WO2016088609A1 - 転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置 - Google Patents

転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置 Download PDF

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WO2016088609A1
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layer
sensor
front plate
electrode pattern
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一真 両角
崇一郎 長田
公 竹内
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富士フイルム株式会社
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
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    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Definitions

  • the present invention relates to a transfer film, a film sensor manufacturing method, a film sensor, a front plate integrated sensor, and an image display device.
  • a front plate integrated sensor that is a capacitance-type input device that can detect the contact position of a finger as a change in capacitance
  • a film sensor that can be used therefor
  • a transfer film that is used to manufacture the film sensor
  • the present invention relates to a method for manufacturing a film sensor using the transfer film, and an image display device including the front plate integrated sensor as a constituent element.
  • touch panels are often used in the above-mentioned electronic devices, and the current mainstream of touch panels is a resistive film type.
  • the need for a capacitive method is greatly increasing because it is compatible with touch functions and has excellent visibility and durability.
  • a capacitive film sensor as disclosed in Patent Document 1 is used, and this is bonded to the back surface of the cover glass.
  • the market for cover glass integrated sensors is expected to expand.
  • Patent Document 1 a cover glass of an electronic device display window in which a first frame-shaped light-shielding layer made of a screen printing film is formed on the peripheral edge of a back surface of a transparent glass substrate, and a static glass bonded to the back surface of the cover glass are disclosed.
  • a cover glass integrated sensor having a capacitance type film sensor, the film sensor being a transparent base sheet, and an electrode pattern of a central window part and a thin line drawing circuit of an outer frame part on both sides of the base sheet, respectively.
  • a transparent conductive film formed to have a pattern and a light-shielding conductive film laminated on the thin conductive circuit pattern of the transparent conductive film, each having the same width as the thin conductive circuit pattern, and the transparent conductive film and the light-shielding conductive film.
  • a cover glass integrated sensor is described, which is located on the center side of the inner edge of the first frame-shaped light shielding layer. According to Patent Document 1, with such a configuration, a cover glass integrated sensor having a sharp outline of the display screen viewed through the cover glass, excellent visibility, and having an external appearance in a portion surrounding the display screen is provided. It is stated that it can be provided.
  • Patent Document 2 contains a black pigment, an alkali-soluble polymer compound, an ethylenically unsaturated bond-containing compound and a photopolymerization initiator, and after heating at 240 ° C. for 80 minutes, further heating at 300 ° C. for 30 minutes. Describes a black resin film having a bulk strength of 100 N / 1.6 mm ⁇ ( ⁇ is a diameter) or more after the above.
  • a photosensitive resin composition containing a black pigment, an alkali-soluble polymer compound, an ethylenically unsaturated bond-containing compound and a photopolymerization initiator is formed on a substrate.
  • Patent Document 2 discloses a method for manufacturing a capacitive input device having a front plate and at least the following elements (1) to (4) on the non-contact side of the front plate, wherein the element (1) is: A method for manufacturing a capacitive input device manufactured by the method for manufacturing a black resin film described above is described. (1) Decorative material (2) A plurality of first transparent electrode patterns formed by extending a plurality of pad portions in a first direction via connecting portions (3) A first transparent electrode pattern and electricity A plurality of second electrode patterns comprising a plurality of pad portions that are electrically insulated and extend in a direction intersecting the first direction. (4) a first transparent electrode pattern and a second electrode pattern; Insulating layer to electrically insulate
  • Patent Document 2 only describes a black resin film for the decorative layer formed on the front plate side, and did not describe the decorative layer formed on the film sensor side combined with the front plate. .
  • the decorative layer formed on the film sensor side can only be heated at a low temperature of about 130 to 170 ° C. Therefore, the heating at 240 ° C. described in Patent Document 2 is possible. It was found that it is not possible to use a method of polymerizing an acrylic resin without an initiator.
  • the problem to be solved by the present invention is to provide a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor, which has a high optical density and a high sensitivity.
  • the present inventor provides a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor by providing a colored composition layer having a black pigment content within a specific range or the above-mentioned white pigment content. It has been found that a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor can provide a transfer film having high optical density and high sensitivity.
  • the present invention which is a specific means for solving the above problems, and preferred embodiments of the present invention are as follows.
  • a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor is a transfer film having a colored composition layer in which the content a mass% and the film thickness b ⁇ m of the black pigment or the white pigment satisfy the following formula 1. 50> a ⁇ b> 10 Formula 1
  • the black pigment or the white pigment is preferably carbon black or titanium oxide particles.
  • the carbon black described above is preferably carbon black whose surface is coated with a resin.
  • the thickness of the colored composition layer is preferably 0.5 to 10 ⁇ m.
  • the colored composition layer includes an oxime polymerization initiator.
  • the colored composition layer preferably contains a thiol compound.
  • the thiol compound is preferably bifunctional or more.
  • the colored composition layer includes a binder having a carboxyl group, It is preferable that the acid value of the above-mentioned binder is 50 mgKOH / g or more.
  • the colored composition layer includes a polymerizable compound having at least five ethylenically unsaturated groups.
  • the content of the halogen-containing compound in the colored composition layer is preferably 1% by mass or less.
  • the transfer film according to any one of [1] to [10] preferably contains particles other than the aforementioned black pigment or the aforementioned white pigment.
  • [12] a transparent base sheet; An electrode pattern disposed on both surfaces of the base material sheet, and The routing wiring connected to the electrode pattern described above, An overcoat layer laminated to cover the above electrode pattern; Including a step of transferring the colored composition layer from the transfer film according to any one of [1] to [11] to form a decorative layer on at least one surface of a film sensor comprising: A method for manufacturing a film sensor. [13] The method for producing a film sensor according to [12] preferably includes a step of heat-treating the film sensor at 130 to 170 ° C. after the step of transferring the colored composition layer.
  • one surface of the film sensor to which the colored composition layer is transferred has at least a partial region of the routing wiring and It is preferable to include at least a part of the above-described overcoat layer.
  • a transparent base sheet An electrode pattern disposed on both surfaces of the base material sheet, and The routing wiring connected to the electrode pattern described above, An overcoat layer laminated to cover the above electrode pattern;
  • a film sensor with A decorative layer is disposed on at least one surface of the film sensor, [12]
  • the front plate integrated sensor according to [16] has a second decorative layer in a partial region of one surface of the front plate, The aforementioned second decorative layer is disposed between the aforementioned front plate and the aforementioned decorative layer of the aforementioned film sensor, When observed from the normal direction of the front plate, the orthographic projection of the second decorative layer preferably overlaps at least a part of the decorative layer of the film sensor.
  • the front plate integrated sensor according to [16] or [17] it is preferable that the front plate is made of glass.
  • An image display device comprising the front plate integrated sensor according to [18] as a constituent element.
  • a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor which has a high optical density and a high sensitivity.
  • a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • the transfer film of the present invention is a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor, and the transfer film described above contains a black pigment or a white pigment content a mass% and a film thickness.
  • b ⁇ m has a colored composition layer satisfying the following formula 1. 50> a ⁇ b> 10 Formula 1
  • the transfer film of the present invention having such a configuration is a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor, and has a high optical density and high sensitivity.
  • the value of a ⁇ b which is the product of the black pigment or white pigment content a mass% of the transfer film and the film thickness b ⁇ m of the transfer film, is larger than the specific lower limit value.
  • the value of a ⁇ b is more preferably greater than 20, and particularly preferably greater than 30.
  • the value of a ⁇ b, which is the product of the black pigment or white pigment content a mass% of the transfer film and the film thickness b ⁇ m of the transfer film is preferably smaller than a specific upper limit from the viewpoint of increasing the sensitivity,
  • the value of xb is more preferably less than 40.
  • FIG. 13 is a schematic view of a transfer film 49 in which a temporary support 46, a coloring composition layer 48, and a protective release layer (protective film) 47 are laminated adjacent to each other in this order.
  • the transfer film of the present invention is a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor.
  • the schematic of an example of the film sensor of this invention containing the decorating layer 45 formed by transferring the coloring composition layer 48 from the transfer film of this invention was shown to FIG. 11A and FIG. 11B.
  • the structure of the film sensor of the present invention and the method of forming a decorative layer on at least one surface of the film sensor using the transfer film of the present invention will be described later.
  • the transfer film of the present invention has a colored composition layer in which the content a mass% of the black pigment or the white pigment described above and the film thickness b ⁇ m satisfy the following formula 1. 50> a ⁇ b> 10 Formula 1
  • the content of the halogen-containing compound in the above-described colored composition layer is preferably 1% by mass or less from the viewpoint of halogen-free, and more preferably 0.2% by mass or less. .
  • the content of the black pigment or the white pigment in the colored composition layer is calculated with respect to the total solid content other than the solvent in the colored composition layer.
  • the total solid content as used in this specification means the total mass of the non-volatile component except a solvent etc. from the coloring composition layer.
  • the colored composition layer described above preferably has a black pigment content or white pigment content of more than 3% by mass and 25% by mass or less based on the total solid content other than the solvent of the colored composition layer. It is more preferably from 20 to 20% by mass, particularly preferably from 5 to 18% by mass, and particularly preferably from 10 to 18% by mass.
  • a large content of the black pigment or the above-mentioned white pigment is preferable from the viewpoint of increasing the optical density while keeping the film thickness thin.
  • the content of the black pigment or the aforementioned white pigment is preferably 25% by mass or less from the viewpoint of increasing sensitivity.
  • black pigment used in the present invention, known black pigments (organic pigments, inorganic pigments, dyes, etc.) can be suitably used.
  • examples of the black pigment include carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, and graphite. Among these, carbon black is preferable.
  • the carbon black that can be used in the transfer film of the present invention is preferably carbon black whose surface is coated with a resin.
  • the white pigment is not particularly limited as long as it is not contrary to the gist of the present invention, but a white inorganic pigment is more preferable.
  • the white inorganic pigment the white pigment described in paragraphs ⁇ 0015> and ⁇ 0114> of JP-A-2005-7765 can be used.
  • titanium oxide, zinc oxide, lithopone, light calcium carbonate, white carbon, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate are preferable, titanium oxide and zinc oxide are more preferable, and titanium oxide is preferable.
  • rutile type or anatase type titanium oxide is more particularly preferred, and rutile type titanium oxide is even more particularly preferred.
  • the surface of titanium oxide can be subjected to silica treatment, alumina treatment, titania treatment, zirconia treatment, or organic matter treatment, or these treatments may be used in combination. Thereby, the catalytic activity of titanium oxide can be suppressed, and heat resistance, fluorescence, etc. can be improved.
  • the surface treatment of the titanium oxide is preferably alumina treatment or zirconia treatment, and particularly preferably alumina and zirconia combination treatment.
  • the black pigment or the white pigment is preferably carbon black or titanium oxide particles.
  • a black pigment preferably carbon black
  • a white pigment preferably carbon black
  • This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing a black pigment or a white pigment and a pigment dispersant in an organic solvent (or vehicle) described later.
  • a vehicle is a portion of a medium in which a pigment is dispersed when the paint is in a liquid state.
  • the vehicle is a liquid component that binds to a black pigment or a white pigment to form a coating film (binder) and dissolves the component.
  • the disperser used for dispersing the black pigment or the white pigment is not particularly limited, and is described in, for example, Asakura Kunizo, “Encyclopedia of Pigments”, First Edition, Asakura Shoten, 2000, paragraph 438.
  • Well-known dispersers such as a kneader, a roll mill, an attritor, a super mill, a dissolver, a homomixer, and a sand mill.
  • the material may be finely pulverized using frictional force by mechanical grinding described on page 310 of this document.
  • the black pigment or the white pigment preferably has a number average particle diameter of 0.001 ⁇ m to 0.1 ⁇ m, more preferably 0.01 ⁇ m to 0.08 ⁇ m, from the viewpoint of dispersion stability.
  • particle size refers to the diameter when the electron micrograph image of the particle is a circle of the same area, and the “number average particle size” refers to the particle size of any 100 particles. The average value of the particle diameter is determined.
  • the transfer film of the present invention may be a negative type material or a positive type material.
  • the colored composition layer has a particle other than the above black pigment or the above white pigment, a polymerizable compound, a binder (preferably an alkali-soluble resin), and a polymerization start. It preferably contains an agent, a thiol, and a solvent. Furthermore, an additive etc. are used, but it is not restricted to this.
  • the particle size is preferably 0.1 ⁇ m or less, and preferably 0.08 ⁇ m or less. Particularly preferred.
  • Other particles include Victoria Pure Blue BO (Color Index (CI) 42595), Auramin (CI 41000), Fat Black HB (CI 26150), Monolite Yellow GT.
  • C.I. can be preferably added to the colored composition layer.
  • the other particles are preferably 30% by mass or less, more preferably 3 to 20% by mass, and particularly preferably 5 to 15% by mass with respect to the black pigment or the white pigment described above.
  • a photopolymerizable compound As the polymerizable compound used in the colored composition layer, a photopolymerizable compound is preferable. There is no restriction
  • the polymerizable compound used in the colored composition layer is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing compound, and more preferably includes a compound having a (meth) acryloyl group.
  • the colored composition layer includes a polymerizable compound having at least five ethylenically unsaturated groups, such as DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate), dipentaerythritol (penta / hexa) acrylate and tripentaerythritol octaacrylate; urethane (meta ) Urethane monomers such as acrylate compounds; bifunctional polymerizable compounds such as ethoxylated bisphenol A diacrylate and tricyclodecanediol dimethanol diacrylate can be preferably used.
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • dipentaerythritol (penta / hexa) acrylate dipentaerythritol (penta / hexa) acrylate and tripentaerythritol octaacrylate
  • the aforementioned colored composition layer preferably contains a polymerizable compound having at least 5 ethylenically unsaturated groups from the viewpoint of sensitivity. Only one type of photopolymerizable compound may be used alone, or two or more types may be used in combination. However, it is preferable to use a combination of two or more types from the viewpoint of sensitivity.
  • the polymerizable compound used in the colored composition layer of the transfer film of the present invention is preferably a combination of a polymerizable compound having at least five ethylenically unsaturated groups and a bifunctional polymerizable compound.
  • the bifunctional polymerizable compound is preferably used in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 20 to 85% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass with respect to all the polymerizable compounds. It is particularly preferable to use in a range.
  • the polymerizable compound having at least 5 ethylenically unsaturated groups is preferably used in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 15 to 80% by mass with respect to all the polymerizable compounds. , Particularly preferably in the range of 20 to 70% by mass.
  • the polymerizable compound preferably has an average molecular weight of 200 to 3000, more preferably 250 to 2600, and particularly preferably 280 to 2200.
  • the ratio of the polymerizable compound to the binder is preferably 0.1 to 2 times, preferably 0.2 to 1.5 times. It is more preferable that the ratio is 0.3 to 1 times.
  • the colored composition layer preferably contains a binder having a carboxyl group from the viewpoint of improving the edge roughness.
  • the acid value of the binder described above is preferably 50 mgKOH / g or more from the viewpoint of improving edge roughness, more preferably 60 mgKOH / g or more, and 65 mgKOH / g or more. Is particularly preferred.
  • the binder used in the coloring composition layer is not particularly limited, but is a benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer, cyclohexyl methacrylate (a) / methyl methacrylate (b) / methacrylic acid copolymer (c) glycidyl.
  • a methacrylate adduct can be used, and a glycidyl methacrylate adduct of cyclohexyl methacrylate (a) / methyl methacrylate (b) / methacrylic acid copolymer (c) is preferred.
  • a photopolymerization initiator As a polymerization initiator used for the colored composition layer, a photopolymerization initiator is preferable.
  • the photopolymerization initiator include polymerization initiators described in ⁇ 0031> to ⁇ 0042> of JP 2011-95716 A, and oxime polymerization described in ⁇ 0064> to ⁇ 0081> of JP 2015-014783 A. An initiator can be used.
  • 1,2-octanedione-1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)] (trade name: IRGACURE OXE-01, manufactured by BASF), ethane-1-one, [9 -Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (0-acetyloxime)
  • Trade name: IRGACURE OXE-02 manufactured by BASF
  • 2- (dimethylamino) -2- [(4-Methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone (trade name: IRGACURE 379EG, manufactured by BASF), 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl)- 2-morpholinopropan-1-one (trade name: IRGACURE 907, manufactured by BASF), 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy Cy-2-methyl-propionyl)
  • the colored composition layer includes an oxime polymerization initiator from the viewpoint of increasing sensitivity.
  • the mass ratio of the polymerization initiator to the polymerizable compound in the colored composition layer is preferably 0.05 to 0.125 from the viewpoint of taper angle and precipitation suppression, and is 0.070 to 0.100. More preferably it is.
  • the colored composition layer described above preferably contains a thiol compound from the viewpoint of increasing sensitivity.
  • a thiol compound the functional number which is the number of thiol groups (also referred to as mercapto groups) may be monofunctional or bifunctional or more.
  • the thiol compound described above is preferably bifunctional or higher from the viewpoint of increasing sensitivity, more preferably 2 to 4 functional, and particularly preferably 2 to 3 functional. Examples of the monofunctional thiol compound used in the colored composition layer include N-phenylmercaptobenzimidazole.
  • Examples of the bifunctional or higher functional thiol compound used in the coloring composition layer include 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane (Karenz MT BD1, Showa Denko), 1,3,5-tris (3-mercapto). Butyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione (Karenz MT NR1 manufactured by Showa Denko), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) (Karenz MT PE1 manufactured by Showa Denko) and pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) (“PEMP” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.).
  • the colored composition layer of the transfer film of the present invention is provided with surface protection for the metal wiring portion (electrode pattern or routing wiring) in the region where the insulating layer or the decorative layer is removed to provide protection to the metal wiring portion. If necessary, a metal oxidation inhibitor can be included.
  • the metal oxidation inhibitor used in the present invention is preferably a compound having an aromatic ring containing a nitrogen atom in the molecule.
  • the aromatic ring containing a nitrogen atom is an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiadiazole ring, or a condensed ring of these with another aromatic ring. It is preferably at least one ring selected from the group consisting of the above, and the aromatic ring containing a nitrogen atom is more preferably an imidazole ring or a condensed ring of an imidazole ring and another aromatic ring.
  • the other aromatic ring may be a monocyclic ring or a heterocyclic ring, but is preferably a monocyclic ring, more preferably a benzene ring or a naphthalene ring, and even more preferably a benzene ring.
  • Preferable metal oxidation inhibitors include imidazole, benzimidazole, tetrazole, mercaptothiadiazole, and benzotriazole, and imidazole, benzimidazole, and benzotriazole are more preferable.
  • the content of the metal oxidation inhibitor is preferably 0.1 to 20% by mass, and preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the total mass of the colored composition layer used in the present invention. More preferably, it is 1 to 5% by mass.
  • additives include surfactants described in paragraph ⁇ 0017> of Japanese Patent No. 4502784, paragraphs ⁇ 0060> to ⁇ 0071> of JP-A-2009-237362, and paragraph ⁇ 0018> of Japanese Patent No. 4502784. >, A thermal polymerization inhibitor (also referred to as a polymerization inhibitor, preferably phenothiazine), and other additives described in paragraphs ⁇ 0058> to ⁇ 0071> of JP-A No. 2000-310706.
  • a thermal polymerization inhibitor also referred to as a polymerization inhibitor, preferably phenothiazine
  • the colored composition layer preferably further contains a solvent.
  • a solvent examples include the following solvents.
  • a commonly used solvent can be used without particular limitation. Specific examples include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like.
  • Diethylene glycol monoethyl ether acetate (ethyl carbitol acetate), diethylene glycol monobutyl ether acetate (butyl carbitol acetate), propylene glycol methyl ether acetate, methyl ethyl ketone and the like are preferably used as the solvent in the present invention.
  • an organic solvent having a boiling point of 180 ° C. to 250 ° C.
  • high-boiling solvents include diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol diacetate , Propylene glycol-n-propyl ether acetate, diethylene glycol diethyl ether, 2-ethylhexyl acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, ⁇ -butyrolactone, tripropylene glycol methyl ethyl acetate, dipropylene glycol-n-butyl acetate, propylene Examples include glycol phenyl ether acetate and 1,3-butanethyl ether, 1,3-butanediol, 1,3-butaned
  • the colored composition layer preferably contains, as solvents, a first solvent having an evaporation rate of 200% or more of butyl acetate and a second solvent having an evaporation rate of 50% or less of butyl acetate.
  • the solvent preferably includes a solvent that is a polyhydric alcohol derivative and a solvent that is a ketone.
  • the thickness of the colored composition layer described above is preferably 0.5 to 10 ⁇ m from the viewpoint of designability when bonded to the front plate, and 1.0 to 8.0 ⁇ m. More preferably, it is 1.5 to 5.0 ⁇ m.
  • the transfer film of the present invention preferably has a temporary support.
  • a flexible material can be used as the material for the temporary support.
  • a temporary support examples include a cycloolefin copolymer film, a polyethylene terephthalate film (hereinafter also referred to as “PET”), a cellulose triacetate film, a polystyrene film, a polycarbonate film, and the like.
  • PET is a handling viewpoint. Is particularly preferred.
  • the temporary support may be transparent or may contain dyed silicon, alumina sol, chromium salt, zirconium salt or the like. Further, the temporary support can be imparted with conductivity by the method described in JP-A-2005-221726.
  • the transfer film of the present invention further includes a thermoplastic resin layer described in ⁇ 0026> of Japanese Patent No. 4502784 and an intermediate layer described in ⁇ 0027> of Japanese Patent No. 4502784 between the temporary support and the colored composition layer. May be.
  • a protective film hereinafter also referred to as “protective release layer” or the like is further provided on the surface of the colored composition layer.
  • protective films described in paragraphs 0083 to 0087 and 0093 of JP-A-2006-259138 can be appropriately used.
  • the transfer film of the present invention can be produced according to the method for producing a curable transfer material described in paragraphs 0094 to 0098 of JP-A-2006-259138.
  • the transfer film of the present invention is preferably manufactured by the following transfer film manufacturing method.
  • the transfer film production method preferably includes a step of forming a colored composition layer on the temporary support.
  • the method for producing a transfer film preferably includes a step of further forming a thermoplastic resin layer before forming the aforementioned colored composition layer on the aforementioned temporary support.
  • the method for producing a transfer film preferably includes a step of forming an intermediate layer between the thermoplastic resin layer and the colored composition layer after the step of forming the thermoplastic resin layer.
  • a solution addition liquid for thermoplastic resin layer
  • a prepared solution prepared by adding a resin or an additive to a solvent that does not dissolve the thermoplastic resin layer is applied onto this thermoplastic resin layer and dried.
  • the film sensor of the present invention is laminated so as to cover the transparent substrate sheet, the electrode patterns disposed on both surfaces of the substrate sheet, the routing wiring connected to the electrode pattern, and the electrode pattern.
  • the film sensor is a film sensor manufactured by the method for manufacturing a film sensor of the present invention, in which a decoration layer is disposed on at least one surface of the film sensor.
  • FIG. 11A shows a schematic diagram of an example of the film sensor of the present invention.
  • the transparent films 11 are disposed on both surfaces of the base sheet 1A.
  • the electrode pattern 4, the light-shielding conductive film 9, and the overcoat layer are formed on the surface of the base sheet 1 ⁇ / b> A on the side on which a later-described front plate is laminated. 7, the routing wiring 6 and the decoration layer 45 are arranged.
  • the film sensor of the present invention having the configuration shown in FIG.
  • the electrode pattern 3 and the light-shielding conductive film 9 are formed on the surface of the base sheet 1 ⁇ / b> A opposite to the side on which the below-described front plate is laminated.
  • the overcoat layer 7 and the routing wiring 6 are disposed.
  • a film sensor has the decoration layer 45 (decoration layer of a film sensor) formed by transferring the above-mentioned coloring composition layer of the transfer film of this invention. Even when the above-mentioned colored composition layer is laminated from the transfer film of the present invention across the routing wiring 6 and the overcoat layer that require a certain thickness, the use of the transfer film of the present invention makes it expensive such as a vacuum laminator Even without the use of equipment, it is possible to perform lamination without generating bubbles at the mask portion boundary with a simple process.
  • the decorative layer is preferably a frame-shaped decorative layer.
  • a central image display portion (electronic device display window) is added.
  • the decorative layer is surrounded in a frame shape.
  • the same aspect as the frame-shaped light shielding layer described in Japanese Patent No. 5020580 can be exemplified.
  • the preferable range of the thickness of the decoration layer 45 of a film sensor is the same as the range of the film thickness of the coloring composition layer of the transfer film of this invention.
  • the electrode pattern may be provided as a first electrode pattern and a second electrode pattern in two directions substantially orthogonal to the row direction and the column direction, respectively. Yes (see, for example, FIG. 3).
  • the electrode pattern may be the second electrode pattern 4 or the first electrode pattern 3.
  • the first electrode pattern 3 and the second electrode pattern 4 will be described with reference to FIG.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of the first electrode pattern and the second electrode pattern.
  • the first electrode pattern 3 is formed such that the pad portion 3a extends in the first direction C via the connection portion 3b.
  • the second electrode pattern 4 is electrically insulated by the first electrode pattern 3 and the insulating layer 5 and extends in a direction intersecting the first direction (second direction D in FIG. 3). It is comprised by the some pad part formed in this way.
  • the pad portion 3a and the connection portion 3b described above may be manufactured integrally, or only the connection portion 3b is manufactured, and the pad portion 3a and the second portion 3b are formed.
  • the electrode pattern 4 may be integrally formed (patterned). When the pad portion 3a and the second electrode pattern 4 are manufactured (patterned) as a unit, a part of the connection portion 3b and a part of the pad portion 3a are coupled as shown in FIG.
  • each layer is formed so that the first electrode pattern 3 and the second electrode pattern 4 are electrically insulated.
  • the insulating layer 5 is described as a discontinuous film for the sake of explanation, but the base sheet 1 ⁇ / b> A can be used as the insulating layer 5 in the film sensor of the present invention.
  • the film sensor of the present invention preferably includes a non-pattern region in which the above electrode pattern is not formed.
  • the non-pattern region means a region where the electrode pattern 4 is not formed.
  • FIG. 11A shows an aspect in which the above-described transparent film 11 is laminated adjacently on the above-described base material sheet 1A.
  • a third transparent film may be laminated between the above-described base sheet 1A and the above-described transparent film as long as it does not contradict the gist of the present invention.
  • a third transparent film (not shown in FIG. 11A) having a refractive index of 1.5 to 1.52 may be provided between the base sheet 1A and the transparent film 11 described above.
  • the transparent film and the electrode pattern are preferably adjacent to each other.
  • the end portion of the electrode pattern 4 is not particularly limited in shape, but may have a tapered shape.
  • the end portion of the electrode pattern shown in FIG. 10 is an example of an electrode pattern having a tapered shape.
  • the angle of the end portion of the electrode pattern when the end portion of the electrode pattern is tapered is preferably 30 ° or less, preferably 0.1 to 15 °. More preferably, it is 0.5 to 5 °.
  • the method for measuring the taper angle in the present specification can be obtained by taking a photomicrograph of the end portion of the electrode pattern described above, approximating the tapered portion of the photomicrograph to a triangle, and directly measuring the taper angle.
  • the triangle that approximates the tapered portion in FIG. 10 has a bottom surface of 800 nm and a height (film thickness at the upper base portion substantially parallel to the bottom surface) of 40 nm, and the taper angle ⁇ at this time is about 3 °.
  • the bottom surface of the triangle that approximates the tapered portion is preferably 10 to 3000 nm, more preferably 100 to 1500 nm, and particularly preferably 300 to 1000 nm.
  • the preferable range of the height of the triangle that approximates the tapered portion is the same as the preferable range of the film thickness of the electrode pattern.
  • the routing wiring 6 is electrically connected to at least one of the first electrode pattern 3 and the second electrode pattern 4 and is a separate element from the first electrode pattern 3 and the second electrode pattern 4. It is preferable.
  • FIG. 11A shows a diagram in which the routing wiring 6 is connected to the second electrode pattern 4 through the light-shielding conductive film 9.
  • the routing wiring is preferably frame-shaped. That is, when the film sensor of the present invention is used in an image display device provided with a front plate integrated sensor of the present invention described later as a constituent element, it is preferable that the central image display portion is routed and the wiring is surrounded in a frame shape. .
  • the electrode pattern and the light-shielding conductive film are preferably adjacent to each other.
  • the light-shielding conductive film is preferably frame-shaped. That is, when the film sensor of the present invention is used in an image display device provided with a front plate integrated sensor of the present invention described later as a constituent element, a light-shielding conductive film surrounds the central image display portion in a frame shape. Is preferred.
  • an overcoat layer 7 is provided so as to cover all the components other than the routing wiring.
  • the overcoat layer 7 may be configured to cover only a part of each component.
  • both the above-mentioned electrode pattern and the non-pattern region where the above-mentioned electrode pattern is not formed are continuously covered with the above-mentioned transparent film and overcoat layer directly or through other layers.
  • “continuously” means that the transparent film and the overcoat layer described above are not a pattern film but a continuous film. That is, it is preferable that the transparent film and the overcoat layer have no opening from the viewpoint of making the electrode pattern difficult to be visually recognized.
  • the above-described electrode pattern and the above-described non-pattern region are directly covered by the above-described transparent film and the above-described overcoat layer, rather than being covered through another layer.
  • the “other layer” in the case of being covered through another layer include a light-shielding conductive film when the film sensor includes a light-shielding conductive film.
  • the material of the decorative layer 45 formed by transferring the aforementioned colored composition layer of the transfer film of the present invention is the same as the material of the aforementioned colored composition layer of the transfer film of the present invention.
  • substrate sheet It is more preferable to use a substrate sheet that is not optically distorted or a material having high transparency.
  • materials include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, polycarbonate (PC), and triacetyl cellulose. (TAC) and cycloolefin polymer (COP).
  • the transparent film is preferably a transparent film having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm from the viewpoint of further improving the visibility of the electrode pattern.
  • the refractive index of the transparent film is preferably 1.6 to 1.78, more preferably 1.65 to 1.74.
  • the transparent film described above may have a single layer structure or a laminated structure of two or more layers.
  • the refractive index of the aforementioned transparent film means the refractive index of all layers. As long as the refractive index range is satisfied, the material for the transparent film is not particularly limited.
  • the thickness of the transparent film is preferably 55 to 110 nm, more preferably 60 to 100 nm, and particularly preferably 70 to 90 nm.
  • the film thickness of the above-mentioned transparent film means the total film thickness of all layers.
  • the film sensor of this invention has the electrode pattern arrange
  • the first electrode pattern described above may or may not be a transparent electrode pattern, but is preferably a transparent electrode pattern.
  • the second electrode pattern described above may or may not be a transparent electrode pattern, but is preferably a transparent electrode pattern.
  • the refractive index of the electrode pattern is preferably 1.75 to 2.1.
  • the material of the electrode pattern is not particularly limited, and a known material can be used. For example, a light-transmitting conductive metal film such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) can be used.
  • the electrode pattern material examples include an ITO film; a metal film such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, and Mo; and a metal oxide film such as SiO 2 .
  • the film thickness of each element can be set to 10 to 200 nm.
  • the amorphous ITO film is made into a polycrystalline ITO film by firing, the electrical resistance can be reduced.
  • the first electrode pattern 3, the second electrode pattern 4, and the routing wiring 6 described later are manufactured using a photosensitive film having a photocurable resin layer using conductive fibers. You can also.
  • the first electrode pattern or the like is formed of ITO or the like, paragraphs 0014 to 0016 of Japanese Patent No. 4506785 can be referred to.
  • the above electrode pattern is preferably an ITO film.
  • the film sensor of the present invention has a lead wiring.
  • the lead wiring is preferably a lead wiring of the electrode pattern, and is a conductive element different from the electrode pattern.
  • the lead wiring may be a conductive element different from the light shielding conductive film described later, and the lead wiring may be the same member as the light shielding conductive film described later.
  • the material of the routing wiring is not particularly limited, and a known material can be used. Conventionally, MAM having a three-layer structure of Mo / Al / Mo has been generally used as a material for the lead wiring because of its high conductivity and easy microfabrication. However, the same material as that of the electrode pattern described above is used.
  • a metal such as can also be used.
  • Au gold
  • Ag silver
  • Cu copper
  • Al aluminum
  • Mo molybdenum
  • Pd palladium
  • Pt platinum
  • C carbon
  • Fe iron
  • a metal such as can also be used.
  • a conductive paste or conductive ink containing these metals by a wet method, it is possible to obtain a wiring by a cheaper process than the vapor deposition method.
  • the material of the routing wiring is preferably a metal, and more preferably copper or aluminum.
  • the light-shielding conductive film 9 examples include a single metal film having high conductivity and good light-shielding properties, and a layer made of an alloy or a compound thereof, such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a plating method. It is good to form with.
  • the light-shielding conductive film 9 is preferably formed of a material that does not etch the electrode pattern but the light-shielding conductive film 9 itself.
  • the material of the light-shielding conductive film 9 is preferably selected from materials that include an etchant that etches the light-shielding conductive film 9 without etching the electrode pattern.
  • the preferable metal include aluminum, nickel, copper, silver, and tin.
  • a metal film made of copper foil having a thickness of 20 to 1000 nm is very preferable because it has excellent conductivity and light shielding properties, and the electrode pattern can be easily etched with hydrogen peroxide even in an acidic atmosphere where etching is not performed.
  • the thickness of the light-shielding conductive film 9 is more preferably 30 nm or more.
  • the thickness of the light-shielding conductive film 9 is more preferably 100 to 500 nm.
  • a highly conductive light-shielding conductive film 9 can be obtained by setting the thickness to 100 nm or more, and a light-shielding conductive film 9 that is easy to handle and excellent in workability can be obtained by setting the thickness to 500 nm or less.
  • the film sensor is preferably produced by transferring the overcoat layer onto the electrode pattern.
  • the electrode pattern and routing wiring which are flexible wirings made on the film sensor, can be directly connected to the terminal part (not shown) of the routing wiring, so that the signal of the film sensor can be sent to the electric circuit.
  • the overcoat layer may be photocurable, thermosetting and photocurable. Among them, the overcoat layer is a thermosetting transparent resin layer and a photocurable transparent resin layer. It is easy to form a film by photocuring after transfer, and heat-curing after film formation to improve the reliability of the film. It is preferable from a viewpoint which can be provided.
  • the thickness of the overcoat layer is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 5 to 16 ⁇ m, particularly preferably 5 to 13 ⁇ m from the viewpoint of exerting sufficient surface protection ability. It is more particularly preferable.
  • the above-mentioned overcoat layer preferably has a melt viscosity ⁇ c measured at 100 ° C. of 1.0 ⁇ 10 3 Pa ⁇ s or more, and is 1.0 ⁇ 10 3 Pa ⁇ s to 1.0 ⁇ 10 6 Pa ⁇ s. More preferably, it is 3.0 ⁇ 10 3 Pa ⁇ s to 1.0 ⁇ 10 6 Pa ⁇ s, more preferably 4.0 ⁇ 10 3 Pa ⁇ s to 1.0 ⁇ 10 5 Pa. -Particularly preferred is s.
  • the refractive index of the above-mentioned overcoat layer is preferably 1.50 to 1.53, more preferably 1.50 to 1.52, and particularly preferably 1.51 to 1.52. .
  • the overcoat layer preferably contains a binder polymer, a polymerizable compound and a polymerization initiator.
  • the overcoat layer is preferably a transparent resin layer.
  • the method for controlling the refractive index of the overcoat layer is not particularly limited, but an overcoat layer having a desired refractive index is used alone, or an overcoat layer to which particles such as metal particles and metal oxide particles are added is used. Alternatively, a composite of a metal salt and a polymer can be used.
  • an additive may be used for the above-described overcoat layer.
  • the additive include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784, paragraphs 0060 to 0071 of JP-A-2009-237362, and thermal polymerization described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784. Further, other additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A No. 2000-310706 can be mentioned.
  • any polymer component can be used without particular limitation, but those having high surface hardness and high heat resistance are preferable, alkali-soluble resins are more preferable, and alkali-soluble resins are preferably used. Of these, known curable siloxane resin materials, acrylic resin materials, and the like are preferably used. It is preferable that the binder polymer contained in the organic solvent-based resin composition used for forming the overcoat layer contains an acrylic resin. The preferable range of the above-mentioned binder polymer of the overcoat layer will be specifically described.
  • the resin used for the above-mentioned overcoat layer and having solubility in an organic solvent (referred to as a binder or a polymer) is not particularly limited as long as it does not contradict the gist of the present invention, and can be appropriately selected from known ones.
  • An alkali-soluble resin is preferable, and as the above-mentioned alkali-soluble resin, polymers described in paragraphs 0025 of JP2011-95716A and paragraphs 0033 to 0052 of JP2010-237589A can be used.
  • the overcoat layer may contain a polymer latex.
  • the polymer latex referred to herein is a polymer in which water-insoluble polymer fine particles are dispersed in water.
  • the polymer latex is described, for example, in Soichi Muroi “Chemistry of Polymer Latex (published by Kobunshi Shuppankai (Showa 48))”.
  • Polymer particles that can be used include acrylic, vinyl acetate, rubber (for example, styrene-butadiene, chloroprene), olefin, polyester, polyurethane, polystyrene, and copolymers thereof. Particles are preferred. It is preferable to increase the bonding force between the polymer chains constituting the polymer particles. Examples of means for strengthening the bonding force between polymer chains include a method using a hydrogen bond interaction and a method of generating a covalent bond. As a means for imparting hydrogen bonding strength, it is preferable to introduce a monomer having a polar group in the polymer chain by copolymerization or graft polymerization.
  • polar groups carboxyl groups (containing in acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, crotonic acid, partially esterified maleic acid, etc.), primary, secondary and tertiary amino groups, ammonium base, Examples thereof include a sulfonic acid group (styrene sulfonic acid), and a carboxyl group and a sulfonic acid group are particularly preferable.
  • a preferable range of the copolymerization ratio of the monomers having these polar groups is 5 to 35% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and further preferably 15 to 20% by mass with respect to 100% by mass of the polymer. It is.
  • a hydroxyl group, a carboxyl group, a primary, secondary amino group, an acetoacetyl group, a sulfonic acid, an epoxy compound, a blocked isocyanate, an isocyanate, a vinyl sulfone compound, an aldehyde compound The method of making a methylol compound, a carboxylic acid anhydride, etc. react is mentioned.
  • polyurethane derivatives obtained by the reaction of polyols and polyisocyanate compounds are preferred, polyvalent amines are more preferred as chain extenders, and the above polar groups are introduced into the polymer chain.
  • the ionomer type is particularly preferred.
  • the mass average molecular weight of the polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 to 100,000.
  • Suitable polymers for the present invention include ethylene ionomers and polyurethane ionomers which are copolymers of ethylene and methacrylic acid.
  • the polymer latex that can be used in the present invention may be obtained by emulsion polymerization or may be obtained by emulsification.
  • the method for preparing these polymer latexes is described, for example, in “Emulsion Latex Handbook” (edited by Emulsion Latex Handbook Editorial Committee, published by Taiseisha Co., Ltd. (Showa 50)).
  • Examples of the polymer latex that can be used in the present invention include an aqueous dispersion of polyethylene ionomer (trade name: Chemipearl S120, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., solid content 27%), Chemipearl S100, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
  • Solid content 35%, Tg-50 ° C) (trade name: Hydran WLS-202 DIC Corporation) (Product name: Hydran WLS-221 manufactured by DIC Corp. Solid content: 35%, Tg-30 ° C) (Product name: Hydran WLS-210 manufactured by DIC Corp.) (Trade name: Hydran WLS-213 manufactured by DIC Corporation.
  • Solid content 35%, Tg-15 ° C) (trade name: Hydran WLI-602 manufactured by DIC Co., Ltd.) (Product name: Hydran WLI-611 manufactured by DIC Corp., solid content: 39.5%, Tg-15 ° C), alkyl acrylate copolymer ammonium (Product name: Jurimer AT-210 made by Nippon Pure Chemical), alkyl acrylate copolymer ammonium (Product name: Jurimer ET-410 made by Nippon Pure Chemical), alkyl acrylate copolymer ammonium (Product name: Jurimer AT-510 made by Nippon Pure Chemical) ), Polyacrylic acid (trade name: Julimer AC-10L, manufactured by Nippon Pure Chemical), neutralized with ammonia and emulsified.
  • the overcoat layer preferably contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound may be a photopolymerizable compound or a thermally polymerizable compound.
  • the overcoat layer preferably has a photopolymerizable compound. There is no restriction
  • the photopolymerizable compound of the overcoat layer preferably includes a compound having an ethylenically unsaturated group, and more preferably includes a compound having a (meth) acryloyl group.
  • the photopolymerizable compound may be used alone or in combination of two or more, but it is possible to use two or more in combination after exposing the overcoat layer after transfer. It is preferable from a viewpoint of improving the wet heat tolerance after salt water provision.
  • Use of a photopolymerizable compound in combination of a tri- or higher functional photopolymerizable compound and a bifunctional photopolymerizable compound improves wet heat resistance after application of salt water after exposing the overcoat layer after transfer. From the viewpoint, it is preferable.
  • the bifunctional photopolymerizable compound is preferably used in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 20 to 85% by mass with respect to all the photopolymerizable compounds, and 30 to 80% by mass.
  • the trifunctional or higher functional photopolymerizable compound is preferably used in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 15 to 80% by mass, with respect to all the photopolymerizable compounds. It is particularly preferable to use in the range of mass%.
  • the photopolymerizable compound includes at least a compound having two ethylenically unsaturated groups and a compound having at least three ethylenically unsaturated groups, and a compound having two (meth) acryloyl groups and at least 3 More preferably, it contains at least a compound having two (meth) acryloyl groups.
  • a urethane (meth) acrylate compound is included as the above-mentioned photopolymerizable compound.
  • the mixing amount of the urethane (meth) acrylate compound is preferably 10% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more with respect to all the photopolymerizable compounds.
  • the number of functional groups of the photopolymerizable group that is, the number of (meth) acryloyl groups is preferably 3 or more, and more preferably 4 or more.
  • the photopolymerizable compound having a bifunctional ethylenically unsaturated group is not particularly limited as long as it is a compound having two ethylenically unsaturated groups in the molecule, and a commercially available (meth) acrylate compound can be used.
  • tricyclodecane dimethanol diacrylate A-DCP Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • tricyclodecane dimenanol dimethacrylate DCP Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 1,9-nonanediol di Acrylate A-NOD-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 1,6-hexanediol diacrylate A-HD-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • the photopolymerizable compound having a trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated group is not particularly limited as long as it is a compound having three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule.
  • dipentaerythritol (tri / tetra / penta / (Hexa) acrylate, pentaerythritol (tri / tetra) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, isocyanuric acid acrylate and other (meth) acrylate compounds can be used, but span between (meth) acrylates Longer lengths are preferred.
  • skeletons such as the aforementioned dipentaerythritol (tri / tetra / penta / hexa) acrylate, pentaerythritol (tri / tetra) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, isocyanuric acid acrylate ( Caprolactone-modified compounds of meth) acrylate compounds (Nippon Kayaku KAYARAD DPCA, Shin-Nakamura Chemical A-9300-1CL, etc.), alkylene oxide-modified compounds (Nippon Kayaku KAYARAD RP-1040, Shin-Nakamura Chemical ATM- 35E, A-9300, EBECRYL 135 manufactured by Daicel Ornex, etc.) can be preferably used.
  • a carboxyl group-containing polybasic acid-modified (meth) acrylate monomer (Aronix M-510, M-520 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be preferably used.
  • Tri- or more functional urethane (meth) acrylates include 8UX-015A (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), UA-32P (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), UA-1100H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) And the like can be preferably used.
  • the photopolymerizable compound preferably has an average molecular weight of 200 to 3000, more preferably 250 to 2600, and particularly preferably 280 to 2200.
  • a photopolymerizable compound that is also a thermopolymerizable compound can be preferably used as the thermopolymerizable compound.
  • the ratio of the polymerizable compound to the above-mentioned binder polymer is preferably 0.1 to 2 times, 0.2 The ratio is more preferably 1.5 times, and particularly preferably 0.3 to 1 times.
  • the above-mentioned overcoat layer preferably contains a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator may be a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator.
  • the overcoat layer preferably has a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator used in the organic solvent-based resin composition the photopolymerization initiators described in paragraphs 0031 to 0042 described in JP 2011-95716 A can be used.
  • the thermal polymerization initiator those described in paragraphs 0193 to 0195 of JP2011-32186A can be preferably used, and the contents of this publication are incorporated herein.
  • the polymerization initiator is preferably contained in an amount of 1% by mass or more, and more preferably 2% by mass or more with respect to the overcoat layer.
  • the polymerization initiator is preferably contained in an amount of 10% by mass or less, and preferably 5% by mass or less, with respect to the overcoat layer. More preferable from the viewpoint.
  • the above-mentioned overcoat layer may or may not contain particles (preferably metal oxide particles) for the purpose of adjusting the refractive index and light transmittance.
  • metal oxide particles can be included in an arbitrary ratio depending on the type of polymer or polymerizable compound used.
  • the metal oxide particles are preferably contained in an amount of 0 to 35% by mass, more preferably 0 to 10% by mass with respect to the overcoat layer. It is particularly preferred. Since the metal oxide particles have high transparency and light transparency, a positive curable resin composition having a high refractive index and excellent transparency can be obtained.
  • the metal oxide particles described above are preferably those having a refractive index higher than that of a composition made of a material obtained by removing the particles from the overcoat layer.
  • the metal of the metal oxide particles described above includes metalloids such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
  • the light-transmitting and high refractive index metal oxide particles include Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Yb, Lu, Ti, Zr, Hf, and Nb.
  • Oxide particles containing atoms such as Mo, W, Zn, B, Al, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, and Te are preferable.
  • Titanium oxide, titanium composite oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium / Tin oxide and antimony / tin oxide are more preferable, titanium oxide, titanium composite oxide and zirconium oxide are more preferable, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable, and titanium dioxide is most preferable. Titanium dioxide is particularly preferably a rutile type having a high refractive index. The surface of these metal oxide particles can be treated with an organic material in order to impart dispersion stability.
  • the average primary particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 to 200 nm, particularly preferably 3 to 80 nm.
  • the average primary particle diameter of the particles refers to an arithmetic average obtained by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles with an electron microscope. When the particle shape is not spherical, the longest side is the diameter.
  • the overcoat layer preferably has at least one of ZrO 2 particles, Nb 2 O 5 particles, and TiO 2 particles from the viewpoint of controlling the refractive index within the above-described refractive index range of the overcoat layer, and ZrO 2 Particles and Nb 2 O 5 particles are more preferred.
  • the film sensor manufacturing method of the present invention covers a transparent substrate sheet, electrode patterns arranged on both surfaces of the substrate sheet, routing wires connected to the electrode pattern, and the electrode pattern.
  • the film sensor of the present invention further has a transparent film having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm
  • the transparent film is directly formed on the transparent substrate sheet.
  • the film is formed through another layer.
  • the method for forming the transparent film is not particularly limited, but is preferably formed by transfer or sputtering.
  • the aforementioned electrode pattern, the aforementioned light-shielding conductive film and the aforementioned routing wiring can be formed on a film substrate using a photosensitive film. At least one element of the first electrode pattern 3, the second electrode pattern 4, and the routing wiring 6 is formed using a photosensitive film having a temporary support and a photo-curable resin layer in this order. Is preferred.
  • a photosensitive film having a temporary support and a photo-curable resin layer in this order.
  • the electrode pattern and the light-shielding conductive film are preferably formed by the method described in ⁇ 0030> to ⁇ 0042> of Japanese Patent No. 5026580.
  • the above-described photosensitive film other than the transfer film of the present invention which is preferably used when producing the film sensor of the present invention or the below-described front plate integrated sensor, will be described.
  • the aforementioned photosensitive film preferably has a temporary support and a photocurable resin layer, and preferably has a thermoplastic resin layer between the temporary support and the photocurable resin layer.
  • the photo-curable resin layer is transferred.
  • bubbles are less likely to be generated in the formed element, image unevenness and the like are less likely to occur in the image display device, and excellent display characteristics can be obtained.
  • the aforementioned photosensitive film may be a negative type material or a positive type material.
  • thermoplastic resin layers described in ⁇ 0041> to ⁇ 0047> of JP-A-2014-108541 can be used.
  • a method for producing the above-described photosensitive film the same method as that described in ⁇ 0041> to ⁇ 0047> of JP-A-2014-108541 can be used.
  • the above-mentioned photosensitive film adds an additive to a photocurable resin layer according to the use. That is, when using the above-mentioned photosensitive film for formation of the 2nd decoration layer, a colorant is included in a photocurable resin layer.
  • the photosensitive film has a conductive photo-curable resin layer to form the electrode pattern, the light-shielding conductive film, and the lead-out wiring, the conductive film is conductive in the photo-curable resin layer. Contains a natural fiber.
  • the photocurable resin layer preferably contains an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a polymerization initiator. Furthermore, although a conductive fiber, a coloring agent, other additives, etc. are used, it is not restricted to this.
  • alkali-soluble resin, the polymerizable compound and the polymerization initiator contained in the photosensitive film the same alkali-soluble resin, polymerizable compound and polymerization initiator as those used in the transfer film of the present invention should be used. Can do.
  • a solid structure or a hollow structure is preferable.
  • the fiber having a solid structure may be referred to as “wire”, and the fiber having a hollow structure may be referred to as “tube”.
  • a conductive fiber having an average minor axis length of 1 nm to 1,000 nm and an average major axis length of 1 ⁇ m to 100 ⁇ m may be referred to as “nanowire”.
  • a conductive fiber having an average minor axis length of 1 nm to 1,000 nm, an average major axis length of 0.1 ⁇ m to 1,000 ⁇ m, and having a hollow structure may be referred to as “nanotube”.
  • the conductive fiber material is not particularly limited as long as it has conductivity, and can be appropriately selected according to the purpose. However, at least one of metal and carbon is preferable, and among these, The conductive fiber is particularly preferably at least one of metal nanowires, metal nanotubes, and carbon nanotubes.
  • the at least 1 sort (s) of metal chosen from the group which consists of a 4th period, a 5th period, and a 6th period of a long periodic table is preferable. More preferably, at least one metal selected from Group 2 to Group 14 is selected from Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, Group 13, and Group At least one metal selected from Group 14 is more preferable, and it is particularly preferable to include it as a main component.
  • Examples of the metal include copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantel, titanium, bismuth, antimony, Examples thereof include lead and alloys thereof. Among these, in view of excellent conductivity, those mainly containing silver or those containing an alloy of silver and a metal other than silver are preferable. Containing mainly the above-mentioned silver means containing 50 mass% or more, preferably 90 mass% or more of silver in the metal nanowire. Examples of the metal used in the aforementioned alloy with silver include platinum, osmium, palladium and iridium. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a shape of the above-mentioned metal nanowire there is no restriction
  • the cross-sectional shape of the aforementioned metal nanowire can be examined by applying a metal nanowire aqueous dispersion on a substrate and observing the cross-section with a transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • the above-mentioned corner of the cross section of the metal nanowire means a peripheral portion of a point that extends each side of the cross section and intersects with a perpendicular drawn from an adjacent side.
  • “each side of the cross section” is a straight line connecting these adjacent corners.
  • the ratio of the above-mentioned “periphery length of the cross section” to the total length of the “each side of the cross section” was defined as the sharpness.
  • the sharpness can be represented by the ratio of the outer peripheral length of the cross section indicated by the solid line and the outer peripheral length of the pentagon indicated by the dotted line.
  • a cross-sectional shape having a sharpness of 75% or less is defined as a cross-sectional shape having rounded corners.
  • the sharpness is preferably 60% or less, and more preferably 50% or less. If the sharpness exceeds 75%, electrons may be localized at this corner and plasmon absorption may increase, or the transparency may deteriorate due to a yellowish color remaining. Moreover, the linearity of the edge part of a pattern may fall and a shakiness may arise.
  • the lower limit of the sharpness is preferably 30%, more preferably 40%.
  • the average short axis length (sometimes referred to as “average short axis diameter” or “average diameter”) of the metal nanowire is preferably 150 nm or less, more preferably 1 nm to 40 nm, and even more preferably 10 nm to 40 nm. 15 nm to 35 nm is particularly preferable.
  • the average minor axis length is less than 1 nm, the oxidation resistance may be deteriorated and the durability may be deteriorated.
  • the average minor axis length is more than 150 nm, scattering due to metal nanowires occurs and sufficient transparency is obtained. There are things you can't get.
  • the average minor axis length of the above-mentioned metal nanowires was determined by observing 300 metal nanowires using a transmission electron microscope (TEM; manufactured by JEOL Ltd., JEM-2000FX). The average minor axis length of the wire was determined. The short axis length when the short axis of the metal nanowire was not circular was the shortest axis.
  • the average major axis length (sometimes referred to as “average length”) of the metal nanowire is preferably 1 ⁇ m to 40 ⁇ m, more preferably 3 ⁇ m to 35 ⁇ m, and even more preferably 5 ⁇ m to 30 ⁇ m. If the average major axis length is less than 1 ⁇ m, it is difficult to form a dense network and sufficient conductivity may not be obtained. If it exceeds 40 ⁇ m, the metal nanowires are too long. It may become entangled during production, and aggregates may be produced during the production process.
  • the average major axis length of the above-mentioned metal nanowires is, for example, a transmission electron microscope (TEM; manufactured by JEOL Ltd., JEM-2000FX).
  • the average major axis length of the metal nanowires was determined.
  • yen which makes it an arc was considered and the value calculated from the radius and curvature was made into the major axis length.
  • the thickness of the conductive photocurable resin layer is preferably from 0.1 to 20 ⁇ m, and preferably from 0.5 to 18 ⁇ m, from the viewpoint of process suitability such as coating solution stability, drying during coating, and development time during patterning. Further preferred is 1 to 15 ⁇ m.
  • the content of the conductive fiber with respect to the total solid content of the conductive photocurable resin layer is preferably 0.01 to 50% by mass from the viewpoint of conductivity and stability of the coating solution, and is preferably 0.05 to 30% by mass is more preferable, and 0.1 to 20% by mass is particularly preferable.
  • a coloring agent can be used for a photocurable resin layer.
  • known colorants organic pigments, inorganic pigments, dyes, etc.
  • the above-mentioned photocurable resin layer is used as a black second decorative layer, it is preferable to include a black colorant from the viewpoint of optical density.
  • the black colorant include carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, and graphite. Among these, carbon black is preferable.
  • a mixture of pigments such as red, blue, and green can be used for the photocurable resin layer.
  • the white pigment described in paragraphs 0015 and 0114 of JP-A-2005-7765 can be used.
  • pigments or dyes described in paragraphs 0183 to 0185 of Japanese Patent No. 4546276 may be mixed and used.
  • pigments and dyes described in paragraphs 0038 to 0054 of JP-A-2005-17716, pigments described in paragraphs 0068 to 0072 of JP-A-2004-361447, paragraphs of JP-A-2005-17521 The colorants described in 0080 to 0088 can be preferably used.
  • the aforementioned colorant (preferably a pigment, more preferably carbon black) is desirably used as a dispersion.
  • This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing the aforementioned colorant and pigment dispersant in an organic solvent (or vehicle) described later.
  • the aforementioned vehicle refers to a portion of the medium in which the pigment is dispersed when the paint is in a liquid state, and is a liquid component that binds with the aforementioned pigment to form a coating film (binder) and dissolves this. Component to dilute (organic solvent).
  • the disperser used for dispersing the pigment is not particularly limited.
  • kneader described in Kazuzo Asakura, “Encyclopedia of Pigments”, First Edition, Asakura Shoten, 2000, Item 438.
  • Known dispersers such as a roll mill, an atrider, a super mill, a dissolver, a homomixer, a sand mill, and a bead mill.
  • fine grinding may be performed using frictional force by mechanical grinding described in page 310 of this document.
  • the aforementioned colorant is preferably a colorant having a number average particle size of 0.001 ⁇ m to 0.1 ⁇ m, more preferably 0.01 ⁇ m to 0.08 ⁇ m, from the viewpoint of dispersion stability.
  • the “particle size” as used herein refers to the diameter when the electron micrograph image of the particle is a circle of the same area, and the “number average particle size” is the above-mentioned particle size for a large number of particles, Among these, the average value of 100 particle diameters arbitrarily selected is said.
  • the layer thickness of the photocurable resin layer containing the colorant is preferably 0.5 to 10 ⁇ m, more preferably 0.8 to 5 ⁇ m, and particularly preferably 1 to 3 ⁇ m, from the viewpoint of thickness difference from other layers.
  • the content of the colorant in the solid content of the coloring composition is not particularly limited, but is preferably 15 to 70% by mass, and preferably 20 to 60% by mass from the viewpoint of sufficiently shortening the development time. More preferably, it is more preferably 25 to 50% by mass.
  • the total solid content as used in this specification means the total mass of the non-volatile component except a solvent etc. from the coloring composition.
  • the layer thickness of the photocurable resin layer is preferably 0.1 to 5 ⁇ m, more preferably 0.3 to 3 ⁇ m from the viewpoint of maintaining insulation. 0.5 to 2 ⁇ m is particularly preferable.
  • additives may be used for the above-mentioned photocurable resin layer.
  • the same additives as those used for the transfer film of the present invention can be used.
  • the solvent similar to what is used for the transfer film of this invention can be used.
  • the above-described photosensitive film is a negative type material
  • the above-described photosensitive film may be a positive type material.
  • a positive type material for example, a material described in JP-A-2005-221726 is used for the photocurable resin layer, but is not limited thereto.
  • the first electrode pattern 3, the second electrode pattern 4, and the routing wiring 6 are formed using the above-described photosensitive film having an etching process or a conductive photocurable resin layer, or using the photosensitive film as a lift-off material. Can be formed using.
  • etching pattern Even when the above-described photosensitive film is used as an etching resist (etching pattern), a resist pattern can be obtained in the same manner as described above.
  • etching and resist stripping can be applied by a known method described in paragraphs 0048 to 0054 of JP 2010-152155 A.
  • an etching method there is a commonly performed wet etching method of dipping in an etching solution.
  • an etchant used for wet etching an acid type or alkaline type etchant may be appropriately selected in accordance with an object to be etched.
  • acidic etching solutions include aqueous solutions of acidic components such as hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, and phosphoric acid, and mixed aqueous solutions of acidic components and salts of ferric chloride, ammonium fluoride, potassium permanganate, and the like. Is done.
  • the acidic component a combination of a plurality of acidic components may be used.
  • alkaline type etching solutions include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, organic amines, aqueous solutions of alkali components such as organic amine salts such as tetramethylammonium hydroxide, alkaline components and potassium permanganate.
  • alkali components such as organic amine salts such as tetramethylammonium hydroxide, alkaline components and potassium permanganate.
  • a mixed aqueous solution of a salt such as A combination of a plurality of alkali components may be used as the alkali component.
  • the temperature of the etching solution is not particularly limited, but is preferably 45 ° C. or lower.
  • the resin pattern used as an etching mask (etching pattern) in the present invention is formed by using the above-described photocurable resin layer, so that it is particularly suitable for acidic and alkaline etching solutions in such a temperature range. Excellent resistance. Therefore, the resin pattern is prevented from peeling off during the etching process, and the portion where the resin pattern does not exist is selectively etched.
  • a cleaning process and a drying process may be performed as necessary to prevent line contamination.
  • the cleaning process is performed by cleaning the substrate with pure water for 10 to 300 seconds at room temperature, for example, and the air blowing pressure (about 0.1 to 5 kg / cm 2 ) is appropriately adjusted using an air blow for the drying process. Just do it.
  • the method of peeling the resin pattern is not particularly limited, and examples thereof include a method of immersing the substrate in a peeling solution being stirred at 30 to 80 ° C., preferably 50 to 80 ° C. for 5 to 30 minutes.
  • the resin pattern used as an etching mask in the present invention exhibits excellent chemical resistance at 45 ° C. or lower as described above, but exhibits a property of swelling by an alkaline stripping solution when the chemical temperature is 50 ° C. or higher. . Due to such properties, when the peeling process is performed using a peeling solution of 50 to 80 ° C., there are advantages that the process time is shortened and the resin pattern peeling residue is reduced.
  • the resin pattern used as an etching mask in the present invention exhibits good chemical resistance in the etching step, while the peeling step. In this case, good releasability is exhibited, and both contradictory properties of chemical resistance and releasability can be satisfied.
  • the stripping solution examples include inorganic alkali components such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, organic alkali components such as tertiary amine and quaternary ammonium salt, water, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, or these.
  • a stripping solution dissolved in a mixed solution of You may peel by the spray method, the shower method, the paddle method etc. using the above-mentioned stripping solution.
  • the surface of the front plate 1 is formed. It can be formed by transferring the above-mentioned conductive photo-curable resin layer.
  • the resist component is not leaked from the opening even on the substrate (front plate) having the opening.
  • the first electrode pattern 3 or the like is formed by using the above-described photosensitive film having a specific layer structure having a thermoplastic resin layer between the conductive photocurable resin layer and the temporary support. The generation of bubbles during laminating of the conductive film can be prevented, and the first electrode pattern 3, the second electrode pattern 4, and the lead wiring 6 having excellent conductivity and low resistance can be formed.
  • a 1st transparent electrode layer, a 2nd transparent electrode layer, and routing wiring can also be formed using the above-mentioned photosensitive film as a lift-off material.
  • a transparent conductive layer is formed on the entire surface of the substrate, and then the above-described photocurable resin layer is dissolved and removed together with the deposited transparent conductive layer to obtain a desired transparent A conductive layer pattern can be obtained (lift-off method).
  • the step of laminating the overcoat layer is preferably a transfer (bonding) step.
  • the transfer step means that the overcoat layer is laminated from the transfer film as a result of being laminated on an arbitrary material (for example, a substrate on which an electrode pattern, a light-shielding conductive film, a lead wiring, or the like is formed).
  • an arbitrary material for example, a substrate on which an electrode pattern, a light-shielding conductive film, a lead wiring, or the like is formed.
  • a method including a step of removing the temporary support after laminating the above-mentioned overcoat layer of the transfer film on the substrate is preferable.
  • the overcoat layer is laminated so as to cover the electrode pattern.
  • the step of laminating the overcoat layer on the substrate on which the electrode pattern, the light-shielding conductive film, the routing wiring, etc. are formed is to superimpose the above-mentioned overcoat layer on the surface of the substrate, and pressurize and heat. Preferably, it is done.
  • a known laminator such as a laminator, a vacuum laminator, and an auto-cut laminator capable of further improving productivity can be used.
  • the laminator preferably comprises any heatable roller such as a rubber roller and can be pressurized and heated.
  • the temperature at the time of laminating the overcoat layer and the base material in the step of laminating the overcoat layer is preferably 60 to 150 ° C., more preferably 65 to 130 ° C., and 70 to 100 ° C. It is particularly preferred.
  • a linear pressure of 60 to 200 N / cm is preferably applied between the overcoat layer and the substrate in the step of laminating the overcoat layer, more preferably a linear pressure of 70 to 160 N / cm is applied, and a linear pressure of 80 to It is particularly preferred to apply 120 N / cm.
  • the transport speed of the overcoat layer in the step of laminating the overcoat layer is preferably 2.0 m / min or more, more preferably 3.0 m / min or more, and still more preferably 4.0 m / min or more. Even during such high-speed laminating, bubbles can be prevented from being mixed when laminating to the substrate.
  • the method for producing a film sensor preferably includes an exposure step of exposing the overcoat layer and a development step of developing the exposed overcoat layer.
  • the overcoat layer exposure step and the development step will be described later.
  • the manufacturing method of the film sensor of this invention includes the process of forming a decoration layer.
  • the step of forming the decoration layer is to cover the transparent base sheet, the electrode patterns arranged on both surfaces of the base sheet, the routing wiring connected to the electrode pattern, and the electrode pattern.
  • the above-mentioned coloring composition layer is transcribe
  • the colored composition described above is formed on the surface of the overcoat layer of the film sensor in which each element is arbitrarily formed using the transfer film of the present invention. It is preferable to form by transferring the layer.
  • one surface of the above-described film sensor that transfers the above-described colored composition layer is formed on at least a part of the above-described lead wiring and at least a part of the above-described overcoat layer. More preferably, the region is included.
  • the film sensor manufacturing method includes a protective film removing step of removing the protective film from the transfer film of the present invention before the step of laminating the decorative layer. It is preferable.
  • the method for producing a film sensor includes an overcoat layer transferred onto a substrate (in a substrate on which no overcoat layer is laminated, a curable transparent resin layer or a colored composition layer, preferably a second transparent resin). Layer) and an exposed overcoat layer (in the case of a substrate on which the overcoat layer is not laminated, a curable transparent resin layer or a colored composition layer, preferably a second transparent resin layer) It is preferable to have a developing step for developing
  • the above-described exposure step is a step of exposing the above-described curable transparent resin layer, the above-described colored composition layer, and the like transferred onto the electrode pattern. Specifically, a predetermined mask is placed above the curable transparent resin layer and the colored composition layer formed on the electrode pattern, and then the mask is placed above the mask and temporary support.
  • the method of exposing the above-mentioned curable transparent resin layer and the above-mentioned coloring composition layer is mentioned.
  • the light source for the exposure is appropriately selected as long as it can irradiate light in a wavelength range (for example, 365 nm, 405 nm, etc.) capable of curing the curable transparent resin layer and the colored composition layer.
  • a wavelength range for example, 365 nm, 405 nm, etc.
  • an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are mentioned.
  • the exposure dose is usually about 5 to 200 mJ / cm 2 , preferably about
  • the above-described developing step is a step of developing the exposed curable transparent resin layer, the above-described colored composition layer, and the like.
  • the above-described developing step is a developing step in a narrow sense in which the pattern-exposed curable transparent resin layer and the colored composition layer described above are pattern-developed with a developer.
  • the development described above can be performed using a developer.
  • the developer is not particularly limited, and a known developer such as the developer described in JP-A-5-72724 can be used.
  • the developer is preferably a developer in which a photocurable resin layer or the above-described colored composition layer has a dissolution type development behavior.
  • a compound having a pKa 7 to 13 at a concentration of 0.05 to 5 mol / L.
  • the developing solution containing is preferable.
  • the developer in the case where the curable transparent resin layer or the colored composition layer itself does not form a pattern is preferably a developer having a development behavior that does not dissolve the non-alkaline development type colored composition layer.
  • a small amount of an organic solvent miscible with water may be added to the developer.
  • organic solvents miscible with water examples include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, benzyl alcohol And acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ⁇ -caprolactone, ⁇ -butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ⁇ -caprolactam, N-methylpyrrolidone, and the like.
  • the concentration of the organic solvent is preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
  • a known surfactant can be further added to the developer.
  • the concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.
  • the development method described above may be any of paddle development, shower development, shower & spin development, dip development, and the like.
  • shower development will be described.
  • the uncured portion can be removed by spraying a developer onto the above-described curable transparent resin layer or the above-described colored composition layer after exposure. Further, after the development, it is preferable to remove the development residue while spraying a cleaning agent or the like with a shower and rubbing with a brush or the like.
  • the liquid temperature of the developer is preferably 20 ° C. to 40 ° C.
  • the pH of the developer is preferably 8 to 13.
  • the method for producing a film sensor of the present invention preferably includes a step of heat-treating the above-mentioned film sensor at 130 to 170 ° C. (post-baking step) after the above-mentioned step of transferring the colored composition layer.
  • a film sensor manufacturing method in which a decorative layer is formed after other members such as an electrode pattern, lead wiring, a light-shielding conductive film, and an overcoat layer are formed on a film substrate in advance by heat treatment at such a temperature.
  • heat treatment can be performed without adversely affecting other members.
  • the temperature of the heat treatment step is more preferably 140 to 160 ° C., and particularly preferably 140 to 150 ° C.
  • the time for the heat treatment step is preferably 1 to 60 minutes, more preferably 10 to 60 minutes, and particularly preferably 20 to 50 minutes.
  • the manufacturing method of a film sensor may have a post exposure process and other processes.
  • patterning exposure and whole surface exposure may be performed after peeling the temporary support, or may be performed before peeling the temporary support, and then the temporary support may be peeled off. Exposure through a mask may be used, or digital exposure using a laser or the like may be used.
  • the front plate integrated sensor of the present invention has a transparent front plate and the film sensor of the present invention.
  • the front plate integrated sensor is preferably a capacitive input device.
  • the detail of the preferable aspect of the front plate integrated sensor of this invention is demonstrated.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a preferred configuration of the front plate integrated sensor of the present invention.
  • the front plate integrated sensor includes a transparent substrate (front plate) 1, a second decorative layer (mask layer) 2, and the film sensor 43 of the present invention is shown. Yes.
  • the side where each element of the transparent front plate 1 is provided is referred to as a non-contact surface side.
  • input is performed by bringing a finger or the like into contact with the contact surface (the surface opposite to the non-contact surface) of the transparent front plate 1.
  • the transparent front plate is preferably made of glass. More preferably, the transparent front plate is a glass substrate having a refractive index of 1.5 to 1.55. The refractive index of the transparent front plate is particularly preferably 1.5 to 1.52.
  • the transparent front plate described above is made of a light-transmitting substrate such as a glass substrate, and tempered glass represented by Corning's gorilla glass (“Gorilla” is a registered trademark) can be used.
  • Gorilla is a registered trademark
  • the transparent front plate the materials used in JP 2010-86684 A, JP 2010-152809 A, and JP 2010-257492 A can be preferably used.
  • the transparent front plate 1 can be provided with an opening 8 in part as shown in FIG.
  • a pressing mechanical switch can be installed in the opening 8.
  • the front plate integrated sensor of the present invention preferably has a second decorative layer in a partial region of one surface of the transparent front plate.
  • a second decorative layer 2 is provided on the non-contact surface of the transparent front plate 1.
  • the second decorative layer 2 is a frame-like (frame-like) pattern around the display area formed on the non-contact surface side of the touch panel front plate so that the routing wiring 6 and the like cannot be seen from the contact surface side. Formed to do.
  • the front plate integrated sensor is provided with a second decorative layer 2 so as to cover a part of the transparent front plate 1 (a region other than the input surface in FIG. 2). It is preferable.
  • the second decorative layer described above is provided in a frame shape around the surface of the contact surface opposite to the area touched with a finger or a touch pen, so that the lead wiring of the electrode pattern cannot be seen from the contact side, or applied. It is provided to decorate.
  • the second decorative layer described above is preferably a white or black second decorative layer. More preferably, the second decorative layer is provided adjacent to the transparent front plate.
  • the thickness of the second decorative layer 2 is preferably 7 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the second decorative layer is disposed between the transparent front plate and the decorative layer of the film sensor.
  • the orthographic projection of the second decorative layer is at least part of the decorative layer of the film sensor. It is preferable to overlap the region. It is preferable that the inner edge of the decorative layer 45 of the above-mentioned film sensor is located closer to the center than the inner edge of the above-mentioned second decorative layer 2.
  • the distance between the surface of the transparent front plate 1 on which the second decorative layer is formed and the decorative layer 45 of the film sensor is 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the thickness is 10 ⁇ m or more, the thickness of the pressure-sensitive adhesive is sufficiently thick and the adhesion between the film sensor and the transparent front plate 1 is increased, and when the thickness is 100 ⁇ m or less, the appearance and unity of the portion surrounding the display screen is increased.
  • FIG. 4 is a top view showing an example of a transparent front plate 1 made of tempered glass having openings 8 formed therein.
  • FIG. 5 is a top view showing an example of the front plate integrated sensor in which the second decorative layer 2 is formed.
  • 6 to 8 show an example of the configuration of a front plate integrated sensor in which film sensors are laminated.
  • FIG. 6 is a top view showing an example of a front plate integrated sensor in which film sensors are laminated to form the first electrode pattern 3.
  • FIG. 4 is a top view showing an example of a transparent front plate 1 made of tempered glass having openings 8 formed therein.
  • FIG. 5 is a top view showing an example of the front plate integrated sensor in which the second decorative layer 2 is formed.
  • 6 to 8 show an example of the configuration of a front plate integrated sensor in which film sensors are laminated.
  • FIG. 6 is a top view showing an example of a front plate integrated sensor in which film sensors are laminated to form the first electrode pattern 3.
  • FIG. 7 is a top view showing an example of a front plate integrated sensor in which film sensors are laminated to form a first electrode pattern 3 and a second electrode pattern 4.
  • FIG. 8 is a top view showing an example of a front plate integrated sensor in which film sensors are laminated to form first and second electrode patterns and lead wirings 6.
  • the second decorative layer 2 is preferably formed using a photosensitive film having a temporary support and a photocurable resin layer in this order.
  • the above-mentioned second decorative layer is formed using the transfer film of the present invention or the above-described photosensitive film, there is no resist component leakage from the opening even in the substrate having the opening (front plate).
  • the second decorative layer that needs to form a light-shielding pattern just above the boundary line there is no protrusion of the resist component from the glass edge.
  • a front plate integrated sensor having a layered structure and a reduced weight can be manufactured.
  • the photosensitive film is laminated on a base material, and then exposed in a pattern as necessary.
  • the pattern can be obtained by removing the exposed portion by developing the non-exposed portion and in the case of a positive type material.
  • the thermoplastic resin layer and the photocurable resin layer may be developed and removed with separate liquids, or may be removed with the same liquid. You may combine well-known image development facilities, such as a brush and a high pressure jet, as needed. After the development, post-exposure and post-bake may be performed as necessary.
  • the aforementioned second decorative layer 2 can be formed by transferring the photocurable resin layer to the transparent front plate 1 or the like using the aforementioned photosensitive film.
  • the above-described transparent front plate 1 using the above-described photosensitive film having the black photo-curable resin layer as the above-described photo-curable resin layer. It can be formed by transferring the above-mentioned black photo-curable resin layer to the surface.
  • the above-mentioned photosensitive film having a specific layer structure having a thermoplastic resin layer between the photocurable resin layer and the temporary support is used for forming the second decorative layer 2 that needs light shielding properties. By this, the bubble generation at the time of photosensitive film lamination can be prevented, and the high-quality second decorative layer 2 having no light leakage can be formed.
  • the image display device of the present invention is an image display device including the front plate integrated sensor of the present invention as a constituent element.
  • the front panel integrated sensor of the present invention and the image display device provided with the front panel integrated sensor as a constituent element are “latest touch panel technology” (Techno Times, issued July 6, 2009), supervised by Yuji Mitani.
  • the configurations disclosed in “Technology and Development of Touch Panels”, CMC Publishing (2004, 12), FPD International 2009 Forum T-11 Lecture Textbook, Cypress Semiconductor Corporation Application Note AN2292, and the like can be applied.
  • Example 1 ⁇ Preparation of coloring composition> Carbon black, a dispersant, a polymer and a solvent were mixed so that the composition of the following K pigment dispersion 1 was obtained, and a K pigment dispersion 1 was obtained using a three roll and bead mill.
  • a black composition K1 (colored composition), which is a colored composition for forming the colored composition layer, was obtained by the following procedure. First, K pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate (MMPGAc) in the amounts shown in Table 1 were weighed, mixed at a temperature of 24 ° C. ( ⁇ 2 ° C.), and stirred at 150 RPM (Round Per Minutes) for 10 minutes. . Next, the amounts of methyl ethyl ketone, 1-methoxy-2-propyl acetate, binder, phenothiazine, polymerizable compound, polymerization initiator and surfactant described in Table 1 are weighed and stirred at a temperature of 25 ° C. ( ⁇ 2 ° C.). It added to the latter solution in this order, and it stirred for 30 minutes at 150 RPM under the temperature of 24 degreeC (+/- 2 degreeC). In addition, the quantity described in Table 1 is the number of parts based on mass.
  • MMPGAc propylene glyco
  • thermoplastic resin layer having the following formulation H1 was applied and dried using a slit nozzle.
  • an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied and dried.
  • the black composition K1 which is the above-described coloring composition for forming the coloring composition layer, was applied and dried.
  • a protective film (12 ⁇ m thick polypropylene film) was pressure-bonded.
  • a transfer film of Example 1 was produced in which the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), the black (K) coloring composition layer, and the protective film were integrated.
  • 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • the protective film was removed from the obtained transfer film of Example 1, the surface of the black colored composition layer exposed after the removal, and a cycloolefin copolymer film (COP film, manufactured by TOPAS Advanced Polymers GmbH, trade name) as a substrate TOPAS 5013L-10) is laminated so that the surface is in contact with each other, and using a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd. (Lamic II type)), rubber roller temperature is 130 ° C., linear pressure is 100 N / cm, conveyance speed is 2.2 m. Laminated at / min. Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the temporary support.
  • COP film manufactured by TOPAS Advanced Polymers GmbH, trade name
  • exposure is performed with a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp with the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically.
  • the distance between the mask surface and the black colored composition layer was set to 200 ⁇ m, and pattern exposure was performed at an exposure amount of 70 mJ / cm 2 .
  • triethanolamine developer (containing 30% by mass of triethanolamine, trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 12 times with pure water (1 part of T-PD2 and 11 parts of pure water)
  • the mixture was diluted at 30 ° C. for 20 seconds at a flat nozzle pressure of 0.1 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.
  • air was blown on the upper surface of the COP film to drain the liquid, and then pure water was sprayed for 10 seconds by showering, followed by pure water shower cleaning, and air was blown to reduce the liquid pool on the substrate.
  • a sodium carbonate / sodium hydrogen carbonate developer (trade name: T-CD1 (manufactured by FUJIFILM Corporation) is diluted 5 times with pure water (mixed with 1 part of T-CD1 and 4 parts of pure water).
  • the shower pressure was set to 0.1 MPa at 30 ° C. using a diluted liquid), and the colored composition layer was developed for 30 seconds and washed with pure water.
  • the pattern line width (W1) with respect to the mask line width of 12.0 ⁇ m (W2) was measured with a micro line width measuring device (CP-30; manufactured by Softworks), and the sensitivity was evaluated according to the following evaluation criteria. A larger value is preferable, and A, B, or C is in a practical range, A or B is preferable, and A is more preferable.
  • Table 3 The results obtained are shown in Table 3 below.
  • the protective film is removed from the transfer film of Example 1 produced by the above production method, and the surface of the black colored composition layer exposed after the removal is in contact with the surface of the Eagle XG glass substrate (manufactured by Corning). Lamination was performed using a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd. (Lamic II type)) at a rubber roller temperature of 130 ° C., a linear pressure of 100 N / cm, and a conveying speed of 2.2 m / min. Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the temporary support.
  • a laminator manufactured by Hitachi Industries, Ltd. (Lamic II type)
  • a proximity type exposure machine manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd. having an ultra-high pressure mercury lamp with the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically.
  • the distance between the mask surface and the black colored composition layer was set to 200 ⁇ m, and the entire surface was exposed with an exposure amount of 500 mJ / cm 2 .
  • triethanolamine developer (containing 30% by mass of triethanolamine, trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 12 times with pure water (1 part of T-PD2 and 11 parts of pure water)
  • the mixture was diluted at 30 ° C. for 20 seconds at a flat nozzle pressure of 0.1 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.
  • air was blown on the upper surface of the bare wafer substrate to drain the liquid, and then pure water was sprayed for 10 seconds by a shower, pure water shower cleaning was performed, and air was blown to reduce a liquid pool on the substrate. Then, it heated for 60 minutes at 145 degreeC in oven, and obtained the cured film.
  • the surface resistance of this cured film was measured using Hiresta-UX MCP-HT800 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analic).
  • the evaluation criteria are as follows. The larger the value ( ⁇ / sq) is, the more preferable, A, B or C is in the practical range, A or B is preferable, and A is more preferable.
  • Table 3 The obtained results are shown in Table 3 below.
  • a binder polymer solution (solid content 45 mass%) (A1) having a weight average molecular weight of about 80,000.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer was 65000, and the acid value was 78 mgKOH / g.
  • Binder polymer solution (A1) 133 parts by mass IRGACURE OXE01 (manufactured by BASF, photopolymerization initiator) 5 parts by mass KAYARAD PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., mixture of pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate) 40 parts by mass 2,2′-methylene-bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) 0.1 part by mass octamethylcyclotetrasiloxane 0.1 part by mass methyl ethyl ketone 50 parts by mass
  • the photosensitive coating solution A for resist prepared above was uniformly applied on the temporary support using a slit-like nozzle, and dried at 100 ° C. with hot air convection.
  • a photosensitive layer was formed by removing the solvent by drying for 3 minutes in a machine, and a dry film resist for an overcoat layer was obtained.
  • the resulting photosensitive layer had a thickness of 2.5 ⁇ m.
  • a transparent polyester film having a thickness of 200 ⁇ m unwound from a roll is used as a transparent base sheet, and a transparent conductive film made of indium tin oxide on one side thereof (conductive film for the first electrode pattern or the second electrode pattern) was formed with a thickness of 200 nm by a sputtering method, and a copper film (conductive film for a light-shielding conductive film and a lead wiring) was formed with a thickness of 500 nm on the transparent conductive film by a sputtering method to prepare a conductive film.
  • two (one set) conductive films are laminated using a transparent adhesive so that both sides of the polyester film face each other, and a transparent conductive film, a light-shielding conductive film, and a conductive film for routing wiring are provided on both sides.
  • a laminated body in which each of these was laminated was obtained.
  • a dry film resist provided with a negative acrylic photosensitive layer that can be developed with a 1% sodium carbonate solution
  • a first photoresist layer having a thickness of 10 nm is formed on both surfaces of the laminate, respectively.
  • a mask having an electrode pattern in the X direction is placed on one surface side, and a mask having an electrode pattern in the Y direction is placed on the other surface side, and both surfaces of the laminate are simultaneously exposed by a metal halide lamp.
  • the transparent conductive film made of indium tin oxide and the copper film in the portion where the first photoresist layer patterned with the ferric chloride etchant was not laminated were simultaneously etched away.
  • a laminate of the second electrode pattern in the X direction and the light-shielding conductive film was formed on one surface side of the central window portion of the transparent substrate sheet with the light-shielding conductive film exposed.
  • a laminated body of the first electrode pattern in the Y direction and the light-shielding conductive film was formed on the other surface side of the central window portion of the transparent base sheet with the light-shielding conductive film exposed.
  • the outer frame part surrounding the central window part has a first electrode pattern (or second electrode pattern), a light-shielding conductive film, and a fine line routing pattern used as a routing wiring connected to an electrode pattern having an average line width of 20 ⁇ m.
  • the laminate was formed with the routing wiring exposed on both front and back surfaces.
  • a dry photoresist having a negative acrylic photosensitive layer that can be developed with a 1% sodium carbonate solution and a second photoresist having a thickness of 10 nm is used.
  • Each layer is formed on both surfaces, and a mask is placed on the outer frame portion excluding the terminal portions on both surfaces of the second photoresist layer. Both surfaces are simultaneously exposed with a metal halide lamp and immersed in 1% sodium carbonate solution.
  • the light-shielding conductive film which is the copper film of the central window portion exposed when the laminate is immersed in hydrogen peroxide solution in an acidic atmosphere is etched away, and the first electrode pattern or the indium tin oxide film is removed. The second electrode pattern was exposed.
  • a third photoresist layer is formed on both sides using a dry film resist for an overcoat layer, and both sides of the third photoresist layer are formed.
  • a mask was placed on the outer frame portion excluding the terminal portion, and both side surfaces were simultaneously exposed by a metal halide lamp, developed by immersion in 1% sodium carbonate solution, and an overcoat layer was formed so as to cover the electrode pattern.
  • a colored composition layer having a thickness of 2 ⁇ m was drawn from the transfer film of Example 1 as a fourth photoresist layer, and at least a part of the wiring and at least a part of the overcoat layer Transfer was performed on the entire surface on one side including the region (the side on which the second electrode pattern was formed).
  • a mask was placed thereon, the fourth photoresist layer was exposed by a metal halide lamp, and developed by being immersed in a 1% sodium carbonate solution. Then, it was cured by heating at 145 ° C. for 30 minutes in an oven. The remaining black fourth photoresist layer was used as a frame-shaped decorative layer.
  • one film sensor was cut to obtain the film sensor of Example 1.
  • the film sensor of Example 1 has a configuration in which the transparent film 11 is removed from the schematic diagram of the film sensor shown in FIG. 11A, and a part of the light-shielding conductive film 9 is the same member as the lead wiring 6.
  • the number of bubbles is less than 5
  • the number of bubbles is 5 or more and less than 30 C: 30 or more and less than 50
  • D 50 or more and less than 100
  • E 100 or more
  • Table 3 The results obtained are shown in Table 3 below. It was described in.
  • edge roughness In the film sensor of Example 1, the inner part of the frame-shaped decorative layer was observed using a laser microscope (VK-9500, manufactured by Keyence Corporation; objective lens 50 ⁇ ), and the edge position in the field of view was Find the difference between the most swollen part (mountain peak) and the most constricted part (valley bottom) as an absolute value, and calculate the average of the absolute values obtained by observing the five fields of view. Edge roughness was used. The smaller the edge roughness, the better the outline of the display screen of the cover glass integrated sensor. A, B or C is in the practical range, preferably A or B, more preferably A.
  • a glass substrate made of borosilicate glass having a thickness of 0.7 mm was used as the transparent front plate.
  • a cover glass was obtained by forming a second decorative layer having a thickness of 7 ⁇ m by screen printing using black ink on the peripheral edge of the surface of the transparent front plate to which the film sensor was bonded.
  • the film sensor of Example 1 is bonded to the side on which the second decorative layer of the cover glass is formed with a transparent adhesive, and the second decorative layer is a transparent front plate and the decorative layer of the film sensor.
  • a front plate integrated sensor of Example 1 (hereinafter also referred to as “cover glass integrated sensor”) disposed between the two was manufactured.
  • the inner edge of the decorative layer of the film sensor is located at the center side by 0.1 mm from the inner edge of the second decorative layer of the transparent front plate.
  • the orthographic projection of the second decorative layer overlapped at least a part of the decorative layer of the film sensor.
  • the distance between the surface of the glass substrate, which is a transparent front plate, to which the film sensor is bonded, and the decorative layer of the film sensor was 25 ⁇ m.
  • the front plate integrated sensor of Example 1 has a configuration in which the transparent film 11 is removed from the schematic diagram of the front plate integrated sensor shown in FIG. It is the same member.
  • Examples 2 to 11, 13 to 18, Comparative Examples 1 to 3 In the production of the transfer film of Example 1, instead of the black composition K1 which is a coloring composition for forming the coloring composition layer, the coloring composition described in Table 1 or Table 2 was used, and the film of the coloring composition layer was used. Except having changed thickness into the film thickness of Table 1 or Table 2, it carried out similarly to Example 1, produced the transfer film of each Example and the comparative example, and evaluated it. Thereafter, in the production of the film sensor and cover glass integrated sensor of Example 1, each Example was carried out in the same manner as Example 1 except that the transfer film of Example 1 was changed to the transfer film of each Example and Comparative Example. And the film sensor of the comparative example and the cover glass integrated sensor were produced and evaluated.
  • the K pigment dispersion 2 and the R pigment dispersion 3 described in Table 1 or Table 2 are each mixed with a pigment, a dispersant, a polymer, and a solvent so that the following composition is obtained. It was made using.
  • the following Nexex 35 manufactured by Degussa is a carbon black whose surface is not coated with a resin.
  • Example 12 In the production of the transfer film of Example 1, the same procedure as in Example 1 was carried out except that the black composition K1, which is a colored composition for forming the colored composition layer, was changed to the colored composition described in Table 2. Twelve transfer films were prepared and evaluated. Thereafter, in the production of the film sensor of Example 1, the film sensor of Example 12 was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the transfer film of Example 1 was changed to the transfer film of Example 12. went. A second decorative layer having a thickness of 7 nm was formed by screen printing using black ink on the peripheral portion of the non-contact surface of the transparent front plate made of a PET base having a thickness of 0.2 mm to obtain a front plate.
  • the fourth photoresist layer side of the film sensor of Example 12 and the second decorative layer side of the front plate were bonded together with a transparent adhesive material to form a front plate integrated sensor.
  • the inner edge of the decorative layer of the film sensor is positioned 0.1 mm closer to the center side than the inner edge of the second decorative layer of the transparent front plate, and is transparent.
  • the orthographic projection of the second decorative layer overlapped at least a part of the decorative layer of the film sensor.
  • the distance between the back surface of the glass substrate which is a transparent front plate, and the decoration layer of a film sensor was 25 micrometers.
  • the transfer film of each example was a transfer film for forming a decorative layer on at least one surface of a film sensor, and was a transfer film having high optical density and high sensitivity.
  • the front plate integrated sensors of Examples 1 to 11 and 13 to 18 display the display screen (display unit) of the image display device through a transparent front plate that is a cover glass when the image display device is configured. When viewed, the outline of the display screen was sharp, excellent in visibility, and had a sense of unity in appearance with the edge of the display unit.
  • the sensor integrated with the front plate of Example 12 has a sharp outline of the display screen viewed through the transparent front plate, which is a PET film, is excellent in visibility, and has a sense of unity in appearance around the display screen. there were.
  • the colored composition layer is insufficiently cured by polymerization with light, and the edge roughness is deteriorated due to chipping in the development process. It was a thing. Further, the baking temperature was low and the curing was insufficient, so that the decorative layer was easily damaged and the yield was greatly deteriorated.
  • the liquid crystal display device manufactured by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-47936 is bonded to the front plate integrated sensor of each of the previously manufactured embodiments, and each capacitance input device is implemented by a known method.
  • the image display devices of the respective examples including the example front plate integrated sensor as a constituent element were manufactured.
  • the image display device of each example had a sharp outline of the display screen viewed through the front plate, had excellent visibility, and had a sense of unity in appearance at the portion surrounding the display screen.

Abstract

　転写フィルムは、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであり、黒色顔料または前述の白色顔料の含有量ａ質量％と膜厚ｂμｍが下記式１を満たす着色組成物層を有する。 ５０＞ａ×ｂ＞１０・・・式１

Description

転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置
　本発明は、転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置に関するものである。詳しくは、指の接触位置を静電容量の変化として検出可能な静電容量型入力装置である前面板一体型センサーとそれに用いることができるフィルムセンサー、フィルムセンサーを製造するために用いる転写フィルム、この転写フィルムを用いたフィルムセンサーの製造方法、並びに、この前面板一体型センサーを構成要素として備えた画像表示装置に関するものである。
　携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。これらの電子機器の液晶表示窓には、これを保護するためにカバーガラスが取り付けられている。従来、このカバーガラスは、透明なガラス基板の裏面周縁部に黒色の枠状遮光層が形成されている。
　また、上記した電子機器においてはタッチパネルが使用されることが多く、タッチパネルの現在の主流は、抵抗膜方式であるが、指先で画面を叩く、弾く、摘むという操作で画像を拡大・縮小させるマルチタッチ機能に対応し、視認性、耐久性に優れていることから、静電容量方式のニーズが、非常に高まっている。中でも、静電容量方式のタッチパネルのセンサー部は薄型化の要望があるため、特許文献１に開示されるような静電容量方式のフィルムセンサーを用い、これをカバーガラスの裏面に貼り合わせてなるカバーガラス一体型センサーの市場の拡大が予測される。
　特許文献１には、透明なガラス基板の裏面周縁部にスクリーン印刷膜からなる第一の枠状遮光層が形成された電子機器表示窓のカバーガラスと、カバーガラスの裏面に貼り合わせられた静電容量方式のフィルムセンサーとを備えたカバーガラス一体型センサーであって、フィルムセンサーが、透明な基体シートと、基体シートの両面に各々、中央窓部の電極パターンおよび外枠部の細線引き回し回路パターンを有するように形成された透明導電膜と透明導電膜の細線引き回し回路パターン上に各々、細線引き回し回路パターンと同一幅で積層された遮光性導電膜と、透明導電膜及び遮光性導電膜が形成された基体シートの両面に各々、端子部以外の外枠部を覆うように積層された防錆機能層と、透明導電膜、遮光性導電膜及び防錆機能層が形成された基体シートの表面周縁部に形成された、カラーレジスト材料の露光現像物からなる第二の枠状遮光層と、を備えたものであり、さらに第二の枠状遮光層の内縁が、第一の枠状遮光層の内縁よりも中央側に位置している、カバーガラス一体型センサーが記載されている。特許文献１によれば、このような構成により、カバーガラスを通してみる表示画面の輪郭がシャープで、視認性に優れ、かつ表示画面を囲う部分に外観的な一体感のあるカバーガラス一体型センサーを提供することができると記載されている。
　一方、特許文献２には、黒色顔料、アルカリ可溶性高分子化合物、エチレン性不飽和結合含有化合物および光重合開始剤を含み、２４０℃８０分の加熱を行った後、さらに３００℃３０分の加熱を行った後のバルク強度が１００Ｎ／１．６ｍｍφ（φは直径）以上である黒色樹脂膜が記載されている。
　特許文献２には、このような黒色樹脂膜の製造方法として、黒色顔料、アルカリ可溶性高分子化合物、エチレン性不飽和結合含有化合物および光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を基材上に適用する工程と、基材上の感光性樹脂組成物を露光する工程と、露光された感光性樹脂組成物を現像する工程と、現像工程後にポスト露光を行う工程と、を含み、下記条件（Ａ）または条件（Ｂ）を満たす黒色樹脂膜の製造方法が記載されている。
条件（Ａ）：光重合開始剤がα－アミノアルキルフェノン系化合物またはα－ヒドロキシアルキルフェノン系化合物である。
条件（Ｂ）：現像工程後のポスト露光を、感光性樹脂組成物の基材と接している側の表面方向と透明基材と接していない側の表面方向の両面から行う。
　特許文献２には、前面板と、前面板の非接触側に少なくとも下記（１）～（４）の要素を有する静電容量型入力装置の製造方法であって、（１）の要素を、前述の黒色樹脂膜の製造方法で製造する静電容量型入力装置の製造方法が記載されている。
（１）加飾材
（２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（３）第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
（４）第一の透明電極パターンと第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
特開２０１２－１３３５９７号公報 特開２０１３－２２８６９５号公報
　本発明者らが、特許文献１に記載のカバーガラス一体型センサーを検討したところ、カラーレジスト材料の露光現像物からなる第二の枠状遮光層をフィルムセンサーに設けようとすると、カラーレジスト材料をそのまま用いても感度が不十分であるために光による重合では硬化不足となることがわかった。さらに、フィルムセンサー分野では透明な基材シートに電極などを設けるので、製造プロセスにおいて、カラーレジストの製造時よりも低温（例えば、１３０～１７０℃程度）での熱処理しか許容されず、熱処理で硬化することもできない問題があることがわかった。なお、カラーレジスト材料分野では、カラーレジスト材料を２３０℃程度で加熱硬化することが通常である。
　また、特許文献２には、前面板側に形成する加飾層用の黒色樹脂膜が記載されているだけであり、前面板に組み合わせるフィルムセンサー側に形成する加飾層については記載がなかった。本発明者らが、特許文献２に記載の方法を検討したところ、フィルムセンサー側に形成する加飾層は、１３０～１７０℃程度の低温加熱しかできないので、特許文献２に記載の２４０℃加熱を行ってアクリル樹脂を開始剤無しで重合させる方法などを用いることはできないことがわかった。
　本発明が解決しようとする課題は、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであって、光学濃度が高く、感度が高い転写フィルムを提供することである。
　本発明者は、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムにおいて、特定の範囲内の黒色顔料または前述の白色顔料の含有量である着色組成物層を設けることにより、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであって、光学濃度が高く、感度が高い転写フィルムを提供できることを見出すに至った。
　上記課題を解決するための具体的な手段である本発明および本発明の好ましい態様は以下のとおりである。
［１］　フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであり、
　前述の転写フィルムは、黒色顔料または前述の白色顔料の含有量ａ質量％と膜厚ｂμｍが下記式１を満たす着色組成物層を有する、転写フィルム。
５０＞ａ×ｂ＞１０・・・式１
［２］　［１］に記載の転写フィルムは、前述の黒色顔料または前述の白色顔料が、カーボンブラックまたは酸化チタン粒子であることが好ましい。
［３］　［２］に記載の転写フィルムは、前述のカーボンブラックが、表面が樹脂で被覆されたカーボンブラックであることが好ましい。
［４］　［１］～［３］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の着色組成物層の膜厚が、０．５～１０μｍであることが好ましい。
［５］　［１］～［４］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、オキシム系重合開始剤を含むことが好ましい。
［６］　［１］～［５］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、チオール化合物を含有することが好ましい。
［７］　［６］に記載の転写フィルムは、前述のチオール化合物が、２官能以上であることが好ましい。
［８］　［１］～［７］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、カルボキシル基を有するバインダーを含有し、
　前述のバインダーの酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましい。
［９］　［１］～［８］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含むことが好ましい。
［１０］　［１］～［９］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、ハロゲンを含む化合物の含有量が１質量％以下であることが好ましい。
［１１］　［１］～［１０］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、前述の黒色顔料または前述の白色顔料以外の他の粒子を含有することが好ましい。
［１２］　透明な基材シートと、
　前述の基材シートの両面に配置された電極パターンと、
　前述の電極パターンに接続された引き回し配線と、
　前述の電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、
を備えたフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、［１］～［１１］のいずれか一つに記載の転写フィルムから前述の着色組成物層を転写して加飾層を形成する工程を含む、フィルムセンサーの製造方法。
［１３］　［１２］に記載のフィルムセンサーの製造方法は、前述の着色組成物層を転写する工程の後に、前述のフィルムセンサーを、１３０～１７０℃で熱処理する工程を含むことが好ましい。
［１４］　［１２］または［１３］に記載のフィルムセンサーの製造方法は、前述の着色組成物層を転写する前述のフィルムセンサーの一方の表面が、前述の引き回し配線の少なくとも一部の領域および前述のオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含むことが好ましい。
［１５］　透明な基材シートと、
　前述の基材シートの両面に配置された電極パターンと、
　前述の電極パターンに接続された引き回し配線と、
　前述の電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、
を備えたフィルムセンサーであり、
　前述のフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層が配置され、
　［１２］～［１４］のいずれか一つに記載のフィルムセンサーの製造方法で製造された、フィルムセンサー。
［１６］　透明な前面板と、
　［１５］に記載のフィルムセンサーとを有する、前面板一体型センサー。
［１７］　［１６］に記載の前面板一体型センサーは、前述の前面板の一方の表面の一部の領域に第二の加飾層を有し、
　前述の第二の加飾層が、前述の前面板と前述のフィルムセンサーの前述の加飾層との間に配置され、
　前述の前面板の法線方向から観察した場合に前述の第二の加飾層の正射影が前述のフィルムセンサーの前述の加飾層の少なくとも一部の領域に重なることが好ましい。
［１８］　［１６］または［１７］に記載の前面板一体型センサーは、前述の前面板がガラスであることが好ましい。
［１９］　［１８］に記載の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置。
　本発明によれば、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであって、光学濃度が高く、感度が高い転写フィルムを提供することができる。
本発明の前面板一体型センサーの構成の一例を示す断面概略図である。 本発明における前面板の一例を示す説明図である。 本発明における電極パターン一例を示す説明図である。 開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。 第二の加飾層が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。 第一の電極パターンが形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。 第一および第二の電極パターンが形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。 引き回し配線が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。 金属ナノワイヤー断面を示す説明図である。 電極パターンの端部のテーパー形状の一例を示す説明図である。 本発明のフィルムセンサーの一例の概略図である。 本発明のフィルムセンサーの一例の概略図である。 本発明のフィルムセンサーの製造方法の一例における、引き回し配線とオーバーコート層との境界のオーバーコート層に沿った領域を説明するための図である。 本発明の転写フィルムの構成の一例を示す断面概略図である。
　以下、本発明の転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置について説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様や具体例に限定されない。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
［転写フィルム］
　本発明の転写フィルムは、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであり、前述の転写フィルムは、黒色顔料または前述の白色顔料の含有量ａ質量％と膜厚ｂμｍが下記式１を満たす着色組成物層を有する。
５０＞ａ×ｂ＞１０・・・式１
　このような構成の本発明の転写フィルムは、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであって、光学濃度が高く、感度が高い。転写フィルムの黒色顔料または白色顔料の含有量ａ質量％と、転写フィルムの膜厚ｂμｍとの積であるａ×ｂの値が特定の下限値より大きいことが、光学濃度を高める観点から好ましく、ａ×ｂの値は２０より大きいことがより好ましく、３０より大きいことが特に好ましい。転写フィルムの黒色顔料または白色顔料の含有量ａ質量％と、転写フィルムの膜厚ｂμｍとの積であるａ×ｂの値が特定の上限値より小さいことが、感度を高める観点から好ましく、ａ×ｂの値は４０より小さいことがより好ましい。
　以下、本発明の転写フィルムの好ましい態様について説明する。
＜構成＞
　図１３に、本発明の転写フィルムの好ましい構成の一例を示す。図１３は、仮支持体４６、着色組成物層４８および保護剥離層（保護フィルム）４７がこの順で互いに隣接して積層された、転写フィルム４９の概略図である。
　本発明の転写フィルムは、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムである。本発明の転写フィルムから着色組成物層４８を転写して形成された加飾層４５を含む本発明のフィルムセンサーの一例の概略図を図１１Ａおよび図１１Ｂに示した。本発明のフィルムセンサーの構成、および、本発明の転写フィルムを用いて、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成する方法については、後述する。
＜着色組成物層＞
　本発明の転写フィルムは、黒色顔料または前述の白色顔料の含有量ａ質量％と膜厚ｂμｍが下記式１を満たす着色組成物層を有する。
５０＞ａ×ｂ＞１０・・・式１
　本発明の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、ハロゲンを含む化合物の含有量が１質量％以下であることがハロゲンフリーの観点から好ましく、０．２質量％以下であることがより好ましい。
（黒色顔料または白色顔料）
　前述の着色組成物層中の黒色顔料または前述の白色顔料の含有量は、着色組成物層の溶媒以外の全固形分に対して計算される。本明細書でいう全固形分とは着色組成物層から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
　前述の着色組成物層は、黒色顔料または前述の白色顔料の含有量が着色組成物層の溶媒以外の全固形分に対して３質量％より大きく、２５質量％以下であることが好ましく、３～２０質量％であることがより好ましく、５～１８質量％であることが特に好ましく、１０～１８質量％であることがより特に好ましい。黒色顔料または前述の白色顔料の含有量が大きいことが、膜厚を薄く保ったまま光学濃度を高める観点から好ましい。黒色顔料または前述の白色顔料の含有量が２５質量％以下であることが、感度を高める観点から好ましい。
　黒色顔料としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。
　本発明に用いる黒色顔料としては、公知の黒色顔料（有機顔料、無機顔料、染料等）を好適に用いることができる。
　光学濃度の観点から、黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
　本発明の転写フィルムに用いられ得るカーボンブラックは、表面が樹脂で被覆されたカーボンブラックであることが好ましい。
　白色顔料としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、白色無機顔料がより好ましい。
　白色無機顔料としては、特開２００５－７７６５公報の段落＜００１５＞や＜０１１４＞に記載の白色顔料を用いることができる。
　具体的には、白色無機顔料としては酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンであることが特に好ましく、その中でもルチル型またはアナターゼ型酸化チタンがさらに特に好ましく、ルチル型酸化チタンがよりさらに特に好ましい。
　酸化チタンの表面はシリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、又は、有機物処理をすることができ、また、これらの処理を併用してもよい。
　これにより酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、褪光性等を改善することができる。
　加熱後の着色組成物層の厚み（ｂの値）を抑制する観点から、酸化チタンの表面への表面処理はアルミナ処理、ジルコニア処理が好ましく、アルミナおよびジルコニア併用処理が特に好ましい。
　本発明の転写フィルムは、前述の黒色顔料または前述の白色顔料が、カーボンブラックまたは酸化チタン粒子であることが好ましい。
　黒色顔料（好ましくはカーボンブラック）または白色顔料は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、黒色顔料または白色顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって黒色顔料または白色顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。
　黒色顔料または白色顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更にこの文献の３１０頁に記載される機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
　黒色顔料または白色顔料は、分散安定性の観点から、数平均粒径０．００１μｍ～０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１μｍ～０．０８μｍのものが好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは、任意の１００個の粒子について粒径を求め、この粒径の平均値をいう。
　本発明の転写フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
　本発明の転写フィルムがネガ型材料である場合、着色組成物層には、前述の黒色顔料または前述の白色顔料以外の他の粒子、重合性化合物、バインダー（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、重合開始剤、チオール、溶剤を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られない。
　最終的に２３０～２４０℃程度で加熱される前面板に設けられる後述の第二の加飾層（マスク層）用途の転写フィルムの着色組成物層や、カラーフィルター用途の転写フィルムの着色組成物層とは異なり、フィルムセンサー用途の転写フィルムの着色組成物層は最終的に１３０～１７０℃程度でしか加熱されない。そのため、フィルムセンサー用途の転写フィルムの着色組成物層は加熱による重合があまり期待できない。したがって、フィルムセンサー用途の転写フィルムの着色組成物層の組成は、光重合で十分に重合できる組成であることが好ましく、前面板に設けられる第二の加飾層用途の転写フィルムの着色組成物層やカラーフィルター用途の転写フィルムの着色組成物層の好ましい組成とは異なる。
（他の粒子）
　着色組成物層には、本発明の効果を損なわない範囲で、前述の黒色顔料または前述の白色顔料以外の他の粒子を添加することが、転写性の観点から好ましい。他の粒子のうち顔料を用いる場合には、着色組成物層中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０８μｍ以下であることが特に好ましい。
　他の粒子としては、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃｏｌｏｒ　Ｉｎｄｅｘ（以下Ｃ．Ｉ．）４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３等が挙げられる。
　他の粒子の内、着色組成物層において好ましく添加できるものとしてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が挙げられる。
　他の粒子は、黒色顔料または前述の白色顔料に対して３０質量％以下であることが好ましく、３～２０質量％であることがより好ましく、５～１５質量％であることが特に好ましい。
（重合性化合物）
　着色組成物層に用いられる重合性化合物としては、光重合性化合物が好ましい。光重合性化合物の有する光重合性基としては特に制限は無く、エチレン性不飽和基、エポキシ基などを挙げることができる。着色組成物層に用いられる重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有化合物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含むことがより好ましい。
　エチレン性不飽和結合含有化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落＜００２３＞～＜００２４＞に記載の重合性化合物や、トリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレートなどの２官能の重合性化合物を用いることができる。
　着色組成物層には、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、ジペンタエリスリトール（ペンタ／ヘキサ）アクリレートやトリペンタエリスリトールオクタアクリレートなどの少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物；ウレタン（メタ）アクリレート化合物などのウレタン系モノマー；エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートやトリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレートなどの２官能の重合性化合物を好ましく用いることができる。
　本発明の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含むことが感度の観点から好ましい。
　光重合性化合物は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いることが、感度の観点から好ましい。本発明の転写フィルムの着色組成物層に使用する重合性化合物は、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と２官能の重合性化合物を組みあわせて使用することが好ましい。２官能の重合性化合物はすべての重合性化合物に対して１０～９０質量％の範囲で使用することが好ましく、２０～８５質量％の範囲で使用することがより好ましく、３０～８０質量％の範囲で使用することが特に好ましい。少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物はすべての重合性化合物に対して１０～９０質量％の範囲で使用することが好ましく、１５～８０質量％の範囲で使用することがより好ましく、２０～７０質量％の範囲で使用することが特に好ましい。
　重合性化合物は、平均分子量が２００～３０００であることが好ましく、２５０～２６００であることがより好ましく、２８０～２２００であることが特に好ましい。
　着色組成物層中、重合性化合物のバインダーに対する割合（重合性化合物の含有量／バインダーの含有量）は、０．１～２倍であることが好ましく、０．２～１．５倍であることがより好ましく、０．３～１倍であることが特に好ましい。
（バインダー）
　着色組成物層に用いられるバインダーとしては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性高分子化合物が好ましい。
　アルカリ可溶性高分子化合物としては、特開２０１１－９５７１６号公報の段落＜００２５＞、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落＜００３３＞～＜００５２＞に記載のポリマーを用いることができる。
　本発明の転写フィルムは、着色組成物層が、カルボキシル基を有するバインダーを含有することがエッジラフネスを良化する観点から好ましい。
　本発明の転写フィルムは、前述のバインダーの酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがエッジラフネスを良化する観点から好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、６５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが特に好ましい。
　着色組成物層に用いられるバインダーとしては、特に制限はないが、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のランダム共重合体、シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物を用いることができ、シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物が好ましい。
（重合開始剤）
　着色組成物層に用いられる重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、特開２０１１－９５７１６号公報の＜００３１＞～＜００４２＞に記載の重合開始剤、特開２０１５－０１４７８３号公報の＜００６４＞～＜００８１＞に記載のオキシム系重合開始剤を用いることができる。例えば、１，２－オクタンジオン－１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ製）の他、エタン－１－オン，［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（０－アセチルオキシム）商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７、ＢＡＳＦ製）、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７、ＢＡＳＦ製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９、ＢＡＳＦ製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１１７３、ＢＡＳＦ製）、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４、ＢＡＳＦ製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ製）、オキシムエステル系の商品名：Ｌｕｎａｒ　６（ＤＫＳＨジャパン株式会社製）、２，４－ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ」）、フルオレンオキシム系重合開始剤であるＤＦＩ－０９１、ＤＦＩ－０２０（ともにダイトーケミックス社製）などを好ましく用いることができる。
　その中でも、カラーフィルター材料などに用いられるトリクロロメチルトリアジン系化合物などのハロゲン含有重合開始剤以外の他の開始剤を用いることが感度を高める観点から好ましく、α－アミノアルキルフェノン系化合物、α－ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物などのオキシム系重合開始剤がより好ましい。本発明の転写フィルムは、前述の着色組成物層がオキシム系重合開始剤を含むことが、感度を高める観点から特に好ましい。
　着色組成物層中における、重合開始剤の、重合性化合物に対する質量比が、０．０５～０．１２５であることが、テーパー角および析出抑制の観点から好ましく、０．０７０～０．１００であることがさらに好ましい。
（チオール化合物）
　本発明の転写フィルムは、前述の着色組成物層が、チオール化合物を含有することが感度を高める観点から好ましい。チオール化合物としては、チオール基（メルカプト基とも言われる）の数である官能数が１官能であっても２官能以上であってもよい。本発明の転写フィルムは、前述のチオール化合物が、２官能以上であることが感度を高める観点から好ましく、２～４官能であることがより好ましく、２～３官能であることが特に好ましい。
　着色組成物層に用いられる１官能のチオール化合物としては、Ｎ－フェニルメルカプトベンゾイミダゾールが挙げられる。着色組成物層に用いられる２官能以上のチオール化合物としては、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン（カレンズＭＴ　ＢＤ１　昭和電工製）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン（カレンズＭＴ　ＮＲ１　昭和電工製）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）（カレンズＭＴ　ＰＥ１　昭和電工製）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）（堺化学工業社製「ＰＥＭＰ」）が挙げられる。
（金属酸化抑制剤）
　本発明の転写フィルムの着色組成物層には、絶縁層又は加飾層を取り除いた領域において金属配線部（電極パターンや取り回し配線）を表面処理して金属配線部に保護性を付与するために、必要に応じて金属酸化抑制剤を含むことができる。本発明に用いられる金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物であることが好ましい。
　また、本発明に用いられる金属酸化抑制剤としては、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、トリアゾ－ル環、テトラゾール環、チアジアゾール環、及び、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれた少なくとも一つの環であることが好ましく、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、又はイミダゾール環と他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
　上記他の芳香環としては、単素環でも複素環でもよいが、単素環であることが好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
　好ましい金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが好ましく例示され、イミダゾール、ベンズイミダゾール及びベンゾトリアゾールがより好ましい。
　また、金属酸化抑制剤の含有量は、本発明に用いられる着色組成物層の全質量に対し、０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５～１０質量％であることがより好ましく、１～５質量％であることが更に好ましい。
（添加剤）
　着色組成物層には、添加剤を用いてもよい。添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落＜００１７＞、特開２００９－２３７３６２号公報の段落＜００６０＞～＜００７１＞に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落＜００１８＞に記載の熱重合防止剤（重合禁止剤とも言う。好ましくはフェノチアジン）、さらに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落＜００５８＞～＜００７１＞に記載のその他の添加剤が挙げられる。
（溶剤）
　着色組成物層は、さらに溶剤を含むことが好ましい。
　着色組成物層を塗布により製造した場合に含まれていてもよい溶剤としては、以下の溶剤を挙げることができる。
　溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。具体的には例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類等が挙げられる。
　また、ＵＳ２００５／２８２０７３Ａ１号明細書の段落番号＜００５４＞＜００５５＞に記載のＳｏｌｖｅｎｔと同様のメチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、及び乳酸メチル等も本発明においても好適に用いることができる。
　これら溶剤のうち、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（エチルカルビトールアセテート）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ブチルカルビトールアセテート）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、及びメチルエチルケトン等が本発明における溶剤として好ましく用いられる。これらの溶剤は、１種単独でもあるいは２種以上組み合わせて用いてもよい。
　また、必要に応じて沸点が１８０℃～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を使用することができる。これらの高沸点溶剤としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール－ｎ－プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、２－エチルヘキシルアセテート、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、γ－ブチロラクトン、トリプロピレングリコールメチルエチルアセテート、ジプロピレングリコール－ｎ－ブチルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート、１，３－ブタンジオールジアセテート等が挙げられる。
　着色組成物層は、溶剤として、蒸発速度が酢酸ブチルの２００％以上である第１の溶剤と、蒸発速度が酢酸ブチルの５０％以下である第２の溶剤を含むことが好ましい。溶剤として、多価アルコール誘導体である溶剤と、ケトンである溶剤を含むことが好ましい。
（膜厚）
　本発明の転写フィルムは、前述の着色組成物層の膜厚が、０．５～１０μｍであることが前面板と貼り合わせた際の意匠性の観点から好ましく、１．０～８．０μｍであることがより好ましく、１．５～５．０μｍであることが特に好ましい。
＜仮支持体＞
　本発明の転写フィルムは、仮支持体を有することが好ましい。
　仮支持体の材料としては、可撓性を有する材料を用いることができる。
　このような仮支持体の例として、シクロオレフィンコポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴ」とも言う。）、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でもＰＥＴがハンドリングの観点から特に好ましい。
　また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
　また、仮支持体には、特開２００５－２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
＜その他の層＞
　本発明の転写フィルムは、仮支持体と着色組成物層の間に、特許４５０２７８４号の＜００２６＞に記載の熱可塑性樹脂層や特許４５０２７８４号の＜００２７＞に記載の中間層をさらに含んでいてもよい。
　本発明の転写フィルムは、前述の着色組成物層の表面に保護フィルム（以下、「保護剥離層」とも言う。）などを更に設けることが好ましい。前述の保護フィルムとしては、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００８３～００８７および００９３に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。
＜転写フィルムの製造方法＞
　本発明の転写フィルムは、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００９４～００９８に記載の硬化性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。本発明の転写フィルムは、以下の転写フィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。
　転写フィルムの製造方法は、仮支持体上に、着色組成物層を形成する工程を含むことが好ましい。
　転写フィルムの製造方法は、前述の仮支持体上に前述の着色組成物層を形成する前に、さらに熱可塑性樹脂層を形成する工程を含むことが好ましい。
　転写フィルムの製造方法は、前述の熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に、前述の熱可塑性樹脂層と前述の着色組成物層の間に中間層を形成する工程を含むことが好ましい。具体的に中間層を有する転写フィルムを形成する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した着色組成物層用塗布液を塗布し、乾燥させて着色組成物層を積層することによって、好適に作製することができる。
［フィルムセンサー］
　本発明のフィルムセンサーは、透明な基材シートと、前述の基材シートの両面に配置された電極パターンと、前述の電極パターンに接続された引き回し配線と、前述の電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーであり、前述のフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層が配置され、本発明のフィルムセンサーの製造方法で製造されたフィルムセンサーである。
　＜フィルムセンサーの構成＞
　図１１Ａに本発明のフィルムセンサーの一例の概略図を示す。
　図１１Ａに示した構成の本発明のフィルムセンサーは、基材シート１Ａの両方の表面にそれぞれ透明膜１１が配置されている。
　図１１Ａに示した構成の本発明のフィルムセンサーは、基材シート１Ａの表面の内、後述の前面板が積層される側の面側に、電極パターン４、遮光性導電膜９、オーバーコート層７、引き回し配線６、加飾層４５が配置されている。
　図１１Ａに示した構成の本発明のフィルムセンサーは、基材シート１Ａの表面の内、後述の前面板が積層される側とは反対側の面側に、電極パターン３、遮光性導電膜９、オーバーコート層７、引き回し配線６が配置されている。
　フィルムセンサーは、本発明の転写フィルムの前述の着色組成物層を転写して形成された加飾層４５（フィルムセンサーの加飾層）を有する。
　一定の厚みが必要な引き回し配線６とオーバーコート層とにまたがって本発明の転写フィルムから前述の着色組成物層をラミネートする場合でも、本発明の転写フィルムを用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
　加飾層は、枠状の加飾層であることが好ましい。すなわち、本発明のフィルムセンサーを用いて得られる後述の本発明の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置に用いた場合、中央の画像表示部分（電子機器表示窓）を加飾層が枠状に囲むことが好ましい。本発明のフィルムセンサーの加飾層の好ましい態様としては、特許５０２０５８０号公報に記載の枠状遮光層と同様の態様を挙げることができる。
　なお、フィルムセンサーの加飾層４５の厚みの好ましい範囲は、本発明の転写フィルムの着色組成物層の膜厚の範囲と同様である。
　本発明のフィルムセンサーを後述する前面板一体型センサーに用いる場合、電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の電極パターンおよび第二の電極パターンとして設けられることがある（例えば、図３参照）。例えば図３の構成では、電極パターンは、第二の電極パターン４であっても、第一の電極パターン３であってもよい。
　図３を用いて第一の電極パターン３および第二の電極パターン４について説明する。図３は、第一の電極パターンおよび第二の電極パターンの一例を示す説明図である。図３に示すように、第一の電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向Ｃに延在して形成されている。また、第二の電極パターン４は、第一の電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図３における第二の方向Ｄ）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の電極パターン３を形成する場合、前述のパッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図３に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の電極パターン３と第二の電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。図３では説明のために絶縁層５を不連続な膜として記載したが、本発明のフィルムセンサーでは絶縁層５として基材シート１Ａを用いることができる。
　本発明のフィルムセンサーは、前述の電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本明細書中、非パターン領域とは、電極パターン４が形成されていない領域を意味する。
　前述の基材シート１Ａおよび透明膜１１が互いに隣接していることが好ましい。
　図１１Ａには、前述の基材シート１Ａの上に隣接して前述の透明膜１１が積層している態様が示されている。
　但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、前述の基材シート１Ａおよび前述の透明膜の間に、第三の透明膜が積層されていてもよい。例えば、前述の基材シート１Ａおよび前述の透明膜１１の間に、屈折率１．５～１．５２の第三の透明膜（図１１Ａには不図示）を有していてもよい。
　フィルムセンサーは、前述の透明膜および前述の電極パターンが互いに隣接していることが好ましい。
　前述の電極パターン４の端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、図１０に示す電極パターンの端部が、テーパー形状を有する電極パターンの例として挙げられる。
　ここで、前述の電極パターンの端部がテーパー形状であるときの電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１～１５°であることがより好ましく、０．５～５°であることが特に好ましい。
　本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、前述の電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
　図１０におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が８００ｎｍであり、高さ（底面と略平行な上底部分における膜厚）が４０ｎｍであり、このときのテーパー角αは約３°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０～３０００ｎｍであることが好ましく、１００～１５００ｎｍであることがより好ましく、３００～１０００ｎｍであることが特に好ましい。
　なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。
　引き回し配線６は、第一の電極パターン３および第二の電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の電極パターン３および第二の電極パターン４とは別の要素であることが好ましい。
　図１１Ａにおいては、引き回し配線６が遮光性導電膜９を介して、第二の電極パターン４に接続されている図が示されている。引き回し配線は、枠状であることが好ましい。すなわち、本発明のフィルムセンサーを後述の本発明の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置に用いた場合に、中央の画像表示部分を引き回し配線が枠状に囲むことが好ましい。
　フィルムセンサーは、前述の電極パターンおよび遮光性導電膜が互いに隣接していることが好ましい。
　遮光性導電膜は枠状であることが好ましい。すなわち、本発明のフィルムセンサーを後述の本発明の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置に用いた場合に、中央の画像表示部分を遮光性導電膜が枠状に囲むことが好ましい。
　また、図１１Ａにおいては、引き回し配線以外の各構成要素の全てを覆うようにオーバーコート層７が設置されている。オーバーコート層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。
　フィルムセンサーは、前述の透明膜およびオーバーコート層によって、前述の電極パターンおよび前述の電極パターンが形成されていない非パターン領域の両方が連続して直接または他の層を介して被覆されたことが好ましい。
　ここで、「連続して」とは、前述の透明膜および前述のオーバーコート層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、前述の透明膜および前述のオーバーコート層は、開口部を有していないことが、電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
　また、前述の透明膜および前述のオーバーコート層によって、前述の電極パターンおよび前述の非パターン領域が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における「他の層」としては、フィルムセンサーに遮光性導電膜が含まれる場合の遮光性導電膜などを挙げることができる。
＜フィルムセンサーの材料＞
　以下、フィルムセンサーの材料について説明する。
（加飾層）
　本発明の転写フィルムの前述の着色組成物層を転写して形成された加飾層４５の材料は、本発明の転写フィルムの前述の着色組成物層の材料と同じである。
（基材シート）
　基材シートは、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましく、具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）をあげることができる。
（透明膜）
　透明膜は、屈折率が１．６～１．７８であり膜厚が５５～１１０ｎｍの透明膜であることが、電極パターンの視認性をより改善する観点から、好ましい。
　前述の透明膜の屈折率が１．６～１．７８であることが好ましく、１．６５～１．７４であることがより好ましい。ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を意味する。
　このような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、前述の透明膜の材料は特に制限されない。
　前述の透明膜の厚みが５５～１１０ｎｍであることが好ましく、６０～１００ｎｍであることがより好ましく、７０～９０ｎｍであることが特に好ましい。
　前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の膜厚とは、全層の合計膜厚を意味する。
（電極パターン）
　本発明のフィルムセンサーは、基材シートの両面に配置された電極パターンを有する。
　本発明のフィルムセンサーは、前述の第一の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
　本発明のフィルムセンサーは、前述の第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
　前述の電極パターンの屈折率は１．７５～２．１であることが好ましい。
　前述の電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属膜で作製することができる。用いることができる電極パターンの材料としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０～２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、前述の第一の電極パターン３と、第二の電極パターン４と、後述する引き回し配線６とは、導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の電極パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４～００１６等を参考にすることができる。その中でも、前述の電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
（引き回し配線）
　本発明のフィルムセンサーは、引き回し配線を有する。引き回し配線は、電極パターンの引き回し配線であることが好ましく、電極パターンとは別の導電性要素である。引き回し配線は後述の遮光性導電膜とは別の導電性要素であってもよく、引き回し配線は後述の遮光性導電膜と同じ部材であってもよい。
　引き回し配線の材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。従来は導電性が高く微細加工が容易な点から、引き回し配線の材料としてＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造のＭＡＭが一般的に用いられてきたが、上述の電極パターンの材料と同じ材料を好ましく用いることができ、さらにＡｕ（金）、Ａｇ（銀）、Ｃｕ（銅）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｐｔ（白金）、Ｃ（炭素）、Ｆｅ（鉄）などの金属を用いることもできる。これらの金属が含まれる導電性ペーストまたは導電性インクをウェット法により成膜することで、蒸着法に比べてより安価なプロセスで引き回し配線を得ることができる。引き回し配線の材料は金属であることが好ましく、銅またはアルミニウムであることがより好ましい。
（遮光性導電膜）
　遮光性導電膜９は、導電率が高くかつ遮光性の良い単一の金属膜やそれらの合金または化合物などからなる層が挙げられ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成するとよい。また、遮光性導電膜９は、電極パターンはエッチングされないが遮光性導電膜９自身はエッチングされる材料により形成されることが好ましい。すなわち、遮光性導電膜９の材料は、電極パターンをエッチングせずに、遮光性導電膜９をエッチングするエッチャントが存在する材料から選択されることが好ましい。その好ましい金属の例としては、アルミニウム、ニッケル、銅、銀、錫などが挙げられる。とくに銅箔からなる厚み２０～１０００ｎｍの金属膜は、導電性、遮光性に優れ、電極パターンはエッチングされない酸性雰囲気下でも過酸化水素水で容易にエッチングできるため非常に好ましい。遮光性導電膜９の厚みはより好ましくは、厚み３０ｎｍ以上である。遮光性導電膜９の厚みはさらに好ましくは、１００～５００ｎｍにするとよい。１００ｎｍ以上の厚みに設定することで高い導電性の遮光性導電膜９が得られ、５００ｎｍ以下にすることで取り扱いやすく加工性に優れた遮光性導電膜９が得られるからである。
（オーバーコート層）
　フィルムセンサーは、オーバーコート層を電極パターンの上に転写して作製されてなることが好ましい。
　フィルムセンサー上に作製されたフレキシブル配線である電極パターンおよび引き回し配線を、引き回し配線の端末部（図示しない）に直接つなぐことができ、これにより、フィルムセンサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
　オーバーコート層は、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、オーバーコート層は熱硬化性透明樹脂層かつ光硬化性透明樹脂層であることが、転写後に光硬化して成膜しやすく、かつ、成膜後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点から好ましい。
　前述のオーバーコート層の厚みが５μｍ以上であることが好ましく、十分な表面保護能を発揮させる観点から、５～１６μｍであることがより好ましく、５～１３μｍであることが特に好ましく、５～１０μｍであることがより特に好ましい。
　前述のオーバーコート層の１００℃で測定した溶融粘度ηｃが１．０×１０3Ｐａ・ｓ以上であることが好ましく、１．０×１０3Ｐａ・ｓ～１．０×１０6Ｐａ・ｓであることがさらに好ましく、３．０×１０3Ｐａ・ｓ～１．０×１０6Ｐａ・ｓであることがより好ましく、４．０×１０3Ｐａ・ｓ～１．０×１０5Ｐａ・ｓであることが特に好ましい。
　前述のオーバーコート層の屈折率が、１．５０～１．５３であることが好ましく、１．５０～１．５２であることがより好ましく、１．５１～１．５２であることが特に好ましい。
　オーバーコート層が、バインダーポリマー、重合性化合物および重合開始剤を含むことが好ましい。
　オーバーコート層が透明樹脂層であることが好ましい。オーバーコート層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率のオーバーコート層を単独で用いたり、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加したオーバーコート層を用いたり、また金属塩と高分子の複合体を用いることができる。
　さらに、前述のオーバーコート層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。
－バインダーポリマー－
　前述のオーバーコート層に好ましくは含まれるバインダーポリマーとしては任意のポリマー成分を特に制限なく用いることができるが、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましく、アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の硬化性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが好ましく用いられる。オーバーコート層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーが、アクリル樹脂を含有することが好ましい。オーバーコート層の前述のバインダーポリマーの好ましい範囲を具体的に説明する。
　前述のオーバーコート層に用いられ、有機溶媒に対して溶解性を有する樹脂（バインダー、ポリマーという言う）としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、前述のアルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーを用いることができる。
　またオーバーコート層は、ポリマーラテックスを含んでいても良い。ここで言うポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学（高分子刊行会発行（昭和４８年））」に記載されている。
　使用できるポリマー粒子としてはアクリル系、酢酸ビニル系、ゴム系（例えばスチレン－ブタジエン系、クロロプレン系）、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリスチレン系などのポリマー、及びこれらの共重合体からなるポリマー粒子が好ましい。
　ポリマー粒子を構成するポリマー鎖相互間の結合力を強くすることが好ましい。ポリマー鎖相互間の結合力を強くする手段としては水素結合による相互作用を利用するものと共有結合を生成する方法が挙げられる。水素結合力を付与する手段としてはポリマー鎖に極性基を有するモノマーを共重合、もしくはグラフト重合して導入することが好ましい。極性基としてはカルボキシル基（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、部分エステル化マレイン酸等に含有される）、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム塩基、スルホン酸基（スチレンスルホン酸）などが挙げられ、カルボキシル基、スルホン酸基が特に好ましい。
　これらの極性基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５～３５質量％であり、より好ましくは５～２０質量％、更に好ましくは１５～２０質量％の範囲内である。一方、共有結合を生成させる手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級、二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックドイソシアネート、イソシアネ－ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
　これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ－ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用するのがより好ましく、さらにポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
　ポリマーの質量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万～１０万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。
　本発明に用いることができるポリマーラテックスは、乳化重合によって得られるものでもよいし、乳化によって得られるものであってもよい。これらポリマーラテックスの調製方法については、例えば「エマルジョン・ラテックスハンドブック」（エマルジョン・ラテックスハンドブック編集委員会編集、（株）大成社発行（昭和５０年））に記載されている。
　本発明に用いることができるポリマーラテックスとしては、例えば、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン（商品名：ケミパールＳ１２０　三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ１００　三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ１１１　三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ２００　三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ３００　三井化学（株）製。固形分３５％）、ケミパールＳ６５０　三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ７５Ｎ　三井化学（株）製。固形分２４％）や、ポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン（商品名：ハイドランＷＬＳ－２０１　ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ－５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ－２０２　ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ－５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ－２２１　ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ－３０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ－２１０　ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ－１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ－２１３　ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ－１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ－６０２　ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５％、Ｔｇ－５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ－６１１　ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５％、Ｔｇ－１５℃）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ－２１０　日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＥＴ－４１０　日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ－５１０　日本純薬製）、ポリアクリル酸（商品名：ジュリマーＡＣ－１０Ｌ　日本純薬製）をアンモニア中和し、乳化した物を挙げることができる。
－重合性化合物－
　オーバーコート層は、重合性化合物を含むことが好ましい。重合性化合物としては、光重合性化合物であっても、熱重合性化合物であってもよい。
　オーバーコート層は、光重合性化合物を有することが好ましい。光重合性化合物の有する光重合性基としては特に制限は無く、エチレン性不飽和基、エポキシ基などを挙げることができる。オーバーコート層の光重合性化合物として、エチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含むことがより好ましい。
　光重合性化合物は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いることが、転写後のオーバーコート層を露光した後の塩水付与後の湿熱耐性を改善する観点から好ましい。光重合性化合物は、３官能以上の光重合性化合物と２官能の光重合性化合物を組みあわせて使用することが転写後のオーバーコート層を露光した後の塩水付与後の湿熱耐性を改善する観点から、好ましい。２官能の光重合性化合物はすべての光重合性化合物に対して１０～９０質量％の範囲で使用することが好ましく、２０～８５質量％の範囲で使用することがより好ましく、３０～８０質量％の範囲で使用することが特に好ましい。３官能以上の光重合性化合物はすべての光重合性化合物に対して１０～９０質量％の範囲で使用することが好ましく、１５～８０質量％の範囲で使用することがより好ましく、２０～７０質量％の範囲で使用することが特に好ましい。前述の光重合性化合物として、２つのエチレン性不飽和基を有する化合物および少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する化合物を少なくとも含むことが好ましく、２つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物および少なくとも３つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物を少なくとも含むことがより好ましい。
　また、前述の光重合性化合物として、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート化合物の混合量はすべての光重合性化合物に対して１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート化合物は光重合性基の官能基数、すなわち（メタ）アクリロイル基の数が３官能以上であることが好ましく、４官能以上であることがより好ましい。
　２官能のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物は、エチレン性不飽和基を分子内に２つ持つ化合物であれば特に限定されず、市販の（メタ）アクリレート化合物が使用できる。例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ　新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（ＤＣＰ　新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ　新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ　新中村化学工業（株）製）などを好ましく用いることができる。
　３官能以上のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物は、エチレン性不飽和基を分子内に３つ以上持つ化合物であれば特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、イソシアヌル酸アクリレート等の骨格の（メタ）アクリレート化合物が使用できるが、（メタ）アクリレート間のスパン長が長いものが好ましい。具体的には、前述のジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、イソシアヌル酸アクリレート等の骨格の（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ、新中村化学工業製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス製　ＥＢＥＣＲＹＬ　１３５等）等が好ましく用いることができる。また、カルボキシル基含有の多塩基酸変性の（メタ）アクリレートモノマー（東亞合成（株）製アロニックスＭ－５１０、Ｍ－５２０等）を好ましく用いることができる。また、３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートとしては、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）などを好ましく用いることができる。
　光重合性化合物は、平均分子量が２００～３０００であることが好ましく、２５０～２６００であることがより好ましく、２８０～２２００であることが特に好ましい。
　熱重合性化合物としては、上記の光重合性化合物のうち熱重合性化合物でもあるものを好ましく用いることができる。
　前述のオーバーコート層中、重合性化合物の前述のバインダーポリマーに対する割合（重合性化合物の含有量Ｍ／バインダーポリマーの含有量Ｂ）は、０．１～２倍であることが好ましく、０．２～１．５倍であることがより好ましく、０．３～１倍であることが特に好ましい。
－重合開始剤－
　前述のオーバーコート層は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては、光重合開始剤であっても、熱重合開始剤であってもよい。
　オーバーコート層は、光重合開始剤を有することが好ましい。前述の硬化性透明樹脂層が、前述の光重合性化合物および前述の光重合開始剤を含むことによって、硬化性透明樹脂層のパターンを形成しやすくすることができる。
　有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合開始剤としては、特開２０１１－９５７１６号公報に記載の段落００３１～００４２に記載の光重合開始剤を用いることができる。
　熱重合開始剤としては、特開２０１１－３２１８６号公報の０１９３～０１９５段落に記載のものを好ましく用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　前述のオーバーコート層中、前述のオーバーコート層に対して、前述の重合開始剤は、１質量％以上含まれることが好ましく、２質量％以上含まれることがより好ましい。前述のオーバーコート層中、前述のオーバーコート層に対して、前述の重合開始剤は、１０質量％以下含まれることが好ましく、５質量％以下含まれることがパターニング性、基板密着性を改善する観点からより好ましい。
－金属酸化物粒子－
　前述のオーバーコート層は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいても含んでいなくてもよい。上述の範囲に前述のオーバーコート層の屈折率を制御するために、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述のオーバーコート層中、前述のオーバーコート層に対して、前述の金属酸化物粒子は、０～３５質量％含まれることが好ましく、０～１０質量％含まれることがより好ましく、含まれないことが特に好ましい。
　金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れたポジ型硬化性樹脂組成物が得られる。
　前述の金属酸化物粒子は、オーバーコート層からこの粒子を除いた材料からなる組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましい。
　なお、前述の金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
　光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
　オーバーコート層の透明性の観点から、前述の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
　また、前述の金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
　オーバーコート層が、ＺｒＯ2粒子、Ｎｂ2Ｏ5粒子およびＴｉＯ2粒子のうち少なくとも１つを有することが、前述のオーバーコート層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ2粒子及びＮｂ2Ｏ5粒子がより好ましい。
［フィルムセンサーの製造方法］
　本発明のフィルムセンサーの製造方法は、透明な基材シートと、前述の基材シートの両面に配置された電極パターンと、前述の電極パターンに接続された引き回し配線と、前述の電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、本発明の転写フィルムから前述の着色組成物層を転写して加飾層を形成する工程を含む。
＜透明膜の成膜＞
　本発明のフィルムセンサーが、屈折率が１．６～１．７８であり膜厚が５５～１１０ｎｍの透明膜をさらに有する場合、前述の透明膜は、前述の透明な基材シートの上に直接、または、他の層を介して、成膜される。
　前述の透明膜の成膜方法としては特に制限はないが、転写またはスパッタによって成膜することが好ましい。
　前述の透明膜が無機膜である場合は、スパッタによって形成されてなることが好ましい。すなわち、積層体は、前述の透明膜が、スパッタによって形成されてなることも好ましい。
　スパッタの方法としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報および特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている方法を好ましく用いることができる。
　本明細書において、「透明」とは、波長が４００～７００ｎｍである光の透過率が８０％以上であることを意味する。
＜電極パターン、遮光性導電膜および引き回し配線の形成＞
　前述の電極パターン、前述の遮光性導電膜および前述の引き回し配線は、感光性フィルムを用いてフィルム基材上に形成することができる。
　第一の電極パターン３と、第二の電極パターン４と、引き回し配線６の少なくとも一要素が、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。前述の感光性フィルムを用いて前述の各要素を形成すると、簡略な工程で、薄層化および軽量化された前面板一体型センサーを製造することができる。
　また、前述の電極パターン、前述の遮光性導電膜は、特許５０２６５８０号の＜００３０＞～＜００４２＞に記載の方法で形成することも好ましい。
（感光性フィルム）
　本発明のフィルムセンサーまたは後述の前面板一体型センサーを製造するときに好ましく用いられる、本発明の転写フィルム以外の前述の感光性フィルムについて説明する。前述の感光性フィルムは、仮支持体と光硬化性樹脂層を有し、仮支持体と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。前述の熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、前述の電極パターン、前述の遮光性導電膜、前述の引き回し配線または第二の加飾層等を形成すると、光硬化性樹脂層を転写して形成した要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
　前述の感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
－光硬化性樹脂層以外の層、作製方法－
　前述の感光性フィルムにおける前述の仮支持体、前述の熱可塑性樹脂層としては、特開２０１４－１０８５４１号公報の＜００４１＞～＜００４７＞に記載の熱可塑性樹脂層を用いることができる。また、前述の感光性フィルムの作製方法としても、特開２０１４－１０８５４１号公報の＜００４１＞～＜００４７＞に記載の作製方法と同様の方法を用いることができる。
　－光硬化性樹脂層－
　前述の感光性フィルムは、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加物を加える。即ち、第二の加飾層の形成に前述の感光性フィルムを用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を含有させる。また、前述の電極パターン、前述の遮光性導電膜、前述の引き回し配線を形成するために前述の感光性フィルムが導電性光硬化性樹脂層を有する場合は、前述の光硬化性樹脂層に導電性繊維等が含有される。
　前述の感光性フィルムがネガ型材料である場合、光硬化性樹脂層には、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤を含むことが好ましい。さらに、導電性繊維、着色剤、その他の添加剤、などが用いられるがこれに限られない。
－－アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、前述の重合開始剤－－
　前述の感光性フィルムに含まれるアルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、前述の重合開始剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のアルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤を用いることができる。
　－－導電性繊維（導電性光硬化性樹脂層として用いる場合）－－
　前述の導電性光硬化性樹脂層を積層した前述の感光性フィルムを電極パターン、あるいは引き回し配線の形成に用いる場合には、以下の導電性繊維などを光硬化性樹脂層に用いることができる。
　導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造および中空構造のいずれかが好ましい。
　ここで、中実構造の繊維を「ワイヤー」と称することがあり、中空構造の繊維を「チューブ」と称することがある。また、平均短軸長さが１ｎｍ～１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ～１００μｍの導電性繊維を「ナノワイヤー」と称することがある。
　また、平均短軸長さが１ｎｍ～１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ～１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と称することがある。
　前述の導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属およびカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前述の導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、およびカーボンナノチューブの少なくともいずれかが特に好ましい。
　前述の金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、および第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族～第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、および第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
　前述の金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀を主に含有するもの、または銀と銀以外の金属との合金を含有するものが好ましい。
　前述の銀を主に含有するとは、金属ナノワイヤー中に銀を５０質量％以上、好ましくは９０質量％以上含有することを意味する。
　前述の銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウムおよびイリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　前述の金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
　前述の金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
　前述の金属ナノワイヤーの断面の角とは、断面の各辺を延長し、隣り合う辺から降ろされた垂線と交わる点の周辺部を意味する。また、「断面の各辺」とはこれらの隣り合う角と角を結んだ直線とする。この場合、前述の「断面の各辺」の合計長さに対する前述の「断面の外周長さ」との割合を鋭利度とした。鋭利度は、例えば図９に示したような金属ナノワイヤー断面では、実線で示した断面の外周長さと点線で示した五角形の外周長さとの割合で表すことができる。この鋭利度が７５％以下の断面形状を角の丸い断面形状と定義する。前述の鋭利度は６０％以下が好ましく、５０％以下がより好ましい。前述の鋭利度が７５％を超えると、この角に電子が局在し、プラズモン吸収が増加するためか、黄色みが残るなどして透明性が悪化してしまうことがある。また、パターンのエッジ部の直線性が低下し、ガタツキが生じてしまうことがある。前述の鋭利度の下限は、３０％が好ましく、４０％がより好ましい。
　前述の金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、１５０ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ～４０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ～４０ｎｍが更に好ましく、１５ｎｍ～３５ｎｍが特に好ましい。
　前述の平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、１５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
　前述の金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子（株）製、ＪＥＭ－２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。
　なお、前述の金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
　前述の金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ～４０μｍが好ましく、３μｍ～３５μｍがより好ましく、５μｍ～３０μｍが更に好ましい。
　前述の平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
　前述の金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子（株）製、ＪＥＭ－２０００ＦＸ）を用い、任意の３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前述の金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、および曲率から算出される値を長軸長さとした。
　導電性光硬化性樹脂層の層厚は、塗布液の安定性や塗布時の乾燥やパターニング時の現像時間などのプロセス適性の観点から、０．１～２０μｍが好ましく、０．５～１８μｍが更に好ましく、１～１５μｍが特に好ましい。
　前述の導電性光硬化性樹脂層の全固形分に対する前述の導電性繊維の含有量は、導電性と塗布液の安定性の観点から、０．０１～５０質量％が好ましく、０．０５～３０質量％が更に好ましく、０．１～２０質量％が特に好ましい。
－－着色剤（第二の加飾層として用いる場合）－－
　また、前述の感光性フィルムを第二の加飾層として用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を用いることができる。光硬化性樹脂層に用いる着色剤としては、公知の着色剤（有機顔料、無機顔料、染料等）を好適に用いることができる。
　前述の光硬化性樹脂層を黒色の第二の加飾層として用いる場合には、光学濃度の観点から、黒色着色剤を含むことが好ましい。黒色着色剤としては、例えば、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。尚、光硬化性樹脂層には、黒色着色剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。
　前述の光硬化性樹脂層を白色の第二の加飾層として用いる場合には、特開２００５－７７６５公報の段落００１５や０１１４に記載のホワイト顔料を用いることができる。その他の色の第二の加飾層として用いるためには、特許第４５４６２７６号公報の段落０１８３～０１８５などに記載の顔料、あるいは染料を混合して用いてもよい。具体的には、特開２００５－１７７１６号公報の段落００３８～００５４に記載の顔料および染料、特開２００４－３６１４４７号公報の段落００６８～００７２に記載の顔料、特開２００５－１７５２１号公報の段落００８０～００８８に記載の着色剤等を好適に用いることができる。
　前述の着色剤（好ましくは顔料、より好ましくはカーボンブラック）は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前述の着色剤と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前述のビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前述の顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。
　前述の顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル、ビーズミル等の公知の分散機が挙げられる。
　更にこの文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
　前述の着色剤は、分散安定性の観点から、数平均粒径が０．００１μｍ～０．１μｍの着色剤が好ましく、更に０．０１μｍ～０．０８μｍの着色剤が好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について前述の粒径を求め、このうち、任意に選択する１００個の粒径の平均値をいう。
　着色剤を含む光硬化性樹脂層の層厚は、他層との厚み差の観点から、０．５～１０μｍが好ましく、０．８～５μｍが更に好ましく、１～３μｍが特に好ましい。前述の着色組成物の固形分中の着色剤の含有率としては、特に制限はないが、十分に現像時間を短縮する観点から、１５～７０質量％であることが好ましく、２０～６０質量％であることがより好ましく、２５～５０質量％であることが更に好ましい。
　本明細書でいう全固形分とは着色組成物から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
　尚、前述の感光性フィルムを用いて絶縁層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、絶縁性の維持の観点から、０．１～５μｍが好ましく、０．３～３μｍが更に好ましく、０．５～２μｍが特に好ましい。
　－－その他の添加剤－－
　さらに、前述の光硬化性樹脂層は、その他の添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様の添加剤を用いることができる。
　また、前述の感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様の溶剤を用いることができる。
　以上、前述の感光性フィルムがネガ型材料である場合を中心に説明したが、前述の感光性フィルムは、ポジ型材料であってもよい。前述の感光性フィルムがポジ型材料である場合、光硬化性樹脂層に、例えば特開２００５－２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。
　（感光性フィルムによる第一および第二の電極パターン、引き回し配線の形成）
　前述の第一の電極パターン３、第二の電極パターン４および引き回し配線６は、エッチング処理または導電性光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、あるいは感光性フィルムをリフトオフ材として使用して形成することができる。
　－エッチング処理－
　エッチング処理によって、前述の第一の電極パターン３、第二の電極パターン４および引き回し配線６を形成する場合、まず第二の加飾層２等が形成された前面板１の第二の加飾層２が形成された側（非接触面上）にＩＴＯ等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、前述の透明電極層上に前述の光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の電極パターン３等を形成することができる。
　前述の感光性フィルムをエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いる場合にも、前述の方法と同様にして、レジストパターンを得ることができる。前述のエッチングは、特開２０１０－１５２１５５公報の段落００４８～００５４等に記載の公知の方法でエッチング、レジスト剥離を適用することができる。
　例えば、エッチングの方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法が挙げられる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性タイプまたはアルカリ性タイプのエッチング液を適宜選択すればよい。酸性タイプのエッチング液としては、塩酸、硫酸、フッ酸、リン酸等の酸性成分単独の水溶液、酸性成分と塩化第２鉄、フッ化アンモニウム、過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせたものを使用してもよい。また、アルカリ性タイプのエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのような有機アミンの塩等のアルカリ成分単独の水溶液、アルカリ成分と過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせたものを使用してもよい。
　エッチング液の温度は特に限定されないが、４５℃以下であることが好ましい。本発明でエッチングマスク（エッチングパターン）として使用される樹脂パターンは、上述した光硬化性樹脂層を使用して形成されることにより、このような温度域における酸性およびアルカリ性のエッチング液に対して特に優れた耐性を発揮する。したがって、エッチング工程中に樹脂パターンが剥離することが防止され、樹脂パターンの存在しない部分が選択的にエッチングされることになる。
　前述のエッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により１０～３００秒間基材を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧（０．１～５ｋｇ／ｃｍ2程度）を適宜調整し行えばよい。
　次いで、樹脂パターンの剥離方法としては、特に限定されないが、例えば、３０～８０℃、好ましくは５０～８０℃にて攪拌中の剥離液に基材を５～３０分間浸漬する方法が挙げられる。本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、上述のように４５℃以下において優れた薬液耐性を示すものであるが、薬液温度が５０℃以上になるとアルカリ性の剥離液により膨潤する性質を示す。このような性質により、５０～８０℃の剥離液を使用して剥離工程を行うと工程時間が短縮され、樹脂パターンの剥離残渣が少なくなるという利点がある。すなわち、前述のエッチング工程と剥離工程との間で薬液温度に差を設けることにより、本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、エッチング工程において良好な薬液耐性を発揮する一方で、剥離工程において良好な剥離性を示すことになり、薬液耐性と剥離性という、相反する特性を両方とも満足することができる。
　剥離液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分や、第３級アミン、第４級アンモニウム塩等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン、またはこれらの混合溶液に溶解させた剥離液が挙げられる。前述のの剥離液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により剥離してもよい。
　－導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルム－
　導電性光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、前述の第一の電極パターン３、第二の電極パターン４および引き回し配線６を形成する場合、前述の前面板１の表面に前述の導電性光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
　前述の第一の電極パターン３等を、前述の導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
　さらに、第一の電極パターン３等の形成に、導電性光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する前述の感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、導電性に優れ抵抗の少ない第一の電極パターン３、第二の電極パターン４および引き回し配線６を形成することができる。
　－感光性フィルムのリフトオフ材としての使用－
　また、前述の感光性フィルムをリフトオフ材として用いて、第一の透明電極層、第二の透明電極層および引き回し配線を形成することもできる。
　この場合、前述の感光性フィルムを用いてパターニングした後に、基材全面に透明導電層を形成した後、堆積した透明導電層ごと前述の光硬化性樹脂層の溶解除去を行うことにより所望の透明導電層パターンを得ることができる（リフトオフ法）。
＜オーバーコート層を積層する工程＞
　フィルムセンサーの製造方法において、前述のオーバーコート層７を形成する場合、転写フィルムを用いて、各要素が任意に形成された前述のフィルム基材１Ａの表面に前述のオーバーコート層を転写することで形成することができる。
　オーバーコート層を積層する工程は、転写（貼り合わせ）工程であることが好ましい。転写工程とは、転写フィルムからオーバーコート層が任意の材料（例えば、電極パターンや遮光性導電膜や引き回し配線などが形成された基材）に積層された結果、貼り合わせられることを言う。この際、転写フィルムの前述のオーバーコート層を、基材にラミネート後、仮支持体を取り除く工程を含む方法が好ましい。
　この工程により、オーバーコート層は、電極パターンを覆うように積層される。
　電極パターンや遮光性導電膜や引き回し配線などが形成された基材の上にオーバーコート層を積層する工程は、前述のオーバーコート層を、基材の表面に重ね、加圧および加熱することに行われることが好ましい。
　基材の上にオーバーコート層を積層する工程には、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。ラミネーターはゴムローラーなどの任意の加熱可能なローラーを備え、加圧および加熱をできることが好ましい。
　オーバーコート層を積層する工程におけるオーバーコート層と基材とを貼り合わせる際の温度は、６０～１５０℃であることが好ましく、６５～１３０℃であることがより好ましく、７０～１００℃であることが特に好ましい。
　オーバーコート層を積層する工程におけるオーバーコート層と基材の間には、線圧６０～２００Ｎ／ｃｍをかけることが好ましく、線圧７０～１６０Ｎ／ｃｍをかけることがより好ましく、線圧８０～１２０Ｎ／ｃｍをかけることが特に好ましい。
　オーバーコート層を積層する工程におけるオーバーコート層の搬送速度は、２．０ｍ／ｍｉｎ以上が好ましく、３．０ｍ／ｍｉｎ以上がより好ましく、４．０ｍ／ｍｉｎ以上が更に好ましい。このような高速ラミネート時においても、基材へのラミネート時の気泡混入を抑制できる。
　フィルムセンサーの製造方法は、オーバーコート層を露光する露光工程と、露光されたオーバーコート層を現像する現像工程と、を有することが好ましい。
　オーバーコート層の露光工程、および、現像工程は後述する。
＜加飾層を形成する工程＞
　本発明のフィルムセンサーの製造方法は、加飾層を形成する工程を含む。
　加飾層を形成する工程は、透明な基材シートと、前述の基材シートの両面に配置された電極パターンと、前述の電極パターンに接続された引き回し配線と、前述の電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、本発明の転写フィルムから前述の着色組成物層を転写して加飾層を形成する工程である。
　フィルムセンサーの製造方法において、前述の加飾層を形成する場合、本発明の転写フィルムを用いて、各要素が任意に形成された前述のフィルムセンサーのオーバーコート層の表面に前述の着色組成物層を転写することで形成することが好ましい。
　本発明のフィルムセンサーの製造方法は、前述の着色組成物層を転写する前述のフィルムセンサーの一方の表面が、前述の引き回し配線の少なくとも一部の領域および前述のオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含むことがより好ましい。
　フィルムセンサーの製造方法は、本発明の転写フィルムが保護フィルムを含む場合は、加飾層を積層する工程の前に、本発明の転写フィルムから前述の保護フィルムを除去する保護フィルム除去工程を含むことが好ましい。
＜露光工程、現像工程＞
　フィルムセンサーの製造方法は、基材上に転写されたオーバーコート層（オーバーコート層が積層されない基材においては、硬化性透明樹脂層、または、着色組成物層、好ましくはさらに第二の透明樹脂層）を露光する露光工程と、露光されたオーバーコート層（オーバーコート層が積層されない基材においては、硬化性透明樹脂層、または、着色組成物層、好ましくはさらに第二の透明樹脂層）を現像する現像工程と、を有することが好ましい。
　前述の露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
　前述の露光工程は、電極パターン上に転写された前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層等を露光する工程である。
　具体的には、前述の電極パターン上に形成された前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層の上方に所定のマスクを配置し、その後このマスク、仮支持体を介してマスク上方から前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層を露光する方法が挙げられる。
　ここで、前述の露光の光源としては、前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５～２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０～１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
　前述の現像工程は、露光された硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層等を現像する工程である。
　本発明では、前述の現像工程は、パターン露光された前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層等を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程である。
　前述の現像は、現像液を用いて行うことができる。前述の現像液としては、特に制約はなく、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層や前述の着色組成物層が溶解型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。一方、前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層自体はパターンを形成しない場合の現像液は前述の非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε－カプロラクトン、γ－ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε－カプロラクタム、Ｎ－メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶剤の濃度は０．１質量％～３０質量％が好ましい。
　また、前述の現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％～１０質量％が好ましい。
　前述の現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、前述のシャワー現像について説明すると、露光後の前述の硬化性透明樹脂層や前述の着色組成物層等に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃～４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８～１３が好ましい。
＜熱処理＞
　本発明のフィルムセンサーの製造方法は、前述の着色組成物層を転写する工程の後に、前述のフィルムセンサーを、１３０～１７０℃で熱処理する工程（ポストベーク工程）を含むことが好ましい。このような温度で熱処理することによって、フィルム基材にあらかじめ電極パターンや引き回し配線や遮光性導電膜やオーバーコート層などの他の部材が形成された後に加飾層を形成するフィルムセンサーの製造方法においても、他の部材に悪影響を与えずに熱処理をすることができる。
　熱処理する工程の温度は、１４０～１６０℃であることがより好ましく、１４０～１５０℃であることが特に好ましい。
　熱処理する工程の時間は、１～６０分であることが好ましく、１０～６０分であることがより好ましく、２０～５０分であることが特に好ましい。
＜その他の工程＞
　フィルムセンサーの製造方法は、ポスト露光工程、その他の工程を有していてもよい。
　尚、パターニング露光や全面露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクを介した露光でも良いし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。
［前面板一体型センサー］
　本発明の前面板一体型センサーは、透明な前面板と、本発明のフィルムセンサーとを有する。
　前面板一体型センサーは、静電容量型入力装置であることが好ましい。
　以下、本発明の前面板一体型センサーの好ましい態様の詳細を説明する。
＜前面板一体型センサーの構成＞
　まず、本発明の前面板一体型センサーの好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。
　図１は、本発明の前面板一体型センサーの好ましい構成を示す断面図である。図１において前面板一体型センサーは、透明基板（前面板）１と、第二の加飾層（マスク層）２と、本発明のフィルムセンサー４３と、から構成されている態様が示されている。
　図１において、透明な前面板１の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。本発明の前面板一体型センサーにおいては、透明な前面板１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。
　本発明の前面板一体型センサーは、前述の透明な前面板がガラスであることが好ましい。
　透明な前面板が屈折率１．５～１．５５のガラス基板であることがより好ましい。前述の透明な前面板の屈折率は、１．５～１．５２であることが特に好ましい。前述の透明な前面板は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラガラス（“ゴリラ”は登録商標）に代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、前述の透明な前面板としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報および特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
　更に、透明な前面板１には、図２に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧式のメカニカルなスイッチを設置することができる。
　本発明の前面板一体型センサーは、前述の透明な前面板の一方の表面の一部の領域に第二の加飾層を有することが好ましい。
　図１では透明な前面板１の非接触面上には第二の加飾層２が設けられている。第二の加飾層２は、タッチパネル前面板の非接触面側に形成された表示領域周囲の額縁状（枠状）のパターンであり、引回し配線６等が接触面側から視認できないようにするために形成される。
　前面板一体型センサーには、図２に示すように、透明な前面板１の一部の領域（図２においては入力面以外の領域）を覆うように第二の加飾層２が設けられていることが好ましい。
　前述の第二の加飾層は、接触面の指またはタッチペンなどで触れる領域の反対側の面の周囲に額縁状に設けられ、電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするために、設けられる。前述の第二の加飾層は、白色または黒色の第二の加飾層であることが好ましい。
　前述の第二の加飾層は、前述の透明な前面板に隣接して設けられることがより好ましい。
　第二の加飾層２の厚みを７μｍ～３０μｍとするのが好ましい。
　本発明の前面板一体型センサーは、前述の第二の加飾層が、前述の透明な前面板と前述のフィルムセンサーの加飾層との間に配置されることが好ましい。
　本発明の前面板一体型センサーは、前述の透明な前面板の法線方向から観察した場合に、前述の第二の加飾層の正射影が前述のフィルムセンサーの加飾層の少なくとも一部の領域に重なることが好ましい。
　前述のフィルムセンサーの加飾層４５の内縁が前述の第二の加飾層２の内縁よりも中央側に位置していることが好ましい。
　透明な前面板１の第２の加飾層が形成される側の面と、フィルムセンサーの加飾層４５との間の距離が１０μｍ～１００μｍであるのがより好ましい。１０μｍ以上だと粘着剤の厚みが十分に厚くなりフィルムセンサーと透明な前面板１の密着力が高くなり、１００μｍ以下であると表示画面を囲う部分の外観的な一体感が高くなる。
　＜前面板一体型センサーの製造方法＞
　本発明の前面板一体型センサーを製造する過程で形成される態様例として、図４～８の態様を挙げることができる。図４は、開口部８が形成された強化処理ガラスからなる透明な前面板１の一例を示す上面図である。図５は、第二の加飾層２が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。
　図６～８は、フィルムセンサーが積層された前面板一体型センサーの構成の一例である。図６は、フィルムセンサーが積層されて第一の電極パターン３が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。図７は、フィルムセンサーが積層されて第一の電極パターン３と第二の電極パターン４が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。図８は、フィルムセンサーが積層されて第一および第二の電極パターンと引き回し配線６が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
　前面板一体型センサーの製造方法においては、第二の加飾層２が、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
　本発明の転写フィルムや前述の感光性フィルムを用いて前述の第二の加飾層を形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、特に前面板の境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のある第二の加飾層において、ガラス端からのレジスト成分のはみ出し（モレ）がないため、前面板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化された前面板一体型センサーを製造することができる。
　前述の第二の加飾層を、前述の感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、基材にラミネートされた後、必要に応じてパターン様に露光され、ネガ型材料の場合は非露光部分、ポジ型材料の場合は露光部分を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性樹脂層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。
（感光性フィルムによる第二の加飾層の形成）
　前述の第二の加飾層２は、前述の感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を透明な前面板１などに転写することで形成することができる。例えば、黒色の第二の加飾層２を形成する場合には、前述の光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、前述の透明な前面板１の表面に前述の黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
　さらに、遮光性が必要な第二の加飾層２の形成に、光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する前述の感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、光モレのない高品位な第二の加飾層２を形成することができる。
［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、本発明の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置である。
　本発明の前面板一体型センサー、およびこの前面板一体型センサーを構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　２００９　Ｆｏｒｕｍ　Ｔ－１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
［実施例１］
＜着色組成物の調製＞
　下記Ｋ顔料分散物１の組成となるようにカーボンブラック、分散剤、ポリマー及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いてＫ顔料分散物１を得た。
　着色組成物層形成用の着色組成物である黒色組成物Ｋ１（着色組成物）を、以下の手順により得た。
　まず表１に記載された量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＭＭＰＧＡｃ）をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ（Ｒｏｕｎｄ　Ｐｅｒ　Ｍｉｎｕｔｅｓ）で１０分間攪拌した。次いで、表１に記載された量のメチルエチルケトン、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、バインダー、フェノチアジン、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤をはかり取り、温度２５℃（±２℃）で攪拌後の溶液にこの順に添加して、温度２４℃（±２℃）のもと、１５０ＲＰＭで３０分間攪拌した。
　なお、表１に記載された量は質量基準の部数である。
（Ｋ顔料分散物１）
・特許５３２０６５２公報＜００３６＞～＜００４２＞に従って作製した樹脂被覆カーボンブラック　　　　　　　　　　　　　：　１３．１質量％
・下記分散剤１　　　　　　　　　　　　　　　　　：　０．６５質量％
・ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　６．７２質量％
　　（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　：　７９．５３質量％
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
＜転写フィルムの作製＞
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前述の着色組成物層形成用の着色組成物である黒色組成物Ｋ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．０μｍの黒色の着色組成物層を設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の着色組成物層と保護フィルムとが一体となった実施例１の転写フィルムを作製した。
（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　：６．３６質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　：　５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）　：　５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）　　　　：　１３．６質量部
・２，２－ビス［４－（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）　　　　　　　　　：　９．１質量部
・フッ素系ポリマー　　　　　　　　　　　：　０．５４質量部
　（Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2　４０部と　Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2　５５部と　Ｈ（ＯＣＨ２ＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2　５部との共重合体、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液、ＤＩＣ製、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ）
（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ＰＶＡ２０５　　　　　　　　　　　　　　：　３２．２質量部
　（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン　　　　　　　　　　：　１４．９質量部
　（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ－３０）
・蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　：　５２４質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　：　４２９質量部
＜光学濃度の評価＞
　得られた実施例１の転写フィルムについて、Ｘ－Ｒｉｔｅ　３６１Ｔ（Ｖ）（サカタインクスエンジニアリング（株）製）を用いて光学濃度を測定した。値が大きいほど好ましく、Ａ、ＢまたはＣが実用範囲であり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
～評価基準～
　Ａ　：　３．４以上
　Ｂ　：　２．５以上３．４未満
　Ｃ　：　１．１以上２．５未満
　Ｄ　：　０．６以上１．１未満
　Ｅ　：　０．６未満
　得られた結果を下記表３に記載した。
＜感度の評価＞
　得られた実施例１の転写フィルムから保護フィルムを除去し、除去後に露出した黒色の着色組成物層の表面と、基板としてのシクロオレフィンコポリマーフィルム（ＣＯＰフィルム、　ＴＯＰＡＳ　Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　ＧｍｂＨ社製、商品名ＴＯＰＡＳ　５０１３Ｌ－１０）の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色の着色組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
　次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ－ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で２０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このＣＯＰフィルムの上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
　その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ－ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ－ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒間、着色組成物層を現像し、純水で洗浄した。
　引き続き、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．１ＭＰａにてシャワーで吹きかけて着色組成物層を洗浄した。さらに、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で超純水を噴射して残渣除去を行った。
　マスク線幅１２．０μｍ（Ｗ２）に対するパターン線幅（Ｗ１）を微小線幅測定装置（ＣＰ－３０；ソフトワークス製）で測定し、下記評価基準に従って感度を評価した。値が大きいほど好ましく、Ａ、ＢまたはＣが実用範囲であり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
る。
　Ａ：１５μｍ以上
　Ｂ：１２μｍ以上１５μｍ未満
　Ｃ：１０μｍ以上１２μｍ未満
　Ｄ：５μｍ以上１０μｍ未満
　Ｅ：５μｍ未満
　得られた結果を下記表３に記載した。
＜表面抵抗の評価＞
　上記の製法にて作製された実施例１の転写フィルムから保護フィルムを除去し、除去後に露出した黒色の着色組成物層の表面とイーグルＸＧガラス基板（コーニング社製）の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色の着色組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で全面露光した。
　次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ－ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で２０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このベアウエハ基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。その後、オーブン中にて、１４５℃で６０分間加熱し、硬化膜を得た。
　この硬化膜について、ハイレスタ－ＵＸ　ＭＣＰ－ＨＴ８００（三菱化学アナリック製）を用いて表面抵抗を測定した。なお、評価基準は下記の通りである。値（Ω／sq）が大きいほど好ましく、Ａ、ＢまたはＣが実用範囲であり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
　Ａ：１×１０13以上
　Ｂ：１×１０12以上１×１０13未満
　Ｃ：１×１０11以上１×１０12未満
　Ｄ：１×１０10以上１×１０11未満
　Ｅ：１×１０10未満
　得られた結果を下記表３に記載した。
＜オーバーコート層用のドライフィルムレジストの作製＞
　次に、オーバーコート層用のドライフィルムレジストの作製法について説明する。撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、下記に示す量のプロピレングリコールモノメチルエーテルおよびトルエン（１）を加え、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、そこへ下記に示す量の（２）で示される成分の混合物を４時間かけて均一に滴下した。混合物の滴下後、液温を８０℃±２℃に維持しながら６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約８０，０００のバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。バインダーポリマーの重量平均分子量は６５０００であり、酸価は７８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
（１）
　プロピレングリコールモノメチルエーテル　　　　　　　６２質量部
　トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６２質量部
（２）
　メタクリル酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２質量部
　メタクリル酸メチル　　　　　　　　　　　　　　　　　５８質量部
　アクリル酸エチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
　２，２－アゾビスイソブチロニトリル　　　　　　　　１．２質量部
　下記材料を、マグネチックスターラーを用いて３０分間混合し、レジスト用感光性塗布液Ａを作製した。
バインダーポリマーの溶液（Ａ１）　　　　　　　　　　１３３質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ製、光重合開始剤）５質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製、ペンタエリスリトールトリアクリレート／ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
２，２’－メチレン－ビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
オクタメチルシクロテトラシロキサン　　　　　　　　　０．１質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
　仮支持体として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、上記で作製したレジスト用感光性塗布液Ａを仮支持体上にスリット状ノズルを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去することにより、感光層を形成し、オーバーコート層用のドライフィルムレジストを得た。得られた感光層の厚さは２．５μｍであった。
＜フィルムセンサーの作製＞
　ロールから巻き出した厚さ２００μｍの無色ポリエステルフィルムを透明な基材シートとし、その片面にインジウムスズ酸化物からなる透明導電膜（第一の電極パターン用または第二の電極パターン用の導電膜）をスパッタリング法で２００ｎｍの厚みで形成し、透明導電膜上に銅膜（遮光性導電膜用および引き回し配線用の導電膜）をスパッタリング法で５００ｎｍの厚みで形成して導電性フィルムを用意した。
　次いで二枚の（一組の）導電性フィルムを、透明粘着材を用いて、ポリエステルフィルムの両面が対向するようにラミネートし、両面に透明導電膜、遮光性導電膜および引き回し配線用の導電膜を各々積層した積層体を得た。
　その後に、炭酸ソーダ１％液で現像が可能なネガタイプのアクリル系感光層を備えたドライフィルムレジストを用い、厚み１０ｎｍの第一フォトレジスト層を前述の積層体の両面に各々、全面形成し、一方の面側にはＸ方向の電極パターンを有するマスクを載置し、他方の面側にはＹ方向の電極パターンを有するマスクを載置して、メタルハライドランプによって積層体の両面を同時に露光し、炭酸ソーダ１％液に浸して現像した。
　次いで、塩化第二鉄のエッチング液でパターン化された第一フォトレジスト層が積層されていない部分のインジウムスズ酸化物からなる透明導電膜および銅膜を同時にエッチング除去した。その結果、透明な基材シートの中央窓部の一方の面側にはＸ方向の第二の電極パターンおよび遮光性導電膜の積層体が、遮光性導電膜が露出して形成された。透明な基材シートの中央窓部の他方の面側にはＹ方向の第一の電極パターンおよび遮光性導電膜の積層体が、遮光性導電膜が露出して形成された。その中央窓部を囲む外枠部には第一の電極パターン（または第二の電極パターン）、遮光性導電膜かつ平均線幅２０μｍの電極パターンに接続された引き回し配線として用いられる細線引き回しパターンの積層体が、引き回し配線が表裏両面に露出して形成された。
　次に、積層体の両面の第一フォトレジスト層を剥離した後、炭酸ソーダ１％液で現像が可能でネガタイプのアクリル系感光層を備えたドライフィルムレジストを用い、厚み１０ｎｍの第二フォトレジスト層を両面に各々全面形成し、第二フォトレジスト層の両面の端子部を除く外枠部にマスクを載置して、メタルハライドランプによって両面側を同時に露光し、炭酸ソーダ１％液に浸して現像した。
　次いで、酸性雰囲気下で積層体を過酸化水素水に浸すと露出していた中央窓部の銅膜である遮光性導電膜がエッチング除去され、インジウムスズ酸化物膜である第一の電極パターンまたは第二の電極パターンが露出した。
　次に、積層体の両面の第二フォトレジスト層を剥離した後、オーバーコート層用のドライフィルムレジストを用いて第三フォトレジスト層を両面に各々全面形成し、第三フォトレジスト層の両面の端子部を除く外枠部にマスクを載置して、メタルハライドランプによって両面側を同時に露光し、炭酸ソーダ１％液に浸して現像し、電極パターンを覆うようにオーバーコート層を形成した。
　次に、実施例１の転写フィルムを用い、実施例１の転写フィルムから厚み２μｍの着色組成物層を第四フォトレジスト層として引き回し配線の少なくとも一部の領域およびオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含む一方の面側（第２の電極パターンが形成された側）の全面に転写した。その上にマスクを載置して、メタルハライドランプによって第四フォトレジスト層を露光し、炭酸ソーダ１％液に浸して現像した。
　その後、オーブンにて１４５℃３０分間加熱して硬化させた。
　残存した黒色の第四フォトレジスト層を枠状の加飾層とした。
　次いで一個分のフィルムセンサーをカットし、実施例１のフィルムセンサーを得た。
　なお、実施例１のフィルムセンサーは、図１１Ａに示したフィルムセンサーの概略図から透明膜１１を除いた構成であり、遮光性導電膜９の一部は引き回し配線６と同じ部材である。
＜転写性評価＞
　引き回し配線およびオーバーコート層と加飾層との境界の加飾層に沿った領域を、光学顕微鏡を用いて観察し、加飾層を転写により形成するときに混入した気泡の数を数え、以下の基準に沿って転写性を評価した。また、引き回し配線６およびオーバーコート層７と加飾層との境界のオーバーコート層に沿った領域の概略図を図１２に示した。
　転写性評価において、気泡の個数は少ないほど好ましく、Ａ、ＢまたはＣが実用範囲であり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
Ａ：気泡の数が５個未満
Ｂ：気泡の数が５個以上３０個未満
Ｃ：３０個以上５０個未満
Ｄ：５０個以上１００個未満
Ｅ：１００個以上
　得られた結果を下記表３に記載した。
＜エッジラフネス評価＞
　実施例１のフィルムセンサーにおいて、枠状の加飾層の内側部分について、レーザー顕微鏡（ＶＫ－９５００、キーエンス（株）製；対物レンズ５０倍）を用いて観察し、視野内のエッジ位置のうち、最も膨らんだ箇所（山頂部）と、最もくびれた箇所（谷底部）との差を絶対値として求め、５つの視野内を観察して得られた絶対値の平均値を算出し、これをエッジラフネスとした。エッジラフネスは、値が小さい程、カバーガラス一体型センサーの表示画面の輪郭がシャープになり、好ましい。Ａ、ＢまたはＣが実用範囲であり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
Ａ：１μｍ未満
Ｂ：１μｍ以上２μｍ未満
Ｃ：２μｍ以上４μｍ未満
Ｄ：４μｍ以上７μｍ未満
Ｅ：７μｍ以上
　得られた結果を下記表３に記載した。
＜前面板一体型センサーの作製＞
　透明な前面板として、厚み０．７ｍｍのホウケイ酸系ガラスからなるガラス基板を用いた。この透明な前面板のフィルムセンサーが貼り合わせられる側の面の周縁部に、黒色インキを用いてスクリーン印刷にて厚み７μｍの第二の加飾層を形成してカバーガラスを得た。
　実施例１のフィルムセンサーをカバーガラスの第二の加飾層が形成された側に透明粘着材にて貼り合わせて、第二の加飾層が透明な前面板とフィルムセンサーの加飾層との間に配置された、実施例１の前面板一体型センサー（以下、「カバーガラス一体型センサー」ともいう。）を作製した。
　この実施例１のカバーガラス一体型センサーは、フィルムセンサーの加飾層の内縁が、透明な前面板の第二の加飾層の内縁よりも０．１ｍｍだけ中央側に位置しており、透明な前面板の法線方向から観察した場合に第二の加飾層の正射影がフィルムセンサーの加飾層の少なくとも一部の領域に重なっていた。また透明な前面板であるガラス基板のフィルムセンサーが貼り合わせられる側の面とフィルムセンサーの加飾層との間の距離は２５μｍであった。
　なお、実施例１の前面板一体型センサーは、図１に示した前面板一体型センサーの概略図から透明膜１１を除いた構成であり、遮光性導電膜９の一部は引き回し配線６と同じ部材である。
［実施例２～１１、１３～１８、比較例１～３］
　実施例１の転写フィルムの製造において、着色組成物層形成用の着色組成物である黒色組成物Ｋ１に代えて、表１または表２に記載の着色組成物を用い、着色組成物層の膜厚を表１または表２に記載の膜厚に変更した以外は実施例１と同様にして、各実施例および比較例の転写フィルムを作製し、評価を行った。
　その後、実施例１のフィルムセンサーおよびカバーガラス一体型センサーの製造において、実施例１の転写フィルムを各実施例および比較例の転写フィルムに変更した以外は実施例１と同様にして、各実施例および比較例のフィルムセンサーおよびカバーガラス一体型センサーを作製し、評価を行った。
　表１または表２に記載のＫ顔料分散物２、および、Ｒ顔料分散物３は、下記の組成となるように顔料、分散剤、ポリマー及び溶剤のそれぞれを混合し、３本ロールとビーズミルを用いて作製した。なお、下記のデグッサ社製　Ｎｉｐｅｘ３５は、表面が樹脂で被覆されていないカーボンブラックである。
（Ｋ顔料分散物２）
・カーボンブラック（デグッサ社製　Ｎｉｐｅｘ３５）：　１３．１質量％
・前述の分散剤１　　　　　　　　　　　　　　　　：　０．６５質量％
・ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　６．７２質量％　　（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：　７９．５３質量％
（Ｒ顔料分散物３）
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７（ＰＲ１７７）一次粒子１５～６０ｎｍ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：１０質量部
・分散剤（ＢＹＫ２０００、ビックケミー製、固形分４０質量％）　　：１０質量部
・スチレン／ベンジルメタクリレート／アクリル酸／２－ヒドロキシメチルアクリレート共重合体（モル比３０／４０／１０／２０、酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、分子量６０００）　：４質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　　：７６質量部
［実施例１２］
　実施例１の転写フィルムの製造において、着色組成物層形成用の着色組成物である黒色組成物Ｋ１を表２に記載の着色組成物に変更した以外は実施例１と同様にして、実施例１２の転写フィルムを作製し、評価を行った。
　その後、実施例１のフィルムセンサーの製造において、実施例１の転写フィルムを実施例１２の転写フィルムに変更した以外は実施例１と同様にして、実施例１２のフィルムセンサーを作製し、評価を行った。
　厚み０．２ｍｍのＰＥＴベースからなる透明な前面板の非接触面の周縁部に、黒色インキを用いてスクリーン印刷にて厚み７ｎｍの第二の加飾層を形成して前面板を得た。最後に、実施例１２のフィルムセンサーの第四フォトレジスト層側と、前面板の第二の加飾層側とを透明粘着材にて貼り合わせて前面板一体型センサーとした。この実施例１２の前面板一体型センサーは、フィルムセンサーの加飾層の内縁が、透明な前面板の第二の加飾層の内縁よりも０．１ｍｍだけ中央側に位置しており、透明な前面板の法線方向から観察した場合に第二の加飾層の正射影がフィルムセンサーの加飾層の少なくとも一部の領域に重なっていた。また透明な前面板であるガラス基板の裏面とフィルムセンサーの加飾層との間の距離は２５μｍであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　各実施例の転写フィルムは、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであって、光学濃度が高く、感度が高い転写フィルムであった。
　また、実施例１～１１、１３～１８の前面板一体型センサーは、画像表示装置を構成した際に、カバーガラスである透明な前面板を介して画像表示装置の表示画面（表示部）を見ると、表示画面の輪郭がシャープで、視認性に優れ、かつ表示部の縁と外観的な一体感のあるものであった。実施例１２の前面板一体型センサーは、ＰＥＴフィルムである透明な前面板を通してみる表示画面の輪郭がシャープで、視認性に優れ、かつ表示画面を囲う部分に外観的な一体感のあるものであった。
　一方で式１の下限値を下回る比較例１および２の転写フィルムは光学濃度が低かった。また、比較例１および２の前面板一体型センサーは、表示部の縁が透けてしまい、外観的な一体感が得られなかった。
　フィルムセンサーの加飾層を形成するための着色組成物として、黒色顔料または白色顔料が高濃度であるカラーレジスト材料を用いる方法（特開２０１２－１３３５９７号公報に記載の方法）を検討した比較例３の光学フィルムは式１の上限値を満たさず、感度が悪かった。また、比較例３のフィルムセンサーおよび前面板一体型センサーは、着色組成物層が光による重合では硬化不足となり、現像工程で欠けてエッジラフネスが悪化するため、表示部の縁が汚く外観が悪いものであった。またベーク温度が低く硬化不十分のために加飾層が傷つきやすく、大きく歩留まりが悪化した。
〔画像表示装置（タッチパネル）の作製〕
　特開２００９－４７９３６号公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各実施例の前面板一体型センサーを貼り合せ、公知の方法で静電容量型入力装置である各実施例の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、各実施例の画像表示装置を作製した。
　各実施例の画像表示装置は、前面板を通してみる表示画面の輪郭がシャープで、視認性に優れ、かつ表示画面を囲う部分に外観的な一体感のあるものであった。
１　　透明基板（前面板）
１Ａ　基材シート
２　　第二の加飾層（マスク層）
３　　電極パターン（第一の電極パターン）
３ａ　パッド部分
３ｂ　接続部分
４　　電極パターン（第二の電極パターン）
５　　絶縁層
６　　引き回し配線（別の導電性要素）
７　　オーバーコート層
８　　開口部
９　　遮光性導電膜
１０　前面板一体型センサー
１１　透明膜（高屈折率層）
α　　テーパー角
４１　引き回し配線とオーバーコート層との境界のオーバーコート層に沿った領域
４３　フィルムセンサー
４５　加飾層（フィルムセンサーの加飾層）
４６　仮支持体
４７　保護剥離層（保護フィルム）
４８　着色組成物層
４９　転写フィルム
５１　粘着材
Ｃ　　第一の方向
Ｄ　　第二の方向

Claims (19)

  1. 　フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層を形成するための転写フィルムであり、
    　前記転写フィルムは、黒色顔料または白色顔料の含有量ａ質量％と膜厚ｂμｍが下記式１を満たす着色組成物層を有する、転写フィルム。
    ５０＞ａ×ｂ＞１０・・・式１
  2. 　前記黒色顔料または前記白色顔料が、カーボンブラックまたは酸化チタン粒子である請求項１に記載の転写フィルム。
  3. 　前記カーボンブラックが、表面が樹脂で被覆されたカーボンブラックである請求項２に記載の転写フィルム。
  4. 　前記着色組成物層の膜厚が、０．５～１０μｍである請求項１～３のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  5. 　前記着色組成物層が、オキシム系重合開始剤を含む請求項１～４のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  6. 　前記着色組成物層が、チオール化合物を含有する請求項１～５のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  7. 　前記チオール化合物が、２官能以上である請求項６に記載の転写フィルム。
  8. 　前記着色組成物層が、カルボキシル基を有するバインダーを含有し、
    　前記バインダーの酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である請求項１～７のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  9. 　前記着色組成物層が、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含む請求項１～８のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  10. 　前記着色組成物層が、ハロゲンを含む化合物の含有量が１質量％以下である請求項１～９のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  11. 　前記黒色顔料または前記白色顔料以外の他の粒子を含有する請求項１～１０のいずれか一項に記載の転写フィルム。
  12. 　透明な基材シートと、
    　前記基材シートの両面に配置された電極パターンと、
    　前記電極パターンに接続された引き回し配線と、
    　前記電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、
    を備えたフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、請求項１～１１のいずれか一項に記載の転写フィルムから前記着色組成物層を転写して加飾層を形成する工程を含む、フィルムセンサーの製造方法。
  13. 　前記着色組成物層を転写する工程の後に、前記フィルムセンサーを、１３０～１７０℃で熱処理する工程を含む請求項１２に記載のフィルムセンサーの製造方法。
  14. 　前記着色組成物層を転写する前記フィルムセンサーの一方の表面が、前記引き回し配線の少なくとも一部の領域および前記オーバーコート層の少なくとも一部の領域を含む請求項１２または１３に記載のフィルムセンサーの製造方法。
  15. 　透明な基材シートと、
    　前記基材シートの両面に配置された電極パターンと、
    　前記電極パターンに接続された引き回し配線と、
    　前記電極パターンを覆うように積層されたオーバーコート層と、
    を備えたフィルムセンサーであり、
    　前記フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に加飾層が配置され、
    　請求項１２～１４のいずれか一項に記載のフィルムセンサーの製造方法で製造された、フィルムセンサー。
  16. 　透明な前面板と、
    　請求項１５に記載のフィルムセンサーとを有する、前面板一体型センサー。
  17. 　前記前面板の一方の表面の一部の領域に第二の加飾層を有し、
    　前記第二の加飾層が、前記前面板と前記フィルムセンサーの前記加飾層との間に配置され、
    　前記前面板の法線方向から観察した場合に前記第二の加飾層の正射影が前記フィルムセンサーの前記加飾層の少なくとも一部の領域に重なる請求項１６に記載の前面板一体型センサー。
  18. 　前記前面板がガラスである請求項１６または１７に記載の前面板一体型センサー。
  19. 　請求項１８に記載の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置。
     
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