JP2015153009A - 保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びそれらにより得られるタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】 タッチパネル用基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有し、フィルム性に優れ、屈折率が高い保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法、並びに、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供する。【解決手段】 タッチパネル用基材上に、バインダーポリマーと、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、金属酸化物微粒子、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。【選択図】 図２

Description

本発明は、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びそれらにより得られるタッチパネルに関する。

パソコン、テレビ等の大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには、液晶表示素子又はタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これらの液晶表示素子又はタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化インジュウム又は酸化スズが知られている。これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等に用いる電極材として主流になっている。

タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されており、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間で静電容量が結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。

特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能であるため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えていることから、携帯電話、携帯型音楽プレーヤといった小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。

一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸とによる２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、前記Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極としては酸化インジウムスズが用いられる。

ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。なお、金属配線には一般的に銅が使用されている。

しかしながら、上述のようなタッチパネルにおいては、指先に接触される際に水分、塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路との間の電気抵抗の増加、又は断線のおそれがあった。

金属配線の腐食を防ぐために、金属配線上に透明性の高い感光性樹脂組成物からなる感光層を設けて、露光、現像する方法が知られている（例えば、特許文献１〜３）。

国際公開第２０１３／０８４８７３号 国際公開第２０１３／０８４８８６号 国際公開第２０１３／０８４８８３号

ところで、タッチパネル用基材上に保護膜を形成する場合、保護膜の厚みが大きいと、膜がある箇所と膜がない箇所との段差が目立つこと、保護膜と酸化インジウムスズとの屈折率の差が大きいと、ＩＴＯパターンが目立つことがあるため、保護膜はできるだけ薄く、かつ屈折率が高いことが好ましい。

保護膜の屈折率を大きくする為には、高屈折率であるバインダーポリマー又は光重合性化合物のいずれか、又は、両方を使用することが好ましい。しかし、光重合性化合物の割合が増加するに従い、感光性樹脂組成物から形成される保護膜のフィルム性が低下し、タッチパネル用基材上に保護膜を形成することが困難となる。
フィルム性が低下すると、感光性樹脂組成物が感光性エレメントである場合、支持フィルムと感光層の剥離性が弱く、ラミネート等の工程で感光層から支持フィルムが剥がれ、後の工程に支障をきたしたり、剥離性が強く露光後に支持フィルムを剥がしにくく感光層に剥離跡を付け商品価値を低下させたりといった問題が生じる。

本発明は、所定のタッチパネル用基材上に、フィルム性に優れ、屈折率が高い保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、バインダーポリマー、特定の光重合性化合物、金属酸化物微粒子、及び光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物が充分なフィルム性を有し、光硬化によって形成した膜が高屈折率であり、薄膜（例えば、１０μｍ以下）であっても充分な防錆性を示し、金属の腐食を充分に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用基材上に、バインダーポリマーと、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、金属酸化物微粒子を含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成することを特徴とする。

本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法によれば、前記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の薄膜であっても充分な防錆性を有し、屈折率が高い、フィルム性に優れる保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材を製造することができる。本発明によれば、保護膜を薄膜化することが可能であるから、美観に優れるタッチパネルを製造することが可能であり、製造コストの低減を図ることが可能となる。

本発明の具体的態様を以下に示す。
＜１＞タッチパネル用基材上に、バインダーポリマーと、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、金属酸化物微粒子、を含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
＜２＞前記バインダーポリマーの質量Ｐと、前記フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の質量Ｍとが下記の関係性を満たす、＜１＞に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
０．１ ≦ Ｐ／Ｍ ≦ １．０
＜３＞前記金属酸化物微粒子の含有量が、バインダーポリマー及びフルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の合計量１００質量部に対し、２０〜１００質量部である＜１＞又は＜２＞に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
＜４＞前記感光性樹脂組成物が、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、テトラゾール化合物、及びリン酸化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
＜５＞前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
＜６＞支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、前記感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
＜７＞バインダーポリマーと、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、金属酸化物微粒子、を含有し、タッチパネル用基材の保護膜形成に用いられる、感光性樹脂組成物。
＜８＞前記金属酸化物微粒子の含有量が、バインダーポリマー及びフルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の合計量１００質量部に対し、２０〜１００質量部である、＜７＞に記載の感光性樹脂組成物。
＜９＞トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、テトラゾール化合物、及びリン酸化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、＜７＞又は＜８＞に記載の感光性樹脂組成物。
＜１０＞前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、＜７＞〜＜９＞のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
＜１１＞支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた＜７＞〜＜１０＞のいずれかに記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える、感光性エレメント。
＜１２＞前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、＜１１＞に記載の感光性エレメント。
＜１３＞＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法により得られる保護膜付きタッチパネル用基材を備える、タッチパネル。

本発明によれば、所定のタッチパネル用基材上に、薄膜であっても高い高屈折率を有し、フィルム性に優れる保護膜を有するタッチパネル用基材の製造方法、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供することができる。

本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。 静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。 静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。 （ａ）は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は、別の態様を示す部分断面図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す平面図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す一部切欠き斜視図である。 図７中のＶＩ−ＶＩ線に沿った部分断面図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は図９中のＶＩＩＩａ−ＶＩＩＩａ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は絶縁膜を設ける工程を示す部分断面図であり、（ｃ）は図７中のＶＩＩＩｃ−ＶＩＩＩｃ線に沿った部分断面図である。 透明電極配線の上に絶縁フィルムを設け、その上に引き出し配線が設けられ、開口部によって透明電極と引き出し配線が接続されているタッチパネルの一例を示す部分平面図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。

本明細書においてタッチパネル用基材の保護膜は、電極を有するセンシング領域、金属配線を有する額縁領域、又はその他の領域に設けることができる。タッチパネル用基材の保護膜は、いずれかの領域のみに設けてもよく、複数の領域に設けてもよい。更には、センシング領域に形成された電極の一部に設ける等、保護膜を設ける位置及び範囲は、その使用の目的等に応じて適宜選択することが可能である。

図１は、本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム上に設けられた本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、必要に応じ設けてもよい感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム３０とからなる。本実施形態の感光性エレメントは、タッチパネル用基材の保護膜の形成に好適に用いることができる。

支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。

支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルムを介して露光する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜６０μｍであることが更に好ましい。

感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、金属酸化物微粒子(以下、(Ｄ成分ともいう)と、を含有する。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物によれば、フィルム性及び基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで高屈折率を有する保護膜を形成することができる。

本実施形態において、（Ａ）成分のバインダーポリマーは、（ａ１）（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。前記共重合体は、更に、前記の（ａ１）成分又は（ａ２）成分と共重合しうるその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。

（ａ１）（メタ）アクリル酸としては、例えば、アクリル酸、メタアクリル酸が挙げられる。
（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの分子量は、特に制限はないが、塗工性及び塗膜強度、現像性の見地から、通常、重量平均分子量（ＧＰＣを用いて、標準ポリスチレン換算で測定した値）が１００００〜２０００００であることが好ましく、３００００〜１５００００であることがより好ましく、５００００〜１０００００であることが更に好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は、本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、４０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、５０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが更に好ましい。（Ａ）成分の酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることによって、現像工程により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により容易に現像することが可能である。また、（Ａ）成分の酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることによって、基材、電極等の保護膜として機能させる際の水分、塩分等の腐食成分への耐性を充分向上させることができる。

バインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。すなわち、まず、酸価を測定すべきバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。なお、バインダーポリマーに合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分が含まれる場合は、予め、揮発分の沸点よりも１０℃程度高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去しておく。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用いて滴定を行う。測定対象であるバインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を算出することで、酸価を求める。バンインダーポリマーを合成溶媒、希釈溶媒等と混合した溶液を測定対象とする場合には、次式により酸価を算出する。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶはＫＯＨの滴定量（ｍＬ）を示し、ｆは０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液のファクター、Ｗｐは測定したバインダーポリマーを含有する溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定したバインダーポリマーを含有する溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

（Ｂ）成分である光重合性化合物は、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む。フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。

［一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立にハロゲン原子、アミノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数１〜６のアルキルアミノ基を示し、ｐ及びｒはそれぞれ独立に０〜４の整数を示す。ｐ又はｒが２以上の場合、複数存在するＲ^３又はＲ^４は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。−（Ａ−Ｏ）−及び−（Ｏ−Ｂ）−はそれぞれ独立に、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖を示し、−（Ａ−Ｏ）−及び−（Ｏ−Ｂ）−に含まれるオキシエチレン基又はオキシプロピレン基の繰り返し総数；ｍ＋ｎは１〜２０である。］

一般式（１）中、ｐ及びｒは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、溶剤への溶解性の観点からは、０であることが好ましい。なお、ｐ又はｒが２以上の場合、複数存在するＲ^３又はＲ^４は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。

前記のように、−（Ａ−Ｏ）−及び−（Ｏ−Ｂ）−はそれぞれ独立に、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖を示し、解像性の観点から、（ポリ）オキシエチレン鎖又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖であることが好ましく、（ポリ）オキシエチレン鎖であることがより好ましい。前記（ポリ）オキシプロピレン鎖又は前記共重合鎖におけるプロピレン基は、直鎖状でも分岐状でもよく、分岐状である場合、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であっても、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−であってもよい。

−（Ａ−Ｏ）−及び−（Ｏ−Ｂ）−に含まれるオキシエチレン基又はオキシプロピレン基の繰り返し総数；ｍ＋ｎは１〜２０であり、解像性、耐クラック性及び耐熱性をバランスよく向上させる観点から、１〜１５であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜５であることが更に好ましい。

フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、ＥＡ−０２００（Ｔ）（日本化薬株式会社製、商品名）として商業的に入手可能であり、以下に示す構造を有した化合物が最も好ましい。

バインダーポリマーの質量Ｐと、前記フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の質量Ｍとは下記の関係性を満たすと好ましい。
０．１ ≦ Ｐ／Ｍ ≦ １．０
このように意外にも感光層中の光重合性化合物の含有量をバインダーポリマーに対して過剰とすることで、フィルム性に優れた高屈折率の保護膜を形成することができる。

より具体的には、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が１０〜５０質量部、（Ｂ）成分が５０〜９０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が２０〜４０質量部、（Ｂ）成分が６０〜８０質量部であることがより好ましい。（Ａ）成分の含有量を前記範囲内とすることにより、塗布性又は感光性エレメントでのフィルム性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性を充分に確保することができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、前記（Ｂ）成分以外の光重合性化合物を含有することができる。

（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、透明性を確保できる公知のものを特に制限無く用いることができるが、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び下記一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられるが、速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。

前記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ^１は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。なお、本発明の効果を阻害しない限り、前記一般式（Ｃ−１）中の芳香環上に置換基を有していてもよい。前記置換基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）_２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＯＨを示し、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ_２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）_２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＯＨであることが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ_２）_２ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＯＨであることがより好ましい。

前記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。
Ｒ^３又はＲ^５炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
なお、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。

前記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^２は炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましい。

前記一般式（Ｃ−１）で表される化合物及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。
１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、商品名）として、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。

前記ホスフィンオキサイド化合物としては、下記一般式（Ｃ−３）及び一般式（Ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物が好ましい。

前記一般式（Ｃ−３）中、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。前記一般式（Ｃ−４）中、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。

前記一般式（Ｃ−３）におけるＲ^６、Ｒ^７又はＲ^８が、炭素数１〜２０のアルキル基の場合、前記アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また前記アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。前記一般式（Ｃ−４）におけるＲ^９、Ｒ^１０又はＲ^１１が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、前記アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また前記アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。

前記一般式（Ｃ−３）におけるＲ^６、Ｒ^７又はＲ^８がアリール基の場合、前記アリール基は置換基を有していてもよい。前記置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。前記一般式（Ｃ−４）におけるＲ^９、Ｒ^１０又はＲ^１１がアリール基の場合、前記アリール基は置換基を有していてもよい。前記置換基としては例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。

これらの中でも、前記一般式（Ｃ−３）は、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８がアリール基であることが好ましく、一般式（Ｃ−４）で表わされる化合物は、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１がアリール基であることが好ましい。

前記一般式（Ｃ−３）で表わされる化合物としては、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドは、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、商品名）として商業的に入手可能である。

（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．５〜１０質量部であることがより好ましく、１．０〜３質量部であることが更に好ましい。

（Ｃ）成分の含有量を前記範囲内とすることにより、光感度が充分となるとともに、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となること、可視光透過率が低下する等の不具合を抑制することができる。

本実施形態において、（Ｄ）成分の金属酸化物微粒子は、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２等の金属酸化物ナノ粒子の分散液が好適である。これらの金属酸化物ナノ粒子分散液中には、有機カルボン酸及び有機アミンが含有されており、有機溶媒中に分散しやすくなっている。

前記金属酸化物ナノ粒子分散液は、例えば、ナノユースＯＺ-Ｓ３０Ｋ（日産化学株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、２０〜１００質量部とすることが好ましく、３０〜６０質量部とすることがより好ましい。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、防錆性と現像性を両立する点から、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、テトラゾール化合物、及びリン酸化合物、からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、（Ｅ）成分ともいう）を更に含有することが好ましい。

前記トリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物、３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール等のアミノ基を含むトリアゾール化合物が挙げられる。

前記チアジアゾール化合物としては、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，１，３−ベンゾチアジアゾール等が挙げられる。

前記テトラゾール化合物としては、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−テトラゾール、５−（２−アミノフェニル）−１Ｈ−テトラゾール、１−シクロヘキシル−５−メルカプト−テトラゾール、１−フェニル−５−メルカプト−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、１−フェニル−テトラゾールが挙げられる。

前記テトラゾール化合物は、その水溶性塩であっても好適である。具体例としては、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩等が挙げられる。

前記リン酸化合物としては、分子中に二重結合を有するリン酸化合物であれば、特に限定せずに使用できる。具体例としては、例えば、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（商品名ライトエステルＰ−１Ｍ、ライトエステルＰ−２Ｍ 共栄社化学株式会社製）、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート（商品名ＰＭ−２１日本化薬株式会社製）、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（商品名ホスマーＭ ユニケミカル株式会社製）、燐酸含有エポキシメタクリレート（商品名ニューフロンティアＳ−２３Ａ 第一工業製薬株式会社製）等のリン酸（メタ）アクリレート化合物；ビニルホスホン酸（商品名ＶＰＡ−９０、ＶＰＡ−１００ ＢＡＳＦ社製）等のリン酸ビニル化合物等の分子中に炭素−炭素二重結合を有するリン酸化合物が挙げられる。

これらの中でも、電極腐食の抑制力、金属電極との密着性、現像容易性、透明性の観点から、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、エチレンオキサイド 変性リン酸ジメタクリレート、アシッドホスホオキシエチルメタクリレートが好ましい。

これらのテトラゾール化合物及びその水溶性塩、及びリン酸化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、保護層を設ける電極表面が銅、銀、ニッケルなどの金属を有している場合の現像性を更に向上させる観点から、感光性樹脂組成物はアミノ基を有するテトラゾール化合物、及び分子中に二重結合を有するリン酸化合物、を更に含有することが好ましい。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。この理由としては、アミノ基を有するテトラゾール化合物の配合によって、現像液に対する溶解性と金属との密着力のバランスが良好となることが考えられる。

アミノ基を有するテトラゾール化合物、及び分子中に二重結合を有するリン酸化合物、を含有する場合、前記の効果が得られることから、本実施形態に係る感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、銅などの金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護するための保護膜の形成に好適である。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜１０．０質量部とすることが好ましく、０．１〜８．０質量部とすることがより好ましい。

（Ｅ）成分の含有量を前記範囲内とすることにより、現像性又は解像度が低下するなどの不具合を抑制しつつ、電極腐食の抑制力及び金属電極との密着性を向上させる効果を充分に得ることができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤等を（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、可視光線透過率の最小値が８８％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。

ここで、感光性樹脂組成物の可視光線透過率は以下のようにして求められる。まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層（感光層）を形成する。次に、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける透過率を測定する。

一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率の最小値が８８％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）の表示部分の透明電極も保護する場合、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層など）を保護したときに表示部分の端部から保護層が見える場合等において、表示部分での表示品質、色合い、又は、輝度が低下することを充分抑制することができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、本実施形態の感光性エレメントのように、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、タッチパネル用基材上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶剤乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。

感光層２０は、本実施形態の感光性樹脂組成物を塗布液とし、これを支持体フィルム上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。

溶剤としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤からなる混合溶剤として用いてもよい。

塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。

乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。

感光層の厚さは、電極保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な電極保護膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚さで１０μｍ以下であることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましく、３〜８μｍであることが更により好ましい。

本実施形態においては、感光層２０が、可視光線透過率が８８％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。また、感光層２０が、屈折率１．６０以上となるよう調整されることが好ましい。

感光層２０の粘度は、ロール状のタッチパネル用電極の保護膜形成用感光性エレメントとした場合に、感光性エレメントの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する点及び感光性エレメントを切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる露光不良、現像残り等を防止する点から、３０℃において、１５〜１００ＭＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ＭＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ＭＰａ・ｓであることが更により好ましい。

なお、前記の粘度は、感光性樹脂組成物から形成される直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、この試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０^−２Ｎの荷重を加えたときの厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。

保護フィルム３０（カバーフィルム）としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。

本発明においては、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物の塗布液を、タッチパネル用基材上に塗布し、乾燥して、感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてもよい。この用途の場合においても、感光層は上述した、膜厚、可視光線透過率、屈折率の条件を満たすことが好ましい。

次に、本発明に係る保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法について説明する。図２は、本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。

本実施形態の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用電極１１０，１２０を有するタッチパネル用基材１００上に、前記の本実施形態に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設ける第１工程と、感光層２０の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、露光後に所定部分以外の感光層を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜２２を形成する第３工程とを備える。こうして、保護膜付きタッチパネル用基材が得られる。得られる保護膜付きタッチパネル用基材は、保護膜付きタッチパネル（タッチセンサー）２００として用いることができる。

本実施形態で使用されるタッチパネル用基材には特に制限はなく、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。この基板上には、タッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ａｇ等の電極、ＴＦＴ等が挙げられる。また、基板上には、絶縁層が設けられていてもよい。

図２に示されるタッチパネル用電極１１０，１２０を有するタッチパネル用基材１００は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルムなどの基材上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタ法により金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。

本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光性エレメント１の保護フィルム３０を除去した後、感光性エレメントを加熱しながら、タッチパネル用基材１００のタッチパネル用電極１１０，１２０が設けられている表面に感光層２０を圧着することにより積層する（図２の（ａ）を参照）。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。

加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層とタッチパネル用基材との密着性を充分確保しながら、感光層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。

また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層とタッチパネル用基材との密着性を充分確保しながら、基材の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０^５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０^２〜５×１０^４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０^２〜４×１０^４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。

感光性エレメント１を前記のように加熱すれば、基材を予熱処理することは必要ではないが、感光層と基材との密着性を更に向上させる点から、基材を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。

本実施形態においては、感光性エレメントを用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物を塗布液として基材１００のタッチパネル用電極１１０，１２０が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層２０を形成することができる。

感光層２０は、上述した膜厚、可視光線透過率、屈折率の条件を満たすことが好ましい。

本実施形態の第２工程では、感光層２０に、フォトマスク１３０を介して、活性光線Ｌをパターン状に露光する（図２の（ｂ）を参照）。露光に用いられる活性光線の光源としては、公知の活性光源が使用できる。

このときの、活性光線の照射量は、通常、１×１０^２〜１×１０^４Ｊ／ｍ^２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１×１０^２Ｊ／ｍ^２未満では、光硬化の効果が不充分となる傾向があり、１×１０^４Ｊ／ｍ^２を超えると、感光層が変色する傾向がある。

なお、露光の際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま露光することができ、不透明の場合には除去してから露光する。感光層の保護という点からは、支持フィルムとして透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して露光することが好ましい。

本実施形態の第３工程では、露光後の感光層を現像液で現像して未露光部を除去し、基材の一部又は全部を被覆する厚みが１０μｍ以下の本実施形態の感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜２２を形成する。形成される保護膜２２は所定のパターンを有することができる。なお、露光後、感光層に支持フィルムが積層されている場合にはそれを除去した後、現像液による未露光部を除去する現像が行われる。

現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。

現像後、必要に応じて、露光（例えば、５×１０^３〜２×１０^４Ｊ／ｍ^２）により、硬化物を更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでも金属に対して優れた密着性を示すが、必要に応じて、現像後の露光の代わりに、又は露光と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。

上述のように、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、タッチパネル用基材の保護膜を形成するための使用に好適である。感光性樹脂組成物の前記使用については溶媒と混合した塗布液を用いて保護膜を形成することができる。

また、本発明は、本発明に係る感光性樹脂組成物を含む保護膜の形成材料を提供することができる。この保護膜の形成材料は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を含むことができ、更に上述した溶媒を含有する塗布液であることが好ましい。

次に、図３〜図５を用いて、本発明に係る保護膜の使用箇所の一例を説明する。図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基板１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基板１０１上に設けられている。透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置の静電容量の変化を検出し、Ｘ位置座標及びＹ位置座標とする。

透明基板１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。本発明の感光性樹脂組成物は、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜１２２としての樹脂硬化膜パターンを形成するために好適に用いることができる。この際に、センシング領域にある電極を同時に保護することもできる。図３では、保護膜１２２により、引き出し配線１０５、接続電極１０６、センシング領域の一部電極及び接続端子１０７の一部を保護しているが、保護膜を設ける箇所は適宜変更してもよい。例えば、図４に示すように、タッチ画面１０２を全て保護するように保護膜１２３を設けてもよい。

図５を用いて、図３に示したタッチパネルにおいて、透明電極と引き出し配線との接続部の断面構造を説明する。図５は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、透明電極１０４と引き出し配線１０５の接続部を説明するための図である。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４の一部、並びに、引き出し配線１０５及び接続電極１０６の全部が、保護膜１２２としての樹脂硬化膜パターンで覆われている。同様に、透明電極１０３と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。なお、図５の（ｂ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とが直接、電気的に接続されていてもよい。本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、前記構造部分の保護膜としての樹脂硬化膜パターンの形成のための使用に好適である。

本実施形態のおける、タッチパネルの製造方法について説明する。まず、タッチパネル用基材である透明基板１０１上に、透明電極（Ｘ位置座標）１０３を形成する。続いて、絶縁層（図示せず）を介して、透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。透明電極１０３及び透明電極１０４の形成は、透明基板１０１上に形成した透明電極層を、エッチングする方法などを用いることができる。

次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引き出し配線１０５と、この引き出し配線と透明電極１０３及び透明電極１０４を接続する接続電極１０６を形成する。引き出し配線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び透明電極１０４の形成後に形成しても、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引き出し配線１０５及び接続電極１０６の形成は、金属スパッタリング後、エッチング法などを用いることができる。引き出し配線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。次に、引き出し配線１０５と外部回路とを接続するための接続端子１０７を形成する。

前記工程により形成された透明電極１０３及び透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６、並びに、接続端子１０７を覆うように、本実施形態に係る感光性エレメント１を圧着し、前記電極上に感光層２０を設ける。次に、転写した感光層２０に対し、所望の形状にフォトマスクを介してパターン状に活性光線Ｌを照射する。活性光線Ｌを照射した後、現像を行い、感光層２０の所定部分以外を除去することで、感光層２０の所定部分の硬化物からなる保護膜１２２を形成する。このようにして、保護膜１２２を備えるタッチパネル、すなわち保護膜１２２付きタッチパネル用基材（透明基板１０１）を備えるタッチパネルを製造することができる。

次に、図６〜図１０を用いて、本発明に係る保護膜の使用箇所を説明する。本発明の保護膜は、例えば、図７〜図１０の保護膜（絶縁膜）１２４としても好適に使用することができる。

図６は、透明電極（Ｘ位置座標）１０３及び透明電極（Ｙ位置座標）１０４が同一平面上に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す平面図であり、図７は、その一部切欠き斜視図である。図８は、図７中のＶＩ−ＶＩ線に沿った部分断面図である。前記静電容量式タッチパネルは、透明基板１０１上に、静電容量変化を検出して、Ｘ位置座標とする透明電極１０３と、Ｙ位置座標とする透明電極１０４とを有する。これらのＸ、Ｙ位置座標とするそれぞれの透明電極１０３、１０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバ素子回路（図示せず）の制御回路に接続するための引き出し配線１０５ａ及び１０５ｂを有する。

透明電極（Ｘ位置座標）１０３と透明電極（Ｙ位置座標）１０４とが交差する部分には、絶縁膜１２４が設けられている。

透明電極（Ｘ位置座標）１０３及び透明電極（Ｙ位置座標）１０４が同一平面上に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法について説明する。

静電容量式タッチパネルの製造方法は、例えば、透明導電材料を用いた公知の方法により、透明電極（Ｘ位置座標）１０３と、後にＹ位置座標を検出する透明電極１０４となる透明電極の一部を透明基板１０１上に予め形成した基板を用いてもよい。図９は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。図１０は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図である。

まず、図９（ａ）及び図１０（ａ）に示されるような、透明電極（Ｘ位置座標）１０３と、透明電極の一部１０４ａとが予め形成された基板を用意し、透明電極１０３の一部（透明電極の一部１０４ａに挟まれる部分）に絶縁膜１２４を設ける（図１０の（ｂ））。その後、公知の方法により、導電パターンが形成される。この導電パターンにより透明電極のブリッジ部１０４ｂを形成することができる（図１０（ｃ））。この透明電極のブリッジ部１０４ｂにより、予め形成された透明電極の一部１０４ａ同士を導通することができ、透明電極（Ｙ位置座標）１０４が形成される。

予め形成された透明電極は、例えば、ＩＴＯなどを用いた公知の方法により形成されてもいてもよい。また、引き出し配線１０５ａ，１０５ｂは、透明導電材料の他、Ｃｕ、Ａｇ等の金属などを用いた公知の方法で形成することが可能である。また、引き出し配線１０５ａ,１０５ｂが予め形成された基板を用いてもよい。

図１１は、その他の静電容量式タッチパネルの一例を示す部分平面図である。図１１に記載の構成は、タッチパネルの狭額縁化を意図したものである。図１１では、透明基板１０１上の透明電極１０４から延びた透明電極配線１０４ｃ上に透明絶縁膜１２５が設けられており、更に透明絶縁膜１２５上に引き出し配線１０５が設けられている。透明絶縁膜１２５の必要箇所の上下には開口部１０８が設けられており、透明電極１０４と引き出し配線１０５とが接続、導通されている。本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、前記構造の部分絶縁膜としての樹脂硬化膜パターンとして好適に用いることができる。

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却器、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ）を得た。

なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。ＧＰＣ条件
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
カラム仕様：直径１０．７ｍｍ × ３００ｍｍ
溶離液：テトラヒドロフラン
試料濃度：ＮＶ（不揮発分濃度）４５質量％の樹脂溶液を１２０ｍｇ採取、５ｍＬのＴＨＦに溶解
注入量：２００μＬ
圧力：４．９ＭＰａ
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、製品名）

［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべきポリマー１．０ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、バインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を次式により算出し、酸価を求めた。
酸価＝０．１×Ｖ・ｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶはＫＯＨの滴定量（ｍＬ）を示し、ｆはＫＯＨ水溶液のファクター、Ｗｐは測定したポリマー溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定したポリマー溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

（実施例１）
［保護膜を形成するための感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）の調製］
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、保護膜を形成するための感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を調整した。

*１：溶媒を除いた質量部を示す。
(Ａ１)：ＮＶ４５％ ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：ＮＶ３０％、Ｂ６０３０：ＮＶ５％
（表２中の材料の説明は、表３の後に記載。）

［保護膜を形成するための感光性エレメント（Ｅ−１）の作製］
支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは８μｍであった。

次いで、得られた感光層の上に、更に、３０μｍの厚さのポリプロピレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、保護膜を形成するための感光性エレメント（Ｅ−１）を作製した。

［保護膜の透過率の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリプロピレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、厚さ８．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）を有する透過率測定用試料を得た。

次いで、得られた試料をヘーズメーターＮＤＨ ７０００（日本電色工業株式会社製）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率を測定した。透過率の最小値は８９．４％であり、良好な透過率を確保できていた。なお、実施例２〜５についても測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率８８％以上を示した。

［屈折率の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）の保護フィルムであるポリプロピレンフィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１００℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａの条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。

次いで、得られた感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持体フィルムを除去し、更に感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ８．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）を有する屈折率測定用試料を得た。

次いで、得られた試料を光学特性評価/膜厚測定装置（ＡｕｄｉｏＤｅｖ ＧｍｂＨ社製 ）を使用して、屈折率を測定した。

感光層の屈折率は１．６４であり、良好な屈折率を有していることが確認された。なお、実施例２〜５についても屈折率は１．６０以上の範囲を充分満たしていた。

［フィルム性の評価］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）を２ｃｍ×１５ｃｍにカットし保護フィルムであるポリプロピレンフィルムをはがしながら、厚さ０．５ｍｍの銅基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度２５℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａの条件でラミネートして、銅基板上に、感光層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。

前記で得られた積層体を作製後、引っ張り試験機を使用して、感光層と支持体フィルムとの接着力を測定し、以下の評点に従って接着力を評価した。
「Ａ」： 接着力１．０〜２０．０Ｎ/ｍである。
「Ｂ」： 接着力＜１．０又は接着力＞２０．０Ｎ/ｍである。
実施例１においては、接着力が１．０〜２０．０Ｎ/ｍであったため、評価はＡであった。なお、実施例２〜５についても接着力が１．０〜２０．０Ｎ/ｍの範囲を満たしていた。

（実施例２〜５、比較例１〜５）
表３（表中の数値の単位は質量部）に示す感光性樹脂組成物溶液を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、透過率の測定、屈折率の測定、フィルム性の評価を行った。それらの結果を、まとめて表３に示した。

（Ａ）成分：バインダーポリマー
（Ａ１）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比）、酸価７８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ｂ）成分：光重合性化合物
ＥＡ−０２００：フルオレン系アクリレート（大阪ガスケミカル株式会社製）
ＥＡ−ＨＣ９３１：フルオレン系アクリレート（大阪ガスケミカル株式会社製）
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製）
（Ｃ）成分：光重合開始剤
ＯＸＥ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１ ＢＡＳＦ社製）
（Ｄ）成分：金属酸化物微粒子（金属酸化物分散液）
ＯＺ-Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（ナノユースＯＺ-Ｓ３０Ｋ（ＮＶ３０％）、日産化学株式会社製）
（Ｅ）成分：
Ｂ６０３０：テトラゾール化合物（チオエールＢ−６０３０（ＮＶ５％） 千代田ケミカル株式会社製）
ＰＭ−２１：２−ヒドロキシエチルメタクリレートの６−ヘキサノリド付加重合物と無水リン酸との反応生成物（エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート、日本化薬株式会社製）
その他：
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００：２，２´−メチレン−ビス（４−エチル−６−Ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（アンテージＷ−５００、川口化学工業株式会社製）
ＡＤＤＩＴＩＶＥ８０３２：有機変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング株式会社製）
メチルエチルケトン：東燃化学合同会社製

表３に示すように、本発明のフルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物と金属酸化物微粒子を用いた実施例１〜５においては、透過率、屈折率、フィルム性のいずれも良好な結果であった。これに対しフルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を有せず、金属酸化物微粒子を用いた比較例１〜３は、屈折率が低く、フィルム性に劣る。また、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物と金属酸化物微粒子を用いない比較例４、５は、屈折率が更に低く、光重合性化合物の配合量がバインダーポリマーと同等以上になるにつれフィルム性が悪化してくる。

１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、２２…保護膜、３０…保護フィルム、１００…タッチパネル用基材、１０１…透明基板、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０４a…透明電極の一部、１０４ｂ…透明電極のブリッジ部、１０４ｃ…透明電極配線、１０５，１０５ａ，１０５ｂ…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１０８…開口部、１１０，１２０…タッチパネル用電極、１２２，１２３,１２４…保護膜（絶縁膜）、１２５…透明絶縁膜、１３０…フォトマスク、２００…硬化膜付きタッチパネル用基材。

Claims (13)

1. タッチパネル用基材上に、バインダーポリマーと、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、金属酸化物微粒子、を含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
2. 前記バインダーポリマーの質量Ｐと、前記フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の質量Ｍとが下記の関係性を満たす、請求項１に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
   ０．１ ≦ Ｐ／Ｍ ≦ １．０
3. 前記金属酸化物微粒子の含有量が、バインダーポリマー及びフルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の合計量１００質量部に対し、２０〜１００質量部である請求項１又は２に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
4. 前記感光性樹脂組成物が、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、テトラゾール化合物、及びリン酸化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
5. 前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
6. 支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、前記感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける、請求項１〜５のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
7. バインダーポリマーと、フルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、金属酸化物微粒子、を含有し、タッチパネル用基材の保護膜形成に用いられる、感光性樹脂組成物。
8. 前記金属酸化物微粒子の含有量が、バインダーポリマー及びフルオレン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物の合計量１００質量部に対し、２０〜１００質量部である、請求項７に記載の感光性樹脂組成物。
9. トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、テトラゾール化合物、及びリン酸化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項７又は請求項８に記載の感光性樹脂組成物。
10. 前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項７〜９のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
11. 支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた請求項７〜１０のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える、感光性エレメント。
12. 前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１１に記載の感光性エレメント。
13. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法により得られる保護膜付きタッチパネル用基材を備える、タッチパネル。

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