CN111032336A - 转印用导电性薄膜 - Google Patents

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Abstract

提供可抑制全息图样的外观不良的转印用导电性薄膜。本发明的转印用导电性薄膜具备：临时支撑体、以能从该临时支撑体剥离的方式设置的树脂层、和直接配置于该树脂层的导电层，该导电层由金属氧化物构成，该树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度为0.3GPa以上。1个实施方式中，上述树脂层的厚度为1μm～20μm。

Description

转印用导电性薄膜
技术领域
本发明涉及转印用导电性薄膜。
背景技术
以往以来，作为移动设备等中所采用的触摸传感器的电极、电磁波屏蔽等，大多使用在透明树脂薄膜(例如，PET薄膜、环烯烃薄膜)等基材上形成有铟·锡复合氧化物层(ITO层)等金属氧化物层(导电层)的透明导电性薄膜。
另一方面，近年来，随着可穿戴器件、可折叠器件等的出现，要求更灵活、耐弯曲性高的透明导电性薄膜。作为耐弯曲性提高的方法，考虑对基材进行薄膜化从而减少对导电层施加的应力的方法。但是，从处理等观点出发，构成基材的透明树脂薄膜的薄膜有极限，透明树脂薄膜的极限厚度成为耐弯曲性提高的障碍。另外，作为耐弯曲性提高的另一方法，还正在研究使用具备由导电高分子、金属纳米线等构成的导电层来代替容易产生裂纹的金属氧化物层的透明导电性薄膜，但在导电性、透明性方面有问题，不能实现真正的导入。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特许第4893867号
发明内容
发明要解决的问题
本发明的发明人等发现，使用转印用导电性薄膜时，能解决上述课题。该转印用导电性薄膜是在形成于临时支撑体上的树脂层上通过溅射等方法形成导电层而构成的。使用该转印用导电性薄膜时，能够从临时支撑体将包含导电层的层叠体转印至光学构件等，可提供不具有刚性的基材的光学层叠体。
使用转印用导电性薄膜时，可实现耐弯曲性提高，另一方面，对于使用转印用导电性薄膜而形成的光学层叠体(例如，触摸传感器；具备触摸传感器的图像显示装置)，新出现了容易产生全息图样的外观不良(虹斑模样、条纹模样)的问题。认为这样的外观不良是在树脂层上将导电层制膜时(例如溅射处理时)树脂层发生了收缩结果而产生的。
本发明是为了解决上述问题而作出的，其目的在于，提供可抑制全息图样的外观不良的转印用导电性薄膜。
用于解决问题的方案
本发明的转印用导电性薄膜具备：临时支撑体、以能从该临时支撑体剥离的方式设置的树脂层、和直接配置于该树脂层的导电层，该导电层由金属氧化物构成，该树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度为0.3GPa以上。
1个实施方式中，上述树脂层的厚度为1μm～20μm。
1个实施方式中，上述树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度硬度为0.2GPa以上。
1个实施方式中，上述树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度弹性模量为4GPa以上。
1个实施方式中，上述树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度弹性模量为4GPa以上。
1个实施方式中，上述金属氧化物为铟-锡复合氧化物。
1个实施方式中，上述金属氧化物为结晶化金属氧化物。
1个实施方式中，上述导电层进行了图案化。
1个实施方式中，上述转印用导电性薄膜还具备配置于上述树脂层与上述临时支撑体之间的液晶层。
根据本发明的又一方面，提供光学层叠体。该光学层叠体具备：光学构件、粘合剂层、上述导电层、和上述树脂层，该导电层直接层叠于该液晶层。
根据本发明的另一方面，提供触控器件。该触摸传感器具备上述光学层叠体。
发明的效果
本发明的转印用导电性薄膜依次具有：临时支撑体、树脂层、和导电层。使用这样的构成的转印用导电性薄膜时，能够将包含液晶层和导电层的层叠体转印至光学构件，从而形成光学层叠体。得到的光学层叠体由于不具备基材(形成导电层时所需的基材)，因此耐弯曲性优异。另外，本发明的转印用导电性薄膜由于导电层由金属氧化物构成，因此导电性及透光性优异。进而，使用本发明的转印用导电性薄膜而形成的光学层叠体可防止全息图样的外观不良。
附图说明
图1为本发明的1个实施方式的转印用导电性薄膜的截面示意图。
图2为本发明的1个实施方式的光学层叠体的截面示意图。
图3为本发明的又一实施方式的光学层叠体的截面示意图。
图4为本发明的又一实施方式的光学层叠体的截面示意图。
图5为示出实施例及比较例的外观评价结果的照片图。
具体实施方式
(用语及记号的定义)
本说明书中的用语及记号的定义如下。
(1)折射率(nx、ny、nz)
“nx”为面内的折射率成为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，“nz”为厚度方向的折射率。
(2)面内相位差(Re)
“Re(550)”为在23℃下以波长550nm的光测定的面内相位差。对于Re(550)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，通过式：Re＝(nx-ny)×d来求出。需要说明的是，“Re(450)”为在23℃下以波长450nm的光测定的面内相位差。
(3)厚度方向的相位差(Rth)
“Rth(550)”为在23℃下以波长550nm的光测定的厚度方向的相位差。对于Rth(550)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，通过式：Rth＝(nx-nz)×d来求出。需要说明的是，“Rth(450)”为在23℃下以波长450nm的光测定的厚度方向的相位差。
(4)Nz系数
Nz系数通过Nz＝Rth/Re来求出。
A.转印用导电性薄膜的整体构成
图1为本发明的1个实施方式的转印用导电性薄膜的截面示意图。该转印用导电性薄膜10依次具备：临时支撑体11、以能从临时支撑体11剥离的方式设置的树脂层12、和导电层13。导电层13直接(即，不借助粘合剂层等)地层叠于树脂层12。
转印用导电性薄膜10可在对光学层叠体赋予导电层时使用。更详细而言，将导电层13侧的一面贴接于其他光学构件(例如，图像元件(例如，液晶面板、有机EL面板)、光学薄膜(例如，相位差薄膜)、偏光板等)后，将临时支撑体11剥离，从而将由树脂层12和导电层13构成的层叠体A转印，由此能够对光学层叠体赋予导电层。以往以来，导电层以形成于基材上的状态下被赋予至光学层叠体，该光学层叠体中包含基材，但使用本发明的转印用导电性薄膜时，能够形成不含在形成导电层时所需的基材的光学层叠体。通常，该基材作为支撑体而发挥作用，因此为刚性，但不含这样的基材的光学层叠体的弯曲性优异。另外，不含该基材的光学层叠体在弯曲时对导电层施加的负荷少、导电层不易损伤。
进而，使用本发明的转印用导电性薄膜时，包含在形成导电层的处理(例如加热处理)时容易遭受损伤的光学构件的光学层叠体也能够排除刚性的基材。例如，若直接对包含偏光板的薄膜进行溅射等处理，则偏光板将会受到损伤，但使用本发明的转印用导电性薄膜时，能够在不给偏光板带来损伤下形成光学层叠体。
A-1.导电层
1个实施方式中，上述导电层可以作为触控器件的电极而发挥作用。
优选上述导电层由金属氧化物构成。作为上述金属氧化物，例如，可列举出铟氧化物、锡氧化物、氧化锌、铟-锡复合氧化物、锡-锑复合氧化物、锌-铝复合氧化物、铟-锌复合氧化物等。其中优选为铟-锡复合氧化物(ITO)。金属氧化物可以为结晶化金属氧化物。结晶化金属氧化物是指，如后述，将金属氧化物膜成膜后，进行加热(例如，120℃～200℃的加热)而得到的金属氧化物。
导电层优选具有透光性。导电层的总透光率优选为80％以上、进一步优选为85％以上、进一步优选为90％以上。通过由上述金属氧化物构成导电层，能够形成透光率高的导电层。
上述导电层的表面电阻值优选为0.1Ω/□～1000Ω/□、更优选为0.5Ω/□～500Ω/□、特别优选为1Ω/□～250Ω/□。
1个实施方式中，直接在上述树脂层上形成上述导电层。作为本实施方式的具体例，可列举出通过任意适当的成膜方法(例如，真空蒸镀法、溅射法、CVD法、离子镀法、喷雾法等)在上述树脂层上形成金属氧化物层从而得到导电层的方法。该金属氧化物层可以直接作为导电层，也可以进而进行加热使金属氧化物结晶化。该加热时的温度例如为120℃～200℃。
上述导电层的厚度优选为50nm以下、进一步优选为40nm以下。为这样的范围时，能够得到透光性优异的导电层。上述导电层的厚度的下限优选为1nm、更优选为5nm。
上述导电层可以进行了图案化。作为图案化的方法，可以根据导电层的形态采用任意适当的方法。例如，可以通过蚀刻法、激光法等进行图案化。对于导电层的图案的形状，根据用途可以为任意适当的形状。例如，可列举出日本特表2011-511357号公报、日本特开2010-164938号公报、日本特开2008-310550号公报、日本特表2003-511799号公报、日本特表2010-541109号公报中记载的图案。
A-2.树脂层
上述树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度优选为0.3GPa以上、更优选为0.32GPa以上、进一步优选为0.4GPa以上。需要说明的是，“通过纳米压痕法得到的Xnm深度硬度”及“通过纳米压痕法得到的Xnm深度弹性模量”根据如下负荷载荷-压入深度曲线来求出：所述负荷载荷-压入深度曲线是将压头压入至形成于临时支撑体上的树脂层的与临时支撑体处于相反侧的表面时的、对压头的负荷载荷和压入深度负荷时、卸载时连续地进行测定并得到的。本说明书中，该测定的条件设为：评价温度：25℃、负荷·卸载速度：1000nm/s、压入深度：Xnm。对于“通过纳米压痕法得到的Xnm深度硬度H”，通过压入至Xnm为止时的载荷(最大载荷Pmax)、和压头与试样的接触面积(接触投影面积Ac)通过以下的式(1)来算出。
Figure BDA0002380485480000071
另外，“通过纳米压痕法得到的Xnm深度弹性模量Er”通过上述负荷载荷-压入深度曲线的卸载时的斜率(接触刚性S)、和压头与试样的接触面积(投影面积Ac)、通过以下的式(2)来算出。
Figure BDA0002380485480000072
本发明中，通过在具有如上所述的硬度的树脂层上形成导电层，从而能够得到可有助于全息图样的外观不良得以防止的光学层叠体的实现的转印用导电性薄膜。更详细而言，形成上述树脂层、并在该树脂层上形成导电层时，导电层成膜时的加热(例如，用于使金属氧化物结晶化的加热)所引起的树脂层的不需要的收缩得以抑制，其结果，能够得到外观优异的转印用导电性薄膜。使用该转印用导电性薄膜时，能够得到显示特性优异的图像显示装置(例如，触控器件)。树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度的上限优选为5GPa以下、更优选为2GPa以下。
上述树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度硬度优选为0.2GPa以上、更优选为0.3GPa以上、进一步优选为0.4GPa以上。为这样的范围时，本发明的上述外观提高效果变得显著。树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度硬度的上限优选为5GPa以下、更优选为2GPa以下。
上述树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度弹性模量优选为4GPa以上、更优选为4.2GPa以上、进一步优选为5GPa以上。为这样的范围时，本发明的上述外观提高效果变得显著。树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度弹性模量的上限优选为30GPa以下、更优选为20GPa以下。使用具有该弹性模量为30GPa以下的树脂层的转印用导电性薄膜而得到的光学层叠体的弯曲性更优异。另外，该光学层叠体在弯曲时对导电层施加的负荷少、导电层不易损伤。
上述树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度弹性模量优选为4GPa以上、更优选为4.3GPa以上、进一步优选为5GPa以上。为这样的范围时，本发明的上述外观提高效果变得显著。树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度弹性模量的上限优选为30GPa以下、更优选为20GPa以下。使用具有该弹性模量为30GPa以下的树脂层的转印用导电性薄膜而得到的光学层叠体的弯曲性更优异。另外，该光学层叠体在弯曲时对导电层施加的负荷少、导电层不易损伤。
上述硬度及弹性模量可以通过构成树脂层的树脂的种类、构成树脂的单体成分的种类·组成、聚合度等来控制。
上述树脂层的厚度优选为1μm～20μm、更优选为1μm～15μm、进一步优选为1μm～10μm。为这样的范围时，本发明的上述外观提高效果变得显著。另外，使用具有厚度为上述范围的树脂层的转印用导电性薄膜而得到的光学层叠体的弯曲性更优异。另外，该光学层叠体在弯曲时对导电层施加的负荷少、导电层不易损伤。
上述树脂层包含任意适当的树脂。作为该树脂，可以为热塑性树脂，也可以为固化性树脂。优选上述树脂层包含固化性树脂。作为构成上述树脂层的固化性树脂，例如，使用丙烯酸系树脂、环氧系树脂、有机硅系树脂或它们的混合物。
构成上述树脂层的树脂的玻璃化转变温度优选为120℃～300℃、更优选为130℃～250℃。
上述树脂层是在临时支撑体上涂布树脂层形成用组合物，然后将该组合物进行固化而形成的。
优选的是，上述树脂层形成用组合物包含多官能单体、源自多官能单体的低聚物和/或源自多官能单体的预聚物作为成为主成分的固化性化合物。作为多官能单体，例如，可列举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化甘油三丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯等。多官能单体可以单独使用，也可以组合使用多种。
对于上述多官能单体、源自多官能单体的低聚物及源自多官能单体的预聚物的含有比例，相对于树脂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的合计量，优选为30重量％～100重量％、更优选为40重量％～95重量％、特别优选为50重量％～95重量％。
上述树脂层形成用组合物可以包含单官能单体。上述树脂层形成用组合物包含单官能单体的情况下，单官能单体的含有比例相对于树脂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的合计量优选为40重量％以下、更优选为20重量％以下。
作为上述单官能单体，例如，可列举出乙氧基化邻苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异硬脂基酯、丙烯酸环己酯、异佛尔酮丙烯酸酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-羟基-3-苯氧酯、丙烯酰基吗啉、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、羟基乙基丙烯酰胺等。
上述树脂层形成用组合物可以包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物。上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如可以通过使由(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸酯和多元醇得到的(甲基)丙烯酸羟基酯与二异氰酸酯反应来得到。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物可以单独使用，也可以组合使用多种。
作为上述(甲基)丙烯酸酯，例如，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯等。
作为上述多元醇，例如，可列举出乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁烷二醇、1,4-丁烷二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羟基特戊酸新戊二醇酯、三环癸烷二羟甲基、1,4-环己二醇、螺二醇、三环癸烷二羟甲基、氢化双酚A、环氧乙烷加成双酚A、环氧丙烷加成双酚A、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖类等。
作为上述二异氰酸酯，例如可以使用芳香族、脂肪族或脂环族的各种二异氰酸酯类。作为上述二异氰酸酯的具体例，可列举出四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、4,4-二苯基二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、3,3-二甲基-4,4-二苯基二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、4,4-二苯基甲烷二异氰酸酯、及它们的氢化物等。
对于上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的低聚物的合计含有比例，相对于树脂层形成用组合物中的单体、低聚物及预聚物的合计量，优选为5重量％～70重量％、进一步优选为5重量％～50重量％、特别优选为5重量％～30重量％。为这样的范围时，能够形成硬度、柔软性及密合性的平衡优异的树脂层。
上述树脂层形成用组合物优选包含任意适当的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如，可列举出2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、呫吨酮、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、苯偶姻丙基醚、苯偶酰二甲基缩酮、N,N,N’,N’-四甲基-4,4’-二氨基二苯甲酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、噻吨酮系化合物等。
上述树脂层形成用组合物可以包含或不含溶剂。作为溶剂，例如，可列举出二丁基醚、二甲氧基甲烷、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丁酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、甲醇、乙醇、甲基异丁基酮(MIBK)等。这些可以单独使用，也可以组合使用多种。
上述树脂层形成用组合物可以还包含任意适当的添加剂。作为添加剂，例如，可列举出流平剂、抗粘连剂、分散稳定剂、触变剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、消泡剂、增稠剂、分散剂、表面活性剂、催化剂、填料、润滑剂、抗静电剂等。
作为树脂层形成用组合物的涂布方法，可以采用任意适当的方法。例如，可列举出棒涂法、辊涂法、凹版涂布法、杆涂、槽孔涂布法、帘式涂布法、喷注式涂布法、逗点涂布法。
作为树脂层形成用组合物的固化方法，可采用任意适当的固化处理。代表性的是固化处理通过紫外线照射来进行。紫外线照射的累积光量优选为200mJ～400mJ。
将上述树脂层形成用组合物固化前，可以对由树脂层形成用组合物形成的涂布层进行加热。加热温度优选为90℃～140℃、更优选为100℃～130℃、进一步优选为105℃～120℃。
A-3.其他层
上述转印用导电性薄膜可以还具有其他层。例如，可在上述树脂层与临时支撑体之间配置另一树脂层和/或液晶层。另一树脂层和/或液晶层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度优选为0.1GPa～2.0GPa、更优选为0.15GPa～1.0GPa。本发明中，通过具备具有A-2项中说明那样的硬度、弹性模量的树脂层，从而即使具备比较柔软的层(例如，另一树脂层、液晶层)，也能够防止全息图样的外观不良。另一树脂层及液晶层以能从临时支撑体剥离的方式设置。
液晶层包含任意适当的液晶化合物。1个实施方式中，对于上述液晶层，折射率特性显示出nz>nx≥ny的关系。
上述液晶层的厚度方向的相位差Rth(550)优选为-260nm～-10nm、更优选为-230nm～-15nm、进一步优选为-215nm～-20nm。
1个实施方式中，上述液晶层其折射率显示出nx＝ny的关系。此处，“nx＝ny”不仅包含nx与ny严密相等的情况、还包含nx与ny实质上相等的情况。具体而言，是指Re(550)不足10nm。另一实施方式中，液晶层其折射率显示出nx>ny的关系。该情况下，液晶层的面内相位差Re(550)优选为10nm～150nm、更优选为10nm～80nm。
上述液晶层为垂直取向地固定的液晶层。能够垂直取向的液晶材料(液晶化合物)可以为液晶单体，也可以为液晶聚合物。作为该液晶化合物及该液晶层的形成方法的具体例，可列举出日本特开2002-333642号公报的[0020]～[0042]中记载的液晶化合物及形成方法。
上述液晶层的厚度优选为0.1μm～10μm、更优选为0.1μm～5μm、进一步优选为0.2μm～3μm。
上述液晶层的总透光率优选为80％以上、进一步优选为85％以上、进一步优选为90％以上。
A-4.临时支撑体
作为构成上述临时支撑体的树脂，只要可得到本发明的效果，可以使用任意适当的树脂。作为构成临时支撑体的树脂，例如，可列举出环烯烃系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚偏氯乙烯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯系树脂等。
上述临时支撑体的厚度优选为8μm～500μm、更优选为50μm～250μm。
上述临时支撑体的对上述树脂层在23℃下的粘合力优选为0.01N/25mm～1.00N/25mm、更优选为0.01N/25mm～0.70N/25mm。为这样的范围时，能够得到可容易地将层叠体A转印的转印用导电性薄膜。粘合力通过依据JISZ0237：2000的方法来测定，是指从制造的转印用导电性薄膜将临时支撑体以拉伸速度300mm/分钟、剥离角度180°进行剥离并测定的粘合力。
上述临时支撑体的对上述液晶层在23℃下的粘合力优选为0.01N/25mm～1.00N/25mm、更优选为0.01N/25mm～0.70N/25mm。为这样的范围时，能够得到为如上述那样具备液晶的转印用导电性薄膜、且可容易地将层叠体A转印的转印用导电性薄膜。
根据需要，可以对上述临时支撑体进行各种表面处理。对于表面处理，可以根据目的来采用任意适当的方法。1个实施方式中，为了使从树脂层的剥离容易，可在临时支撑体的液晶层侧的一面设置脱模层。对于剥离层，只要能表现上述粘合力，可以采用由任意适当的材料构成的层，例如，为通过周知的剥离处理(例如有机硅系脱模层的涂布等)形成的层。另外，设置液晶层的情况下，为了提高液晶层的取向性，可以设置取向层。
B.光学层叠体
本发明的光学层叠体包含自上述转印用导电性薄膜转印的层叠体A(包含液晶层和导电层的层叠体)。1个实施方式中，提供具备该光学层叠体的触控器件。该触控器件中，上述导电层作为电极而发挥作用。上述触控器件的弯曲性优异，另外即使弯曲，导电层也不易损伤，在这点也是有用的。
图2为本发明的1个实施方式的光学层叠体的截面示意图。该光学层叠体100依次具备：光学构件20、导电层13、和树脂层12。1个实施方式中，光学构件20与导电层13借助粘合剂层30进行层叠，粘合剂层30与光学构件20及导电层13接触。
光学层叠体100中，由导电层13和树脂层12构成的层叠体A为自上述转印用导电性薄膜转印的层叠体。导电层13直接在树脂层12上形成。
图3为本发明的又一实施方式的光学层叠体的截面示意图。该光学层叠体200依次具备：光学构件20、导电层13、树脂层12、和另一光学构件40。1个实施方式中，光学构件20与导电层13借助粘合剂层30进行层叠，粘合剂层30与光学构件20和导电层13接触。另外，1个实施方式中，树脂层12与另一光学构件40借助粘合剂层30进行层叠，粘合剂层30与树脂层12和另一光学构件40接触。需要说明的是，上述转印用导电性薄膜在上述树脂层与临时支撑体之间具备其他层(例如液晶层)的情况下，可提供依次具备光学构件、导电层、树脂层、该其他层、和另一光学构件的光学层叠体。其他层与另一光学构件可借助粘合剂层层叠，该粘合剂层与其他层和另一光学构件接触。
作为光学构件20，例如，可列举出图像元件(例如，液晶面板、有机EL面板)、光学薄膜(例如，相位差薄膜)、偏光板、圆偏光板等。
1个实施方式中，作为光学构件20，使用偏光板或圆偏光板。根据另一实施方式，作为另一光学构件40，使用偏光板或圆偏光板。光学层叠体应用于图像显示装置(例如，触控器件)时，可以以导电层相对于偏光板或圆偏光板成为可视侧的方式配置，也可以以导电层相对于偏光板或圆偏光板成为内侧(相对于可视侧为相反侧)的方式配置。
B-1.偏光板
1个实施方式中，提供使用偏光板作为光学构件或另一光学构件的光学层叠体。
即，提供依次具备偏光板、导电层、和树脂层的光学层叠体；或依次具备导电层、树脂层、和偏光板的光学层叠体。以往以来，通过溅射等导电层赋予处理在包含偏光板的薄膜上直接形成导电层的情况下，在导电层赋予处理时会产生偏光板受到损伤等问题，使用本发明的转印用导电性薄膜时，能够在不给偏光板带来损伤下形成光学层叠体。以下对该光学层叠体中使用的偏光板的例子进行说明。
上述偏光板具备偏光件。上述偏光板优选在偏光件的单侧或两侧还具备保护薄膜。
上述偏光件的厚度没有特别限制，可以根据目的采用适当的厚度。该厚度代表性的为1μm～80μm左右。1个实施方式中，使用薄型的偏光件，该偏光件的厚度优选为20μm以下、更优选为15μm以下、进一步优选为10μm以下、特别优选为6μm以下。通过使用这样薄的偏光件，能够得到薄型的光学层叠体。
上述偏光件优选在波长380nm～780nm的任意波长下显示吸收二色性。偏光件的单体透过率优选为40.0％以上、更优选为41.0％以上、进一步优选为42.0％以上、特别优选为43.0％以上。偏光件的偏光度优选为99.8％以上、更优选为99.9％以上、进一步优选为99.95％以上。
优选上述偏光件为碘系偏光件。更详细而言，上述偏光件可以由包含碘的聚乙烯醇系树脂(以下称为“PVA系树脂”)薄膜构成。
作为形成上述PVA系树脂薄膜的PVA系树脂，可采用任意适当的树脂。例如，可列举出聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇通过使聚乙酸乙烯酯皂化来得到。乙烯-乙烯醇共聚物通过使乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化来得到。PVA系树脂的皂化度通常为85摩尔％～100摩尔％、优选为95.0摩尔％～99.95摩尔％、进一步优选为99.0摩尔％～99.93摩尔％。皂化度可以依据JISK6726-1994来求出。通过使用这样的皂化度的PVA系树脂，可得到耐久性优异的偏光件。皂化度过高的情况下，有进行凝胶化的担心。
PVA系树脂的平均聚合度可根据目的来适当地选择。平均聚合度通常为1000～10000，优选为1200～5000、进一步优选为1500～4500。需要说明的是，平均聚合度可以依据JISK6726-1994来求出。
作为上述偏光件的制造方法，例如，可列举出对PVA系树脂薄膜单独进行拉伸、染色的方法(I)；对具有树脂基材和聚乙烯醇系树脂层的层叠体(i)进行拉伸、染色的方法(II)等。方法(I)为本领域周知惯用的方法，因此省略详细的说明。上述制造方法(II)优选包括如下工序：对具有树脂基材和在该树脂基材的单侧形成的聚乙烯醇系树脂层的层叠体(i)进行拉伸、染色，在该树脂基材上制作偏光件的工序。对于层叠体(i)，可在树脂基材上涂布包含聚乙烯醇系树脂的涂布液并进行干燥而形成。另外，对于层叠体(i)，可以将聚乙烯醇系树脂膜转印到树脂基材上来形成。上述制造方法(II)的详细情况例如记载于日本特开2012-73580号公报中，该公报作为参考被援引至本说明书中。
作为上述保护薄膜，可采用任意适当的树脂薄膜。作为保护薄膜的形成材料，例如，可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯系树脂、三乙酸纤维素(TAC)等纤维素系树脂、降冰片烯系树脂等环烯烃系树脂、聚乙烯、聚丙烯等烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂等。其中优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。
1个实施方式中，作为上述(甲基)丙烯酸系树脂，使用具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂。
上述保护薄膜与上述偏光件借助任意适当的粘接剂层进行层叠。在偏光件制作时使用的树脂基材可在将保护薄膜和偏光件层叠前、或层叠后剥离。
上述保护薄膜的厚度优选为5μm～55μm、更优选为10μm～50μm、进一步优选为15μm～45μm。
B-2.圆偏光板
图4为本发明的1个实施方式的光学层叠体的截面示意图。光学层叠体110具备圆偏光板21作为光学构件。圆偏光板21具备偏光件1和相位差层2。1个实施方式中，偏光件1优选配置于相位差层2的与层叠体A(即，导电层)处于相反的一侧。另外，圆偏光板21与层叠体A借助粘合剂层30进行层叠，粘合剂层30与相位差层2及导电层13接触。另一实施方式中，作为另一光学构件，使用圆偏光板，提供依次具备光学构件、导电层、树脂层、和圆偏光板(相位差层/偏光件)的光学层叠体。该实施方式中，偏光件也优选配置于相位差层的与层叠体A(即，树脂层)处于相反的一侧。
1个实施方式中，圆偏光板在与偏光件的相位差层处于相反侧的面还具备保护薄膜(未图示)。另外，圆偏光板可以在偏光件与相位差层之间具备另一保护薄膜(也称为内侧保护薄膜：未图示)。作为偏光件及保护薄膜，可以使用上述B-1项中说明的偏光件及保护薄膜。
上述相位差层可以作为λ/4板而发挥作用。这样的相位差层的面内相位差Re(550)优选为120nm～160nm、更优选为135nm～155nm。相位差层代表性的具有nx>ny≥nz的折射率椭圆体。
上述相位差层的Rth(550)优选为120nm～300nm、更优选为135nm～260nm。
上述相位差层的Nz系数例如为0.9～2、优选为1～1.8、更优选为1～1.7。
上述偏光件与相位差层以偏光件的吸收轴与相位差层的慢轴成为规定的角度的方式进行层叠。偏光件的吸收轴与相位差层的慢轴所成的角度优选为35°～55°、更优选为38°～52°、进一步优选为40°～50°、进一步优选为42°～48°、特别优选为44°～46°。该角度为这样的范围时，可实现期望的圆偏光功能。需要说明的是，本说明书中，提及角度时，只要没有特别说明，该角度包括顺时针及逆时针这两个方向的角度。
上述相位差层的厚度可以以能作为λ/4板最适当地发挥作用的方式来设定。换言之，厚度可以以得到期望的面内相位差的方式来设定。具体而言，相位差层的厚度优选为10μm～80μm、进一步优选为10μm～60μm、最优选为30μm～50μm。
相位差层可以显示相位差值相应于测定光的波长而变大的逆色散波长特性，可以显示相位差值相应于测定光的波长而变小的正的波长色散特性，还可以显示相位差值几乎不因测定光的波长而变化的平坦的波长色散特性。
上述λ/4板优选为高分子薄膜的拉伸薄膜。具体而言，通过适当选择聚合物的种类、拉伸处理(例如，拉伸方法、拉伸温度、拉伸倍率、拉伸方向)，可得到λ/4板。
作为形成上述高分子薄膜的树脂，使用任意适当的树脂。作为具体例，可列举出聚降冰片烯等环烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚砜系树脂等构成正的双折射薄膜的树脂。其中，优选降冰片烯系树脂、聚碳酸酯系树脂。需要说明的是，形成高分子薄膜的树脂的详细情况例如记载于日本特开2014-010291。该记载作为参考而被援引至本说明书中。
作为上述聚降冰片烯，市售有各种制品。作为具体例，可列举出日本ZeonCorporation制的商品名“ZEONEX”、“ZEONOR”、JSR公司制的商品名“Arton”、TICONA公司制的商品名“TOPAS”、三井化学株式会社制的商品名“APEL”。
作为拉伸方法，例如，可列举出横向单轴拉伸、固定端双轴拉伸、逐次双轴拉伸。作为固定端双轴拉伸的具体例，可列举出边使高分子薄膜沿长度方向移动、边沿短边方向(横向)进行拉伸的方法。该方法表观上可以为横向单轴拉伸。另外，也可以采用倾斜拉伸。通过采用倾斜拉伸，从而能够得到相对于宽度方向具有规定角度的取向轴(慢轴)的条状的拉伸薄膜。
上述拉伸薄膜的厚度代表性的为5μm～80μm、优选为15μm～60μm、进一步优选为25μm～45μm。
B-3.粘合剂层
上述粘合剂层由任意适当的粘合剂形成。1个实施方式中，该粘合剂包含粘合性的树脂，作为该树脂，可列举出丙烯酸系树脂、丙烯酸类氨基甲酸酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、有机硅系树脂等。其中优选为包含丙烯酸系树脂的丙烯酸系粘合剂。
上述粘合剂根据需要可以还包含任意适当的添加剂。作为该添加剂，例如，可列举出交联剂、粘合赋予剂、增塑剂、颜料、染料、填充剂、防老剂、导电材料、紫外线吸收剂、光稳定剂、剥离调整剂、软化剂、表面活性剂、阻燃剂、抗氧化剂等。作为交联剂，可列举出异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、过氧化物系交联剂、三聚氰胺系交联剂、尿素系交联剂、金属醇盐系交联剂、金属螯合物系交联剂、金属盐系交联剂、碳二亚胺系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、胺系交联剂等。
上述粘合剂层的厚度优选为5μm～100μm、更优选为10μm～50μm。
B-4.其他层
上述光学层叠体根据需要，可具备任意适当的其他层。作为上述其他层，例如，可列举出硬涂层、防眩层、防反射层、滤色器层等。
C.光学层叠体的制造方法
本发明的光学层叠体的制造方法包括将包含液晶层和导电层的层叠体A自上述转印用导电性薄膜转印至光学构件。1个实施方式中，在该制造方法中，导电层与光学构件借助粘合剂层进行层叠。转印用导电性薄膜、光学构件及粘合剂层可以使用上述A项及B项中说明的转印用导电性薄膜、光学构件及粘合剂层。
将层叠体A转印至光学构件后，可以借助粘合剂层将另一光学构件层叠于层叠体A的树脂层。
实施例
以下，通过实施例具体对本发明进行说明，但本发明不受这些实施例任何限定。实施例中的评价方法如下。需要说明的是，对于厚度，使用尾崎制作所制PEACOCK精密测定仪器数字式无绳型(Digital Gauge Cordless Type)“DG-205”进行测定。
[实施例1]
将实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯基材(PANAC CO.,LTD.制、商品名“PANA-PEEL”)作为临时支撑体，在该临时支撑体上通过下述方法形成树脂层。
准备将作为粘结剂树脂的氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯A(DIC株式会社制、商品名“UNIDICELS888”)和氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯B(DIC株式会社制、商品名“UNIDICRS28-605”以氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯A：氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯B＝8：2的重量比率混合、并用乙酸乙酯稀释而成的涂布组合物。使用凹版涂布机以干燥后的厚度成为5μm的方式对上述临时支撑体的剥离处理面涂布该涂布组合物，其后，将涂布层在80℃下加热。接着，用高压汞灯照射累积光量250mJ/cm2的紫外线，由此得到具备临时支撑体和树脂层的层叠体。
将该层叠体投入到卷取式溅射装置中，在树脂层的表面形成铟·锡氧化物层(厚度：30nm)。对于溅射处理，在包含氩气98％和氧2％的0.4Pa的气氛中、使用包含铟氧化物97重量％-锡氧化物3重量％的烧结体进行。其后，通过130℃下90分钟的加热处理，使铟·锡氧化物从非晶质转化为结晶质，得到转印用导电性薄膜(导电层/树脂层/临时支撑体)。
[实施例2]
将氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯A与氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯B的重量比率设为氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯A：氨基甲酸酯系多官能丙烯酸酯B＝2：8，除此以外，与实施例1同样地操作，得到转印用导电性薄膜。
[实施例3]
将实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯基材(PANAC CO.,LTD.制、商品名“PANA-PEEL”)作为临时支撑体，在该临时支撑体上通过下述的方法形成液晶层。
将下述化学式(I)(式中的数字65及35表示单体单元的摩尔％，方便起见用嵌段聚合物体表示：重均分子量5000)所示的侧链型液晶聚合物20重量份、显示向列液晶相的聚合性液晶(BASF公司制：商品名PaliocolorLC242)80重量份及光聚合引发剂(Ciba SpecialtyChemicals Inc.制：商品名Irgacure907)5重量份溶解于环戊酮200重量份，制备液晶涂覆液。然后，利用棒涂机将该涂覆液涂覆于PET薄膜(临时支撑体)后，在80℃进行4分钟加热干燥，由此使液晶取向。对该液晶层照射紫外线，使液晶层固化，由此在PET薄膜(临时支撑体)上形成液晶固化层(厚度：0.58μm)。该液晶层的面内相位差Re(550)为0nm，厚度方向的相位差Rth(550)为-71nm(nx：1.5326、ny：1.5326、nz：1.6550)，显示出nz>nx＝ny的折射率特性。
Figure BDA0002380485480000211
接着，通过与实施例1同样的方法在上述液晶层上形成树脂层。
接着，将由上述支撑体、液晶层和树脂层构成的层叠体投入到溅射装置中，在该液晶层的表面形成厚度为30nm的非晶质的铟·锡氧化物层。其后，通过130℃下90分钟的加热处理，使铟·锡氧化物从非晶质转化为结晶质，得到转印用导电性薄膜(导电层/树脂层/液晶层/临时支撑体)。
[比较例1]
通过与实施例3同样的方法，将实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯基材(PANAC CO.,LTD.制、商品名“PANA-PEEL”)作为临时支撑体，通过下述的方法在该临时支撑体上形成液晶层。
接着，将由上述临时支撑体和液晶层构成的层叠体投入到溅射装置中，在该液晶层的表面形成厚度为30nm的非晶质的铟·锡氧化物层。其后，通过130℃下90分钟的加热处理，使铟·锡氧化物从非晶质转化为结晶质，得到转印用导电性薄膜(导电层/液晶层/临时支撑体)。
[评价]
(1)树脂层及液晶层的硬度、弹性模量
使用HysitronInc.制的Triboindenter，取得负荷载荷-压入深度曲线，测定基于纳米压痕法的硬度H及弹性模量Er。压头使用Berkovich(三角锥型)，设为单一压入测定，测定环境设为25℃。另外，压入深度设为20nm、50nm、100nm。
对于硬度H，根据将压头压入至上述压入深度为止时的载荷(最大载荷Pmax)、和压头与试样的接触面积(接触投影面积Ac)通过下式(1)算出。
Figure BDA0002380485480000221
另外，对于弹性模量Er，根据负荷载荷-压入深度曲线的卸载时的斜率(接触刚性S)、和压头与试样的接触面积(投影面积Ac)通过下式(2)算出。
Figure BDA0002380485480000231
将硬度H及弹性模量Er的评价结果示于表1。
(2)外观评价
通过目视确认全息图的有无。将评价结果示于表1。
另外，对实施例1、实施例2及比较例1，使用显微镜，确认在导电层面是否观察到规则的波状起伏。将评价结果示于图5。
[表1]
Figure BDA0002380485480000232
根据表1，本发明的转印导电性薄膜具备与导电层邻接的树脂层，该树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度为0.3GPa以上，由此可抑制全息图样的外观不良。
附图标记说明
10 转印用导电性薄膜
11 临时支撑体
12 树脂层
13 导电层
20 光学构件

Claims (11)

1.一种转印导电性薄膜，其具备：临时支撑体、以能从该临时支撑体剥离的方式设置的树脂层、和直接配置于该树脂层的导电层，
该导电层由金属氧化物构成，
该树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度硬度为0.3GPa以上。
2.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述树脂层的厚度为1μm～20μm。
3.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度硬度为0.2GPa以上。
4.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述树脂层的通过纳米压痕法得到的50nm深度弹性模量为4GPa以上。
5.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述树脂层的通过纳米压痕法得到的100nm深度弹性模量为4GPa以上。
6.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述金属氧化物为铟-锡复合氧化物。
7.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述金属氧化物为结晶化金属氧化物。
8.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，所述导电层进行了图案化。
9.根据权利要求1所述的转印用导电性薄膜，其中，还具备配置于所述树脂层与所述临时支撑体之间的液晶层。
10.一种光学层叠体，其具备：光学构件；粘合剂层；权利要求1、6、7或8所述的导电层；及权利要求1～5中任一项所述的树脂层，
该导电层直接层叠于该液晶层。
11.一种触控器件，其具备权利要求10所述的光学层叠体。
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