JP6284891B2 - タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、透明積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置 - Google Patents
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Description
近年、静電容量型入力装置(タッチパネル)において、透明電極の視認性の低減のため、透明電極パターン上に高屈折率の透明樹脂層を形成することが提案されている。
例えば、特許文献1には、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、上記第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、上記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が上記第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、上記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が1.6以上であることを特徴とする転写フィルム、及び、上記転写フィルムを用いて作製されてなる静電容量型入力装置が記載されている。
また、タッチパネル保護膜としては、特許文献2に、(A)光重合性モノマー、(B)透明樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)溶剤を含有する感光性樹脂組成物であって、上記(A)光重合性モノマーを2官能であるメタクリル系モノマーとし、シランカップリング剤を全固形分量中に1.0重量%以上3.0重量%以下の範囲内で含有したことを特徴とする感光性樹脂組成物、並びに、上記感光性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル保護膜が記載されている。
更に、本発明が解決しようとする課題は、上記タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、及び、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法を用いて作製されてなるタッチパネル用電極の保護膜、静電容量型入力装置、及び、それらの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置を提供することである。
<1>成分Aとして、式1で表される化合物と、成分Bとして、バインダーポリマーと、成分Cとして、光重合開始剤と、成分Dとして、カルボキシ基を有するモノマーとを含有し、成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、5質量%以上50質量%未満であることを特徴とするタッチパネル電極保護膜形成用組成物、
Q2−R1−Q1 (1)
式1中、Q1及びQ2はそれぞれ独立に、(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、R1は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。
<2>上記R1が、鎖状構造を有する炭素数2〜12の二価の炭化水素基である、<1>に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物、
<3>成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、10〜40質量%である、<1>又は<2>に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物、
<4>成分Dが、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物である、<1>〜<3>のいずれか1つに記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物、
<5>成分Bが、カルボキシ基を有するアクリル樹脂である、<1>〜<4>のいずれか1つに記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物、
<6>仮支持体と、<1>〜<5>のいずれか1つに記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層とを有することを特徴とする転写フィルム、
<7>感光性透明樹脂層の上に、第二の透明樹脂層を更に有し、第二の透明樹脂層の屈折率が、感光性透明樹脂層の屈折率よりも高いものである、<6>に記載の転写フィルム、
<8>タッチパネル用電極と、上記タッチパネル用電極上に配置された第二の透明樹脂層と、第二の透明樹脂層上に配置されたと感光性透明樹脂層と、を有し、感光性透明樹脂層が<1>〜<5>のいずれか1つに記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物を硬化した層であり、第二の透明樹脂層の屈折率が、感光性透明樹脂層の屈折率よりも高いことを特徴とする透明積層体、
<9>タッチパネル用電極を有する基材上に、<1>〜<5>のいずれか1つに記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層を設ける配設工程と、感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程と、露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程と、をこの順で含むことを特徴とするタッチパネル用電極の保護膜の形成方法、
<10>タッチパネル用電極を有する基材上に、<6>又は<7>に記載の転写フィルムを用いて感光性透明樹脂層を設ける配設工程と、感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程と、露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程と、をこの順で含むことを特徴とするタッチパネル用電極の保護膜の形成方法、
<11><9>又は<10>に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法により作製されることを特徴とするタッチパネル用電極の保護膜、
<12><8>に記載の透明積層体、又は、<11>に記載のタッチパネル用電極の保護膜を含むことを特徴とする、静電容量型入力装置、
<13><12>に記載の静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置。
更に、本発明によれば、上記タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、及び、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法を用いて作製されてなるタッチパネル用電極の保護膜、静電容量型入力装置、及び、それらの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置を提供することができる。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
なお、本明細書中において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物(以下、単に「組成物」ともいう。)は、成分Aとして、式1で表される化合物と、成分Bとして、バインダーポリマーと、成分Cとして、光重合開始剤と、成分Dとして、カルボキシ基を有するモノマーとを含有し、成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、5質量%以上50質量%未満であることを特徴とする。
Q2−R1−Q1 (1)
式1中、Q1及びQ2はそれぞれ独立に、(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、R1は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。
本発明者らは上記観点を鑑み鋭意検討を重ねた結果、成分Aとして、式1で表される化合物と、成分Bとして、バインダーポリマーと、成分Cとして、光重合開始剤と、成分Dとして、カルボキシ基を有するモノマーとを含有し、成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、5質量%以上50質量%未満であることにより、静摩擦係数が小さく、耐屈曲性、及び、タッチパネル電極との密着性に優れる保護膜を得ることができることを見いだし、本発明を完成するに至ったものである。
詳細な効果の発現機構は不明であるが、特定量の上記式1で表される化合物と、カルボキシ基を有するモノマーとの相互作用により、静摩擦係数が小さく、耐屈曲性、及び、タッチパネル電極との密着性に優れる保護膜を得ることができると推定される。
また、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、転写フィルムに好適に用いることができる。
詳しくは、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、転写フィルムのタッチパネル電極保護膜形成用転写層として好適に用いることができる。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、成分Aとして、式1で表される化合物を含有し、成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、5質量%以上50質量%未満である。
Q2−R1−Q1 (1)
式1中、Q1及びQ2はそれぞれ独立に、(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、R1は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。
R1における鎖状構造は、直鎖状構造であっても、分岐鎖状構造であってもよく、また、芳香環や脂環構造を鎖状構造に有していてもよいが、縮合構造や架橋構造は有しないことが好ましい。
鎖状構造を有する二価の連結基としては、直鎖若しくは分岐アルキレン基、1以上の直鎖若しくは分岐アルキレン基と1以上のアリーレン基とが結合した基、2以上の直鎖若しくは分岐アルキレン基と1以上のエーテル結合とが結合した基(例えば、−(直鎖又は分岐アルキレン基)−{O−(直鎖又は分岐アルキレン基)}p−、pは1〜10の整数を表す。)が挙げられる。
R1は、硬化膜の耐湿熱性の観点からは、鎖状構造を有する二価の炭化水素基であることが好ましく、鎖状構造を有する炭素数2〜12の二価の炭化水素基であることがより好ましく、炭素数2〜12の直鎖又は分岐アルキレン基であることが更に好ましく、炭素数2〜12の直鎖アルキレン基であることが特に好ましい。
上記化合物の中でも、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレートが好ましく用いられる。
成分Aの含有量は、組成物中のモノマー成分の総質量に対して、5質量%以上50質量%未満であり、10〜40質量%であることが好ましく、15〜35質量%であることがより好ましい。上記範囲であると、静摩擦係数がより小さく、耐屈曲性により優れる保護膜を得ることができる。
モノマー成分とは、(重量平均)分子量が10,000未満のエチレン性不飽和基を有する化合物をいう。
また、成分Aの含有量は、組成物中の全固形分に対して、1〜30質量%であることが好ましく、5〜20質量%であることがより好ましい。組成物中の全固形分とは、溶媒などの揮発性成分を除いた量を表す。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、成分Bとして、バインダーポリマーを含有する。
上記バインダーポリマーとしては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、特開2008−146018号公報の段落0028〜0070、特開2011−95716号公報の段落0025、特開2010−237589号公報の段落0033〜0052に記載のポリマーを用いることができる。
中でも、成分Bとしては、酸性基を有するアクリル樹脂が好ましく、カルボキシ基を有するアクリル樹脂がより好ましく、メタクリル酸を少なくとも共重合した共重合体が更に好ましく、メタクリル酸及びメタクリル酸メチルを少なくとも共重合した共重合体が特に好ましい。
上記酸性基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、及び、フェノール性水酸基等が挙げられるが、カルボキシ基が好ましい。
上記アクリル樹脂としては、(メタ)アクリル酸や(メタ)アクリレート化合物の重合体であれば、特に制限はないが、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリレート化合物由来のモノマー単位を50質量%以上有する樹脂であることが好ましく、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリレート化合物よりなる群から選ばれた2種以上のモノマーの共重合体であることがより好ましい。
成分Bの含有量は、組成物中の全固形分に対して、30〜90質量%であることが好ましく、40〜90質量%であることがより好ましい。
成分Bの重量平均分子量(Mw)は、10,000以上であることが好ましく、10,000〜200,000であることがより好ましく、20,000〜100,000であることが更に好ましく、20,000〜60,000であることが特に好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、成分Cとして、光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
光ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、オキシムエステル化合物、α−アミノアルキルフェノン化合物、及び、α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物等が好ましく挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特開2011−95716号公報に記載の段落0031〜0042に記載の光重合開始剤を用いることができる。例えば、1−(4−(フェニルチオ))−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)(商品名:IRGACUREOXE−01、BASF社製)の他、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン−1−(O−アセチルオキシム)商品名:IRGACUREOXE−02、BASF社製)、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン(商品名:IRGACURE379EG、BASF社製)、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(商品名:IRGACURE907、BASF社製)、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン(商品名:IRGACURE127、BASF社製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン(商品名:IRGACURE369、BASF社製)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(商品名:IRGACURE1173、BASF社製)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名:IRGACURE184、BASF社製)、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名:IRGACURE651、BASF社製)、オキシムエステル系光重合開始剤(商品名:IRGACUREOXE−03、BASF社製)、(商品名:Lunar6、DKSHジャパン(株)製)などを好ましく用いることができる。
成分Cは、1種単独で含有しても、2種以上を含有してもよい。
成分Cの含有量は、組成物中の全固形分に対して、0.1〜10質量%であることが好ましく、0.2〜5質量%であることがより好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、成分Dとして、カルボキシ基を有するモノマーを含有する。成分Dを含有することにより、静摩擦係数が小さく、耐屈曲性に優れるだけでなく、タッチパネル電極との密着性にも優れる保護膜を得ることができる。
成分Dとしては、カルボキシ基を有するエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物であることがより好ましい。
また、成分Dは、カルボキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましく、カルボキシ基を有する3〜12官能エチレン性不飽和化合物であることがより好ましく、カルボキシ基を有する3〜8官能エチレン性不飽和化合物であることが更に好ましい。
成分Dにおけるカルボキシ基の数は、1〜6であることが好ましく、1〜3であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
中でも、成分Dは、2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルコハク酸、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのコハク酸エステル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートのコハク酸エステル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートのフタル酸エステル、又は、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのコハク酸エステル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートのコハク酸エステル、又は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートのフタル酸エステルを含むことが特に好ましい。
成分Dの含有量は、組成物中の全固形分に対して、0.1〜15質量%であることが好ましく、0.2〜10質量%であることがより好ましく、0.5〜5質量%であることが更に好ましく、1〜5質量%であることが特に好ましい。上記範囲であると、密着性により優れる。
成分Dの重量平均分子量は、10,000未満であることが好ましく、また、成分Dの分子量が1,000未満であることがより好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、成分Eとして、溶媒を含有することが好ましい。
溶媒としては、特に制限なく一般的な有機溶媒を使用することができ、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロピルアセテート(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
これらの中でも、メチルエチルケトン、及び/又は、1−メトキシ−2−プロピルアセテートが好ましく挙げられる。
成分Eの含有量は、組成物の全質量に対して、10〜95質量%であることが好ましく、20〜90質量%であることがより好ましく、30〜80質量%であることが更に好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、成分Fとして、その他のモノマーを含有することが好ましい。
成分Fとしては、成分A及び成分D以外のエチレン性不飽和化合物が好ましく挙げられ、成分A及び成分D以外の(メタ)アクリレート化合物がより好ましく挙げられる。
また、成分Fの重量平均分子量は、10,000未満であることが好ましい。
更に、成分Fとしては、多官能エチレン性不飽和化合物を少なくとも含むことが好ましい。
具体的には、特公昭48−41708号公報、特公昭50−6034号公報及び特開昭51−37193号公報に記載されているウレタン(メタ)アクリレート類;特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報及び特公昭52−30490号公報に記載されているポリエステル(メタ)アクリレート類;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシ(メタ)アクリレート類等の多官能(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。中でも、ウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。
ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、組成物中の全固形分に対して、0.1〜20質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましく、2〜8質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、静摩擦係数のより小さい保護膜が得られる。
また、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステルアクリレート、及び、エポキシ(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、500〜8,000であることが好ましく、700〜5,000であることがより好ましく、1,000〜2,000であることが更に好ましい。
また、環状構造を有するエチレン性不飽和化合物は、環状構造を有する(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。
更に、環状構造を有するエチレン性不飽和化合物は、脂環構造を有するエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、脂肪族炭化水素環構造を有するエチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。
環状構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート、及び、水添ビスフェノールFのジ(メタ)アクリレートが好ましく挙げられ、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、及び、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレートより好ましく挙げられ、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレートが更に好ましく挙げられる。
環状構造を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、0.1〜20質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましく、2〜8質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、耐屈曲性により優れる。
成分Fは、ウレタン(メタ)アクリレート及び環状構造を有するエチレン性不飽和化合物を含有することが特に好ましい。
成分Fの含有量は、組成物中の全固形分に対して、0.1〜40質量%であることが好ましく、1〜30質量%であることがより好ましく、2〜20質量%であることが更に好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物は、その他の添加剤を用いてもよい。
その他の添加剤としては、例えば、特許第4502784号公報の段落0017、特開2009−237362号公報の段落0060〜0071に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤、更に、特開2000−310706号公報の段落0058〜0071に記載のその他の添加剤が挙げられる。
その他の添加剤の総含有量は、組成物中の全固形分に対して、0.01〜30質量%であることが好ましく、0.1〜20質量%であることがより好ましく、0.5〜15質量%であることが更に好ましい。
また、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物における成分A〜成分D及び成分Fの総含有量は、組成物中の全固形分に対して、80質量%以上であることが好ましく、85質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが更に好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物の100℃で測定した粘度は、2,000〜50,000Pa・secの領域にあることが好ましい。
ここで、組成物の粘度は、次のようにして測定できる。大気圧及び減圧乾燥により、透明樹脂層用塗布液から溶剤を除去して測定サンプルとし、例えば、測定器として、バイブロン(DD−III型:東洋ボールドウィン(株)製)を使用し、測定開始温度50℃、測定終了温度150℃、昇温速度5℃/分及び振動数1Hz/degの条件で測定し、100℃の測定値を用いることができる。
本発明の転写フィルムは、仮支持体と、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層とを有することを特徴とする。
また、本発明の転写フィルムは、仮支持体及び、感光性透明樹脂層の上に、第二の透明樹脂層を更に有し、第二の透明樹脂層の屈折率が、感光性透明樹脂層の屈折率よりも高いものであることが好ましい。すなわち、仮支持体と、第二の透明樹脂層との間に感光性透明樹脂層が位置する。また、本発明の転写フィルムは、更に他の層を有していてもよい。
上記のような構成とすることにより、透明電極パターンの視認の低減効果を有する透明積層体を形成することができる。いかなる理論に拘泥するものでもないが、透明電極パターン(好ましくは、酸化インジウムスズ(ITO))と上記第二の透明樹脂層の屈折率差、を小さくすることにより、光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、視認性を改善することができる。
以下、本発明の転写フィルムの好ましい態様について説明する。なお、本発明の転写フィルムは、タッチパネル電極保護膜形成用であることが好ましく、静電容量型入力装置の透明絶縁層用又は透明保護層用であることがより好ましい。
本発明の転写フィルムは、仮支持体を有する。
上記仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下又は、加圧及び加熱下で著しい変形、収縮若しくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、上記仮支持体には、特開2005−221726号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
本発明の転写フィルムは、感光性透明樹脂層を有する。感光性透明樹脂層は、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる層である。
感光性透明樹脂層は、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物を塗布することにより形成されることが好ましい。
本発明に用いられる感光性透明樹脂層の転写フィルム上の膜厚は、1μm以上であることが好ましく、1〜20μmがより好ましく、1〜15μmが更に好ましく、3〜12μmが特に好ましい。感光性透明樹脂層の膜厚が上記範囲であると、本発明の樹脂フィルムを用いて保護層を製造した場合、保護性に優れる保護層が得られるため好ましい。
本発明の転写フィルムは、第二の透明樹脂層を有することが好ましい。第二の透明樹脂層は、屈折率が感光性透明樹脂層よりも高い層であり、光硬化性を有する樹脂組成物よりなる層であることが好ましい。
なお、第二の透明樹脂層が硬化性を有する場合、第二の透明樹脂層の屈折率とは、硬化後の透明樹脂膜について測定した屈折率の値である。
なお、本明細書中では、第二の透明樹脂層には、硬化前の層と光及び/又は熱により硬化させた後の層の両方が含まれるものとする。
本発明の転写フィルムに用いられる、第二の透明樹脂層の膜厚は、500nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましい。また、第二の透明樹脂層の膜厚は、55nm以上であることが好ましく、60nm以上であることがより好ましく、70nm以上であることが更に好ましい。
第二の透明樹脂層の膜厚が上記範囲であると、本発明の樹脂フィルムを用いて保護層を製造した場合、透明電極パターン隠蔽性に優れる保護層が得られるため好ましい。
上記第二の透明樹脂層は、バインダーポリマー、重合性化合物、重合開始剤等の成分を溶媒に溶解させた樹脂組成物(以下、「第二の樹脂組成物」ともいう。)を塗布することにより形成されることが好ましい。
また、第二の透明樹脂層は、非水溶性を示す層でもよいが、水溶性を示す層であることが好ましい。
上記の態様によれば、仮支持体上に感光性透明樹脂層を積層した後に感光性透明樹脂層を硬化させることなく第二の透明樹脂層を積層しても、層分画が良好となり、透明電極パターン視認性を更に改善することができる。また、転写フィルムから各層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィにより所望のパターンに現像できる。なお、感光性透明樹脂層と第二の透明樹脂層の層分画が悪いと、屈折率調整の効果が不十分となりやすく、透明電極パターン視認性の改善が不十分となりやすい。
水溶性を示す層とは、25℃の水に浸漬した場合に単位膜厚あたり10分/μm以内の浸漬時間で完全に溶解及び/又は分散する層をいう。
また、非水溶性を示す層とは、25℃の水に浸漬した場合に単位膜厚あたり10分/μm以内の浸漬時間で完全には溶解及び/又は分散しない層をいう。
なお、本発明において、透明樹脂層が硬化性を有する場合、上記の水への浸漬による測定は、硬化前の透明樹脂層を用いて行う。
第二の透明樹脂層が非水溶性を示す層の場合には、第二の樹脂組成物は一般的な有機溶媒を含有することができ、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
水系溶媒としては、水、水及びメタノールの混合溶剤、水及びエタノールの混合溶剤が好ましく、乾燥及び塗布性の観点から水及びメタノールの混合溶剤が好ましい。
第二の樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れた樹脂組成物が得られる。
上記金属酸化物粒子は、金属酸化物粒子を除いた材料からなる樹脂組成物の屈折率よりも屈折率が高いものであることが好ましい。具体的には、第二の透明樹脂層に用いられる金属酸化物粒子としては、400〜750nmの波長を有する光における屈折率が1.70以上の粒子がより好ましく、屈折率が1.80以上の粒子が更に好ましく、1.90以上の粒子が特に好ましい。
ここで、400〜750nmの波長を有する光における屈折率が1.50以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が1.50以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が1.50以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム/スズ酸化物、アンチモン/スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズが特に好ましく、化学的及び物理的に安定で微粒子分散液の入手が容易であることから酸化ジルコニウムが最も好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
本発明の転写フィルムは、第二の透明樹脂層が、ZrO2粒子及びTiO2粒子のうち少なくとも一方を有することが、第二の透明樹脂層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ZrO2粒子を有することがより好ましい。
第二の樹脂組成物は、バインダーポリマーを含有することが好ましい。上記バインダーポリマーとしては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、前述のアルカリ可溶性樹脂としては、特開2011−95716号公報の段落0025、特開2010−237589号公報の段落0033〜0052に記載のポリマーを用いることができる。中でも酸性基を有するアクリルポリマーが好ましい。
また、第二の透明樹脂層が水溶性を示す層である場合、バインダーポリマーとして上記水系溶媒に対して溶解性を有するポリマーが用いられる。
水系溶媒に対して溶解性を有するポリマーとしては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択できる。例えば、前述した酸性基を有するアクリルポリマーや、特開昭46−2121号公報や特公昭56−40824号公報に記載の、ポリビニルエーテル/無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、水溶性ポリビニルブチラールや水溶性ポリビニルアセタールなどのポリビニルアルコール誘導体、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂等が挙げられる。
感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層に用いられる樹脂組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。
上記重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物が好ましい。
感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層に用いられる重合性化合物としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート及びフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドにプロピレンオキシドを付加した後(メタ)アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層が水溶性を示す層である場合に用いられる重合性化合物としては、前述の重合性化合物の他に水酸基を有するモノマー、分子内にエチレンオキサイドやポリプロピレンオキサイド、及びリン酸基を有するモノマーもまた挙げられる。
第二の透明樹脂層に用いられる樹脂組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。
第二の透明樹脂層に用いられる上記重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
第二の透明樹脂層が水溶性の層である場合、水系溶媒に対して溶解性を有する光重合性開始剤を用いることが好ましく、IRGACURE2959(BASF社製)や、下記式2で表される重合開始剤が好ましく例示される。
また第二の透明樹脂層の樹脂組成物が水系溶媒を含有する場合、第二の透明樹脂層に用いられる樹脂組成物は、ポリマーラテックスを含んでもよい。ここでいうポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学(高分子刊行会発行(昭和48年))」に記載されている。
これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ−ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用することがより好ましく、更にポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
ポリマーの重量平均分子量は1万以上が好ましく、更に好ましくは2万〜10万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。
本発明に用いることができるポリマーラテックスとしては、例えば、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン(商品名:ケミパールS120、三井化学(株)製、固形分27%)(商品名:ケミパールS100、三井化学(株)製、固形分27%)(商品名:ケミパールS111、三井化学(株)製、固形分27%)(商品名:ケミパールS200、三井化学(株)製。固形分27%)(商品名:ケミパールS300、三井化学(株)製。固形分35%)(商品名:ケミパールS650、三井化学(株)製、固形分27%)(商品名:ケミパールS75N、三井化学(株)製、固形分24%)や、ポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン(商品名:ハイドランWLS−201、DIC(株)製、固形分35%、Tg:−50℃)(商品名:ハイドランWLS−202、DIC(株)製、固形分35%、Tg:−50℃)(商品名:ハイドランWLS−221、DIC(株)製、固形分35%、Tg:−30℃)(商品名:ハイドランWLS−210、DIC(株)製、固形分35%、Tg:−15℃)(商品名:ハイドランWLS−213、DIC(株)製、固形分35%、Tg:−15℃)(商品名:ハイドランWLI−602、DIC(株)製、固形分39.5%、Tg:−50℃)(商品名:ハイドランWLI−611、DIC(株)製、固形分39.5%、Tg:−15℃)、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム(商品名:ジュリマーAT−210、日本純薬(株)製)、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム(商品名:ジュリマーET−410、日本純薬(株)製)、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム(商品名:ジュリマーAT−510、日本純薬(株)製)、ポリアクリル酸(商品名:ジュリマーAC−10L、日本純薬(株)製)をアンモニア中和し、乳化したものを挙げることができる。
第二の透明樹脂層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落0017、特開2009−237362号公報の段落0060〜0071に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤、更に、特開2000−310706号公報の段落0058〜0071に記載のその他の添加剤が挙げられる。
本発明の転写フィルムは、感光性透明樹脂層の上に隣接して、保護フィルムを有していることが好ましい。
特開2006−259138号公報の段落0083〜0087及び0093に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。
上記保護フィルムは、上記素材により形成されたシートを、上記感光性透明樹脂層等が形成されたフィルム上に圧着することにより形成することができる。
上記圧着方法としては、特に制限なく、公知の方法を用いることができる。
本発明の転写フィルムは目的に応じてその他の層を有していてもよい。その他の層としては、例えば、仮支持体と感光性透明樹脂層との間に設けられる熱可塑性樹脂層、感光性透明樹脂層と熱可塑性樹脂層との間に設けられる中間層、転写後の感光性透明樹脂層の表面に物理的耐久性を与えるために感光性透明樹脂層と仮支持体との間に設けられるハードコート層や転写時の仮支持体の剥離を容易にするために仮支持体と感光性透明樹脂層との間に設けられる剥離層などが挙げられる。
本発明の転写フィルムは、上記仮支持体と上記感光性透明樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。上記熱可塑性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、感光性透明樹脂層及び第二の硬化性透明樹脂層を転写して透明積層体を形成すると、転写して形成した各要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生しにくくなり、優れた表示特性を得ることができる。
上記熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸(既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。)を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
上記熱可塑性樹脂層形成に用いられる組成物の100℃で測定した粘度は、1,000〜10,000Pa・secの領域にあることが好ましく、更に本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物の100℃で測定した粘度が2,000〜50,000Pa・secの領域にあり、更に次式Aを満たすことがより好ましい。
式A:熱可塑性樹脂層の粘度<感光性透明樹脂層の粘度
本発明の転写フィルムは、上記感光性透明樹脂層と上記熱可塑性樹脂層との間に、更に中間層を含むことが、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を防止する観点から、好ましい。中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜が好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し得、生産性が向上する。
本発明の転写フィルムは、特開2006−259138号公報の段落0094〜0098に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。中でも、本発明の転写フィルムは、以下の本発明の転写フィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。
本発明の転写フィルムの製造方法における仮支持体、感光性透明樹脂層、及び、第二の透明樹脂層の好ましい態様は、上述の本発明の転写フィルムにおけるこれらの好ましい態様と同様である。
本発明の転写フィルムの製造方法は、工程Aとして、仮支持体の上に感光性透明樹脂層を形成する工程を含む。
感光性透明樹脂層の形成方法としては、重合性化合物、光重合開始剤、塗布溶媒を含む本発明の転写フィルムのタッチパネル電極保護膜形成用組成物を、仮支持体上に塗布して形成されることが好ましい。
タッチパネル電極保護膜形成用組成物の塗布方法としては、特に限定なく公知の方法を使用することができるが、例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成する方法が好ましく挙げられる。
本発明の転写フィルムの製造方法は、工程Bとして、仮支持体上に作製された感光性透明樹脂層の上に、第二の透明樹脂層を形成する工程を更に有することが好ましい。
第二の透明樹脂層の形成方法としては、金属酸化物を含み、乾燥後の屈折率が1.60である第二の樹脂組成物を、仮支持体上に塗布して形成されることが好ましい。
上記樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定なく公知の方法を使用することができるが、例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成する方法が好ましく挙げられる。
工程Bを有する場合、上記工程Aによる感光性透明樹脂層上に第二の透明樹脂層が形成されることになる。
このような構成により、感光性透明樹脂層を積層した後に硬化させることなく第二の透明樹脂層を積層しても層分画が良好となり、両者の屈折率が保たれ意図した通りに透明電極パターン視認性を改善する(視認されにくくする)ことができる。そしてこの場合、感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層が未硬化の状態で転写フィルムが作製されるため、各層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンを作製することが可能となる。
逆に上記のような構成によらず感光性透明樹脂層上に第二の透明樹脂層を積層した場合には両者が混合してしまい意図した屈折率が保たれないため、透明電極パターン視認性の改善効果が得られない。この場合に第二の透明樹脂層を積層する前に感光性透明樹脂層を硬化した場合には両層の層分画は容易になるが、こうして作製した転写フィルムは既に感光性透明樹脂層が硬化されているため、フォトリソグラフィによるパターニングを行うことができない。
本発明の透明積層体は、タッチパネル用電極(以下、「透明電極パターン」ともいう。)と、上記タッチパネル用電極上に配置された第二の透明樹脂層と、第二の透明樹脂層上に配置された感光性透明樹脂層と、を有し、感光性透明樹脂層が本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物を硬化した層であり、第二の透明樹脂層の屈折率が、感光性透明樹脂層の屈折率よりも高いことを特徴とする。
上記の態様によれば、上記透明電極パターンの視認性を低減することができる。
本発明の透明積層体における第二の透明樹脂層、及び、感光性透明樹脂層の好ましい態様は、上述の本発明の転写フィルムにおけるこれらの好ましい態様と同様である。
本発明の透明積層体は、上記屈折率1.60〜1.78であり膜厚が55〜110nmの透明膜の上記透明電極パターンが形成された側と反対側に、透明基板を更に有することが好ましい。上記透明基板は、透明フィルム基板であることが好ましい。この場合、上記透明膜が、上記透明電極パターンと上記透明フィルム基板の間に配置されることが好ましい。
また、本発明の透明積層体は、上記透明電極パターンが、透明フィルム基板上に形成された透明電極パターンであることが好ましい。
図10では、透明基板1、屈折率1.60〜1.78であり膜厚が55〜110nmの透明膜11を有し、更に透明電極パターン4、後述するパッド部分3a、金属配線部9、第二の透明樹脂層12及び感光性透明樹脂層7がこの順に積層されている。
また、金属配線部上の一部の領域14において、第二の透明樹脂層12及び感光性透明樹脂層7はパターニングにより除去されている。
図12では、透明基板1、屈折率1.60〜1.78であり膜厚が55〜110nmの透明膜11を有し、更に透明電極パターン4、第二の透明樹脂層12及び感光性透明樹脂層7がこの順に積層された領域21を面内に有する。
面内とは、透明積層体の透明基板と平行な面に対して略平行方向を意味する。透明電極パターン4、第二の透明樹脂層12及び感光性透明樹脂層7がこの順に積層された領域を面内に含むとは、透明電極パターン4、第二の透明樹脂層12及び感光性透明樹脂層7がこの順に積層された領域についての透明積層体の透明基板と平行な面への正射影が、透明積層体の透明基板と平行な面内に存在することを意味する。
ここで、本発明の透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する2つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンとして設けられることがある(例えば、図4参照)。例えば図4の構成では、本発明の透明積層体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン4であっても、第一の透明電極パターン3のパッド部分3aであってもよい。言い換えると、以下の本発明の透明積層体の説明では、透明電極パターンの符号を「4」で代表して表すことがあるが、本発明の透明積層体における透明電極パターンは、本発明の静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン4への使用に限定されるものではなく、例えば第一の透明電極パターン3のパッド部分3aとして使用してもよい。
図12には、本発明の透明積層体が非パターン領域22を含む態様が示されている。
本発明の透明積層体は、上記透明電極パターンが形成されていない非パターン領域22の少なくとも一部に、上記透明基板、上記透明膜及び上記感光性透明樹脂層がこの順に積層された領域を面内に含むことが好ましい。
本発明の透明積層体は、上記透明基板、上記透明膜及び上記感光性透明樹脂層がこの順に積層された領域において、上記透明膜及び上記感光性透明樹脂層が互いに隣接していることが好ましい。
但し、上記非パターン領域22のその他の領域には、本発明の趣旨に反しない限りにおいてその他の部材を任意の位置に配置してもよく、例えば本発明の透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、マスク層2や、絶縁層5や金属配線部6などを積層することができる。
図12には、上記透明基板1の上に隣接して上記透明膜11が積層している態様が示されている。
但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、上記透明基板及び上記透明膜の間に、第三の透明膜が積層されていてもよい。例えば、上記透明基板及び上記透明膜の間に、屈折率1.5〜1.52の第三の透明膜(図12には不図示)を含むことが好ましい。
図12には、上記透明膜11の一部の領域上に隣接して上記透明電極パターン4が積層している態様が示されている。
図12に示すように、上記透明電極パターン4の端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、上記透明基板側の面の方が、上記透明基板と反対側の面よりも広いようなテーパー形状を有していてもよい。
ここで、上記透明電極パターンの端部がテーパー形状であるときの透明電極パターンの端部の角度(以下、テーパー角ともいう)は、30°以下であることが好ましく、0.1〜15°であることがより好ましく、0.5〜5°であることが特に好ましい。
本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、上記透明電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
図11に透明電極パターンの端部がテーパー形状である場合の一例を示す。図11におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が800nmであり、高さ(底面と略平行な上底部分における膜厚)が40nmであり、このときのテーパー角αは約3°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、10〜3,000nmであることが好ましく、100〜1,500nmであることがより好ましく、300〜1,000nmであることが特に好ましい。なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、透明電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。
図12には、上記透明電極パターン、上記第二の透明樹脂層及び感光性透明樹脂層がこの順に積層された領域21において、上記透明電極パターン、上記感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層が互いに隣接している態様が示されている。
ここで、「連続して」とは、上記透明膜及び上記感光性透明樹脂層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、上記透明膜及び上記感光性透明樹脂層は、透明電極パターンが形成される領域上においては、開口部を有していないことが、透明電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
また、上記透明膜及び上記感光性透明樹脂層によって、上記透明電極パターン及び上記非パターン領域22が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における上記「他の層」としては、後述する本発明の静電容量型入力装置に含まれる絶縁層5や、後述する本発明の静電容量型入力装置のように透明電極パターンが2層以上含まれる場合は2層目の透明電極パターンなどを挙げることができる。
図12には、上記透明膜11上の透明電極パターン4が積層していない領域と、透明電極パターン4との上にまたがって、両者とそれぞれ隣接して、上記第二の透明樹脂層12が積層している態様が示されている。
また、透明電極パターン4の端部がテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って(テーパー角と同じ傾きで)上記第二の透明樹脂層12が積層していることが好ましい。
本発明の透明積層体は、透明電極パターンを含む。
上記透明電極パターンは、後述する透明基板上に形成された透明電極パターンであることが好ましく、透明フィルム基板上に形成された透明電極パターンであることがより好ましい。
上記透明電極パターンの屈折率は1.75〜2.1であることが好ましい。
上記透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。Znの酸化物(IZO)又はこれらを主成分とする透明導電膜は、ITO膜よりもエッチング速度が大きいという利点があるために、用途に応じて注目を集めている。このような導電膜としては、ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属膜;SiO2等の金属酸化膜などが挙げられる。
上記透明電極パターンの膜厚は10〜200nmであることが好ましい。また、焼成により、アモルファスのITO膜を多結晶のITO膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。
その他、ITO等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第4506785号公報の段落0014〜0016等を参考にすることができる。その中でも、上記透明電極パターンは、ITO膜又はIZO膜であることが好ましく、特に、ITO膜であることが好ましい。
本発明の透明積層体における、上記透明電極パターンは、屈折率が1.75〜2.1のITO膜であることが好ましい。
本発明の透明積層体は、上記透明電極パターンと導通する形で金属配線部を含むことが好ましい。
上記金属配線部としては、例えば銅、金、銀、アルミニウムあるいは前述の金属を含む合金が用いられる。導電性とコストのバランスを考えると銅又は銅を含む合金を用いた配線が好ましい。
上記金属配線部と透明電極パターンを導通する方法については、特に制限はなく、電気的に接続されていればよい。
感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層はパターニングされていることが好ましく、感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層が共にパターニングされていることがより好ましく、上記金属配線部上の領域において感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層が共にパターニングされていることが更に好ましい。
層がパターニングされているとは、層の一部が意図して取り除かれることにより面内方向において層が存在する領域と存在しない領域が作られていることをいい、パターニングの方法としては、後述の現像による方法が好ましく挙げられる。
上記態様によれば、上記金属配線部と更に別のフレキシブル配線との接続が容易となる。上記態様の透明積層体の一例が、図10に示す態様である。
本発明において、保護膜の耐湿熱性及び耐汗性が優れていることにより、上記金属配線部の腐食を抑制することが可能となる。
本発明の透明積層体は、透明基板を含むことが好ましい。
上記透明基板としては、透明ガラス基板であっても、透明フィルム基板であってもよいが、屈折率が1.50〜1.55の透明フィルム基板であることが好ましい。また、上記透明基板の屈折率は1.50〜1.52であることが好ましく、屈折率が1.50〜1.52の透明フィルム基板であることが好ましい。
上記透明基板が、透明ガラス基板(ガラスの透光性基板ともいわれる。)の場合、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、上記透明基板としては、特開2010−86684号公報、特開2010−152809号公報及び特開2010−257492号公報に用いられている材料を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本明細書中に組み込まれる。
上記透明基板が、透明フィルム基板の場合、透明フィルム基板は透明樹脂フィルムであることが好ましい。透明樹脂フィルムを形成する樹脂材料としては、例えば、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、トリアセテートセルロース(TAC)系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。それらの中でも、汎用性などの観点からトリアセテートセルロース(TAC)系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)系樹脂、及びシクロオレフィン系樹脂が好ましい。透明樹脂フィルムの厚みは、2〜200μmの範囲内であることが好ましく、2〜100μmの範囲内であることがより好ましい。厚みが2μm以上であると、フィルム基板の機械的強度が十分であり、ロールのハンドリング操作が容易になる。一方、厚みが200μm以下であると、曲げ特性が向上し、ロールのハンドリング操作が容易になる。
本発明の透明積層体は、上記透明電極パターンと上記透明フィルム基板の間に界面反射低減用の透明膜を更に有することが好ましい。上記透明膜の屈折率は、1.60〜1.78であることが好ましく、1.65〜1.74であることがより好ましい。また、上記透明膜の膜厚は、55〜110nmであることが好ましく、60〜110nmであることがより好ましく、70〜110nmであることが更に好ましい。
ここで、上記透明膜は、単層構造であっても、2層以上の積層構造であってもよい。上記透明膜が2層以上の積層構造である場合、上記透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を、上記透明膜の膜厚とは、全層の合計膜厚を、それぞれ意味する。このような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、上記透明膜の材料は特に制限されない。
本発明の透明積層体は、上記透明膜が無機膜であってもよい。
上記無機膜としては、特開2010−86684号公報、特開2010−152809号公報及び特開2010−257492号公報などに用いられている無機膜を用いることができ、これらの文献に記載されている低屈折率材料と高屈折率材料の積層構造の無機膜や、低屈折率材料と高屈折率材料の混合膜の無機膜を用いることが屈折率を制御する観点から好ましい。上記低屈折率材料と上記高屈折率材料は、上記の特開2010−86684号公報、特開2010−152809号公報及び特開2010−257492号公報に用いられている材料を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本明細書中に組み込まれる。
上記無機膜は、SiO2とNb2O5の混合膜であってもよく、その場合はスパッタによって形成されたSiO2とNb2O5の混合膜であることがより好ましい。
本発明の透明積層体は、追加の透明膜を更に含んでもよい。
追加の透明膜は、透明基板と透明膜との間に含まれることが好ましい。
上記追加の透明膜の屈折率は、上記透明基板の屈折率に近付けることにより、透明電極パターンの視認性を改善する観点から、1.50〜1.55であることが好ましく、1.50〜1.52であることがより好ましい。
上記透明基板と透明電極パターンの間には、上述の屈折率1.60〜1.78であり、かつ膜厚が55〜110nmの透明膜の代わりに、ハードコート層を導入してもよい。ハードコート層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスとして、又はウェット法(塗工法)などにより形成できる。ウェット法(塗工法)としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
ハードコート層は、易滑性又は、硬度向上の観点で導入され、例えば、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物や、多官能(メタ)アクリレート等を有する硬化性組成物を、熱、紫外線(UV)や電離放射線によって硬化させた硬化物により形成される。また、コロイダルシリカ等の無機微粒子を添加してもよく、ハードコート層の屈折率は、1.45〜1.55程度に調整される。
上記透明電極パターンは、透明基板の片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。透明基板の両面に電極パターンを形成する場合、透明基板と透明電極パターンの間に形成されるハードコート層及び光学調整層は、厚みや層構成が、両面対称になるように形成されても、非対象に形成されてもよい。透明電極パターンが両面に形成されている場合、本発明の転写フィルムに含まれる感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層は、両面に転写することが好ましい。
すなわち、本発明の積層体は、透明フィルム基板の両面に、それぞれ上記透明電極パターン、感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層を有することが好ましい。この場合の透明積層体の構成の一例が、後述する図1に示した態様である。
本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法の一つの態様は、タッチパネル用電極を有する基材上に、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層を設ける配設工程と、感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程と、露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程と、をこの順で含むことを特徴とする。
また、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法の別の態様は、タッチパネル用電極を有する基材上に、本発明の転写フィルムを用いて感光性透明樹脂層を設ける配設工程と、感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程と、露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程と、をこの順で含むことを特徴とする。
本発明の透明積層体が、更に第二の透明樹脂層を有する場合、感光性透明樹脂層及び上記第二の透明樹脂層を一括して転写することができ、透明電極パターンが視認される問題がない透明積層体を容易に、生産性よく製造することができる。
また、上記タッチパネル用電極は、透明フィルム基板上に形成された透明電極パターンであることが好ましい。
本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層を設ける配設工程を含むことが好ましい。
配設工程において、感光性透明樹脂層は、本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物を、タッチパネル電極上に塗布することにより形成されることが好ましい。
本発明のタッチパネル電極保護膜形成用組成物の塗布方法としては、特に限定なく公知の方法を使用することができるが、例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成する方法が好ましく挙げられる。
また、配設工程において、更に第二の樹脂組成物をタッチパネル電極上に塗布することにより、第二の透明樹脂層を形成することが好ましい。
第二の樹脂組成物は、転写フィルムにおいて説明した第二の樹脂組成物と同義であり、好ましい範囲も同様である。
第二の樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定なく公知の方法を使用することができるが、例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成する方法が好ましく挙げられる。
第二の透明樹脂層を形成する場合、感光性透明樹脂層は、第二の透明樹脂層上に塗布される。
本発明の転写フィルムを用いて感光性透明樹脂層を設ける配設工程は、本発明の転写フィルムの感光性透明樹脂層を透明電極パターン上にラミネート(貼り合わせ)する工程である。この際、転写フィルムが前述の保護フィルムを有する場合にはラミネート前に保護フィルムを取り除いておくことが好ましい。
また、上記転写フィルムは、第二の透明樹脂層を含むことが好ましい。
感光性透明樹脂層(及び第二の透明樹脂層)の透明電極パターン表面へのラミネートは、感光性透明樹脂層(及び第二の透明樹脂層)を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
配設工程において、本発明の転写フィルムを用いて感光性透明樹脂層を設ける場合、本発明のタッチパネル電極の保護膜の形成方法は、配設工程後に仮支持体を剥離する剥離工程を更に含むことが好ましい。
仮支持体の剥離方法としては、特に制限はなく、公知の方法が使用できる。また、剥離工程は後述する露光工程の前に行ってもよいし、露光工程と現像工程の間に行ってもよい。
また、本発明の透明積層体の製造方法は、配設工程前に、配設工程において形成される各層の密着性を高めるために、あらかじめ基板(透明フィルム基板又は前面板)の非接触面に表面処理を施す透明基板の表面処理工程を含むことができる。上記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理(シランカップリング処理)を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えば、シランカップリング液(N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.3質量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学工業(株)製)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基板予備加熱でも反応を促進できる。
透明基板の好ましい態様は、本発明の透明積層体における透明基板の好ましい態様と同様である。
本発明の透明積層体の製造方法は、透明電極パターンの製膜工程を含んでもよい。
上記透明電極パターンは、後述する本発明の静電容量型入力装置の説明における、第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4及び金属配線部6の形成方法などを用いて、透明基板上、又は、上記屈折率1.60〜1.78であり、かつ膜厚が55〜110nmの透明膜上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。透明電極パターンの製膜工程は配設工程よりも前に行われることが好ましい。
本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程を更に含むことが好ましい。
上記露光工程の例としては、特開2006−23696号公報の段落0035〜0051に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
なお、必要に応じて、感光性透明樹脂層以外の層に対して露光工程及び現像工程を行ってもよい。
配設工程において、第二の透明樹脂層が形成されている場合、感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層を露光する工程であることが好ましい。
具体的には、上記透明電極パターン上に形成された感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後上記マスクを介してマスク上方から感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層を露光する方法や、マスクを用いずに感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層を全面露光する方法が挙げられる。
ここで、上記露光の光源としては、感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層を硬化しうる波長域の光(例えば、365nm、405nmなど)を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、好ましくは5〜200mJ/cm2であり、より好ましくは10〜100mJ/cm2である。
本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程を更に含むことが好ましい。
配設工程において、第二の透明樹脂層が形成されている場合、露光された感光性透明樹脂層及び/又は第二の透明樹脂層を現像する工程であることが好ましい。
上記現像工程は、パターン露光された上記感光性透明樹脂層及び上記第二の透明樹脂層を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程ではなく、全面露光後に熱可塑性樹脂層や中間層を除去するのみで感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層自体はパターンを形成しない場合も含む。
上記現像は、現像液を用いて行うことができる。
上記現像液としては、特に制約はなく、特開平5−72724号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。
なお、現像液は感光性透明樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7〜13の化合物を0.05〜5mol/Lの濃度で含むものが好ましい。
一方、上記感光性透明樹脂層及び上記第二の透明樹脂層自体はパターンを形成しない場合の現像液は上記非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7〜13の化合物を0.05〜5mol/Lの濃度で含むものが好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。
上記有機溶剤の濃度は、0.1〜30質量%が好ましい。
また、上記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。
界面活性剤の濃度は、0.01〜10質量%が好ましい。
上記透明積層体の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。上記感光性透明樹脂層(及び上記第二の透明樹脂層)が、熱硬化性を有する透明樹脂層である場合は、現像工程後に、ポストベーク工程を行うことが好ましい。
本発明の透明積層体の製造方法は、透明膜の製膜工程を含むことが好ましい。
透明膜の製膜工程においては、上記透明電極パターンの上記第二の透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が1.60〜1.78であり、かつ膜厚が55〜110nmの透明膜を更に有する場合、上記透明膜は、上記透明電極パターンの上に直接、又は、上記追加の透明膜などの他の層を介して、製膜される。
上記透明膜の製膜方法としては特に制限はないが、転写又はスパッタによって製膜することが好ましい。
その中でも、透明膜の製膜工程は、仮支持体上に形成された透明硬化性樹脂膜を、上記透明基板上に転写して製膜する透明膜の製膜工程であることが好ましく、転写後に硬化して製膜する透明膜の製膜工程であることがより好ましい。転写及び硬化の方法としては、後述する本発明の静電容量型入力装置の説明における感光性フィルムを用い、本発明の透明積層体の製造方法における上記感光性透明樹脂層及び上記第二の透明樹脂層を転写する方法と同様に転写、露光、現像及びその他の工程を行う方法を挙げることができる。その場合は、感光性フィルム中の光硬化性樹脂層に上記金属酸化物微粒子を分散させることにより、上述の範囲に上記透明膜の屈折率を調整することが好ましい。
スパッタの方法としては、特開2010−86684号公報、特開2010−152809号公報及び特開2010−257492号公報に用いられている方法を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本明細書中に組み込まれる。
本発明の透明積層体の製造方法は、追加の透明膜の製膜工程を含むことが好ましい。
上記追加の透明膜の製膜工程は、透明膜の製膜工程と同様の工程である。
本発明のタッチパネル用電極の保護膜は、本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法により作製されることを特徴とする。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の透明積層体、又は、本発明のタッチパネル用電極の保護膜を含むことを特徴とする。
本発明の静電容量型入力装置は、少なくとも一部が露光及び現像された感光性透明樹脂層(及び第二の透明樹脂層)を有することが好ましい。本発明の静電容量型入力装置は、引き回し配線の端末部で他の配線部材(フレキシブルプリント基板等)と接続する必要があるため、引き回し配線の端末部が感光性透明樹脂層(及び第二の透明樹脂層)に覆われていないことが好ましい。
引き回し配線の端末部31上の感光性透明樹脂層(及び第二の透明樹脂層)はパターニング工程(露光工程及び現像工程)を経て除去され、引き回し配線の端末部31が露出している。
具体的な露光、現像の態様を図15及び図16に示した。図15は、感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層を有する本発明の転写フィルム30を、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態を示す。フォトリソグラフィを利用する場合、すなわち露光により硬化する場合は、図16に示した形状の感光性透明樹脂層と第二の透明樹脂層の硬化部(露光部)33を、マスクを用いてパターン露光及び未露光部の現像をすることにより、得ることができる。具体的には、図16では、感光性透明樹脂層と第二の透明樹脂層の未硬化部として引き回し配線の端末部に対応する開口部34と、静電容量型入力装置の枠部の輪郭の外側にはみ出していた感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層を有する本発明の転写フィルムの端部とが取り除かれた、引き回し配線の端末部(取出配線部)を覆わないための感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層の硬化部(所望のパターン)が得られる。
これにより、他の配線部材を、引き回し配線の端末部31に直接つなぐことができ、これにより、センサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
以下、本発明の静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
(3)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(6)上記第一の透明電極パターンと導通する形の金属配線部
(7)上記(3)及び(6)の要素の全て又は一部を覆うように形成された第二の透明樹脂層
(8)上記(7)の要素を覆うように形成された感光性透明樹脂層
ここで、上記(8)感光性透明樹脂層が、本発明の透明積層体における上記感光性透明樹脂層に相当する。また、(8)感光性透明樹脂層は、(6)金属配線部上にして形成されていることが好ましく、パターニングにより、金属配線部上の領域において、一部又は全部が除去されていることが好ましい。
また、上記(7)第二の透明樹脂層が、本発明の透明積層体における上記第二の透明樹脂層に相当する。なお、上記感光性透明樹脂層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。
(4)上記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、上記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
(5)上記第一の透明電極パターンと上記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
本発明の静電容量型入力装置は、上記(4)第二の電極パターンが透明電極パターンであることが好ましい。
上記(3)第一の透明電極パターンと(4)第二の電極パターンのうち、透明であるものが本発明の透明積層体における透明電極パターンに該当する。なお、いずれもが透明である場合は、いずれもが本発明の透明積層体における透明電極パターンに該当する。
上記(1)マスク層及び/又は加飾層が存在する場合、(1)マスク層及び/又は加飾層は、上記(2)透明膜と上記透明基板の間、上記(3)第一の透明電極パターンと上記透明基板の間、上記(4)第二の電極パターンと上記透明基板の間、又は、上記(6)金属配線部と上記透明基板の間に有することが好ましい。上記(1)マスク層及び/又は加飾層は、上記透明基板に隣接して設けられることがより好ましい。
なお、上記透明基板が透明フィルム基板である場合、上記(1)マスク層及び/又は加飾層は、更に透明基板の視認側に配置されるカバーガラスと一体化されることが好ましい。このような態様の場合、本発明の透明積層体は、上記(1)マスク層及び/又は加飾層を有さないことが、本発明の転写フィルムから上記第二の透明樹脂層及び上記感光性透明樹脂層を転写するときに、気泡混入の原因等となる段差を少なくできる観点から好ましい。
まず、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。図1は、本発明の透明積層体又は静電容量型入力装置の好ましい構成の一例であって、透明電極パターンが透明基板の両側に一層ずつ設けられた静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。図1において静電容量型入力装置10は、透明基板(透明フィルム基板)1と、透明基板1の両面に対称にそれぞれ設けられた、屈折率1.60〜1.78であり膜厚が55〜110nmの透明膜11と、透明電極パターン4と、金属配線部6と、第二の透明樹脂層12と、感光性透明樹脂層7と、から構成されている態様が示されている。本発明の透明積層体又は静電容量型入力装置は図1の構成に限定されるものではなく、透明基板1の一方の面のみに透明膜11と、透明電極パターン4と、金属配線部6と、第二の透明樹脂層12と、感光性透明樹脂層7と、が設けられた態様も好ましい。
また、後述する図4におけるX−X’断面を表した図2は、透明基板の片側に透明電極パターンとして行方向と列方向の略直交する2つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンが設けられた静電容量型入力装置の一例であって、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成の一例を示す断面図である。図2において静電容量型入力装置10は、透明基板1と、屈折率1.60〜1.78であり膜厚が55〜110nmの透明膜11と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、第二の透明樹脂層12と、感光性透明樹脂層7と、から構成されている態様が示されている。
本発明の静電容量型入力装置10には、図3に示すように、透明基板1の一部の領域(図3においては入力面以外の領域)を覆うようにマスク層2が設けられていてもよい。更に、透明基板1には、図3に示すように一部に開口部8を設けることができる。開口部8には、押圧によるメカニカルなスイッチを設置することができる。
また、図4における第一の透明電極パターン3や第二の透明電極パターン4や後述する金属配線部6が形成されていない領域が、本発明の透明積層体における非パターン領域22に相当する。
本発明の静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、図5〜図9の態様を挙げることができる。図5は、開口部8が形成された強化処理ガラス11の一例を示す上面図である。図6は、マスク層2が形成された透明基板の一例を示す上面図である。図7は、第一の透明電極パターン3が形成された透明基板の一例を示す上面図である。図8は、第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4が形成された透明基板の一例を示す上面図である。図9は、感光性透明樹脂層及び第二の透明電極パターンとは金属配線部6が形成された透明基板の一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
本発明の静電容量型入力装置を製造するときに好ましく用いられる、本発明の転写フィルム以外の上記感光性フィルムについて説明する。上記感光性フィルムは、仮支持体と光硬化性樹脂層を有し、仮支持体と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。上記熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、マスク層等を形成すると、光硬化性樹脂層を転写して形成した要素に気泡が発生しにくくなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生しにくくなり、優れた表示特性を得ることができる。
上記感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
上記感光性フィルムにおける上記仮支持体としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。上記感光性フィルムに用いられる上記熱可塑性樹脂層としては、特開2014−10814号公報の段落0056〜0060に記載のものを用いることができる。なお、上記熱可塑性樹脂層とあわせて、公知の中間層や酸素遮断層を用いてもよい。また、上記感光性フィルムの作製方法としても、本発明の転写フィルムの作製方法と同様の方法を用いることができる。
上記感光性フィルムは、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加物を加える。すなわち、マスク層の形成に上記感光性フィルムを用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を含有させる。
上記感光性フィルムに含まれるアルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、上記重合開始剤又は重合開始系としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。
また、上記感光性フィルムをマスク層として用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を用いることができる。本発明に用いる着色剤としては、公知の着色剤(有機顔料、無機顔料、染料等)を好適に用いることができる。なお、本発明においては、黒色着色剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。
上記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、2000年、438項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に上記文献310頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
本明細書でいう全固形分とは着色感光性樹脂組成物から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
更に、上記光硬化性樹脂層は、その他の添加剤を用いてもよい。上記添加剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。また、上記感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。
上記熱可塑性樹脂層の100℃で測定した粘度が1,000〜10,000Pa・secの領域にあり、光硬化性樹脂層の100℃で測定した粘度が2,000〜50,000Pa・secの領域にあり、更に次式(A)を満たすことが好ましい。式(A):熱可塑性樹脂層の粘度<光硬化性樹脂層の粘度
上記マスク層2、絶縁層5は、上記感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を透明基板1などに転写することで形成することができる。例えば、黒色のマスク層2を形成する場合には、上記光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する上記感光性フィルムを用いて、上記透明基板1の表面に上記黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。絶縁層5を形成する場合には、上記光硬化性樹脂層として絶縁性の光硬化性樹脂層を有する上記感光性フィルムを用いて、第一の透明電極パターンが形成された上記透明基板1の表面に上記光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
更に、遮光性が必要なマスク層2の形成に、光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する上記感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、光モレのない高品位なマスク層2等を形成することができる。
上記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4及び金属配線部6は、エッチング処理又は導電性光硬化性樹脂層を有する上記感光性フィルムを用いて、あるいは感光性フィルムをリフトオフ材として使用して形成することができる。
エッチング処理によって、上記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4及び金属配線部6を形成する場合、まずマスク層2等が形成された透明基板1の非接触面上にITO等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、上記透明電極層上に上記光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する上記感光性フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の透明電極パターン3等を形成することができる。
上記エッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により10〜300秒間各層が形成された透明基板を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧(0.1〜5kg/cm2程度)を適宜調整し行えばよい。
導電性光硬化性樹脂層を有する上記感光性フィルムを用いて、上記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4及び金属配線部6を形成する場合、上記透明基板1の表面に上記導電性光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
上記第一の透明電極パターン3等を、上記導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する透明基板でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層/軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造が可能となる。
更に、第一の透明電極パターン3等の形成に、導電性光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する上記感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、導電性に優れ抵抗の少ない第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4及び金属配線部6を形成することができる。
また、上記感光性フィルムをリフトオフ材として用いて、第一の透明電極層、第二の透明電極層及びその他の導電性部材を形成することもできる。この場合、上記感光性フィルムを用いてパターニングした後に、各層が形成された透明基板全面に透明導電層を形成した後、堆積した透明導電層ごと上記光硬化性樹脂層の溶解除去を行うことにより所望の透明導電層パターンを得ることができる(リフトオフ法)。
本発明の画像表示装置は、本発明の静電容量型入力装置を備えることを特徴とする。
本発明の静電容量型入力装置、及び、上記静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』(2009年7月6日発行(株)テクノタイムズ)、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版(2004,12)、FPDInternational2009ForumT−11講演テキストブック、CypressSemiconductorCorporation アプリケーションノートAN2292等に開示されている構成を適用することができる。
1.各組成物の調製
<タッチパネル電極保護膜形成用組成物の調製>
以下の表1〜表4に記載の各成分を用い、タッチパネル電極保護膜形成用組成物である組成物1〜組成物33を調製した。
〔成分A〕
A−1:1,9−ノナンジオールジアクリレート(2官能、A−NOD−N、新中村化学工業(株)製)
A−2:1,10−デカンノナンジオールジアクリレート(2官能、A−DOD−N、新中村化学工業(株)製)
A−3:ネオペンチルグリコールジメタクリレート(2官能、NPG、新中村化学工業(株)製)
A−4:トリプロピレングリコールジアクリレート(2官能、APG−200、新中村化学工業(株)製)
A−5:ポリエチレングリコール#200ジアクリレート(2官能、A−200、新中村化学工業(株)製)
〔成分D〕
D−1:多塩基酸変性アクリルオリゴマーTO−2349(ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのコハク酸エステルの混合物、5〜6官能、東亞合成(株)製)
D−2:2−アクリロイロキシエチルコハク酸(単官能、共栄社化学(株)製)
D−3:多塩基酸変性アクリルオリゴマーM−510(3〜4官能、東亞合成(株)製)
D−4:多塩基酸変性アクリルモノマーDPE6A−MS(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートコハク酸変成物、5〜6官能、共栄社化学(株)製)
〔成分F〕
F−1:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(2官能、A−DCP、新中村化学工業(株)製)
F−2:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(6官能、A−DPH、新中村化学工業(株)製)
F−3:ウレタンアクリレート8UX−015A(15官能、Mw=1,000〜2,000、大成ファインケミカル(株)製)
F−4:イソアミルアクリレート(単官能、ライトアクリレートIAA、共栄社化学(株)製)
F−5:エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート(3官能、A−9300、新中村化学工業(株)製)
〔成分B〕
B−1:ポリマー溶液1(下記に示すポリマー、重量平均分子量=35,000、酸価75mgKOH/g、PGMEA溶液(固形分45%))
B−2:ポリマー溶液2(メタクリル酸/メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチルの共重合体:重量平均分子量60,000、モル組成比=30/30/40、酸価106mgKOH/g、PGMEA溶液(固形分45%))
C−1:1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン−1−(O−アセチルオキシム)(IRGACUREOXE−02、BASF社製)
C−2:2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(IRGACURE907、BASF社製)
C−3:1−[4−(フェニルチオ)]−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)(IRGACUREOXE−01、BASF社製)
〔添加剤〕
G−1:デュラネートTPA−B80E(旭化成ケミカルズ(株)製)
G−2:ハイドロキノンモノメチルエーテル(富士フイルム(株)製)
G−3:メガファックF780(DIC(株)製)
〔成分E〕
E−1:1−メトキシ−2−プロピルアセテート
E−2:メチルエチルケトン
次に下記表5に記載の各成分を用い、第二の透明樹脂層用の組成物として組成物B−1〜B−5を調製した。
Polymer−A:メタクリル酸/メタクリル酸メチルの共重合樹脂(Mw:15,000、モル組成比=40/60)
Polymer−C:メタクリル酸/メタクリル酸メチルの共重合樹脂(Mw:15,000、モル組成比=40/60、不揮発分5%)のアンモニア水溶液(pH=9.0)
I−1:水溶性光重合性開始剤(IRGACURE2959、BASFジャパン(株))
J−2:アロニックスTO−2349(東亞合成(株)製)
厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、膜厚8μmになるように塗布量を変更しながら、上記で得られた組成物1〜組成物33を用い、感光性透明樹脂層を形成した。120℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて第二の透明樹脂層用の組成物B−1〜B−5を0.1μmの膜厚になるように、塗布量を変更しながら塗布、乾燥させた。表7に記載の通り作製した仮支持体、感光性透明樹脂層及び第二の透明樹脂層がこの順で形成された積層体を、各実施例及び比較例の転写フィルムとした。
<透明膜の形成>
膜厚38μm、屈折率1.53のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧100%、出力250Wで、直径1.2mmのワイヤー電極で、電極長240mm、ワーク電極間1.5mmの条件で3秒間コロナ放電処理を行い、表面改質を行った。得られたフィルムを透明フィルム基板とした。
次に、下記表6中に示す材料−Cの材料を、スリット状ノズルを用いて、透明フィルム基板上に塗工した後、紫外線照射(積算光量300mJ/cm2)し、約110℃で乾燥することにより、屈折率1.60、膜厚80nmの透明膜を製膜した。
上記にて得られた透明フィルム基板上に透明膜が積層されたフィルムを、真空チャンバー内に導入し、SnO2含有率が10質量%のITOターゲット(インジウム:錫=95:5(モル比))を用いて、直流(DC)マグネトロンスパッタリング(条件:透明フィルム基板の温度150℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)により、厚さ40nm、屈折率1.82のITO薄膜を形成し、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを得た。ITO薄膜の表面抵抗は80Ω/□であった。
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記の処方P1からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記の処方E1からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が15.1μmの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が1.6μmの中間層と、膜厚2.0μmエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得、最後に保護フイルム(厚さ12μmポリプロピレンフィルム)を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層(酸素遮断膜)とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料であるエッチング用感光性フィルムを作製した。
・メチルメタクリレート/スチレン/メタクリル酸共重合体(共重合体組成(質量%):31/40/29、重量平均分子量60000、酸価163mgKOH/g):16部
・モノマー1(商品名:BPE−500、新中村化学工業(株)製):5.6部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート0.5モル付加物:7部
・分子中に重合性基を1つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート:2.8部
・2−クロロ−N−ブチルアクリドン:0.42部
・2,2−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール:2.17部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩:0.02部
・ロイコクリスタルバイオレット:0.26部
・フェノチアジン:0.013部
・界面活性剤(商品名:メガファックF−780F、大日本インキ(株)製):0.03部
・メチルエチルケトン:40部
・1−メトキシ−2−プロパノール:20部
なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液E1の溶剤除去後の100℃における粘度は、2,500Pa・secであった。
・メタノール:11.1部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:6.36部
・メチルエチルケトン:52.4部
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg≒70℃):5.83部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、重量平均分子量=1万、Tg≒100℃):13.6部
・モノマー1(商品名:BPE−500、新中村化学工業(株)製):9.1部
・フッ素系ポリマー:0.54部
上記のフッ素系ポリマーは、C6F13CH2CH2OCOCH=CH2を40部と、H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH=CH2を55部と、H(OCHCH2)7OCOCH=CH2を5部との共重合体で、重量平均分子量3万、メチルエチルケトン30質量%溶液である(商品名:メガファックF780F、大日本インキ化学工業(株)製)
・ポリビニルアルコール(PVA205、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550):32.2部
・ポリビニルピロリドン(K−30、アイエスピー・ジャパン(株)製):14.9部
・蒸留水:524部
・メタノール:429部
透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを洗浄し、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムE1をラミネートした(透明フィルム基板の温度:130℃、ゴムローラー温度120℃、線圧100N/cm、搬送速度2.2m/分)。仮支持体を剥離後、露光マスク(透明電極パターンを有す石英露光マスク)面とこのエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を200μmに設定し、露光量50mJ/cm2(i線)でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30質量%含有、商品名:T−PD2(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を25℃で100秒間、界面活性剤含有洗浄液(商品名:T−SD3(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で20秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行った。更に130℃30分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。
透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ITOエッチャント(塩酸、塩化カリウム水溶液。液温30℃)を入れたエッチング槽に浸漬し、100秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液(N−メチル−2−ピロリドン、モノエタノールアミン、及び、界面活性剤(商品名:サーフィノール465、エアープロダクツ社製)含有液、液温45℃)を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、200秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、透明フィルム基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成したフィルムを得た。
保護フィルムを剥離した各実施例及び比較例の転写フィルムを用いて、透明フィルム基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成したフィルムの透明膜と透明電極パターンを、第二の透明樹脂層が覆うように、各実施例及び比較例の転写フィルムを転写した(透明フィルム基板の温度:40℃、ゴムローラー温度110℃、線圧3N/cm、搬送速度2m/分)。
その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製)を用いて、露光マスク(オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク)面と仮支持体との間の距離を125μmに設定し、仮支持体を介して露光量100mJ/cm2(i線)でパターン露光した。仮支持体を剥離後、炭酸ソーダ2%水溶液32℃で60秒間洗浄処理した。洗浄処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、次いで大気下にて露光量400mJ/cm2にてポスト露光を行い、145℃30分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜、透明電極パターン、第二の透明樹脂層及び感光性透明樹脂層がこの順で連続された各実施例及び比較例の透明積層体を製膜した。
<耐屈曲性の評価>
保護フィルムを剥離した各実施例及び比較例の転写フィルムを、パターン露光、及び、ポスト露光を実施したものについて、仮基材がマンドレルに接するようにサンプルを設置し、マンドレル屈曲試験を実施した。得られたサンプルに対し、顕微鏡を用いて欠けの有無を観察し、欠けが発生しないマンドレルの直径を表7に記載した。
厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、組成物1〜組成物33により感光性透明樹脂層を膜厚8μmになるように形成して静摩擦測定用のサンプルを作製した。そして、感光性透明樹脂層とステンレスとの間の静摩擦係数を(株)東洋精機製作所製のTR−2でそれぞれ5回測定し、その平均値で評価した。評価結果は表7に記載した。
静摩擦係数の値が、小さいほど好ましい。また、静摩擦係数が1.5以上のものでは、感光性透明樹脂層と搬送用ロール等の部材であるステンレスとの間の滑り性が悪く、転写フィルムを作製する際にシワが発生したりする懸念がある。
JIS規格(K5400)を参考に100マスのクロスカット試験を実施した。各実施例及び比較例の透明積層体の試験面である感光性透明樹脂層にカッターナイフを用いて1mm四方の碁盤目の切り傷を入れ、透明粘着テープ#600(スリーエム(株)製)を強く圧着させ、180℃方向に剥離した後、碁盤目の状態を観察し、以下の評点にしたがって密着性を評価した。A、B又はCであることが実用上必須であり、A又はBであることが好ましく、Aであることがより好ましい。評価結果は表7にまとめた。
−評価基準−
A:全面積のほぼ100%が密着している。
B:全面積のうち95%以上100%未満が密着し残っている。
C:全面積のうち65%以上95%未満が密着し残っている。
D:全面積のうち35%以上65%未満が密着し残っている。
E:全面積のうち密着して残っている部分が35%未満
透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、第二の透明樹脂層及び感光性透明樹脂層をこの順に積層させた各実施例及び比較例の透明積層体を、透明接着テープ(3M社製、商品名、OCAテープ8171CL)を介して、黒色PET材と接着させ、基板全体を遮光した。
透明電極パターン隠蔽性は、暗室において、蛍光灯(光源)と作成した基板を、ガラス面側から光を入射させ、ガラス表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。A、B、C又はDであることが好ましく、A、B又はCであることがより好ましく、A又はBであることが特に好ましく、Aであることが最も好ましい。評価結果は表7に記載した。
−評価基準−
A:透明電極パターンが全く見えない。
B:透明電極パターンがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
C:透明電極パターンが見えるが、パターンの詳細までは分かりにくい。
D:透明電極パターンが見えるが、許容できる。
E:透明電極パターンがはっきり見える。
また、成分Dを含まない、比較例3は密着性に劣る結果となった。
その他、第二の透明樹脂層を持たない実施例31の転写フィルムでは、透明電極パターンの隠蔽性にやや劣り、ITOの配線のパターンがわずかに視認できる。
特開2009−47936号公報の段落0097〜0119に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各実施例の透明積層体を含むフィルムを貼り合わせ、更に、前面ガラス板を張り合わせることで、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた各実施例の透明積層体を含む画像表示装置を作製した。
各実施例の透明積層体を含む静電容量型入力装置及び画像表示装置は、感光性透明樹脂層を硬化後も反りが少なく、基板への密着性が良好であるため浮きや剥がれの問題がなく、塩水付与後の湿熱耐性もあるものであった。
更に、本発明の好ましい態様である実施例1〜31の透明積層体を含む静電容量型入力装置及び画像表示装置では、透明電極パターンが視認される問題がなかった。
なお、感光性透明樹脂層、第二の透明樹脂層にも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた画像表示装置が得られた。
Claims (13)
- 成分Aとして、式1で表される化合物と、
成分Bとして、バインダーポリマーと、
成分Cとして、光重合開始剤と、
成分Dとして、カルボキシ基を有するモノマーとを含有し、
成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、5質量%以上50質量%未満であることを特徴とする
タッチパネル電極保護膜形成用組成物。
Q2−R1−Q1 (1)
式1中、Q1及びQ2はそれぞれ独立に、(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、R1は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。 - 前記R1が、鎖状構造を有する炭素数2〜12の二価の炭化水素基である、請求項1に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物。
- 成分Aの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、10〜40質量%である、請求項1又は2に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物。
- 成分Dが、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物。
- 成分Bが、カルボキシ基を有するアクリル樹脂である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物。
- 仮支持体と、
請求項1〜5のいずれか1項に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層とを有することを特徴とする
転写フィルム。 - 感光性透明樹脂層の上に、第二の透明樹脂層を更に有し、第二の透明樹脂層の屈折率が、感光性透明樹脂層の屈折率よりも高いものである、請求項6に記載の転写フィルム。
- タッチパネル用電極と、
前記タッチパネル用電極上に配置された第二の透明樹脂層と、
第二の透明樹脂層上に配置されたと感光性透明樹脂層と、を有し、
感光性透明樹脂層が請求項1〜5のいずれか1項に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物を硬化した層であり、
第二の透明樹脂層の屈折率が、感光性透明樹脂層の屈折率よりも高いことを特徴とする
透明積層体。 - タッチパネル用電極を有する基材上に、請求項1〜5のいずれか1項に記載のタッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性透明樹脂層を設ける配設工程と、
感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程と、
露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程と、をこの順で含むことを特徴とする
タッチパネル用電極の保護膜の形成方法。 - タッチパネル用電極を有する基材上に、請求項6又は7に記載の転写フィルムを用いて感光性透明樹脂層を設ける配設工程と、
感光性透明樹脂層の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程と、
露光された感光性透明樹脂層を現像する現像工程と、をこの順で含むことを特徴とする
タッチパネル用電極の保護膜の形成方法。 - 請求項9又は10に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法により作製されることを特徴とする
タッチパネル用電極の保護膜。 - 請求項8に記載の透明積層体、又は、請求項11に記載のタッチパネル用電極の保護膜を含むことを特徴とする、静電容量型入力装置。
- 請求項12に記載の静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置。
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