JP2019095465A - 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品 - Google Patents

感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品 Download PDF

Info

Publication number
JP2019095465A
JP2019095465A JP2016075123A JP2016075123A JP2019095465A JP 2019095465 A JP2019095465 A JP 2019095465A JP 2016075123 A JP2016075123 A JP 2016075123A JP 2016075123 A JP2016075123 A JP 2016075123A JP 2019095465 A JP2019095465 A JP 2019095465A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
refractive index
film
meth
acrylic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016075123A
Other languages
English (en)
Inventor
匠 渡邊
Takumi Watanabe
匠 渡邊
和仁 渡部
Kazuhito Watabe
和仁 渡部
真弓 佐藤
Mayumi Sato
真弓 佐藤
正芳 小澤
Masayoshi Ozawa
正芳 小澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2016075123A priority Critical patent/JP2019095465A/ja
Priority to PCT/JP2017/012966 priority patent/WO2017175642A1/ja
Priority to TW106110980A priority patent/TW201806743A/zh
Publication of JP2019095465A publication Critical patent/JP2019095465A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

【課題】 本発明によれば、保護膜又は屈折率調整膜として機能する硬化膜を、現像性よく形成可能な感光性屈折率調整フィルムを提供することができる。【解決手段】 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられたジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物を含有する第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する第二の樹脂層と、を備える感光性屈折率調整フィルム。【選択図】 図１

Description

本発明は、感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品に関する。
パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ（Ｏｆｆｉｃｅ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ、オフィスオートメーション）・ＦＡ（Ｆａｃｔｏｒｙ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ、ファクトリーオートメーション）機器等の表示機器などには液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。
タッチパネルは各種の方式が実用化されているが、近年、投影型静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極の材料として、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウムスズ）が主流である。
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。一般的に額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために銅等の金属配線が形成されている。
ところで、タッチパネルは指先に接触される際に水分や塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがある。
金属配線の腐食を防ぐために、タッチパネル用基材上に、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物を含有する感光性樹脂組成物層を設け、前記感光性樹脂組成物層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に、前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組物の硬化膜を形成する方法が知られている（特許文献１）。
特許文献１に記載の手法によれば、タッチパネル用基材上に充分な低透湿性を有する硬化膜を形成することができる。
ところで、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、センシング領域において電極パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。
骨見え現象を抑制する手法として、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有する転写フィルムが開示されている（特許文献２）。
特開２０１５−１２１９２９ 国際公開第２０１４／０８４１１２号パンフレット
本発明者らが、特許文献１に記載の感光性樹脂組成物を用いて、特許文献２に記載されている二層構成の転写フィルムを検討したところ、タッチパネルの回路間で接続不良が発生した。
本発明者らがこの接続不良の原因を検討したところ、金属配線上に残存する第一の硬化性透明樹脂層及び第二の硬化透明樹脂層の現像残渣が観察された。
本発明者らは、第一の硬化性透明樹脂層中にジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物が含有されている場合、現像時に第二の硬化性透明樹脂層上に残存する第一の硬化性透明樹脂層のわずかな現像残渣が、前記接続不良の原因となる現像残渣を導くことを見出した。
本発明者らは、特定の組成である第一の樹脂層及び第二の樹脂層を組み合わせることで、金属配線の腐食を抑制しつつ、タッチパネルの回路間接続不良を抑制できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明は、以下のとおりである。
＜１＞ 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられたジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物を含有する第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する第二の樹脂層と、を備える感光性屈折率調整フィルム。
本発明の感光性屈折率調整フィルムによれば、十分な低透湿性と骨見え現象抑制機能を有する硬化膜を、タッチパネルの回路間接続不良を抑制しながらも形成することができる。
＜２＞ 前記ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である、＜１＞に記載の感光性屈折率調整フィルム。
Figure 2019095465
 ［一般式（１）中、Ｘは、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有する２価の基を示す。Ｒは、それぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示す。ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を示す。ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＝０〜１０となるように選択される。］
＜３＞ 前記酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーが、カルボキシル基を有する、＜１＞又は＜２＞に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜４＞ 前記酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有する＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜５＞ 前記金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム又は酸化チタンである、＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜６＞ 前記第一の樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合開始剤と、を含有する＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜７＞ 前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物を含有する、＜６＞に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜８＞ 前記バインダーポリマーが、カルボキシル基を有する、＜６＞又は＜７＞に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜９＞ 前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有する＜６＞〜＜８＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜１０＞ 前記第一の樹脂層が、エチレン性不飽和基を有するリン酸エステルを含有する＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜１１＞ 前記第二の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５〜１．９である＜１＞〜＜１０＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜１２＞ 前記第二の樹脂層の厚みが４０ｎｍ〜５００ｎｍである＜１＞〜＜１１＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜１３＞ 前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層を備える積層体の、波長４００〜７００ｎｍにおける、透過率の最小値が９０％以上である＜１＞〜＜１２＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜１４＞ 前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の厚みの合計が３０μｍ以下である＜１＞〜＜１３＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
＜１５＞ ＜１＞〜＜１４＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルムを用いて、基材上に前記第二の樹脂層が密着するように前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層をラミネートする工程と、
前記基材上の前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の所定部分を露光する工程と、
露光された前記所定部分以外を除去する工程と、
を備える硬化膜パターンの形成方法。
＜１６＞ ＜１＞〜＜１４＞のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルムの、前記第二の樹脂層及び前記第一の樹脂層を硬化してなる硬化膜。
＜１７＞ パターン状に形成してなる、請求項１７に記載の硬化膜。
＜１８＞ 請求項１６又は１７に記載の硬化膜を有する、電子部品。
本発明によれば、保護膜又は屈折率調整膜として機能する硬化膜を、現像性よく形成可能な感光性屈折率調整フィルムを提供することができる。
本発明の感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。 本発明の感光性屈折率調整フィルムを透明電極パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式平面図である。
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
＜感光性屈折率調整フィルム＞
本発明の感光性屈折率調整フィルムは 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられたジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物を含む第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する第二の樹脂層と、を備える。
以下、本発明の感光性屈折率調整フィルムの好ましい態様について説明する。
図１は、本発明の感光性屈折率調整フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される感光性屈折率調整フィルム１は、支持フィルム１０と、上記支持フィルム上に設けられた第一の樹脂層２０と、上記第一の樹脂層２０上に設けられた第二の樹脂層３０とを備える。なお、感光性屈折率調整フィルムは、図１に示すように第二の樹脂層３０の第一の樹脂層２０とは反対側に設けられた保護フィルム４０を含んでもよい。
図２は、本発明の感光性屈折率調整フィルムを透明電極パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。図２において、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａ付き基材５０上に、パターン５０ａを覆うように第二の樹脂層３０が設けられ、その上に第一の樹脂層２０が設けられて、透明積層体１００が構成されている。
上記感光性屈折率調整フィルムを用いることで、例えばタッチパネルにおける透明電極や額縁領域にある金属配線の保護機能と、透明電極パターンの可視化抑制又はセンシング領域の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を一括で形成することができる。
＜支持フィルム＞
支持フィルム１０としては、例えば重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等のフィルムが挙げられる。
支持フィルム１０の厚みは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３５μｍであることが特に好ましい。
＜第一の樹脂層＞
第一の樹脂層２０は、所望の形状を有する硬化膜を容易に形成する観点から感光性樹脂層であることが好ましい。
第一の樹脂層２０は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）とを含有する感光性樹脂組成物から形成されることが好ましい。
（バインダーポリマー）
（Ａ）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するバインダーポリマーを用いることが好ましい。
（Ａ）成分は、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位を有する共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構造単位に含有していてもよい。具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。
また、（Ａ）成分は、エチレン性不飽和基を有してもよい。なお、エチレン性不飽和基を有する（Ａ）成分は、本明細書においては（Ｂ）成分に含ませないものとする。
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
これらの中でも、アルカリ現像性（特に無機アルカリ水溶液に対する）、パターニング性、透明性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物由来の構造単位を有するバインダーポリマーが好ましい。
（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００〜１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本願明細書の実施例を参考にゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する硬化膜をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。なお、酸価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
（Ａ）成分の水酸基価は、防錆性をより向上させる観点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
（光重合性化合物）
（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物を含む。前記第一の樹脂層及び第二の樹脂層を備える積層体を形成した際の、金属配線や透明電極の腐食抑制の観点から、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物として、下記一般式（１）である化合物を含むことが好ましい。
Figure 2019095465
 ［一般式（１）中、Ｘは、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有する２価の基を示す。Ｒは、それぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示す。ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を示す。ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＝０〜１０となるように選択される。］
上記一般式（１）において、Ｒはそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示す。Ｒはエチレン基又はプロピレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。また、プロピレン基はｎ−イソプロピレン基及びイソプロピレン基のいずれであってもよい。
上記一般式（１）において、ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を示す。ｎ及びｍはメチレン基が、分子中にどの程度付加されているかを示すものである。ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＝０〜１０となるように選択される。ｐ及びｑは炭素数１〜４のアルコキシ基が、分子中にどの程度付加されているかを示すものである。ｐ＋ｑが２以上の場合、２つ以上のＲは同一であっても、異なっていてもよい。
上記一般式（１）で表される化合物は、Ｘに含まれるジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有する２価の基が、嵩高い構造を有することで、フィルムの低透湿性を実現し、金属配線及び透明電極の腐食抑制性が向上すると考えられる。
上記一般式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（２）式で表される、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートが挙げられる。これは、Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure 2019095465
 ［上記一般式（１）において、Ｘがジシクロペンタニル構造を有する２価の基、ｍ＝ｎ＝１、ｐ＝ｑ＝０である化合物］
ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物の含有量は、金属配線や透明電極の腐食抑制の観点から、（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対して、５０質量部以上であることが好ましく、７０質量部以上であることがより好ましく、８０質量部以上であることがさらに好ましい。
（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、上記一般式（１）で表される化合物とは別の、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば分子内に一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する一官能ビニルモノマー、分子内に二つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する二官能ビニルモノマー、又は分子内に少なくとも三つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
上記分子内に一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示したものが挙げられる。
上記分子内に二つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート等が挙げられる。
上記例示した化合物の中でも、現像性向上の観点から、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレートを用いることが好ましい
上記分子内に少なくとも三つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線や透明電極の腐食抑制及び現像性の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が３５〜８５質量部であることが好ましく、４０〜８０質量部であることがより好ましく、５０〜７０質量部であることがさらに好ましく、５５〜６５質量部であることが特に好ましい。特に、パターン形成性や硬化膜の防錆性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることがさらに好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい。
（光重合開始剤）
（Ｃ）成分としては、光重合開始剤であれば、従来公知のものを特に制限無く用いることができるが、オキシムエステル化合物を含むことが好ましい。このような光重合開始剤を用いることにより、第一の樹脂層の厚みが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で硬化膜パターンを形成することができる。当該硬化膜パターンは、透明性にも十分に優れる。
オキシムエステル化合物としては、下記式（３）で表される化合物、下記式（４）で表される化合物、又は下記式（５）で表される化合物であることが好ましい。
Figure 2019095465
式（３）中、Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。Ｒ13は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ2）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ2）2ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ2）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ2）2ＯＨを示す。−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ2）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ2）2ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ2）ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ2）2ＯＨであることが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ2）2ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ2）2ＯＨであることがより好ましい。
Figure 2019095465
式（４）中、Ｒ14は、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましい。複数のＲ14は同一であっても、異なっていてもよい。Ｒ15は、ＮＯ2又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。置換基を有する場合の置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
Ｒ16及びＲ17は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
Figure 2019095465
式（５）中、Ｒ18は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。
Ｒ19はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（５−１）に示す化合物が有するＲ19に対応する置換基であることが好ましい。
Ｒ20及びＲ21は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
Ｒ22は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。ｎは０〜４の整数を示す。
上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３−１）で表される化合物及び下記式（３−２）で表される化合物が挙げられる。下記式（３−１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure 2019095465
Figure 2019095465
上記式（４）で表される化合物としては、例えば、下記式（４−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（４−１）で表される化合物は、ＤＦＩ−０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure 2019095465
上記式（５）で表される化合物としては、例えば、下記式（５−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（５−１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
Figure 2019095465
その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（６）で表される化合物、下記式（７）で表される化合物等を用いることが好ましい。
Figure 2019095465
Figure 2019095465
上記の中でも、上記式（３−１）で表される化合物が極めて好ましい。なお、上記式（３−１）で表される化合物が硬化膜に含まれているかどうかは、国際公開第２０１３／０８４８７５号パンフレット記載の硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析により確認できる。
（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましく、１〜３質量部であることがさらに好ましく、１〜２質量部であることが特に好ましい。
（添加剤）
本実施形態に係る第一の樹脂層を形成する樹脂組成物は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物又はアミノ基を有するテトラゾール化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）をさらに含有することが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：３ＭＴ）等が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：ＡＴＴ）等が挙げられる。
上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜５．０質量部が好ましく、０．１〜２．０質量部がより好ましく、０．２〜１．０質量部がさらに好ましく、０．３〜０．８質量部が特に好ましい。
本実施形態に係る第一の樹脂層を形成する樹脂組成物は、ＩＴＯ電極パターン付き基材に対する密着性と、現像残渣の発生を防ぐ観点から、エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
エチレン性不飽和基を有するリン酸エステルは、上記（Ｂ）成分と重複する場合があるが、本明細書においては（Ｂ）成分に含ませないものとする。
（Ｅ）成分であるエチレン性不飽和基を有するリン酸エステルとしては、形成する硬化膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極パターン付き基材に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ−Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＰ等）、又は日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ−２等）が好ましい。
‘
本実施形態に係る第一の樹脂層を形成する樹脂組成物には、その他の添加剤として、必要に応じて、シランカップリング剤等の密着性付与剤、防錆剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
なお、上記の「第一の樹脂層を形成する樹脂組成物」とは、後述する溶剤を含まない状態の組成物をいい、各成分の含有量は、後述する溶剤以外の成分全量に対する含有量である。
第一の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、通常１．４０〜１．４９である。
第一の樹脂層の厚みは、保護膜として十分に効果を奏し、かつ透明電極パターン付き基材表面の段差を十分に埋め込む上では、乾燥後の厚みで１５μｍ以下であることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましく、３〜８μｍであることがさらに好ましい。
＜第二の樹脂層＞
第二の樹脂層は、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する。第二の樹脂層の屈折率は、上記の第一の樹脂層よりも高い。
（酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー）
第二の樹脂層は、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーを含有する。
前記ポリマーは、前記第一の樹脂層に用いられる（Ａ）成分に例示されている化合物を好ましく用いることができる。
前記ポリマーの酸価は、第一の樹脂層と張り合わせた際の、アルカリ現像性を向上させる観点から、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。また、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、１５０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、１５０〜１７５ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、１５０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。ポリマーの酸価を向上させる方法として、ポリマーの側鎖にカルボキシル基を付与することがあげられる。
なお、ポリマーの酸価は、前記バインダーポリマーの酸価の測定と同様に測定することができる。
酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーの重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１０，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、１０，０００〜１０，０００であることがさらに好ましく、１０，０００〜８５，０００であることが特に好ましく、１０，０００〜７０，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、バインダーポリマーの重量平均分子量測定と同様に測定することができる。
＜金属酸化物粒子＞
第二の樹脂層３０を形成する組成物は、金属酸化物粒子（以下、（Ｆ）成分ともいう）を含有する。特に波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５以上である、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。
これにより、感光性屈折率調整フィルムを調整した際、第二の樹脂層の透明性及び波長６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることが可能となる。また基材への吸着を抑制しつつ、現像性を向上させることができる。金属酸化物粒子としては、骨見え現象抑制の観点から、例えば酸化ジルコニウム又は酸化チタンの粒子を含有することが好ましい。
酸化ジルコニウム粒子としては、透明電極の材料がＩＴＯの場合、屈折率向上と、ＩＴＯ及び透明基材との密着性の観点から、酸化ジルコニウムナノ粒子を用いることが好ましい。酸化ジルコニウムナノ粒子の中でも、粒度分布Ｄｍａｘが４０ｎｍ以下であることが好ましい。
酸化ジルコニウムナノ粒子は、ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＯＺ−Ｓ４０Ｋ−ＡＣ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｋ（酸化ジルコニウムメチルエチルケトン分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｍ（酸化ジルコニウムメタノール分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
第二の樹脂層３０を形成する組成物には、（Ｆ）成分として酸化チタンナノ粒子を用いることも可能である。また、酸化チタンナノ粒子の中でも、粒度分布Ｄｍａｘが５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
（Ｆ）成分として、上記金属酸化物粒子のほかに、例えばＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｂａ等の原子を含む酸化物粒子または硫化物粒子を用いることもできる。これらは、単独で又は二種類以上を組み合わせて使用できる。
また上記金属酸化物粒子の他に、トリアジン環を有する化合物、イソシアヌル酸骨格を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物等の有機化合物を用いることも可能である。これにより波長６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることができる。
金属酸化物粒子の含有量は、第二の樹脂層の屈折率及び現像性向上の観点から、第二の樹脂層を形成する組成物１００質量部に対し、２０〜８５質量部含むことが好ましく、３５〜８５質量部含むことがより好ましく、５０〜８５質量部含むことがさらに好ましく、７０〜８５質量部含むことが極めて好ましい。
第二の樹脂層を形成する組成物は、第一の樹脂層に用いられる（Ｂ）〜（Ｅ）成分及びその他の添加剤を好ましく用いることができる。
第二の樹脂層を形成する組成物は、光重合性化合物、光重合開始剤等の光重合成分を必ずしも含有する必要はなく、層形成により隣接する樹脂層から移行する光重合成分を利用して第二の樹脂層を光硬化させることもできる。
なお、上記の「第二の樹脂層を形成する組成物」とは後述する溶剤を含まない状態の組成物をいい、各成分の含有量は、後述する溶剤以外の成分全量に対する含有量である。
第二の樹脂層を形成する組成物のポリマー含有量は、ポリマー及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、ポリマーが４０〜８０質量部であることが好ましく、５０〜８０質量部であることがより好ましく、６０〜８０質量部であることがさらに好ましい。ポリマー含有量を上記範囲にすることで、パターン形成性や硬化膜の防錆性を向上することができる。
上記第二の樹脂層は、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５〜１．９であることが好ましい。より詳細には、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５３〜１．８５であることがより好ましく、１．５５〜１．７５であることがさらに好ましい。第二の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が上記範囲内であることにより、図２に示す透明積層体１００とした場合、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａと、第一の樹脂層２０の上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する透明粘着フィルム（ＯＣＡ、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ））との屈折率の中間値となり、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を抑制することができる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を抑制することができる。なお、屈折率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０〜２．１０であることが好ましく、１．８５〜２．０５であることがより好ましく、１．９０〜２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましく、１．４７〜１．５３であることがより好ましく、１．４８〜１．５１であることがさらに好ましい。
上記第二の樹脂層の厚みは、乾燥後の厚みで４０〜５００ｎｍであることが好ましく、４０〜１００ｎｍであることがより好ましく、４０〜８０ｎｍであることがさらに好ましく、４０〜６０ｎｍであることが特に好ましい。厚みが４０〜５００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
＜他の層＞
本発明の感光性屈折率調整フィルムは、本発明の効果が得られる範囲で、適宜選択した他の層を設けてもよい。前記他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クッション層、酸素遮蔽層、剥離層、接着層等が挙げられる。前記感光性屈折率調整フィルムは、これらの層を１種単独で有していてもよく、２種以上を有してもよい。また、同種の層を２以上有していてもよい。
＜保護フィルム＞
保護フィルム４０としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体のフィルムや、これらのフィルムとポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
保護フィルム４０の厚みは、５〜１００μｍが好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
［感光性屈折率調整フィルムの製造方法］
感光性屈折率調整フィルムの第一の樹脂層２０、第二の樹脂層３０は、例えば、第一の樹脂層を形成する樹脂組成物を含有する塗布液、第二の樹脂層を形成する組成物を含有する塗布液をそれぞれ調製し、これを各々支持フィルム１０、保護フィルム４０上に塗布、乾燥し、貼り合わせることにより形成できる。または、支持フィルム１０上に第一の樹脂層を形成する樹脂組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、その後、第一の樹脂層２０上に、第二の樹脂層を形成する組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じ保護フィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。
塗布液は、上述した本実施形態に係る第一の樹脂層を形成する樹脂組成物、第二の樹脂層を形成する樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。塗布液として用いる溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
塗布方法としては、例えばドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
第一の樹脂層及び第二の樹脂層を備える積層体の厚みは、ラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、防錆性の観点から、基材の突起物によるピンホールが発生する可能性を加味すると、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがさらに好ましい。３μｍ以上であれば、基材の突起物による影響を抑制し、防錆性を保つことが可能となる。
第一の樹脂層及び第二の樹脂層を備える積層体の、波長４００〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は９０％以上であることが好ましい。より詳しくは、９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である波長４００〜７００ｎｍにおける透過率が９０％以上であれば、タッチパネルのセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。透過率の最大値は、通常１００％以下である。なお、可視光線透過率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
［硬化膜パターンの形成方法］
次に、感光性屈折率調整フィルムを用いた硬化膜パターンを形成する方法について説明する。
（基材）
基材５０（透明電極パターン付き基材）としては、例えばタッチパネルに用いられる、ガラス、プラスチック、セラミック、樹脂製の基材などが挙げられる。樹脂製の基材として、例えばポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂製の基材などが挙げられる。これらの基材は透明であることが好ましい。
（透明電極及び金属配線）
前記基材上には、硬化膜を形成する対象となる、透明電極及び金属配線が設けられる。
透明電極は、例えばＩＴＯやＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウム−酸化亜鉛）等の導電性金属酸化膜を用いて、形成することができる。また透明電極は、銀繊維やカーボンナノチューブなどの導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、形成することもできる。
金属配線は、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃなどの導電性材料を用いて、スクリーン印刷、蒸着などの方法により形成することができる。
また、基材と、透明電極及び金属配線との間には、例えば屈折率調整層、絶縁層等が設けられていてもよい。
−ラミネート工程−
まず、感光性屈折率調整フィルム１の必要に応じて存在する保護フィルム４０を除去した後、感光性屈折率調整フィルムを基材５０（透明電極パターン付き基材）の表面に、第二の樹脂層３０が密着するよう支持フィルム側から圧着することにより、ラミネートする。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
加熱圧着する場合の加熱温度は、第二の樹脂層３０と基材５０との密着性と、第一の樹脂層及び第二の樹脂層の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、２５〜１６０℃とすることが好ましく、２５〜１５０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることがさらに好ましい。
また、加熱圧着時の圧着圧力は、第二の樹脂層３０と基材５０との密着性を充分確保しながら、基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０5Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０2〜５×１０4Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０2〜４×１０4Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。
感光性屈折率調整フィルムを上記のように加熱圧着すれば、基材の予熱処理は必ずしも必要ではないが、第二の樹脂層３０と基材５０との密着性をさらに向上させる点から、基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０〜１５０℃とすることが好ましい。
−露光工程−
次に、転写後の第二の樹脂層及び第一の樹脂層の所定部分に、例えばフォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、第一の樹脂層上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。
なお本明細書においてパターンとは、回路を形成する微細配線の形状にとどまらず、他基材との接続部のみを矩形に除去した形状や基材の額縁部のみを除去した形状等も含まれる。
活性光線の照射量は、１×１０2〜１×１０4Ｊ／ｍ2であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０2Ｊ／ｍ2以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０4Ｊ／ｍ2以下であれば、第一の樹脂層及び第二の樹脂層の変色を抑制することができる傾向がある。
−現像工程−
続いて、活性光線照射後の第一の樹脂層及び第二の樹脂層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する硬化膜パターンを形成する。なお、活性光線の照射後、第一の樹脂層上に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
現像工程は、アルカリ水溶液を現像液として、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行うことが好ましい。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度や時間は従来公知の範囲で調整することができる。
本発明の感光性屈折率調整フィルムによって、タッチパネルの回路間接続不良を抑制することができる理由を、本発明者らは以下のとおり考えている。酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する第二の樹脂層は、酸価が上記範囲にあるため未露光部のアルカリ現像液に対する現像性が良好であり、未露光部が速やかに溶解する。
本発明の感光性屈折率調整フィルムは、第二の樹脂層が基材に密着するようにラミネートされる。そのため基材に密着している第二の樹脂層が現像されると、第二の樹脂層の基材とは反対側の面上にある第一の樹脂層は追従して剥離する。その結果、現像残渣の発生が抑制され、タッチパネルの回路間接続不良を抑制することができると本発明者は推察する。
＜硬化膜＞
本発明の硬化膜は、本発明の感光性屈折率調整フィルムの、前記第一の樹脂層及び第二の樹脂層を硬化して得られた硬化膜である。
本発明の硬化膜は、例えばタッチパネル用電極保護膜、液晶や有機ＥＬ等の表示素子用の平坦化膜及び層間絶縁膜、カラーフィルター用保護膜、プリント配線板用ソルダーレジスト膜等として用いることが可能である。
なお、例えば第二の樹脂層の大部分が第一の樹脂層に被覆され、露出されない場合、第二の樹脂層は必ずしも硬化される必要はない。本発明の硬化膜は、このような第一の樹脂層が硬化し、第二の樹脂層が硬化していない場合も含む。
本発明の硬化膜はパターン状に形成されていることが好ましい。
第一の樹脂層と第二の樹脂層を硬化してなる硬化膜の透湿度は、金属配線や透明電極の腐食抑制の観点から、３５０ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましく、３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることがより好ましく、２５０ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることがさらに好ましく、２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが特に好ましい。なお、透湿度は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
＜電子部品＞
本実施形態に係る電子部品は、感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した硬化膜を備えている。この硬化膜はパターン状に形成されていることが好ましい。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのセンシング領域１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基材１０１上に設けられている。
透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための金属配線１０５が設けられている。また、金属配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、金属配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
図３に示すように、硬化膜パターン１２３を形成することによって、透明電極１０３、透明電極１０４、金属配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜の機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域１０２の屈折率調整機能を同時に奏する。
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
＜バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製＞
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続けた。重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）、（Ａ１）を得た。なお表１において、各成分の配合量の単位は質量部である。
＜バインダーポリマー溶液（Ａ２）の作製＞
配合量を表１の通りに変えた以外は、上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量１８，０００、酸価１５６．６ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーの溶液（固形分５７質量％）、である（Ａ２）を得た。
［バインダーポリマー溶液（Ａ３）の作製＞
配合量を表１の通りに変えた以外は、上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量３０，０００、酸価１５６．６ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーの溶液（固形分５０質量％）、である（Ａ３）を得た。
Figure 2019095465
［重量平均分子量の測定方法］
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ−６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ−３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
［酸価の測定方法］
酸価は下記に示すような、ＪＩＳ Ｋ００７０に基づいた中和滴定法により測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解し、樹脂溶液を得た。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその樹脂溶液に適量添加して、０．１ｍｏｌ／ Ｌの水酸化カリウム水溶液を用いて中和滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖ×ｆ1×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、Ｖは滴定に用いた０．１ｍｏｌ／ L水酸化カリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）、
ｆ1は０．１ｍｏｌ／ L水酸化カリウム水溶液のファクター（濃度換算係数）、
Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）、
Ｉは測定した上記樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
［水酸基価の測定方法］
水酸基価は下記に示すような、ＪＩＳ Ｋ００７０に基づいた中和滴定法により測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のバインダーポリマー１ｇを精秤した後、バインダーポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてバインダーポリマーを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名：ＣＯＭ−１７００）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ2×２８．０５／Ｓ＋Ｄ
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）、
Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）、
ｆ2は０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター（濃度換算係数）、
Ｓはバインダーポリマーの質量 (g) 、
Ｄは酸価を示す。
なお、空試験はバインダーポリマーを入れることなく上記工程を行なう。
＜第一の樹脂層を形成する塗布液の作製＞
表２に示す各成分を撹拌機によって１５分間混合し、第一の樹脂層を形成する塗布液１〜５を調製した。 表２において、各成分の配合量の単位は質量部である。
Figure 2019095465
表２中の成分の記号は以下の意味を示す。
・（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度６０℃
・（Ｂ）成分
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、製品名）
ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（新中村化学工業株式会社製、製品名）
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
・（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）
・（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）
・（Ｅ）成分
ＰＭ−２１：光重合性不飽和基を有するリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
・その他の成分
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００（ＡＷ−５００）：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、製品名）
＜第二の樹脂層を形成する塗布液の作製＞
後述する表３に示す成分を、撹拌機を用いて１５分間混合し第二の樹脂層を形成する塗布液、ＩＭ−1〜ＩＭ−４を作製した。表３において、各成分の配合量の単位は質量部である。
Figure 2019095465
表３中の成分の記号は以下の意味を示す。
・ポリマー
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度６０℃
（Ａ２）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５．２／１７．３（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液、重量平均分子量１８，０００、酸価１５６．６ｍｇＫＯＨ／ｇ。
（Ａ３）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５．２／１７．３（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液、重量平均分子量３０，０００、酸価１５６．６ｍｇＫＯＨ／ｇ。
・（Ｂ）成分
ＢＰＥ−１３００：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート(新中村化学社製、製品名）
・（Ｄ）成分
Ｂ−６０３０：５−アミノ−1Ｈテトラゾール（千代田ケミカル社製、製品名）
・（Ｅ）成分
ＰＭ−２１：光重合性不飽和基を有するリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
・（Ｆ）成分
ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｋ）
・その他の成分
Ｌ−７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
［屈折率の測定］
第二の樹脂層を形成するための塗布液を、厚み０．７ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、第二の樹脂層を形成した。
次いで、上記で得られた第二の樹脂層を、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、第二の樹脂層を有する屈折率測定用試料を得た。なお、感光性屈折率調整フィルムの形態では、第二の樹脂層単層の屈折率を測定することは難しいため、第二の樹脂層の保護フィルム側の最表面層の値から推測することができる。
次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて波長６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
［第一の樹脂層を備えた感光性フィルムの作製］
厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（支持フィルム、東レ株式会社社製、製品名：ＦＢ４０）の上に、表４及び５に示された前記第一の樹脂層を形成するための塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて溶剤を除去し、第一の樹脂層を形成した。乾燥後の厚みが８μｍになるよう、塗布液の量を調整して塗布した。
次いで、得られた第一の樹脂層上に、厚み３０μｍのポリプロピレンフィルム（保護フィルム、王子エフテックス株式会社社製、製品名Ｅ−２０１Ｆ）を張り合わせ、比較例１〜４の感光性フィルムを作製した。
［第一の樹脂層及び第二の樹脂層を備えた感光性屈折率調整フィルムの作製］
厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（支持フィルム、東レ株式会社社製、製品名：ＦＢ４０）の上に、表４及び表５に示された前記第一の樹脂層を形成するための塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて溶剤を除去し、第一の樹脂層を形成した。乾燥後の厚みが８μｍになるよう、塗布液の量を調整して塗布した。
厚み３０μｍのポリプロピレンフィルム（保護フィルム、王子エフテックス株式会社社製）上に、表４及び表５に示された前記第二の樹脂層を形成する塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて溶剤を除去し、第二の樹脂層を形成した。乾燥後の厚みが７０ｎｍになるよう、塗布液の量を調整して塗布した。
次いで、得られた第二の樹脂層を有する保護フィルムと、第一の樹脂層を有する支持フィルムをラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、第二の樹脂層と第一の樹脂層とが密着するように、２３℃で張り合わせて、実施例１〜６及び比較例５〜９の感光性屈折率調整フィルムを得た。
[樹脂層の厚みの測定］
上記で作製した、第二の樹脂層（単層）をＦ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ株式会社製、製品名）で測定することにより第二の樹脂層の厚みを測定した。また、上記で作製した第一の樹脂層（単層）を、デジタルシックネスゲージ（ニコン株式会社製、製品名：ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤ ＭＳ−５Ｃ）で測定することにより第一の樹脂層の厚みを測定した。
作製した感光性フィルム、及び感光性屈折率調整フィルムについて、以下の評価を行った。
［硬化膜の透過率の測定］
上記で作製した感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムを剥離し、厚み０．７ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基材上に、第二の樹脂層が密着するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０5Ｐａ（厚みが０．７ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０3Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材、第二の樹脂層、第一の樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。感光性フィルムに対しても、同様の手順でラミネートを行い、ガラス基材、第一の樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０2Ｊ／ｍ2（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得た。
次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで透過率を測定した。
[硬化膜の透湿度評価試験]
得られた感光性フィルムの保護フィルムを剥離し、これをろ紙（アドバンテック製、Ｎｏ．５Ｃ、φ９０ｍｍの円形、厚み１３０μｍ）上に、ロール温度１００℃、基材送り速度０．６ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０．５ＭＰａの条件でラミネートした。支持フィルムを剥離した。ろ紙にラミネートされた第一の樹脂層上に、新たな感光性フィルムの保護フィルムを剥離しラミネートした。この操作を繰り返すことで、ろ紙上に厚み４０μｍの第一の樹脂層（すなわち第一の樹脂層が５層）及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。感光性屈折率調整フィルムに対しても、上記の手順をふむことで、ろ紙上に厚み４０μｍの第一の樹脂層、第二の樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
上記積層体を、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して支持フィルム面垂直上より露光量０．６Ｊ／ｍ2で紫外線を照射した。
次いで、上記紫外線を照射した積層体の、支持フィルムを剥離して除去し、更に積層体の、垂直上より露光量１×１０4Ｊ／ｍ2で紫外線を照射した。ろ紙上に硬化膜が形成された透湿度測定用試料を得た。
次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ０２０８、カップ法）を参考に、透湿度測定を実施した。測定カップ（φ６０ｍｍ、深さ１５ｍｍ、株式会社村井元製作所）内に、吸湿材（２０ｇの塩化カルシウム（無水））を入れた。上記透湿度測定用試料から直径７０ｍｍの大きさにはさみで切り取った円形試料片を用いて、上記測定カップに蓋をした。恒温恒湿槽内にて６０℃、９０％ＲＨの条件で２４時間放置した。放置前後の測定カップ、吸湿剤及び円形試料片の合計質量の変化から透湿度を算出し、以下の評点に従って透湿度を評価した。
Ａ：透湿度≦３００（ｇ／ｍ2・２４ｈ）である。
Ｂ：３００＜透湿度≦４００（ｇ／ｍ2・２４ｈ）である。
Ｃ：４００＜透湿度（ｇ／ｍ2・２４ｈ）である。
[現像性評価試験]
得られた感光性フィルム及び感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムを剥離し、銅基材（縦１２ｃｍ×横５ｃｍ）上に、ラミネータ（日立化成株式会社社、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１００℃、基材送り速度０．６ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０．５ＭＰａの条件でラミネートし、銅基材、第一の樹脂層及び支持フィルム、並びに銅基材、第二の樹脂層、第一の樹脂層及び支持フィルムが積層された、現像性評価試験用試料を作製した。
上記で得られた現像性評価試験用試料の最上部の支持フィルムを剥離した。 その後、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で１０秒間、または２０秒間スプレー現像した。得られた基材表面状態を肉眼で観察し、以下の観点に従って現像残渣を評価した。
Ａ ： 基材表面に現像残渣が確認されず。
Ｂ ： 基材表面に現像残渣がわずかに確認される。
Ｃ ： 基材表面に現像残渣が確認される。
＜透湿度評価試験及び現像性評価試験の結果＞
下記表４及び表５に示すように、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物を含む第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する第二の樹脂層と、を備える感光性屈折率調整フィルムを用いた実施例１〜６は、低透湿性と現像性を両立することができた。一方、第二の樹脂層を含まない感光性フィルムを用いた比較例１〜４では、現像性に問題があった。さらに酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のポリマーを含有する第二の樹脂層を用いた比較例５〜８でも、現像性に問題があった。また、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物以外の、光重合性化合物を含有する第一の樹脂層を用いた比較例9では、低透湿性に問題があった。
本発明の感光性屈折率調整フィルムであれば、第一の樹脂層にそれ単層では現像性に劣る材料を用いたとしても、現像性を改善できることが確認された。
Figure 2019095465
Figure 2019095465
１…感光性屈折率調整フィルム、１０…支持フィルム、２０…第一の樹脂層、３０…第二の樹脂層、４０…保護フィルム、５０…透明電極パターンつき基材、５０a…透明電極パターン、１００…透明積層体、１０１…透明基材、１０２…センシング領域、１０３、１０４…透明電極、１０５…金属配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…硬化膜パターン

Claims (18)

  1. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられたジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物を含有する第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた、酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマー及び金属酸化物粒子を含有する第二の樹脂層と、を備える感光性屈折率調整フィルム。
  2. 前記ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジアクリレート化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の感光性屈折率調整フィルム。
    Figure 2019095465
     ［一般式（１）中、Ｘは、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有する２価の基を示す。Ｒは、それぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示す。ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を示す。ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＝０〜１０となるように選択される。］
  3. 前記酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーが、カルボキシル基を有する、請求項１又は２に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  4. 前記酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  5. 前記金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム又は酸化チタンである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  6. 前記第一の樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合開始剤と、を含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  7. 前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物を含有する、請求項６に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  8. 前記バインダーポリマーが、カルボキシル基を有する、請求項６又は７に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  9. 前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有する請求項６〜８のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  10. 前記第一の樹脂層が、エチレン性不飽和基を有するリン酸エステルを含有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  11. 前記第二の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５〜１．９である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  12. 前記第二の樹脂層の厚みが４０ｎｍ〜５００ｎｍである請求項１〜１１のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  13. 前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層を備える積層体の、波長４００〜７００ｎｍにおける、透過率の最小値が９０％以上である請求項１〜１２のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  14. 前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の厚みの合計が３０μｍ以下である請求項１〜１３のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルム。
  15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルムを用いて、基材上に前記第二の樹脂層が密着するように前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層をラミネートする工程と、
    前記基材上の前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の所定部分を露光する工程と、
    露光された前記所定部分以外を除去する工程と、
    を備える硬化膜パターンの形成方法。
  16. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の感光性屈折率調整フィルムの、前記第二の樹脂層及び前記第一の樹脂層を硬化してなる硬化膜。
  17. パターン状に形成してなる、請求項１６に記載の硬化膜。
  18. 請求項１６又は１７に記載の硬化膜を有する、電子部品。
JP2016075123A 2016-04-04 2016-04-04 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品 Pending JP2019095465A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016075123A JP2019095465A (ja) 2016-04-04 2016-04-04 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
PCT/JP2017/012966 WO2017175642A1 (ja) 2016-04-04 2017-03-29 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
TW106110980A TW201806743A (zh) 2016-04-04 2017-03-31 感光性折射率調整膜、硬化膜圖案的形成方法、硬化膜及電子零件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016075123A JP2019095465A (ja) 2016-04-04 2016-04-04 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019095465A true JP2019095465A (ja) 2019-06-20

Family

ID=60001235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016075123A Pending JP2019095465A (ja) 2016-04-04 2016-04-04 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2019095465A (ja)
TW (1) TW201806743A (ja)
WO (1) WO2017175642A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019186802A1 (ja) * 2018-03-28 2019-10-03 日立化成株式会社 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
WO2019186781A1 (ja) * 2018-03-28 2019-10-03 日立化成株式会社 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005300857A (ja) * 2004-04-09 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写シート、感光性積層体、画像パターン形成方法、及び配線パターン形成方法
JP2008306073A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Jsr Corp 液浸露光用液体
JP5422427B2 (ja) * 2010-02-08 2014-02-19 太陽ホールディングス株式会社 積層構造体及びそれに用いる感光性ドライフィルム
JP6372108B2 (ja) * 2014-03-11 2018-08-15 味の素株式会社 配線板及びその製造方法
JP6284891B2 (ja) * 2015-02-26 2018-02-28 富士フイルム株式会社 タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、透明積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017175642A1 (ja) 2017-10-12
TW201806743A (zh) 2018-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6589953B2 (ja) 感光性エレメント
TWI685776B (zh) 觸控式面板的製造方法
JP6212970B2 (ja) タッチパネル用電極の保護膜及びタッチパネル
JP6400289B2 (ja) 硬化膜付きタッチパネル用基材及びその製造方法、感光性エレメント並びにタッチパネル
WO2016181422A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
JP6551277B2 (ja) 硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びタッチパネル
WO2016001955A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2017116774A (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2019175226A (ja) タッチセンサの保護膜形成用感光性フィルム、タッチセンサの保護膜形成用感光性屈折率調整フィルム、タッチセンサの保護膜の形成方法及びタッチパネル
WO2017175642A1 (ja) 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
WO2016132401A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
JP2017201352A (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
WO2017056131A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2017181541A (ja) 感光性フィルム、感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
JP2018165788A (ja) 転写型感光性フィルム、硬化樹脂パターンの形成方法及びタッチパネル
JP6943279B2 (ja) 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法及びタッチパネル
WO2019207648A1 (ja) 感光性樹脂組成物、転写型感光性フィルム、硬化膜付き基材及びセンシングデバイス
JP2019219631A (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
JP2019035801A (ja) 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
JP2015153009A (ja) 保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びそれらにより得られるタッチパネル
JP2018045126A (ja) 真空ラミネート用感光性フィルム、転写型感光性屈折率調整フィルム、及び硬化樹脂パターンの形成方法
WO2019186781A1 (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
WO2019186802A1 (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
JP2019174604A (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
JP7210091B2 (ja) 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及びタッチパネル