CN107710123A - 带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置 - Google Patents

带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107710123A
CN107710123A CN201680036684.8A CN201680036684A CN107710123A CN 107710123 A CN107710123 A CN 107710123A CN 201680036684 A CN201680036684 A CN 201680036684A CN 107710123 A CN107710123 A CN 107710123A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
refractive index
index layer
adjusting member
electrode pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201680036684.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107710123B (zh
Inventor
丰冈健太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN107710123A publication Critical patent/CN107710123A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107710123B publication Critical patent/CN107710123B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B23/00—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
    • B32B23/04—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B23/08—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B23/00—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
    • B32B23/20—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising esters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/10—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of paper or cardboard
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/12—Layered products comprising a layer of synthetic resin next to a fibrous or filamentary layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/302—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising aromatic vinyl (co)polymers, e.g. styrenic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/02—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/02—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
    • B32B37/025—Transfer laminating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/02—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by structural features of a fibrous or filamentary layer
    • B32B5/022—Non-woven fabric
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/06—Interconnection of layers permitting easy separation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
    • H01B13/0036—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B32B2255/205—Metallic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/26—Polymeric coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/28—Multiple coating on one surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/416—Reflective
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/418—Refractive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/514—Oriented
    • B32B2307/518—Oriented bi-axially
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/584—Scratch resistance
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/748—Releasability
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208—Touch screens
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

本发明涉及一种带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置，所述带透明电极的复合体依次具有基材、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层，其中，光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率层为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层，低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，高折射率层的折射率为2.10以下，低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm，在带透明电极的复合体中，即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。

Description

带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造 方法及静电电容型输入装置
技术领域
本发明涉及一种带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置。
背景技术
在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来，有如下电子设备：具备具有触摸面板式输入装置的液晶显示装置，能够使手指或触控笔等接触显示于液晶显示装置上的图像等而输入所希望的指令。
输入装置(触摸面板)中有电阻膜型及静电电容型等。
静电电容型输入装置具有可以仅在一张基材上形成透明导电膜的优点。这种静电电容型输入装置中有如下类型的静电电容型输入装置，例如使透明电极图案在彼此交叉的方向上延伸，当手指等接触静电电容型输入装置的输入面时，检测电极之间的静电电容发生变化而检测输入位置(例如参考专利文献1)。
专利文献1中记载有一种透明层叠体，其具有透明电极图案、与透明电极图案相邻配置的第二固化性透明树脂层、与第二固化性透明树脂层相邻配置的第一固化性透明树脂层，第二固化性透明树脂层的折射率高于第一固化性透明树脂层的折射率，第二固化性透明树脂层的折射率为1.6以上。专利文献1中记载有在与透明电极图案的形成有第二固化性透明树脂层的一侧相反的一侧还具有折射率为1.6～1.78且厚度为55～110nm的透明膜。根据专利文献1，通过减小透明电极图案(优选Indium Tin Oxide(铟锡氧化物)；ITO)及第二固化性透明树脂层的折射率差和第二固化性透明树脂层及第一固化性透明树脂层的折射率差，光反射减小，从而难以看到透明电极图案，能够改善辨识性。
专利文献2中记载有一种透明导电性薄膜，其在透明薄膜基材的单面或两面依次具备硬涂层、折射率为1.60以上且1.70以下、厚度为25nm以上且35nm以下的高折射率层、折射率为1.40以上且1.50以下、厚度为40nm以上且50nm以下的低折射率层、透明导电层。根据专利文献2记载为如下：通过该结构可以得到一种透明导电性薄膜，其抑制色泽的产生，并且即使在透明导电层形成了图案的情况下，也可以抑制图案形成部和图案开口部的辨识性的差异。
专利文献3中记载有一种触摸面板用硬涂膜，其在透光性基材上，依次层叠有含有微粒a的底涂层、含有微粒b的高折射率层及含有微粒c的低折射率层，其中，微粒a、微粒b及微粒c各自的平均粒径满足下述式的关系：微粒a的平均粒径＞微粒b的平均粒径＞微粒c的平均粒径。根据专利文献3记载为如下：通过该结构，高折射率层与低折射率层的密合性非常优异，并且膜强度也优异。
专利文献4中记载有一种带透明导电配线膜的玻璃基板，其在玻璃基板上形成透明导电配线膜，并设置有存在配线膜的部位上的透射率与不存在配线膜的部位上的透射率相等的电介质光学多层膜。在专利文献4的表1中记载有在钠钙玻璃上的ITO配线图案/SiO2/Nb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2该6层(没有ITO配线图案的部位为5层)的层叠膜。根据专利文献4记载为如下：通过该结构，若将具有配线图案的部位和没有配线图案的部位分别在可见光区域进行比较，则无论在透射率方面，还是在反射率方面，各自的差异小且大致相等，因此作为现有技术的缺陷的看见配线图案的缺陷得到解决，并且也能够一并实现中性色调。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-108541号公报
专利文献2：日本特开2014-106779号公报
专利文献3：日本特开2015-99538号公报
专利文献4：日本特开2010-86684号公报
专利文献5：日本特开2004-50734号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
在专利文献1中所记载的基材与透明电极图案之间设置高折射率层的方法的透明电极图案的隐蔽性优异，但形成透明电极图案时的制造成本降低，需要改善制造适性。因此，要求即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，也通过在与透明电极图案的基材相反的一侧设置高折射率层的、制造成本和制造适性优异的新型的层结构，提供透明电极图案的隐蔽性优异的带透明电极的复合体。
本发明人对通过新型的层结构来改善透明电极图案的隐蔽性进行了研究。其结果，可知由于在透明导电图案的基材侧设置高折射率的透明膜的情况和在与基材相反的一侧设置高折射率的透明膜的情况下层结构不同，因此在专利文献2和4中所记载的高折射率层和低折射率层上，理想的是优选的折射率和厚度范围的设计不同。
而且，可知在专利文献4的表1中所记载的ITO配线图案/SiO2/Nb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2的结构中，在来自基材表面的反射光中产生因用于调整除了透明电极图案以外的折射率的层较薄而产生的厚度不均(厚度的不均匀)，即，由光学调整部件引起的不均匀。
并且，在以新的层叠顺序来改善透明电极图案的隐蔽性的情况下，也仍要求赋予专利文献2和3中所记载的硬涂特性。
本发明是鉴于以上情况而完成的。本发明要解决的课题在于提供一种带透明电极的复合体，其即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
本发明要解决的课题在于提供一种转印薄膜，其使用于带透明电极的复合体的制造方法中，所述带透明电极的复合体即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
本发明要解决的课题在于提供一种带透明电极的复合体的制造方法，所述带透明电极的复合体即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
本发明要解决的课题在于提供一种静电电容型输入装置，其即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
用于解决技术课题的手段
为了解决上述课题，本发明人进行了深入的研究。其结果，发现在依次具有基材、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层的带透明电极的复合体中，通过将包括在光学调整部件中的低折射率层及高折射率层的厚度和折射率设计成特定的范围内，即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
该新型的层结构是在本领域技术人员的通常的设计中是无法想像的层结构。例如在专利文献3中记载有在触摸面板用硬涂膜的未形成有低折射率层及导电层的一侧的面上，也可以形成夹着透明的粘接层而贴合有透明基体的层叠体。专利文献3中并未公开或提示在触摸面板用硬涂膜的形成有低折射率层及导电层的一侧的面上贴合透明基体的内容。如Yano Research Institute Ltd.的“关于静电电容方式触摸面板/部件市场的调查结果2015”等中所记载，通常，触摸面板用硬涂膜是在触摸面板领域中成为导电层的基材的一侧的硬涂膜。因此，在引用文献3的触摸面板用硬涂膜的导电层侧层叠透明基体，这是在本领域技术人员的通常的设计中是无法想像的层结构。
另外，在除了带透明电极的复合体以外的领域中，专利文献5中记载有一种转印薄膜，其为在基材薄膜表面上设置有防反射用转印膜的转印薄膜，防反射用转印膜至少具备第1折射层、第2折射层及第3折射层，且将各层以所记载顺序层叠于基材薄膜表面上，第1折射层、第2折射层及第3折射层的可见光折射率按第2折射层、第3折射层、第1折射层的顺序降低。将专利文献5中所记载的折射率不同的3层进行层叠的转印薄膜转印到玻璃和丙烯酸树脂来作为以防止玻璃和空气界面的反射为目的，由于为了防止反射而使用的界面与本发明不同，因此折射率及厚度的设计不同。
作为用于解决上述课题的具体的方式的本发明和本发明的优选方式如下。
[1]一种带透明电极的复合体，其依次具有基材、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层，其中，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率层为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
[2]根据[1]所述的带透明电极的复合体，其中，优选基材和透明电极图案直接或夹着折射率为1.46～1.58的透明膜而配置。
[3]根据[1]或[2]所述的带透明电极的复合体，其中，优选光学调整部件具有各1层的低折射率层和高折射率层。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，优选低折射率层的折射率为1.25～1.53。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，优选高折射率层的折射率为1.60～2.00。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，优选高折射率层含有10～95质量％的金属氧化物粒子。
[7]根据[1]～[6]中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，优选光学调整部件及透明保护层通过转印而形成。
[8]根据[1]～[7]中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，优选低折射率层及高折射率层为透明树脂层。
[9]一种转印薄膜，其依次具有临时支撑体、透明保护层、光学调整部件及保护膜，其中，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从保护膜侧第奇数个位置，所述高折射率层配置于从保护膜侧第偶数个位置，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
[10]根据[9]所述的转印薄膜，其中，优选低折射率层及高折射率层为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层，且固化性透明树脂层未固化。
[11]一种带透明电极的复合体的制造方法，其具有层叠工序，该层叠工序中，在配置于基材上的透明电极图案上依次层叠光学调整部件和透明保护层，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从透明电极图案侧第奇数个位置，所述高折射率层配置于从透明电极图案侧第偶数个位置，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
[12]根据[11]所述的带透明电极的复合体的制造方法，其中，优选直接或夹着折射率为1.46～1.58的透明膜而配置基材和透明电极图案。
[13]根据[11]或[12]所述的带透明电极的复合体的制造方法，其中，优选层叠工序为如下工序：在配置于基材上的透明电极图案上，从[9]或[10]所述的转印薄膜将光学调整部件和透明保护层进行转印。
[14]根据[11]～[13]中任一项所述的带透明电极的复合体的制造方法，其中，低折射率层及高折射率层为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层，且在透明电极图案上进行层叠之前的固化性透明树脂层未固化。
[15]一种带透明电极的复合体，其通过[11]～[14]中任一项所述的带透明电极的复合体的制造方法而制造。
[16]一种静电电容型输入装置，其包括[1]～[8]及[15]中任一项所述的带透明电极的复合体。
发明效果
根据本发明能够提供一种带透明电极的复合体，其即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
附图说明
图1是表示本发明的静电电容型输入装置的结构的一例的剖面概略图。
图2是表示本发明中的基材的一例的说明图。
图3是表示本发明中的透明电极图案与非图案区域的关系的一例的说明图。
图4是表示形成有开口部的基材的一例的俯视图。
图5是表示形成有掩模层的基材的一例的俯视图。
图6是表示形成有第一透明电极图案的基材的一例的俯视图。
图7是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案的基材的一例的俯视图。
图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要件的基材的一例的俯视图。
图9是表示本发明的静电电容型输入装置的结构的另一例的剖面概略图。
图10是表示透明电极图案的端部的锥形形状的一例的说明图。
图11是表示本发明的带透明电极的复合体的结构的一例的剖面概略图。
图12是表示本发明的转印薄膜的结构的一例的剖面概略图。
图13是表示本发明的静电电容型输入装置的结构的另一例的俯视图，表示包含被图案曝光、未被透明保护层覆盖的卷绕配线的终端部(终端部分)的方式。
图14是表示在静电电容型输入装置的透明电极图案上，通过层压而层叠具有透明保护层及光学调整部件的本发明的转印薄膜，并通过曝光等进行固化之前的状态的一例的概略图。
图15是表示透明保护层和光学调整部件被固化的所希望的图案的一例的概略图。
图16是表示在本发明的带透明电极的复合体的制造方法中使用的、配置于基材上的透明电极图案的一例的剖面概略图。
图17是表示本发明的带透明电极的复合体的结构的另一例的剖面概略图。
图18是表示本发明的带透明电极的复合体的结构的另一例的剖面概略图。
具体实施方式
以下，关于本发明的带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置进行说明。以下所记载的构成要件的说明是根据本发明的代表性实施方式和具体例而完成的，但本发明并不限定于实施方式和具体例。另外，在本说明书中用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包括的范围。
[带透明电极的复合体]
本发明的带透明电极的复合体，其依次具有基材、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层，其中，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率层为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
根据该结构，本发明的带透明电极的复合体即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
本发明的带透明电极的复合体中，光学调整部件及透明保护层通过转印而形成，这比在带光学调整部件的基材上形成透明导电图案的以往的层结构的带透明电极的复合体的制造方法更优选。尤其，从形成透明导电层时不损伤光学调整部件、透明导电层形成图案时不会受到由蚀刻液引起的对光学调整部件的损伤、光学调整部件与透明导电图案的密合性也得到改善的观点考虑是优选的。并且，从容易且以高生产率制造带透明电极的复合体的观点考虑是优选的，所述带透明电极的复合体即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。而且，从也容易减少产生由光学调整部件引起的不均匀(厚度不均。厚度不均与厚度的不均匀的含义相同)的观点考虑，优选光学调整部件及透明保护层通过转印而形成。
只要没有特别的说明，则本说明书中的折射率表示550nm波长下的折射率。
另外，在本说明书中透明是指波长为400nm～700nm的可见光的平均透射率为80％以上。从而，透明的层是指波长为400nm～700nm的可见光的平均透射率为80％以上的层。透明的层的波长为400nm～700nm的可见光的平均透射率优选为90％以上。
关于本发明的转印薄膜或转印薄膜的透明的层的波长为400nm～700nm的可见光的平均透射率，使用Hitachi,Ltd.制造的分光光度计U-3310而测定。
以下，对本发明的带透明电极的复合体的优选方式进行说明。
＜带透明电极的复合体的结构＞
本发明的带透明电极的复合体为依次具有基材、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层的带透明电极的复合体，光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层。
图11中示出本发明的带透明电极的复合体的结构的一例。图11所示的本发明的带透明电极的复合体依次具有基材1、透明电极图案4、光学调整部件12及透明保护层7，基材1和透明电极图案4夹着折射率为1.46～1.58的透明膜11而配置。图11中虽然未图示光学调整部件12的详细内容，但在图11中也能够采用图17和图18中所记载的结构的光学调整部件12等。
图17中示出本发明的带透明电极的复合体的结构的另一例。图17所示的本发明的带透明电极的复合体依次具有基材1、透明电极图案4、光学调整部件12及透明保护层7，基材1和透明电极图案4夹着折射率为1.46～1.58的透明膜11而配置，光学调整部件12分别具有至少各1层的低折射率层12A和高折射率层12B，所述低折射率层12A为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率层12B为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层。
图18中示出本发明的带透明电极的复合体的结构的另一例。图18所示的本发明的带透明电极的复合体依次具有基材1、透明电极图案4、光学调整部件12及透明保护层7，基材1和透明电极图案4直接(直接接触而)配置，光学调整部件12具有3层的低折射率层12A和2层的高折射率层12B，所述低折射率层12A为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率层12B为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层。
在本发明的带透明电极的复合体中，基材和透明电极图案可以被直接配置，也可以夹着透明膜而配置。图11及图17中示出基材1和透明电极图案4夹着折射率为1.46～1.58的透明膜11而配置的方式。另一方面，图18中示出基材1和透明电极图案4被直接配置的方式。
从减小透明电极图案的反射率的观点及透明电极图案的隐蔽性的观点考虑，优选基材1和透明电极图案4直接配置。
光学调整部件所具有的低折射率层和高折射率层的层数并无特别的限制，但优选分别独立地为1～5层，更优选分别独立地为1～3层，尤其优选分别独立地为1或2层，从降低制造成本、改善制造适性等工艺的观点考虑，尤其优选分别为1层。在本发明的带透明电极的复合体中，优选光学调整部件具有各1层的低折射率层和高折射率层。
如图11所示，本发明的带透明电极的复合体优选在面内具有依次层叠有基材1、透明膜11、透明电极图案4、光学调整部件12、透明保护层7的区域21。并且，在图11中示出所述带透明电极的复合体除了包括上述区域以外，还包括依次层叠有基材1、透明膜11、光学调整部件12、透明保护层7的区域22(即，未形成有透明电极图案的非图案区域22)。
面内方向是指相对于与带透明电极的复合体的基材平行的面大致平行的方向。从而，面内包括依次层叠有透明电极图案4、光学调整部件12及透明保护层7的区域是指，在依次层叠有透明电极图案4、光学调整部件12及透明保护层7的区域的、与带透明电极的复合体的基材平行的面上的正投影存在于与带透明电极的复合体的基材平行的面内。
在此，将本发明的带透明电极的复合体使用于后述静电电容型输入装置的情况下，有时透明电极图案在行方向和列方向大致正交的2个方向上分别作为第一透明电极图案及第二透明电极图案而被设置(例如参考图3)。例如在图3的结构中，本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案可以是第二透明电极图案4，也可以是第一透明电极图案3的焊盘部分3a。换言之，在以下本发明的带透明电极的复合体的说明中，有时以“4”为代表来表示透明电极图案的符号，但本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案并不限定于使用为本发明的静电电容型输入装置中的第二透明电极图案4，例如也可以作为第一透明电极图案3的焊盘部分3a而使用。
本发明的带透明电极的复合体优选包括未形成有所述透明电极图案的非图案区域。在本说明书中，非图案区域是指未形成有透明电极图案4的区域。
图11中示出本发明的带透明电极的复合体包括非图案区域22的方式。
本发明的带透明电极的复合体优选在未形成有所述透明电极图案的非图案区域22的至少一部分，在面内包括依次层叠有所述基材及所述光学调整部件的区域。
然而，在所述非图案区域22的其它区域，只要不违背本发明的主旨就可以将其它部件配置于任意的位置上，例如在将本发明的带透明电极的复合体使用于后述静电电容型输入装置的情况下，能够层叠图1中的掩模层2、绝缘层5及其它导电性要件6等。
所述透明电极图案4的端部的形状并无特别的限制，如图11所示，可以具有锥形形状，例如可以具有所述基材侧的一面比与所述基材侧相反的一侧的面更宽的锥形形状。
在此，所述透明电极图案的端部呈锥形形状时的透明电极图案的端部的角度(以下也称作锥角)优选为30°以下，更优选为0.1～15°，尤其优选为0.5～5°。
在本说明书中的锥角的测定方法中，拍摄所述透明电极图案端部的显微镜照片，使其显微镜照片的锥形部分近似于三角形，通过直接测定而能够求出锥角。
图10中示出透明电极图案的端部呈锥形形状的情况的一例。图10中的近似于锥形部分的三角形的底面为800nm，高度(与底面大致平行的上底部分的厚度)为40nm，此时的锥角α约为3°。近似于锥形部分的三角形的底面优选为10～3000nm，更优选为100～1500nm，尤其优选为300～1000nm。
另外，近似于锥形部分的三角形的高度的优选的范围与透明电极图案的厚度的优选的范围相同。
本发明的带透明电极的复合体优选包括所述透明电极图案及所述光学调整部件彼此相邻的区域。
图11中示出如下方式：在依次层叠有所述透明电极图案、所述光学调整部件及透明保护层的区域21中，所述透明电极图案、所述光学调整部件及透明保护层彼此相邻。
并且，在本发明的带透明电极的复合体中，优选通过光学调整部件而连续地包覆透明电极图案及未形成有透明电极图案的非图案区域22这两种。
在此，“连续”是指光学调整部件不是图案膜，而是连续膜。即，从不易辨识透明电极图案的观点考虑，优选光学调整部件不具有开口部。
并且，所述透明电极图案及所述非图案区域22通过光学调整部件而直接被包覆，这比夹着其它层而被包覆更优选。作为夹着其它层而被包覆的情况的“其它层”，能够举出后述本发明的静电电容型输入装置中所包含的绝缘层5，或者如后述本发明的静电电容型输入装置那样在包括2层以上的透明电极图案的情况下，能够举出第2个层的透明电极图案等。
图11中示出层叠有所述光学调整部件12的方式。所述光学调整部件12横跨所述透明膜11上的未层叠有透明电极图案4的区域和层叠有透明电极图案4的区域上而层叠。即，所述光学调整部件12与所述透明膜11相邻，另外，所述光学调整部件12也与透明电极图案4相邻。
并且，在透明电极图案4的端部呈锥形形状的情况下，优选沿锥形形状(以与锥角相同的倾斜度)层叠有所述光学调整部件12。
图11中示出在所述光学调整部件12的表面中形成有与所述透明电极图案的表面相反的一侧的表面上层叠有透明保护层7的方式。透明保护层7的形状并无特别的限制，但优选为包覆光学调整部件12的连续膜。
＜带透明电极的复合体的材料＞
(基材)
在本发明的带透明电极的复合体中，基材优选为玻璃基材或薄膜基材，更优选为薄膜基材。并且，基材优选为透明基材。即，所述基材优选为透明薄膜基材。
基材的折射率尤其优选为1.5～1.52。
基材可以由玻璃基材构成，作为玻璃基材，能够使用Corning Incorporated的Gorilla玻璃为代表的强化玻璃等。
并且，作为透明基材，能够优选使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的材料。
在将薄膜基材用作所述基材的情况下，更优选使用无光学应变的基材、透明度较高的基材，具体而言，能够举出包含聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素或环烯烃聚合物。
在带透明电极的复合体中，透明电极图案优选为形成于透明薄膜基材上的透明电极图案。
在带透明电极的复合体中，优选在基材的两面分别具有透明电极图案、光学调整部件及透明保护层的结构。该情况下，带透明电极的复合体优选作为膜传感器而使用。
(透明电极图案)
本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案的折射率优选为1.75～2.1。
所述透明电极图案的材料并无特别的限制，能够使用公知的材料。作为透明电极图案的材料，例如可以举出金属膜或ITO和IZO(Indium Zinc Oxide：铟锌氧化物)等透明且导电性的金属氧化物膜。作为金属膜及金属氧化物膜，可以举出Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；ITO、SiO2等金属氧化物膜等。此时，透明电极图案的厚度能够设为10～200nm。
并且，在通过烧成将非晶形ITO膜设为多晶ITO膜的情况下也能够降低电阻。
并且，透明电极图案的制造方法并无特别的限制。例如，如后述，第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述其它导电性要件6也能够利用具有使用了导电性纤维的光固化性树脂层的感光性薄膜而制造。此外，在通过ITO等而形成第一透明电极图案等的情况下，能够参考日本专利第4506785号公报的0014～0016段落等。
透明电极图案优选为ITO膜。
在本发明的带透明电极的复合体中，所述透明电极图案更优选为折射率为1.75～2.1的ITO膜。
(光学调整部件)
本发明的带透明电极的复合体具有光学调整部件，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层为配置于从透明电极图案侧第奇数个位置的层，所述高折射率层为配置于从透明电极图案侧第偶数个位置的层，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
在本发明的带透明电极的复合体中，低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上。
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差优选为0.05～0.50，更优选为0.05～0.30。
在本发明的带透明电极的复合体中，低折射率层的折射率优选为1.25～1.53，更优选为1.30～1.53，尤其优选为1.35～1.53。
在本发明的带透明电极的复合体中，高折射率层的折射率为2.10以下。若成为高折射率，则从改善透明电极图案的隐蔽性的观点考虑，优选将高折射率层的厚度相应地设为较薄。相对于此，例如高折射率层的厚度不会变得过薄，以便在本发明中采用小于氧化铌的折射率(n＝2.33)的2.10以下的折射率，在来自基材表面的反射光中产生因除了透明电极图案以外的光学调整部件而引起的不均匀的问题也能够与透明电极图案的隐蔽性一同得到改善。
在本发明的带透明电极的复合体中，高折射率层的折射率优选为1.60～2.00，更优选为1.60～1.80，尤其优选为1.60～1.75。
在透明电极图案的折射率如In及Zn的氧化物的情况那样超过2.0的情况下，光学调整部件的高折射率层的折射率优选为1.7以上且1.85以下。
在本发明的带透明电极的复合体中，低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。光学调整部件的低折射率层及高折射率层的厚度更优选分别为10～75nm，尤其优选为15～70nm。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层的厚度通过后述实施例中所记载的方法来求出。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层可以是透明树脂膜，也可以是无机膜。在本发明的带透明电极的复合体中，从制造成本的降低、制造适性的改善等工艺的观点考虑，与通过蒸镀等而形成的无机膜相比，更优选低折射率层及高折射率层为透明树脂层。尤其，更优选高折射率层为包含金属氧化物的透明树脂层。
作为无机膜，能够使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报等中所使用的无机膜，从控制折射率的观点考虑，优选使用在这些文献中所记载的低折射率材料和高折射率材料的层叠结构的无机膜、低折射率材料和高折射率材料的混合膜的无机膜。低折射率材料和高折射率材料能够优选使用在上述日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所使用的材料，这些文献的内容可以引用于本说明书中。
无机膜可以是SiOx膜(x优选为1.5～2.5，更优选为1.5～2.0，尤其优选为1.7～2.0)、Y2O3膜、ZrO2膜。无机膜可以是通过蒸镀而形成的膜，也可以是通过溅射而形成的膜，也可以是通过其它方法而形成的膜，但从制造成本的降低、制造适性的改进等工艺的观点考虑，更优选为通过溅射而形成的膜。
作为透明树脂膜，可以是固化性透明树脂层，也可以是不具有固化性的透明树脂层，但从提高带透明电极的复合体(及后述转印薄膜)的光刻性的观点考虑，优选为固化性透明树脂层。即，在本发明的带透明电极的复合体中，低折射率层及高折射率层优选为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层。另外，固化性透明树脂层在最终形态中优选为固化膜。在本说明书中，固化性透明树脂层未固化是指包含于固化性透明树脂层中的固化性基的消耗率小于10％。例如若不饱和双键基的不饱和双键消耗率小于10％，则成为未固化的固化性透明树脂层。固化性透明树脂层为固化膜是指包含于固化性透明树脂层中的固化性基的消耗率为10％以上。固化膜的固化性基的消耗率优选为90％以上。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层为固化性透明树脂层的情况下，可以是热固化性透明树脂层，也可以是光固化性透明树脂层，也可以是热固化性且光固化性透明树脂层。其中，从转印后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性及耐湿热性的观点考虑，优选光学调整部件的低折射率层及高折射率层至少是热固化性层，从转印后通过进行光固化而容易制膜，且制膜后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性及耐湿热性的观点考虑，更优选为热固化性且光固化性透明树脂层。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层中优选包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层可以是负型材料，也可以是正型材料。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层为负型材料的情况下，光学调整部件的低折射率层及高折射率层中优选包含粘合剂聚合物(优选碱溶性树脂)、光聚合性化合物、光聚合引发剂。光学调整部件的高折射率层更优选包含金属氧化物粒子。而且，可以使用添加剂等，但并不限定于此。
作为将光学调整部件的低折射率层及高折射率层的折射率进行控制的方法并无特别的限制，能够单独使用所希望的折射率的透明树脂层，或者能够使用添加了金属粒子或金属氧化物粒子等粒子的透明树脂层，或者还能够使用金属盐和高分子的复合体。
在本发明的带透明电极的复合体中，高折射率层优选含有金属氧化物粒子。高折射率层优选含有10～95质量％的金属氧化物粒子，更优选含有40～95质量％，尤其优选含有55～95质量％，更尤其优选含有62～90质量％，进一步尤其优选含有65～90质量％。
而且，在光学调整部件的低折射率层及高折射率层中可以使用添加剂。作为所述添加剂，可以举出例如日本专利第4502784号公报的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂，或日本专利第4502784号公报的0018段落中所记载的热聚合抑制剂，另外，在日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其它添加剂。
光学调整部件的低折射率层及高折射率层的材料的详细内容，通过后述转印薄膜的制造方法而进行说明。
(透明保护层)
透明保护层优选为透明树脂层，更优选为固化性透明树脂层。
在透明保护层为固化性透明树脂层的情况下，可以是热固化性，也可以是光固化性，也可以是热固化性且光固化性透明树脂层。其中，从转印后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性的观点考虑，透明保护层优选至少是热固化性透明树脂层，从转印后通过进行光固化而容易制膜，且制膜后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性的观点考虑，更优选为热固化性且光固化性透明树脂层。
在透明保护层中，优选相对于透明保护层的固体成分而包含0.01～0.5质量％的含有氟原子的表面活性剂。若透明保护层包含含有氟原子的表面活性剂，则可以得到表面活性剂的以往的效果即“抑制表面张力，涂布后湿润状态的涂膜的表面进行平滑化的”效果。而且，若透明保护层包含含有氟原子的表面活性剂，则当涂布并干燥透明保护层时，在透明保护层的表面形成含有氟原子的表面活性剂较薄的层，这成为保护层，在涂布了光学调整部件时，能够抑制与透明保护层的层间混合。通过相对于透明保护层的固体成分包含0.01质量％以上的含有氟原子的表面活性剂而可以获得显著的该效果，通过包含0.02质量％以上的含有氟原子的表面活性剂而可以获得更显著的该效果。
在透明保护层中，相对于透明保护层的固体成分，更优选包含0.02～0.5质量％的含有氟原子的表面活性剂，尤其优选包含0.02～0.4质量％。为了良好地确保光学调整部件与透明电极图案的密合性，相对于透明保护层的固体成分，优选包含0.5质量％以下的含有氟原子的表面活性剂，更优选包含0.4质量％以下。
而且，作为透明保护层的树脂而选择丙烯酸树脂，若与含有氟原子的表面活性剂进行组合，则可以获得更显著的该效果。
作为优选使用于透明保护层中的含有氟原子的表面活性剂，能够举出例如在日本专利第4502784号公报的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂。并且，作为使用于透明保护层中的含有氟原子的表面活性剂，能够使用市售的含有氟原子的表面活性剂。尤其优选下述含有氟原子的表面活性剂。
DIC CORPORATION制造的MEGAFACE F251、MEGAFACE F253、MEGAFACE F281、MEGAFACE F444、MEGAFACE F477、MEGAFACE F551、MEGAFACE F552、MEGAFACE F553、MEGAFACE F554、MEGAFACE F555、MEGAFACE F556、MEGAFACE F557、MEGAFACE F558、MEGAFACE F559、MEGAFACE F560、MEGAFACE F561、MEGAFACE F562、MEGAFACE F563、MEGAFACE F565、MEGAFACE F568、MEGAFACE F569、MEGAFACE F570、MEGAFACE F571、MEGAFACE R40、MEGAFACE R41、MEGAFACE R43、MEGAFACE R94、MEGAFACE RS55、MEGAFACERS56、MEGAFACE RS72-K、MEGAFACE RS75、MEGAFACE RS76-E、MEGAFACE RS76-NS、MEGAFACERS78、MEGAFACE RS90、MEGAFACE F780F。
并且，能够优选使用由下述式(3)表示的化合物(重均分子量1.5万，固体成分30质量％、甲乙酮70质量％)。
式(3)
[化学式1]
透明保护层优选包含粘合剂聚合物、聚合性化合物及光聚合引发剂。
透明保护层可以是负型材料，也可以是正型材料。
透明保护层为负型材料的情况下，透明保护层中优选包含粘合剂聚合物(优选碱溶性树脂)、光聚合性化合物及光聚合引发剂。而且，可以使用添加剂等，但并不限定于此。
作为将透明保护层的折射率进行控制的方法并无特别的限制，能够单独使用所希望的折射率的透明保护层，或者使用添加了金属粒子或金属氧化物粒子等粒子的透明保护层，或者还能够使用金属盐和高分子的复合体。
而且，在所述透明保护层中可以使用添加剂。作为所述添加剂，可以举出在日本专利第4502784号公报的0018段落中所记载的热聚合抑制剂、且日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其它添加剂。
从使用透明保护层来形成静电电容型输入装置的透明保护层时发挥充分的表面保护性能以提高铅笔硬度的观点考虑，透明保护层的厚度优选为1μm以上，更优选为1～15μm，尤其优选为2～12μm，更尤其优选为3～10μm。
透明保护层的厚度通过后述实施例中所记载的方法而求出。
透明保护层的折射率优选为1.45～1.59，更优选为1.50～1.53，尤其优选为1.50～1.52，更尤其优选为1.51～1.52。
(透明膜)
基材和透明电极图案夹着透明膜而配置的情况下，透明膜的折射率并无特别的限制。在本发明的带透明电极的复合体中，基材和透明电极图案可以夹着折射率为1.45以下的透明膜和折射率为1.59以上的透明膜而配置，但从制造成本的降低、制造适性的改善的观点考虑，基材和透明电极图案优选直接或夹着折射率为1.46～1.58的透明膜而配置。在本发明的带透明电极的复合体中，所述透明膜的折射率优选为1.46～1.58，更优选为1.5～1.53，尤其优选为1.5～1.52，更尤其优选为1.51～1.52。在此，所述透明膜可以是单层结构，也可以是2层以上的层叠结构。在所述透明膜为2层以上的层叠结构的情况下，所述透明膜的折射率是指总层的折射率。
所述透明膜的材料并无特别的限制，但优选满足该折射率范围的材料。
所述透明膜的材料的优选的范围和折射率等物性的优选的范围，与所述光学调整部件的其优选的范围相同。
在本发明的带透明电极的复合体中，从光学均质性的观点考虑，优选所述透明膜与所述光学调整部件由相同的材料构成。
在本发明的带透明电极的复合体中，所述透明膜的厚度优选为55～110nm，更优选为60～110nm，尤其优选为70～90nm。
在此，所述透明膜可以是单层结构，也可以是2层以上的层叠结构。在所述透明膜为2层以上的层叠结构的情况下，所述透明膜的厚度是指总层的合计厚度。
在本发明的带透明电极的复合体中，所述透明膜优选为透明树脂膜。
作为使用于透明树脂膜中的金属氧化物粒子、树脂(粘合剂)和其它添加剂，只要不违背本发明的主旨就无特别的限制，而能够优选使用在本发明的带透明电极的复合体中的所述光学调整部件中所使用的树脂和其它添加剂。
在本发明的带透明电极的复合体中，所述透明膜可以是无机膜。作为使用于无机膜中的材料，能够优选使用在本发明的带透明电极的复合体中的所述光学调整部件中使用的材料。
[带透明电极的复合体的制造方法]
本发明的带透明电极的复合体的制造方法具有层叠工序，该层叠工序中，在配置于基材上的透明电极图案上依次层叠光学调整部件和透明保护层，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从透明电极图案侧第奇数个位置，所述高折射率层配置于从透明电极图案侧第偶数个位置，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
通过该结构而成为制造成本和制造适性优异的本发明的带透明电极的复合体的制造方法。本发明的带透明电极的复合体的制造方法在形成透明导电图案的基础上，还层叠光学调整部件和透明保护层。通过按该顺序进行制造，与在带光学调整部件的基材上形成透明导电图案的以往的层结构的带透明电极的复合体的制造方法相比更优选。尤其，形成透明导电层时不会损伤光学调整部件，且透明导电层形成图案时不会受到因蚀刻液而引起的对光学调整部件的损伤，也可以改善光学调整部件与透明导电图案的密合性。即使在日本特开2015-99538号公报的触摸面板用硬涂膜的导电层侧层叠了透明基体，由于层叠顺序不同，因此也无法获得上述本发明的带透明电极的复合体的制造方法的优点。
＜基材的表面处理＞
并且，为了提高后述转印工序中的进行了层压后的各层的密合性，能够预先对基材的非接触面(构成静电电容型输入装置的基材的表面中，与使手指等输入构件接触的一侧的面相反的一侧的面)实施表面处理。作为所述表面处理，优选实施使用了硅烷化合物的表面处理(硅烷偶联处理)。作为硅烷偶联剂，优选为具有与感光性树脂相互作用的官能团的硅烷偶联剂。例如将硅烷偶联液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液，商品名称：KBM603、Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)，通过喷淋而喷附20秒钟，进行纯水喷淋清洗。之后，优选通过加热而使其反应。可以使用加热槽，也可以利用使用层压机的预热，均能够促进反应。
＜透明膜的制膜＞
在本发明的带透明电极的复合体的制造方法中，优选直接或夹着透明膜而配置基材和透明电极图案，更优选直接或夹着折射率为1.46～1.58的透明膜而进行配置。在本发明的带透明电极的复合体夹着折射率为1.46～1.58的透明膜来配置基材和透明电极图案的情况下，作为折射率为1.46～1.58的透明膜的制膜方法并无特别的限制，但优选通过转印或溅射而进行制膜。
其中，本发明的带透明电极的复合体优选将所述透明膜形成于临时支撑体上的透明固化性树脂膜转印到所述基材上而进行制膜，更优选在转印后通过进行固化而进行制膜。作为转印及固化的方法，能够举出与使用在后述本发明的静电电容型输入装置的说明中的感光性薄膜将带透明电极的复合体的制造方法中的所述透明保护层及所述光学调整部件进行转印的方法相同地进行转印、曝光、显影及其它工序的方法。该情况下，优选通过使所述金属氧化物粒子在感光性薄膜中的光固化性树脂层中进行分散而将所述透明膜的折射率调整为上述范围内。
另一方面，在所述透明膜为无机膜的情况下，优选通过溅射而形成。即，在本发明的带透明电极的复合体中，所述透明膜也优选通过溅射而形成。
作为溅射方法，能够优选使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的方法。
＜透明电极图案的制膜＞
所述透明电极图案利用后述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6的形成方法等，能够在基材上或透明膜上进行制膜，优选使用感光性薄膜。
＜层叠工序＞
本发明的带透明电极的复合体的制造方法具有层叠工序，该层叠工序中，在配置于基材上的透明电极图案上依次层叠光学调整部件和透明保护层。
另外，带透明电极的复合体的制造方法中的所述光学调整部件在所述透明电极图案上进行制膜，并且在所述非图案区域中在所述基材或透明膜上进行制膜。
层叠工序并无特别的限制，例如能够举出转印工序、涂布工序、夹着粘接材料来进行贴合的工序等。
在本发明的带透明电极的复合体的制造方法中，层叠工序优选为在配置于基材上的透明电极图案上，从后述本发明的转印薄膜将光学调整部件和透明保护层进行转印的工序。通过该结构能够容易且高生产率地制造带透明电极的复合体，该带透明电极的复合体能够将带透明电极的复合体的光学调整部件及所述透明保护层统一进行转印，即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。
在本发明的带透明电极的复合体的制造方法中，优选低折射率层及高折射率层为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层，且在透明电极图案上进行层叠之前的固化性透明树脂层为未固化。
带透明电极的复合体的制造方法优选包括将透明保护层及光学调整部件同时进行固化的工序，更优选包括同时进行图案固化的工序。优选在层叠了透明保护层之后，无需固化透明保护层，而层叠光学调整部件。如此得到的透明保护层及光学调整部件能够同时进行固化。由此，在将透明保护层及光学调整部件层叠于透明电极图案上之后，通过光刻能够以所希望的图案进行显影。
带透明电极的复合体的制造方法更优选在将透明保护层及光学调整部件同时进行固化之后，包括将透明保护层及光学调整部件的未固化部分(光固化的情况下，仅为未曝光部或曝光部)进行显影而去除的工序。
形成所述透明保护层及所述光学调整部件的方法，可以举出具有如下工序的方法：保护膜去除工序，从本发明的转印薄膜去除所述保护膜；转印工序，将去除了所述保护膜的本发明的转印薄膜的所述透明保护层及所述光学调整部件转印到配置于基材上的透明电极图案上；曝光工序，将转印到透明电极图案上的透明保护层及所述光学调整部件进行曝光；及显影工序，将被曝光的透明保护层及所述光学调整部件进行显影。
(转印工序)
关于层叠工序为转印工序的情况进行说明。转印工序优选为在配置于基材上的透明电极图案上，从本发明的转印薄膜将光学调整部件和透明保护层进行转印的工序。图16是表示在本发明的带透明电极的复合体的制造方法中使用的、配置于基材上的透明电极图案的一例的剖面概略图。在图16所示的配置于基材上的透明电极图案中，在基材1上夹着透明膜11而配置有透明电极图案4。在图16所示的配置于基材1上的透明电极图案4上，例如从图12所示的转印薄膜30去除保护膜29之后，将包括低折射率层12A和高折射率层12B的光学调整部件12和透明保护层7进行转印，由此可得到图17所示的本发明的带透明电极的复合体。
此时，优选包括如下工序的方法：将本发明的转印薄膜的所述透明保护层及所述光学调整部件层压于透明电极图案之后，去除临时支撑体。
所述透明保护层及所述光学调整部件对透明电极图案表面的转印(贴合)，是通过将所述透明保护层及所述光学调整部件重叠于透明电极图案表面并进行加压、加热而进行的。贴合时能够使用层压机、真空层压机及可进一步提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。
(曝光工序、显影工序及其它工序)
作为所述曝光工序、显影工序及其它工序的例子，也能够将日本特开2006-23696号公报的0035～0051段落中记载的方法适当地使用于本发明中。
所述曝光工序优选为将转印到透明电极图案上的所述透明保护层及所述光学调整部件进行曝光的工序。
具体而言，可以举出如下方法：在形成于所述透明电极图案上的所述透明保护层及所述光学调整部件和临时支撑体的上方配置规定的掩模，之后，从该掩模上方的光源(夹着掩模、临时支撑体)对所述透明保护层及所述光学调整部件进行曝光。
在此，作为所述曝光的光源，只要是能够照射可以固化所述透明保护层及所述光学调整部件的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源就能够适当地进行选择而使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，通常为5～200mJ/cm2左右，优选为10～100mJ/cm2左右。
所述显影工序优选为将被曝光的透明保护层及光学调整部件进行显影的工序。
在本发明中，所述显影工序是通过显影液将被实施图案曝光的所述透明保护层及所述光学调整部件进行图案显影的狭义含义的显影工序。
所述显影能够使用显影液来进行。作为所述显影液并无特别的限制，能够使用在日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。另外，显影液优选为进行光固化性树脂层溶解类型的显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度含有pKa(Thenegative logarithm of the acid dissociation constant：酸解离常数的负对数；Ka为acid dissociation constant：酸解离常数)＝7～13的化合物的显影液。另一方面，所述透明保护层及所述光学调整部件本身不形成图案的情况下的显影液优选为进行不溶解所述非碱性显影型着色组合物层的类型的显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度含有pKa＝7～13的化合物的显影液。在显影液中还可以少量添加具有与水的混和性的有机溶剂。作为具有与水的混和性的有机溶剂，可以举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁基醚、苯甲醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基膦酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。
并且，所述显影液中还能够添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
作为所述显影方式，可以是旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等中的任一种。在此，对所述喷淋显影进行说明，通过喷淋对曝光后的所述透明保护层及所述光学调整部件喷附显影液而能够去除未固化部分。另外，在设置有热塑性树脂层或中间层的情况下，优选在显影之前通过喷淋等而喷附透明保护层及光学调整部件的溶解性较低的碱性溶液，去除热塑性树脂层、中间层等。并且，优选在显影之后，通过喷淋而喷附清洗剂等，一边用刷子等进行擦拭，一边去除显影残渣。显影液的液体温度优选为20℃～40℃，并且显影液的pH(power of Hydrogen：酸碱度)优选为8～13。
所述静电电容型输入装置的制造方法可以具有后曝光工序、后烘干工序等其它工序。在所述透明保护层及所述光学调整部件为热固化性透明树脂层的情况下，优选进行后烘干工序。
另外，可以在剥离临时支撑体之后进行图案化曝光或整面曝光，也可以在剥离临时支撑体之前进行曝光，之后，剥离临时支撑体。可以是夹着掩模的曝光，也可以是使用了激光等的数字曝光。
[转印薄膜]
本发明的转印薄膜为依次具有临时支撑体、透明保护层、光学调整部件及保护膜的转印薄膜，
光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从保护膜侧第奇数个位置，所述高折射率层配置于从保护膜侧第偶数个位置，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
通常，透明电极图案(优选包含Indium Tin Oxide：氧化铟锡、ITO等金属氧化物)的折射率高于2.10。由于本发明的转印薄膜具有包括折射率为2.10以下的高折射率层的光学调整部件和透明保护层，因此能够得到透明电极图案与光学调整部件的折射率差、以及光学调整部件与透明保护层的折射率差变小的带透明电极的复合体。由于在比透明电极图案更靠辨识侧形成光学调整部件和透明保护层，因此光反射减少而不易看见透明电极图案，能够优化透明电极图案隐蔽性。
并且，在本发明的转印薄膜中，优选低折射率层及高折射率层为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层，且固化性透明树脂层未固化。该情况下，即使透明保护层在具有固化性的状态下直接与光学调整部件层叠，本发明的转印薄膜的层分级良好，能够以上述机理而改善透明电极图案的隐蔽性。而且，在该情况下，从转印薄膜将透明保护层及光学调整部件转印到透明电极图案上之后，能够通过光刻将透明保护层及光学调整部件以所希望的图案进行显影。
另外，若透明保护层及光学调整部件的层分级良好，则可以充分地获得以上述机理得到的折射率调整的效果，有充分地改善透明电极图案的隐蔽性的倾向。光刻优选至少对转印后成为比光学调整部件更靠外部的层的透明保护层进行。转印后成为比透明保护层更靠内部的层的光学调整部件可以不具有光刻性。在本发明中，优选透明保护层在转印薄膜的状态下具有固化性，优选在转印后成为比光学调整部件更靠外部的层的透明保护层具有光刻性。
以下，关于本发明的转印薄膜的优选方式进行说明。
＜转印薄膜的层结构＞
本发明的转印薄膜依次具有临时支撑体、透明保护层、光学调整部件及保护膜。临时支撑体和透明保护层可以直接接触而配置，也可以夹着其它层而配置。作为其它层，能够举出后述热塑性树脂层和中间层。优选临时支撑体和透明保护层直接接触而配置。
图12中示出本发明的转印薄膜的优选的层结构的一例。图12是临时支撑体26、透明保护层7、光学调整部件12及保护膜29依次彼此相邻而层叠的本发明的转印薄膜30的概略图。图12中光学调整部件12具有各1层的低折射率层12A和高折射率层12B，所述低折射率层12A配置于从保护膜29侧(与透明保护层7相反的一侧)第奇数个位置，所述高折射率层12B配置于从保护膜29侧(与透明保护层7相反的一侧)第偶数个位置。
本发明的转印薄膜优选为负型材料，但本发明的转印薄膜也可以是正型材料。在本发明的转印薄膜为正型材料的情况下，所述透明保护层及所述光学调整部件中可以使用例如在日本特开2005-221726号公报中记载的材料等，但并不限定于此。
＜临时支撑体＞
作为使用于本发明的转印薄膜中的临时支撑体，并无特别的限制，能够举出玻璃板、Si晶圆、纸、无纺布及薄膜等。其中，作为临时支撑体，优选为薄膜，更优选为树脂薄膜。
作为用作临时支撑体的薄膜，能够使用具有挠性且在加压情况下或者在加压及加热的情况下不产生显著的变形、收缩或拉伸的材料。作为满足该性质的临时支撑体的例子，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等，其中，尤其优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
对临时支撑体的厚度并无特别的限制，通常为5～200μm的范围，从易处理性、通用性等方面考虑，尤其优选为10～150μm的范围，从轻量化的观点考虑，更优选为10～20μm的范围。
并且，临时支撑体可以是透明的，也可以含有染料硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
并且，通过日本特开2005-221726号公报中所记载的方法等，能够对临时支撑体赋予导电性。
＜透明保护层＞
转印薄膜的透明保护层的优选的范围与带透明电极的复合体的透明保护层的优选的范围相同。
在本发明的转印薄膜中，透明保护层为固化性的情况下，能够对转印后的透明保护层赋予光刻性。在本发明的转印薄膜中，优选透明保护层包含可溶解于有机溶剂的树脂。另一方面，包含在光学调整部件中的低折射率层及高折射率层优选由水性树脂组合物形成，但所形成的低折射率层及高折射率层可以不包含可溶解于水的树脂，例如优选所形成的低折射率层及高折射率层包含可溶解于碱性水溶液(例如氨水)的树脂的方式。在制造本发明的转印薄膜的情况下，优选在涂布并干燥在透明保护层的形成中使用的有机溶剂系树脂组合物之后，不进行曝光，而涂布在所述光学调整部件中所包含的低折射率层及高折射率层的形成中使用的水性树脂组合物，由此在作为干抗蚀剂膜而使用的状态下对透明保护层赋予固化性。
＜光学调整部件＞
本发明的转印薄膜具有光学调整部件，光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从保护膜侧第奇数个位置，所述高折射率层配置于从保护膜侧第偶数个位置，
低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
高折射率层的折射率为2.10以下，
低折射率层及高折射率层的厚度分别为5～80nm。
转印薄膜的光学调整部件的优选的范围与带透明电极的复合体的光学调整部件的优选的范围相同。
＜保护膜＞
本发明的转印薄膜具有保护膜，优选在所述光学调整部件的表面具有保护膜(也称作“保护剥离层”)。
作为所述保护膜，能够适当地使用在日本特开2006-259138号公报的0083～0087及0093段落中所记载的保护膜。
＜热塑性树脂层＞
转印薄膜也能够在所述临时支撑体与所述透明保护层之间设置热塑性树脂层。
所述热塑性树脂层优选为碱溶性树脂层。热塑性树脂层发挥作为缓冲材料的作用，以便能够吸收基底表面的凹凸(也包括由已形成的图像等产生的凹凸等)，优选具有根据对象表面的凹凸可以变形的性质。
热塑性树脂层优选将日本特开平5-72724号公报中所记载的有机高分子物质作为成分而包含的方式，尤其优选包含至少一种选自基于维卡(Vicat)法〔具体而言，根据美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法〕求出的软化点为80℃以下的有机高分子物质的方式。
具体而言，可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等乙烯共聚物、乙烯和丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等苯乙烯类共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯和乙酸乙烯酯等(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。
热塑性树脂层的层厚优选为3～30μm。作为所述热塑性树脂层的厚度，进一步优选为4～25μm，尤其优选为5～20μm。
热塑性树脂层能够通过涂布包含热塑性有机高分子的制备液等而形成，并能够使用溶剂来制备进行涂布等时所使用的制备液。作为溶剂，只要可以溶解构成热塑性树脂层的高分子成分就无特别的限制，可以举出例如甲乙酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇等。
＜中间层＞
转印薄膜也能够在所述热塑性树脂层与所述透明保护层之间设置中间层。作为中间层，优选为在日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”而记载的层。
＜转印薄膜的制造方法＞
转印薄膜的制造方法并无特别的限定，能够通过公知的方法而制造。
转印薄膜优选通过具有如下工序的制造方法而制造：在临时支撑体上形成透明保护层的工序；在所述透明保护层上直接形成光学调整部件的工序；及在所述光学调整部件上形成保护膜的工序。
在转印薄膜的制造方法中，优选抑制透明保护层与光学调整部件的层间混合。为此，优选将透明保护层形成用组合物(例如涂布液)设为有机溶剂类树脂组合物，将光学调整部件的低折射率层形成用组合物及高折射率层形成用组合物(例如涂布液)设为水性树脂组合物。该情况下，即使不使透明保护层形成用组合物固化，而在其上涂布低折射率层形成用组合物及高折射率层形成用组合物，由于透明保护层也不溶解，因此不易进行层间混合。
若形成透明保护层的工序是将包含可溶解于有机溶剂的树脂的有机溶剂类树脂组合物涂布于所述临时支撑体上的工序，形成光学调整部件的低折射率层及高折射率层的工序是涂布水性树脂组合物的工序，则光学调整部件的低折射率层及高折射率层的厚度的均匀性变得良好，颜色不均匀显著减少，因此优选。水性树脂组合物优选包含“可溶解于水的树脂，或者不溶解于水，但可溶解于氨水的树脂”，更优选包含“不溶解于水，但可溶解于氨水的树脂”。详细而言，在通过有机溶剂类树脂组合物而得到的透明保护层上，若涂布包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物，则即使不使透明保护层固化而形成光学调整部件的低折射率层及高折射率层，也不易产生层间混合，光学调整部件的低折射率层及高折射率层的厚度的均匀性变得良好。
此时，透明保护层的树脂包含具有光刻性的树脂，由此能够赋予光刻性。作为具有光刻性的树脂，能够举出特定的丙烯酸树脂等，优选为作为碱溶性树脂的丙烯酸树脂，更优选为在日本特开2008-146018号公报的[0028]～[0072]中所记载的丙烯酸树脂。
并且，光学调整部件的低折射率层及高折射率层的树脂包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，由此能够改善所得到的层的耐湿热性。详细而言，在干燥使用包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物而得到的涂布膜时，从具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，沸点低于水的氨在干燥工序中容易挥发。因此生成(再生)酸基而能够作为具有酸基的单体或者具有酸基的树脂存在于低折射率层及高折射率层。因此，在高温高湿下经过时间使其吸湿的情况下，构成低折射率层及高折射率层的具有酸基的单体或具有酸基的树脂均不会溶解于水，因此也能够抑制转印薄膜吸湿时的耐湿热性的问题。
而且，透明保护层形成用组合物(例如涂布液)包含含有氟原子的表面活性剂(也称作氟类表面活性剂)，由此，即使不使透明保护层固化而形成光学调整部件的低折射率层及高折射率层也不会产生层间混合，光学调整部件的低折射率层及高折射率层的厚度的均匀性变得良好。并且，调整表面活性剂对透明保护层形成用组合物的含量，以使表面活性剂相对于透明保护层的固体成分的含量成为0.01～0.50质量％，由此在制造后述带透明电极的复合体的情况下，光学调整部件与透明电极图案的密合性变得良好。相对于透明保护层形成用组合物的固体成分的表面活性剂的含量的范围与透明保护层相对于透明保护层的固体成分而包含含有氟原子的表面活性剂的量的优选的范围相同。
尤其优选为如下方式：在形成所述透明保护层的工序是将包含丙烯酸树脂及含有氟原子的表面活性剂的有机溶剂类树脂组合物涂布于所述临时支撑体上的工序，且形成所述光学调整部件的工序是涂布包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物的工序。该方式能够抑制透明保护层与光学调整部件的层间混合，光学调整部件的厚度的均匀性变得良好，颜色不均匀显著减少，因此优选。该方式中，光学调整部件与透明电极图案的密合性进一步变得良好，且能够抑制在高温高湿下随着时间的经过由使用水性树脂组合物而形成的透明树脂层(在此为光学调整部件)的吸湿而引起的问题，因此优选。
(在临时支撑体上形成透明保护层的工序)
在临时支撑体上形成透明保护层的工序，优选为在临时支撑体上涂布透明保护层形成用树脂组合物的工序。
在透明保护层形成用树脂组合物中，固体成分浓度优选为15～30质量％，更优选为20～24质量％，尤其优选为21～23质量％。
在临时支撑体上形成透明保护层的工序，更优选为在所述临时支撑体上涂布有机溶剂类树脂组合物的工序。
有机溶剂类树脂组合物是指能够溶解于有机溶剂的树脂组合物。
作为有机溶剂，通常，能够使用有机溶剂。作为有机溶剂的例子，能够举出甲乙酮、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺等。
在透明保护层的形成中所使用的树脂组合物优选包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂。
-粘合剂聚合物-
作为在所述透明保护层的形成中使用的树脂组合物所包含的粘合剂聚合物，能够不受特别的限制而能够使用任意的聚合物成分。但从作为静电电容型输入装置的透明保护层，尤其作为透明电极用保护膜而使用的观点考虑，优选表面硬度、耐热性较高的粘合剂聚合物，更优选为碱溶性树脂。在碱溶性树脂中，优选使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。在透明保护层的形成中使用的树脂组合物所包含的粘合剂聚合物，优选为丙烯酸树脂。从提高将透明保护层和光学调整部件进行转印之前及之后的层间密合性的观点考虑，更优选在透明保护层的形成中使用的树脂组合物所包含的粘合剂聚合物、以及在后述光学调整部件的形成中使用的树脂组合物所包含的具有酸基的树脂或粘合剂聚合物均含有丙烯酸树脂。对透明保护层的所述粘合剂聚合物的优选的范围，具体地进行说明。
作为使用于在所述透明保护层的形成中使用的有机溶剂类树脂组合物中、且对有机溶剂具有溶解性的树脂(也称作“粘合剂”或“聚合物”)，只要不违背本发明的宗旨就无特别的限制，能够从公知的树脂中适当地进行选择，优选为碱溶性树脂。作为所述碱溶性树脂，能够使用在日本特开2011-95716号公报的0025段落、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段落中所记载的聚合物。
并且，在透明保护层的形成中使用的树脂组合物可以包含聚合物乳胶。在此，所说的聚合物乳胶是水不溶性聚合物微粒分散于水中的乳胶。关于聚合物乳胶，例如记载于室井宗一著“高分子乳胶的化学”(高分子刊行会发行(1973年))。
作为能够使用的聚合物粒子，优选为包括丙烯酸类、乙酸乙烯酯类、橡胶类(例如苯乙烯-丁二烯类、氯丁二烯类)、烯烃类、聚酯类、聚氨酯类、聚苯乙烯类等聚合物及它们的共聚物的聚合物粒子。
优选使构成聚合物粒子的聚合物链彼此之间的键合力增强。作为使聚合物链彼此之间的键合力增强的方法，可以举出利用因氢键而产生的相互作用的方法和生成共价键的方法。
作为利用因氢键而产生的相互作用的方法，优选在聚合物链上将具有极性基团的单体进行共聚或者接枝聚合而导入。作为粘合剂聚合物所具有的极性基团，可以举出羧基(丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富马酸、马来酸、巴豆酸、部分酯化马来酸等中所含有)、伯氨基、仲氨基及叔氨基、铵盐基、磺酸基(苯乙烯磺酸等)等，尤其优选羧基、磺酸基。具有这些极性基团的单体的共聚比的优选的范围相对于聚合物100质量％为5～35质量％，更优选为5～20质量％，进一步优选在15～20质量％的范围内。
另一方面，作为生成共价键的方式，可以举出使环氧化合物、封闭型异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物及羧酸酐等中的至少一种，对羟基、羧基、伯氨基或仲氨基、乙酰乙酰基及磺酸基等中的至少一种进行反应的方法。
在利用这些反应的聚合物中，优选通过多元醇类和聚异氰酸酯化合物的反应而得到的聚氨酯衍生物，更优选并用多元胺来作为扩链剂，尤其优选进一步对聚合物链导入上述极性基团而设为离聚物型。
聚合物的重均分子量优选为1万以上，进一步优选为2万～10万。作为适合于本发明的聚合物，可以举出乙烯与甲基丙烯酸的共聚物即乙烯离聚物、聚氨酯离聚物。
能够使用于本发明中的聚合物乳胶可以通过乳化聚合而得到，也可以是通过乳化而得到。关于这些聚合物乳胶的制备方法，例如记载于“乳液/乳胶手册”(乳液/乳胶手册编辑委员会编辑，TAISEISHA LTD.发行(1975年))。
作为能够使用于本发明的聚合物乳胶，能够举出例如将聚乙烯离聚物的水性分散体(商品名称：CHEMIPEARL S120Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分27质量％)(商品名称：CHEMIPEARL S100Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分27质量％)(商品名称：CHEMIPEARL S111Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分27质量％)(商品名称：CHEMIPEARL S200Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分27质量％)(商品名称：CHEMIPEARL S300Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分35质量％)(商品名称：CHEMIPEARL S650Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分27质量％)(商品名称：CHEMIPEARL S75N Mitsui Chemicals,Inc.制造。固体成分24质量％)、聚醚类聚氨酯的水性分散体(商品名称：HYDRAN WLS-201DIC CORPORATION制造。固体成分35质量％，Tg-50℃、Tg为Glass Transition Temperature的简称)(商品名称：HYDRAN WLS-202，DICCORPORATION制造。固体成分35质量％，Tg-50℃)(商品名称：HYDRAN WLS-221DICCORPORATION制造。固体成分35质量％，Tg-30℃)(商品名称：HYDRAN WLS-210DICCORPORATION制造。固体成分35质量％，Tg-15℃)(商品名称：HYDRAN WLS-213DICCORPORATION制造。固体成分35质量％，Tg-15℃)(商品名称：HYDRAN WLI-602DICCORPORATION制造。固体成分39.5质量％，Tg-50℃)(商品名称：HYDRAN WLI-611DICCORPORATION制造。固体成分39.5质量％，Tg-15℃)、丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名称：JURYMER AT-210TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、(商品名称：JURYMER ET-410TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、(商品名称：JURYMER AT-510TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、聚丙烯酸(商品名称：JURYMER AC-10L TOAGOSEI CO.,LTD.制造)，通过氨进行中和并乳化的物质。
-光聚合性化合物-
作为使用于水性树脂组合物或有机溶剂类树脂组合物中的光聚合性化合物，能够使用日本专利第4098550号的0023～0024段落中所记载的光聚合性化合物。其中，能够优选使用季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯。这些光聚合性化合物可以单独使用，也可以包含并组合多个而使用。在使用季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物的情况下，相对于季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物整体，季戊四醇三丙烯酸酯的比率以质量比计优选为0～80％，更优选为10～60％。
作为使用于有机溶剂类树脂组合物中的光聚合性化合物，可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)氰脲酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、在三羟甲基丙烷和甘油、双酚等多官能醇中，使环氧乙烷和环氧丙烷进行加成反应之后进行(甲基)丙烯酸酯化的聚合性化合物、日本特公昭48-41708号、日本特公昭50-6034号、日本特开昭51-37193号等各公报中所记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类；日本特开昭48-64183号、日本特公昭49-43191号、日本特公昭52-30490号等各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类；环氧树脂和(甲基)丙烯酸的反应产物即环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯等。其中，能够优选使用三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯季戊四醇四丙烯酸酯混合物(NK酯A-TMMT，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(KAYARAD RP-1040，Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)。这些可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
-光聚合引发剂-
在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物包含所述光聚合性化合物及所述光聚合引发剂，由此能够容易形成透明保护层的图案。
作为在有机溶剂类树脂组合物中使用的光聚合引发剂，能够使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段落中所记载的光聚合引发剂。例如除了1,2-辛二酮,1-[4-苯硫基)-,2-(O-苯甲酰肟)](商品名称：Irgacure OXE-01，BASF公司制造)以外，能够优选使用乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰肟)(商品名称：Irgacure OXE-02,BASF公司制造)、2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名称：Irgacure 379EG，BASF公司制造)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名称：Irgacure 907，BASF公司制造)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名称：Irgacure 127、BASF公司制造)、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(商品名称：Irgacure 369，BASF公司制造)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名称：Irgacure 1173，BASF公司制造)、1-羟基-环己基-苯基-酮(商品名称：Irgacure 184，BASF公司制造)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名称：Irgacure 651，BASF公司制造)、肟酯类光聚合引发剂(商品名称：Lunar 6、DKSH JAPAN K.K.制造)等。
在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物中，相对于在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物的固体成分，所述光聚合引发剂优选包含1质量％以上，更优选包含2质量％以上。在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物中，相对于在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物的固体成分，所述光聚合引发剂优选包含10质量％以下，从改善本发明的带透明电极的复合体的图案形成性的观点考虑，更优选为5质量％以下。
-金属氧化物粒子-
在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物，以调节折射率和透光性为目的，可以包含或不包含粒子(优选金属氧化物粒子)。为了将所述透明保护层的折射率控制在上述范围内，根据所使用的聚合物和聚合性化合物(优选光聚合性化合物)的种类，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子。在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物中，相对于在所述透明保护层的形成中所使用的树脂组合物的固体成分，所述金属氧化物粒子优选包含0～35质量％，更优选包含0～10质量％，尤其优选不包含。
(形成光学调整部件的工序)
在透明保护层上形成光学调整部件的工序，优选为在透明保护层上涂布光学调整部件形成用树脂组合物(低折射率层形成用树脂组合物或高折射率层形成用树脂组合物)的工序。
光学调整部件形成用树脂组合物的固体成分浓度优选为1.0～5.0质量％，更优选为1.2～3.0质量％，尤其优选为1.5～2.0质量％。
在透明保护层上直接形成光学调整部件的工序，更优选为涂布光学调整部件形成用水性树脂组合物的工序。在透明保护层上直接形成光学调整部件的工序，尤其优选为涂布保护具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的光学调整部件形成用水性树脂组合物的工序。
水性树脂组合物是指能够溶解于水性溶剂的树脂组合物。
在光学调整部件形成用树脂组合物中，将总体溶剂设为100质量份的情况下的水的含量优选为15～85质量份，更优选为20～80质量份，尤其优选为25～75质量份。
作为水性溶剂，优选为水或者碳原子数为1至3的低级醇与水的混合溶剂。在光学调整部件的形成中所使用的水性树脂组合物的溶剂优选包含水及碳原子数为1～3的醇，更优选水/碳原子数为1～3的含醇率以质量比计为15/85～85/15的水或混合溶剂。水/碳原子数为1～3的含醇率以质量比计尤其优选20/80～80/20的范围，更尤其优选25/75～75/25。
水性树脂组合物在25℃下的pH优选为7.0以上且12.0以下，更优选为7.0～10.0，尤其优选为7.0～8.5。例如，对酸基使用过量的氨，并添加具有酸基的单体或具有酸基的树脂，从而在上述优选范围内能够调整水性树脂组合物的pH。
并且，在光学调整部件的形成中所使用的树脂组合物优选为热固化性及光固化性树脂组合物中的至少一种。在透明保护层及光学调整部件为固化性透明树脂层的情况下，在将透明保护层进行层叠之后，即使不使其固化，而层叠光学调整部件，层分级也变得良好，从而能够改善透明电极图案辨识性。透明保护层为固化性透明树脂层的情况下，而且，后述带透明电极的复合体从所得到的转印薄膜将外涂层及折射率调整层(即，透明保护层及光学调整部件)同时转印到透明电极图案上之后，能够将通过光刻至少在转印之后成为比光学调整部件更靠外部的层的透明保护层，以所希望的图案进行显影。而且，更优选光学调整部件具有固化性的方式，该方式中，在将透明保护层及光学调整部件同时转印到透明电极图案上之后，通过光刻而能够同时以所希望的图案进行显影。
在光学调整部件的形成中所使用的树脂组合物，优选包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物或热聚合性化合物、光聚合引发剂或热聚合引发剂。
在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物，更优选包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐。水性树脂组合物优选包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐。
作为具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，并无特别的限制。光学调整部件的所述具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐为具有酸基的丙烯酸单体或丙烯酸树脂的铵盐。只有具有酸基的树脂的铵盐可以是粘合剂聚合物，除了具有酸基的树脂的铵盐以外，还可以并用其它粘合剂聚合物。具有酸基的单体的铵盐可以是光聚合性化合物或热聚合性化合物，除了具有酸基的单体的铵盐以外，还可以并用光热聚合性化合物或热聚合性化合物。
转印薄膜的制造方法优选包括如下工序：使具有酸基的单体或具有酸基的树脂溶解于氨水溶液中，制备包含所述酸基的至少一部分已进行铵盐化的单体或树脂的水性树脂组合物。
作为能够使用于转印薄膜的制造方法中的氨水溶液的浓度并无特别的限制，优选氨浓度为0.1～25质量％的氨水溶液，更优选0.5～10质量％的氨水溶液，尤其优选1～5质量％的氨水溶液。
作为具有酸基的单体或具有酸基的树脂，优选为具有酸基的树脂。
-粘合剂聚合物-
在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物优选包含粘合剂聚合物。
作为粘合剂聚合物，能够举出具有酸基的树脂及不具有酸基的其它粘合剂聚合物。
--具有酸基的树脂--
作为具有酸基的树脂，更优选为具有1价酸基(羧基等)的树脂。
作为使用于在光学调整部件的形成中使用的水性树脂组合物中、且对水性溶剂(优选为水或者碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂)具有溶解性的树脂，只要不违背本发明的主旨就无特别的限制，能够从公知的树脂中适当地进行选择。
使用于水性树脂组合物中的具有酸基的树脂优选为碱溶性树脂。碱溶性树脂是线状有机高分子聚合物，能够从分子(优选将丙烯酸类共聚物、苯乙烯类共聚物作为主链的分子)中具有至少1个促进碱溶解的基团(即酸基：例如羧基、磷酸基、磺酸基等)的碱溶性树脂中适当地进行选择。其中，进一步优选为可溶解于有机溶剂且能够通过弱碱性水溶液进行显影的碱溶性树脂。作为酸基，优选为羧基。
在碱溶性树脂的制造中，能够适用例如利用公知的自由基聚合法的方法。利用自由基聚合法来制造碱溶性树脂时的温度、压力、自由基引发剂的种类及其量、溶剂的种类等聚合条件，对于本领域技术人员来讲是能够容易设定的，也能够确定实验性条件。
作为上述线状有机高分子聚合物，优选在侧链上具有羧酸的聚合物。例如在日本特开昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、日本特开昭59-53836号、日本特开昭59-71048号、日本特开昭46-2121号及特公昭56-40824号公报的各公报中记载的聚(甲基)丙烯酸、甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、苯乙烯/马来酸等马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等、以及羧烷基纤维素及羧烷基淀粉等在侧链上具有羧酸的酸性纤维素衍生物、对具有羟基的聚合物加成酸酐的聚合物等。而且，也可以优选举出在侧链上具有(甲基)丙烯酰基等反应性官能团的高分子聚合物。
其中，尤其优选包括苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物和苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/其它单体的多元共聚物。
此外，也可以举出将2-羟基乙基甲基丙烯酸酯共聚的聚合物等作为有用的聚合物。该聚合物能够以任意的量进行混合而使用。
除了上述聚合物以外，可以举出在日本特开平7-140654号公报中所记载的、2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物等。
关于碱溶性树脂的具体的构成单元，尤其优选(甲基)丙烯酸与能够与其共聚的其它单体的共聚物。
作为能够与(甲基)丙烯酸共聚的其它单体，可以举出烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基化合物等。在此，烷基及芳基的氢原子可以被取代基取代。
作为烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯的具体例，能够举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸环己基酯等。
并且，作为乙烯基化合物，能够举出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氢糠酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体、CH2＝CR1R2、CH2＝C(R1)(COOR3)等。在此，R1表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基，R2表示碳原子数为6～10的芳香族烃环，R3表示碳原子数为1～8的烷基或碳原子数为6～12的芳烷基。
这些能够共聚的其它单体能够单独使用一种，或者组合两种以上而使用。优选的能够共聚的其它单体是选自CH2＝CR1R2、CH2＝C(R1)(COOR3)、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯的至少一种，尤其优选为CH2＝CR1R2和/或CH2＝C(R1)(COOR3)。
此外，可以举出如下树脂：使具有反应性官能团的(甲基)丙烯酸化合物、肉桂酸等和具有与该反应性官能团能够反应的取代基的线状高分子进行反应，从而将乙烯性不饱和双键导入到该线状高分子中。作为反应性官能团，能够例示羟基、羧基、氨基等，作为能够与该反应性官能团反应的取代基，能够举出异氰酸酯基、醛基、环氧基等。
其中，作为具有酸基的树脂，优选为具有酸基的丙烯酸树脂。另外，在本说明书中，在丙烯酸树脂中包含甲基丙烯酸树脂和丙烯酸树脂这两种，同样，在(甲基)丙烯酸中可以包含甲基丙烯酸和丙烯酸。
--其它粘合剂聚合物--
作为不具有酸基的其它粘合剂聚合物并无特别的限制，能够使用在使用于所述透明保护层的形成中的树脂组合物中所使用的粘合剂聚合物。
-聚合性化合物-
从进行固化以提高膜的强度等的观点考虑，优选在所述光学调整部件的形成中使用的树脂组合物包含光聚合性化合物或热聚合性化合物等聚合性化合物。
作为在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物具有的聚合性化合物，能够举出具有酸基的单体及除了具有酸基的单体以外的其它聚合性化合物。
在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物具有的聚合性化合物优选包含除了具有酸基的单体以外的其它光聚合性化合物，更优选保护具有酸基的单体及除了具有酸基的单体以外的其它光聚合性化合物。
--具有酸基的单体--
作为具有酸基的单体，能够优选使用(甲基)丙烯酸、其衍生物等丙烯酸单体和以下单体。
可以举出例如3～4官能的自由基聚合性单体(在季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯骨架中导入羧酸基的单体(酸值＝80～120mgKOH/g))、5～6官能的自由基聚合性单体(在二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯骨架中导入羧酸基的单体(酸值＝25～70mgKOH/g))等。未记载具体的名称，但根据需要，可以使用2官能的碱溶性自由基聚合性单体。
此外，也能够优选使用在日本特开2004-239942号公报的[0025]～[0030]中所记载的具有酸基的单体，该公报的内容可以引用于本发明中。
其中，更优选使用(甲基)丙烯酸和其衍生物等丙烯酸单体。另外，在本说明书中，丙烯酸单体包含甲基丙烯酸单体和丙烯酸单体这两种。
--其它聚合性化合物--
作为使用于在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物中的除了具有酸基的单体以外的其它聚合性化合物，优选光聚合性化合物。
作为光聚合性化合物，能够使用在日本专利第4098550号的0023～0024段落中记载的光聚合性化合物。其中，能够优选使用季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯。这些聚合性化合物可以单独使用，也可以组合多个进行使用。在使用季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物的情况下，相对于季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物整体，季戊四醇三丙烯酸酯的比率以质量比计优选为0～80％，更优选为10～60％。
作为使用于在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物中的光聚合性化合物，具体而言，能够举出由下述结构式1表示的水溶性聚合性化合物、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(NK酯A-TMMT，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，作为杂质而含有三丙烯酸酯约10％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3LM-N，Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯37质量％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM-3L，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯55质量％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯57质量％)、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(KAYARAD RP-1040，Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)、ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)等。
作为使用于光学调整部件的形成中的树脂组合物，其中，从改善本发明的转印薄膜的皱缩网纹的观点考虑，能够优选使用由下述结构式1表示的水溶性聚合性化合物、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(NK酯A-TMMT，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3LM-N，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯37％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM-3L，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯55％)。
[化学式2]
作为使用于在其它光学调整部件的形成中使用的树脂组合物中的光聚合性化合物，在水性树脂组合物即在光学调整部件的形成中使用的树脂组合物中并用后述金属氧化物粒子的醇分散液的情况下，优选在甲醇等碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂中也具有溶解性。作为对水或者碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂具有溶解性的聚合性化合物，能够使用具有羟基的单体、在分子内具有环氧乙烷和聚环氧丙烷及磷酸基的单体。作为对碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂也具有溶解性的聚合性化合物，优选KAYARAD RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)、ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、聚合性单体A-9300(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、A-GLY-20E(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)等。另外，聚合性化合物对碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂也具有溶解性是指，在醇和水的混合溶剂中溶解0.1质量％以上。
并且，聚合性化合物的含量相对于光学调整部件形成用树脂组合物的固体成分的总质量优选为0～20质量％，更优选为0～10质量％，进一步优选为0～5质量％。
-光聚合引发剂-
作为使用于光学调整部件、且对水或者碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂具有溶解性的光聚合引发剂，能够使用Irgacure 2959、下述结构式11的引发剂。
并且，光聚合引发剂的含量相对于光学调整部件形成用树脂组合物的固体成分的总质量优选为0～5质量％，更优选为0～1质量％，进一步优选为0～0.5质量％。
[化学式3]
-金属氧化物粒子-
在所述光学调整部件的形成中所使用的树脂组合物，以调节折射率和透光性为目的，可以包含或不包含粒子(优选金属氧化物粒子)，但从将所述光学调整部件的高折射率层的折射率控制在上述范围内的观点考虑，优选在高折射率层的形成中使用的树脂组合物包含金属氧化物粒子。在光学调整部件的高折射率层的形成中所使用的树脂组合物中，根据所使用的聚合物和聚合性化合物(优选光聚合性化合物)的种类，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子。在所述高折射率层的形成中所使用的树脂组合物中，相对于所述高折射率层的形成中使用的树脂组合物的总固体成分，所述金属氧化物粒子优选包含10～95质量％，更优选包含40～95质量％，尤其优选包含55～95质量％，更尤其优选包含62～90质量％，进一步更尤其优选包含65～90质量％。
金属氧化物粒子的折射率优选比不包含金属氧化物粒子的光学调整部件的折射率高。即，优选所述金属氧化物粒子的折射率比由从光学调整部件去除该粒子的材料构成的组合物的折射率高。具体而言，光学调整部件的高折射率层优选含有具有400～750nm波长的光中的折射率为1.50以上的粒子，更优选含有折射率为1.55以上的粒子，尤其优选含有折射率为1.70以上的粒子，最优选含有1.90以上的粒子。
在此，具有400～750nm波长的光中的折射率为1.50以上是指，具有上述范围的波长的光中的平均折射率为1.50以上，并不要求具有上述范围波长的所有光中的折射率为1.50以上。并且，平均折射率是相对于具有上述范围的各波长的光的折射率的平均值。
另外，金属氧化物粒子的金属中也包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
作为透光性且折射率较高的金属氧化物粒子，优选为包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更优选氧化钛、钛复合氧化物、氧化锌、氧化锆、铟/锡氧化物及锑/锡氧化物，进一步优选氧化钛、钛复合氧化物及氧化锆，尤其优选氧化钛及氧化锆，最优选氧化钛。作为氧化钛，尤其优选折射率较高的金红石型。这些金属氧化物粒子为了赋予分散稳定性而能够用有机材料对表面进行处理。
从光学调整部件的透明性的观点考虑，所述金属氧化物粒子的平均匀次粒径优选为1～200nm，尤其优选为3～80nm。在此，粒子的平均匀次粒径是指通过电子显微镜来测定任意200个粒子的粒径且其算术平均。并且粒子的形状为非球形的情况下，将最长边设为粒径。
并且，金属氧化物粒子可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
在本发明中，从将折射率控制在光学调整部件的折射率范围内的观点考虑，光学调整部件具有ZrO2粒子、Nb2O5粒子及TiO2粒子中的至少一种，更优选为ZrO2粒子或Nb2O5粒子。
所述光学调整部件的高折射率层可以包含或不包含金属氧化物粒子，但从将所述光学调整部件的折射率控制在上述范围内的观点考虑，优选包含金属氧化物粒子。在所述光学调整部件的高折射率层中，根据所使用的聚合物和聚合性化合物的种类，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子。在所述光学调整部件的高折射率层中，相对于所述光学调整部件的高折射率层的固体成分，所述金属氧化物粒子优选包含10～95质量％，更优选包含55～95质量％，尤其优选包含62～90质量％，更尤其优选包含65～90质量％。
另一方面，光学调整部件的低折射率层可以包含或不包含金属氧化物粒子，但相对于所述低折射率层的固体成分，所述金属氧化物粒子优选包含0～35质量％，更优选包含0～10质量％，尤其优选不包含。光学调整部件的低折射率层优选不包含金属氧化物粒子，但包含金属氧化物粒子的情况也包括在本发明中。作为光学调整部件的低折射率层包含金属氧化物粒子的情况下的金属氧化物粒子的种类，能够举出ZrO2粒子、Nb2O5粒子及TiO2粒子。
在本发明的带透明电极的复合体中，测定透明保护层及光学调整部件的金属氧化物粒子的含量的方法如下。
在切断带透明电极的复合体的剖面之后，用TEM(Transmission ElectronMicroscope；透射电子显微镜)来观察剖面。在层内的任意的3个部位测定光学调整部件(或透明保护层)的膜剖面积上的金属氧化物粒子的占有面积的比例，将其平均值视为体积分数(volume fraction；VR)。
体积分数(VR)和重量分数(WR)通过用下述式来进行换算而算出光学调整部件(或透明保护层)内的金属氧化物粒子的重量分数(weight fraction；WR)。
WR＝D*VR/(1.1*(1-VR)+D*VR)
D：金属氧化物粒子的比重
能够将金属氧化物粒子为氧化钛的情况下设为D＝4.0，为氧化锆的情况下设为D＝6.0进行计算。
-金属氧化抑制剂-
在所述光学调整部件的形成中所使用的树脂组合物优选包含金属氧化抑制剂。光学调整部件含有金属氧化抑制剂，因此在将光学调整部件层叠于基材(基材优选包含透明电极图案及金属配线部等)上时，能够对与光学调整部件直接接触的金属配线部进行表面处理。可以认为通过进行上述表面处理而被赋予的金属配线部的保护性在去除光学调整部件(及透明保护层)之后也有效。
作为在本发明中所使用的金属氧化抑制剂，优选为在分子内具有包含氮原子的芳香环的化合物。
并且，作为使用于本发明中的金属氧化抑制剂，包含上述氮原子的芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环及这些环与其它芳香环的稠环构成的组的至少一个环，包含上述氮原子的芳香环更优选为咪唑环或者咪唑环与其它芳香环的稠环。
作为上述其它芳香环，可以是单环，也可以是杂环，但优选为单环，更优选为苯环或萘环，进一步优选为苯环。
作为金属氧化抑制剂，优选咪唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑及苯并三唑，更优选为咪唑、苯并咪唑及苯并三唑。
并且，金属氧化抑制剂的含量相对于光学调整部件的低折射率层或高折射率层的总质量优选为0.1～20质量％，更优选为0.5～10质量％，进一步优选为1～5质量％。
(干燥)
以下示出关于进行加热及干燥的工序的详细的条件的优选的范围。
作为加热及干燥方法，能够实施在具备加热装置的炉内进行的方法，或者能够通过送风而实施。加热及干燥条件只要根据所使用的有机溶剂等而适当地设定即可，可以举出加热到40～150℃温度的方法等。
在形成透明保护层和光学调整部件的情况下，尤其优选以100～130℃的干燥温度进行加热，进一步优选加热到110～120℃的温度。
作为加热及干燥后的组合物，优选设为湿润基准下的含水率为5质量％以下，更优选设为3质量％以下，进一步优选设为1质量％以下。
而且，转印薄膜的制造方法优选包括通过使氨从具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐挥发而生成酸基的工序。通过使氨从所述具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐挥发而生成酸基的工序优选是加热被涂布的所述水性树脂组合物的工序。
＜其它工序＞
转印薄膜的制造方法也可以包括在所述临时支撑体上形成所述透明保护层之前还形成热塑性树脂层的工序。
在形成所述热塑性树脂层的工序之后，优选包括在所述热塑性树脂层与所述透明保护层之间形成中间层的工序。在形成具有中间层的转印薄膜的情况下，优选在临时支撑体上涂布将热塑性有机高分子和添加剂进行溶解的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)，并使其干燥而设置热塑性树脂层之后，在该热塑性树脂层上涂布通过在不溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液(中间层用涂布液)，并使其干燥而层叠中间层。优选在该中间层上进而涂布通过使用不溶解中间层的溶剂而制备的感光性树脂层用涂布液，并使其干燥而层叠感光性树脂层。
在所述光学调整部件上形成保护膜的工序等其它制造方法，能够采用在日本特开2006-259138号公报的0094～0098段落中所记载的感光性转印材料的制作方法。
＜转印薄膜的用途＞
本发明的转印薄膜优选为干抗蚀剂膜。在本说明书中，干抗蚀剂是指转印薄膜呈薄膜状形态的产品。
本发明的转印薄膜优选为静电电容型输入装置的透明绝缘层用或透明保护层用转印薄膜。本发明的转印薄膜能够优选用作在透明电极图案上通过光刻方式而用于形成光学调整层及透明保护层的层叠图案的转印材料。
[静电电容型输入装置]
本发明的静电电容型输入装置包含本发明的带透明电极的复合体。
静电电容型输入装置优选使用本发明的转印薄膜，在包含透明电极图案的基材上，依次层叠转印薄膜的所述光学调整部件及所述透明保护层而被制作，更优选从本发明的转印薄膜将光学调整部件和与所述光学调整部件相邻配置的透明保护层转印到静电电容型输入装置的透明电极图案上而被制作。
本发明的静电电容型输入装置优选将从本发明的转印薄膜进行转印的透明保护层及光学调整部件同时进行固化，更优选将透明保护层及光学调整部件同时进行图案固化。另外，在将从本发明的转印薄膜转印的透明保护层及光学调整部件同时进行固化时，优选从本发明的转印薄膜不剥离临时支撑体。
本发明的静电电容型输入装置更优选将从本发明的转印薄膜印象转印且同时进行图案固化的透明保护层及光学调整部件的未固化部分进行显影并去除。另外，在将从本发明的转印薄膜进行转印的透明保护层及光学调整部件同时进行固化之后，在进行显影之前，优选从本发明的转印薄膜剥离临时支撑体。本发明的静电电容型输入装置在卷绕配线的终端部需要与形成于聚酰亚胺薄膜上的柔性配线连接，因此优选不被透明保护层(及光学调整部件)所包覆。
图13中示出该方式。图13中示出包含透明电极图案的卷绕配线(其它导电性要件6)和卷绕配线的终端部31的以下结构的静电电容型输入装置。
卷绕配线的终端部31上的透明保护层成为未固化部(未曝光部)，因此通过显影而被去除，露出卷绕配线的终端部31。
图14及图15中示出具体的曝光、显影的方式。图14表示将具有透明保护层及光学调整部件的本发明的转印薄膜30通过层压而层叠于静电电容型输入装置的透明电极图案上，并通过曝光等进行固化之前的状态。在利用光刻的情况下，即，通过曝光进行固化的情况下，使用掩模来进行图案曝光及未曝光部的显影，从而能够得到图15所示形状的透明保护层及光学调整部件的固化部(曝光部)33。具体而言，在图15中，可以得到被去除作为透明保护层及光学调整部件的未固化部而与卷绕配线的终端部对应的开口部34、以及具有在静电电容型输入装置的框部轮廓的外侧突出的透明保护层及光学调整部件的本发明的转印薄膜的端部的、用于避免包覆卷绕配线的终端部(引出配线部)的透明保护层及光学调整部件的固化部(所希望的图案)。
由此，能够将在聚酰亚胺薄膜上被制作的柔性配线直接连接于卷绕配线的终端部31，从而能够将传感器的信号发送到电路。
以下，对本发明的静电电容型输入装置的优选方式的详细内容进行说明。
本发明的静电电容型输入装置具有基材(相当于本发明的带透明电极的复合体中的所述基材。也称作前面板)和在所述基材的非接触面侧至少具有下述要件(3)～(5)、(7)及(8)，优选具有本发明的带透明电极的复合体。
(3)多个第一透明电极图案，由多个焊盘部分夹着连接部分在第一方向上延伸形成；
(4)多个第二电极图案，与所述第一透明电极图案电绝缘，并包括在与第一方向交叉的方向上延伸形成的多个焊盘部分；
(5)绝缘层，将所述第一透明电极图案与所述第二电极图案进行电绝缘；
(7)光学调整部件，以包覆所述要件(3)～(5)的全部或一部分的方式形成；
(8)透明保护层，以包覆所述要件(7)的方式相邻地形成。
在此，所述(7)光学调整部件相当于本发明的带透明电极的复合体中的所述光学调整部件。并且，所述(8)透明保护层相当于本发明的带透明电极的复合体中的所述透明保护层。另外，所述透明保护层优选为通常公知的静电电容型输入装置中的所谓的透明保护层。
在本发明的静电电容型输入装置中，所述(4)第二电极图案可以是透明电极图案，也可以不是透明电极图案，但优选为透明电极图案。
本发明的静电电容型输入装置还可以具有(6)导电性要件，其与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案中的至少一方电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同。
在此，在所述(4)第二电极图案不是透明电极图案且不具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案相当于本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案。
在所述(4)第二电极图案为透明电极图案且不具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案及所述(4)第二电极图案中的至少一个相当于本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案。
在所述(4)第二电极图案不是透明电极图案且具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案及所述(6)其它导电性要件中的至少一个相当于本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案。
在所述(4)第二电极图案为透明电极图案且具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案、所述(4)第二电极图案及所述(6)其它导电性要件中的至少一个相当于本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案。
本发明的静电电容型输入装置优选在所述(3)第一透明电极图案与所述基材之间、所述(4)第二电极图案与所述基材之间、或者所述(6)其它导电性要件与所述基材之间还具有(2)透明膜。在此，从进一步改善透明电极图案的辨识性的观点考虑，优选所述(2)透明膜相当于本发明的带透明电极的复合体中的透明膜。
本发明的静电电容型输入装置根据需要优选还具有掩模层和/或装饰层(1)。为了避免从接触侧可看见透明电极图案的卷绕配线，或者为了进行装饰，所述掩模层作为黑色框缘而被设置于用手指或触控笔等所触碰区域的周围。所述装饰层为了作为框缘而进行装饰被设置于用手指或触控笔等所触碰区域的周围，例如优选设置白色装饰层。
所述(1)掩模层和/或装饰层优选存在于所述(2)透明膜与所述基材之间、所述(3)第一透明电极图案与所述基材之间、所述(4)第二透明电极图案与所述基材之间、或者所述(6)其它导电性要件与所述基材之间。所述(1)掩模层和/或装饰层更优选与所述基材相邻设置。
本发明的静电电容型输入装置即使在包含各种部件的情况下，也通过包含与透明电极图案相邻配置的所述光学调整部件和与所述光学调整部件相邻配置的所述透明保护层，能够使透明电极图案不明显，并能够改善透明电极图案的隐蔽性的问题。
＜静电电容型输入装置的结构＞
首先，关于本发明的静电电容型输入装置的优选结构，配合构成装置的各部件的制造方法进行说明。图1是表示本发明的静电电容型输入装置的优选结构的剖视图。图1中示出静电电容型输入装置10由基材1、掩模层2、折射率为1.46～1.58的透明膜11、第一透明电极图案(图示的是第一透明电极图案的连接部分3b)、第二透明电极图案4、绝缘层5、其它导电性要件6、光学调整部件12及透明保护层7构成的方式。
并且，表示后述图3中的X-Y剖面的图9也同样是表示本发明的静电电容型输入装置的优选结构的剖视图。图9中示出静电电容型输入装置10由基材1、折射率为1.46～1.58的透明膜11、第一透明电极图案(未图示的是第一透明电极图案的焊盘部分3a)、第二透明电极图案4、光学调整部件12及透明保护层7构成的方式。
基材1能够使用作为本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案的材料而举例的材料。并且，在图1中，将基材1的设置有各要件的一侧称作非接触面侧。在本发明的静电电容型输入装置10中，通过用手指等接触于基材1的接触面(与非接触面相反的面)而进行输入。
并且，在基材1的非接触面上设置有掩模层2。掩模层2为在触摸面板基材的非接触面侧形成的显示区域周围的框缘状图案，是为了避免看见卷绕配线等而形成的。
如图2所示，在本发明的静电电容型输入装置10中，以包覆基材1的一部分区域(图2中为除了输入面以外的区域)的方式设置有掩模层2。另外，在基材1上，如图2所示在局部能够设置开口部8。在开口部8能够设置按压式机械开关。
图1中，在基材1的非接触面上形成有：多个第一透明电极图案3(图1中示出的是第一透明电极图案的连接部分3b)，由多个焊盘部分夹着连接部分在第一方向上延伸形成；多个第二透明电极图案4，与第一透明电极图案3电绝缘，并包括在与第一方向交叉的方向上延伸形成的多个焊盘部分；绝缘层5，将第一透明电极图案3和第二透明电极图案4进行电绝缘。所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6能够使用作为本发明的带透明电极的复合体中的透明电极图案的材料而举例的材料，优选为ITO膜。
并且，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4中的至少一方能够横跨基材1的非接触面及掩模层2的与基材1相反的一侧的面这两个区域而设置。图1中示出第二透明电极图案4横跨基材1的非接触面及掩模层2的与基材1相反的一侧的面这两个区域而设置的图。
如此，在横跨需要一定厚度的掩模层和基材的非接触面(接触面的背面)而层压感光性薄膜的情况下，通过使用具有后述特定的层结构的感光性薄膜，即使不使用真空层压机等昂贵的设备，也能够以简单的工序进行在掩模部分边界不产生气泡的层压。
利用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4进行说明。图3是表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示，第一透明电极图案3是通过焊盘部分3a夹着连接部分3b在第一方向C上延伸而形成的。并且，第二透明电极图案4通过绝缘层5而与第一透明电极图案3电绝缘，由在与第一方向C交叉的方向(图3中的第二方向D)上延伸形成的多个焊盘部分构成。在此，在形成第一透明电极图案3的情况下，可以将所述焊盘部分3a和连接部分3b制作成一体，也可以仅制作连接部分3b，并将焊盘部分3a和第二透明电极图案4制作(图案化)成一体。在将焊盘部分3a和第二透明电极图案4制作(图案化)成一体的情况下，如图3所示，以连接部分3b的一部分与焊盘部分3a的一部分被连结且第一透明电极图案3与第二透明电极图案4通过绝缘层5被电绝缘的方式形成各层。
并且，图3中的未形成有第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、其它导电性要件6的区域，相当于本发明的带透明电极的复合体中的非图案区域22。
图1中，在掩模层2的与基材1相反的一侧的面侧设置有其它导电性要件6。其它导电性要件6与第一透明电极图案3(图1中示出的是第一透明电极图案的连接部分3b)及第二透明电极图案4中的至少一方电连接，且为与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的要件。
图1中示出其它导电性要件6连接于第二透明电极图案4上的一种方式。
并且，在图1中，以包覆各构成要件整体的方式设置有透明保护层7。透明保护层7也可以以仅包覆各构成要件的一部分的方式构成。绝缘层5和透明保护层7可以是相同的材料，也可以是不同的材料。作为构成绝缘层5的材料，能够优选使用作为本发明的透明层叠体中的透明保护层或光学调整部件的材料而例举的材料。
＜静电电容型输入装置的制造方法＞
作为在制造本发明的静电电容型输入装置的过程中形成的方式例，能够举出图4～8的方式。图4是表示形成有开口部8的基材1的一例的俯视图。图5是表示形成有掩模层2的基材的一例的俯视图。图6是表示形成有第一透明电极图案3的基材的一例的俯视图。图7是表示形成有第一透明电极图案3和第二透明电极图案4的基材的一例的俯视图。图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要件6的基材的一例的俯视图。这些是表示将以下说明进行具体化的例子的图，本发明的范围并不会被这些附图限定地解释。
在静电电容型输入装置的制造方法中，在形成光学调整部件12及所述透明保护层7的情况下，能够使用本发明的转印薄膜，通过在任意地形成有各要件的所述基材1的表面转印所述光学调整部件及所述透明保护层而能够形成。
在静电电容型输入装置的制造方法中，优选掩模层2、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、其它导电性要件6中的至少一个要件使用依次具有临时支撑体和光固化性树脂层的所述感光性薄膜而形成。
若使用本发明的转印薄膜或所述感光性薄膜来形成所述各要件(掩模层2、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、其它导电性要件6中的至少一个要件)，则即使是具有开口部的基材，也不会从开口部泄漏和/或溢出抗蚀剂成分，尤其在需要将遮光图案形成至基材的边界线正上方为止的掩模层上，抗蚀剂成分不会从基材的边缘部泄漏和/或溢出。因此不会污染基材的非接触面，而能够以简单的工序制造薄层化及轻量化的触摸面板。
在使用所述感光性薄膜来形成使用掩模层、绝缘层、导电性光固化性树脂层时的第一透明电极图案、第二透明电极图案及导电性要件等永磁材料的情况下，感光性薄膜在层压于基材之后，根据需要，也可以被进行图案曝光。所述感光性薄膜可以是负型材料，也可以是正型材料。在所述感光性薄膜为负型材料的情况下，将非曝光部进行显影处理而去除，在正型材料的情况下，将曝光部分进行显影处理而去除，从而能够获得图案。显影时可以分别用不同的显影液将热塑性树脂层和光固化性树脂层进行显影而去除，也可以用相同的显影液进行去除。根据需要，可以将刷子、高压喷射器等公知的显影设备进行组合。在显影之后，根据需要，也可以进行后曝光、后烘干。
(感光性薄膜)
关于在制造本发明的静电电容型输入装置时优选使用的、除了本发明的转印薄膜以外的感光性薄膜进行说明。所述感光性薄膜具有临时基材和光固化性树脂层，优选在临时基材与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。若使用具有所述热塑性树脂层的感光性薄膜来形成掩模层等，则在将光固化性树脂层进行转印而形成的要件中不易产生气泡，在图像显示装置中不易产生图像不均等，能够获得优异的显示特性。
所述感光性薄膜可以是负型材料，也可以是正型材料。
-除了光固化性树脂层以外的层、制作方法-
作为所述感光性薄膜中的所述临时支撑体及所述热塑性树脂层，能够使用与分别用作使用于本发明的转印薄膜中的临时支撑体及热塑性树脂层相同的临时支撑体、热塑性树脂层。并且，作为所述感光性薄膜的制作方法，也能够使用与本发明的转印薄膜的制作方法相同的方法。
-光固化性树脂层-
所述感光性薄膜可以根据其用途对光固化性树脂层添加添加剂。即，在形成掩模层时使用所述感光性薄膜的情况下，使光固化性树脂层中含有着色剂。并且，在所述感光性薄膜具有导电性光固化性树脂层的情况下，所述光固化性树脂层中含有导电性纤维等。
感光性薄膜的光固化性树脂层可以是负型材料，也可以是正型材料。
在所述感光性薄膜的光固化性树脂层为负型材料的情况下，优选在光固化性树脂层中含有碱溶性树脂、聚合性化合物及聚合引发剂。还可以使用导电性纤维、着色剂及其它添加剂等，但并不限定于此。
使用光固化性树脂层的材料及感光性薄膜的掩模层、绝缘层的形成，使用感光性薄膜的第一透明电极图案及第二透明电极图案、其它导电性要件的形成，能够利用日本特开2014-178922号公报的[0226]～[0255]中记载的内容，该公报的内容可以引用于本说明书中。
＜图像显示装置＞
本发明的静电电容型输入装置及将该静电电容型输入装置作为构成要件而具备的图像显示装置，能够适用“最新触摸面板或技术”(2009年7月6日发行，Techno TimesCo.,Ltd.)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术和开发”、(CMC出版，2004，12)、FPDInternational 2009Forum T-11讲座教材、Cypress Semiconductor Corporation应用笔记AN2292等中所公开的结构。
实施例
以下，例举实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例中示出的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨就能够适当地进行变更。从而，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，若无特别说明，“份”、“％”为质量基准。
[实施例1、2、4、5、比较例3～5]
＜转印薄膜的制作＞
(透明保护层及光学调整部件的材料的制备)
如下表所示，制备出作为透明保护层用涂布液的材料A1。
[表1]
[化学式4]
化合物A
x/l/y/z＝51.5/2/26.5/20(摩尔比)
接着，如下表制备出材料B1～B5。
[表2]
接着，如下表制备出材料C1～C3。
[表3]
(转印薄膜的制作)
在作为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，将透明保护层用材料A1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了透明保护层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，在材料B1、材料B2、材料B3或材料B5中将下述表6中所记载的材料以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第2个层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，在材料C1、材料C2或材料C3中将下述表6中所记载的材料以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第1个层。
使所得到的转印薄膜在120℃的干燥区干燥，制造出实施例1～5、比较例2～5的转印薄膜。
(各层的折射率、厚度的测定)
作为折射率、厚度的测定方法，有由分光反射率光谱通过与理论值的拟合而算出的方法、通过椭圆计法而求出的方法等。在各实施例及比较例中，由分光反射率光谱算出各层的折射率和厚度。测定装置使用了反射分光膜厚计FE-3000(OTSUKA ELECTRONICS Co.,LTD)。
(1)制作出如下层叠体：在各实施例及比较例中使用的临时支撑体的一个表面，通过透明粘接胶带(商品名称OCA胶带8171CL：3M Company制造)而粘接黑色polyethyleneterephthalate(PET：聚对苯二甲酸乙二酯)材料即PT100NB(Lintec Corporation.制造)。使用反射分光膜厚计FE-3000来测定临时支撑体和黑色PET的层叠体的反射光谱(波长：430～800nm)，通过运算而求出各波长下的临时支撑体的折射率。
(2)制作出如下层叠体：以与各实施例及比较例相同的方式在临时支撑体上仅形成了透明保护层的样品的临时支撑体面上，通过透明粘接胶带(OCA胶带8171CL：3MCompany制造)使黑色PET材料接触。使用反射分光膜厚计FE-3000来测定透明保护层、临时支撑体及黑色PET的层叠体的反射光谱(波长：430～800nm)，并通过利用了FFT(FastFourier Transform；高速傅立叶变换)法和最小平方法的拟合运算而求出各波长下的透明保护层的折射率及透明保护层的厚度。此时，作为使用于运算中的厚度的初始值，使用了利用透射电子显微镜(TEM：HT7700、Hitachi High-Tech Fielding Corporation.)来测定的透明保护层的厚度。
(3)以相同的方式，依次测定在临时支撑体、透明保护层及从透明电极侧第2个层为止的层叠体，在临时支撑体、透明保护层、从透明电极侧第2个层和从透明电极侧第1个层为止的层叠体的样品上贴合黑色PET材料的层叠体的反射光谱的同时，算出各层的折射率和厚度。
＜带透明电极的复合体的制作＞
(透明膜的形成)
作为基材而使用的厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，使用狭缝状喷嘴涂布下述表4中示出的材料D，并以约110℃进行干燥之后照射紫外线(累计光量300mJ/cm2)，制作出折射率为1.51、厚度为2μm的透明膜。
[表4]
结构式(2)
[化学式5]
(透明电极图案的形成)
-透明电极层的形成-
将层叠有透明膜的薄膜基材导入到真空腔室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟:锡＝95:5(摩尔比))进行Direct Current(DC)磁控溅射(条件：基材的温度为150℃、氩气压力为0.13Pa、氧气压力为0.01Pa)，从而形成厚度为25nm、折射率为1.9的ITO薄膜，得到在基材上形成有透明膜和透明电极层的薄膜。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□(Ω每平方面积)。
-蚀刻用感光性薄膜E1的制备-
在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜临时基材上，使用狭缝状喷嘴涂布由上述配方H1构成的热塑性树脂层用涂布液并使其干燥。接着，涂布由上述配方P1构成的中间层用涂布液并使其干燥。另外，涂布由下述配方E1构成的蚀刻用光固化性树脂层用涂布液并使其干燥。如此在临时基材上得到包括干燥的膜的厚度为15.1μm的热塑性树脂层、干燥的膜的厚度为1.6μm的中间层、膜厚为2.0μm的蚀刻用光固化性树脂层的层叠体，最后，将保护膜(厚度为12μm的聚丙烯薄膜)进行压接。如此制作出临时基材、热塑性树脂层、中间层及蚀刻用光固化性树脂层成为一体的蚀刻用感光性薄膜E1。
--蚀刻用光固化性树脂层用涂布液：配方E1--
·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物
(共聚物组成(质量％)：31/40/29、重均分子量60000、酸值163mgKOH/g)：16质量份
·单体1(商品名称：BPE-500、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)：5.6质量份
·六亚甲基二异氰酸酯的四氧化乙烯甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物：7质量份
·作为分子中具有一个聚合性基团的化合物的环己烷二甲醇单丙烯酸酯：2.8质量份
·2-氯-N-丁基吖啶酮：0.42质量份
·2,2-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑：2.17质量份
·孔雀绿草酸盐：0.02质量份
·无色结晶紫：0.26质量份
·吩噻嗪：0.013质量份
·表面活性剂(商品名称：MEGAFACE F780F、DIC Corporation制造)：0.03质量份
·甲乙酮：40质量份
·1-甲氧基-2-丙醇：20质量份
另外，蚀刻用光固化性树脂层用涂布液E1的去除溶剂后的100℃的粘度为2500Pa·s。
--热塑性树脂层用涂布液：配方H1--
·甲醇：11.1质量份
·丙二醇单甲醚乙酸酯：6.36质量份
·甲乙酮：52.4质量份
·甲基丙烯酸甲酯/2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8，分子量＝10万，Tg≈70℃)：5.83质量份
·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)＝63/37，重均分子量＝1万，Tg≈100℃)：13.6质量份
·单体1(商品名称：BPE-500，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)：9.1质量份
·氟类聚合物：0.54质量份
上述氟类聚合物为C6F13CH2CH2OCOCH＝CH2 40份、H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH＝CH2 55份及H(OCH2CH2)7OCOCH＝CH2 5份的共聚物，重均分子量为3万，甲乙酮30质量％的溶液(商品名称：MEGAFACE F780F，DIC Corporation制造)。
--中间层用涂布液：配方P1--
·聚乙烯醇：32.2质量份
(商品名称：PVA205，KURARAY CO.,LTD制造，皂化度＝88％，聚合度550)
·聚乙烯吡咯烷酮：14.9质量份
(商品名称：K-30、ISP Japan Ltd.制造)
·蒸馏水：524质量份
·甲醇：429质量份
-透明电极层的图案形成-
将在基材上形成有透明膜和透明电极层的薄膜进行清洗，并将去除了保护膜的蚀刻用感光性薄膜E1以透明电极层的表面与蚀刻用光固化性树脂层的表面对置的方式进行了层压(基材的温度：130℃、橡胶辊温度120℃、线压100N/cm、输送速度2.2m/分钟)。在剥离临时基材之后，热塑性树脂层和中间层与蚀刻用光固化性树脂层一同转印到透明电极层的表面。将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为200μm，夹着热塑性树脂层和中间层，以曝光量50mJ/cm2(i射线)对蚀刻用光固化性树脂层进行了图案曝光。
接着，使用三乙醇胺类显影液(用纯水将含有三乙醇胺30质量％、商品名称：T-PD2(FUJIFILM Corporation制造)稀释为10倍的溶液)，在25℃下进行了100秒钟的显影处理，将热塑性树脂层和中间层进行溶解，使用含有表面活性剂的清洗液(用纯水将商品名称：T-SD3(FUJIFILM Corporation制造)稀释为10倍的溶液)，在33℃下进行了20秒钟的清洗处理。从超高压清洗喷嘴喷射纯水，用旋转刷来去除热塑性树脂层上的残渣，进而，进行130℃、30分钟的后烘干处理，从而得到在基材上形成有透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的薄膜。
将在基材上形成有透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的薄膜，浸渍于放入ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液、液温30℃)的蚀刻槽中进行100秒钟的处理(蚀刻处理)，将未被蚀刻用光固化性树脂层包覆的露出区域的透明电极层进行溶解和去除，得到附有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极层图案的薄膜。
接着，将附有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极层图案的薄膜浸渍于放入抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、一乙醇胺、表面活性剂(商品名称：SURFYNOL465、AirProducts and Chemicals,Inc.制造)、液温45℃)的抗蚀剂剥离槽中进行200秒钟的处理(剥离处理)，去除蚀刻用光固化性树脂层，得到在基材上形成有透明膜及透明电极图案的薄膜。
(光学调整部件及透明保护层的层叠)
使用剥离保护膜的各实施例及比较例的转印薄膜，以光学调整部件包覆在基材上形成了透明膜及透明电极图案的薄膜的透明膜和透明电极图案的方式，依次将光学调整部件、透明保护层及临时支撑体进行转印而得到了层叠体(基材的温度：40℃、橡胶辊温度110℃、线压3N/cm、输送速度2m/分钟)。
之后，在所得到的层叠体上，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(HitachiHigh-Tech Electronics Engineering Co.,Ltd.制造)，将曝光掩膜(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩膜)面与临时支撑体之间的距离设定为125μm，通过临时支撑体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。在剥离了临时支撑体之后，使用纯碱2质量％水溶液对图案曝光后的层叠体(薄膜基材)以32℃进行了60秒钟的清洗处理。通过从超高压清洗喷嘴对进行清洗处理后的基材喷射超纯水而去除了残渣。接着，喷吹空气而去除基材上的水分，进行145℃且30分钟的后烘干处理，从而得到实施例1、2、4、5、比较例3～5的带透明电极的复合体。实施例1、2、4、5、比较例3～5的带透明电极的复合体为具有基材、透明膜、透明电极图案、包括配置于从透明电极图案侧第1个位置的层即低折射率层及配置于从透明电极图案侧第2个位置的层即高折射率层的光学调整部件及透明保护层的带透明电极的复合体。
(制作带透明电极的复合体后的各层的折射率、厚度的测定)
在转印薄膜的状态下，与算出各层的折射率及厚度的方法相同地，使用对基材依次层叠各1层的层叠体，在背面贴合黑色PET，并使用反射分光膜厚计FE-3000来测定反射光谱，通过运算而算出各层的折射率及厚度。
结果，各层的折射率及厚度与在转印薄膜中算出的值相同。
[实施例3]
以成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行了涂布，除此以外，以与实施例1的转印薄膜相同的方法制作出实施例3的转印薄膜。
在作为基材而使用的厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上直接形成透明电极层，并使用实施例3的转印薄膜来代替实施例1的转印薄膜，除此以外，以与实施例1的带透明电极的复合体的制作相同的方式制作出实施例3的带透明电极的复合体。
[实施例6]
在作为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，将透明保护层用材料A1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了透明保护层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，将材料B2以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第4个层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，将材料C2以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第3个层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，将材料B4以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第2个层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，将材料C2以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第1个层。
使所得到的转印薄膜在120℃的干燥区干燥，制作出实施例6的转印薄膜。
在实施例6的转印薄膜中，在实施例1的转印薄膜的各层的折射率和厚度的测定方法中，依次测定在只有临时支撑体、透明保护层为止的层叠体、从透明电极侧第4个层为止的层叠体、从透明电极侧第3个层为止的层叠体、从透明电极侧第2个层为止的层叠体、从透明电极侧第1个层为止的层叠体的样品上贴合黑色PET材料的层叠体的反射光谱的同时，算出各层的折射率和厚度。
使用实施例6的转印薄膜来代替实施例1的转印薄膜，除此以外，以与实施例1的带透明电极的复合体的制作相同的方式制作出实施例6的带透明电极的复合体。
[实施例7]
在作为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，将透明保护层用材料A1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了透明保护层。使所得到的转印薄膜在120℃的干燥区干燥，制作出用于层叠透明保护层的转印薄膜。
在以与实施例1相同的方式制作出的基材上形成了透明膜及透明电极图案的薄膜的透明膜和透明电极图案上，使用真空蒸镀法依次形成从厚度为43nm的透明电极图案侧第1个层(低折射率层)的SiOx膜(x：2.0、折射率1.46)，接着，从厚度为21nm的透明电极图案侧第2个层(高折射率层)的Y2O3膜(折射率1.80)该2层，并设为光学调整部件。
在包括已进行制膜的低折射率层及高折射率层的光学调整部件上，从用于层叠使用材料A1来制作的透明保护层的转印薄膜，将透明保护层和临时支撑体进行了转印(基材的温度：40℃、橡胶辊温度110℃、线压3N/cm、输送速度2m/分钟)。
其中，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(Hitachi High-Tech ElectronicsEngineering Co.,Ltd.制造)，将曝光掩膜(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩膜)面与临时支撑体之间的距离设定为125μm，通过临时支撑体而以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。在剥离了临时支撑体之后，用纯碱2％水溶液以32℃进行了60秒钟的清洗处理。通过从超高压清洗喷嘴对进行清洗处理后的基材喷射超纯水而去除了残渣。接着，喷吹空气而去除基材上的水分，进行145℃、30分钟的后烘干处理，制作出实施例7的带透明电极的复合体。
以与实施例1相同的方式进行了带透明电极的复合体制作后的各层的折射率、厚度的测定。将所得到的结果记载于下述表1中。
[实施例8]
将从透明电极图案侧第1个层的厚度变更为下述表6中所记载的厚度，并将从透明电极图案侧第2个层变更为厚度为9nm的高折射率层即ZrO2膜(折射率2.10)，除此以外，以与实施例7相同的方式制作出实施例8的带透明电极的复合体。
[实施例9]
在实施例9中，作为透明膜的材料，使用了下述表5中所示的材料-C，除此以外，以与实施例1相同的方式形成了透明膜。除了使用实施例9中所形成的透明膜以外，以与实施例1相同的方式制作出实施例9的带透明电极的复合体。在实施例9中形成的透明膜是折射率为1.60、厚度为80nm的透明膜。
[表5]
表中的“％”与“质量％”的含义相同。另外，说明书中的“wt％”与“质量％”的含义相同。
式(3)
[化学式6]
[比较例1]
在作为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，将透明保护层用材料A1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了透明保护层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，将材料B1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第1个层。
在比较例1的转印薄膜中，在实施例1的转印薄膜的各层的折射率和厚度的测定方法中，依次测定在只有临时支撑体、透明保护层为止的层叠体、从透明电极侧第1个层为止的层叠体的样品上贴合黑色PET材料的层叠体的反射光谱的同时，算出各层的折射率和厚度。
使用比较例1的转印薄膜来代替实施例1的转印薄膜，除此以外，以与实施例1的带透明电极的复合体的制作相同的方式制作出比较例1的带透明电极的复合体。
[比较例2]
在作为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，将材料B1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第2个层。
在120℃的干燥区使溶剂挥发之后，使用狭缝状喷嘴，将材料C1以干燥的膜的厚度成为下述表6的值的方式调整涂布量并进行涂布，形成了在光学调整部件中从透明电极侧第1个层。
使所得到的转印薄膜在120℃的干燥区干燥，制作出比较例2的转印薄膜。
使用比较例2的转印薄膜来代替实施例1的转印薄膜，除此以外，以与实施例1的带透明电极的复合体的制作相同的方式制作出比较例2的带透明电极的复合体。
[比较例6]
在实施例7的光学调整部件的形成中，将从透明电极图案侧第1个层的厚度变更为下述表6中所记载的厚度，将从透明电极图案侧第2个层变更为厚度为21nm的高折射率层即Nb2O3膜(折射率2.33)，而且，利用真空蒸镀法，依次形成从厚度为40nm的透明电极图案侧第3个层(低折射率层)的SiOx膜(x：2.0、折射率1.46)、从厚度为29nm的透明电极图案侧第4个层(高折射率层)的Nb2O3膜(折射率2.33)、从厚度为97nm的透明电极图案侧第5个层(低折射率层)的SiOx膜(x：2.0、折射率1.46)这5层，形成了光学调整部件。此外，以与实施例的带透明电极的复合体的制作相同的方式制作出比较例6的带透明电极的复合体。
[比较例7]
将从透明电极图案侧第1个层的厚度变更为下述表6中所记载的厚度，将从透明电极图案侧第2个层变更为厚度为7nm的高折射率层即Nb2O3膜(折射率2.33)，除此以外，以与实施例7相同的方式制作出比较例7的带透明电极的复合体。
[带透明电极的复合体的评价]
＜透明电极图案的隐蔽性＞
将在基材上依次层叠有透明膜、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层的带透明电极的复合体和黑色PET材料，通过透明粘接胶带(3M Company制造、商品名称、OCA胶带8171CL)，以黑色PET材料和透明粘接胶带相邻且透明粘接胶带和透明保护层相邻的层叠顺序进行粘接，制作出将整体进行遮光的评价用基板。
在暗室中，使用荧光灯(光源)和所制作出的评价用基板，从评价用基板的基材表面侧使光入射，从倾斜方向用肉眼观察来自基材的光所入射一侧的表面的反射光，并根据下述评价基准对透明电极图案的隐蔽性进行了评价。AA、A、B或C是实用等级，优选为AA、A或B，更优选为AA或A，尤其优选为AA。评价结果汇总于下述表6中。
《评价基准》
AA：用肉眼或放大镜均完全看不见透明电极图案。
A：用肉眼完全看不见透明电极图案。若用放大镜进行观察，则稍微看见。
B：稍微看见透明电极图案，但几乎看不见。
C：可看见透明电极图案(不易识别，实际应用上能够容许)。
D：可看见透明电极图案。
E：清楚地看见透明电极图案(容易识别)。
＜由光学调整部件引起的不均匀＞
并且，在与透明电极图案隐蔽性相同的用肉眼观察方法中，使光从评价用基板的基材表面侧入射，并观察在来自基材的光所入射一侧的表面的反射光中是否能够辨识由除了透明电极图案以外的光学调整部件引起的不均匀，按以下评价基准进行了评价。A、B或C是实用等级，优选为A或B，更优选为A。评价结果汇总于下述表6中。
《评价基准》
A：完全看不见由光学调整部件引起的不均匀。
B：稍微看见由光学调整部件引起的不均匀，但几乎看不见。
C：可看见由光学调整部件引起的不均匀，但实际应用上能够容许。
D：清楚地看见由光学调整部件引起的不均匀(容易识别)。
＜透明电极图案的反射率＞
在各实施例及比较例的带透明电极的复合体的制作中，除了对透明电极不进行图案形成以外，以与各实施例及比较例的带透明电极的复合体的制作相同的方式形成了反射率测定用带透明电极的复合体。使用该反射率测定用带透明电极的复合体，以与所述透明电极图案隐蔽性的评价相同的方式制作出样品。使用分光光度计V-570(JASCOCorporation制造)测量了样品对D65光源的反射率。
结果汇总于下述表6中。
＜铅笔硬度＞
作为耐划伤性的指标，进行了JIS(Japanese Industrial Standards：日本工业标准调查会)K 5400中所记载的铅笔硬度评价。将各实施例及比较例的带透明电极的复合体，以温度25℃、相对湿度60％进行1小时的调湿之后，使用在JIS S6006中规定的2H的试验用铅笔，以500g的荷载进行了n＝7的评价。A、B、C是实用等级，优选为A或B，尤其优选为A。
《评价基准》
A：划痕少于3个。
B：划痕为3个以上且少于5个。
C：划痕为5个以上且少于6个。
D：划痕为6个以上。
将所得到的结果汇总于下述表6中。
由上述表6可知，本发明的带透明电极的复合体即使在透明电极图案的基材侧不使用高折射率的透明膜，透明电极图案的隐蔽性也优异，并能够减少由光学调整部件引起的不均匀，且铅笔硬度优异。另外，通过国际公开WO2014/084112号公报中所记载的方法，根据不饱和双键基的不饱和双键消耗率小于10％的情况，确认了实施例1～6的转印薄膜的低折射率层、高折射率层及透明保护层均未固化。
另一方面，由比较例1可知，在光学调整部件仅为高折射率层，且在从透明电极图案侧第1个层不具有低折射率层的情况下透明电极图案的隐蔽性差。
由比较例2可知，在不具有透明保护层的情况下铅笔硬度差。
由比较例3可知，在作为光学调整部件从透明电极图案侧第1个层的折射率比从透明电极图案侧第2个层的折射率小在本发明中规定的值以上的情况下，透明电极图案的隐蔽性差。
由比较例4可知，作为光学调整部件而使用的低折射率层和高折射率层的厚度超过在本发明中规定的上限值的情况下透明电极图案的隐蔽性差。
由比较例5可知，作为光学调整部件而使用的低折射率层的厚度超过在本发明中规定的上限值的情况下透明电极图案的隐蔽性差。该比较例5为试图进行日本特开2004-50734号公报的优选方式的后续试验的例子。另外，可知比较例5的带透明电极的复合体的铅笔硬度稍差。
由比较例6及7可知，作为光学调整部件，若从透明电极图案侧第偶数个高折射率层的折射率超过在本发明中规定的上限值的情况下，在高折射率层的层数为2层以上的情况下透明电极图案的隐蔽性差，在高折射率层的层数为1层的情况下由光学调整部件引起的不均匀严重。
而且，通过以下方法来测定各实施例及比较例的带透明电极的复合体的光学调整部件的低折射率层或高折射率层的金属氧化物粒子的含量，其结果为上述表2或表3中所记载的值。
在切断带透明电极的复合体的剖面之后，用TEM(透射电子显微镜)来观察剖面。在层内的任意的3个部位测定光学调整部件的低折射率层或高折射率层的膜剖面积中的、金属氧化物粒子的占有面积的比例，将其平均值视为体积分数(VR)。
体积分数(VR)和重量分数(WR)通过用下述式来进行换算而算出光学调整部件的低折射率层或高折射率层内的金属氧化物粒子的重量分数(WR)。
WR＝D*VR/(1.1*(1-VR)+D*VR)
D：金属氧化物粒子的比重
能够将金属氧化物粒子为氧化钛的情况下设为D＝4.0，为氧化锆的情况下设为D＝6.0进行计算。
另外，各实施例及比较例的带透明电极的复合体的光学调整部件的低折射率层或高折射率层的金属氧化物粒子的含量，也能够由低折射率层或高折射率层的组成而算出。
[实施例101～109]
＜图像显示装置(触摸面板)的制作＞
在通过日本特开2009-47936号公报的[0097]～[0119]中所记载的方法而制造的液晶显示元件上贴合前面所制造的各实施例的带透明电极的复合体，由此通过公知方法而制造出图像显示装置，该图像显示装置包括将静电电容型输入装置作为构成要件而具备的各实施例的带透明电极的复合体。
＜静电电容型输入装置及图像显示装置的评价＞
可知在包括各实施例的带透明电极的复合体的静电电容型输入装置及图像显示装置中，透明电极图案被隐蔽，由除了透明电极图案以外的光学调整部件引起的不均匀减少，且铅笔硬度优异。
得到光学调整部件、透明保护层中也没有气泡等缺陷且显示特性优异的图像显示装置。
产业上的可利用性
本发明的带透明电极的复合体的图案隐蔽性优异、由除了透明电极图案以外的光学调整部件引起的不均匀减少、且铅笔硬度优异，因此作为触摸面板(尤其静电电容型输入装置)用材料、具备触摸面板(尤其静电电容型输入装置)作为构成要件的图像显示装置用材料而能够优选利用。本发明的转印薄膜由于具有光刻性，因此在使用本发明的转印薄膜来形成所希望的图案的情况下，与切断的方法相比，能够通过生产率更优异的光刻来形成图案。
符号说明
1-基材，2-掩膜层，3-透明电极图案(第一透明电极图案)，3a-焊盘部分，3b-连接部分，4-透明电极图案(第二透明电极图案)，5-绝缘层，6-其它导电性要件，7-透明保护层，8-开口部，10-静电电容型输入装置，11-透明膜，12-光学调整部件，12A-低折射率层，12B-高折射率层，13-带透明电极的复合体，21-依次层叠有透明电极图案、光学调整部件和透明保护层的区域，22-非图案区域，α-锥角，26-临时支撑体，29-保护膜，30-转印薄膜，31-卷绕配线的终端部，33-透明保护层和光学调整部件的固化部，34-与卷绕配线的终端部对应的开口部(透明保护层和光学调整部件的未固化部)，C-第一方向，D-第二方向。

Claims (16)

1.一种带透明电极的复合体，其依次具有基材、透明电极图案、光学调整部件及透明保护层，其中，
所述光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层为配置于从所述透明电极图案侧起第奇数个位置的层，所述高折射率层为配置于从所述透明电极图案侧起第偶数个位置的层，
所述低折射率层与直接相邻的高折射率层的折射率差为0.05以上，
所述高折射率层的折射率为2.10以下，
所述低折射率层及所述高折射率层的厚度分别为5～80nm。
2.根据权利要求1所述的带透明电极的复合体，其中，
所述基材和所述透明电极图案直接或夹着折射率为1.46～1.58的透明膜而配置。
3.根据权利要求1或2所述的带透明电极的复合体，其中，
所述光学调整部件具有各1层的所述低折射率层和所述高折射率层。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，
所述低折射率层的折射率为1.25～1.53。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，
所述高折射率层的折射率为1.60～2.00。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，
所述高折射率层含有10～95质量％的金属氧化物粒子。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，
所述光学调整部件及所述透明保护层通过转印而形成。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的带透明电极的复合体，其中，
所述低折射率层及所述高折射率层为透明树脂层。
9.一种转印薄膜，其依次具有临时支撑体、透明保护层、光学调整部件及保护膜，其中，
所述光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从所述保护膜侧起第奇数个位置，所述高折射率层配置于从所述保护膜侧起第偶数个位置，
所述低折射率层与直接相邻的所述高折射率层的折射率差为0.05以上，
所述高折射率层的折射率为2.10以下，
所述低折射率层及所述高折射率层的厚度分别为5～80nm。
10.根据权利要求9所述的转印薄膜，其中，
所述低折射率层及所述高折射率层为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层，且所述固化性透明树脂层未固化。
11.一种带透明电极的复合体的制造方法，其具有层叠工序，该层叠工序中，在配置于基材上的透明电极图案上依次层叠光学调整部件和透明保护层，
所述光学调整部件分别具有至少各1层的低折射率层和高折射率层，所述低折射率层配置于从所述透明电极图案侧第奇数个位置，所述高折射率层配置于从所述透明电极图案侧第偶数个位置，
所述低折射率层与直接相邻的所述高折射率层的折射率差为0.05以上，
所述高折射率层的折射率为2.10以下，
所述低折射率层及所述高折射率层的厚度分别为5～80nm。
12.根据权利要求11所述的带透明电极的复合体的制造方法，其中，
直接或夹着折射率为1.46～1.58的透明膜而配置所述基材和所述透明电极图案。
13.根据权利要求11或12所述的带透明电极的复合体的制造方法，其中，
所述层叠工序为如下工序：在配置于所述基材上的所述透明电极图案上，从权利要求9或10所述的转印薄膜将所述光学调整部件和所述透明保护层进行转印。
14.根据权利要求11～13中任一项所述的带透明电极的复合体的制造方法，其中，
所述低折射率层及所述高折射率层为包含聚合性化合物的固化性透明树脂层，且在所述透明电极图案上进行层叠之前的所述固化性透明树脂层未固化。
15.一种带透明电极的复合体，其通过权利要求11～14中任一项所述的带透明电极的复合体的制造方法而制造。
16.一种静电电容型输入装置，其包括权利要求1～8及15中任一项所述的带透明电极的复合体。
CN201680036684.8A 2015-07-27 2016-07-26 带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置 Active CN107710123B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015148099 2015-07-27
JP2015-148099 2015-07-27
PCT/JP2016/071829 WO2017018406A1 (ja) 2015-07-27 2016-07-26 透明電極付き複合体、転写フィルム、透明電極付き複合体の製造方法および静電容量型入力装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107710123A true CN107710123A (zh) 2018-02-16
CN107710123B CN107710123B (zh) 2020-09-01

Family

ID=57884352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680036684.8A Active CN107710123B (zh) 2015-07-27 2016-07-26 带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10989843B2 (zh)
JP (1) JP6652566B2 (zh)
CN (1) CN107710123B (zh)
WO (1) WO2017018406A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111928922A (zh) * 2020-07-26 2020-11-13 上海交通大学 一种基于电容耦合式非接触电导检测的液位传感器
CN115302879A (zh) * 2021-05-06 2022-11-08 天材创新材料科技(厦门)有限公司 透明隔热薄膜
TWI785217B (zh) * 2018-03-30 2022-12-01 日商富士軟片股份有限公司 轉印薄膜、積層體之製造方法、積層體、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109641419B (zh) * 2016-08-18 2021-07-27 Ａｇｃ株式会社 层叠体、电子设备的制造方法、层叠体的制造方法
CN111225790A (zh) * 2017-10-16 2020-06-02 富士胶片株式会社 转印材料、触摸传感器及其制造方法以及图像显示装置
KR102494515B1 (ko) * 2018-07-09 2023-02-01 삼성전자주식회사 글래스 플레이트를 포함하는 전자 장치
CN111993739B (zh) * 2019-05-27 2023-10-03 宁波长阳科技股份有限公司 一种多层共挤光学用透明聚酯薄膜及其制备方法
WO2021075304A1 (ja) * 2019-10-18 2021-04-22 富士フイルム株式会社 透明積層体、画像表示装置
CN111399701B (zh) * 2020-05-09 2024-04-02 上海天马微电子有限公司 触控模组、触控显示面板和触控显示装置
WO2022176382A1 (ja) * 2021-02-19 2022-08-25 富士フイルム株式会社 タッチセンサ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1636914A (zh) * 2003-12-16 2005-07-13 阿苏拉布股份有限公司 具有不可见电极的透明元件的制造方法
CN103488369A (zh) * 2013-09-17 2014-01-01 芜湖长信科技股份有限公司 一种无色差触摸屏及其生产工艺
JP2014108541A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Fujifilm Corp 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置
US8872786B2 (en) * 2008-03-25 2014-10-28 Japan Display West Inc. Capacitive input device, display device with input function, and electronic apparatus

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010086684A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Kuramoto Seisakusho Co Ltd 透明導電配線膜付き光学薄膜
CN102999196B (zh) 2011-09-09 2016-04-06 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控堆叠结构
JP2013246610A (ja) * 2012-05-25 2013-12-09 Toppan Printing Co Ltd 静電容量式タッチパネル基板、表示装置及び静電容量式タッチパネル基板の製造方法
JP2014106779A (ja) 2012-11-28 2014-06-09 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルム及びタッチパネル
JP6030966B2 (ja) * 2013-01-24 2016-11-24 富士フイルム株式会社 透明積層体およびその製造方法
JP6206637B2 (ja) * 2013-02-12 2017-10-04 大日本印刷株式会社 タッチパネル基板、及び表示装置
JP6225661B2 (ja) 2013-11-20 2017-11-08 大日本印刷株式会社 タッチパネル用ハードコートフィルム、及び、タッチパネル

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1636914A (zh) * 2003-12-16 2005-07-13 阿苏拉布股份有限公司 具有不可见电极的透明元件的制造方法
US8872786B2 (en) * 2008-03-25 2014-10-28 Japan Display West Inc. Capacitive input device, display device with input function, and electronic apparatus
JP2014108541A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Fujifilm Corp 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置
CN103488369A (zh) * 2013-09-17 2014-01-01 芜湖长信科技股份有限公司 一种无色差触摸屏及其生产工艺

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI785217B (zh) * 2018-03-30 2022-12-01 日商富士軟片股份有限公司 轉印薄膜、積層體之製造方法、積層體、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置
CN111928922A (zh) * 2020-07-26 2020-11-13 上海交通大学 一种基于电容耦合式非接触电导检测的液位传感器
CN115302879A (zh) * 2021-05-06 2022-11-08 天材创新材料科技(厦门)有限公司 透明隔热薄膜

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2017018406A1 (ja) 2018-06-07
US20180081087A1 (en) 2018-03-22
WO2017018406A1 (ja) 2017-02-02
US10989843B2 (en) 2021-04-27
CN107710123B (zh) 2020-09-01
JP6652566B2 (ja) 2020-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107710123A (zh) 带透明电极的复合体、转印薄膜、带透明电极的复合体的制造方法及静电电容型输入装置
CN106802536B (zh) 转印材料及其制造方法、层叠体及其制造方法
CN107109131B (zh) 触摸面板电极保护膜形成用组合物及其应用
CN106794679B (zh) 转印薄膜及其制造方法和层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置的制造方法
CN107850842A (zh) 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置
CN107250958A (zh) 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极用保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置
JP6566983B2 (ja) 転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法
CN106574131A (zh) 触摸屏电极保护膜形成用组合物、转印膜、层叠体、触摸屏用电极的保护膜及其形成方法、静电电容型输入装置及图像显示装置
CN109983404A (zh) 转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法
CN108698370A (zh) 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体及静电电容型输入装置
JP6615901B2 (ja) 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体、積層体の製造方法および静電容量型入力装置
CN107249872B (zh) 转印薄膜、透明层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置
CN106660309A (zh) 转印膜、转印膜的制造方法、层叠体、层叠体的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置
CN106537307B (zh) 层叠材料及其制造方法、透明层叠体及其制造方法及装置
CN108025537B (zh) 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体及静电电容型输入装置
CN106660334A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法、层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置
WO2017155003A1 (ja) 転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法
JP6888148B2 (ja) 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置
TW202012183A (zh) 轉印膜、積層體的製造方法、積層體、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置
JP2019206190A (ja) 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant