CN107850842A - 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置 - Google Patents

转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种静电电容型输入装置的电极保护膜用转印薄膜、使用上述转印薄膜的静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及包含上述层叠体的静电电容型输入装置，所述转印薄膜具有临时支撑体和感光性透明树脂层，感光性透明树脂层包含粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、光聚合引发剂及通过加热而能够与酸进行反应的化合物，并满足下述条件1及下述条件2中的至少一个，条件1：通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；条件2：感光性透明树脂层包含具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。

Description

转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠 体的制造方法及静电电容型输入装置
技术领域
本发明涉及一种转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置。详细而言，涉及一种可以将手指的接触位置作为静电电容的变化而检测的静电电容型输入装置和能够使用于静电电容型输入装置中的静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及转印薄膜。更详细而言，涉及一种能够形成赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜的转印薄膜、使用了该转印薄膜的静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体、该层叠体的制造方法及包括该层叠体的静电电容型输入装置。
背景技术
在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来，有如下电子设备：在液晶装置等的表面配置有平板型输入装置，一边参考显示于液晶装置的图像显示区域中的指令图像，一边用手指或触控笔等接触该指令图像所显示的部位，由此可以进行对应于指令图像的信息的输入。
这种输入装置(触摸面板)中有电阻膜型输入装置、静电电容型输入装置等。静电电容型输入装置具有可以仅在一张基板上形成透光性导电膜的优点。这种静电电容型输入装置中有如下类型的装置：例如使电极图案沿彼此交叉的方向延伸，当手指等接触时，检测电极之间的静电电容发生变化，以检测出输入位置。
以保护静电电容型输入装置的电极图案和收纳于框部的卷绕配线(例如铜线等金属配线)等为目的，在与用手指等进行输入的表面相反的一侧设置有透明树脂层。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-208824号公报
专利文献2：日本特开2014-065833号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
这种透明树脂层的目的在于，从汗水等水分保护静电电容型输入装置的电极图案和收纳于框部的卷绕配线。到目前为止，从轻量化的观点考虑，正在要求透明树脂层的薄膜化，但发现了以下弊端等新课题，即对汗水等水分的耐性即赋予盐水后的耐湿热性变差。当人们用手指接触于静电电容型输入装置的输入面时，所附着的汗水从静电电容型输入装置的间隙渗透至内部的保护层，之后，在湿热环境下，使用静电电容型输入装置，或者通过充电等而静电电容型输入装置内部成为高温高湿环境，因此实际应用上，这种赋予盐水后的耐湿热性是重要的性能。
因此，本发明人等对提高耐湿热性的方法进行研究的结果，得知使用感光性透明树脂层是有效的，该感光性透明树脂层使用了粘合剂聚合物和如封端异氰酸酯和环氧化合物那样通过加热而能够与酸进行反应的化合物。
然而，经过观察对感光性透明树脂层进行曝光及显影而得到的图案的结果，得知在未曝光部上会残留显影残渣，所述感光性透明树脂层使用了如某一粘度范围的封端异氰酸酯和环氧化合物那样通过加热而能够与酸进行反应的化合物。若如此在未曝光部上残留显影残渣，则在组装于静电电容型输入装置时会观察到粒子状杂质，得知会产生所谓的显影后的平面失效。关于存在特定化合物的情况下产生的这种显影残渣的问题，在静电电容型输入装置的电极保护膜的领域是未经研究的新课题，在利用使用了粘合剂聚合物和通过加热而能够与酸进行反应的化合物的感光性透明树脂层来制作出静电电容型输入装置的电极保护膜之情况下，是首次产生的课题。
如此能够形成赋予盐水后的耐湿热性和包括显影残渣在内的显影性均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜的转印薄膜，至今未被公开。
另一方面，作为不同于静电电容型输入装置的用途，已知有使用了粘合剂聚合物和通过加热而能够与酸进行反应的化合物的感光性树脂组合物。
在专利文献1中记载有用作印刷线路基板的阻焊剂等的感光性树脂组合物。详细而言，专利文献1中记载有感光性树脂组合物，其含有(A)特定结构的树脂；(B)分子内具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物；(C)光聚合引发剂；及(D)封端异氰酸酯化合物。并且，在专利文献1中也记载有具备干燥涂膜的干膜，所述干燥涂膜将感光性树脂组合物涂布于薄膜上并进行干燥而得到。
然而，至于印刷线路基板的阻焊剂和网版印刷板制版，其用途为未假定人用手指接触后在湿热环境下使用的情况，在印刷线路基板的阻焊剂用感光性树脂组合物和网版印刷板制版用感光性树脂组合物中，固化后赋予盐水后的耐湿热性不会成为课题。实际上，专利文献1未着眼于赋予盐水后的耐湿热性的课题。
并且，专利文献1中也没有记载将感光性树脂组合物使用于静电电容型输入装置的用途的启示。实际上，印刷线路基板的阻焊剂用感光性树脂组合物和网版印刷板制版用感光性树脂组合物未企图层叠于图像显示装置的图像显示部分，因此，通常存在着色，或透明性降低。因此，关于将印刷线路基板的阻焊剂用感光性树脂组合物和网版印刷板制版用感光性树脂组合物引用到静电电容型输入装置的用途，至今，本领域从业人员未进行研究。
本发明要解决的课题是提供一种能够形成赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜的转印薄膜。
用于解决技术课题的手段
本发明人等发现：通过使用感光性透明树脂层而能够形成赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜，该感光性透明树脂层并用粘合剂聚合物和分子内具有亲水性基团的通过加热而能够与酸进行反应的化合物，或者并用粘合剂聚合物、通过加热而能够与酸进行反应的化合物及具有特定的亲水性基团的化合物。
在此，专利文献2中记载有，聚异氰酸酯的异氰酸酯基中至少一部分为通过胺类化合物而被封闭的封端异氰酸酯基和被附加亲水性基团的水性异氰酸酯基，通过初始玻璃化转变点为0℃以上的包含水性封闭型聚异氰酸酯的纤维处理剂组合物而能够赋予高度的洗涤耐久性。然而，纤维处理剂组合物中未含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物及(C)光聚合引发剂中的任一种，纤维处理剂组合物也不具有感光性，因此专利文献2是技术领域与静电电容型输入装置的电极保护膜完全不同点文献。
作为用于解决上述课题的具体方式的本发明为如下。
[1]一种转印薄膜，其具有：临时支撑体；及感光性透明树脂层，位于临时支撑体上，
感光性透明树脂层包含：(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，
所述转印薄膜满足下述条件1及下述条件2中的至少一个，
且为静电电容型输入装置的电极保护膜用转印薄膜，
条件1：(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；
条件2：感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
[2]根据[1]所述的转印薄膜，其中，优选(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为0.1～100Pa·s。
[3]根据[1]或[2]所述的转印薄膜，其中，优选(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为5～60Pa·s。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物为封端异氰酸酯。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物的分子内的亲水性基团为环氧乙烷链或环氧丙烷链。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选感光性透明树脂层的厚度为1～20μm。
[7]根据[1]～[6]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选在感光性透明树脂层上具有第二透明树脂层，
第二透明树脂层的折射率比感光性透明树脂层的折射率高。
[8]一种静电电容型输入装置的电极保护膜，其从[1]～[7]中任一项所述的转印薄膜中去除临时支撑体而成。
[9]一种层叠体，其具有：
基板，包括静电电容型输入装置的电极；及
感光性透明树脂层，位于基板上，
感光性透明树脂层在基板上从[1]～[7]中任一项所述的转印薄膜转印感光性透明树脂层而形成。
[10]一种层叠体，其具有：
基板，包括静电电容型输入装置的电极；及
感光性透明树脂层，位于基板上，
感光性透明树脂层包含(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，
所述层叠体满足下述条件1及下述条件2中的至少一个，
条件1：(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；
条件2：感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
[11]根据[10]所述的层叠体，其中，优选(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为0.1～100Pa·s。
[12]根据[10]或[11]所述的层叠体，其中，优选(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为5～60Pa·s。
[13]根据[9]～[12]中任一项所述的层叠体，其中，优选电极为透明电极图案。
[14]根据[9]～[13]中任一项所述的层叠体，其中，优选基板为透明薄膜基板。
[15]一种层叠体的制造方法，其包括在包括静电电容型输入装置的电极的基板上从[1]～[7]中任一项所述的转印薄膜转印感光性透明树脂层的工序。
[16]根据[15]所述的层叠体的制造方法，其中，优选基板为透明薄膜基板。
[17]一种层叠体，其通过[15]或[16]所述的层叠体的制造方法制造而成。
[18]一种静电电容型输入装置，其包括[9]～[14]及[17]中任一项所述的层叠体。
发明效果
根据本发明，能够提供一种能够形成赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜的转印薄膜。
附图说明
图1A是表示本发明的静电电容型输入装置的结构的一例的剖面概略图。
图1B是表示本发明的静电电容型输入装置的结构的另一例的剖面概略图。
图2是表示本发明中的前面板的一例的说明图。
图3是表示本发明中的透明电极图案与非图案区域的关系的一例的说明图。
图4是表示形成有开口部的前面板的一例的俯视图。
图5是表示形成有掩模层的前面板的一例的俯视图。
图6是表示形成有第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图7是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要件的前面板的一例的俯视图。
图9是表示金属纳米线剖面的说明图。
图10是表示透明电极图案的端部的锥形形状的一例的说明图
图11是表示本发明的层叠体的结构的一例的剖面概略图。
图12是表示本发明的转印薄膜的结构的一例的剖面概略图。
图13是表示本发明的静电电容型输入装置的结构的另一例的俯视图，表示包含被图案曝光、未被感光性透明树脂层覆盖的卷绕配线的终端部(末端部分)的方式。
图14是表示在静电电容型输入装置的透明电极图案上，通过层压而层叠具有感光性透明树脂层及第二透明树脂层的本发明的转印薄膜，并通过曝光等进行固化之前的状态的一例的概略图。
图15是表示感光性透明树脂层和第二透明树脂层被固化的所希望的图案的一例的概略图。
具体实施方式
以下，关于本发明的转印薄膜、静电电容型输入装置的电极保护膜、层叠体及静电电容型输入装置进行说明。以下所记载的构成要件的说明是根据本发明的代表性实施方式和具体例而完成的，但本发明并不限定于那些实施方式和具体例。另外，在本说明书中用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包括的范围。
[转印薄膜]
本发明的转印薄膜，其具有：临时支撑体；及感光性透明树脂层，位于临时支撑体上，
感光性透明树脂层包含(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，
所述转印薄膜满足下述条件1及下述条件2中的至少一个，
且为静电电容型输入装置的电极保护膜用转印薄膜；
条件1：(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；
条件2：感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
根据这种结构，本发明的转印薄膜能够形成赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜。
虽然不受任何理论的约束，但可以如下推测：即使在使用粘合剂聚合物和通过加热可以与酸进行反应的化合物来提高了显影性的情况下，只要是本发明的结构，则在光(紫外线)照射及加热后的感光性透明树脂层的内部，光聚合性化合物紧密地形成交联结构，直至能够充分地遮断盐水的程度。因此，可推定能够改善将转印后的感光性透明树脂层进行曝光后的赋予盐水后的耐湿热性。
另一方面，本发明人等发现了在对粘合剂聚合物和使用了通过加热而能够与酸进行反应的化合物的感光性透明树脂层进行曝光及显影而得到的透明树脂层的图案中，在未曝光部上会残留显影残渣的原因在于，使用了亲油性高的通过加热而能够与酸进行反应的化合物的情况。因此，推断通过加热而能够与酸进行反应的化合物的亲油性高这一事实为显影后的显影残渣的原因。于是，可推测为使感光性透明树脂层从亲油性接近于亲水性的结果，能够抑制显影残渣的产生。
然而，在未添加通过加热而能够与酸进行反应的化合物的情况下，可推测为若使感光性透明树脂层接近于亲水性，则包括可赋予盐水后的耐湿热性在内耐湿热性降低。与此相对，在本发明的结构中，将亲水性基团导入通过加热而能够与酸进行反应的化合物中，或者将与通过加热而能够与酸进行反应的化合物不同而具有特定的亲水性基团的化合物添加于感光性透明树脂层，由此根据通过加热而能够与酸进行反应的化合物和亲水性基团的协同效应，不降低赋予盐水后的耐湿热性便能够抑制显影残渣的产生。
另外，增加光照射量而提高感光性透明树脂层中的光聚合性化合物的反应率，由此提高了三维交联密度的情况下，认为固化后的膜的固化收缩增大，转印后的感光性透明树脂层与基板的密合性有可能受到损伤。根据本发明的转印薄膜的优选方式，无需增加光照射量便能够形成和赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜，因此也容易将转印后的感光性透明树脂层与基板的密合性设为良好。
以下，关于本发明的转印薄膜的优选方式进行说明。
本发明的转印薄膜可以满足条件1及条件2两者。
另外，本发明的转印薄膜是静电电容型输入装置的电极保护用转印薄膜，电极保护膜用转印薄膜中，优选是透明绝缘层用或透明保护层用转印薄膜。本发明的转印薄膜能够用作：由于感光性透明树脂层处于未固化状态，因此在透明电极图案上，通过光刻方式用于形成静电电容型输入装置的电极保护膜的层叠图案的转印薄膜；及更优选用于形成折射率调整层及外涂层(透明保护层)的层叠图案的转印薄膜。
＜临时支撑体＞
作为使用于转印薄膜的临时支撑体，并无特别的限制。
(厚度)
临时支撑体的厚度并无特别的限制，通常为5～200μm的范围，从易处理性、通用性等方面考虑，尤其优选为10～150μm的范围。
(材质)
作为临时支撑体，优选为薄膜，更优选为树脂薄膜。
作为用作临时支撑体的薄膜，能够使用具有挠性且在加压情况下或者在加压及加热的情况下不产生显著的变形、收缩或拉伸的材料。作为这种临时支撑体的例子，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等，其中，尤其优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
并且，临时支撑体可以是透明的，也可以含有染料硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
并且，通过日本特开2005-221726号公报中所记载的方法等，能够对临时支撑体赋予导电性。
＜感光性透明树脂层的结构＞
感光性透明树脂层可以是光固化性树脂层，也可以是热固性且光固化性树脂层。其中，从转印后通过进行光固化而容易进行制膜，且制膜后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性的观点考虑，优选感光性透明树脂层及后述第二透明树脂层为热固性透明树脂层且光固化性透明树脂层。
另外，在本说明书中，为了便于说明，将本发明的转印薄膜的感光性透明树脂层及第二透明树脂层转印到透明电极图案上，将这些层进行光固化之后，在这些层丧失了光固化性的情况下，不管这些层是否具有热固性，而分别继续称作感光性透明树脂层及第二透明树脂层。而且，将这些层进行光固化之后，有时也进行热固化，该情况下，也不管这些层是否具有固化性，而分别继续称作感光性透明树脂层及第二透明树脂层。同样，将本发明的转印薄膜的感光性透明树脂层及第二透明树脂层转印到透明电极图案上，将这些层进行热固化之后，在这些层丧失了热固性的情况下，不管这些层是否具有光固化性，而分别继续称作感光性透明树脂层及第二透明树脂层。
(厚度)
在本发明的转印薄膜中，所述感光性透明树脂层的厚度优选为1～25μm，更优选为1～20μm，进一步优选为2～15μm，尤其优选为3～12μm。感光性透明树脂层的厚度足够厚，因此能够改善转印后的感光性透明树脂层(尤其，在曝光、显影、加热后)的赋予盐水后的耐湿热性。所述感光性透明树脂层优选使用于静电电容型输入装置的图像显示部分，该情况下，优选高透明性及高透射率化，感光性透明树脂层的厚度足够薄，因此不易产生基于感光性透明树脂层的吸收的透射率的降低，并且，短波不易被吸收，因此也不易显黄色。
(折射率)
在本发明的转印薄膜中，所述感光性透明树脂层的折射率优选为1.5～1.53，更优选为1.5～1.52，尤其优选为1.51～1.52。
(组成)
本发明的转印薄膜可以是负型材料，也可以是正型材料。
本发明的转印薄膜优选为负型材料。
作为控制感光性透明树脂层的折射率的方法，并无特别的限制，能够单独使用所希望的折射率的感光性透明树脂层，或者使用添加了金属粒子和金属氧化物粒子等粒子的感光性透明树脂层，或者还能够使用金属盐和高分子的复合体。
而且，在所述感光性透明树脂层中可以使用添加剂。作为所述添加剂，可以举出例如日本专利第4502784号说明书的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂、日本专利第4502784号说明书的0018段落中所记载的热聚合抑制剂、以及日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其它添加剂。
以上，以本发明的转印薄膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但本发明的转印薄膜也可以是正型材料。
-(A)粘合剂聚合物-
本发明的转印薄膜在感光性透明树脂层中包含(A)粘合剂聚合物。
粘合剂聚合物优选为酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂。将封端异氰酸酯添加于含羧基丙烯酸树脂中进行热交联，由此3维交联密度提高、以及含羧基丙烯酸树脂的羧基脱水而进行疏水化等，可推断这将有助于赋予盐水后的耐湿热性的改善。
感光性透明树脂层可以包含除了酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂以外的其它粘合剂聚合物。
作为包含于所述感光性透明树脂层中的其它粘合剂聚合物，不受特别的限制，能够使用任意的聚合物成分，但从作为静电电容型输入装置的透明保护膜而使用的观点考虑，优选为表面硬度及耐热性高的粘合剂聚合物，更优选为碱溶性树脂，在碱溶性树脂中，能够举出公知的感光性硅氧烷树脂材料等。
从提高将感光性透明树脂层和第二透明树脂层进行转印前后的层间密合性的观点考虑，优选在感光性透明树脂层的形成中使用的有机溶剂类树脂组合物中所包含的粘合剂聚合物为酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂，更优选感光性透明树脂层的形成中使用的有机溶剂类树脂组合物中所包含的粘合剂聚合物和在后述第二透明树脂层的形成中使用的水性树脂组合物中所包含的具有酸基的树脂或粘合剂聚合物均含有丙烯酸树脂。对感光性透明树脂层的所述粘合剂聚合物的优选范围进行具体的说明。
作为在所述感光性透明树脂层中所使用的酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物(称作粘合剂、聚合物)，只要不违背本发明的主旨就无特别的限制，能够从公知的粘合剂聚合物中适当地进行选择，优选使用日本特开2011-95716号公报的0025段落中所记载的聚合物中酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段落中所记载的聚合物中酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物。
酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物的酸值优选为60～200mgKOH/g，更优选为70～150mgKOH/g，尤其优选为80～120mgKOH/g。
本发明中的粘合剂聚合物的酸值使用的是通过以下文献等中记载的计算方法而算出的理论酸值的值。日本特开2004-149806号公报＜0063＞、日本特开2012-211228号公报＜0070＞。
并且，感光性透明树脂层可以包含聚合物乳胶作为粘合剂聚合物。在此，所说的聚合物乳胶是不溶于水的聚合物粒子分散于水中的乳胶。关于聚合物乳胶，例如记载于室井宗一著“高分子乳胶的化学(高分子刊行会发行(1973年))”。
作为能够使用的聚合物粒子，优选丙烯酸类、乙酸乙烯酯类、橡胶类(例如苯乙烯-丁二烯类、氯丁二烯类)、烯烃类、聚酯类、聚氨酯类、聚苯乙烯类等的聚合物、以及由它们的共聚物构成的聚合物粒子。
优选使构成聚合物粒子的聚合物链彼此之间的键合力增强。作为增强聚合物链彼此之间的键合力的方法，可以举出利用基于氢键的相互作用的方法和生成共价键的方法。作为赋予氢键力的方法，优选在聚合物链上将具有极性基团的单体进行共聚或者接枝聚合而导入。
作为粘合剂聚合物具有的极性基团，可以举出羧基(丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富马酸、马来酸、巴豆酸、部分酯化马来酸等中所含有)、伯氨基、仲氨基及叔氨基、铵盐基、磺酸基(苯乙烯磺酸)等，酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物至少具有羧基。
具有这些极性基团的单体的共聚比的优选范围相对于聚合物100质量％为5～50质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选在20～30质量％的范围内。关于酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物，具有羧基的单体的共聚比的优选范围相对于聚合物100质量％为5～50质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选为20～30质量％。另一方面，作为生成共价键的方法，可以举出使环氧化合物、封端异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸基等进行反应的方法。
聚合物的重均分子量优选为1万以上，进一步优选为2万～10万。
能够使用于本发明中的聚合物乳胶可以通过乳化聚合而得到，也可以是通过乳化而得到。关于这些聚合物乳胶的制备方法，例如记载于“乳液/乳胶手册”(乳液/乳胶手册编辑委员会编辑，TAISEISHA LTD.发行(1975年))。
作为能够使用于本发明的聚合物乳胶，能够举出例如丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名称：JURYMER AT-210NIHON JUNYAKU CO.,LTD.制造)、丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名称：JURYMER ET-410NIHON JUNYAKU CO.,LTD.制造)、丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名称：JURYMER AT-510NIHON JUNYAKU CO.,LTD.制造)、聚丙烯酸(商品名称：JURYMER AC-10LNIHON JUNYAKU CO.,LTD.制造)进行氨中和并乳化的物质。
-(B)光聚合性化合物-
本发明的转印薄膜的感光性透明树脂层包含(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物。具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物只要具有至少一个乙烯性不饱和基团作为光聚合性基团即可，在具有乙烯性不饱和基团的基础上，还可以具有环氧基等。作为感光性透明树脂层的光聚合性化合物，更优选包含具有(甲基)丙烯酰基的化合物。
使用于转印薄膜中的光聚合性化合物，可以单独仅使用一种，也可以组合两种以上而使用，从改善将转印后的感光性透明树脂层进行曝光后的赋予盐水后的耐湿热性的观点考虑，优选组合两种以上而使用。使用于本发明的转印薄膜中的光聚合性化合物，从改善将转印后的感光性透明树脂层进行曝光后的赋予盐水后的耐湿热性的观点考虑，更优选将3官能以上的光聚合性化合物和2官能的光聚合性化合物进行组合而使用。2官能的光聚合性化合物相对于所有的光聚合性化合物优选以10～90质量％而使用，更优选以20～85质量％而使用，尤其优选以30～80质量％而使用。3官能以上的光聚合性化合物相对于所有的光聚合性化合物优选以10～90质量％而使用，更优选以15～80质量％而使用，尤其优选以20～70质量％而使用。作为所述光聚合性化合物，转印薄膜优选至少包含具有两个乙烯性不饱和基团的化合物及具有至少三个乙烯性不饱和基团的化合物，更优选至少包含具有两个(甲基)丙烯酰基的化合物及具有至少三个(甲基)丙烯酰基的化合物。
并且，从粘合剂聚合物的羧基和具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物的羧基形成羧酸酐，以进一步提高赋予盐水后的耐湿热性的观点考虑，转印薄膜优选含有具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物中的至少一种羧基。作为具有含有羧基的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物，并无特别的限定，能够使用市售的化合物。例如能够优选使用ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、ARONIX M-510(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)等。具有含有羧基的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物相对于所有的光聚合性化合物优选以1～50质量％而使用，更优选以1～30质量％而使用，尤其优选以5～15质量％而使用。
作为所述光聚合性化合物，优选包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的混合量相对于所有的光聚合性化合物优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物优选光聚合性基团的官能团数量即(甲基)丙烯酰基的数量为3官能以上，更优选为4官能以上。
具有2官能的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物，只要是在分子内具有两个乙烯性不饱和基团的化合物，则无特别的限定，能够使用市售的(甲基)丙烯酸酯化合物。例如能够优选使用三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)等。
具有3官能以上的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物只要是在分子内具有三个以上乙烯性不饱和基团的化合物，则无特别的限定，例如能够使用二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、异氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，优选(甲基)丙烯酸酯之间的跨距长度长的化合物。具体而言，优选能够使用所述二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、异氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(NIPPON KAYAKUCo.,Ltd.制造的KAYARAD DPCA，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造的A-9300-1CL等)、环氧烷改性化合物(NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.制造的KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造的ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制造的EBECRYL 135等)等。并且，优选使用3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，能够优选使用8UX-015A(TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.制造)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、UA-1100H(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制造)等。
使用于转印薄膜中的光聚合性化合物的平均分子量优选为200～3000，更优选为250～2600，尤其优选为280～2200。
-(C)光聚合引发剂-
在本发明的转印薄膜中，感光性透明树脂层包含(C)光聚合引发剂。所述感光性透明树脂层包含所述光聚合性化合物及所述光聚合引发剂，由此能够容易形成感光性透明树脂层的图案。
作为使用于有机溶剂类树脂组合物中的光聚合引发剂，能够使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段落中所记载的光聚合引发剂。例如除了1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)-2-(邻苯甲酰肟)](商品名称：IRGACURE OXE-01，BASF公司制造)以外，能够优选使用乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰肟)(商品名称：IRGACURE OXE-02,BASF公司制造)、2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名称：IRGACURE 379EG，BASF公司制造)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 907，BASF公司制造)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 127、BASF公司制造)、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(商品名称：IRGACURE 369，BASF公司制造)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 1173，BASF公司制造)、1-羟基-环己基-苯基-酮(商品名称：IRGACURE 184，BASF公司制造)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 651，BASF公司制造)、肟酯类光聚合引发剂(商品名称：Lunar 6、DKSH JAPAN K.K.制造)等。
在所述感光性透明树脂层中，相对于所述感光性透明树脂层，所述光聚合引发剂优选包含1质量％以上，更优选包含2质量％以上。在所述感光性透明树脂层中，相对于所述感光性透明树脂层，所述光聚合引发剂优选包含10质量％以下，从改善本发明的层叠体的图案形成性、基板密合性的观点考虑，更优选包含5质量％以下。
-(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物-
本发明的转印薄膜中，感光性透明树脂层包含(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物。(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度优选为0.1～100Pa·s，更优选为5～60Pa·s，进一步优选为20～40Pa·s。
若通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为下限值以上，则能够抑制涂布干燥和后烘干时其成分的挥发，并能够确保加热时异氰酸酯的反应性，因此优选。
若通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为上限值以下，则通过确保后烘干时膜中的其成分的流动性而能够区别加热时异氰酸酯的反应性，因此优选。
在这种粘度范围内，(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在显影后也残留在基板上，发现了容易成为显影残渣。
作为(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，只要不违背本发明的主旨，则并无特别的限制。通过加热而能够与酸进行反应的化合物优选为，与25℃下的酸的反应性相比，与超过25℃并加热后的酸的反应性更高的化合物。通过加热而能够与酸进行反应的化合物为，具有能够与通过遮断剂而暂时成为惰性化的酸进行反应的基团，并在规定的解离温度下源自遮断剂的基团进行解离的化合物。
关于通过加热而能够与酸进行反应的化合物，能够举出羧酸化合物、醇化合物、胺化合物、封端异氰酸酯及环氧化合物等，优选为封端异氰酸酯及环氧化合物。
本发明的转印薄膜满足条件1的情况下，(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团。
作为在分子内具有亲水性基团的通过加热而能够与酸进行反应的化合物并无特别的限制，能够使用公知的化合物。作为在分子内具有亲水性基团的通过加热而能够与酸进行反应的化合物的制备方法并无特别的限制，例如能够通过合成而制备。
作为在分子内具有亲水性基团的通过加热而能够与酸进行反应的化合物，优选为在分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯。关于在分子内具有亲水性基团的通过加热而能够与酸进行反应的化合物的详细内容，记载于后述封端异氰酸酯的说明中。
--(D1)封端异氰酸酯--
封端异氰酸酯是指“具有用遮断剂来保护(遮罩)异氰酸酯基的结构的化合物”。
封端异氰酸酯的初始Tg(glass transition temperature：玻璃化转变温度)优选为-40℃～10℃，更优选为-30℃～0℃。
封端异氰酸酯的解离温度优选为100℃～160℃，更优选为130～150℃。
本说明书中的封端异氰酸酯的解离温度是指由“差示扫描量热仪(SeikoInstruments Inc.制造，DSC6200)通过DSC(Differential scanning calorimetry：差示扫描量热仪)分析而测定的情况下，伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
作为解离温度为100℃～160℃的遮断剂，可以举出吡唑类化合物(3,5-二甲基吡唑、3-甲基吡唑、4-溴-3,5-二甲基吡唑、4-硝基-3,5-二甲基吡唑等)、活性亚甲基类化合物(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二-2-乙基己基)等)、三唑类化合物(1,2,4-三唑等)、肟类化合物(甲醛肟、乙醛肟、乙酰肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的化合物)等。其中，从保存稳定性的观点考虑，优选肟类化合物、吡唑类化合物，尤其优选肟类化合物。
从膜的脆性及基材密合力的观点考虑，本发明的转印薄膜优选封端异氰酸酯具有异氰脲酸酯结构。具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯能够将例如六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化而制备。
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯中，具有将肟类化合物用作遮断剂的肟结构的化合物比不具有肟结构的化合物更容易将解离温度设为优选范围，从容易减少显影残渣的观点考虑是优选的。
封端异氰酸酯的被封闭的异氰酸酯基在每一个分子的个数优选为1～10，更优选为2～6，尤其优选为3～4。
作为封端异氰酸酯，可以使用日本特开2006-208824号公报的0074～0085中所记载的封端异氰酸酯化合物，该公报的内容被引用于本说明书中。
作为使用于本发明的转印薄膜中的封端异氰酸酯的具体例，能够举出以下化合物。但使用于本发明中的封端异氰酸酯并不限定于以下具体例。
[化学式1]
作为使用于转印薄膜中的封端异氰酸酯，能够举出市售的封端异氰酸酯。例如能够举出异佛尔酮二异氰酸酯的甲基乙基酮肟嵌段化物即Takenate(注册商标)B870N(Mitsui Chemicals,Inc.制造)、六亚甲基二异氰酸酯类封端异氰酸酯化合物即Duranate(注册商标)MF-K60B(Asahi-Kasei Chemicals Corporation.制造)等。
分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯优选为，异氰酸酯基的至少一部分是被加成亲水性基团的水性异氰酸酯基的封端异氰酸酯。通过使聚异氰酸酯的异氰酸酯基与遮断剂(也称作胺类化合物)进行反应而能够得到分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯。作为该反应方法，可以举出通过化学反应在聚异氰酸酯所具有的异氰酸酯基的一部分加成亲水性基团的方法。
作为通过加热而能够与酸进行反应的化合物所具有的亲水性基团并无特别的限定，具体而言，可以举出非离子型亲水性基团、阳离子型亲水性基团等。
作为非离子型亲水性基团并无特别的限定，具体而言，可以举出在甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇或二乙二醇等醇的羟基上加成环氧乙烷或环氧丙烷的化合物等。即，优选分子内具有亲水性基团的通过加热而能够与酸进行反应的化合物的亲水性基团是环氧乙烷链或环氧丙烷链。这些化合物具有与异氰酸酯基进行反应的活性氢，由此能够加成于异氰酸酯基。其中，优选以少的使用量能够进行水分散的单醇类。
并且，作为环氧乙烷链或环氧丙烷链的加成数，优选为4～30，更优选为4～20。若加成数为4以上，则水分散性具有进一步提高的倾向。并且，若加成数为30以下，则所得到的封端异氰酸酯的初始Tg具有进一步提高的倾向。
关于阳离子型亲水性基团的加成，具有以下方法：利用兼有阳离子型亲水性基团和与异氰酸酯基进行反应的活性氢的化合物的方法；及在聚异氰酸酯中预先导入例如缩水甘油基等官能团，之后，例如使硫醚、膦等特定化合物与该官能团进行反应的方法等，前者的方法容易。
作为与异氰酸酯基进行反应的活性氢并无特别的限定，具体而言，可以举出羟基、硫醇基等。作为兼有阳离子型亲水性基团和与异氰酸酯基进行反应的活性氢的化合物并无特别的限定，具体而言，可以举出二甲基乙醇胺、二乙基乙醇胺、二乙醇胺、甲基二乙醇胺等。由此导入的叔氨基也能够通过硫酸二甲酯、硫酸二乙酯等进行季铵化作用。
加成了亲水性基团的异氰酸酯基与封端异氰酸酯基的当量比率优选为1:99～80:20，更优选为2:98～50:50，尤其优选为5:95～30:70。从同时实现异氰酸酯反应性和显影残渣的观点考虑，优选设为上述优选范围。
作为在分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯及其合成方法，能够优选使用日本特开2014-065833号公报的0010～0045中所记载的水性封闭型聚异氰酸酯，该公报的内容被被引用于本说明书中。
合成在分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯的情况下，亲水性基团的加成反应和异氰酸酯基的封闭反应能够在存在合成溶剂的条件下进行。该情况下的合成溶剂优选不包含活性氢，能够举出例如二丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯及甲氧基乙酸丙酯等。
合成在分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯的情况下，具有亲水性基团的化合物相对于聚异氰酸酯添加1～100质量％为较佳，更优选添加2～80质量％。
合成在分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯的情况下，遮断剂相对于聚异氰酸酯添加10～100质量％为较佳，更优选添加20～99质量％。
使用于转印薄膜中的封端异氰酸酯的分子量优选为200～3000，更优选为250～2600，尤其优选为280～2200。
--(D2)环氧化合物--
作为环氧化合物并无特别的限制，能够使用公知的化合物。
作为环氧化合物，能够优选使用日本特开2015-135396号公报的＜0096＞～＜0098＞中所记载的化合物，该公报的内容被引用于本说明书中。
作为环氧化合物的例子，能够举出EPOX-MK R151(Printec Co.制造)等。
相对于感光性透明树脂层，环氧化合物优选含有5～50质量％，更优选含有5～30质量％。
(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物
在本发明的转印薄膜满足条件2的情况下，感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
作为具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物并无特别的限制，能够使用公知的化合物。
具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物优选为非离子性表面活性剂。作为非离子性表面活性剂即具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物，能够优选使用WO2011/052620A的＜0021＞～＜0026＞中所记载的化合物，该公报的内容被引用于本说明书中。
作为具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物的例子，能够举出EMULGEN B-66、EMULGEN A-90(均为Kao Corporation.制造)等。
相对于感光性透明树脂层，具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物优选含有0.1～10质量％，更优选含有0.3～8质量％，尤其优选含有0.5～5质量％。
-金属氧化物粒子-
所述感光性透明树脂层以调节折射率和透光性为目的，可以包含或不包含粒子(优选金属氧化物粒子)。为了将所述感光性透明树脂层的折射率控制在上述范围内，根据所使用的聚合物和聚合性化合物的种类，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子。在所述感光性透明树脂层中，相对于所述感光性透明树脂层，所述金属氧化物粒子优选含有0～35质量％，更优选含有0～10质量％，尤其优选不含有。
金属氧化物粒子的透明性高且具有透光性，因此可得到高折射率且透明性优异的感光性透明树脂层。
所述金属氧化物粒子优选为折射率比由从感光性透明树脂层中去除该粒子的材料构成的组合物的折射率高的粒子。
另外，所述金属氧化物粒子的金属中也包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
作为具有透光性且折射率较高的金属氧化物粒子，优选为包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更优选氧化钛、钛复合氧化物、氧化锌、氧化锆、铟/锡氧化物及锑/锡氧化物，进一步优选氧化钛、钛复合氧化物及氧化锆，尤其优选氧化钛及氧化锆，最优选二氧化钛。作为二氧化钛，尤其优选折射率较高的金红石型。这些金属氧化物粒子为了赋予分散稳定性而能够用有机材料对表面进行处理。
从感光性透明树脂层的透明性的观点考虑，所述金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，尤其优选为3～80nm。在此，粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜来测定任意200个粒子的粒径且其算术平均值。并且粒子的形状为非球形的情况下，将最长边设为粒径。
并且，金属氧化物粒子可以单独使用一种，也能够并用两种以上。
在本发明的转印薄膜中，从将折射率控制为所述感光性透明树脂层的折射率范围的观点考虑，感光性透明树脂层具有ZrO2粒子、Nb2O5粒子及TiO2粒子中的至少一种，更优选具有ZrO2粒子及Nb2O5粒子中的至少一种。
＜第二透明树脂层的结构＞
本发明的转印薄膜优选在所述感光性透明树脂层上具有第二透明树脂层，更优选具有与所述感光性透明树脂层相邻配置的第二透明树脂层。
第二透明树脂层可以是热固性树脂层，可以是光固化性树脂层，也可以是热固性且光固化性树脂层。其中，从转印后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性的观点考虑，优选第二透明树脂层至少是热固性透明树脂层，从转印后通过进行光固化而容易制膜，且制膜后通过进行热固化而能够赋予膜的可靠性的观点考虑，更优选为热固性透明树脂层且光固化性透明树脂层。
(折射率)
本发明的转印薄膜优选在感光性透明树脂层上具有第二透明树脂层，更优选第二透明树脂层的折射率比感光性透明树脂层的折射率高。
将透明电极图案(优选ITO)与所述第二透明树脂层的折射率差、以及所述第二透明树脂层与所述感光性透明树脂层的折射率差设为较小，由此光反射降低而不易看见透明电极图案，能够改善透明电极图案可见性。并且，在层叠感光性透明树脂层之后，即使不使感光性透明树脂层固化而层叠第二透明树脂层，层分级也变得良好，因此，能够以上述机理来改善透明电极图案可见性。而且，从转印薄膜，将折射率调整层(即感光性透明树脂层及第二透明树脂层)转印到透明电极图案上之后，通过光刻而能够以所希望的图案进行显影。另外，若感光性透明树脂层及第二透明树脂层的层分级良好，则容易获得基于上述机理的折射率调整的充分的效果，并容易充分地改善透明电极图案可见性。
所述第二透明树脂层的折射率优选为1.60以上。
另一方面，所述第二透明树脂层的折射率需要通过透明电极图案的折射率而进行调整，作为折射率的上限值并无特别的限制，优选为2.1以下，更优选为1.78以下，也可以是1.74以下。
尤其，如In及Zn的氧化物(IZO)的情况，在透明电极图案的折射率超过2.0的情况下，第二透明树脂层的折射率优选为1.7以上且1.85以下。
(厚度)
在本发明的转印薄膜中，所述第二透明树脂层的膜厚优选为500nm以下，更优选为110nm以下。所述第二透明树脂层的膜厚优选为20nm以上。所述第二透明树脂层的膜厚进一步优选为55～100nm，尤其优选为60～100nm，进一步尤其优选为70～100nm。
(组成)
本发明的转印薄膜可以是负型材料，也可以是正型材料。
在本发明的转印薄膜为负型材料的情况下，在第二透明树脂层中优选包含金属氧化物粒子、粘合剂聚合物(优选碱溶性树脂)、光聚合性化合物、聚合引发剂。进而，使用添加剂等，但并不限定于此。
在本发明的转印薄膜中，第二透明树脂层优选包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂。
作为控制第二透明树脂层的折射率的方法并无特别的限制，能够单独使用所希望的折射率的透明树脂层，或者使用添加了金属粒子或金属氧化物粒子等粒子的透明树脂层，或者能够使用金属盐与高分子的复合体。
而且，所述第二透明树脂层中可以使用添加剂。作为所述添加剂，可以举出例如日本专利第4502784号说明书的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂、日本专利第4502784号说明书的0018段落中所记载的热聚合抑制剂、及日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其它添加剂。
以上，以本发明的转印薄膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但本发明的转印薄膜也可以是正型材料。在本发明的转印薄膜为正型材料的情况下，在所述第二透明树脂层中可以使用例如日本特开2005-221726号公报中所记载的材料等，但并不限定于此。
-具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐-
第二透明树脂层优选包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐。
作为具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，并无特别的限制。
第二透明树脂层的所述具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，优选为具有酸基的丙烯酸单体或丙烯酸树脂的铵盐。
优选包括如下工序：使具有酸基的单体或具有酸基的树脂溶解于氨水溶液中，制备包含酸基的至少一部分已进行铵盐化的单体或树脂的水性树脂组合物。
--具有酸基的树脂--
作为具有酸基的单体或具有酸基的树脂，优选为具有酸基的树脂，更优选为具有1价酸基(羧基等)的树脂。第二透明树脂层的粘合剂聚合物尤其优选为具有羧基的粘合剂聚合物。
作为使用于第二透明树脂层中且对水性溶剂(优选为水或碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂)具有溶解性的树脂，只要不违背本发明的主旨就无特别的限制，能够从公知的树脂中适当地进行选择。
使用于第二透明树脂层中的具有酸基的树脂优选为碱溶性树脂。碱溶性树脂是线状有机高分子聚合物，能够从分子(优选将丙烯酸类共聚物、苯乙烯类共聚物作为主链的分子)中具有至少一个促进碱溶性的基团(即，酸基：例如羧基、磷酸基、磺酸基等)的碱溶性树脂中适当地进行选择。其中，进一步优选为可溶解于有机溶剂且能够通过弱碱水溶液进行显影的碱溶性树脂。作为酸基，优选为羧基。
在碱溶性树脂的制造中，能够适用例如基于公知的自由基聚合法的方法。利用自由基聚合法来制造碱溶性树脂时的温度、压力、自由基引发剂的种类及其量、溶剂的种类等聚合条件，对于本领域从业人员来讲是可以容易设定的，也能够确定实验性条件。
作为上述线状有机高分子聚合物，优选在侧链上具有羧酸的聚合物。例如，如日本特开昭59-44615号公报、日本特公昭54-34327号、日本特公昭58-12577号、日本特公昭54-25957号、日本特开昭59-53836号公报、日本特开昭59-71048号公报、日本特开昭46-2121号公报和日本特公昭56-40824号的各公报中所记载那样的聚(甲基)丙烯酸、甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、苯乙烯/马来酸等马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等、以及羧烷基纤维素及羧烷基淀粉等在侧链上具有羧酸的酸性纤维素衍生物、对具有羟基的聚合物加成酸酐的聚合物等，而且，也可以优选举出在侧链上具有(甲基)丙烯酰基等反应性官能团的高分子聚合物。
这些聚合物中，尤其优选包括苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物和苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/其它单体的多元共聚物。
此外，也可以举出2-羟基乙基甲基丙烯酸酯共聚的聚合物等作为有用的聚合物。该聚合物能够以任意的量进行混合而使用。
除了上述聚合物以外，可以举出在日本特开平7-140654号公报中所记载的、2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物等。
关于碱溶性树脂的具体的构成单元，尤其优选(甲基)丙烯酸与能够与其共聚的其它单体的共聚物。
作为能够与(甲基)丙烯酸共聚的其它单体，可以举出烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基化合物等。在此，烷基及芳基的氢原子可以被取代基取代。
作为烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯的具体例，能够举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸环己基酯等。
并且，作为乙烯基化合物，能够举出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氢糠酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体、CH2＝CR1R2、CH2＝C(R1)(COOR3)〔在此，R1表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基，R2表示碳原子数为6～10的芳香族烃环，R3表示碳原子数为1～8的烷基或碳原子数为6～12的芳烷基。〕等。
这些可以共聚的其它单体能够单独使用一种，或者组合两种以上而使用。优选的可以共聚的其它单体是选自CH2＝CR1R2、CH2＝C(R1)(COOR3)、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯的至少一种，尤其优选为CH2＝CR1R2和/或CH2＝C(R1)(COOR3)。
此外，可以举出如下树脂：使具有反应性官能团的(甲基)丙烯酸化合物、肉桂酸等和具有与该反应性官能团可以反应的取代基的线状高分子进行反应，从而将乙烯性不饱和双键导入到该线状高分子中。作为反应性官能团，能够例示羟基、羧基、氨基等，作为能够与该反应性官能团反应的取代基，能够举出异氰酸酯基、醛基、环氧基等。
其中，作为具有酸基的树脂，优选为具有酸基的丙烯酸树脂。另外，在本说明书中，在丙烯酸树脂中包含甲基丙烯酸树脂和丙烯酸树脂这两种，同样，在(甲基)丙烯酸中可以包含甲基丙烯酸和丙烯酸。
--具有酸基的单体--
作为具有酸基的单体，能够优选使用(甲基)丙烯酸、其衍生物等丙烯酸单体和以下单体。
可以举出例如3～4官能的自由基聚合性单体(在季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯[PETA]骨架中导入羧酸基的单体(酸值＝80～120mgKOH/g))、5～6官能的自由基聚合性单体(在二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯[DPHA]骨架中导入羧酸基的单体(酸值＝25～70mg-KOH/g))等。未记载具体的名称，但根据需要，可以使用2官能的碱溶性自由基聚合性单体。
此外，也能够优选使用在日本特开2004-239942号公报的＜0025＞～＜0030＞中所记载的具有酸基的单体，该公报的内容被引用于本发明中。
其中，更优选使用(甲基)丙烯酸和其衍生物等丙烯酸单体。另外，在本说明书中，丙烯酸单体包含甲基丙烯酸单体和丙烯酸单体这两种。
-其它粘合剂聚合物-
作为使用于第二透明树脂层中的不具有酸基的其它粘合剂聚合物并无特别的限制，能够使用在有机溶剂类树脂组合物中使用的粘合剂聚合物，所述有机溶剂类树脂组合物在所述感光性透明树脂层的形成中被使用。
-聚合性化合物-
从通过进行固化而提高膜的强度等的观点考虑，优选所述第二透明树脂层包含所述光聚合性化合物或热聚合性化合物等聚合性化合物。更优选包含除了具有所述酸基的单体以外的其它光聚合性化合物。
作为使用于第二透明树脂层中的聚合性化合物，能够使用日本专利第4098550号说明书的0023～0024段落中所记载的聚合性化合物。其中，能够优选使用季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇环氧乙烷(EO)加成物的四丙烯酸酯。这些聚合性化合物可以单独使用，也可以组合多个进行使用。在使用季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物的情况下，季戊四醇三丙烯酸酯的比率以质量比计优选为5～80％，更优选为10～60％。
作为使用于第二透明树脂层中的光聚合性化合物，具体而言，能够举出由下述结构式1表示的水溶性聚合性化合物、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(NK酯A-TMMT，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，作为杂质而含有三丙烯酸酯约10％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3LM-N，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯37％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM-3L，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯55％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯57％)、季戊四醇环氧乙烷(EO)加成物的四丙烯酸酯(KAYARAD RP-1040，Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)等。
作为使用于第二透明树脂层中的光聚合性化合物，其中，从改善转印薄膜的皱缩网纹的观点考虑，能够优选使用由下述结构式1表示的水溶性聚合性化合物、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(NK酯A-TMMT，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3LM-N，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯37％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM-3L，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，三丙烯酸酯55％)。
[化学式2]
作为使用于其它第二透明树脂层中的光聚合性化合物，可以举出对水或碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂具有溶解性的聚合性化合物，能够使用例如具有羟基的单体、在分子内具有环氧乙烷和聚环氧丙烷及磷酸基的单体。
-光聚合引发剂-
作为使用于所述第二透明树脂层中且对水或碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂具有溶解性的光聚合引发剂，能够使用IRGACURE 2959、下述结构式2的引发剂。
[化学式3]
-金属氧化物粒子-
所述第二透明树脂层以调节折射率和透光性为目的，可以包含或不包含粒子(优选金属氧化物粒子)，从将所述第二透明树脂层的折射率控制为上述范围的观点考虑，优选包含金属氧化物粒子。在所述第二透明树脂层中，根据所使用的聚合物和聚合性化合物的种类，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子，在所述第二透明树脂层中，相对于所述第二透明树脂层，所述金属氧化物粒子优选含有40～95质量％，更优选含有55～95质量％，从改善转印薄膜的裂缝的观点考虑，进一步优选含有62～90质量％，从进一步改善转印薄膜的裂缝且改善本发明的透明层叠体的基板密合性的观点考虑，尤其优选含有62～75质量％，更尤其优选含有62～70质量％。
所述金属氧化物粒子优选为折射率比由从第二透明树脂层中去除该粒子的材料构成的组合物的折射率高的金属氧化物粒子。具体而言，在本发明的转印薄膜中，第二透明树脂层更优选含有具有400～750nm波长的光中的折射率为1.50以上的粒子，进一步优选含有折射率为1.55以上的粒子，尤其优选含有折射率为1.70以上的粒子，最优选含有1.90以上的粒子。
在此，具有400～750nm波长的光中的折射率为1.50以上是指，具有上述范围的波长的光中的平均折射率为1.50以上，并不要求具有上述范围波长的所有光中的折射率为1.50以上。并且，平均折射率是对具有上述范围波长的各光的折射率的测定值的总和除以测定点的个数的值。
并且，所述金属氧化物粒子可以单独使用一种，也能够并用两种以上。
在本发明的转印薄膜中，从将折射率控制在所述第二透明树脂层的折射率的范围的观点考虑，第二透明树脂层优选具有ZrO2粒子、Nb2O5粒子及TiO2粒子中的至少一种，更优选具有ZrO2粒子及Nb2O5粒子中的至少一种。
＜热塑性树脂层＞
本发明的转印薄膜也能够在所述临时支撑体与所述感光性透明树脂层之间设置热塑性树脂层。若使用具有所述热塑性树脂层的转印材料来转印感光性透明树脂层及第二透明树脂层而形成层叠体，则在进行转印而形成的各要件中不易产生气泡。其结果，在图像显示装置中不易产生图像不均等，能够获得优异的显示特性。
所述热塑性树脂层优选为碱溶性树脂层。热塑性树脂层优选发挥作为缓冲材料的作用，以便能够吸收基底表面的凹凸(也包括由已形成的图像等产生的凹凸等。)，并具有根据对象表面的凹凸而可以变形的性质。
热塑性树脂层优选将日本特开平5-72724号公报中所记载的有机高分子物质作为成分而包含的方式，尤其优选包含至少一种选自基于维卡(Vicat)法(具体而言，根据美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法)的软化点约为80℃以下的有机高分子物质的方式。
具体而言，可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等乙烯共聚物、乙烯和丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等苯乙烯类共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯和乙酸乙烯酯等(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。
热塑性树脂层的层厚优选为3～30μm。在热塑性树脂层的层厚小于3μm的情况下，层压时的追随性不充分，有时无法完全吸收基底表面的凹凸。并且，在层厚超过30μm的情况下，对热塑性树脂层形成于临时支撑体时的干燥(去除溶剂)施加负荷，或者在热塑性树脂层的显影中需要较长时间，有时使工艺适性变差。作为所述热塑性树脂层的层厚，进一步优选为4～25μm，尤其优选为5～20μm。
热塑性树脂层能够通过涂布包含热塑性有机高分子的制备液等而形成，并能够使用溶剂来制备进行涂布等时所使用的制备液。作为溶剂，只要可以溶解构成热塑性树脂层的高分子成分就无特别的限制，可以举出例如甲乙酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇等。
(热塑性树脂层及光固化性树脂层的粘度)
所述热塑性树脂层的在100℃下测定的粘度在1000～10000Pa·sec的区域，光固化性树脂层的在100℃下测定的粘度优选在2000～50000Pa·sec的区域。
＜中间层＞
本发明的转印薄膜也能够在所述热塑性树脂层与所述感光性透明树脂层之间设置中间层。作为中间层，在日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”而记载。
＜保护膜＞
本发明的转印薄膜优选在所述第二透明树脂层的表面还设置保护膜(以下，也称作“保护剥离层”。)等。
作为所述保护膜，能够适当地使用在日本特开2006-259138号公报的0083～0087及0093段落中记载的保护膜。
图12中示出本发明的转印薄膜的优选结构的一例。图12是临时支撑体26、感光性透明树脂层7、第二透明树脂层12及保护剥离层(保护膜)29依次彼此相邻而层叠的本发明的转印薄膜30的剖面概略图。
＜转印薄膜的制造方法＞
转印薄膜的制造方法并无特别的限制，能够使用公知的方法。
在临时支撑体上，在制造除了感光性透明树脂层以外，还具有第二透明树脂层的转印薄膜的情况下，这种转印薄膜的制造方法优选具有：在临时支撑体上形成感光性透明树脂层的工序；及在所述感光性透明树脂层上直接形成第二透明树脂层的工序。形成所述感光性透明树脂层的工序优选为将有机溶剂类树脂组合物涂布于所述临时支撑体上的工序。形成所述第二透明树脂层的工序优选为涂布包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物的工序。通过设为这种结构，感光性透明树脂层与第二透明树脂层的层分级良好，而且，在高温高湿下经过时间的情况下，也能够抑制由使用水性树脂组合物而形成的第二透明树脂层的吸湿而引起的问题。在通过有机溶剂类树脂组合物而得到的感光性透明树脂层上，涂布包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物，由此，即使不使感光性透明树脂层固化而形成第二透明树脂层，也不会产生层混合，层分级变得良好。另外，在干燥使用包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物而得到的涂布膜时，从具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，沸点低于水的氨在干燥工序中容易挥发，因此生成(再生)酸基而能够作为具有酸基的单体或者具有酸基的树脂存在于第二透明树脂层中。因此，在高温高湿下，在经过时间而使其吸湿的情况下，构成第二透明树脂层的具有酸基的单体或具有酸基的树脂均不会溶解于水，因此也能够抑制转印薄膜吸湿时的问题。
(在临时支撑体上形成感光性透明树脂层的工序)
转印薄膜的制造方法具有在临时支撑体上形成感光性透明树脂层的工序，形成所述感光性透明树脂层的工序优选为将有机溶剂类树脂组合物涂布于所述临时支撑体上的工序。
-有机溶剂类树脂组合物-
有机溶剂类树脂组合物是指能够溶解于有机溶剂中的树脂组合物。
作为有机溶剂，能够使用通常的有机溶剂。作为有机溶剂的例子，能够举出甲乙酮、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯及己内酰胺等。
在转印薄膜的制造方法中，在感光性透明树脂层的形成中所使用的有机溶剂类树脂组合物优选包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及通过加热而可以与酸进行反应的化合物。
(形成第二透明树脂层的工序)
在转印薄膜的制造方法中，具有在感光性透明树脂层上直接形成第二透明树脂层的工序，形成所述第二透明树脂层的工序优选为涂布包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的水性树脂组合物的工序。
-水性树脂组合物-
水性树脂组合物是指能够溶解于水性溶剂的树脂组合物。
作为水性溶剂，优选为水或者碳原子数为1至3的醇与水的混合溶剂。在转印薄膜的制造方法的优选方式中，在第二透明树脂层的形成中使用的水性树脂组合物的溶剂优选包含水及碳原子数为1～3的醇，更优选包含水/碳原子数为1～3的含醇率以质量比计为90/10～10/90的混合溶剂。水/碳原子数1～3的含醇率以质量比计进一步优选为85/15～20/80，尤其优选80/20～40/60。
优选水、水及甲醇的混合溶剂、水及乙醇的混合溶剂，从干燥及涂布性的观点考虑，更优选水及甲醇的混合溶剂。
尤其，在形成第二透明树脂层时，在使用水及甲醇的混合溶剂的情况下，水/甲醇的质量比(质量％比率)优选为90/10～10/90，更优选为85/15～20/80，进一步优选为80/20～40/60。若甲醇比该水/甲醇的质量比10/90的范围更多，则感光性透明树脂层进行溶解或白浊化，因此不优选。
通过控制为上述范围，不存在与第二透明树脂层的层混合，而能够实现涂布和迅速的干燥。
水性树脂组合物在25℃下的pH(Power of Hydrogen：酸碱度)优选为7.0以上且12.0以下，更优选为7.0～10.0，尤其优选为7.0～8.5。例如，对酸基使用过量的氨，并添加具有酸基的单体或具有酸基的树脂，从而在上述优选范围内能够调整水性树脂组合物的pH。
并且，在转印薄膜的制造方法中，在第二透明树脂层的形成中使用的水性树脂组合物优选为热固性及光固化性中的至少一种。在感光性透明树脂层及第二透明树脂层为这种固化性透明树脂层的情况下，在转印薄膜的制造方法中，在层叠感光性透明树脂层之后，即使不使其固化而层叠第二透明树脂层，层分级也变得良好，由此，能够改善透明电极图案可见性。而且，从所得到的转印薄膜，将折射率调整层(即感光性透明树脂层及第二透明树脂层)转印到透明电极图案上之后，通过光刻而能够以所希望的图案进行显影。
在转印薄膜的制造方法中，在第二透明树脂层的形成中所使用的水性树脂组合物，优选含有具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，并包含粘合剂聚合物、光或热聚合性化合物、光或热聚合引发剂。只有具有酸基的树脂的铵盐可以是粘合剂聚合物，除了具有酸基的树脂的铵盐以外，还可以并用其它粘合剂聚合物。具有酸基的单体的铵盐可以是光或热聚合性化合物，除了具有酸基的单体的铵盐以外，还可以并用光或热聚合性化合物。
＜氨的挥发＞
而且，转印薄膜的制造方法优选包括如下工序：通过使氨从具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐挥发而生成酸基。通过使氨从所述具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐挥发而生成酸基的该工序优选为，加热被涂布的所述水性树脂组合物的工序。
以下，示出加热被涂布的所述水性树脂组合物的工序的详细的条件的优选范围。
作为加热及干燥方法，可以举出在具备加热装置的炉内通过的方法或基于送风的方法。加热及干燥条件只要根据所使用的有机溶剂等适当地设定即可，可以举出加热到40～150℃温度等。这些条件中，优选以50～120℃的温度进行加热，更优选加热到60～100℃的温度。作为加热及干燥后的组合物，优选设为含水率为5质量％以下，更优选设为3质量％以下，进一步优选设为1质量％以下。
＜其它工序＞
也可以包括如下工序：在所述临时支撑体上形成所述感光性透明树脂层之前，还形成热塑性树脂层。
在形成所述热塑性树脂层的工序之后，优选包括在所述热塑性树脂层与所述感光性透明树脂层之间形成中间层的工序。具体而言，在形成具有中间层的感光性材料的情况下，首先，在临时支撑体上涂布将热塑性有机高分子和添加剂进行溶解的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)，并使其干燥而设置热塑性树脂层。之后，在该热塑性树脂层上涂布通过在不溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液(中间层用涂布液)，并使其干燥而层叠中间层。接着，在该中间层上，进而，涂布使用不溶解中间层的溶剂而制备的感光性透明树脂层用涂布液，并使其干燥而层叠感光性透明树脂层，由此能够适宜地制作。
其它透明树脂层的制造方法能够采用在日本特开2006-259138号公报的0094～0098段落中所记载的感光性转印材料的制作方法。
[静电电容型输入装置的电极保护膜]
本发明的静电电容型输入装置的电极保护膜是从本发明的转印薄膜去除临时支撑体的电极保护膜。
在本发明的静电电容型输入装置的电极保护膜中，在静电电容型输入装置的用途中尤其重要的赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异。
后述本发明的层叠体具有本发明的静电电容型输入装置的电极保护膜。
[层叠体]
本发明的层叠体的第1方式为一种层叠体，其具有：基板，包括静电电容型输入装置的电极；及感光性透明树脂层，位于基板上，感光性透明树脂层在基板上从本发明的转印薄膜转印感光性透明树脂层而形成。
本发明的层叠体的第2方式为一种层叠体，其具有：基板，包括静电电容型输入装置的电极；及感光性透明树脂层，形成于基板上，感光性透明树脂层包含(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，并满足下述条件1及下述条件2中的至少一个；
条件1：(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；
条件2：感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
本发明的层叠体的第3方式为一种层叠体，其通过后述本发明的层叠体的制造方法制造而成。
由于具有这些结构，因此本发明的层叠体的赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异。
另外，将本发明的转印薄膜的感光性透明树脂层转印于透明电极图案上，将该层进行光固化之后的膜也称作电极保护膜。本发明的层叠体优选在基板上具有将感光性透明树脂层进行加热处理而成的电极保护膜。
静电电容型输入装置的电极可以是透明电极图案，也可以是卷绕配线。在本发明的层叠体中，静电电容型输入装置的电极优选为电极图案，更优选为透明电极图案。
本发明的层叠体具有包括静电电容型输入装置的电极的基板和形成于该基板上的感光性透明树脂层，优选至少具有基板、透明电极图案及感光性透明树脂层，更优选具有基板和透明电极图案、与该透明电极图案相邻配置的第二透明树脂层、与该第二透明树脂层相邻配置的感光性透明树脂层。
本发明的层叠体具有基板和透明电极图案、与该透明电极图案相邻配置的第二透明树脂层、与该第二透明树脂层相邻配置的感光性透明树脂层，进一步优选所述第二透明树脂层的折射率比所述感光性透明树脂层的折射率高，尤其优选所述第二透明树脂层的折射率为1.6以上。通过设为这种结构，能够解决可看见透明电极图案的问题，图案形成性变得良好。
＜层叠体的结构＞
在本发明的层叠体中，从进一步改善透明电极图案的可见性的观点考虑，优选在所述透明电极图案的与形成有所述第二透明树脂层的一侧相反的一侧，还具有折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜。另外，在本说明书中，在无特别说明而记载为“透明膜”的情况下，是指上述“折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜”。
在本发明的层叠体中，在所述折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜的与形成有所述透明电极图案的一侧相反的一侧，优选还具有透明基板。
图11中示出本发明的层叠体的结构的一例。
图11中，透明层叠体13面内具有依次层叠有透明基板1、折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11，面内还具有第二透明电极图案4、第二透明树脂层12及感光性透明树脂层7的区域21。并且，图11中示出所述层叠体除了上述区域以外，依次层叠有透明基板1、折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11、第二透明树脂层12及感光性透明树脂层的区域22(即，未形成有透明电极图案的非图案区域22)。
换言之，所述带透明电极图案的基板在面内方向包括区域21，该区域21依次层叠有透明基板1、折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11、第二透明电极图案4、第二透明树脂层12及感光性透明树脂层7。
面内方向是指相对于与层叠体的透明基板平行的面大致平行的方向。从而，面内包含依次层叠有第二透明电极图案4、第二透明树脂层12及感光性透明树脂层7的区域是指，在依次层叠有第二透明电极图案4、第二透明树脂层12及感光性性透明树脂层7的区域的、与层叠体的透明基板平行的面上的正投影存在于与层叠体的透明基板平行的面内。
在此，将本发明的层叠体使用于后述静电电容型输入装置的情况下，有时透明电极图案在行方向和列方向大致正交的两个方向上分别作为第一透明电极图案及第二透明电极图案而被设置(例如参考图3)。例如在图3的结构中，本发明的层叠体中的透明电极图案可以是第二透明电极图案4，也可以是第一透明电极图案3的焊盘部分3a。换言之，在以下本发明的层叠体的说明中，有时以“4”为代表而表示透明电极图案的符号，但本发明的层叠体中的透明电极图案并不限定于使用为本发明的静电电容型输入装置中的第二透明电极图案4，例如也可以作为第一透明电极图案3的焊盘部分3a而使用。
本发明的层叠体优选包括未形成有所述透明电极图案的非图案区域。在本说明书中，非图案区域是指未形成有第二透明电极图案4的区域。
图11中示出本发明的层叠体包含非图案区域22的方式。
本发明的层叠体优选在未形成有所述透明电极图案的非图案区域22的至少一部分，在面内包含依次层叠有所述透明基板、所述透明膜及所述第二透明树脂层的区域。
本发明的层叠体优选在依次层叠有所述透明基板、所述透明膜及所述第二透明树脂层的区域中，所述透明膜及所述第二透明树脂层彼此相邻。
然而，在所述非图案区域22的其它区域，只要不违背本发明的主旨，就可以将其它部件配置于任意的位置上，例如在将本发明的层叠体使用于后述静电电容型输入装置的情况下，能够层叠图1A中的掩模层2、绝缘层5及其它导电性要件6等。
在本发明的层叠体中，优选所述透明基板及透明膜彼此相邻。
图11中示出在所述透明基板1上相邻地层叠有所述透明膜11的方式。
然而，只要不违背本发明的主旨，也可以在所述透明基板及所述透明膜之间层叠有第三透明膜。例如优选在所述透明基板及所述透明膜之间包含折射率为1.5～1.52的第三透明膜(图11中未图示)。
在本发明的层叠体中，所述透明膜的厚度优选为55～110nm，更优选为60～110nm，尤其优选为70～90nm。
在此，所述透明膜可以是单层结构，也可以是两层以上的层叠结构。在所述透明膜为两层以上的层叠结构的情况下，所述透明膜的膜厚是指总层的合计膜厚。
在本发明的层叠体中，优选所述透明膜及所述透明电极图案彼此相邻。
图11中示出在所述透明膜11的一部分区域上相邻层叠有所述第二透明电极图案4的方式。
如图11所示，所述第二透明电极图案4的端部的形状并无特别的限制，可以具有锥形形状，例如可以具有所述透明基板侧的一面比与所述透明基板侧相反一侧的一面更宽的锥形形状。
在此，所述透明电极图案的端部呈锥形形状时的透明电极图案的端部的角度(以下也称作锥角)优选为30°以下，更优选为0.1～15°，尤其优选为0.5～5°。
在本说明书中的锥角的测定方法中，拍摄所述透明电极图案端部的显微镜照片，使其显微镜照片的锥形部分近似于三角形，通过直接测定而能够求出锥角。
图10中示出透明电极图案的端部呈锥形形状的情况的一例。图10中的近似于锥形部分的三角形的底面为800nm，高度(与底面大致平行的上底部分的膜厚)为40nm，此时的锥角α约为3°。近似于锥形部分的三角形的底面优选为10～3000nm，更优选为100～1500nm，尤其优选为300～1000nm。
另外，近似于锥形部分的三角形的高度的优选范围与透明电极图案的膜厚的优选范围相同。
本发明的层叠体优选包含所述透明电极图案及所述透明树脂层彼此相邻的区域。
图11中示出如下方式：在依次层叠有所述透明电极图案、所述第二透明树脂层及感光性透明树脂层的区域21中，所述透明电极图案、所述第二透明树脂层及感光性透明树脂层彼此相邻。
并且，在本发明的层叠体中，优选通过所述透明膜及所述第二透明树脂层而连续地直接或经由其它层而包覆所述透明电极图案及未形成有所述透明电极图案的非图案区域22这两者。
在此，“连续”是指所述透明膜及所述第二透明树脂层不是图案膜，而是连续膜。即，从不易看见透明电极图案的观点考虑，优选所述透明膜及所述第二透明树脂层不具有开口部。
并且，所述透明电极图案及所述非图案区域22通过所述透明膜及所述第二透明树脂层而直接被包覆，这比经由其它层而被包覆更优选。作为经由其它层而被包覆的情况的“其它层”，能够举出后述本发明的静电电容型输入装置中所包含的绝缘层5，或者如后述本发明的静电电容型输入装置那样在包括两层以上的透明电极图案的情况下，能够举出第二层的透明电极图案等。
图11中示出层叠有所述第二透明树脂层12的方式。所述第二透明树脂层12横跨所述透明膜11上未层叠有第二透明电极图案4的区域和层叠有第二透明电极图案4的区域上而层叠。即，所述第二透明树脂层12与所述透明膜11相邻，而且，所述第二透明树脂层12也与第二透明电极图案4相邻。
并且，在第二透明电极图案4的端部呈锥形形状的情况下，优选沿锥形形状(以与锥角相同的倾斜度)层叠有所述第二透明树脂层12。
在图11中示出在所述第二透明树脂层12的、与形成有所述透明电极图案的表面相反的一侧的表面上层叠有感光性透明树脂层7的方式。
＜层叠体的材料＞
(基板)
本发明的层叠体具有包括静电电容型输入装置的电极的基板。包括静电电容型输入装置的电极的基板优选为基板和电极分体部件。
所述基板优选为玻璃基板或薄膜基板。并且，基板优选为透明基版。在本发明的层叠体中，基板更优选为透明薄膜基板。
所述基板的折射率为1.5～1.52。
所述基板可以由玻璃基板等透光性基板构成，能够使用以Corning Incorporated的Gorilla玻璃为代表的强化玻璃等。并且，作为所述透明基板，能够优选使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的材料。
在将薄膜基板用作所述基板的情况下，更优选使用无光学应变的薄膜基板、透明度较高的薄膜基板，作为具体的原材料，能够举出聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)或环烯烃聚合物(COP)。
(透明电极图案)
所述透明电极图案的折射率优选为1.75～2.1。
所述透明电极图案的材料并无特别的限制，能够使用公知的材料。例如能够用ITO(氧化铟锡，Indium Tin Oxide)、IZO(氧化铟锌，Indium Zinc Oxide)等透光性导电性金属氧化膜来制作。作为这种金属膜，可以举出ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；SiO2等金属氧化膜等。此时，各要件的膜厚能够设为10～200nm。并且通过烧成将非晶形ITO膜设为多晶ITO膜，从而也能够降低电阻。并且，所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述其它导电性要件6能够利用具有使用了导电性纤维的光固化性树脂层的感光性薄膜来制造。此外，在通过ITO等形成第一导电性图案等的情况下，能够参考日本专利第4506785号说明书的0014～0016段落等。其中，所述透明电极图案优选为ITO膜。
在本发明的层叠体中，尤其优选所述透明电极图案为折射率为1.75～2.1的ITO膜。
(感光性透明树脂层及第二透明树脂层)
本发明的层叠体中所包含的感光性透明树脂层及第二透明树脂层的优选范围，与本发明的转印薄膜中的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层的优选范围相同。
其中，从成为赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜的观点考虑，在本发明的层叠体中，感光性透明树脂层优选包含羧酸酐。对感光性透明树脂层的含羧基树脂添加封端异氰酸酯而进行热交联，由此可推断提高三维交联密度、以及因含羧基树脂的羧基的无水化而进行疏水化等，有助于改善赋予盐水后的耐湿热性。
使感光性透明树脂层含有羧酸酐的方法，并无特别的限制，优选如下方法：将转印后的感光性透明树脂层进行加热处理，从而将含羧基丙烯酸树脂的至少一部分设为羧酸酐。并且，在具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物中的至少一种含有羧基的情况下，含羧基丙烯酸树脂和具有含有羧基的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物可以形成羧酸酐，也可以由具有含有羧基的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物彼此来形成羧酸酐。
(透明膜)
在本发明的层叠体中，所述透明膜的折射率优选为1.6～1.78，更优选为1.65～1.74。在此，所述透明膜可以是单层结构，也可以是两层以上的层叠结构。在所述透明膜为两层以上的层叠结构的情况下，所述透明膜的折射率是指总层的折射率。
只要满足这种折射率的范围，所述透明膜的材料不受特别的限制。
所述透明膜的材料的优选范围和折射率等物理性质的优选范围，与所述第二透明树脂层的其优选范围相同。
在本发明的层叠体中，从光学均质性的观点考虑，优选所述透明膜和所述第二透明树脂层由相同的材料构成。
在本发明的层叠体中，所述透明膜优选为透明树脂膜。
作为使用于透明树脂膜中的金属氧化物粒子、树脂(粘合剂)、其它添加剂，只要不违背本发明的主旨，就无特别的限制，能够优选使用在本发明的转印薄膜中的所述第二透明树脂层中所使用的树脂及其它添加剂。
在本发明的层叠体中，所述透明膜也可以是无机膜。作为使用于无机膜中的材料，能够优选使用使用于本发明的转印薄膜中的所述第二透明树脂层中的材料。
(第三透明膜)
从接近于所述透明基板的折射率且改善透明电极图案的可见性的观点考虑，所述第三透明膜的折射率优选为1.5～1.55，更优选为1.5～1.52。
[层叠体的制造方法]
本发明的层叠体的制造方法包括以下工序：在包括静电电容型输入装置的电极的基板上，从本发明的转印薄膜转印感光性透明树脂层。
层叠体的制造方法优选包括以下工序：在透明电极图案上，依次层叠本发明的转印薄膜的所述第二透明树脂层及所述感光性透明树脂层。
根据这种结构，能够一并转印层叠体的第二透明树脂层及所述感光性透明树脂层，并能够容易且以高生产率制造不存在可看见透明电极图案的问题的层叠体。
另外，所述第二透明树脂层直接或经由其它层而被制膜于所述透明电极图案上，在所述非图案区域中被制膜于所述透明膜上。
(透明基板的表面处理)
并且，为了提高后述转印工序中的基于层压的各层的密合性，能够预先对透明基板(前面板)的非接触面实施表面处理。作为所述表面处理，优选实施使用了硅烷化合物的表面处理(硅烷偶联处理)。作为硅烷偶联剂，优选为具有与感光性树脂相互作用的官能团的硅烷偶联剂。例如将硅烷偶联液(N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、0.3质量％水溶液，商品名称：KBM603、Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)，通过喷淋而喷附20秒钟，进行纯水喷淋清洗。之后，通过加热而使其反应。加热方法可以使用加热槽，通过层压机的基板预热也能够促进反应。
(透明电极图案的制膜)
所述透明电极图案能够利用后述本发明的静电电容型输入装置的说明中的第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6的形成方法等，在透明基板上或者在折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜上进行制膜，优选使用感光性薄膜的方法。
(感光性透明树脂层及第二透明树脂层的制膜)
形成所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层的方法，可以举出具有如下工序的方法：保护膜去除工序，从本发明的转印薄膜去除所述保护膜；转印工序，将去除了所述保护膜的本发明的转印薄膜的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层转印到透明电极图案上；曝光工序，将转印到透明电极图案上的感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层进行曝光；及显影工序，将被曝光的感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层进行显影。
-转印工序-
所述转印工序优选为将去除了所述保护膜的本发明的转印薄膜的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层转印到透明电极图案上的工序。
此时，优选包括如下工序的方法：将本发明的转印薄膜的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层层压于透明电极图案之后，去除基材(临时支撑体)。
所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层对临时支撑体表面的转印(贴合)，是通过将所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层重叠于透明电极图案表面并进行加压、加热而进行的。贴合时能够使用层压机、真空层压机及可进一步提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。
-曝光工序、显影工序、及其它工序-
作为所述曝光工序、显影工序及其它工序的例子，将日本特开2006-23696号公报的0035～0051段落中记载的方法也能够适当地使用于本发明中。
所述曝光工序为将转印到透明电极图案上的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层进行曝光的工序。
具体而言，可以举出如下方法：在形成于所述透明电极图案上的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层的上方配置规定的掩模，之后，经由掩模及临时支撑体，从掩模上方，对所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层进行曝光。
在此，作为所述曝光的光源，只要是能够照射可以固化所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源，则能够适当地选定而使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，通常为5～200mJ/cm2左右，优选为10～100mJ/cm2左右。
所述显影工序是将被曝光的光固化性树脂层进行显影的工序。
在本发明中，所述显影工序是通过显影液将被图案曝光的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层进行图案显影的狭义含义的显影工序。
所述显影能够使用显影液来进行。作为所述显影液并无特别的限制，能够使用在日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。另外，显影液优选为进行光固化性树脂层溶解类型的显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度含有pKa(power of Ka；Ka为酸解离常数)＝7～13的化合物的显影液。在显影液中还可以少量添加具有与水的混和性的有机溶剂。作为具有与水的混和性的有机溶剂，可以举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁基醚、苯甲醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基膦酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。
并且，所述显影液中还能够添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
作为所述显影方式，可以是旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等中的任一种。在此，若对所述喷淋显影进行说明，则通过喷淋对曝光后的所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层喷附显影液而能够去除未固化部分。另外，在设置有热塑性树脂层或中间层的情况下，优选在显影之前通过喷淋等喷附光固化性树脂层的溶解性较低的碱性溶液，去除热塑性树脂层、中间层等。并且，优选在显影之后，通过喷淋而喷附清洗剂等，一边用刷子等进行擦拭，一边去除显影残渣。显影液的液体温度优选为20℃～40℃，并且显影液的pH优选为8～13。
所述层叠体的制造方法可以具有后曝光工序等其它工序。
另外，可以在剥离基材(临时支撑体)之后进行图案化曝光或整面曝光，也可以在剥离临时支撑体之前进行曝光，之后，剥离临时支撑体。可以是经由掩模的曝光，也可以是使用激光等的数字曝光。
-加热工序-
本发明的层叠体的制造方法优选包括对转印后的感光性透明树脂层进行加热处理的工序，从可提高赋予盐水后的耐湿热性的观点考虑，更优选包括以下工序：对转印后的感光性透明树脂层进行加热处理，并将含羧基丙烯酸树脂的至少一部分设为羧酸酐。对转印后的感光性透明树脂层的加热处理优选在曝光、显影后进行，即优选为曝光、显影后的后烘干工序。在所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层为热固性树脂层的情况下，尤其优选进行后烘干工序。并且，从调整ITO等透明电极图案的电阻值的观点考虑，也优选进行后烘干工序。
对转印后的感光性透明树脂层进行加热处理，从而将含羧基丙烯酸树脂的至少一部分设为羧酸酐的工序中的加热温度，在将薄膜基板用作基板的情况下，优选为100～160℃，更优选为140～150℃。
(透明膜的制膜)
本发明的层叠体在所述透明电极图案的与形成有所述第二透明树脂层的一侧相反的一侧还具有折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜的情况下，所述透明膜在所述透明电极图案上直接或经由所述第三透明膜等其它层而进行制膜。
作为所述透明膜的制膜方法并无特别的限制，优选通过转印或溅射而进行制膜。
其中，在本发明的层叠体中，优选所述透明膜通过将形成于临时支撑体上的透明固化性树脂膜转印到所述透明基板上而被制膜，更优选在转印之后进行固化而被制膜。作为转印及固化的方法，能够举出如下方法：使用后述本发明的静电电容型输入装置的说明中的感光性薄膜，以与层叠体的制造方法中的转印所述感光性透明树脂层及所述第二透明树脂层的方法相同的方式进行转印、曝光、显影及其它工序。该情况下，优选通过使所述金属氧化物粒子分散于感光性薄膜中的光固化性树脂层，将所述透明膜的折射率调整为上述范围内。
另一方面，在所述透明膜为无机膜的情况下，优选通过溅射而形成。即，在本发明的层叠体中，所述透明膜也优选通过溅射而形成。
作为溅射方法，能够优选使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的方法。
(第三透明膜的制膜)
所述第三透明膜的制膜方法与在透明基板上制作折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜的方法相同。
层叠体的制造方法优选包括将感光性透明树脂层及第二透明树脂层同时进行固化的工序，更优选包括同时进行图案固化的工序。本发明的转印薄膜优选在层叠了感光性透明树脂层之后，层叠第二透明树脂层，而无需使感光性透明树脂层固化。从如此得到的本发明的转印薄膜被转印的感光性透明树脂层及第二透明树脂层能够同时进行固化。由此，从本发明的转印薄膜将感光性透明树脂层及第二透明树脂层转印到透明电极图案上之后，通过光刻能够以所希望的图案进行显影。
层叠体的制造方法更优选在将感光性透明树脂层及第二透明树脂层同时进行固化的工序之后，包括将感光性透明树脂层及第二透明树脂层的未固化部分(在光固化的情况下，仅为未曝光部分，或者仅为曝光部分)进行显影而去除的工序。
[静电电容型输入装置]
本发明的静电电容型输入装置包含本发明的层叠体。
本发明的静电电容型输入装置优选从本发明的转印薄膜将第二透明树脂层和与所述第二透明树脂层相邻配置的感光性透明树脂层转印到静电电容型输入装置的透明电极图案上而被制作。
本发明的静电电容型输入装置优选将从本发明的转印薄膜进行转印的感光性透明树脂层及第二透明树脂层同时进行固化，更优选将感光性透明树脂层及第二透明树脂层同时进行图案固化。另外，在同时固化从本发明的转印薄膜转印的感光性透明树脂层及第二透明树脂层时，优选从本发明的转印薄膜不剥离保护膜。
本发明的静电电容型输入装置更优选将从本发明的转印薄膜印象转印且进行图案固化的感光性透明树脂层及第二透明树脂层的未固化部分进行显影并去除。另外，在将从本发明的转印薄膜转印的感光性透明树脂层及第二透明树脂层进行固化之后，优选在进行显影之前，从本发明的转印薄膜剥离保护膜。本发明的静电电容型输入装置在卷绕配线的终端部需要与形成于聚酰亚胺薄膜上的柔性配线连接，因此优选未被感光性透明树脂层(及第二透明树脂层)包覆。
图13中示出该方式。图13中示出包含透明电极图案的卷绕配线(其它导电性要件6)和卷绕配线的终端部31的以下结构的静电电容型输入装置。
卷绕配线的终端部31上的感光性透明树脂层(及第二透明树脂层)成为未固化部(未曝光部)，因此通过显影而被去除，露出卷绕配线的终端部31。
图14及图15中示出具体的曝光、显影的方式。图14表示将具有感光性透明树脂层及第二透明树脂层的本发明的转印薄膜30通过层压而层叠于静电电容型输入装置的透明电极图案上，并通过曝光等进行固化之前的状态。在利用光刻的情况下，即，通过曝光进行固化的情况下，通过使用掩模来进行图案曝光及未曝光部的显影而能够得到图15所示形状的感光性透明树脂层和第二透明树脂层的固化部(曝光部)33。具体而言，在图15中，可以得到作为感光性透明树脂层和第二透明树脂层的未固化部而与卷绕配线的终端部对应的开口部34、及具有在静电电容型输入装置的框部轮廓的外侧突出的感光性透明树脂层及第二透明树脂层的本发明的转印薄膜的端部被去除的、用于避免包覆卷绕配线的终端部(引出配线部)的感光性透明树脂层及第二透明树脂层的固化部(所希望的图案)。
由此，能够将在聚酰亚胺薄膜上被制作的柔性配线直接连接于卷绕配线的终端部31，由此，可以将传感器的信号发送到电路。
本发明的静电电容型输入装置优选具有层叠体，该层叠体具有透明电极图案、与该透明电极图案相邻配置的第二透明树脂层、与该第二透明树脂层相邻配置的感光性透明树脂层，所述第二透明树脂层的折射率比所述感光性透明树脂层的折射率高且所述第二透明树脂层的折射率为1.6以上。
以下，对本发明的静电电容型输入装置的优选方式的详细内容进行说明。
本发明的静电电容型输入装置具有前面板(相当于本发明的层叠体中的所述透明基板)和在所述前面板的非接触面侧至少具有下述要件(3)～(5)、(7)及(8)，优选具有本发明的层叠体。
(3)多个第一透明电极图案，由多个焊盘部分经由连接部分在第一方向上延伸形成；
(4)多个第二电极图案，与所述第一透明电极图案电绝缘，并包括在与所述第一方向交叉的方向上延伸形成的多个焊盘部分；
(5)绝缘层，将所述第一透明电极图案与所述第二电极图案进行电绝缘；
(7)第二透明树脂层，以包覆所述要件(3)～(5)的全部或一部分的方式形成；
(8)感光性透明树脂层，以包覆所述要件(7)的方式相邻地形成。
在此，所述(7)第二透明树脂层相当于本发明的层叠体中的所述第二透明树脂层。并且，所述(8)感光性透明树脂层相当于本发明的层叠体中的所述感光性透明树脂层。另外，所述感光性透明树脂层优选为通常公知的静电电容型输入装置中的所谓的透明保护层。
在本发明的静电电容型输入装置中，所述(4)第二电极图案可以是透明电极图案，也可以不是透明电极图案，优选为透明电极图案。
本发明的静电电容型输入装置还可以具有(6)导电性要件，其与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案中的至少一方电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同。
在此，在所述(4)第二电极图案不是透明电极图案且不具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案相当于本发明的层叠体中的透明电极图案。
在所述(4)第二电极图案为透明电极图案且不具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案及所述(4)第二电极图案中的至少一个相当于本发明的层叠体中的透明电极图案。
在所述(4)第二电极图案不是透明电极图案且具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案及所述(6)其它导电性要件中的至少一个相当于本发明的层叠体中的透明电极图案。
在所述(4)第二电极图案为透明电极图案且具有所述(6)其它导电性要件的情况下，所述(3)第一透明电极图案、所述(4)第二电极图案及所述(6)其它导电性要件中的至少一个相当于本发明的层叠体中的透明电极图案。
本发明的静电电容型输入装置优选在所述(3)第一透明电极图案与所述前面板之间、所述(4)第二电极图案与所述前面板之间、或者所述(6)其它导电性要件与所述前面板之间还具有(2)透明膜。在此，从进一步改善透明电极图案的可见性的观点考虑，优选所述(2)透明膜相当于本发明的层叠体中的折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜。
本发明的静电电容型输入装置根据需要优选还具有掩模层和/或装饰层(1)。为了避免从接触侧可看见透明电极图案的卷绕配线，或者为了进行装饰，所述掩模层作为黑色框缘而被设置于用手指或触控笔等所触碰区域的周围。所述装饰层为了作为框缘而进行装饰被设置于用手指或触控笔等所触碰区域的周围，例如优选设置白色装饰层。
所述(1)掩模层和/或装饰层优选存在于所述(2)透明膜与所述前面板之间、所述(3)第一透明电极图案与所述前面板之间、所述(4)第二透明电极图案与所述前面板之间、或者所述(6)其它导电性要件与所述前面板之间。所述(1)掩模层及/或装饰层更优选与所述前面板相邻设置。
本发明的静电电容型输入装置即使在包含这种各种部件的情况下，也通过包含与透明电极图案相邻配置的所述第二透明树脂层和与所述第二透明树脂层相邻配置的所述感光性透明树脂层，能够使透明电极图案不明显，并能够改善透明电极图案的可见性的问题。另外，如上所述，通过设为使用所述折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜和所述第二透明树脂层来夹持透明电极图案的结构，能够进一步改善透明电极图案的可见性的问题。
＜静电电容型输入装置的结构＞
首先，关于本发明的静电电容型输入装置的优选结构，配合构成装置的各部件的制造方法进行说明。图1A是表示本发明的静电电容型输入装置的优选结构的剖视图。图1A中示出静电电容型输入装置10由透明基板(前面板)1、掩模层2、折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、其它导电性要件6、第二透明树脂层12及感光性透明树脂层7构成的方式。
并且，表示后述图3中的X-Y剖面的图1B也同样是表示本发明的静电电容型输入装置的优选结构的剖视图。图1B中示出静电电容型输入装置10由透明基板(前面板)1、折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜11、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、第二透明树脂层12及感光性透明树脂层7构成的方式。
透明基板(前面板)1能够使用作为本发明的层叠体中的透明电极图案的材料而举例的材料。并且，在图1A中，将设置有透明基板1的各要件的一侧称作非接触面侧。在本发明的静电电容型输入装置10中，通过用手指等接触于透明基板1的接触面(与非接触面相反的面)等而进行输入。
并且，在透明基板1的非接触面上设置有掩模层2。掩模层2为在触摸面板前面板的非接触面侧形成的显示区域周围的框缘状图案，是为了避免看见卷绕配线等而形成的。
如图2所示，在本发明的静电电容型输入装置10中，以包覆透明基板1的一部分区域(图2中为输入面以外的区域)的方式设置有掩模层2。另外，在透明基板1上，如图2所示在局部能够设置开口部8。在开口部8能够设置按压式机械开关。
在透明基板1的接触面上形成有：多个第一透明电极图案3，由多个焊盘部分经由连接部分在第一方向上延伸形成；多个第二透明电极图案4，与第一透明电极图案3电绝缘，并包括在与第一方向交叉的方向上延伸形成的多个焊盘部分；绝缘层5，将第一透明电极图案3和第二透明电极图案4进行电绝缘。所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述其它导电性要件6能够使用作为本发明的层叠体中的透明电极图案的材料而举例的材料，优选为ITO膜。
并且，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4中的至少一方能够横跨透明基板1的非接触面及掩模层2的与透明基板1相反一侧的一面这两个区域而设置。图1A中示出第二透明电极图案横跨透明基板1的非接触面及掩模层2的与透明基板1相反一侧的一面这两个区域而设置的图。
如此，在横跨需要一定厚度的掩模层和前面板背面而层压感光性薄膜的情况下，通过使用具有后述特定的层结构的感光性薄膜，即使不使用真空层压机等昂贵的设备，也可以以简单的工序进行在掩模部分边界不产生气泡的层压。
利用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4进行说明。图3是表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示，第一透明电极图案3是通过焊盘部分3a经由连接部分3b在第一方向C上延伸而形成的。并且，第二透明电极图案4通过绝缘层5而与第一透明电极图案3电绝缘，由在与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向D)上延伸形成的多个焊盘部分构成。在此，在形成第一透明电极图案3的情况下，可以将所述焊盘部分3a和连接部分3b制作成一体，也可以仅制作连接部分3b，并将焊盘部分3a和第二透明电极图案4制作(图案化)成一体。在将焊盘部分3a和第二透明电极图案4制作(图案化)成一体的情况下，如图3所示，以连接部分3b的一部分与焊盘部分3a的一部分被连结且第一透明电极图案3与第二透明电极图案4通过绝缘层5被电绝缘的方式形成各层。
并且，图3中的未形成有第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述其它导电性要件6的区域，相当于本发明的层叠体中的非图案区域22。
在图1A中，在掩模层2的与透明基板1相反一侧的一面侧设置有其它导电性要件6。其它导电性要件6与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4中的至少一方电连接，且为与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的要件。
图1A中示出其它导电性要件6连接于第二透明电极图案4的图。
并且，在图1A中，以包覆各构成要件整体的方式设置有感光性透明树脂层7。感光性透明树脂层7也可以以仅包覆各构成要件的一部分的方式构成。绝缘层5和感光性透明树脂层7可以是相同的材料，也可以是不同的材料。作为构成绝缘层5的材料，能够优选使用作为本发明的层叠体中的第一透明树脂层或第二透明树脂层的材料而例举的材料。
＜静电电容型输入装置的制造方法＞
作为在制造本发明的静电电容型输入装置的过程中形成的方式例，能够举出图4～图8的方式。图4是表示形成有开口部8的由强化玻璃构成的透明基板1的一例的俯视图。图5是表示形成有掩模层2的前面板的一例的俯视图。图6是表示形成有第一透明电极图案3的前面板的一例的俯视图。图7是表示形成有第一透明电极图案3和第二透明电极图案4的前面板的一例的俯视图。图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要件6的前面板的一例的俯视图。这些是表示将以下说明进行具体化的例子的图，本发明的范围并不会被这些附图限定地解释。
在静电电容型输入装置的制造方法中，在形成所述第二透明树脂层12及所述感光性透明树脂层7的情况下，能够使用本发明的转印薄膜，通过在任意地形成有各要件的所述透明基板1的表面转印所述第二透明树脂层及所述感光性透明树脂层而能够形成。
在静电电容型输入装置的制造方法中，掩模层2、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5及其它导电性要件6中的至少一个要件，优选使用依次具有临时支撑体和光固化性树脂层的所述感光性薄膜而形成。
若使用本发明的转印薄膜或所述感光性薄膜来形成所述各要件，则在具有开口部的基板(前面板)上也不会从开口部分泄漏抗蚀剂成分，尤其在需要将遮光图案形成至前面板的边界线正上方为止的掩模层上，抗蚀剂成分不会从玻璃端部溢出(泄漏)，因此不会污染前面板背面侧，能够以简单的工序制造薄层化及轻量化的触摸面板。
在使用所述感光性薄膜来形成使用所述掩模层、绝缘层、导电性光固化性树脂层时的第一透明电极图案、第二透明电极图案及导电性要件等永磁材料的情况下，感光性薄膜在层压于基材之后，根据需要，也可以以图案样式进行曝光，在负型材料的情况下，将非曝光部分进行显影处理而去除，在正型材料的情况下，将曝光部分进行显影处理而去除，由此能够获得图案。关于显影，可以分别用不同的显影液将热塑性树脂层和光固化性树脂层进行显影并去除，也可以用相同的显影液进行去除。根据需要，可以将刷子、高压喷射器等公知的显影设备进行组合。在显影之后，根据需要，也可以进行后曝光、后烘干。
(感光性薄膜)
关于在制造本发明的静电电容型输入装置时优选使用的、除了本发明的转印薄膜以外的所述感光性薄膜进行说明。所述感光性薄膜具有临时支撑体和光固化性树脂层，优选在临时支撑体与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。若使用具有所述热塑性树脂层的感光性薄膜来形成掩模层等，则在将光固化性树脂层进行转印而形成的要件中不易产生气泡。其结果，在图像显示装置中不易产生图像不均等，能够获得优异的显示特性。
所述感光性薄膜可以是正型材料，也可以是负型材料。
-光固化性树脂层以外的层、制作方法-
作为所述感光性薄膜中的所述临时支撑体和所述热塑性树脂层，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的临时支撑体和热塑性树脂层。并且，作为所述感光性薄膜的制作方法，也能够使用与转印薄膜的制造方法相同的方法。
-光固化性树脂层-
所述感光性薄膜可以根据其用途将添加物添加于光固化性树脂层。即，在形成掩模层时使用所述感光性薄膜的情况下，使光固化性树脂层中含有着色剂。并且，在所述感光性薄膜具有导电性光固化性树脂层的情况下，所述光固化性树脂层中含有导电性纤维等。
在所述感光性薄膜为负型材料的情况下，优选光固化性树脂层含有碱溶性树脂、聚合性化合物或聚合引发剂。还可以使用导电性纤维、着色剂及其它添加剂等，但并不限定于此。
--碱溶性树脂、聚合性化合物及聚合引发剂--
作为所述感光性薄膜中所包含的碱溶性树脂、聚合性化合物或聚合引发剂，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的碱溶性树脂、聚合性化合物或聚合引发剂。
--导电性纤维(用作导电性光固化性树脂层的情况)--
将层叠有所述导电性光固化性树脂层的所述感光性薄膜，在形成透明电极图案或其它导电性要件时进行使用的情况下，能够将以下导电性纤维等使用于光固化性树脂层中。
作为导电性纤维的结构并无特别的限制，根据目的，能够适当地进行选择，优选实心结构及中空结构中的任意结构。
在此，有时将实心结构的纤维称作“线”，将中空结构的纤维称作“管”。并且，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm且平均长轴长度为1μm～100μm的导电性纤维称作“纳米线”。
并且，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm、平均长轴长度为0.1μm～1,000μm且具有中空结构的导电性纤维称作“纳米管”。
作为所述导电性纤维的材料，只要具有导电性就无特别的限制，根据目的，能够适当地进行选择，优选金属及碳中的至少任一种，其中，所述导电性纤维尤其优选金属纳米线、金属纳米管及碳纳米管中的至少任一种。
作为所述金属纳米线的材料并无特别的限制，例如优选选自包括长周期表(TheInternational Union of Pure and Applied Chemistry(IUPAC)1991)的第4周期、第5周期及第6周期的组的至少一种金属，更优选选自第2族～第14族的至少一种金属，进一步优选选自包括第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族及第14族的组的至少一种金属，尤其优选作为主要成分而包含。
作为所述金属可以举出例如铜、银、金、铂金、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅及它们的合金等。其中，从导电性优异的方面考虑，优选主要含有银，或者优选含有银和银以外金属的合金。
主要含有所述银是指在金属纳米线中含有银50质量％以上，优选含有90质量％以上。
作为以与所述银的合金而使用的金属，可以举出铂金、锇、钯及铱等。这些可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
所述金属纳米线的形状并无特别的限制，根据目的，能够适当地进行选择。例如能够采用圆柱状、长方体状、剖面呈多边形的柱状等任意的形状，在需要高透明性的用途中，优选为圆柱状、剖面的多边形的角呈圆角的剖面形状。
在基材上涂布金属纳米线水分散液，并通过透射电子显微镜(TransmissionElectron Microscope；TEM)来观察剖面，从而能够检查所述金属纳米线的剖面形状。
所述金属纳米线的剖面的角是指，将剖面的各个边进行延长，与从相邻的边下垂的垂线相交的点的周边部。并且，“剖面的各个边”是指连结这些相邻的角和角的直线。该情况下，将相对于所述“剖面的各个边”的合计长度的所述“剖面的外周长度”的比率设为锐度。例如，如图9所示的金属纳米线剖面中，锐度能够由用实线表示的剖面的外周长度与用虚线表示的五边形的外周长度的比例来表示。该锐度为75％以下的剖面形状定义为圆角的剖面形状。所述锐度优选为60％以下，更优选为50％以下。若所述锐度超过75％，则该角部局部存在电子，且等离子吸收增加，或者因残留黄色等透明性会变差。并且，图案的边缘部的线性降低，会产生波动。所述锐度的下限优选为30％，更优选为40％。
作为所述金属纳米线的平均短轴长度(有时称作“平均短轴直径”、“平均直径”)，优选为150nm以下，更优选为1nm～40nm，进一步优选为10nm～40nm，尤其优选为15nm～35nm。
若所述平均短轴长度小于1nm，则抗氧化性变差，有可能耐久性变差，若超过150nm，则产生由金属纳米线引起的散射，无法获得充分的透明性。
关于所述金属纳米线的平均短轴长度，利用透射电子显微镜(TEM；JEOL Ltd.制造，JEM-2000FX)观察300个金属纳米线，由其平均值求出金属纳米线的平均短轴长度。
另外，关于所述金属纳米线的短轴为在非圆形情况下的短轴长度，将最短的作为短轴长度。
作为所述金属纳米线的平均长轴长度(有时称作“平均直径”)，优选为1μm～40μm，更优选为3μm～35μm，进一步优选为5μm～30μm。
若所述平均长轴长度小于1μm，则不易形成稠密的网络，有时无法获得充分的导电性，若超过40μm，则因金属纳米线过长而制造时缠结，有时在制造过程中会生成凝聚物。
关于所述金属纳米线的平均长轴长度，例如使用透射电子显微镜(TEM；JEOL Ltd.制造，JEM-2000FX)观察300个金属纳米线，由其平均值求出金属纳米线的平均长轴长度。另外，在所述金属纳米线弯曲的情况下，将其考虑为呈弧形的圆，将由其半径及曲率算出的值作为长轴长度。
从涂布液的稳定性、涂布时的干燥、形成图案时的显影时间等工艺适性的观点考虑，导电性光固化性树脂层的层厚优选为0.1～20μm，更优选为0.5～18μm，进一步优选为1～15μm。
从导电性和涂布液的稳定性的观点考虑，相对于所述导电性光固化性树脂层的总固体成分，所述导电性纤维的含量优选为0.01～50质量％，进一步优选为0.05～30质量％，尤其优选为0.1～20质量％。
--着色剂(用作掩模层的情况)--
并且，在将所述感光性薄膜用作掩模层的情况下，能够将着色剂使用于光固化性树脂层中。作为本发明中所使用的着色剂，能够适宜地使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。另外，在本发明中，除了黑色着色剂以外，还能够使用红色、蓝色、绿色等颜料的混合物等。
将所述光固化性树脂层用作黑色掩模层的情况下，从光学浓度的观点考虑，优选含有黑色着色剂。作为黑色着色剂，可以举出例如炭黑、钛黑、氧化铁、氧化钛、黑铅等，其中，优选炭黑。
将所述光固化性树脂层用作白色掩模层的情况下，能够使用日本特开2005-7765号公报的0015或0114段落中所记载的白色颜料。为了用作其它颜色的掩模层，也可以混合日本专利第4546276号说明书的0183～0185段落等中所记载的颜料或染料而使用。而且，能够适宜地使用日本特开2005-17716号公报的0038～0054段落中所记载的颜料及染料、日本特开2004-361447号公报的0068～0072段落中所记载的颜料、日本特开2005-17521号公报的0080～0088段落中所记载的着色剂等。
所述着色剂(优选为颜料，更优选为炭黑)优选作为分散液而使用。该分散液通过将预先混合所述着色剂和颜料分散剂而得到的组合物添加到后述有机溶剂(或媒介物)中使其分散而能够制备。所述媒介物是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质部分，包含呈液态且与所述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)和将其进行溶解稀释的成分(有机溶剂)。
使所述颜料分散时所使用的分散机并无特别的限制，可以举出例如在朝仓邦造著、“颜料辞典”、第一版、朝仓书店、2000年、438页中记载的捏合机、辊磨机、磨碎机、超级研磨机、溶解器、均质混合器、砂磨机及珠磨机等公知的分散机。
另外，通过该文献310页所记载的机械磨碎，可以利用摩擦力进行微粉碎。
从分散稳定性的观点考虑，所述着色剂优选为数均粒径为0.001μm～0.1μm的着色剂，进一步优选为0.01μm～0.08μm的着色剂。另外，在此所谓“粒径”是指将粒子的电子显微镜照片图像设为相同面积的圆时的直径，并且“数均粒径”是指求出多个粒子的所述粒径，其中，任意选择的100个粒径的平均值。
从与其它层的厚度差的观点考虑，包含着色剂的光固化性树脂层的层厚优选为0.5～10μm，进一步优选为0.8～5μm，尤其优选为1～3μm。所述着色感光性树脂组合物的固体成分中的着色剂的含有率并无特别的限制，从充分地缩短显影时间的观点考虑，优选为15～70质量％，更优选为20～60质量％，进一步优选为25～50质量％。
在本说明书中所说的总固体成分是指从着色感光性树脂组合物中去除溶剂等的不挥发成分的总质量。
另外，在使用所述感光性薄膜而形成绝缘层的情况下，从维持绝缘性的观点考虑，光固化性树脂层的层厚优选为0.1～5μm，进一步优选为0.3～3μm，尤其优选为0.5～2μm。
--其它添加剂--
而且，上述光固化性树脂层也可以使用其它添加剂。作为所述添加剂，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的添加剂。
并且，作为通过涂布而制造所述感光性薄膜时的溶剂，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的溶剂。
以上，以所述感光性薄膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但所述感光性薄膜也可以是正型材料。在所述感光性薄膜为正型材料的情况下，光固化性树脂层中可以使用例如在日本特开2005-221726号公报中所记载的材料等，但并不限定于此。
(基于感光性薄膜的掩模层、绝缘层的形成)
使用所述感光性薄膜，将光固化性树脂层转印到透明基板1等，从而能够形成所述掩模层2及绝缘层5。例如在形成黑色掩模层2的情况下，能够使用具有黑色光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的所述感光性薄膜，通过将所述黑色光固化性树脂层转印到所述透明基板1的表面而形成。在形成绝缘层5的情况下，能够使用具有绝缘性光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的所述感光性薄膜，通过将所述光固化性树脂层转印到形成有第一透明电极图案的所述透明基板1的表面而形成。
而且，在形成需要遮光性的掩模层2时，使用具有在光固化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层结构的所述感光性薄膜，从而防止在感光性薄膜层压时产生气泡，并能够形成无漏光的高品质的掩模层2等。
(基于感光性薄膜的第一透明电极图案及第二透明电极图案、其它导电性要件的形成)
所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6能够利用蚀刻处理或具有导电性光固化性树脂层的所述感光性薄膜，或者将感光性薄膜作为剥离材料进行使用而形成。
-蚀刻处理-
在通过蚀刻处理而形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6的情况下，首先，在形成有掩模层2等的透明基板1的非接触面上，通过溅射而形成ITO等透明电极层。接着，在所述透明电极层上，使用具有蚀刻用光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的所述感光性薄膜，通过曝光/显影而形成蚀刻图案。之后，对透明电极层进行蚀刻而将透明电极图案化，并去除蚀刻图案，由此能够形成第一透明电极图案3等。
在将所述感光性薄膜用作蚀刻抗蚀剂(蚀刻图案)的情况下，也能够以与所述方法相同的方式获得抗蚀剂图案。至于所述蚀刻，通过在日本特开2010-152155公报的0048～0054段落等中所记载的公知的方法而能够适用蚀刻、抗蚀剂剥离。
例如，作为蚀刻方法可以举出通常进行的、浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。至于湿式蚀刻中所使用的蚀刻液，配合蚀刻对象而适当地选择酸性类型的蚀刻液或碱性类型的蚀刻液即可。作为酸性类型的蚀刻液，可以例示出盐酸、硫酸、氟酸、磷酸等单独酸性成分的水溶液，酸性成分和三氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分可以使用组合多个酸性成分的酸性成分。并且，作为碱性类型的蚀刻液，可以例示出氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵之类的有机胺的盐等单独碱性成分的水溶液，碱性成分和高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱性成分可以使用组合多种碱性成分的碱性成分。
蚀刻液的温度并无特别限定，优选45℃以下。在本发明中作为蚀刻掩模(蚀刻图案)而使用的树脂图案是通过使用上述光固化性树脂层而形成的，因此对这种温度区域中的酸性及碱性的蚀刻液发挥尤其优异的耐性。从而，防止在蚀刻工序中树脂图案被剥离，不存在树脂图案的部分被选择性地蚀刻。
在所述蚀刻之后，为了防止生产线的污染，根据需要，也可以进行清洗工序/干燥工序。关于清洗工序，例如在常温下通过纯水经10～300秒钟清洗临时支撑体，关于干燥工序，使用鼓风来适当地调整鼓风压(0.1～5kg/cm2左右)而进行即可。
接着，作为树脂图案的剥离方法并无特别限定，例如可以举出在30～80℃，优选在50～80℃下将临时支撑体经5～30分钟浸渍于搅拌中的剥离液的方法。在本发明中，作为蚀刻掩模而使用的树脂图案，如上所述，在45℃以下显示出优异的耐化学性，若药液温度成为50℃以上，则显示出通过碱性剥离液而溶胀的性质。根据这种性质，若使用50～80℃的剥离液进行剥离工序，则具有工序时间缩短且树脂图案的剥离残渣减少的优点。即，通过在所述蚀刻工序与剥离工序之间设置药液温度差，在本发明中作为蚀刻掩模而使用的树脂图案在蚀刻工序中发挥良好的耐化学性，另一方面，在剥离工序中显示出良好的剥离性，能够均满足耐化学性和剥离性这两种相反的特性。
作为剥离液，可以举出例如将氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱性成分、叔胺、季铵盐等有机碱性成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合溶液中的剥离液。也可以使用所述剥离液，并通过喷雾法、喷淋法、旋覆浸没式法等进行剥离。
-具有导电性光固化性树脂层的感光性薄膜-
使用具有导电性光固化性树脂层的所述感光性薄膜而形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6的情况下，能够通过将所述导电性光固化性树脂层转印到所述透明基板1的表面而形成。
若使用具有所述导电性光固化性树脂层的感光性薄膜来形成所述第一透明电极图案3等，则在具有开口部的基板(前面板)上，也不会从开口部分泄漏抗蚀剂成分，且不会污染基板背面侧，而能够以简单的工序制造具有薄层/轻量化的优点的触摸面板。
而且，在形成第一透明电极图案3等时，使用具有在导电性光固化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层结构的所述感光性薄膜，由此防止在感光性薄膜层压时产生气泡，并能够形成导电性优异且电阻小的第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其它导电性要件6。
-感光性薄膜作为剥离材料的使用-
并且，也能够将所述感光性薄膜用作剥离材料而形成第一透明电极图案、第二透明电极图案及其它导电性要件。
该情况下，在使用所述感光性薄膜而进行图案化之后，且在临时支撑体整面形成透明导电层之后，对所堆积的每一个透明导电层进行所述光固化性树脂层的溶解和去除，从而能够获得所希望的透明导电层图案(剥离法)。
＜图像显示装置＞
本发明的静电电容型输入装置及将该静电电容型输入装置作为构成要件而具备的图像显示装置，能够适用“最新触摸面板或技术”(2009年7月6日发行，Techno TimesCo.,Ltd.)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术和开发”、CMC出版(2004，12)、FPDInternational 2009Forum T-11讲座教材、Cypress Semiconductor Corporation应用笔记AN2292等中所公开的结构。
实施例
以下，例举实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例中示出的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨就能够适当地进行变更。从而，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，若无特别说明，“份”、“％”为质量基准。
[实施例1～20及比较例1～5]
[1.涂布液的制备]
＜感光性透明树脂层用涂布液的制备＞
以成为以下表1及表2所示的组成的方式，制备出作为感光性透明树脂层用涂布液的材料A-1～A-20。
以下，对材料A-1～A-20中所使用的化合物的详细内容进行说明。
＜封端异氰酸酯的制备＞
化合物A通过下述合成例1的方法而合成。
-合成例1-
将安装有搅拌机、温度计、回流冷凝器、氮气吹管、滴漏斗的4颈烧瓶内部设为氮环境气体。接着，在烧瓶中装入HDI(六亚甲基二异氰酸酯)600份，在搅拌的情况下，将反应器内温度保持为70℃。接着，作为异氰脲酸酯化催化剂而添加四甲基铵辛酸酯，在产率成为40％的时刻添加磷酸而使反应停止。在过滤反应液之后，使用薄膜蒸发器来去除未反应的HDI而得到了聚异氰酸酯。所得到的聚异氰酸酯的去除溶剂的状态下在25℃下的粘度为30,000mPa·s，异氰酸酯基浓度为23.0％，数均分子量为670，异氰酸酯基平均数为3.3，未反应HDI浓度为0.2质量％。聚异氰酸酯在25℃下的粘度的测定方法将进行后述。
使用与上述相同的装置，在氮环境气体下，装入所得到的聚异氰酸酯100份、二丙二醇单甲醚50份，在50℃下混合至成为均匀的溶液。之后，在添加52.7份甲氧基聚乙二醇(数均分子量680、树脂组分羟值82mgKOH/g)之后，升温至120℃，并保持了2小时。之后，将反应液设为70℃之后添加了40.2份甲乙酮肟。1小时之后，通过反应液的红外光谱的测定而确认未吸收异氰酸酯基的情况，得到含有作为在分子内具有亲水性基团的水性封端异氰酸酯的化合物A的溶液。该溶液的树脂组分浓度为20质量％。
除了变更下述表3中示出的组成、合成溶剂以外，以与合成例1相同的方式进行操作，得到在分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯即化合物B、化合物C及化合物D、以及在分子内不具有亲水性基团的封端异氰酸酯即化合物E及化合物F的封端异氰酸酯。
-封端异氰酸酯的初始Tg的测定-
在钢板上，将包含封端异氰酸酯的溶液以树脂膜厚成为30μm的方式用涂敷器进行涂装之后，在60℃下保持了2小时。以A&D Company,Limited的商品名称为RHEOVIBRON的振子型式RPT-3000W、边缘：刃形边缘RBE-160、升温速度10℃/min，对被涂装而得到的层测定了吸热峰。将从所测定的吸热峰的低温侧的累计面积成为1％的时刻的温度设为初始Tg。
测定化合物A的初始Tg的结果为-20～0℃。各实施例及比较例中所使用的封端异氰酸酯的初始Tg也以相同的方法测定。将所得到的结果记载于下述表3中。
-封端异氰酸酯的解离温度的测定-
各实施例及比较例中所使用的封端异氰酸酯的解离温度，在由差示扫描量热仪(Seiko Instruments Inc.制造，DSC6200)通过DSC分析而测定的情况下，设为伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度。将所得到的结果记载于下述表3中。
-封端异氰酸酯等通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度的测定-
通过以下方法测定了各实施例及比较例中所使用的封端异氰酸酯等通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度。
使用E型粘度计RE-85U(TOKI SANGYO CO.,LTD.制造)，测定了实施例及比较例的封端异氰酸酯等通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度。
将所得到的结果记载于下述表3中。
[化学式4]
[化学式5]
[化学式6]
＜第二透明树脂层用的涂布液的制备＞
接着，以成为如下表4的组成的方式，制备出作为第二透明树脂层用涂布液的材料B-1及B-2。
[表4]
[2.转印薄膜的制作]
在作为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的膜厚为16μm的临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，以干燥后的感光性透明树脂层的膜厚成为表6中所记载的膜厚的方式，一边调整涂布量，一边涂布感光性透明树脂层用材料A-1～A-15中的任一种，形成了感光性透明树脂层。使溶剂在120℃的干燥区挥发之后，使用狭缝状喷嘴，以材料B-1及B-2中的任一种干燥后的膜厚成为0.1μm的膜厚的方式，一边调整涂布量，一边进行涂布并使其干燥，形成了第二透明树脂层。
[3.在层叠体制作中使用的透明电极图案薄膜的制作]
＜透明膜的形成＞
使用高频振荡器，对膜厚为38μm、折射率为1.53的环烯烃树脂薄膜进行3秒钟的电晕放电处理，并进行了表面改性。另外，电晕放电处理是在输出电压100％、功率250W、直径为1.2mm的金属线电极、电极长度240mm、工作电极间隔1.5mm的条件下进行的。将所得到的薄膜设为透明薄膜基板。
接着，使用狭缝状喷嘴，将下述表5中示出的材料-C的材料涂布于透明薄膜基板上之后进行紫外线照射(累计光量300mJ/cm2)，并以约110℃进行了干燥，制作出折射率为1.60、膜厚为80nm的透明膜。
[表5]
另外，说明书中的“wt％”与“质量％”的含义相同。
式(3)
[化学式7]
＜透明电极图案的形成＞
将上述所得到的透明薄膜基板上层叠有透明膜的薄膜导入到真空腔室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟:锡＝95:5(摩尔比))进行DC磁控溅射(条件：透明薄膜基板的温度为150℃、氩气压力为0.13Pa、氧气压力为0.01Pa)，从而形成厚度为40nm、折射率为1.82的ITO薄膜，得到在透明薄膜基板上形成有透明膜和透明电极层的薄膜。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□(Ω每平方面积)。
(蚀刻用感光性薄膜E1的制备)
在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴涂布由下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂布液并使其干燥。接着，涂布由下述配方P1构成的中间层用涂布液并使其干燥。进而，涂布由下述配方E1构成的蚀刻用光固化性树脂层用涂布液并使其干燥。如此，在临时支撑体上得到由干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层及膜厚为2.0μm的蚀刻用光固化性树脂层构成的层叠体，最后，压接了保护膜(厚度为12μm的聚丙烯薄膜)。如此制作出临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)及透明固化性树脂层成为一体的转印材料。
-蚀刻用光固化性树脂层用涂布液：配方E1-
·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物
(共聚物组成(质量％)：31/40/29、重均分子量60000、
酸值163mgKOH/g)：16质量份
·单体1(商品名称：BPE-500、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)：5.6质量份
·六亚甲基二异氰酸酯的四氧化乙烯单甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物：7质量份
·作为分子中具有一个聚合性基团的化合物的环己烷二甲醇单丙烯酸酯：2.8质量份
·2-氯-N-丁基吖啶酮：0.42质量份
·2,2-双(邻氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑：2.17质量份
·孔雀绿草酸盐：0.02质量份
·无色结晶紫：0.26质量份
·吩噻嗪：0.013质量份
·表面活性剂(商品名称：MEGAFAC F-780F、DIC Corporation制造)：0.03质量份
·甲乙酮：40质量份
·1-甲氧基-2-丙醇：20质量份
另外，蚀刻用光固化性树脂层用涂布液E1的去除溶剂后的100℃的粘度为2500Pa·sec。
-热塑性树脂层用涂布液：配方H1-
·甲醇：11.1质量份
·丙二醇单甲醚乙酸酯：6.36质量份
·甲乙酮：52.4质量份
·甲基丙烯酸甲酯/2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8，分子量＝10万，Glass TransitionTemperature(玻璃化转变温度)(Tg)≈70℃)：5.83质量份
·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)＝63/37，重均分子量＝1万，Tg≈100℃)：13.6质量份
·单体1(商品名称：BPE-500，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)：9.1质量份
·氟类聚合物：0.54质量份
上述氟类聚合物为C6F13CH2CH2OCOCH＝CH2 40份、H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH＝CH2 55份及H(OCH2CH2)7OCOCH＝CH2 5份的共聚物，重均分子量为3万，甲乙酮30质量％的溶液(商品名称：MEGAFAC F780F，DIC Corporation制造)
-中间层用涂布液：配方P1-
·聚乙烯醇：32.2质量份
(商品名称：PVA205，KURARAY CO.,LTD制造，皂化度＝88％，聚合度550)
·聚乙烯吡咯烷酮：14.9质量份
(商品名称：K-30、ISP Japan Ltd.制造)
·蒸馏水：524质量份
·甲醇：429质量份
(透明电极图案的形成)
将在透明薄膜基板上形成有透明膜和透明电极层的薄膜进行清洗，并层压了去除了保护膜的蚀刻用感光性薄膜E1(透明薄膜基板的温度：130℃、橡胶辊温度120℃、线压100N/cm、输送速度2.2m/分钟)。在剥离临时支撑体之后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与该蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为200μm，以曝光量50mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。
接着，将三乙醇胺类显影液(用纯水将含有三乙醇胺30质量％的商品名称：T-PD2(FUJIFILM Corporation制造)稀释成10倍的溶液)在25℃下进行100秒钟的处理，并使用含有表面活性剂的清洗液(用纯水将商品名称：T-SD3(FUJIFILM Corporation制造)稀释成10倍的溶液)在33℃下进行了20秒钟的处理，用旋转刷及超高压清洗喷嘴进行了去除残渣。进而，在130℃下进行了30分钟的后烘干处理，从而得到在透明薄膜基板上形成有透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的薄膜。
将在透明薄膜基板上形成有透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的薄膜浸渍于加入了ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液、液温30℃)的蚀刻槽中进行了100秒钟的处理。通过该处理而溶解去除未被蚀刻用光固化性树脂层包覆的露出区域的透明电极层，得到带有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极图案的薄膜。
接着，将带有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极图案的薄膜浸渍于加入了抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名称：SURFYNOL465、AirProducts and Chemicals,Inc.制造)、液温45℃)的抗蚀剂剥离槽中进行了200秒钟的处理。通过该处理而去除蚀刻用光固化性树脂层，得到在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明电极图案(静电电容型输入装置的电极)的薄膜。
[4.各实施例及比较例的层叠体的制作]
使用剥离出保护膜的各实施例及比较例的转印薄膜，以第二透明树脂层包覆在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明电极图案的薄膜(包括静电电容型输入装置的电极的基板)的透明膜和透明电极图案(静电电容型输入装置的电极)的方式，依次转印了第二透明树脂层、感光性透明树脂层及临时支撑体(透明薄膜基板的温度：40℃、橡胶辊温度110℃、线压3N/cm、输送速度2m/分钟)。
之后，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(Hitachi High-Tech ElectronicsEngineering Co.,Ltd.制造)，将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支撑体之间的距离设定为125μm，并以曝光量100mJ/cm2(i射线)经由临时支撑体进行了图案曝光。曝光之后，剥离出临时支撑体，使用纯碱2％水溶液，在32℃下进行了60秒钟的显影处理。通过从超高压清洗喷嘴对显影处理后的透明薄膜基板喷射超纯水而去除了残渣。接着，喷吹空气而去除透明薄膜基板上的水分，在145℃下进行30分钟的加热(后烘干)处理，从而制作出在透明薄膜基板上依次连接有透明膜、透明电极图案(静电电容型输入装置的电极)、第二透明树脂层及感光性透明树脂层的层叠体。
[转印薄膜的评价]
＜赋予盐水后的耐湿热性的评价＞
使用剥离出保护膜的各实施例及比较例的转印薄膜，在层叠有铜箔(静电电容型输入装置的电极的代用)的PET薄膜(GEOMATEC Co.,Ltd.制造)上，以与转印到在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明电极图案的薄膜的方法相同的方法，转印第二透明树脂层及感光性透明树脂层，得到实施了后处理(临时支撑体的剥离、显影、后烘干等)的试样。
在试样的感光性透明树脂层的膜面上，滴入5cm3的浓度为50g/L的盐水，并均均地扩展成50cm2之后，在常温下使水分挥发，在高温高湿下(85℃、相对湿度85％)经过了72小时。之后，擦拭盐水而观察试样的表面状态，按照以下评分进行了评价。
A或B是实际应用上所需等级，A为优选。评价结果记载于下述表6中。
A：在铜、第二透明树脂层表面及感光性透明树脂层表面均完全没有变化
B：在第二透明树脂层表面或感光性透明树脂层表面可看见一些痕迹，但铜无变化。
C：铜变色。
[层叠体的评价]
＜显影残渣的评价＞
将各实施例及比较例的转印薄膜转印到在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明电极图案的薄膜(包括静电电容型输入装置的电极的基板)上之后，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co.,Ltd.制造)，将曝光掩模(具有外涂形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支撑体之间的距离设定为125μm，并经由临时支撑体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。曝光之后，剥离出临时支撑体，并使用纯碱2％水溶液在32℃下进行了40秒钟的显影处理。之后，用光学显微镜对未曝光部进行了观察。任意的实施例及比较例在未曝光部上均无法确认显影残渣。
为了评价对显影条件的曝光宽容度，设为显影艰难的条件，即将显影温度设为30℃，进行了显影残渣评价(强制条件)。
从标准的显影条件，即使将显影条件设为艰难的情况下，也希望在未曝光部存在未发现显影残渣的区域，A、B为实际应用上所需等级，优选为A。将评价结果记载于下述表6中。
《评价基准》
A：通过显微镜在未曝光部也无法确认显影残渣。
B：通过目测在未曝光部上无法确认显影残渣，但能够通过显微镜来确认小于1个/m2的残渣。
C：通过目测在未曝光部上无法确认显影残渣，但通过显微镜能够确认1个/m2以上的残渣。
D：在未曝光部上存在未显影的部分，通过目测能够确认较多的显影残渣。
＜透明电极图案隐蔽性的评价＞
使在透明薄膜基板上依次层叠有透明膜、透明电极图案、第二透明树脂层及感光性透明树脂层的层叠体，经由透明粘接胶带(3M Company制造，商品名称，OCA胶带8171CL)而与黑色PET材粘接，对基板整体进行了遮光。
在暗室中，使用荧光灯(光源)，从所制作出的基板的透明薄膜基板面侧入射光，从倾斜方向目测观察来自透明薄膜基板表面的发射光，从而对透明电极图案隐蔽性进行了评价。优选为A、B或C，更优选为A或B，尤其优选为A。将评价结果记载于下述表6中。
《评价基准》
A：完全看不见透明电极图案。
B：稍微看见透明电极图案，但几乎看不见。
C：看见透明电极图案(不易理解)。
D：看见透明电极图案，在实际应用上能够容许。
E：清楚地看见透明电极图案(容易理解)。
[表6]
由上述表6可知，本发明的转印薄膜能够形成赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异的静电电容型输入装置的电极保护膜。
另一方面，在未添加有在分子内具有亲水性基团的(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物或具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物的比较例2～5中可知，可看见显影残渣，在外观上存在问题。并且，未添加有封端异氰酸酯或环氧化合物等(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物的比较例1中，虽然显影残渣良好，但是赋予盐水后的耐湿热性差。
并且，在实施例1～15及18～20的第二透明树脂层中添加了ZrO2粒子的结构中可知，第二透明树脂层的折射率成为1.65，能够形成透明电极图案隠蔽性优异的静电电容型输入装置的电极保护膜。
而且，通过以下方法而测定了各实施例及比较例的层叠体的感光性透明树脂层或第二透明树脂层的金属氧化物粒子的含量。
在对层叠体的剖面进行切削之后，用TEM(透射电子显微镜)来观察剖面。在层内的任意的3个部位测定在层叠体的感光性透明树脂层或第二透明树脂层的膜剖面积中的、金属氧化物粒子所占面积的比例，将其平均值视为体积分数(VR)。
体积分数(VR)和重量分数(WR)通过由下述式进行换算而算出层叠体的感光性透明树脂层或第二透明树脂层内的金属氧化物粒子的重量分数(WR)。
WR＝D*VR/(1.1*(1-VR)+D*VR)
D：金属氧化物粒子的比重
在金属氧化物粒子为氧化钛的情况下设为D＝4.0，在氧化锆的情况下设为D＝6.0而能够计算。
另外，各实施例及比较例的层叠体的感光性透明树脂层或第二透明树脂层的金属氧化物粒子的含量，也能够由感光性透明树脂层或第二透明树脂层的组成算出。层叠体的感光性透明树脂层或第二透明树脂层的金属氧化物粒子的含量与由感光性透明树脂层或第二透明树脂层的组成算出的含量相同。
[图像显示装置(触摸面板)的制作]
在通过日本特开2009-47936号公报的＜0097＞～＜0119＞中所记载的方法制造的液晶显示元件上，贴合预先制造的各实施例的层叠体，进而，贴合前面玻璃板，由此，通过公知的方法制作出包含具备静电电容型输入装置作为构成要件的各实施例的层叠体的图像显示装置。
＜静电电容型输入装置及图像显示装置的评价＞
在实施例1～20的包含层叠体的静电电容型输入装置及图像显示装置中，赋予盐水后的耐湿热性和显影残渣均优异。
在实施例1～15及18～20的包含层叠体的静电电容型输入装置及图像显示装置中，不存在可视认透明电极图案的问题。
关于各实施例的包含层叠体的图像显示装置，可得到在感光性透明树脂层、第二透明树脂层上也不存在气泡等缺陷且显示特性优异的图像显示装置。
符号说明
1-透明基板(前面板)，2-掩模层，3-透明电极图案(第一透明电极图案)，3a-焊盘部分，3b-连接部分，4-透明电极图案(第二透明电极图案)，5-绝缘层，6-其它导电性要件，7-感光性透明树脂层(优选具有透明保护层的功能)，8-开口部，10-静电电容型输入装置，11-透明膜，12-第二透明树脂层(可以具有透明绝缘层的功能)，13-层叠体，21-依次层叠有透明电极图案、第二透明树脂层及感光性透明树脂层的区域，22-非图案区域，α-锥角，26-临时支撑体，27-热塑性树脂层，28-中间层，29-保护剥离层(保护膜)，30-转印薄膜，31-卷绕配线的终端部，33-感光性透明树脂层与第二透明树脂层的固化部，34-与卷绕配线的末端部对应的开口部(感光性透明树脂层与第二透明树脂层的未固化部)，C-第一方向，D-第二方向。

Claims (18)

1.一种转印薄膜，其具有：临时支撑体；及位于所述临时支撑体上的感光性透明树脂层，
所述感光性透明树脂层包含：(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，
所述转印薄膜满足下述条件1及下述条件2中的至少一个，
且为静电电容型输入装置的电极保护膜用转印薄膜，
条件1：所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；
条件2：所述感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
2.根据权利要求1所述的转印薄膜，其中，
所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为0.1～100Pa·s。
3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，
所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为5～60Pa·s。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印薄膜，其中，
所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物为封端异氰酸酯。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印薄膜，其中，
所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物的分子内的所述亲水性基团为环氧乙烷链或环氧丙烷链。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印薄膜，其中，
所述感光性透明树脂层的厚度为1～20μm。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜，其中，
在所述感光性透明树脂层上具有第二透明树脂层，
所述第二透明树脂层的折射率比所述感光性透明树脂层的折射率高。
8.一种静电电容型输入装置的电极保护膜，其从权利要求1至7中任一项所述的转印薄膜上去除所述临时支撑体而成。
9.一种层叠体，其具有：
基板，包括静电电容型输入装置的电极；及
位于所述基板上的感光性透明树脂层，
所述感光性透明树脂层在所述基板上从权利要求1至7中任一项所述的转印薄膜转印所述感光性透明树脂层而形成。
10.一种层叠体，其具有：
基板，包括静电电容型输入装置的电极；及
位于所述基板上的感光性透明树脂层，
所述感光性透明树脂层包含(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物，
所述层叠体满足下述条件1及下述条件2中的至少一个，
条件1：所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在分子内具有亲水性基团；
条件2：所述感光性透明树脂层还包含(E)具有环氧乙烷链或环氧丙烷链的化合物。
11.根据权利要求10所述的层叠体，其中，
所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为0.1～100Pa·s。
12.根据权利要求10或11所述的层叠体，其中，
所述(D)通过加热而能够与酸进行反应的化合物在25℃下的粘度为5～60Pa·s。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的层叠体，其中，
所述电极为透明电极图案。
14.根据权利要求9至13中任一项所述的层叠体，其中，
所述基板为透明薄膜基板。
15.一种层叠体的制造方法，其包括以下工序：在包括静电电容型输入装置的电极的基板上，从权利要求1至7中任一项所述的转印薄膜转印所述感光性透明树脂层。
16.根据权利要求15所述的层叠体的制造方法，其中，
所述基板为透明薄膜基板。
17.一种层叠体，其通过权利要求15或16所述的层叠体的制造方法制造而成。
18.一种静电电容型输入装置，其包括权利要求9至14及17中任一项所述的层叠体。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112740080A (zh) * 2018-09-28 2021-04-30 富士胶片株式会社 转印材料、层叠体及层叠体的制造方法
CN112789166A (zh) * 2018-10-18 2021-05-11 富士胶片株式会社 转印膜、固化膜的制造方法、层叠体的制造方法、及触摸面板的制造方法
CN112840239A (zh) * 2018-09-26 2021-05-25 富士胶片株式会社 转印膜、偏振片、图像显示装置及偏振片的制造方法
CN113728029A (zh) * 2019-05-08 2021-11-30 脸谱科技有限责任公司 用于体布拉格光栅的热可逆和可重组的交联聚合物
TWI829862B (zh) * 2019-03-05 2024-01-21 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩之修正方法、光罩之修正裝置、附護膜之光罩之製造方法及顯示裝置之製造方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7046566B2 (ja) 2017-11-13 2022-04-04 株式会社ジャパンディスプレイ タッチパネル付き表示装置
KR20190077220A (ko) * 2017-12-25 2019-07-03 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 디스플레이용 봉지제 및 그것을 이용한 액정 디스플레이
KR20190077219A (ko) * 2017-12-25 2019-07-03 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 디스플레이용 봉지제 및 그것을 이용한 액정 디스플레이
CN111742261A (zh) * 2018-03-29 2020-10-02 富士胶片株式会社 感光性转印材料、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法
KR102244913B1 (ko) * 2018-07-27 2021-04-26 주식회사 엘지화학 전극 보호층용 고분자 및 이를 적용한 이차전지
CN113196891A (zh) * 2018-12-27 2021-07-30 富士胶片株式会社 感光性转印材料、层叠体、触控面板、带有图案的基板的制造方法、电路基板的制造方法及触控面板的制造方法
CN109933240B (zh) * 2019-03-15 2022-07-08 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种触控模组及显示装置
CN113613898A (zh) * 2019-03-26 2021-11-05 富士胶片株式会社 银导电性材料保护膜用转印膜、带图案的银导电性材料的制造方法、层叠体及触摸面板
TWI819208B (zh) * 2019-04-03 2023-10-21 英屬維爾京群島商天材創新材料科技股份有限公司 導電膜

Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5405731A (en) * 1992-12-22 1995-04-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processable, multilayer, photoimageable permanent coatings for printed circuits
JP2000241969A (ja) * 1999-02-24 2000-09-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性積層体、フレキシブルプリント配線板の製造法及び実装基板の製造法
JP2002365797A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Asahi Kasei Corp ドライフィルムレジスト
JP2004020726A (ja) * 2002-06-13 2004-01-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2006208824A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、硬化体及び感光性エレメント
JP2007316574A (ja) * 2006-04-26 2007-12-06 Hitachi Chem Co Ltd 難燃性感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
US20090176337A1 (en) * 2008-01-04 2009-07-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Negative photoresist composition and method of manufacturing array substrate using the same
US20100112474A1 (en) * 2007-03-12 2010-05-06 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, photosensitive film, method for forming a permanent pattern, and printed board
JP2010152809A (ja) * 2008-12-26 2010-07-08 Smk Corp 透明なパネル体及びタッチパネル
JP2010160418A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物，並びにこれを用いた感光性エレメント，ソルダーレジスト及びプリント配線板
CN102289150A (zh) * 2010-06-17 2011-12-21 住友化学株式会社 感光性树脂组合物
JP2012063747A (ja) * 2010-08-17 2012-03-29 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、カラーフィルタ及びカラーフィルタの形成方法
JP2012159651A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及びその用途
CN102893215A (zh) * 2010-05-19 2013-01-23 富士胶片株式会社 聚合性组成物
JP2013076821A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Toray Ind Inc ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた保護膜およびタッチパネル部材
CN103975296A (zh) * 2011-12-05 2014-08-06 日立化成株式会社 触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法
WO2014156520A1 (ja) * 2013-03-28 2014-10-02 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、保護膜又は絶縁膜、タッチパネル及びその製造方法
CN104812569A (zh) * 2012-11-30 2015-07-29 富士胶片株式会社 转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置
JP2015152726A (ja) * 2014-02-13 2015-08-24 三洋化成工業株式会社 感光性樹脂組成物
CN107250958A (zh) * 2015-03-24 2017-10-13 富士胶片株式会社 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极用保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6328875B2 (ja) 2012-09-26 2018-05-23 旭化成株式会社 水性ブロックポリイソシアネート、繊維処理剤組成物、及び繊維
KR101922354B1 (ko) * 2014-09-24 2018-11-26 아사히 가세이 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 적층체, 수지 패턴의 제조 방법, 경화막 및 표시 장치

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5405731A (en) * 1992-12-22 1995-04-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processable, multilayer, photoimageable permanent coatings for printed circuits
JP2000241969A (ja) * 1999-02-24 2000-09-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性積層体、フレキシブルプリント配線板の製造法及び実装基板の製造法
JP2002365797A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Asahi Kasei Corp ドライフィルムレジスト
JP2004020726A (ja) * 2002-06-13 2004-01-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2006208824A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、硬化体及び感光性エレメント
JP2007316574A (ja) * 2006-04-26 2007-12-06 Hitachi Chem Co Ltd 難燃性感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
US20100112474A1 (en) * 2007-03-12 2010-05-06 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, photosensitive film, method for forming a permanent pattern, and printed board
US20090176337A1 (en) * 2008-01-04 2009-07-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Negative photoresist composition and method of manufacturing array substrate using the same
JP2010152809A (ja) * 2008-12-26 2010-07-08 Smk Corp 透明なパネル体及びタッチパネル
JP2010160418A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物，並びにこれを用いた感光性エレメント，ソルダーレジスト及びプリント配線板
CN102893215A (zh) * 2010-05-19 2013-01-23 富士胶片株式会社 聚合性组成物
CN102289150A (zh) * 2010-06-17 2011-12-21 住友化学株式会社 感光性树脂组合物
JP2012063747A (ja) * 2010-08-17 2012-03-29 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、カラーフィルタ及びカラーフィルタの形成方法
JP2012159651A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及びその用途
JP2013076821A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Toray Ind Inc ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた保護膜およびタッチパネル部材
CN103975296A (zh) * 2011-12-05 2014-08-06 日立化成株式会社 触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法
CN104812569A (zh) * 2012-11-30 2015-07-29 富士胶片株式会社 转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置
WO2014156520A1 (ja) * 2013-03-28 2014-10-02 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、保護膜又は絶縁膜、タッチパネル及びその製造方法
JP2015152726A (ja) * 2014-02-13 2015-08-24 三洋化成工業株式会社 感光性樹脂組成物
CN107250958A (zh) * 2015-03-24 2017-10-13 富士胶片株式会社 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极用保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112840239A (zh) * 2018-09-26 2021-05-25 富士胶片株式会社 转印膜、偏振片、图像显示装置及偏振片的制造方法
CN112840239B (zh) * 2018-09-26 2023-08-22 富士胶片株式会社 转印膜、偏振片、图像显示装置及偏振片的制造方法
CN112740080A (zh) * 2018-09-28 2021-04-30 富士胶片株式会社 转印材料、层叠体及层叠体的制造方法
CN112740080B (zh) * 2018-09-28 2023-02-21 富士胶片株式会社 转印材料、层叠体及层叠体的制造方法
CN112789166A (zh) * 2018-10-18 2021-05-11 富士胶片株式会社 转印膜、固化膜的制造方法、层叠体的制造方法、及触摸面板的制造方法
TWI829862B (zh) * 2019-03-05 2024-01-21 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩之修正方法、光罩之修正裝置、附護膜之光罩之製造方法及顯示裝置之製造方法
CN113728029A (zh) * 2019-05-08 2021-11-30 脸谱科技有限责任公司 用于体布拉格光栅的热可逆和可重组的交联聚合物

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JP2017044965A (ja) 2017-03-02
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US20180157171A1 (en) 2018-06-07

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