16的栏中所记载的数值表示各原材料的含量(质量份)，“-”的记载表示不含符合的成分。
表5中，在金属氧化物粒子及金属氧化抑制剂的栏中记载为“无”的例子表示不含各个化合物，金属氧化抑制剂的栏中所记载的％表示质量％。
＜保护膜的压接＞
针对在临时支撑体上设置有第二透明树脂层及第一透明树脂层的层叠体，最后将保护膜(厚度为12μm的聚丙烯膜)压接于其第一透明树脂层上。
如此，制成临时支撑体、第二透明树脂层、第一透明树脂层、及保护膜成为一体的转印膜。将所获得的转印膜设为各实施例及比较例的转印膜。
＜折射率及第一透明树脂层的厚度的特性＞
n1、n2、T2、σ1及H1是使用反射分光膜厚计FE-3000(大冢电子(股份)制造)，如下述般求出。另外，以下的测定是在25℃的条件下进行。
(1)将各实施例及比较例中所使用的临时支撑体切出纵横的边的长度为10cm×10cm。经由透明粘着带(OCA带8171CL：3M公司制造)，使黑色聚对苯二甲酸乙二酯(PET)材接触所切出的临时支撑体的一个表面来制作层叠体(第一层叠体)。使用反射分光膜厚计FE-3000评价第一层叠体的反射光谱(波长：430nm～800nm)，并求出各波长中的临时支撑体的折射率n0。
(2)以与各实施例及比较例相同的方式准备在临时支撑体上仅形成有第二透明树脂层的样品，并将其切出纵横的边的长度为10cm×10cm。经由透明粘着带(OCA带8171CL：3M公司制造)，使黑色PET材接触所切出的样品的临时支撑体面来制作层叠体(第二层叠体)。使用透射型电子显微镜(TEM)对第二层叠体进行结构分析。在10处测定第二透明树脂层的厚度并求出平均值，且求出第二透明树脂层的厚度的平均值的第1预估值T2(I)。使用反射分光膜厚计FE-3000评价第二层叠体的反射光谱(波长：430nm～800nm)。求出各波长中的第二透明树脂层的折射率n2及第二透明树脂层的厚度的平均值的第2预估值T2(II)。将波长550nm中的第二透明树脂层的折射率n2记载于下述表中。此时，因考虑到第二透明树脂层与临时支撑体的界面的反射，故在将所述(1)中所求出的折射率n0的值与第1预估值T2(I)代入至计算式中的状态下，根据第二层叠体的反射光谱，通过模拟计算进行拟合来求出折射率n2及第2预估值T2(II)。
(3)自各实施例及比较例的转印膜上剥离保护膜，并将其切出纵横的边的长度为10cm×10cm。经由透明粘着带(OCA带8171CL：3M公司制造)，使黑色PET材接触所切出的转印膜的临时支撑体面来制作样品片(第三层叠体)。使用透射型电子显微镜(TEM)对样品片进行结构分析，在10处测定第一透明树脂层的厚度并求出平均值，且求出第一透明树脂层的厚度的平均值的预估值T1(I)。针对样品片，使用反射分光膜厚计FE-3000，以测定点：直径为φ40μm，并以0.2mm间隔，在任意方向的直线上评价200处测定点(即4cm长)的反射光谱。在与所述直线方向正交的方向上每隔1cm将其分成5列，合计重复1,000处。此时，因考虑到第二透明树脂层与临时支撑体的界面、及第二透明树脂层与第一透明树脂层的界面的反射，故在将所述(1)中所求出的折射率n0、所述(2)中所求出的折射率n2及第2预估值T2(II)、以及第1预估值T2(I)代入至计算式中的状态下，根据第三层叠体的反射光谱，通过模拟计算进行拟合来求出第一透明树脂层的折射率n1、以及1000处测定点中的第二透明树脂层及第一透明树脂层的厚度。进而，算出第二透明树脂层及第一透明树脂层的厚度的平均值、最大值、最小值及标准偏差，并求出n1、n2、T1、T2、σ1及H1。
将利用TEM对第二透明树脂层的厚度及第一透明树脂层的厚度进行结构分析所获得的预估值输入至反射分光膜厚计中，由此可提高模拟的拟合精度。
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
(2.各实施例及比较例的铜箔层叠聚酰亚胺膜上的显影性能评价·保护性能评价)
进行用以评价实施例及比较例的转印膜的金属配线部上的显影性及对于金属配线部的保护性的模型实验。作为金属配线部的模型，使用层叠有铜箔的铜箔层叠聚酰亚胺膜(东丽(股份)制造)。
使用剥离了保护膜的各实施例及比较例的转印膜，以第一透明树脂层与铜箔层叠聚酰亚胺膜接触的方式，将第一透明树脂层、第二透明树脂层及临时支撑体转印至铜箔层叠聚酰亚胺膜上(铜箔层叠聚酰亚胺膜的温度：40℃，橡胶辊温度：110℃，线压：3N/cm，搬送速度：2m/min)。
其后，使用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高科技电子工程(HitachiHigh-Tech Electronics Engineering)(股份)制造)，将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支撑体之间的距离设定成125μm，隔着临时支撑体以100mJ/cm2(i射线)的曝光量进行图案曝光。将临时支撑体剥离后，利用碳酸钠2％水溶液在32℃下进行60秒清洗处理来进行显影。自超高压清洗喷嘴对清洗处理后的铜箔层叠聚酰亚胺膜喷射超纯水，由此去除残渣。继而，吹送空气来去除基材上的水分，然后在145℃下进行30分钟的后烘烤处理。如此，对在铜箔层叠聚酰亚胺膜上形成有第一透明树脂层、在第一透明树脂层的与铜箔层叠聚酰亚胺膜相反侧形成有第二透明树脂层的层叠体进行了制膜。
再者，在比较例2的转印膜中，以第二透明树脂层与铜箔层叠聚酰亚胺膜接触的方式，将第二透明树脂层及临时支撑体转印至铜箔层叠聚酰亚胺膜上。在比较例2中，对在铜箔层叠聚酰亚胺膜上形成有第二透明树脂层、在第二透明树脂层的与铜箔层叠聚酰亚胺膜相反侧形成有临时支撑体的层叠体进行了制膜。以下，关于各实施例及比较例的转印膜的说明之中，针对比较例2省略第一透明树脂层的记载。
＜显影性的评价＞
利用目视及光学显微镜观察通过所述方法，以第一透明树脂层与铜箔层叠聚酰亚胺膜接触的方式，使第一透明树脂层及第二透明树脂层层叠于铜箔层叠聚酰亚胺膜上，并进行曝光·显影而成的层叠体，由此评价显影性。A为实用水平。将评价结果记载于表7中。
[评价基准]
A：在目视下，在未曝光部中无法确认到残渣。
B：在目视下，在未曝光部中可确认到残渣。
C：在未曝光部中存在未被显影的部分，在目视下可确认到许多残渣。
D：无法自基板上剥离临时支撑体，而无法评价显影性。
＜保护性的评价＞
通过所述方法，以第一透明树脂层与铜箔层叠聚酰亚胺膜接触的方式，使第一透明树脂层及第二透明树脂层层叠于铜箔层叠聚酰亚胺膜上，进行曝光·显影后进行后烘烤，以目视对铜箔层叠聚酰亚胺膜的色泽进行观察，由此评价保护性。铜箔层叠聚酰亚胺膜在后烘烤前为淡米色，但若受到由后烘烤所产生的影响而在表面生成氧化铜、硫化铜等的皮膜，则因其干涉效应而导致外观如下般变化：淡米色→橙色→紫红色→带有绿色的紫色→淡蓝色。对应于其程度而如下述般进行评价。A～C为实用水平，优选为A或B，更优选为A。将评价结果记载于表7中。“曝光部”为在铜箔层叠聚酰亚胺膜上层叠有第一透明树脂层及第二透明树脂层的部分，“未曝光部”为铜箔层叠聚酰亚胺膜露出的部分。
[评价基准]
A：在曝光部、未曝光部中，色泽均大致无变化(淡米色)。
B：曝光部无色泽的变化，未曝光部的一部分或整体的色泽略微变化(米色或紫红色)。
C：曝光部无色泽的变化，未曝光部的一部分色泽大幅度变化(带有绿色的紫色或淡蓝色)。
D：曝光部无色泽的变化，未曝光部的整体的色泽大幅度变化(带有绿色的紫色或淡蓝色)。
E：在曝光部、未曝光部中，色泽均大幅度变化(带有绿色的紫色或淡蓝色)
(3.用于层叠体制作的透明电极图案膜的制作)
＜透明膜的形成＞
使用高频振荡机，并利用直径为1.2mm的线状电极，在电极长度为240mm、工作电极间为1.5mm的条件下，以100％的输出电压、250W的输出功率对膜厚为38μm、折射率为1.53的环烯烃树脂膜进行3秒电晕放电处理，而进行表面改性。将所获得的膜设为透明膜基板。
继而，使用狭缝状喷嘴，将下述表6中所示的材料-C的材料涂敷于透明膜基板上后，进行紫外线照射(累计光量为300mJ/cm2)，并在约110℃下进行干燥。如此，在透明膜基板上对折射率为1.60、膜厚为80nm的透明膜进行了制膜。
再者，表6中，原材料栏中所记载的％表示各原材料中所包含的化合物的含有率(质量％)，材料-C的栏中所记载的数值表示各原材料的含量(质量份)。
[表6]
＜透明电极层的形成＞
将以上所获得的在透明膜基板上层叠有透明膜的膜导入至真空室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶材(铟：锡＝95：5(摩尔比))，并通过DC(直流)磁控溅镀(条件：透明膜基板的温度为150℃，氩压为0.13Pa，氧压为0.01Pa)来形成厚度为40nm、折射率为1.82的ITO薄膜。如此，获得在透明膜基板上形成有透明膜与透明电极层的膜。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□。
＜蚀刻用感光性膜E1的制备＞
使用狭缝状喷嘴，将包含下述的配方H1的热塑性树脂层用涂布液涂布于厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜即临时支撑体上，并进行干燥。继而，涂布包含下述的配方P1的中间层用涂布液，并进行干燥。进而，涂布包含下述的配方E1的蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液，并进行干燥。如此，在临时支撑体上形成包含干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、及膜厚为2.0μm的蚀刻用光硬化性树脂层的层叠体，最后将保护膜(厚度为12μm的聚丙烯膜)压接于所述层叠体上。如此，制成临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)、及透明硬化性树脂层成为一体的作为转印材料的蚀刻用感光性膜E1。
＜蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液：配方E1＞
再者，蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液E1的溶剂去除后的100℃的粘度为2,500Pa·sec。
＜热塑性树脂层用涂布液：配方H1＞
所述氟系聚合物为40份的C6F13CH2CH2OCOCH＝CH2与55份的H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH＝CH2及5份的H(OCHCH2)7OCOCH＝CH2的共聚物，且为重量平均分子量为3万，甲基乙基酮为30质量％的溶液(商品名：美佳法(Megafac)F780F，大日本油墨化学工业(股份)制造)。
＜中间层用涂布液：配方P1＞
＜透明电极图案的形成＞
对在透明膜基板上形成有透明膜与透明电极层的膜进行清洗，然后将去除了保护膜的蚀刻用感光性膜E1层压于所述膜上(透明膜基板的温度：130℃，橡胶辊温度：120℃，线压：100N/cm，搬送速度：2.2m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为200μm，并以50mJ/cm2(i射线)的曝光量进行图案曝光。继而，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺，利用纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(股份)制造)稀释至10倍而成的液体)，在25℃下进行100秒处理，并使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名：T-SD3(富士胶片(股份)制造)稀释至10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒处理，然后利用旋转刷子、超高压清洗液进行残渣去除，进而在130℃下进行30分钟的后烘烤处理，而获得在透明膜基板上形成有透明膜与透明电极层及蚀刻用光硬化性树脂层图案的膜。
使在透明膜基板上形成有透明膜与透明电极层及蚀刻用光硬化性树脂层图案的膜浸渍于加入有ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液。液温为30℃)的蚀刻槽中，并进行100秒处理，将未由蚀刻用光硬化性树脂层覆盖的露出的区域的透明电极层溶解去除。如此，获得带有蚀刻用光硬化性树脂层图案的附有透明电极图案的膜。
继而，使带有蚀刻用光硬化性树脂层图案的附有透明电极图案的膜浸渍于加入有抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名：萨非诺尔(surfynol)465，空气产品(Air Products)(股份)制造)，液温为45℃)的抗蚀剂剥离槽中，并进行200秒处理，将蚀刻用光硬化性树脂层去除。如此，获得在透明膜基板上形成有透明膜及透明电极图案的膜。
(4.各实施例及比较例的层叠体的制作)
将各实施例及比较例的转印膜转印至形成有透明电极图案的膜上。具体而言，使用剥离了保护膜的各实施例及比较例的转印膜，以第一透明树脂层覆盖在透明膜基板上形成有透明膜及透明电极图案的膜的透明膜与透明电极图案的方式，转印第一透明树脂层、第二透明树脂层及临时支撑体(透明膜基板的温度：40℃，橡胶辊温度：110℃，线压：3N/cm，搬送速度：2m/min)。
其后，使用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高科技电子工程(股份)制造)，将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支撑体之间的距离设定成125μm，隔着临时支撑体以100mJ/cm2(i射线)的曝光量进行图案曝光。将临时支撑体剥离后，利用碳酸钠2％水溶液在32℃下进行60秒清洗处理来进行显影。自超高压清洗喷嘴对清洗处理后的透明膜基板喷射超纯水，由此去除残渣。继而，吹送空气来去除透明膜基板上的水分，然后在145℃下进行30分钟的后烘烤处理。如此，获得在透明膜基板上层叠有透明膜、透明电极图案、第一透明树脂层及第二透明树脂层的层叠体。再者，所述层叠体均为透明层叠体。
＜透明层叠体的评价＞
[透明电极图案隠蔽性的评价]
以如下方式评价透明电极图案隐蔽性。
首先，经由透明粘着带(3M公司制造，商品名，OCA带8171CL)使所述透明层叠体的透明膜基板与黑色PET材料粘着，而对所述透明膜基板的整个表面进行遮光。即，在透明膜的2个面之中，未层叠透明膜等的一侧的面上设置黑色PET材料。
继而，使光自透明层叠体的2个面之中，未设置黑色PET材料的一侧的面入射，并观察其反射光。具体而言，在暗室中，使用荧光灯(光源)，使光自第二透明树脂层侧入射，并自斜向对来自所述第二透明树脂层表面的反射光进行目视观察。A、B或C为实用水平，优选为A或B，更优选为A。将评价结果汇总于表7中。
再者，表7中，在金属氧化物粒子及金属氧化抑制剂的栏中记载为“无”的例子表示不含各个化合物，金属氧化抑制剂的栏中所记载的％表示质量％，实用水平一栏的记载表示各评价基准中的实用水平。
-评价基准-
A：完全看不到透明电极图案。
B：可略微看到透明电极图案，但几乎看不到。
C：可看到透明电极图案，但在实用上可容许。
D：可清楚地看到透明电极图案(容易判明)。
[显影性的评价]
针对使透明膜、透明电极图案、第一透明树脂层及第二透明树脂层以所述层构成层叠于透明膜基板上的透明层叠体，利用目视及光学显微镜观察显影后的残渣，并评价显影性。A为实用水平。将评价结果汇总于表7中。
-评价基准-
A：在目视下，在未曝光部中无法确认到残渣。
B：在目视下，在未曝光部中可确认到残渣。
C：在未曝光部中存在未被显影的部分，在目视下可确认到许多残渣。
D：无法自所转印的转印膜上剥离临时支撑体，而未进行残渣的观察。
根据所述表7，可知实施例1～实施例17的转印膜可无损其他性能(显影性或图案隐蔽性)，而在曝光部及未曝光部两者中保护对象的金属表面。
再者，通过所述层叠体中的折射率的测定方法，对各实施例及比较例测定透明层叠体中的折射率的结果，第一透明树脂层及第二透明树脂层的折射率的测定值分别为与转印膜中的折射率的测定值相同的值。
另一方面，在不含金属氧化抑制剂的比较例1中，虽然残留有第二透明树脂层及第一透明层树脂层的曝光部可保护金属表面，但在第二透明树脂层及第一透明层树脂层被去除的未曝光部中无法保护金属表面。另外，在未形成第一透明树脂层的比较例2中，在图案隐蔽性及保护性方面变成明显欠佳的结果。
另外，在实施例1～实施例5、实施例10～实施例13中，针对保护性的评价中所制作的后烘烤后的未曝光部，使用ULVAC-PHI公司制造的TRIFTⅡ，对透明树脂层经去除的区域的表面进行分析的结果，确认生成有Cu与苯并咪唑的络合物离子。另外，在实施例7、实施例14～实施例17中，确认在保护性的评价中所制作的后烘烤后的未曝光部的表面生成有Cu与各苯并三唑化合物的络合物离子。
(图像显示装置(触摸屏)的制作)
使包含从前所制造的各实施例的透明层叠体的膜贴合于利用日本专利特开2009-47936号公报的段落0097～段落0119中所记载的方法所制造的液晶显示元件上，进而贴合前面玻璃板，由此利用公知的方法制作具备静电电容型输入装置作为构成要素的包含各实施例的透明层叠体的图像显示装置。
＜静电电容型输入装置及图像显示装置的评价＞
包含各实施例的透明层叠体的静电电容型输入装置及图像显示装置可将透明电极图案的视认性抑制成实用上无问题的水平。
在第二透明树脂层、第一透明树脂层中也不存在气泡等缺陷，可获得显示特性优异的图像显示装置。
[符号的说明]
1：透明基板(透明膜基板或前面板)
2：掩模层
3：透明电极图案(第一透明电极图案)
3a：垫部分
3b：连接部分
4：透明电极图案(第二透明电极图案)
5：绝缘层
6：金属配线部
7：第二透明树脂层(优选为具有透明保护层的功能)
8：开口部
10：静电电容型输入装置
11：透明膜
12：第一透明树脂层(可具有透明绝缘层的功能)
13：透明层叠体
14：金属配线部上的一部分的区域
21：以第一透明树脂层与透明电极图案接触的方式层叠有透明电极图案与第二透明树脂层及第一透明树脂层的区域
22：非图案区域
α：锥角
26：临时支撑体
29：保护剥离层(保护膜)
31：路由配线的终端部
33：第一透明树脂层与第二透明树脂层的硬化部
34：对应于路由配线的末端部的开口部(第一透明树脂层与第二硬化性透明树脂层的未硬化部)

Claims (32)

1.一种转印膜，其特征在于：具有
临时支撑体、以及
包含金属氧化抑制剂的第一透明树脂层，且
所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述第一透明树脂层含有金属氧化物粒子。
3.一种转印膜，其特征在于：具有
临时支撑体、以及
第一透明树脂层，且
所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
4.根据权利要求2或3所述的转印膜，其中所述金属氧化物粒子为氧化钛粒子、钛复合氧化物粒子、或氧化锆粒子。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其在所述临时支撑体与所述第一透明树脂层之间还具有第二透明树脂层，且所述第二透明树脂层具有感光性。
6.根据权利要求5所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层包含聚合性化合物及光聚合引发剂。
7.根据权利要求5或6所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层为能够进行碱显影的层。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层的折射率小于所述第一透明树脂层的折射率。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的转印膜，其中所述第二透明树脂层的折射率未满1.60。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的转印膜，其中所述金属氧化抑制剂为具有包含氮原子作为环员的芳香环的化合物。
11.根据权利要求10所述的转印膜，其中所述包含氮原子作为环员的芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环、及这些环与其他芳香环的缩合环所组成的群组中的至少一种环。
12.根据权利要求10或11所述的转印膜，其中所述包含氮原子作为环员的芳香环为咪唑环、三唑环、咪唑环与其他芳香环的缩合环、或三唑环与其他芳香环的缩合环。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的转印膜，其中所述金属氧化抑制剂为苯并咪唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、或羧基苯并三唑。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的转印膜，其中相对于所述第一透明树脂层的总质量的所述金属氧化抑制剂的含量为0.1质量％以上。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的转印膜，其中所述第一透明树脂层具有光硬化性和/或热硬化性。
16.一种转印膜的制造方法，其特征在于：具有
在临时支撑体上形成第二透明树脂层的步骤、以及
在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且
所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，
所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
17.一种转印膜的制造方法，其特征在于：具有
在临时支撑体上形成第二透明树脂层的步骤、以及
在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且
所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
18.一种转印膜的制造方法，其特征在于：具有
在临时支撑体上形成包含聚合性化合物及光聚合引发剂的第二透明树脂层的步骤、以及
在所述第二透明树脂层上形成第一透明树脂层的步骤，且
所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，
所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
19.一种层叠体，其特征在于：具有
基材；
透明电极图案，位于所述基材上；
第一透明树脂层，邻接并位于所述透明电极图案上；
第二透明树脂层，位于所述第一透明树脂层上；且
所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂，
所述第一透明树脂层的折射率为1.60以上。
20.一种层叠体，其特征在于：具有
基材；
透明电极图案，位于所述基材上；
第一透明树脂层，邻接并位于所述透明电极图案上；
第二透明树脂层，位于所述第一透明树脂层上；且
所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。
21.根据权利要求19或20所述的层叠体，其中所述基材为透明膜基板。
22.根据权利要求21所述的层叠体，其中在所述透明膜基板的两面分别具有所述透明电极图案、所述第一透明树脂层、及所述第二透明树脂层。
23.根据权利要求21或22所述的层叠体，其中在所述透明电极图案与所述透明膜基板之间还具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55nm～110nm的透明膜。
24.根据权利要求19至23中任一项所述的层叠体，其还具有与所述透明电极图案导通的金属配线部。
25.根据权利要求24所述的层叠体，其中在所述第一透明树脂层、及所述第二透明树脂层经去除的区域中的金属配线部上具有金属氧化抑制剂。
26.根据权利要求19至25中任一项所述的层叠体，其中所述第一透明树脂层和/或所述第二透明树脂层经图案化。
27.一种层叠体的制造方法，其特征在于：依次包括
准备根据权利要求1至15中任一项所述的转印膜的步骤；
在位于基材上的透明电极图案上，以与所述透明电极图案接触的方式层叠所述转印膜的所述第一透明树脂层的步骤；以及
将所述临时支撑体剥离的步骤。
28.根据权利要求27所述的层叠体的制造方法，其中所述基材为透明膜基板。
29.根据权利要求27或28所述的层叠体的制造方法，其还包含对层叠于所述透明电极图案上的所述第一透明树脂层进行图案化的步骤。
30.一种静电电容型输入装置，其使用根据权利要求1至15中任一项所述的转印膜制作而成。
31.一种静电电容型输入装置，其包含根据权利要求19至26中任一项所述的层叠体。
32.一种图像显示装置，其具备根据权利要求30或31所述的静电电容型输入装置作为构成要素。
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