CN106802536A

CN106802536A - 转印材料及其制造方法、层叠体及其制造方法

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Publication number: CN106802536A
Application number: CN201611034148.2A
Authority: CN
Inventors: 汉那慎; 汉那慎一
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2015-11-26
Filing date: 2016-11-16
Publication date: 2017-06-06
Anticipated expiration: 2036-11-16
Also published as: TWI724062B; TW201736107A; US20170154704A1; JP2017094635A; JP6661343B2; CN106802536B; US10192651B2

Abstract

本发明提供一种转印材料、及其制造方法，其依次具有临时支撑体、第一树脂层、和第二树脂层，第一树脂层为非水溶性，第二树脂层包含水溶性聚合物，第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，第二树脂层中的具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上；以及一种层叠体，其具有基材、位于基材上且至少一部分中包含金属的电极图案、位于电极图案上的第二树脂层、和位于第二树脂层上的第一树脂层，第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物。

Description

转印材料及其制造方法、层叠体及其制造方法

技术领域

本发明涉及转印材料、转印材料的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法、静电电容型输入装置的制造方法、及图像显示装置的制造方法。

背景技术

在便携电话、导航仪、个人电脑、售票机、银行的终端等电子设备中，近年来，在液晶装置等的表面上配置输入板(tablet)型的输入装置，通过在参照液晶装置的图像显示区域中显示的指示图像的同时，使手指或触控笔等触碰显示有该指示图像的部位，来进行与指示图像对应的信息的输入。

在这样的输入装置(触摸屏)中，有电阻膜型、静电电容型等。但是，电阻膜型的输入装置由于是利用膜与玻璃的2片结构将膜按下而使其短路的结构，因此具有动作温度范围窄、对经时变化不耐受的缺点。

与此相对，静电电容型的输入装置具有只要在仅仅一片的基板上形成透光性导电膜即可的优点。所述静电电容型的输入装置中，例如有如下的类型，即，使电极图案沿彼此交叉的方向延伸，在手指等接触时，通过感测电极间的静电容量变化而检测输入位置。

提出了在静电电容型输入装置的制造时，将转印材料层压到基板上。例如，已知有日本特开2005-208559号公报或日本特开2015-153009号公报中记载的转印材料、感光性片材。

在日本特开2005-208559号公报中，公开了一种感光性片材，其依次具有支撑体、第一感光层、进而第二感光层，第一感光层及第二感光层分别独立包含粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，第二感光层的光灵敏度高于第一感光层的光灵敏度。

在日本特开2015-153009号公报中，公开了一种带保护膜的触摸屏用基材的制造方法，其在触摸屏用基材上，设置包含含有粘合剂聚合物、包含具有来自芴的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的光聚合性化合物、光聚合引发剂和金属氧化物微粒的感光性树脂组合物的感光层，使上述感光层的规定部分通过活化光线的照射而固化后将上述感光层的除上述规定部分以外除去，形成被覆上述基材的一部分或全部的由上述感光性树脂组合物的固化物构成的保护膜。

发明内容

发明所要解决的课题

作为上述静电电容型输入装置，已知有使用通过ITO(氧化铟锡、Indium TinOxide)等形成的透明电极图案作为触摸检测电极的装置、使用利用由铜或铜合金、铝合金等金属形成的金属细线的金属电极图案的装置。

在使用透明电极图案的装置中，在透明电极的周边即所谓的镜框区域中，作为金属布线部，形成有通过铜或铜合金、铝合金等金属形成的电极。

本发明中，将包含上述透明电极图案和金属布线部的电极图案、及利用上述金属细线的金属电极图案也称为“在至少一部分中包含金属的电极图案”，将在至少一部分中包含金属的电极图案中包含的金属的部位也简称为“金属电极”。

本发明人发现了以下的问题：作为具有在至少一部分中包含金属的电极图案的触摸屏的绝缘层或保护层，在使用通常的固化膜的情况下，通过长时间的使用，有时在金属电极中产生腐蚀。推定上述腐蚀是由于使用者的汗或汗中的盐分通过绝缘层或保护层与金属电极接触，金属电极发生腐蚀而产生的。

在日本特开2005-208559号公报中，记载了使用转印材料形成印刷布线基板的制造时的抗蚀层的方法，但对于形成绝缘层或保护层等的方法未作公开。

在日本特开2015-153009号公报中，记载了具有防锈性的保护膜的制造方法，但为单层的保护膜，若与通过本发明的转印材料制造的绝缘层和/或保护层进行比较，则在耐损伤性之类的保护膜的强度方面存在问题。

在本发明的一实施方式中，提供一种转印材料、转印材料的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法，其用于绝缘层和/或保护层的形成，能够形成金属电极的耐腐蚀性优异、且耐损伤性优异的绝缘层和/或保护层。

进而，在本发明的一实施方式中，提供使用上述转印材料制作而成的静电电容型输入装置的制造方法、及使用上述转印材料制作而成的图像显示装置的制造方法。

用于解决课题的方案

本发明方式中包含以下的＜1＞、＜8＞～＜10＞、＜12＞～＜14＞的方式。与作为优选的方式的＜2＞～＜7＞、＜11＞及＜15＞～＜21＞一起记载于以下。

＜1＞一种转印材料，其依次具有临时支撑体、第一树脂层、和第二树脂层，上述第一树脂层为非水溶性，上述第二树脂层包含水溶性聚合物，上述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，上述第二树脂层中的上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上，

＜2＞根据＜1＞所述的转印材料，其中，上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为3.0～20.0质量％，

＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的转印材料，其中，上述包含氮原子作为环元的杂芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环、及它们与其他芳香环的稠合环组成的组中的至少1种环，

＜4＞根据＜1＞或＜2＞所述的转印材料，其中，上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物为苯并三唑化合物，

＜5＞根据＜1＞～＜4＞中任1项所述的转印材料，其中，上述第一树脂层不含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，或者相对于上述第一树脂层的全部固体成分，含有超过0质量％且10.0质量％以下的上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，

＜6＞根据＜1＞～＜5＞中任1项所述的转印材料，其中，上述第一树脂层包含聚合性化合物及光聚合引发剂，

＜7＞根据＜1＞～＜6＞中任1项所述的转印材料，其中，上述第一树脂层为能够碱显影的层，

＜8＞一种转印材料的制造方法，其具有以下工序：在临时支撑体上形成第一树脂层的工序、和在上述第一树脂层上形成第二树脂层的工序，上述第一树脂层为非水溶性，上述第二树脂层包含水溶性聚合物，上述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，上述第二树脂层中的上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上，

＜9＞一种层叠体，其是在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上转印＜1＞～＜7＞中任1项所述的转印材料而制作的，

＜10＞一种层叠体的制造方法，其包括以下工序：在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由＜1＞～＜7＞中任1项所述的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及将上述临时支撑体剥离的工序，

＜11＞根据＜10＞所述的层叠体的制造方法，其还包含将转印于上述电极图案上的第一树脂层进行图案化的工序，

＜12＞一种静电电容型输入装置的制造方法，其包括以下工序：在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由＜1＞～＜7＞中任1项所述的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及将上述临时支撑体剥离的工序，

＜13＞一种图像显示装置的制造方法，其包含以下工序：在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由＜1＞～＜7＞中任1项所述的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及将上述临时支撑体剥离的工序，

＜14＞一种层叠体，其具有基材、位于上述基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案、位于上述电极图案上的第二树脂层、和位于上述第二树脂层上的第一树脂层，上述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，

＜15＞根据＜14＞所述的层叠体，其中，上述电极图案与上述第二树脂层邻接，

＜16＞根据＜14＞或＜15＞所述的的层叠体，其中，上述第二树脂层包含水溶性聚合物，上述第二树脂层中的上述水溶性聚合物的含量相对于第二树脂层的全部固体成分为2～95质量％，

＜17＞根据＜14＞～＜16＞中任1项所述的层叠体，其中，上述基材为膜基板，

＜18＞根据＜17＞所述的层叠体，其中，在上述膜基板的两面分别具有上述电极图案、上述第一树脂层、及上述第二树脂层，

＜19＞根据＜14＞～＜18＞中任1项所述的层叠体，其中，上述电极图案包含金属布线部，

＜20＞根据＜19＞所述的层叠体，其中，在除去了上述第一树脂层、及上述第二树脂层的区域中的金属布线部上含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，

＜21＞根据＜14＞～＜20＞中任1项所述的层叠体，其中，上述第一树脂层及上述第二树脂层被图案化。

发明效果

根据本发明的一实施方式，能够提供用于绝缘层和/或保护层的形成并且能够形成金属电极的耐腐蚀性优异、且耐损伤性优异的绝缘层和/或保护层的转印材料、转印材料的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法。

进而，根据本发明的一实施方式，能够提供使用上述转印材料制作而成的静电电容型输入装置的制造方法、及使用上述转印材料制作而成的图像显示装置的制造方法。

附图说明

图1是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的一例的剖面简图。

图2是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的另一例的剖面简图。

图3是表示本发明中的层叠体的一例的说明图。

图4是表示本发明中的透明电极图案与非图案区域的关系的一例的说明图。

图5是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的上表面图。

图6是表示形成有掩模层的层叠体的一例的上表面图。

图7是表示形成有第一特定电极图案的层叠体的一例的上表面图。

图8是表示形成有第一树脂层及第二树脂层的层叠体的一例的上表面图。

图9是表示形成有不同于第一特定电极图案及第二特定电极图案的其他导电性要素的层叠体的一例的上表面图。

图10是表示本发明的层叠体的另一例的剖面简图。

图11是表示特定电极图案的端部的锥形状的一例的说明图。

图12是表示本发明的层叠体的构成的一例的剖面简图。

图13是表示本发明的转印材料的构成的一例的剖面简图。

图14是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的另一例的上表面图，是表示图案化后的包含未被第一树脂层覆盖的迂回布线的终端部(末端部分)的方式的简图。

图15是表示将具有第一树脂层及第二树脂层的本发明的转印材料通过层压而层叠到静电电容型输入装置的透明电极图案上后、且图案化前的状态的一例的简图。

图16是表示第一树脂层和第二树脂层固化而得到的所期望的图案的一例的简图。

图17是表示金属纳米线剖面的说明图。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。以下记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式而进行，然而本发明并不限定于此种实施方式。另外，本申请说明书中所谓“～”是以将记载于其前后的数值作为下限值及上限值包含的意思使用的。此外，有机EL元件是指有机电致发光元件。

在本说明书中的基团(原子团)的表述中，未记载取代及未取代的表述包含不具有取代基的基团(原子团)，同时也包含具有取代基的基团(原子团)。例如所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未取代烷基)，也包含具有取代基的烷基(取代烷基)。

另外，本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基。

此外，本发明中，“质量％”与“重量％”含义相同，“质量份”与“重量份”含义相同。

此外，本发明中，优选的方式的组合更优选。

本发明中，对于聚合物成分，分子量为将四氢呋喃(THF)作为溶剂时的利用凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算的重均分子量。

本说明书中所谓的全部固体成分是指由层或组合物等除去了溶剂等的不挥发成分的总质量。

(转印材料)

本发明的转印材料的特征在于，其依次具有临时支撑体、第一树脂层、和第二树脂层，上述第一树脂层为非水溶性，上述第二树脂层包含水溶性聚合物，上述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，上述第二树脂层中的上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上。

第一树脂层与第二树脂层优选邻接。

通过制成这样的构成，可得到能够形成金属电极的耐腐蚀性优异、且耐损伤性优异的绝缘层和/或保护层的转印材料。

本发明的转印材料可以是负型材料，也可以是正型材料。

本发明的转印材料为负型材料时，树脂层优选包含粘合剂树脂(优选碱可溶性树脂)、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发体系。进而，使用添加剂等，但并不限定于此。

本发明的转印材料优选第一树脂层及第二树脂层分别独立地包含粘合剂树脂、聚合性化合物及光聚合引发剂。

以下，对临时支撑体、第一树脂层、第二树脂层依次进行说明。

＜临时支撑体＞

本发明的转印材料具有临时支撑体。

所谓临时支撑体是指在将转印材料所具有的第一树脂层及第二树脂层转印后被剥离的支撑体。

作为临时支撑体，优选使用具有挠曲性、且在加压下或加压及加热下不产生明显的变形、收缩或伸长的材料。作为此种临时支撑体的例子，可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等聚酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中优选聚酯膜，更优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，进一步优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

对于临时支撑体的厚度，没有特别限制，优选为5～200μm的范围，从处置容易度、通用性等观点考虑，更优选为10～50μm的范围。

此外，临时支撑体可以是透明的，也可以含有氧化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。

此外，对于临时支撑体，可以利用日本特开2005-221726号公报中记载的方法等赋予导电性。

＜第一树脂层＞

本发明中的第一树脂层优选具有感光性。“感光性”是指通过光的照射而在显影液中的溶解度发生变化的性质。

通过第一树脂层具有感光性，本发明的转印材料可以作为正型材料或负型材料使用。

从本发明的转印材料优选为负型材料的观点出发，第一树脂层优选为光固化性的层。

若第一树脂层具有感光性，则第二树脂层也可以不具有感光性，但优选第一树脂层及第二树脂层均具有感光性，特别优选第一树脂层及第二树脂层均具有光固化性。

此外，从固化后的固化膜的物理性的耐性的观点出发，本发明中的第一树脂层优选具有光固化性及热固化性。

此外，第一树脂层优选为能够碱显影的层。能够碱显影的层是指在与碱水溶液接触的情况下，显示溶解性和/或溶胀性的层。

本发明中的第一树脂层优选包含聚合性化合物、及光聚合引发剂。通过本发明的第一树脂层含有聚合性化合物及光聚合引发剂，第一树脂层变成具有光固化性的层。

上述第一树脂层更优选进一步包含粘合剂聚合物，也可以进一步包含其他的添加剂。

作为第一树脂层的材料，可以没有特别限制地使用任意的粘合剂聚合物或聚合性化合物，但从作为静电电容型输入装置的透明保护膜使用的观点出发，优选表面硬度、耐热性高的材料，在粘合剂聚合物或上述聚合性化合物中，优选使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。

此外，从第一树脂层优选为能够碱显影的观点出发，作为粘合剂聚合物，优选含有碱可溶性树脂。

此外，第一树脂层优选不含有后述的特定化合物、或上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第一树脂层的全部固体成分为超过0质量％且10.0质量％以下，更优选不含有后述的特定化合物、或上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第一树脂层的全部固体成分为超过0质量％且8.0质量％以下。

根据上述方式，能够形成金属电极的耐腐蚀性优异、且耐损伤性优异的绝缘层和/或保护层。

以下，对第一树脂层中包含的各成分的详细情况进行记载。

〔粘合剂聚合物〕

第一树脂层优选含有粘合剂聚合物。作为上述粘合剂聚合物，只要不违反本发明的主旨则没有特别限制，可以从公知的粘合剂聚合物中适当选择，优选碱可溶性树脂，作为上述的碱可溶性树脂，可以使用日本特开2011-95716号公报的段落0025、日本特开2010-237589号公报的段落0033～0052中记载的聚合物。其中优选具有酸性基的丙烯酸聚合物。

作为粘合剂聚合物，优选使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。

粘合剂聚合物可以以将聚合物溶解到溶剂中而得到的聚合物溶液的形态含有。作为上述溶剂，没有特别限制，使用通常用于溶解聚合物的溶剂，可例示出1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、甲乙酮等。

第一树脂层中包含的粘合剂聚合物的SP值与后述的第二树脂层中包含的水溶性聚合物的SP值的差优选为1.02MPa^1/2以上，更优选为1.53MPa^1/2以上，特别优选为2.04MPa^1/2以上。

根据上述方式，层分级进一步变得良好。

另外，本发明中所谓的SP值是指通过冲津法(粘附(日文：接着)38卷6号6页(1994年)高分子刊行会)算出的溶解性参数，单位为MPa^1/2。SP值可对分子结构中的各单元给予摩尔引力常数、摩尔体积而得到。

第一树脂层中的粘合剂聚合物的含量相对于第一树脂层的全部固体成分为2～95质量％，优选为5～90质量％，更优选为10～80质量％。

〔聚合性化合物〕

第一树脂层优选含有聚合性化合物。

作为上述聚合性化合物，优选自由基聚合性化合物。

作为第一树脂层中使用的聚合性化合物，可列举出：

聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯及苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；

聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三((甲基)丙烯酰氧基丙基)醚、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)氰脲酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；

在三羟甲基丙烷或甘油等多官能醇上加成环氧乙烷或环氧丙烷后进行(甲基)丙烯酸酯化而得到的物质等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。

上述聚合性化合物可以单独使用1种，也可以将两种以上组合使用。

进一步可列举出日本特公昭48-41708号公报、日本特公昭50-6034号公报及日本特开昭51-37193号公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类；日本特开昭48-64183号公报、日本特公昭49-43191号公报及日本特公昭52-30490号公报中记载的聚酯丙烯酸酯类；环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物即环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外，还可以适宜使用以下述式(1)为代表的丙烯酰胺单体。上述的聚合性化合物中，优选多官能丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯及丙烯酰胺单体。

[化学式1]

第一树脂层中的聚合性化合物的含量相对于第一树脂层的全部固体成分优选为1质量％以上，更优选为2质量％以上，特别优选为3.0质量％以上。上限没有特别限定，但第一树脂层中的聚合性化合物的含量相对于第一树脂层的全部固体成分优选为10.0质量％以下。

〔聚合引发剂〕

第一树脂层优选含有聚合引发剂。

作为第一树脂层中使用的上述聚合引发剂，优选光聚合引发剂，优选光自由基聚合引发剂。

作为光自由基聚合引发剂，没有特别限定，可以使用公知的光自由基聚合引发剂。

具体而言，可列举出例如含有三卤代甲基的化合物、吖啶化合物、苯乙酮化合物、联咪唑化合物、苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、α-二酮化合物、多核醌化合物、呫吨酮化合物、重氮化合物、酰基氧化膦化合物、二茂钛化合物、肟酯化合物等。

优选含有选自上述中的含有三卤代甲基的化合物、吖啶化合物、苯乙酮化合物、联咪唑系化合物、酰基氧化膦化合物、肟酯化合物中的至少1种，更优选含有选自酰基氧化膦化合物、及肟酯化合物中的至少1种，进一步优选含有选自肟酯化合物中的至少1种。

作为光聚合引发剂，可以使用日本特开2011-95716号公报的段落0031～0042中记载的光聚合引发剂。例如，除了2-(苯甲酰氧基亚氨基)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1-辛酮(商品名：IRGACURE OXE-01、BASF社制)以外，还可以优选使用6-[1-(乙酰氧基亚氨基)乙基]-9-乙基-9H-咔唑-3-基(2-甲基苯基)酮(商品名：IRGACURE OXE-02、BASF社制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379EG、BASF社制)、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE907、BASF社制)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE127、BASF社制)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1(商品名：IRGACURE369、BASF社制)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE1173、BASF社制)、1-羟基-环己基-苯基-酮(商品名：IRGACURE184、BASF社制)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：IRGACURE651、BASF社制)、Lunar6(DKSH Japan(株)制)等。

第一树脂层中的聚合引发剂的含量相对于第一树脂层的全部固体成分优选为1质量％以上，更优选为2.0质量％以上，特别优选为3.0质量％以上。上限没有特别限定，但第一树脂层中的聚合引发剂的含量相对于第一树脂层的全部固体成分优选为10.0质量％以下。

上述光聚合引发剂可以单独使用1种，也可以将两种以上组合使用。

〔溶剂〕

第一树脂层也可以含有溶剂。

作为溶剂，可以使用一般的有机溶剂，可列举出例如甲乙酮、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、环己酮、甲基异丁基酮、甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺等。

上述溶剂可以单独使用1种，也可以将两种以上组合使用。

在本发明的转印材料中，在临时支撑体上形成第一树脂层的情况下，优选使用以下方法：将第一树脂层所包含的各成分在溶剂中溶解或混合而制作第一树脂层形成用的涂布液，将涂布液涂布于临时支撑体上并进行干燥。

优选通过上述干燥，第一树脂层中包含的溶剂的至少一部分被除去。

具体而言，上述干燥后的第一树脂层中的溶剂的含量相对于第一树脂层的总质量优选为0～10质量％，更优选为0～5质量％，进一步优选为0～2质量％以上，特别优选为0～1质量％，最优选在干燥后不含有溶剂。

〔其他添加剂〕

第一树脂层中也可以使用添加剂。作为上述的添加剂，可列举出例如日本专利第4502784号公报的段落0017、日本特开2009-237362号公报的段落0060～0071中记载的表面活性剂、日本专利第4502784号公报的段落0018中记载的热阻聚剂、进而日本特开2000-310706号公报的段落0058～0071中记载的其他添加剂。

上述添加剂可以单独使用1种，也可以将两种以上组合使用。

〔第一树脂层的特性〕

-层的水溶性-

本发明的转印材料中，第一树脂层为非水溶性。此外，后述的第二树脂层优选为水溶性。

本发明中，根据第一树脂层为非水溶性，且第二树脂层含有水溶性聚合物的方式，即使在临时支撑体上层叠第一树脂层后在不使第一树脂层固化的情况下层叠第二树脂层，层分级也变得良好，各层中包含的化合物的分散被抑制，从而能够形成耐损伤性、及电极的耐腐蚀性优异的绝缘层和/或保护层。此外，由转印材料转印各层后，通过光刻法能够显影成所期望的图案。

所谓层为水溶性是指在浸渍于25℃的水中的情况下每单位膜厚在10分钟/μm以内的浸渍时间内完全溶解和/或分散的层。

此外，所谓层为非水溶性是指在浸渍于25℃的水中的情况下每单位膜厚在10分钟/μm以内的浸渍时间内完全不溶解和/或分散的层。

-透射率-

本发明的转印材料优选第一树脂层为透明树脂层，更优选第一树脂层、及后述的第二树脂层为透明树脂层。

本发明中所谓“透明树脂层”是指在透射率为90％以上的基材上转印树脂层而形成层叠体的情况下，该层叠体的透射率为80％以上的树脂层。作为上述透射率，可以使用在400～780nm的波长范围内，以1nm的间距测定的值的最小值。

另外，在转印材料的透明树脂层具有光固化性和/或热固化性的情况下，固化后的光的透射率也同样地优选为80％以上。在光固化的情况下，像上述那样按照玻璃基板与透明树脂层相接的方式转印透明树脂层后，进行整面曝光，将临时支撑体剥离。接着进行显影及水洗，将剩余的水分用吹拂器除去并进行干燥。将所得到的带透明树脂层的玻璃基板同样地用分光光度计测定透射率。用吹拂器除去并干燥后，也可以实施后曝光。进而，在热固化性且光固化性的情况下，在最后进行烘烤，同样地进行测定。

在热固化的情况下，像上述那样按照玻璃基板与透明树脂层相接的方式转印透明树脂层后，将临时支撑体剥离并进行烘烤。将所得到的带透明树脂层的玻璃基板同样地用分光光度计测定透射率。优选固化前的透明树脂层的透明性及固化后的透明树脂层的透明性均高，优选固化前的透明树脂层的透射率、及固化后的透明树脂层的透射率均高。

-折射率及干燥膜厚-

此外，本发明中的第一树脂层没有特别限制，但优选折射率低于1.60，更优选为1.55以下。对于第一树脂层的折射率的下限，没有特别限制，但优选为1.20以上。以下，只要没有特别记载，则本发明中的折射率为25℃下的值。

此外，从在形成静电电容型输入装置的透明保护层时发挥充分的表面保护功能的观点出发，本发明中的第一树脂层的干燥膜厚优选为1μm以上，更优选为1～15μm，进一步优选为2～12μm，特别优选为3～10μm。

-转印材料中的折射率、及干燥膜厚的测定方法-

本发明中，第一树脂层的折射率及干燥膜厚、以及后述的第二树脂层的折射率及干燥膜厚可以使用反射分光膜厚计FE-3000(大塚电子(株)制)，像下述那样求出。此外，以下的测定在25℃的条件下进行。

(1)准备临时支撑体，将其切取成纵横的边的长度为10cm×10cm。制作在切取的临时支撑体的一个表面上介由透明粘接带(OCA带(Optically Clear Adhesive Tape)8171CL：3M社制)与黑色聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)材料接触的层叠体(第一层叠体)。使用反射分光膜厚计FE-3000评价第一层叠体的反射光谱(波长：430～800nn)，求出各波长下的临时支撑体的折射率n₀。

(2)准备在临时支撑体上仅形成有第一树脂层的样品，将其切取成纵横的边的长度为10cm×10cm。制作在切取的样品的临时支撑体面上介由透明粘接带(OCA带8171CL：3M社制)与黑色PET材料接触的层叠体(第二层叠体)。使用透射型电子显微镜(TEM)对第二层叠体进行结构解析。在10点测定第一树脂层的干燥膜厚并求出平均值，求出第一树脂层的干燥膜厚的平均值的第1预测值T₁(I)。使用反射分光膜厚计FE-3000评价第二层叠体的反射光谱(波长：430～800nm)。求出各波长下的第一树脂层的折射率n₁及第一树脂层的干燥膜厚的平均值的第2预测值T₁(II)。此时，由于考虑第一树脂层与临时支撑体的界面的反射，所以在将上述(1)中求出的折射率n₀的值和第1预测值T₁(I)代入计算式的状态下，由第二层叠体的反射光谱通过模拟计算，并进行拟合而求出折射率n₁及第2预测值T₁(II)。

(3)准备在临时支撑体上形成有第一树脂层及第二树脂层的转印材料，将其切取成纵横的边的长度10cm×10cm(在具有保护膜的情况下将其剥离)。制作在切取的转印材料的临时支撑体面上介由透明粘接带(OCA带8171CL：3M社制)与黑色PET材料接触的样品片(第三层叠体)。使用透射型电子显微镜(TEM)对样品片进行结构解析，在10点测定第一树脂层的干燥膜厚并求出平均值，求出第二树脂层的干燥膜厚的平均值的预测值T₂(I)。对于样品片，使用反射分光膜厚计FE-3000，评价测定斑点：直径φ40μm、以0.2mm间隔在任意的方向的直线上200点的测定点(即4cm长)的反射光谱。将其沿与上述的直线方向正交的方向每隔1cm进行5列分，对总计1,000点重复进行。此时，由于考虑第一树脂层与临时支撑体的界面及第二树脂层与第一树脂层的界面的反射，所以在将上述(1)中求出的折射率n₀、上述(2)中求出的折射率n₁及第2预测值T₁(II)、以及第1预测值T₁(I)代入计算式的状态下，由第三层叠体的反射光谱通过模拟计算进行拟合而求出第二树脂层的折射率n₁和1,000点的测定点中的第二树脂层及第一树脂层的干燥膜厚。进而算出第二树脂层及第一树脂层的干燥膜厚的平均值、最大值、最小值及标准偏差，求出n₁、n₂、T₁、T₂、σ₂及H₂。n₂表示第二树脂层的折射率，n₁表示第一树脂层的折射率，T₂表示第二树脂层的平均干燥膜厚，T₁表示第一树脂层的平均干燥膜厚，σ₂表示第二树脂层的干燥膜厚的标准偏差，H₂表示第二树脂层的干燥膜厚的最大值与最小值的差。

通过将对于第二树脂层的干燥膜厚及第一树脂层的干燥膜厚用TEM进行结构解析而得到的预测值输入反射分光膜厚计中，能够提高模拟的拟合精度。

-粘度-

第一树脂层及第二树脂层的100℃下测定的粘度优选处于2,000～50,000Pa·sec的区域。

其中，上述粘度可以如下那样测定。将第一树脂层及第二树脂层从临时支撑体剥离，在加热台上在85℃下使其一度熔融后冷却至室温进行试样形成。可以使用熔融粘度测定装置(装置名：DHR-2、TA Instruments.Japan.制)，在下面的条件下测定。测定条件：温度：40～140℃、升温速度：5℃/min、频率：1Hz、应变：0.5％。

-硬度-

此外，第一树脂层优选为具有固化性的树脂，更优选为固化前一定程度柔软的膜。特别优选为包含选自基于维卡(Vicat)法(具体而言，是基于美国材料试验法ASTMD(ASTMD)1235的聚合物软化点测定法)得到的软化点为80℃以下的有机高分子物质中的至少1种的形态。

作为第一树脂层的材料，可以没有特别限制地使用任意的聚合物成分或任意的聚合性化合物成分，但从作为静电电容型输入装置的透明保护膜使用的观点出发，优选固化后的表面硬度、耐热性高的材料，第一树脂层中包含的碱可溶性树脂或聚合性化合物中，优选使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。

＜第二树脂层＞

本发明中的第二树脂层可以不具有固化性，也可以是热固化性，也可以是光固化性，还可以是热固化性且光固化性。

从固化后的固化膜的物理性的耐性的观点出发，上述第二树脂层优选具有光固化性和/或热固化性。

其中，上述第二树脂层为至少具有热固化性的透明树脂层从转印后通过热发生固化而能够赋予膜的可靠性的观点出发是优选的，为热固化性的透明树脂层且光固化性的透明树脂层从转印后光固化而容易制膜、且制膜后热固化而能够赋予膜的可靠性的观点出发是更优选的。

此外，从至少一部分中包含金属的电极图案的保护性的观点出发，本发明中使用的第二树脂层优选在本发明的转印材料上，将后述的保护膜、及根据需要形成的折射率调整层除去而位于最外层。

本发明中的第二树脂层含有水溶性聚合物、及具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，上述水溶性聚合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为2～95质量％，优选上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上。

第二树脂层中金属氧化物粒子的含量相对于第二树脂层的全部固体成分优选为低于20质量％，更优选为低于10质量％，进一步优选为低于5质量％，特别优选为低于1质量％，最优选不含有。

此外，上述第二树脂层更优选进一步包含水溶性单体、及水溶性聚合引发剂，也可以进一步包含来源于聚合物乳胶的树脂、及其他添加剂。

〔水溶性聚合物〕

第二树脂层含有水溶性聚合物。作为水溶性聚合物，使用相对于后述的水系溶剂具有溶解性的聚合物。

其中，本发明中所谓“水溶性”是指在25℃下在蒸馏水中溶解0.1质量％以上。水溶性聚合物进一步优选在25℃下在蒸馏水中溶解1质量％以上，特别优选溶解3.0质量％以上。

作为水溶性聚合物，只要不违反本发明的主旨则没有特别限制，可以从公知的水溶性聚合物中适当选择。可列举出例如上述的具有酸性基的丙烯酸聚合物、日本特开昭46-2121号公报或日本特公昭56-40824号公报中记载的聚乙烯基醚/马来酸酐聚合物、羧基烷基纤维素的水溶性盐、水溶性纤维素醚类、羧基烷基淀粉的水溶性盐、聚乙烯基醇、水溶性聚乙烯醇缩丁醛或水溶性聚乙烯醇缩乙醛等聚乙烯基醇衍生物、聚乙烯基吡咯烷酮、各种聚丙烯酰胺类、各种水溶性聚酰胺、聚丙烯酸的水溶性盐、明胶、环氧乙烷聚合物、各种淀粉及其类似物所组成的组中的水溶性盐、苯乙烯/马来酸的共聚物、马来酸酯树脂等。

作为水溶性聚合物，优选具有酸性基的丙烯酸聚合物及聚乙烯基醇衍生物，具体而言，特别优选为具有酸性基的丙烯酸聚合物、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩乙醛、完全皂化聚乙烯基醇、或将聚乙酸乙烯酯部分皂化而得到的聚乙烯基醇。

第二树脂层中的水溶性聚合物的含量相对于第二树脂层的全部固体成分为2～95质量％，优选为5～90质量％，更优选为10～80质量％，进一步优选为15～70质量％，特别优选为20～60质量％。

〔具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物〕

第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物。

上述包含氮原子的芳香环优选为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环、及它们与其他芳香环的稠合环组成的组中的至少1种的环，上述包含氮原子的芳香环更优选为咪唑环、三唑环、咪唑环与其他芳香环的稠合环、或三唑环与其他芳香环的稠合环，进一步优选为咪唑环、或咪唑环与其他芳香环的稠合环。

作为上述其他芳香环，可以是烃环也可以是杂环，但优选为烃环，更优选为苯环或萘环，进一步优选为苯环。

作为具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，优选分子内具有2个以上的氮原子、且具有缩环结构的杂芳香环化合物，更优选分子内具有3个以上的氮原子、且具有缩环结构的杂芳香环化合物。其中，“2个以上的氮原子”或“3个以上的氮原子”优选为构成缩环的原子，作为这样的杂芳香环化合物，优选为苯并咪唑化合物、苯并三唑化合物、或四唑化合物，特别优选为苯并三唑化合物。

另外，本发明中，将具有苯并咪唑结构的化合物称为苯并咪唑化合物，将具有苯并三唑结构的化合物称为苯并三唑化合物，将具有四唑结构的化合物称为四唑化合物。

此外，本发明中的第二树脂层也可以将2种以上的特定化合物并用，优选苯并咪唑化合物与苯并三唑化合物、四唑、或巯基噻二唑的并用，更优选苯并咪唑化合物与苯并三唑化合物的并用。

作为上述苯并咪唑化合物，只要是具有苯并咪唑结构的化合物，则没有特别限定，可列举出苯并咪唑、2-苯基苯并咪唑、2-甲苯酰基苯并咪唑、2-苯基-5-氯苯并咪唑、2-甲基苯并咪唑、2-乙基苯并咪唑、2-丙基苯并咪唑、2-(2’-乙基丙基)苯并咪唑、2-(苯基甲基)苯并咪唑、2-(二苯基甲基)苯并咪唑、2-二苯基甲基-5-甲基苯并咪唑、2-(萘甲基)苯并咪唑、2-萘甲基-5-氯苯并咪唑、2-噻嗯基苯并咪唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并咪唑、2-巯基-5-羧基苯并咪唑、2-巯基-5-甲基苯并咪唑、2-羟基苯并咪唑、2-溴苯并咪唑、2-巯基-5-硝基苯并咪唑、2-巯基-5-氨基苯并咪唑等。

此外，作为上述苯并三唑化合物，只要是具有苯并三唑结构的化合物，则没有特别限定，具有下述式(A)所表示的结构从可得到更优异的防腐蚀效果的观点出发是优选的。

[化学式2]

上述式(A)中，R¹分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为6～14的芳基、下述式(B)所表示的基团、巯基、或碳原子数为1～6的烷氧基羰基等取代基，n为0～4的整数，n为2以上时，n个R¹可以相同，也可以不同，R²表示氢原子、碳原子数为1～12的烷基、碳原子数为1～12的烷氧基、碳原子数为6～14的芳基、下述式(B)所表示的基团、巯基、或碳原子数为1～12的烷氧基羰基等取代基。

[化学式3]

式(B)中，R³及R⁴分别独立地表示氢原子、或碳原子数为1～10的烷基，R⁵表示单键或碳原子数为1～6的亚烷基，*表示与其他结构的键合部位。

作为苯并三唑化合物，可列举出苯并三唑、1-[N，N-双(羟基乙基)氨基乙基]苯并三唑、1-(1，2-二羧基乙基)苯并三唑、甲苯基三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、2，2’-{[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基}双乙醇、及羧基苯并三唑等。

作为四唑化合物，可列举出四唑、5-氨基四唑及1H-四唑5乙酸等。

上述例示中，作为优选的特定化合物，优选可例示出咪唑、苯并咪唑、巯基噻二唑、1，2，3-三唑、1，2，4-三唑、苯并三唑、1-[N，N-双(羟基乙基)氨基乙基]苯并三唑、1-(1，2-二羧基乙基)苯并三唑、甲苯基三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、2，2’-{[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基}双乙醇、羧基苯并三唑、四唑、5-氨基四唑及1H-四唑5乙酸，更优选咪唑、苯并咪唑、苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、及羧基苯并三唑，进一步优选苯并咪唑、苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N，N-双(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、及羧基苯并三唑，特别优选苯并咪唑及苯并三唑。

此外，特定化合物的含量相对于本发明中使用的第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上，更优选为3.0～20.0质量％，进一步优选为6.0～20.0质量％，特别优选为11.0～20.0质量％

含有多种特定化合物时，其总计量优选为上述范围内。

〔金属氧化物粒子〕

本发明中，金属氧化物粒子是指折射率高于由除了金属氧化物粒子以外的材料构成的层的折射率的金属氧化物粒子。

从光学特性的观点出发，金属氧化物粒子的含量相对于第二树脂层的总质量优选为0～5质量％，更优选为0～2.5质量％，最优选为0质量％。

具体而言，第二树脂层中具有400～750mn的波长的光下的折射率为1.70以上的粒子的含量相对于第二树脂层的全部固体成分优选为低于20质量％，更优选为低于10质量％，进一步优选为低于5质量％，特别优选为低于1质量％，最优选不含有。

第一树脂层中具有400～750nm的波长的光下的折射率为1.50以上的粒子的含量相对于第一树脂层的全部固体成分优选为低于20质量％，更优选为低于10质量％，进一步优选为低于5质量％，特别优选为低于1质量％，最优选不含有。

其中，具有400～750nm的波长的光下的折射率为1.70以上是指具有上述范围的波长的光下的平均折射率为1.70以上，不需要具有上述范围的波长的全部光下的折射率为1.70以上。同样地具有400～750nm的波长的光下的折射率为1.50以上是指具有上述范围的波长的光下的平均折射率为1.50以上，不需要具有上述范围的波长的全部光下的折射率为1.50以上。此外，平均折射率是将相对于具有上述范围的波长的各光的折射率的测定值的总和除以测定点的数目而得到的值。

另外，上述金属氧化物粒子的金属中也包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。

作为光透射性且折射率高的金属氧化物粒子，可列举出包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子。这些金属氧化物粒子中也包含为了赋予分散稳定性而将表面用有机材料处理过的金属氧化物粒子。

从第一树脂层及第二树脂层的透明性的观点出发，这些树脂层含有金属氧化物粒子时，上述金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，特别优选为3～80nm。其中粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜测定任意的200个粒子的粒径并将其算术平均。此外，在粒子的形状不是球形的情况下，将粒子的外径中的最大径作为粒径。

〔水溶性单体〕

第二树脂层优选含有水溶性单体。作为水溶性单体，使用相对于后述的水系溶剂具有溶解性的单体。

水溶性单体优选在25℃下在蒸馏水中溶解1质量％以上，更优选溶解3.0质量％以上。

作为水溶性单体，除了上述的聚合性化合物以外，还可列举出具有羟基的单体、分子内具有环氧乙烷或聚环氧丙烷的单体、及具有磷酸基的单体。

作为具有羟基的单体，可列举出(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯、甘油单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯。

作为分子内具有环氧乙烷或聚环氧丙烷的单体，可列举出三羟甲基丙烷环氧乙烷改性(以下，也称为EO改性)三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸EO改性三(甲基)丙烯酸酯等环氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为具有磷酸基的单体，可列举出乙烯基膦酸、磷酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸酸式磷酰氧基乙酯、(甲基)丙烯酸酸式磷酰氧基丙酯、双(丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、二苯基-2-甲基丙烯酰氧基乙基磷酸酯、二苯基-2-丙烯酰氧基乙基磷酸酯、二丁基-2-甲基丙烯酰氧基乙基磷酸酯、二丁基-2-丙烯酰氧基乙基磷酸酯、二辛基-2-(甲基)丙烯酰氧基乙基磷酸酯。

上述水溶性单体可以单独使用1种，也可以将两种以上组合使用。

第二树脂层中的水溶性单体的含量相对于第二树脂层的全部固体成分优选为0.1～30质量％，更优选为0.5～20质量％，进一步优选为1～15质量％。

〔水溶性聚合引发剂〕

第二树脂层也可以含有水溶性聚合引发剂。作为水溶性聚合引发剂，使用相对于后述的水系溶剂具有溶解性的聚合引发剂。

水溶性聚合引发剂优选在25℃下在蒸馏水中溶解1质量％以上，更优选溶解3.0质量％以上。

本发明中，如后述的那样，第二树脂层的干燥膜厚优选相对于第一树脂层的干燥膜厚充分地薄。因此，认为即使是第二树脂层不含有水溶性聚合引发剂的情况下，也通过第一树脂层含有聚合引发剂，利用光和/或热而进行上述水溶性单体的聚合。

作为第二树脂层中使用的水溶性聚合引发剂，优选光聚合引发剂，优选光自由基聚合引发剂。

作为水溶性聚合引发剂，优选可例示出IRGACURE2959(BASF社制)、下述式(2)所表示的聚合引发剂。

[化学式4]

第二树脂层中的水溶性聚合引发剂的含量相对于第二树脂层的全部固体成分优选为0.1～30质量％，更优选为0.5～20质量％，进一步优选为1～15质量％。

〔聚合物乳胶〕

此外第二树脂层也可以包含来源于聚合物乳胶的聚合物粒子。这里所谓的聚合物乳胶是水不溶的聚合物的微粒分散在水中而得到的物质。关于聚合物乳胶，例如记载于室井宗一著“高分子乳胶的化学(高分子ラテツクスの化学)(高分子刊行会发行(昭和48年))”。

作为可使用的聚合物粒子，优选由丙烯酸系、乙酸乙烯酯系、橡胶系(例如苯乙烯-丁二烯系、氯丁二烯系)、烯烃系、聚酯系、聚氨酯系、聚苯乙烯系等聚合物、及它们的共聚物构成的聚合物粒子。优选增强构成聚合物粒子的聚合物链相互间的键合力。作为增强聚合物链相互间的键合力的手段，可列举出与利用由氢键产生的相互作用的物质生成共价键的方法。作为赋予氢键合力的手段，优选在聚合物链上进行共聚、或接枝聚合而导入具有极性基团的单体。作为极性基团，可列举出羧基(丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富马酸、马来酸、巴豆酸、部分酯化马来酸等中含有的)、伯、仲及叔氨基、铵盐基、磺酸基(苯乙烯磺酸基)等，特别优选羧基、磺酸基。具有这些极性基团的单体的共聚比的优选的范围相对于聚合物100质量％为5～35质量％，更优选为5～20质量％，进一步优选为15～20质量％的范围内。另一方面，作为生成共价键的手段，可列举出使环氧化合物、封端异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸基等反应的方法。

利用了这些反应的聚合物中，优选通过多元醇类与聚异氰酸酯化合物的反应而得到的聚氨酯衍生物，更优选并用多胺作为链延长剂，特别优选进一步在聚合物链中导入上述极性基团而制成离聚物型的聚合物。

聚合物的重均分子量优选为1万以上，进一步优选为2万～10万。作为适合本发明的聚合物，可列举出乙烯与甲基丙烯酸的共聚物即乙烯离聚物、聚氨酯离聚物。

本发明中可使用的聚合物乳胶可以是通过乳液聚合而得到的乳胶，也可以是通过乳化而得到的乳胶。关于这些聚合物乳胶的制备方法，记载于例如“乳液和乳胶手册(エマルジョン·ラテツクス八ンドブシク)”(乳液和乳胶手册(エマルジョン·ラテツクスハンドブツク)编集委员会编集、(株)大成社发行(昭和50年))中。作为本发明中可使用的聚合物乳胶，可列举出例如将聚乙烯离聚物的水性分散物(商品名：CHEMIPEARL S120、三井化学(株)制。固体成分为27％)(商品名：CHEMIPEARL S100、三井化学(株)制。固体成分为27％)(商品名：CHEMIPEARL S111、三井化学(株)制。固体成分为27％)(商品名：CHEMIPEARLS200、三井化学(株)制。固体成分为27％)(商品名：CHEMIPEARL S300、三井化学(株)制。固体成分为35％)(商品名：CHEMIPEARL S650、三井化学(株)制。固体成分为27％)(商品名：CHEMIPEARL S75N、三井化学(株)制。固体成分为24％)、聚醚系聚氨酯的水性分散物(商品名：HYDRAN WLS-201、DIC(株)制。固体成分为35％、玻璃化转变温度(Tg)-50℃)(商品名：HYDRAN WLS-202、DIC(株)制。固体成分为35％、Tg-50℃)(商品名：HYDRAN WLS-221、DIC(株)制。固体成分为35％、Tg-30℃)(商品名：HYDRAN WLS-210、DIC(株)制。固体成分为35％、Tg-15℃)(商品名：HYDRAN WLS-213、DIC(株)制。固体成分为35％、Tg-15℃)(商品名：HYDRAN WLI-602、DIC(株)制。固体成分为39.5％、Tg-50℃)(商品名：HYDRAN WLI-611、DIC(株)制。固体成分为39.5％、Tg-15℃)、丙烯酸烷基共聚物铵(商品名：JURYMER AT-210、日本纯药(株)制)、丙烯酸烷基共聚物铵(商品名：JURYMER ET-410、日本纯药(株)制)、丙烯酸烷基共聚物铵(商品名：JURYMER AT-510、日本纯药(株)制)、聚丙烯酸(商品名：JURYMERAC-10L、日本纯药(株)制)进行氨中和并乳化而得到的乳胶。

第二树脂层含有聚合物乳胶时，第二树脂层中的聚合物乳胶的含量相对于第二树脂层的全部固体成分优选为1～90质量％，更优选为30～85质量％，进一步优选为40～85质量％。

〔水系溶剂〕

第二树脂层也可以包含水系溶剂。作为水系溶剂，优选使用水、或碳原子数为1～3的低级醇与水的混合溶剂。本发明的转印材料优选第二树脂层是涂布水、或碳原子数为1～3的低级醇与水的混合溶剂而形成的，更优选是涂布包含水/碳原子数为1～3的醇含有率以质量比计为10/90～100/0的水或混合溶剂的涂布液而形成的。水/碳原子数为1～3的醇含有率特别优选以质量比计为10/90～80/20的范围，最优选为15/85～40/60。

本发明的转印材料中，在第一树脂层上形成第二树脂层时，优选使用以下方法：将第二树脂层所包含的各成分在溶剂中溶解或混合而制作第二树脂层形成用的涂布液，涂布于临时支撑体上并进行干燥的方法。

通过上述干燥，第二树脂层中包含的溶剂优选至少一部分被除去。

具体而言，干燥后的第二树脂层中的溶剂的含量相对于第二树脂层的总质量优选为0～10质量％，更优选为0～5质量％，进一步优选为0～2质量％，特别优选为0～1质量％，最优选不含有。

作为水系溶剂，优选水、水及甲醇的混合溶剂、水及乙醇的混合溶剂，从干燥及涂布性的观点出发优选水及甲醇的混合溶剂。

〔其他添加剂〕

第二树脂层中也可以使用添加剂。作为上述的添加剂，可列举出例如日本专利第4502784号公报的段落0017、日本特开2009-237362号公报的段落0060～0071中记载的表面活性剂、日本专利第4502784号公报的段落0018中记载的热阻聚剂、进而日本特开2000-310706号公报的段落0058～0071中记载的其他添加剂。

〔第二树脂层的特性〕

-折射率及干燥膜厚-

此外，本发明中的第二树脂层的折射率优选为低于1.60，更优选为1.55以下。对于第一树脂层的折射率的下限，没有特别限制，但优选为1.20以上。

此外，本发明中的第二树脂层的干燥膜厚优选为500nm以下，更优选为110nm以下。第二树脂层的厚度进一步优选为55～100nm，特别优选为60～100nm，最优选为70～100nm。

折射率及干燥膜厚可以通过上述的方法测定。

＜保护膜＞

本发明的转印材料优选在第二树脂层上邻接并具有保护膜。

在转印材料中，通过将与第二树脂层相接的保护膜剥离后进行转印，从而变成在转印时转印目标处的基材与第二树脂层邻接的方式。

可以适当使用日本特开2006-259138号公报的段落0083～0087及0093中记载的保护膜。

上述保护膜可以通过将通过上述原材料形成的片材压接到形成有上述第二树脂层等的膜上来形成。

作为上述压接方法，没有特别限制，可以使用公知的方法。

＜其他层＞

本发明的转印材料也可以根据目的而具有其他层。作为其他层，可列举出例如为了对转印后的第二树脂层的表面给予物理耐久性而设置在第二树脂层与临时支撑体之间的硬涂层等。由于如上述那样第二树脂层优选位于(除保护膜、及根据需要形成的折射率调整层以外)转印材料的最外层，所以在存在其他层时，其他层优选与第二树脂层相比位于临时支撑体侧。

〔折射率调整层〕

本发明的转印材料也可以进一步具有折射率调整层。本发明的转印材料中优选在除保护膜以外的最外层上具有折射率调整层。

通过本发明的转印材料具有折射率调整层，在使用本发明的转印材料在具有透明电极图案的基材上形成保护层和/或绝缘层时，能够改善透明电极图案的视觉辨认性。

折射率调整层优选为透明树脂层。

折射率调整层的折射率优选为1.60以上。另一方面，作为折射率调整层的折射率的上限值，没有特别限制，在实用上优选为1.78以下，也可以为1.74以下。通过设定为上述折射率范围，透明电极的视觉辨认性得到改善。

折射率调整层的干燥膜厚优选为500nm以下，更优选为110nm以下，进一步优选为55～100nm，特别优选为60～100nm，最优选为70～100nm。

折射率调整层优选为非水溶性的层。

折射率调整层优选含有上述的粘合剂聚合物、聚合性化合物、聚合引发剂、溶剂、及金属氧化物粒子。对于粘合剂聚合物、聚合性化合物、聚合引发剂及溶剂，与第一树脂层所包含的粘合剂聚合物、聚合性化合物、聚合引发剂及溶剂含义相同，优选的方式也相同。

从折射率调整层的透明性的观点出发，金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，更优选为3～80nm。其中粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜测定任意的200个粒子的粒径并将其算术平均。此外，在粒子的形状不是球形的情况下，将粒子的外径中的最大径作为粒径。

此外，金属氧化物粒子可以单独使用1种，也可以将两种以上并用。

折射率调整层中的金属氧化物粒子的含量只要考虑通过折射率调整层而得到的对光学构件所要求的折射率、光透射性等来适当决定即可，相对于折射率调整层的全部固体成分优选设定为5～80质量％，设定为10～75质量％从改善本发明的层叠体的基板粘附性的观点出发更优选，进一步优选设定为10～73质量％。

本发明的转印材料的折射率调整层含有氧化锆粒子、氧化铌粒子及氧化钛粒子中的至少1种从将折射率控制在上述的范围内的观点出发是优选的，更优选含有氧化锆粒子及氧化铌粒子中的至少1种。

折射率调整层的干燥膜厚、及折射率可以通过准备在临时支撑体上形成有第一树脂层、第二树脂层及折射率调整层的转印材料，与上述第一树脂层、第二树脂层的干燥膜厚及折射率的测定进行同样的计算来算出。

(转印材料的制造方法)

本发明的转印材料可以依照日本特开2006-259138号公报的段落0094～0098中记载的感光性转印材料的制作方法来制作。其中，本发明的转印材料优选通过以下的本发明的转印材料的制造方法来制造。

即，本发明的转印材料的制造方法优选为一种转印材料的制造方法，其具有以下工序：在临时支撑体上形成第一树脂层的工序、和在上述第一树脂层上形成第二树脂层的工序，上述第一树脂层为非水溶性，上述第二树脂层包含水溶性聚合物，上述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，上述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于上述第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上。

此外，本发明的转印材料的制造方法中，优选在第一树脂层上直接形成第二树脂层。

第一树脂层优选涂布包含上述的第一树脂层中包含的各成分、及上述的溶剂的涂布液而形成。

第二树脂层优选将包含上述的第二树脂层中包含的各成分、及上述的水系溶剂的涂布液涂布于第一树脂层上而形成。

根据上述方式，由于层叠第一树脂层后即使在不使其固化的情况下层叠第二树脂层，层分级也变得良好而能够改善透明电极图案视觉辨认性，同时在由转印材料将第一树脂层及第二树脂层转印到透明电极图案上后，通过光刻法能够显影成所期望的图案，所以优选。

相反不根据上述那样的构成而在第一树脂层上层叠第二树脂层的情况下，两者混合，特别是制造第二树脂层中的特定化合物的相对于第二树脂层的全部固体成分的含有率高于第一树脂层中的特定化合物的相对于第一树脂层的全部固体成分的含有率的方式的转印材料变得困难。

在层叠第二树脂层前将第一树脂层固化的情况下，两层的层分级变得容易，但这样操作而制作的转印材料由于第一树脂层已经被固化，所以无法进行利用光刻法的图案化。

作为第一树脂层及第二树脂层的涂布方法，可以没有特别限定地使用公知的方法，优选可列举出例如通过使用旋转器、旋转涂布机(whirler)、辊涂机、帘式涂布机、刮刀涂布机、绕线棒涂布机、挤压机等涂布机涂布并使其干燥而形成的方法。

此外，本发明的转印材料的制造方法也可以在形成上述第二树脂层的工序之后包含形成折射率调整层的工序。

具体而言，在形成具有折射率调整层的转印材料的情况下，优选在第二树脂层上，涂布在上述的溶剂中溶解上述折射率调整层所含有的各成分而得到的涂布液，使其干燥而层叠折射率调整层。

(层叠体及其制造方法)

本发明的层叠体的特征在于，其具有基材、位于上述基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案(以下，也称为“特定电极图案”。)、位于上述电极图案上的第二树脂层、和位于上述第二树脂层上的第一树脂层，上述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物。

特定电极图案与第二树脂层优选邻接。

此外，上述第二树脂层包含水溶性聚合物，上述水溶性聚合物的含量相对于第二树脂层的全部固体成分优选为2～95质量％。

进而，上述第一树脂层优选为非水溶性。

此外，本发明中的层叠体优选为在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层而制作而成的层叠体。

本发明中使用的特定电极图案可以是包含透明电极图案的电极图案，也可以是包含金属电极图案的电极图案，但优选为在至少一部分中包含金属的电极图案，且在至少一部分中包含金属电极图案。

此外，特定电极图案优选包含金属布线部。

在上述特定电极图案包含透明电极图案的情况下，特定电极图案优选为包含上述透明电极图案和金属布线部的电极图案。

在上述特定电极图案包含透明电极图案的情况下，本发明中的层叠体优选进一步具有折射率调整层。折射率调整层优选与透明电极图案相接。

在上述特定电极图案包含后述的金属电极图案的情况下，特定电极图案优选为包含上述金属电极图案和金属布线部的电极图案。

在上述特定电极图案包含后述的金属电极图案的情况下，本发明中的层叠体中，第二树脂层与金属电极图案可以相接也可以不相接，但从金属电极图案的耐腐蚀性的观点出发，优选第二树脂层与金属电极图案相接。

第一树脂层及第二树脂层更优选均被图案化，进一步优选在上述金属布线部上的区域中第一树脂层及第二树脂层被图案化。

所谓层被图案化是指通过层的一部分被有意除去而制作在面内方向存在层的区域和不存在层的区域，作为图案化的方法，优选可列举出利用后述的图案化工序中的曝光及显影的方法。

本发明的层叠体优选在除去了上述第一树脂层、及上述第二树脂层的区域中的金属布线部上具有特定化合物。

根据上述方式，在除去了上述第一树脂层、及上述第二树脂层的区域中的金属布线部中，耐腐蚀性也提高。推测这正是由于，特定电极图案中的金属与特定化合物形成络合物，在通过图案化而除掉第二树脂层后，由该络合物形成的层也残留在特定电极图案的表面。

利用上述方式的耐腐蚀性的提高效果在第二树脂层与金属布线部邻接的方式中，特别容易得到。

在后述的图10中，记载了金属布线部6上的第一树脂层7及第二树脂层12通过图案化被除去的一部分的区域14。

在图14中，作为迂回布线的终端部，记载了作为通过图案化而第一树脂层(及第二树脂层)被除去的区域的迂回布线的终端部31。关于图14的详细的说明在后面进行叙述。

上述金属布线部上具有特定化合物可以通过以下的方法确认。使用ULVAC-PHI，INCORPORATED.制TRIFT II，由将一次离子的Au⁺离子对试样进行照射且并用中和枪而得到的质谱确认生成Cu与特定化合物的络合物离子。详细的测定条件只要适当设定即可，可以设定为例如一次离子加速电压22kV、测定面积80×80μm、测定时间3分钟。

本发明的层叠体的制造方法包括以下工序：在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及将上述临时支撑体剥离的工序。

本发明中的层叠体优选为透明层叠体。此外，本发明的层叠体的制造方法优选为透明层叠体的制造方法。

透明层叠体是指至少一部分为透明的层叠体。

在上述特定电极图案包含后述的透明电极图案的情况下，优选包含透明电极图案的一部分的区域为透明。

在上述特定电极图案包含后述的金属电极图案的情况下，优选不包含金属电极图案的一部分的区域为透明。

优选除在至少一部分中包含金属的电极图案以外的部位为透明的层叠体。

层叠体为透明是指层叠体的透射率达到80％以上。上述透射率可以使用在400～780nm的波长范围内以1nm的间距测定的值的最小值。

进而本发明的层叠体优选非着色性良好、即不带有黄色味。此外，本发明的层叠体优选基板粘附性良好。

以下，以本发明的层叠体为透明层叠体的情况为中心进行叙述，但本发明并不限定于此。

＜透明层叠体的构成＞

本发明的透明层叠体包含透明电极图案时，在上述透明电极图案的与形成有第二树脂层的一侧相反侧进一步具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜，这从更加改善透明电极图案的视觉辨认性的观点出发是优选的。另外，本说明书中，没有特别说明地记载为“透明膜”时，是指上述的“折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜”。

本发明的透明层叠体优选在特定电极图案的与第二树脂层相反侧进一步具有透明基板。

此外，本发明的透明层叠体具有透明膜时，优选在折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜的与形成有透明电极图案的一侧相反侧进一步具有透明基板。

上述透明基板优选为透明膜基板。该情况下，上述透明膜优选配置在上述透明电极图案与上述透明膜基板之间。

此外，关于本发明的层叠体，上述特定电极图案优选为形成于透明膜基板上的特定电极图案。

图10中示出本发明的层叠体的方式的1例。

图10中的层叠体为透明层叠体。

图10中，具有透明基板1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11，进而包含透明电极图案的特定电极图案4、后述的垫片部分3a、金属布线部6、第二树脂层12及第一树脂层7以该层构成层叠。

优选在包含透明电极图案的特定电极图案4与第二树脂层12之间，进一步具有折射率调整层。

图10中，记载了特定电极图案4包含透明电极图案的情况，但在特定电极图案4为金属电极图案的情况下也可以制成同样的构成。另外，特定电极图案4为金属电极图案时，层叠体也可以不具有透明膜11。

此外，在金属布线部6上的一部分的区域14中，第二树脂层12及第一树脂层7通过图案化被除去。

图12中示出本发明的透明层叠体的构成的1例。

图12中，具有透明基板1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11，进而在面内具有特定电极图案4、第二树脂层12及第一树脂层7以该层构成层叠而成的区域21。

另外，在图12中，特定电极图案4为金属电极图案时，也可以不具有透明膜11。

此外，特定电极图案4包含透明电极图案时，优选在第二树脂层12与特定电极图案4之间进一步具有折射率调整层。

此外，图12中，示出了透明层叠体除了包含上述区域以外，还包含透明基板1、透明膜11、第二树脂层、及第一树脂层以该层构成层叠而成的区域(在图12的构成中，第二树脂层12与第一树脂层7以该层构成层叠而成的区域22(即，未形成有特定电极图案的非图案区域22))。

换而言之，带透明电极图案的基板在面内方向包含透明基板1、透明膜11、特定电极图案4、第二树脂层12、及第一树脂层7以该层构成层叠而成的区域21。

所谓面内方向是指相对于透明层叠体的与透明基板平行的面大致平行方向。因此，所谓在面内包含特定电极图案4、第二树脂层12及第一树脂层7以该层构成层叠而成的区域是指特定电极图案4、第二树脂层12及第一树脂层7以该层构成层叠而成的区域的在透明层叠体的与透明基板平行的面上的正射影存在于透明层叠体的与透明基板平行的面内。

其中，在将本发明的透明层叠体用于后述的静电电容型输入装置时，特定电极图案有时在行方向与列方向的大致正交的2个方向上分别作为第一特定电极图案及第二特定电极图案而设置(例如，参照图4)。例如在图4的构成中，本发明的透明层叠体中的特定电极图案可以是第二特定电极图案4，也可以是第一特定电极图案3的垫片部分3a。换而言之，在以下的本发明的透明层叠体的说明中，有时将特定电极图案的符号用“4”代表来表示，但本发明的透明层叠体中的特定电极图案不限定于在本发明的静电电容型输入装置中的第二特定电极图案4中的使用，例如也可以作为第一特定电极图案3的垫片部分3a来使用。

本发明的透明层叠体优选包含未形成有特定电极图案的非图案区域。本说明书中，所谓非图案区域是指未形成有特定电极图案4的区域。

图12中，示出了本发明的透明层叠体包含非图案区域22的方式。

本发明的透明层叠体优选在面内包含在未形成有特定电极图案的非图案区域22的至少一部分中透明基板、第二树脂层、第一树脂层、以及根据需要的透明膜和/或折射率调整层以该层构成层叠而成的区域。

本发明的透明层叠体优选在透明基板、透明膜、折射率调整层、第二树脂层、第一树脂层以该层构成层叠而成的区域中，透明膜及折射率调整层彼此邻接。

但是，在非图案区域22的其他区域中，只要不违反本发明的主旨，则可以将其他构件配置在任意的位置，例如将本发明的透明层叠体用于后述的静电电容型输入装置时，可以层叠掩模层2、绝缘层5或作为其他导电性要素的金属布线部6等。

本发明的透明层叠体具有透明膜时，优选透明基板及透明膜彼此邻接。

图12中，示出了在透明基板1上邻接地层叠有透明膜11的方式。

但是，只要不违反本发明的主旨，则也可以在透明基板及透明膜之间层叠第三透明膜。例如还优选在透明基板及透明膜之间包含折射率为1.50～1.52的第三透明膜(图12中不图示)。

本发明的透明层叠体的透明膜的厚度优选为55～110nm，更优选为60～110nm，进一步优选为70～90nm。

其中，透明膜可以是单层结构，也可以是2层以上的层叠结构。透明膜为2层以上的层叠结构时，所谓透明膜的膜厚是指全部层的总计膜厚。

本发明的透明层叠体具有透明膜时，优选透明膜及透明电极图案彼此邻接。

图12中，示出了在透明膜11的一部分的区域上邻接地层叠有特定电极图案4的方式。

如图12中所示的那样，关于特定电极图案4的端部，对其形状没有特别限制，也可以具有锥形状，例如也可以具有透明基板侧的面比与透明基板相反侧的面宽那样的锥形状。

其中，特定电极图案的端部为锥形状时的特定电极图案的端部的角度(以下，也称为锥角。)优选为30度以下，更优选为0.1～15度，进一步优选为0.5～5度。

作为本说明书中的锥角的测定方法，可例示出拍摄特定电极图案的端部的显微镜照片，将该显微镜照片的锥形部分近似成三角形，直接测定锥角而求出的方法。

图11中示出特定电极图案的端部为锥形状时的一例。图11中的近似锥形部分的三角形的底面为800nm，高度(与底面大致平行的上底部分中的膜厚)为40nm，此时的锥角α为3度。近似锥形部分的三角形的底面优选为10～3,000nm，更优选为100～1,500nm，进一步优选为300～1,000nm。

另外，近似锥形部分的三角形的高度的优选的范围与特定电极图案的膜厚的优选的范围同样。

本发明的透明层叠体在特定电极图案为金属电极图案时，优选包含特定电极图案及第二树脂层彼此邻接的区域。

图12中，示出了在透明电极图案、第二树脂层及第一树脂层以该层构成层叠而成的区域21中，透明电极图案、第二树脂层及第一树脂层彼此邻接的方式。

此外，本发明的透明层叠体优选通过第一树脂层、第二树脂层以及根据需要的透明膜，特定电极图案及未形成有特定电极图案的非图案区域22这两者直接或介由其他层被被覆。

其中，所谓“连续”是指透明膜、第一树脂层、及第二树脂层不是图案膜，而是连续膜。即，透明膜、第一树脂层、及第二树脂层优选不具有开口部。

根据上述方式，在具有透明电极图案的透明层叠体中，透明电极图案难以被视觉辨认，能够得到金属布线部的耐腐蚀性优异的透明层叠体。此外，在具有金属电极图案的透明层叠体中，能够得到金属电极的耐腐蚀性优异的透明层叠体。

此外，通过透明膜、第一树脂层、及第二树脂层，透明电极图案及非图案区域22与介由其他层被被覆相比，优选直接被被覆。作为介由其他层被被覆时的“其他层”，可列举出后述的本发明的静电电容型输入装置中包含的绝缘层5、像后述的本发明的静电电容型输入装置那样包含2层以上透明电极图案时的第2层的透明电极图案等。

图12中，示出了层叠有第二树脂层12的方式。第二树脂层12横跨而层叠在透明膜11上的未层叠有特定电极图案4的区域和层叠有特定电极图案4的区域上。即，第二树脂层12与透明膜11邻接，进而第二树脂层12与特定电极图案4也邻接。

此外，特定电极图案4的端部为锥形状时，优选沿着锥形状(以与锥角相同的斜率)层叠有第二树脂层12。

图12中，示出了在第二树脂层12的同与透明电极图案相接的表面相反侧的表面上层叠有第一树脂层7的方式。

＜透明层叠体的材料＞

〔基材〕

本发明中的层叠体包含基材。

上述基材优选为膜基板。

基材为膜基板时，优选在上述膜基板的两面分别具有上述电极图案、上述第二树脂层、及上述第一树脂层。

作为上述基材，优选透明基板。

作为上述透明基板，可以使用透明的树脂基板或玻璃基板。从生产率的观点出发，优选树脂基板。树脂基板能够以辊状的形态连续地将转印材料进行层压、曝光、显影、水洗、干燥及烘烤等处理。优选聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚砜、聚酯，从成本、透明性及强度的观点出发，更优选聚酰亚胺及聚酯。

另一方面，从耐热性的观点出发，透明基板优选为玻璃基板。

特定电极图案包含透明电极图案时，透明基板的折射率更优选为1.50～1.52。

透明基板由透明的树脂基板或玻璃基板等透光性基板构成，作为玻璃的例子，可以使用以Corning公司的Gorilla玻璃为代表的强化玻璃等。此外，作为透明基板，可以优选使用日本特开2014-141592号公报、日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的材料。

〔特定电极图案〕

-透明电极图案-

透明电极图案的折射率优选为1.75～2.10。

透明电极图案的材料没有特别限制，可以使用公知的材料。透明电极图案可以利用例如ITO(Indium Tin Oxide)或IZO(Indium Zinc Oxide)等透光性的导电性金属氧化膜进行制作。作为这样的金属膜，可列举出ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；SiO₂等金属氧化膜等。此时，各要素的膜厚可以设为10～200nm。此外，通过烧成，将非晶形的ITO膜制成多晶的ITO膜，由此还能够降低电阻。此外，上述的第一特定电极图案3、第二特定电极图案4和后述的其他导电性要素6也可以利用具有使用后述的导电性纤维的光固化性树脂层的感光性膜进行制造。此外，在通过ITO等形成导电性图案等的情况下，可以参考日本专利第4506785号公报的段落0014～0016等。其中，透明电极图案优选为ITO膜。

本发明的透明层叠体的透明电极图案特别优选为折射率为1.75～2.10的ITO膜。

-金属电极图案-

作为金属电极图案，可列举出例如铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、它们的合金等，优选为铜、包含铜的合金、银或包含银的合金，更优选为铜或包含铜的合金。金属电极图案中，在不损害本发明的效果的范围内，也可以包含粘合剂等树脂成分或感光性化合物等，也可以进一步根据需要包含其他成分。

金属布线的宽度没有特别限制，但从确保布线基板的高集成化部及迂回布线部(引线布线部)中的电可靠性的方面出发，优选为0.1～10,000μm，更优选为0.1～300μm，进一步优选为0.1～100μm，特别优选为0.2～50μm。

金属布线间的间隔没有特别限制，但从布线基板的高集成化的方面出发，优选为0.1～1,000μm，更优选为0.1～300μm，进一步优选为0.1～100μm，特别优选为0.2～50μm。

此外，金属布线的形状没有特别限制，可以是任意的形状。可列举出例如直线状、曲线状、矩形状、圆状等。此外，多种金属布线也可以配置成所期望的图案(例如，条纹状)。

金属布线的厚度没有特别限制，但从布线基板的高集成化的方面出发，优选为0.001～1.0μm，更优选为0.01～0.5μm，进一步优选为0.01～0.1μm。

〔第一树脂层及第二树脂层〕

本发明的透明层叠体中包含的第一树脂层及第二树脂层的优选的方式与本发明的转印材料中的第一树脂层及第二树脂层的优选的方式同样。

＜层叠体中的折射率、及干燥膜厚测定方法＞

层叠体中的第一树脂层及第二树脂层的折射率及干燥膜厚的测定可以使用反射分光膜厚计FE-3000(大塚电子(株)制)，通过与转印材料中的折射率及干燥膜厚的测定同样的方法进行。将其概略在以下示出。此外，以下的测定在25℃的条件下进行。

作为基材，使用透明基板时，折射率可以如下述那样测定。

(1)对于透明层叠体，对于将透明基板、透明膜、透明电极图案依次层叠而成的样品、将透明基板、透明膜、透明电极图案及第二树脂层依次层叠而成的样品等，预先测定各层的折射率和各层的干燥膜厚的预测值。

(2)在透明层叠体中，对透明基板/透明膜/透明电极图案/第二树脂层/第一树脂层的5层构成的部分切取成纵横的边的长度为10cm×10cm。在切取的透明层叠体上，介由透明粘接带(OCA带8171CL：3M社制)，与黑色PET材料接触，制作样品片。使用透射型电子显微镜(TEM)将样品片进行结构解析，求出各层的干燥膜厚的预测值。对于样品片，使用FE-3000(大塚电子(株)制)，评价测定斑点：直径φ40μm、以0.2mm间隔在任意的方向的直线上100点的测定点的反射光谱。此时，由于考虑第二树脂层与透明电极图案的界面及第一树脂层与第二树脂层的界面，所以在将第二树脂层、透明基板、透明膜及透明电极图案的折射率及第一树脂层的干燥膜厚的平均值的预测值、以及第二树脂层的干燥膜厚的平均值的预测值代入计算式的状态下，由透明基板/透明膜/透明电极图案/第二树脂层/第一树脂层的5层构成的部分的反射光谱通过模拟计算进行拟合而求出第一树脂层的折射率n₁、第二树脂层的折射率n₂和100点的测定点中的第一树脂层及第二树脂层的干燥膜厚。进而算出第一树脂层及第二树脂层的干燥膜厚的平均值、最大值、最小值及标准偏差，算出n₁、n₂、T₁、T₂、σ₁及H₁。本说明书中，将任意的方向设定为与样品片的一边平行的方向，将100点的测定点(即2cm长)设定为距离样品片的一边的中心均等地每1cm的范围。

使用不透明的基材时，预先制作在基材的背面介由透明粘接带贴附有黑色PET材料的样品片，使用反射分光膜厚计FE-3000评价基材和黑色PET材料的层叠体的反射光谱(波长：430～800nm)，求出各波长下的折射率n、干燥膜厚T、及消光系数k。在5层构成样品的模拟计算时，可以通过代入上述折射率n、干燥膜厚T、消光系数k作为基材的特性，通过拟合而求出第一树脂层和第二树脂层的折射率、干燥膜厚。

〔透明膜〕

本发明的透明层叠体可以包含的透明膜的折射率优选为1.60～1.78，更优选为1.65～1.74。其中，透明膜可以是单层结构，也可以是2层以上的层叠结构。透明膜为2层以上的层叠结构时，透明膜的折射率是指全部层的折射率。

透明膜的材料没有特别限制。

为了达成上述折射率，透明膜优选含有上述金属氧化物粒子。

作为金属氧化物粒子的含量，只要是能够达成上述折射率的量则没有特别限制，但相对于透明膜的全部固体成分优选为低于20质量％，更优选为低于10质量％，进一步优选为低于5质量％，特别优选为低于1质量％，最优选不含有金属氧化物粒子。

从透明膜的透明性的观点出发，金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，更优选为3～80nm。其中粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜测定任意的200个粒子的粒径并将其算术平均。此外，在粒子的形状不是球形的情况下，将粒子的外径中的最大径作为粒径。

透明膜中的金属氧化物粒子的含量只要考虑通过透明膜而得到的光学构件所要求的折射率、光透射性等而适当决定即可，但相对于透明膜的全部固体成分优选设定为5～80质量％，从改善本发明的层叠体的基板粘附性的观点出发更优选设定为10～75质量％，进一步优选设定为10～73质量％。

本发明的转印材料的透明膜含有氧化锆粒子、氧化铌粒子及氧化钛粒子中的至少1种从将折射率控制在上述的范围内的观点出发是优选的，更优选含有氧化锆粒子及氧化铌粒子中的至少1种。

透明膜的除金属氧化物粒子以外的材料的优选的范围和除折射率以外的物性的优选的范围与第二树脂层的它们的优选的范围同样。

本发明的透明层叠体的透明膜和第二树脂层通过同一材料构成从光学均质性的观点出发优选。

本发明的透明层叠体的透明膜优选为透明树脂膜。

作为透明树脂膜中使用的金属氧化物粒子、树脂(粘合剂)或其他添加剂，只要不违反本发明的主旨则没有特别限制，可以优选使用本发明的转印材料中的第二树脂层中使用的树脂或其他添加剂。

本发明的透明层叠体的透明膜也可以是无机膜。

作为上述无机膜，可以使用日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报等中使用的无机膜，使用这些文献中记载的低折射率材料与高折射率材料的层叠结构的无机膜、低折射率材料与高折射率材料的混合膜的无机膜从控制折射率的观点出发是优选的。上述低折射率材料和上述高折射率材料可以优选使用上述的日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的材料，这些文献的内容通过参考被纳入本说明书中。

上述无机膜可以是SiO₂与Nb₂O₅的混合膜，该情况下，更优选为通过溅射而形成的SiO₂与Nb₂O₅的混合膜。

〔折射率调整层〕

本发明的透明层叠体也可以包含的折射率调整层的优选的范围与本发明的转印材料中的折射率调整层的优选的范围同样。

〔追加的透明膜〕

本发明的层叠体在特定电极图案包含透明电极图案时，也可以进一步包含追加的透明膜。

追加的透明膜优选包含于基材与透明膜之间，更优选包含于透明基板与透明膜之间。

从通过接近上述基材的折射率来改善透明电极图案的视觉辨认性的观点出发，上述追加的透明膜的折射率优选为1.50～1.55，更优选为1.50～1.52。

〔硬涂层〕

在上述基材与透明电极图案之间，也可以导入硬涂层来代替上述的透明膜。硬涂层可以作为真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式工艺、或通过湿式法(涂敷法)等来形成。作为湿式法(涂敷法)，可以采用使用了辊涂机、逆转辊式涂布机、凹版式涂布机、微凹版式涂布机、刮刀涂布机、棒涂机、绕线棒涂布机、口模涂布机、浸渍涂布机的涂布方法。

硬涂层从易滑性或硬度提高的观点考虑被导入，例如通过使具有四乙氧基硅烷等反应性硅化合物、多官能(甲基)丙烯酸酯等的固化性组合物利用热、紫外线(UV)或电离放射线固化而得到的固化物来形成。此外，也可以添加胶体二氧化硅等无机微粒，硬涂层的折射率优选被调整成1.45～1.55左右。

＜基材的两面上的特定电极图案的形成＞

上述特定电极图案可以形成于仅基材的单面，也可以形成于两面。作为上述基材，优选透明基板，更优选透明膜基板。在基材的两面形成电极图案时，形成于基材与特定电极图案之间的硬涂层及透明膜可以按照厚度、层构成变成两面对称的方式形成，也可以非对称地形成。特定电极图案形成于基材的两面时，本发明的转印材料中包含的第一树脂层及第二树脂层优选转印到两面上。

即，本发明的层叠体优选在透明膜基板的两面分别具有特定电极图案、第一树脂层及第二树脂层。该情况下的层叠体的构成的一例为后述的图1中所示的方式。

〔第三透明膜〕

从接近透明基板的折射率而改善透明电极图案的视觉辨认性的观点出发，第三透明膜的折射率为1.50～1.55是优选的，更优选为1.50～1.52。

＜层叠体的制造方法＞

本发明的透明层叠体的制造方法的特征在于，其包括以下工序：在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及将上述临时支撑体剥离的工序。

此外，本发明的透明层叠体的制造方法优选进一步包含将层叠于电极图案上的第一树脂层及第二树脂层进行图案化的工序。

通过这样的构成，可以将透明层叠体的第二树脂层及第一树脂层一并转印，能够容易地、生产率良好地制造透明层叠体。

另外，本发明的透明层叠体的制造方法中的第二树脂层在特定电极图案上、和非图案区域中的透明膜上直接、或介由其他层而制膜。

〔转印第一树脂层及第二树脂层的工序〕

本发明的层叠体的制造方法包含在透明树脂图案上，在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序。

转印上述第一树脂层及第二树脂层的工序为将本发明的转印材料的第一树脂层及第二树脂层层压到透明电极图案上(贴合)的工序。此时，在转印材料具有上述的保护膜的情况下，在层压前保护膜被除去。

上述第一树脂层及上述第二树脂层向透明电极图案表面的层压是通过将上述第一树脂层及上述第二树脂层叠加在透明电极图案表面并进行加压、加热而进行的。在贴合中，可以使用层压机、真空层压机、及能够进一步提高生产率的自动开料(Auto-cut)层压机等公知的层压机。

〔将临时支撑体剥离的工序〕

本发明的层叠体的制造方法在转印上述第一树脂层及第二树脂层的工序后，包含将临时支撑体剥离的工序。作为临时支撑体的剥离方法，没有特别限制，可以使用公知的方法。此外，本发明的层叠体的制造方法包含后述的进行图案化的工序时，将临时支撑体剥离的工序可以在进行图案化的工序之前进行，也可以在进行图案化的工序的途中(进行曝光的工序与进行显影的工序之间)进行。

〔将基材进行表面处理的工序〕

此外，本发明的层叠体的制造方法在转印上述第一树脂层及第二树脂层的工序前，为了提高转印上述第一树脂层及第二树脂层的工序中的利用层压的各层的粘附性，可以包含预先对基材(透明膜基板或前面板)的非接触面实施表面处理的“将基材进行表面处理的工序”。作为上述表面处理，优选实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷偶联处理)。作为硅烷偶联剂，优选具有与感光性树脂相互作用的官能团的硅烷偶联剂。例如利用喷淋器吹送20秒钟硅烷偶联液(N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液、商品名：KBM603、信越化学工业(株)制)，进行纯水喷淋器清洗。之后，利用加热使之反应。也可以使用加热槽，还可以利用层压机的基板预加热来促进反应。

基材的优选的方式与本发明的层叠体中的基材的优选的方式同样。

〔将特定电极图案进行制膜的工序〕

本发明的层叠体的制造方法也可以包含将特定电极图案进行制膜的工序。

上述特定电极图案可以使用后述的本发明的静电电容型输入装置的说明中的第一特定电极图案3、第二特定电极图案4及金属布线部6的形成方法等在基材上或上述折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜上进行制膜，优选使用感光性膜的方法。将特定电极图案进行制膜的工序优选在上述的转印第一树脂层及第二树脂层的工序前进行。

〔将第一树脂层进行图案化的工序〕

本发明的层叠体的制造方法优选进一步包含将第一树脂层进行图案化的工序(以下，也称为“图案化工序”。)。

上述图案化工序优选为将第一树脂层及第二树脂层进行图案化的工序。

图案化工序包含进行曝光的工序及进行显影的工序。

作为上述进行曝光的工序、进行显影的工序、及其他的工序的例子，本发明中也可以适当使用日本特开2006-23696号公报的段落0035～0051中记载的方法。

另外，也可以根据需要对除第一树脂层及第二树脂层以外的层进行图案化工序。

另外，在图案化前的层叠体中，特别是根据第二树脂层与特定电极图案直接相接的方式，即使在将第二树脂层通过图案化而除去后，特定电极图案的耐腐蚀性也提高。推测这正是由于，特定电极图案中的金属与特定化合物形成络合物，在通过图案化而第二树脂层被除去后，由该络合物形成的层也残留在特定电极图案的表面。

以后的说明以将第一树脂层和/或第二树脂层进行图案化的情况为例进行说明。

〔曝光的工序〕

上述曝光的工序为例如将转印于透明电极图案上的上述第一树脂层和/或上述第二树脂层进行曝光的工序。

具体而言，可列举出在形成于上述特定电极图案上的上述第一树脂层和/或上述第二树脂层的上方配置规定的掩模，之后介由上述掩模从掩模上方将上述第一树脂层和/或上述第二树脂层进行曝光的方法；不使用掩模而将上述第一树脂层和/或上述第二树脂层进行整面曝光的方法。

其中，作为上述曝光的光源，只要是能够照射可将上述第一树脂层和/或上述第二树脂层固化的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源，就可以适当选择使用。具体而言，可列举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，优选为5～200mJ/cm²左右，更优选为10～100mJ/cm²左右。

另外，进行曝光的工序可以在将临时支撑体剥离后进行，也可以在将临时支撑体剥离前进行曝光，之后将临时支撑体剥离。可以是介由掩模的曝光，也可以是使用激光器等的数字曝光。

〔显影的工序〕

显影的工序是例如将曝光后的第一树脂层和/或上述第二树脂层进行显影的工序。

上述显影可以使用显影液进行。作为上述显影液，没有特别限制，可以使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。另外，显影液优选使上述第一树脂层及上述第二树脂层显示出溶解型的显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物的显影液。另一方面，没有通过上述第一树脂层及上述第二树脂层自身形成图案时(使用蚀刻时等)的显影液优选使上述第一树脂层及上述第二树脂层显示出不溶解型的显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物的显影液。显影液中也可以进一步少量添加与水具有混和性的有机溶剂。作为与水具有混和性的有机溶剂，可列举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丁基醚、苄基醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。上述有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。此外，上述显影液中可以进一步添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。

作为上述显影的方式，可以是桨式(paddle)显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等中的任一种。这里，若对上述喷淋显影进行说明，则通过利用喷淋器对曝光后的上述第一树脂层及上述第二树脂层吹送显影液，可以将未固化部分除去。此外，优选在显影后，利用喷淋器吹送清洗剂等，在用刷子等擦拭的同时，除去显影残渣。显影液的液温度优选为20℃～40℃，此外，显影液的pH优选为8～13。

〔其他工序〕

上述层叠体的制造方法也可以具有后曝光的工序、后烘烤的工序等其他工序。上述第一树脂层及上述第二树脂层为热固化性树脂层时，优选在显影的工序后进行后烘烤的工序。

〔将透明膜进行制膜的工序〕

本发明的层叠体的制造方法优选包含将透明膜进行制膜的工序。

在将透明膜进行制膜的工序中，在上述透明电极图案的与形成有上述第二树脂层的一侧相反侧，进一步具有折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜时，上述透明膜在上述透明电极图案上直接、或介由上述追加的透明膜等其他层而被制膜。

作为上述透明膜的制膜方法，没有特别限制，优选通过转印或溅射进行制膜。

其中，将透明膜进行制膜的工序优选为对将形成于临时支撑体上的透明固化性树脂膜转印到上述基材上而制膜的透明膜进行制膜的工序，更优选为对在转印后固化而制膜的透明膜进行制膜的工序。作为转印及固化的方法，可列举出使用后述的本发明的静电电容型输入装置的说明中的感光性膜，与本发明的层叠体的制造方法中的转印上述第一树脂层及上述第二树脂层的方法同样地进行转印、曝光、显影及其他工序的方法。该情况下，优选通过使上述金属氧化物粒子分散于感光性膜中的光固化性树脂层中，从而将上述透明膜的折射率调整为上述的范围。

另一方面，上述透明膜为无机膜时，优选通过溅射而形成。即，本发明的层叠体还优选上述透明膜通过溅射而形成。

作为溅射的方法，可以优选使用日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的方法，这些文献的内容通过参考被纳入本说明书中。

〔将追加的透明膜进行制膜的工序〕

本发明的层叠体的制造方法优选包含将追加的透明膜进行制膜的工序。

将上述追加的透明膜进行制膜的工序是与将透明膜进行制膜的工序同样的工序。

(静电电容型输入装置及其制造方法)

本发明中的静电电容型输入装置的特征在于，使用本发明的转印材料制作而成、或具有本发明的透明层叠体。

本发明的静电电容型输入装置优选由本发明的转印材料将第一树脂层及第二树脂层转印到静电电容型输入装置的特定电极图案上来制作。

本发明的静电电容型输入装置优选具有由本发明的转印材料转印后被图案化的第一树脂层及第二树脂层。另外，优选在由本发明的转印材料转印第一树脂层和/或第二树脂层前将保护膜从本发明的转印材料剥离。本发明的静电电容型输入装置由于需要通过迂回布线的终端部与其他布线构件(柔性印刷基板等)连接，所以优选迂回布线的终端部不被第二树脂层(及第一树脂层)覆盖。

本发明的静电电容型输入装置优选使由本发明的转印材料转印的第一树脂层及第二树脂层同时固化而成，更优选将第一树脂层及第二树脂层同时固化及图案化而成。另外，在将由本发明的转印材料转印的第一树脂层及第二树脂层同时进行固化时，优选不将临时支撑体从本发明的转印材料剥离。

本发明的静电电容型输入装置更优选将由本发明的转印材料转印并同时固化而成的第一树脂层及第二树脂层的未固化部分进行显影并除去而成。另外，优选在将由本发明的转印材料转印的第一树脂层及第二树脂层固化后且显影前将临时支撑体从本发明的转印材料剥离。本发明的静电电容型输入装置由于需要通过迂回布线的终端部与形成于聚酰亚胺膜上的柔性布线连接，所以优选不被第一树脂层及第二树脂层覆盖。

将该方式示于图14中。图14示出包含特定电极图案的迂回布线(其他导电性要素6)和迂回布线的终端部31的以下的构成的静电电容型输入装置。

由于迂回布线的终端部31上的第一树脂层及第二树脂层成为未固化部(未曝光部)，所以通过显影除去而迂回布线的终端部31露出。

将具体的曝光、显影的方式示于图15及图16中。图15表示将具有第一树脂层及第二树脂层的本发明的转印材料30通过层压层叠到静电电容型输入装置的透明电极图案上并通过曝光等进行固化前的状态。利用光刻法时、即通过曝光进行固化时，可以通过使用掩模进行图案曝光及未曝光部的显影而得到图16中所示的形状的第一树脂层及第二树脂层的固化部(曝光部)33。具体而言，图16中，可得到用于作为第一树脂层及第二树脂层的未固化部与迂回布线的终端部对应的开口部34和具有伸出到静电电容型输入装置的框架部的轮廓的外侧的第一树脂层及第二树脂层的本发明的转印材料的端部被除去的不将迂回布线的终端部(取出布线部)覆盖的第一树脂层及第二树脂层的固化部(所期望的图案)。

由此，可以将制作于聚酰亚胺膜上的柔性布线与迂回布线的终端部31直接连接，由此，能够将传感器的信号输送至电路。

本发明的静电电容型输入装置优选具有特定电极图案和配置于该特定电极图案上的第一树脂层及第二树脂层。

特定电极图案为金属电极图案时，更优选具有与特定电极图案邻接配置的第二树脂层和与该第二树脂层邻接配置的第一树脂层。

此外，特定电极图案包含透明电极图案时，进一步优选在第二树脂层与透明电极图案之间具有折射率为1.60以上的折射率调整层。

以下，说明本发明的静电电容型输入装置的优选的方式的详细情况。

本发明的静电电容型输入装置具有前面板(相当于本发明的透明层叠体中的透明基板)和前面板的非接触面侧的至少下述(3)～(5)、(7)及(8)的要素，优选具有本发明的透明层叠体。

多个垫片部分介由连接部分沿第一方向延伸而形成的多个第一特定电极图案(3)；

与第一特定电极图案电绝缘、并包含沿与第一方向交叉的方向延伸而形成的多个垫片部分的多个第二特定电极图案(4)；

使第一特定电极图案与第二特定电极图案电绝缘的绝缘层(5)；

按照将上述(3)～(5)的要素的全部或一部分覆盖的方式形成的第二树脂层(7)；

按照将上述(7)的要素覆盖的方式邻接地形成的第一树脂层(8)。

其中，第二树脂层(7)相当于本发明的透明层叠体中的第二树脂层。此外，第一树脂层(8)相当于本发明的透明层叠体中的第一树脂层。另外，第一树脂层优选为通常公知的静电电容型输入装置中的所谓的透明保护层。

根据上述方式，可得到特定电极图案的耐腐蚀性优异的静电电容型输入装置。

本发明的静电电容型输入装置中，上述第一特定电极图案(3)和第二特定电极图案(4)可以均为透明电极图案，也可以为金属电极图案，但优选至少一者为金属电极图案，更优选均为金属电极图案。

本发明的静电电容型输入装置也可以进一步具有与第一特定电极图案及第二特定电极图案中的至少一者电连接的、不同于第一特定电极图案及第二特定电极图案的其他导电性要素(6)。

其他导电性要素优选为金属电极图案。

本发明的静电电容型输入装置在第一特定电极图案(3)和第二特定电极图案(4)中的任一者包含透明电极图案时，优选进一步在第一特定电极图案(3)与前面板之间、第二特定电极图案(4)与前面板之间、或其他导电性要素(6)与前面板之间具有透明膜(2)。其中，透明膜(2)相当于本发明的层叠体中的折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜，这从更加改善透明电极图案的视觉辨认性的观点出发是优选的。

本发明的静电电容型输入装置优选进一步根据需要具有掩模层和/或装饰层(1)。掩模层也是为了在被手指或触控笔等接触的区域的周围作为黑色的镜框使特定电极图案的迂回布线无法从接触侧视觉辨认、或进行装饰而设置的。装饰层是为了在被手指或触控笔等接触的区域的周围作为镜框装饰而设置的，例如优选设置白色的装饰层。

上述掩模层和/或装饰层(1)优选在透明膜(2)与前面板之间、第一特定电极图案(3)与前面板之间、第二特定电极图案(4)与前面板之间、或其他导电性要素(6)与前面板之间具有。掩模层和/或装饰层(1)更优选与前面板邻接地设置。

本发明的静电电容型输入装置即使是包含这样的各种构件时，也可以通过以该层构成包含配置于特定电极图案上的第二树脂层和第一树脂层，从而具有金属电极的耐腐蚀性优异、且耐损伤性优异的绝缘层和/或保护层。

＜静电电容型输入装置的构成＞

首先，对本发明的静电电容型输入装置的优选的构成，与构成装置的各构件的制造方法一并进行说明。图1是本发明的层叠体或静电电容型输入装置的优选构成的一例，是表示在基材的两侧各设置有一层透明电极图案的静电电容型输入装置的构成的剖面图。在图1中，静电电容型输入装置由透明基板(透明膜基板)1、对称地分别设置于透明基板1的两面的折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11、特定电极图案4、金属布线部6、第一树脂层7和第二树脂层12构成。本发明的层叠体或静电电容型输入装置并不限定于图1的构成，也优选仅在透明基板1的一个面设置有透明膜11、特定电极图案4、金属布线部6、第一树脂层7和第二树脂层12的方式。

另外，多个特定电极图案4均为金属电极图案时，也可以不具有透明膜11。

多个特定电极图案4中的任一者包含透明电极图案时，优选在第二树脂层12与特定电极图案之间具有折射率调整层。

此外，后述的图4中的表示X-X1剖面的图2是表示在透明基板的单侧作为特定电极图案沿行方向与列方向的大致正交的两个方向分别设置有第一特定电极图案及第二特定电极图案的静电电容型输入装置的一例、且本发明的静电电容型输入装置的优选的构成的一例的剖面图。在图2中，示出静电电容型输入装置10由透明基板1、折射率为1.60～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11、第一特定电极图案3、第二特定电极图案4、第一树脂层7和第二树脂层12构成的方式。

另外，第一特定电极图案3和第二特定电极图案4均为金属电极图案时，也可以不具有透明膜11。

第一特定电极图案3和第二特定电极图案4中的任一者包含透明电极图案时，优选在第二树脂层12与特定电极图案之间具有折射率调整层。

透明基板(前面板)1可以使用作为本发明的透明层叠体中的透明层叠体的材料列举出的基材中的透明基板。此外，在图2中，将前面板1的设置有各要素的一侧称为非接触面侧。在本发明的静电电容型输入装置10中，使手指等与前面板1的接触面(非接触面的相反的面)接触等来进行输入。

将具有掩模层的本发明的静电电容型输入装置的例子示于图3中。掩模层2为设置于触摸屏透明基板的显示区域周围的镜框状的图案，是为了看不见迂回布线等而形成的。

静电电容型输入装置10中，也可以如图3所示的那样按照覆盖透明基板1的一部分的区域(图3中为除输入面以外的区域)的方式设置有掩模层2。进而，在透明基板1上，可以如图3所示的那样在一部分中设置开口部8。开口部8中可以设置利用按压的机械性开关。

优选在掩模层2的表面设置有金属布线部6。金属布线部6为与第一特定电极图案3及第二特定电极图案4中的至少一者电连接、且不同于第一特定电极图案3及第二特定电极图案4的其他要素。

将在透明基板的单侧具有二层的透明电极图案的静电电容型输入装置的例子示于图4中。在透明基板1的表面，形成有多个垫片部分介由连接部分沿第一方向延伸而形成的多个第一特定电极图案3、与第一特定电极图案3电绝缘且包含沿与第一方向交叉的第二方向延伸而形成的多个垫片部分的多个第二特定电极图案4、和使第一特定电极图案3与第二特定电极图案4电绝缘的绝缘层5。上述第一特定电极图案3、第二特定电极图案4、和后述的金属布线部6可以使用作为本发明的层叠体中的透明层叠体的材料列举出的特定电极图案，优选上述第一特定电极图案3和第二特定电极图案4中的至少一者为金属电极图案，更优选上述第一特定电极图案3和第二特定电极图案4均为金属电极图案。

使用图4进一步对第一特定电极图案3及第二特定电极图案4进行说明。图4是表示本发明中的第一特定电极图案及第二特定电极图案的一例的说明图。如图4中所示的那样，第一特定电极图案3是垫片部分3a介由连接部分3b沿第一方向延伸而形成的。此外，第二特定电极图案4通过第一特定电极图案3与绝缘层5电绝缘，由沿与第一方向交叉的方向(图4中的第二方向)延伸而形成的多个垫片部分构成。这里，在形成第一特定电极图案3时，可以将上述垫片部分3a与连接部分3b进行一体化来制作，也可以仅制作连接部分3b，将垫片部分3a与第二特定电极图案4进行一体化来制作(图案化)。在将垫片部分3a与第二特定电极图案4进行一体化来制作(图案化)时，如图4中所示的那样，按照连接部分3b的一部分与垫片部分3a的一部分连接、且通过绝缘层5将第一特定电极图案3与第二特定电极图案4电绝缘的方式形成各层。

此外，图4中的没有形成第一特定电极图案3、第二特定电极图案4、后述的金属布线部6的区域相当于本发明的层叠体中的非图案区域22。

此外，从耐腐蚀性的观点出发，优选按照将各构成要素的全部覆盖的方式设置第二树脂层12及第一树脂层7。第二树脂层12及第一树脂层7也可以按照仅将各构成要素的一部分覆盖的方式构成。绝缘层5与第二树脂层12可以是相同的材料，也可以是不同的材料。作为构成绝缘层5的材料，可以优选使用作为本发明的层叠体中的第一或第二树脂层的材料列举出的材料。

(静电电容型输入装置的制造方法)

本发明的静电电容型输入装置的制造方法的特征在于，其包括以下工序：在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及将上述临时支撑体剥离的工序。

作为由上述本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序，与本发明的层叠体的制造方法中的由转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序含义相同，优选的方式也相同。

此外，本发明的图像显示装置的制造方法也可以包含本发明的层叠体的制造方法可以包含的工序。

作为通过制造本发明的静电电容型输入装置的过程形成的方式例，可列举出图5～图9的方式。图5是表示形成有开口部8的强化处理玻璃的一例的上表面图。图6是表示形成有掩模层2的基材的一例的上表面图。图7是表示形成有第一特定电极图案3的基材的一例的上表面图。图8是表示形成有第一特定电极图案3和第二特定电极图案4的基材的一例的上表面图。图9是表示形成有第一特定电极图案及第二特定电极图案和金属布线部6的基材的一例的上表面图。它们是表示将以下的说明具体化的例子的图，本发明的范围并不受这些附图的限定性解释。

在静电电容型输入装置的制造方法中，在形成上述第二树脂层12及上述第一树脂层7时，可以通过使用本发明的转印材料，在任意地形成有各要素的上述透明基板1的表面转印上述第二树脂层12及上述第一树脂层7来形成。

在静电电容型输入装置的制造方法中，对于掩模层2、第一特定电极图案3、第二特定电极图案4、绝缘层5、和金属布线部6，也可以使用具有临时支撑体和光固化性树脂层的感光性膜来形成。

在使用上述感光性膜来形成上述掩模层、绝缘层、使用光固化性树脂层时的第一特定电极图案、第二特定电极图案及金属布线部等永久材料的情况下，感光性膜被层压到任意的被转印构件上后，根据需要曝光成图案样式，通过在负型材料的情况下，将非曝光部分显影处理而除去，在正型材料的情况下，将曝光部分显影处理而除去，可以得到图案。显影可以是将热塑性树脂层和光固化性树脂层利用不同的显影液显影除去，也可以利用相同的显影液除去。根据需要，也可以组合刷子或高压喷射等公知的显影设备。在显影后，根据需要，也可以进行后曝光、后烘烤。

＜感光性膜＞

对在制造本发明的静电电容型输入装置时优选使用的本发明的转印材料以外的上述感光性膜进行说明。上述感光性膜具有临时支撑体和光固化性树脂层，优选在临时支撑体与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。若使用具有上述热塑性树脂层的感光性膜来形成掩模层等，则在转印光固化性树脂层而形成的要素中变得不易产生气泡，在图像显示装置中变得不易产生图像不均等，能够得到优异的显示特性。

上述感光性膜可以是负型材料，也可以是正型材料。

〔除光固化性树脂层以外的层的制作方法〕

作为上述感光性膜中的上述临时支撑体，可以使用与本发明的转印材料中使用的临时支撑体同样的临时支撑体。作为上述感光性膜中使用的上述热塑性树脂层，可以使用日本特开2014-10814号公报的段落0056～0060中记载的热塑性树脂层。另外，也可以与上述热塑性树脂层一并使用公知的中间层或氧阻断层。此外，作为上述感光性膜的制作方法，也可以使用与本发明的转印材料的制作方法同样的方法。

〔光固化性树脂层〕

上述感光性膜根据其用途在光固化性树脂层中加入添加物。即，在掩模层的形成中使用上述感光性膜的情况下，使光固化性树脂层中含有着色剂。

在上述感光性膜为负型材料的情况下，光固化性树脂层优选包含碱可溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发体系。进而，使用着色剂、其他添加剂等，但并不限定于此。

〔碱可溶性树脂、聚合性化合物、上述聚合引发剂〕

作为上述感光性膜中包含的碱可溶性树脂、聚合性化合物、上述聚合引发剂或聚合引发体系，可以使用与本发明的转印材料中使用的物质同样的物质。

〔着色剂(作为掩模层使用的情况)〕

此外，在使用上述感光性膜作为掩模层的情况下，可以在光固化性树脂层中使用着色剂。作为本发明中使用的着色剂，可以适当使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。另外，在本发明中，除了黑色着色剂以外，可以使用红色、蓝色、绿色等颜料的混合物等。

在使用上述光固化性树脂层作为黑色的掩模层的情况下，从光学浓度的观点出发，优选包含黑色着色剂。作为黑色着色剂，可列举出例如炭黑、钛黑、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中，优选炭黑。

在使用上述光固化性树脂层作为白色的掩模层的情况下，可以使用日本特开2005-7765号公报的段落0015、0114中记载的白色颜料。为了将上述光固化性树脂层作为其他颜色的掩模层来使用，也可以将日本专利第4546276号公报的段落0183～0185等中记载的颜料、或染料混合使用。具体而言，可以适当使用日本特开2005-17716号公报的段落0038～0054中记载的颜料及染料、日本特开2004-361447号公报的段落0068～0072中记载的颜料、日本特开2005-17521号公报的段落0080～0088中记载的着色剂等。

上述着色剂(优选颜料，更优选炭黑)优选作为分散液使用。该分散液可以通过将预先混合上述着色剂与颜料分散剂而得到的组合物添加到后述的有机溶剂(或载色剂)中并使其分散来制备。上述载色剂是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质的部分，包含为液状且与上述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)、和将其溶解稀释的成分(有机溶剂)。

作为使上述颜料分散时使用的分散机，没有特别限制，可列举出例如朝仓邦造著、《颜料的百科字典》、第一版、朝仓书店、2000年、第438页中记载的捏合机、辊磨机、磨碎机(attritor)、高速研磨机(supermill)、溶解器、均质搅拌机、砂磨机等公知的分散机。进而也可以通过上述文献310页记载的机械磨碎，利用摩擦力进行微粉碎。

上述着色剂从分散稳定性的观点出发优选数均粒径为0.001μm～0.1μm的着色剂，进一步优选为0.01μm～0.08μm的着色剂。另外，这里所谓的“粒径”是指将粒子的电子显微镜照片图像设为相同面积的圆时的直径，此外，“数均粒径”是针对多个粒子求出上述的粒径，是指这100个的平均值。

包含着色剂的光固化性树脂层的层厚从与其他层的厚度的差的观点出发优选为0.5～10μm，进一步优选为0.8～5μm，特别优选为1～3μm。作为着色剂相对于包含着色剂的光固化性树脂层的全部固体成分的含有率，没有特别限制，但从充分缩短显影时间的观点出发优选为15～70质量％，更优选为20～60质量％，进一步优选为25～50质量％。

另外，使用上述感光性膜形成绝缘层的情况下，包含着色剂的光固化性树脂层的层厚从绝缘性的维持的观点出发优选为0.1～5μm，进一步优选为0.3～3μm，特别优选为0.5～2μm。

〔其他添加剂〕

进而，包含上述着色剂的光固化性树脂层也可以使用其他添加剂。作为上述添加剂，可以使用与本发明的转印材料中使用的添加剂同样的添加剂。此外，作为通过涂布来制造上述感光性膜时的溶剂，可以使用与本发明的转印材料中使用的溶剂同样的溶剂。

以上，以上述感光性膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但上述感光性膜也可以是正型材料。上述感光性膜为正型材料时，在包含着色剂的光固化性树脂层中使用例如日本特开2005-221726号公报中记载的材料等，但并不限定于此。

〔热塑性树脂层及光固化性树脂层的粘度〕

优选上述热塑性树脂层的100℃下测定的粘度处于1,000～10,000Pa·sec的区域中，光固化性树脂层的100℃下测定的粘度处于2,000～50,000Pa·sec的区域中，进一步满足下式(A)。

式(A)：热塑性树脂层的粘度＜光固化性树脂层的粘度

其中，各层的粘度可以如下那样进行测定。通过大气压及减压干燥，从热塑性树脂层用涂布液或光固化性树脂层用涂布液中除去溶剂而作为测定样品，例如作为测定器，使用Vibron(DD-III型：Toyo Baldwin Co.，Ltd.制)，在测定开始温度为50℃、测定结束温度为150℃、升温速度为5℃/分钟及频率为1Hz/deg的条件下进行测定，可以使用100℃的测定值。

＜利用感光性膜的掩模层、绝缘层的形成＞

上述掩模层2、绝缘层5可以通过使用上述感光性膜将光固化性树脂层转印到透明基板1等上来形成。例如，黑色的掩模层2可以通过使用作为上述光固化性树脂层具有黑色光固化性树脂层的上述感光性膜，在上述透明基板1的表面转印上述黑色光固化性树脂层来形成。绝缘层5可以通过使用作为上述光固化性树脂层具有绝缘性的光固化性树脂层的上述感光性膜，在形成有第一特定电极图案的上述透明基板1的表面转印上述光固化性树脂层来形成。

进而，在需要遮光性的掩模层2的形成中，通过使用在光固化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的具有特定的层构成的上述感光性膜而防止感光性膜层压时的气泡产生，能够形成没有漏光的高品质的掩模层2。

＜利用感光性膜的第一特定电极图案及第二特定电极图案、金属布线部的形成＞

上述第一特定电极图案3、第二特定电极图案4及金属布线部6可以使用蚀刻处理或具有导电性光固化性树脂层的上述感光性膜、或使用感光性膜作为剥离材料来形成。

〔蚀刻处理〕

通过蚀刻处理来形成上述第一特定电极图案3、第二特定电极图案4及金属布线部6时，首先在形成有掩模层2等的透明基板1的非接触面上通过溅射形成ITO等透明电极层。接着，在上述透明电极层上，使用作为上述光固化性树脂层具有蚀刻用光固化性树脂层的上述感光性膜通过曝光·显影而形成蚀刻图案。之后，通过对透明电极层进行蚀刻而将透明电极图案化并除去蚀刻图案，可以形成第一特定电极图案3等。

在将上述感光性膜作为抗蚀层(蚀刻图案)使用的情况下，也可以与上述方法同样地得到抗蚀剂图案。上述蚀刻可以利用日本特开2010-152155号公报的段落0048～0054等中记载的公知的方法来适用蚀刻、抗蚀剂剥离。

例如，作为蚀刻的方法，可列举出通常进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀刻中使用的蚀刻液只要与蚀刻的对象匹配地适当选择酸性类型或碱性类型的蚀刻液即可。作为酸性类型的蚀刻液，可例示出盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等单独酸性成分的水溶液、酸性成分与氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可以使用组合了多种酸性成分的物质。此外，作为碱性类型的蚀刻液，可例示出氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵那样的有机胺的盐等单独碱成分的水溶液、碱成分与高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱成分也可以使用组合了多种碱成分的物质。

蚀刻液的温度没有特别限定，但优选为45℃以下。本发明中作为蚀刻掩模(蚀刻图案)使用的树脂图案通过使用上述的光固化性树脂层来形成，对于这样的温度域中的酸性及碱性的蚀刻液可以发挥特别优异的耐受性。因此，可以防止在进行蚀刻的工序中树脂图案剥离，选择性地蚀刻不存在树脂图案的部分。

在上述蚀刻后，为了防止生产线污染，根据需要也可以进行清洗的工序·干燥的工序。对于清洗的工序，例如在常温下利用纯水对形成有各层的基材进行10～300秒钟的清洗，对于干燥的工序，只要使用鼓风机，适当调整鼓风压力(0.1～5kg/cm²左右)即可。

接着，作为树脂图案的剥离方法，没有特别限定，但可列举出例如在30～80℃、优选在50～80℃下将形成有各层的基材在搅拌中的剥离液中浸渍5～30分钟的方法。本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案如上所述，在45℃以下显示出优异的耐药液性，但若药液温度达到50℃以上，则显示出因碱性的剥离液而溶胀的性质。利用这样的性质，若使用50～80℃的剥离液进行剥离的工序，则工序时间被缩短，具有树脂图案的剥离残渣变少的优点。即，通过在上述蚀刻的工序与剥离的工序之间在药液温度方面设置差别，本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案就会在蚀刻的工序中发挥良好的耐药液性，另一方面，在剥离的工序中显示出良好的剥离性，对于耐药液性和剥离性这样相反的特性能够两者都满足。

作为剥离液，可列举出例如将氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分、或叔胺、季铵盐等有机碱成分溶解到水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、或它们的混合溶液中而成的溶液。也可以使用上述的剥离液，利用喷雾法、喷淋法、桨式法等进行剥离。

〔具有导电性光固化性树脂层的感光性膜〕

使用具有导电性光固化性树脂层的上述感光性膜来形成上述第一特定电极图案3、第二特定电极图案4及金属布线部6时，可以通过将上述导电性光固化性树脂层转印到上述透明基板1的表面来形成。

若使用具有上述导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成上述第一特定电极图案3等，则即使是具有开口部的基材也没有抗蚀剂成分从开口部分中的泄漏，不会污染基板背侧，能够以简略的工序制造具有薄层/轻型化的优点的触摸屏。

进而，在第一特定电极图案3、第二特定电极图案4及金属布线部6的形成中，通过使用在导电性光固化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的具有特定的层构成的上述感光性膜而防止感光性膜层压时的气泡产生，能够形成导电性优异且电阻少的第一特定电极图案3、第二特定电极图案4及金属布线部6。

-导电性光固化性树脂层-

在使用层叠有上述导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成上述第一特定电极图案及第二特定电极图案、或其他导电性要素的情况下，可以将以下的导电性纤维等用于光固化性树脂层中。

作为导电性纤维的结构，没有特别限制，可以根据目的而适当选择，但优选实心结构及空心结构中的任一种。

这里，有时将实心结构的纤维称为“线”，有时将空心结构的纤维称为“管”。此外，有时将平均短轴长度为5nm～1,000nm、平均长轴长度为1μm～100μm的导电性纤维称为“纳米线”。

此外，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm、平均长轴长度为0.1μm～1,000μm、具有空心结构的导电性纤维称为“纳米管”。

作为上述导电性纤维的材料，只要是具有导电性，就没有特别限制，可以根据目的而适当选择，但优选金属及碳中的至少任一者，它们中，上述导电性纤维特别优选金属纳米线、金属纳米管、及碳纳米管中的至少任一者。

-金属纳米线-

-金属-

作为上述金属纳米线的材料，没有特别限制，例如优选选自由长周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期组成的组中的至少1种金属，更优选选自由第2族～第14族组成的组中的至少1种金属，进一步优选选自由第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及第14族组成的组中的至少1种金属。

金属纳米线特别优选包含上述金属作为主要成分。另外，在本发明中，主要成分是指含有50质量％以上的成分。

作为上述金属，可列举出例如铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、它们的合金等。它们中，从导电性优异的方面考虑，优选主要含有银、或含有银与银以外的金属的合金。

上述主要含有银是指在金属纳米线中含有50质量％以上、优选90质量％以上的银。

作为上述与银的合金中使用的金属，可列举出铂、锇、钯及铱等。它们可以单独使用1种，也可以将2种以上并用。

-形状-

作为上述金属纳米线的形状，没有特别限制，可以根据目的而适当选择，例如可以采用圆柱状、长方体状、剖面成为多边形的柱状等任意的形状，但在需要高的透明性的用途中，优选圆柱状、剖面的多边形的角变圆的剖面形状。

上述金属纳米线的剖面形状可以通过在基材上涂布金属纳米线水分散液，并用透射型电子显微镜(TEM)观察剖面来调查。

上述金属纳米线的剖面的角是指将剖面的各边延长，与从相邻的边落下的垂线相交的点的周边部。此外，所谓“剖面的各边”设定为将这些相邻的角与角连接的直线。该情况下，将上述“剖面的外周长度”相对于上述“剖面的各边”的总计长度的比例作为锐利度。锐利度在例如图17中所示那样的金属纳米线剖面中，可以利用以实线表示的剖面的外周长度与以虚线表示的五角形的外周长度的比例来表示。将该锐利度为75％以下的剖面形状定义为角变圆的剖面形状。上述锐利度优选为60％以下，更优选为50％以下。也许是由于若上述锐利度为75％以下，则电子向上述角的局部存在被抑制，等离体子吸收的增加被抑制，所以黄色味难以残留而透明性优异。此外，图案的边缘部的直线性良好，变得难以产生摆动。上述锐利度的下限优选为30％，更优选为40％。

-平均短轴长度及平均长轴长度-

作为上述金属纳米线的平均短轴长度(有时称为“平均短轴径”、“平均直径”。)，优选为150nm以下，更优选为1nm～40nm，进一步优选为10nm～40nm，特别优选为15nm～35nm。

若上述平均短轴长度低于1nm，则有时耐氧化性恶化，耐久性变差，若超过150nm，则有时产生起因于金属纳米线的散射，无法得到充分的透明性。

上述金属纳米线的平均短轴长度使用透射型电子显微镜(TEM；日本电子(株)制、JEM-2000FX)，观察300个金属纳米线，由其平均值求出金属纳米线的平均短轴长度。另外，关于上述金属纳米线的短轴不是圆形时的短轴长度，将最长的长度作为短轴长度。

作为上述金属纳米线的平均长轴长度(有时称为“平均长度”。)，优选1μm～40μm，更优选为3μm～35μm，进一步优选为5μm～30μm。

若上述平均长轴长度为1μm以上，则容易形成密的网络，可得到充分的导电性，若为40μm以下，则金属纳米线不会过长，在制造时不易缠绕，在制造过程中不易产生聚集物。

上述金属纳米线的平均长轴长度使用例如透射型电子显微镜(TEM；日本电子(株)制、JEM-2000FX)，观察300个金属纳米线，由其平均值求出金属纳米线的平均长轴长度。另外，上述金属纳米线弯曲时，考虑将其制成弧的圆，将由其半径、及曲率算出的值作为长轴长度。

导电性光固化性树脂层的层厚从涂布液的稳定性、涂布时的干燥、图案化时的显影时间等工艺适应性的观点出发，优选为0.1～20μm，进一步优选为0.5～18μm，特别优选为1～15μm。上述导电性纤维相对于上述导电性光固化性树脂层的全部固体成分的含量从导电性和涂布液的稳定性的观点出发，优选为0.01～50质量％，进一步优选为0.05～30质量％，特别优选为0.1～20质量％。

此外，也可以使用上述感光性膜作为剥离材料来形成第一特定电极图案、第二特定电极图案及其他的导电性构件。该情况下，使用上述感光性膜进行图案化后，在基材整面形成透明导电层后，通过连同所堆积的透明导电层一起进行上述光固化性树脂层的溶解除去，可以得到所期望的透明导电层图案(剥离法)。

〔作为感光性膜的剥离材料的使用〕

此外，也可以使用上述感光性膜作为剥离材料来形成第一特定电极图案、第二特定电极图案及其他的导电性构件。该情况下，在使用上述感光性膜进行图案化后，在形成有各层的基材整面形成透明导电层后，通过连同所堆积的透明导电层一起进行上述光固化性树脂层的溶解除去，可以得到所期望的透明导电层图案(剥离法)。

(图像显示装置)

本发明的图像显示装置的特征在于，其具备本发明的静电电容型输入装置作为构成要素。

本发明的静电电容型输入装置、及具备上述静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置可以适用《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行、(株)Techno Times公司)、三谷雄二主编、“触摸屏的技术与开发”、(株)CMC出版(2004，12)、FPD International 2009Forum T-11讲演教材、Cypress Semiconductor Corporation应用手册AN2292等中公开的构成。

本发明的图像显示装置的制造方法的特征在于，其包含由本发明的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序。

实施例

以下列举出实施例对本发明更具体地进行说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨，就可以适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例子。另外，只要没有特别说明，“份”、“％”就是质量基准。

(实施例1～14及比较例1～2)

＜具备第一树脂层及第二树脂层的转印材料的制作＞

〔第一树脂层的形成〕

在各实施例及比较例中，按照成为表1中记载的组成的方式制备第一树脂层形成用的材料-A1～材料-A9。在厚度为25μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜即临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，按照干燥后的膜厚达到8μm方式进行调整并涂布材料-A1～材料-A9中的任一种。之后，在100℃下干燥2分钟后，进一步在120℃下干燥1分钟而在临时支撑体上形成第一树脂层。第一树脂层为在浸渍于25℃的水中的情况下每单位膜厚在10分钟/μm以内的浸渍时间内完全没有溶解和/或分散的层。在各实施例或比较例中，使用的材料记载于表4中。

另外，在表1中，原材料栏中记载的％表示各原材料中包含的化合物的含有率(质量％)，材料-A1～材料-A9的栏中记载的数值表示各原材料的含量(质量份)，“-”的记载表示不含有符合的成分。

[表1]

[化学式5]

另外，式(3)所表示的化合物中的表示各结构单元的括弧的右下的数值表示质量比，此外，环氧丁烷基中的括弧的右下的数值表示重复数。

〔第二树脂层的形成〕

按照成为下述表2～表3中记载的组成的方式制备第二树脂层用的材料-B1～材料-B14。以下述表4中记载的组合，在第一树脂层上，按照干燥后的膜厚达到0.1μm的方式进行调整并涂布材料-B1～材料-B14中的任一种。之后，使其干燥，在第一树脂层上形成第二树脂层。在各实施例或比较例中，使用的材料记载于表4中。

另外，在表2～表3中，原材料栏中记载的％在没有记载为mol％的情况下，表示各原材料中包含的化合物的含有率(质量％)，材料-B1～材料-B14的栏中记载的数值表示各原材料的含量(质量份)，“-”的记载表示不含有符合的成分。

[表2]

[表3]

〔保护膜的压接〕

相对于在临时支撑体上设置有第一树脂层及第二树脂层的层叠体，在其第二树脂层上，最后压接保护膜(厚度为12μm聚丙烯膜)。

这样就制作了临时支撑体、第一树脂层、第二树脂层和保护膜成为一体的转印材料。将所得到的转印材料作为各实施例及比较例的转印材料。

＜各实施例及比较例的铜箔层叠聚酰亚胺膜上的耐腐蚀性评价＞

进行用于评价相对于实施例及比较例的转印材料的金属布线的耐腐蚀性的模型实验。

在厚度为100μm的带溅射铜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上，使用层压机LamicII型〔Hitachi Industries Co.，Ltd.制〕，在线压100N/cm、上辊温度90℃、下辊温度90℃的加压·加热条件下以搬送速度1m/分钟贴合剥离了保护膜的各实施例及比较例的转印材料。接着，将临时支撑体剥离后，进行不介由曝光掩模而使用高压汞灯的曝光(1,000mJ/cm²)、烘烤处理(150℃、30分钟)，得到评价用试样。

接着，参考日本工业标准(JIS标准)L0848：2004，使人工汗滴落在所得到的基板样品的转印层表面后，在85℃85％的湿热环境下放置300小时后，观察上述带溅射铜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面的铜的腐蚀。

进而，使用Loresta GP MCP-T610型(Mitsubishi Chemical Analytech Co.，Ltd.制)测定基板上的任意的5处的片电阻值(Ω/□)，以该测定值的湿热试验前后的电阻值的变化的平均值为基础，基于下述的评价基准进行评价。评价结果记载于表4中。另外，在表4中，“第二树脂层中的特定化合物的含量(质量％)”的栏中记载的数值表示特定化合物相对于第二树脂层的全部固体成分的含量(质量％)，“第一树脂层中的特定化合物的含量(质量％)”的栏中记载的数值表示特定化合物相对于第一树脂层的全部固体成分的含量(质量％)。

此外，湿热试验前后的电阻值的变化通过下述式来计算。

湿热试验前后的电阻值的变化(％)＝(1-湿热试验后的片电阻值(Ω/□)/湿热试验前的片电阻值(Ω/□))×100

若评价结果为5、4或3，则实用上能够没有问题地使用，优选为5或4，更优选为5。

5：在试验片表面没有见到变色，且湿热试验前后的电阻值的变化为5％以内

4：在试验片表面部分地见到变色，但湿热试验前后的电阻值的变化为5％以内

3：试验片整体地见到变色，但湿热试验前后的电阻值的变化为5％以内

2：在试验片表面见到变色，且湿热试验前后的电阻值的变化率为5％以上

1：试验片整体地见到变色，且湿热试验前后的电阻值的变化率为5％以上

＜铅笔硬度评价＞

在玻璃基板上使用各实施例或比较例的转印材料，通过转印进行制膜后，作为耐损伤性的指标进行JIS K 5400中记载的铅笔硬度评价。

具体而言，使用剥离了保护膜的各实施例或比较例的转印材料，在玻璃基板上转印第一树脂层、第二树脂层及临时支撑体(透明膜基板的温度：40℃、橡胶辊温度：110℃、线压：3N/cm、搬送速度：2m/分钟)。

之后，使用具有超高压汞灯的近接(proximity)型曝光机(日立高科技电子工程(Hitachi High-Tech Electronics)(株)制)，介由临时支撑体以曝光量150mJ/cm²(i射线)进行曝光。将临时支撑体剥离后，进行145℃30分钟的后烘烤处理。这样操作，得到在玻璃基板上层叠有第二树脂层及第一树脂层的层叠体。另外，上述层叠体全部为透明层叠体。

将上述透明层叠体在温度25℃、相对湿度60％下调湿1小时后，使用JIS S 6006中规定的试验用铅笔，以500g的载荷进行n＝7的评价，将伤痕低于3处的情况设为合格，将3处以上的情况设为不合格。评价结果记载于表4中。HB以上为实用范围，优选为H以上，更优选为2H以上。

[表4]

(图像显示装置的制作)

通过在利用日本特开2009-47936号公报的段落0097～0119中记载的方法而制造的液晶显示元件上，贴合之前制造的包含各实施例的透明层叠体的膜，进而，贴合前面玻璃板，从而利用公知的方法制作具备静电电容型输入装置作为构成要素的包含各实施例的透明层叠体的图像显示装置。

＜静电电容型输入装置及图像显示装置的评价＞

包含各实施例的透明层叠体的静电电容型输入装置及图像显示装置能够将金属电极的耐腐蚀性抑制到实用上没有问题的水平。

第二树脂层、第一树脂层中，从气泡等观点出发，也没有缺陷，得到显示特性优异的图像显示装置。

Claims

1.一种转印材料，其依次具有：

临时支撑体、

第一树脂层、和

第二树脂层，

所述第一树脂层为非水溶性，

所述第二树脂层包含水溶性聚合物，

所述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，

所述第二树脂层中的所述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于所述第二树脂层的全部固体成分为3.0质量％以上。

2.根据权利要求1所述的转印材料，其中，

所述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物的含量相对于所述第二树脂层的全部固体成分为3.0～20.0质量％。

3.根据权利要求1所述的转印材料，其中，

所述包含氮原子作为环元的杂芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环及它们与其他芳香环的稠合环组成的组中的至少1种环。

4.根据权利要求1所述的转印材料，其中，

所述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物为苯并三唑化合物。

5.根据权利要求1所述的转印材料，其中，

所述第一树脂层不含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物，或者，相对于所述第一树脂层的全部固体成分，以超过0质量％且10.0质量％以下的量含有所述具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物。

6.根据权利要求1所述的转印材料，其中，

所述第一树脂层包含聚合性化合物及光聚合引发剂。

7.根据权利要求1所述的转印材料，其中，

所述第一树脂层为能够碱显影的层。

8.一种转印材料的制造方法，其具有以下工序：

在临时支撑体上形成第一树脂层的工序、和

在所述第一树脂层上形成第二树脂层的工序，

所述第一树脂层为非水溶性，

所述第二树脂层包含水溶性聚合物，

9.一种层叠体，其是在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上转印权利要求1～7中任一项所述的转印材料而制作的。

10.一种层叠体的制造方法，其包括以下工序：

在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由权利要求1～7中任一项所述的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、以及

将所述临时支撑体剥离的工序。

11.根据权利要求10所述的层叠体的制造方法，其还包含将转印于所述电极图案上的第一树脂层进行图案化。

12.一种静电电容型输入装置的制造方法，其包括以下工序：

在位于基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案上由权利要求1～7中任一项所述的转印材料转印第一树脂层及第二树脂层的工序、及

将所述临时支撑体剥离的工序。

13.一种图像显示装置的制造方法，其包括以下工序：

将所述临时支撑体剥离的工序。

14.一种层叠体，其具有：

基材、

位于所述基材上且在至少一部分中包含金属的电极图案、

位于所述电极图案上的第二树脂层、和

位于所述第二树脂层上的第一树脂层，

所述第二树脂层含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物。

15.根据权利要求14所述的层叠体，其中，

所述电极图案与所述第二树脂层邻接。

16.根据权利要求14所述的层叠体，其中，

所述第二树脂层包含水溶性聚合物，所述第二树脂层中的所述水溶性聚合物的含量相对于第二树脂层的全部固体成分为2～95质量％。

17.根据权利要求14所述的层叠体，其中，

所述基材为膜基板。

18.根据权利要求17所述的层叠体，其中，

在所述膜基板的两面分别具有所述电极图案、所述第一树脂层及所述第二树脂层。

19.根据权利要求14所述的层叠体，其中，

所述电极图案包含金属布线部。

20.根据权利要求19所述的层叠体，其中，

在除去了所述第一树脂层及所述第二树脂层的区域中的金属布线部上含有具有包含氮原子作为环元的杂芳香环的化合物。

21.根据权利要求14～20中任一项所述的层叠体，其中，

所述第一树脂层及所述第二树脂层被图案化。