CN108351716A

CN108351716A - 转印薄膜、膜传感器的制造方法、膜传感器、前面板一体型传感器及图像显示装置

Info

Publication number: CN108351716A
Application number: CN201680059479.3A
Authority: CN
Inventors: 两角真; 两角一真; 长田崇郎; 长田崇一郎; 有富隆志
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2015-10-26
Filing date: 2016-09-26
Publication date: 2018-07-31
Anticipated expiration: 2036-09-26
Also published as: KR20180044966A; US20180222236A1; JP6580153B2; TW201720652A; JPWO2017073216A1; KR102103325B1; CN108351716B; WO2017073216A1; TWI704052B; US10603942B2

Abstract

本发明提供一种转印薄膜，其用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层，具有临时支撑体及包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和着色组合物层的膜厚b(μm)满足下述式1，并且提供一种一转印薄膜，其具有临时支撑体及包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和着色组合物层的膜厚b(μm)满足下述式。180＞a×b＞10……式1。

Description

转印薄膜、膜传感器的制造方法、膜传感器、前面板一体型传感器及图像显示装置

技术领域

本发明涉及一种转印薄膜、膜传感器的制造方法、膜传感器、前面板一体型传感器及图像显示装置。具体而言，涉及一种能够将手指的接触位置作为静电电容的变化检测出的静电电容型输入装置即前面板一体型传感器和能够使用于该静电电容型输入装置的膜传感器、用于制造膜传感器的转印薄膜、使用了转印薄膜的膜传感器的制造方法、以及具备前面板一体型传感器作为构成要件的图像显示装置。

背景技术

在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来，有如下电子设备：在液晶装置等的表面配置有平板型输入装置，一边参考显示于液晶装置的图像显示区域中的指令图像，一边用手指或触控笔等接触指令图像所显示的部位，由此可以进行对应于指令图像的信息的输入。在这些电子设备的液晶显示窗上，为了保护液晶显示窗而安装有护罩玻璃。以往，护罩玻璃在透明的玻璃基板的背面周边部形成有黑色的框状遮光层。

并且，在上述的电子设备中大多使用触摸面板，目前主流的触摸面板虽为电阻膜方式，但是对应于通过用指尖敲击、弹、捏住屏幕的操作来放大、缩小图像的多点触摸功能，且从视觉辨认性、耐久性优异的观点考虑，静电电容方式的需求变得非常高。其中，静电电容方式的触摸面板的传感器部要求薄型化，因此，预测使用如日本特开2012-133597号公报中公开的静电电容方式的膜传感器并将膜传感器贴合于护罩玻璃的背面而成的护罩玻璃一体型传感器的市场将会扩大。

日本特开2012-133597号公报中记载有一种护罩玻璃一体型传感器，其具备在透明的玻璃基板的背面周边部形成有由丝网印刷膜构成的第一框状遮光层的电子设备显示窗的护罩玻璃、及贴合于护罩玻璃的背面的静电电容方式的膜传感器。膜传感器具备：透明的基体片；透明导电膜，形成为在基体片的两面分别具有中央窗口部的电极图案及外框部的细线迂回电路图案；遮光性导电膜，在透明导电膜的细线迂回电路图案上分别以与细线迂回电路图案相同宽度层叠而成；防锈功能层，在形成有透明导电膜及遮光性导电膜的基体片的两面分别以覆盖除了端子部以外的外框部的方式层叠而成；及第二框状遮光层，形成于形成有透明导电膜、遮光性导电膜及防锈功能层的基体片的表面周边部，且由彩色抗蚀剂材料的曝光显影物构成。在该护罩玻璃一体型传感器中，第二框状遮光层的内缘位于比第一框状遮光层的内缘更靠中央侧的位置。根据日本特开2012-133597号公报记载有通过上述结构能够提供一种护罩玻璃一体型传感器，通过护罩玻璃看到的显示画面的轮廓清晰，视觉辨认性优异，并且在包围显示画面的部分具有外观上的一体感。

另一方面，日本特开2013-228695号公报中记载有一种黑色树脂膜，其包含黑色颜料、碱可溶性高分子化合物、含有烯属不饱和键的化合物及光聚合引发剂，在240℃下加热80分钟之后，进一步在300℃下加热30分钟之后的块体强度为100N/1.6mmφ(φ为直径)以上。

日本特开2013-228695号公报中记载有一种黑色树脂膜的制造方法，作为黑色树脂膜的制造方法，包括：将包含黑色颜料、碱可溶性高分子化合物、含有烯属不饱和键的化合物及光聚合引发剂的感光性树脂组合物应用于基材上的工序；对基材上的感光性树脂组合物进行曝光的工序；对经曝光的感光性树脂组合物进行显影的工序；及在显影工序之后进行后曝光的工序，并且满足下述条件(A)或条件(B)。

条件(A)：光聚合引发剂为α-氨基烷基苯酮系化合物或α-羟基烷基苯酮系化合物。

条件(B)：从感光性树脂组合物的与基材接触的一侧的表面方向和与透明基材不接触的一侧的表面方向的两面进行显影工序后的后曝光。

日本特开2013-228695号公报中记载有一种静电电容型输入装置的制造方法，所述静电电容型输入装置具有前面板和位于前面板的非接触侧的至少下述(1)～(4)的要素，所述方法中，通过前述黑色树脂膜的制造方法来制造(1)的要素。

(1)装饰材料

(2)多个第一透明电极图案，由多个垫片部分介由连接部分沿第一方向延伸而形成

(3)多个第二电极图案，与第一透明电极图案电绝缘，并包括沿与第一方向交叉的方向延伸而形成的多个垫片部分

(4)绝缘层，使第一透明电极图案与第二电极图案电绝缘

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明人等研究了日本特开2012-133597号公报中记载的护罩玻璃一体型传感器，结果得知了若要将由彩色抗蚀剂材料的曝光显影物构成的第二框状遮光层设置于膜传感器，则即使直接使用彩色抗蚀剂材料，灵敏度也不充分，因此在由光引起的聚合中会变得固化不足。进而得知了在膜传感器领域中存在如下问题，即在透明的基材片上设置电极等，因此在制造工艺中，只允许比利用彩色抗蚀剂制造护罩玻璃一体型传感器时低温(例如，130～170℃左右)下的热处理，无法用热处理进行固化。另外，在彩色抗蚀剂材料领域中，通常在230℃左右对彩色抗蚀剂材料进行加热固化。

并且，日本特开2013-228695号公报中只记载了形成于前面板侧的装饰层用黑色树脂膜，针对形成于与前面板组合的膜传感器侧的装饰层并没有记载。本发明人等研究了日本特开2013-228695号公报中记载的方法，结果得知形成于膜传感器侧的装饰层只能在130～170℃左右下进行低温加热，因此，无法使用日本特开2013-228695号公报中记载的在240℃下进行加热而使丙烯酸树脂在无引发剂的状态下聚合的方法等。

在本发明的一实施方式中，提供一种转印薄膜、以及使用了该转印薄膜的膜传感器的制造方法、膜传感器、前面板一体型传感器及图像显示装置，所述转印薄膜适用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的情况等，并且，着色组合物层的光学浓度高，在着色组合物层的曝光工序中的灵敏度高。

用于解决技术课题的手段

本发明人等得到了如下见解：在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的情况下，通过将着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量及膜厚设定在指定范围内，着色组合物层的光学浓度提高，且着色组合物层的曝光工序中的灵敏度提高。

本发明的优选方式中包括以下方式。

[1]一种转印薄膜，其用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层，所述转印薄膜具有：临时支撑体；及包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和着色组合物层的膜厚b(μm)满足下述式1。

80＞a×b＞10……式1

[2]一种转印薄膜，其具有：临时支撑体；及包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和着色组合物层的膜厚b(μm)满足下述式1。

80＞a×b＞10……式1

[3]根据[1]或[2]所述的转印薄膜，其中，优选前述黑色颜料包含炭黑，前述白色颜料包含氧化钛粒子。

[4]根据[3]所述的转印薄膜，其中，优选前述炭黑包含表面用树脂包覆的炭黑。

[5]根据权[1]～[4]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选前述着色组合物层的膜厚为0.5μm～10μm。

[6]根据[1]～[5]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选前述着色组合物层含有聚合引发剂。

[7]根据[6]所述的转印薄膜，其中，优选前述聚合引发剂包含肟系聚合引发剂。

[8]根据[6]或[7]所述的转印薄膜，其中，前述着色组合物层可含有敏化剂。

[9]根据[1]～[8]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选前述着色组合物层含有硫醇化合物。

[10]根据[9]所述的转印薄膜，其中，优选前述硫醇化合物包含2个以上的硫醇基。

[11]根据[1]～[10]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选前述着色组合物层含有具有羧基的粘合剂，

前述粘合剂的酸值为50mgKOH/g以上。

[12]根据[1]～[11]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选前述着色组合物层含有至少具有5个烯属不饱和基的聚合性化合物。

[13]根据[1]～[12]中任一项所述的转印薄膜，其中，优选前述着色组合物层中，包含卤素的化合物的含量为1质量％以下。

[14]根据[1]～[13]中任一项所述的转印薄膜，优选其含有除了前述黑色颜料或前述白色颜料以外的其他粒子。

[15]一种膜传感器的制造方法，其包含以下工序：将前述着色组合物层从[1]～[14]中任一项所述的转印薄膜转印到膜传感器的至少一个表面而形成装饰层，前述膜传感器具备：透明的基材片；配置于前述基材片的至少一个表面的电极图案；连接于前述电极图案的迂回布线；及以覆盖前述电极图案的方式层叠的外敷层。

[16]根据[15]所述的膜传感器的制造方法，优选其包含以下工序：在转印前述着色组合物层而形成装饰层的工序之后，在130℃～170℃下对前述膜传感器进行热处理。

[17]根据[15]或[16]所述的膜传感器的制造方法，其中，优选在转印前述着色组合物层的前述膜传感器的一个表面包含前述迂回布线的至少一部分区域及前述外敷层的至少一部分区域。

[18]一种膜传感器，其具备：透明的基材片；配置于前述基材片的至少一个表面的电极图案；连接于前述电极图案的迂回布线；及以覆盖前述电极图案的方式层叠的外敷层，其中，在前述膜传感器的至少一个表面具有[1]～[14]中任一项所述的转印薄膜的转印层即着色组合物层作为装饰层。

[19]一种前面板一体型传感器，其具有透明的前面板及[18]所述的膜传感器。

[20]根据[19]所述的前面板一体型传感器，其中，优选在前述前面板的一个表面的一部分区域具有第二装饰层，前述第二装饰层配置于前述前面板与前述膜传感器的前述装饰层之间，从前述前面板的法线方向观察时，前述第二装饰层的正投影与前述膜传感器的前述装饰层的至少一部分区域重叠。

[21]根据[19]或[20]所述的前面板一体型传感器，其中，优选前述前面板为玻璃。

[22]一种图像显示装置，其具备[19]～[21]中任一项所述的前面板一体型传感器。

发明效果

根据本发明的一实施方式，提供一种转印薄膜、以及使用了该转印薄膜的膜传感器的制造方法、膜传感器、前面板一体型传感器及图像显示装置，所述转印薄膜适用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的情况等，并且，着色组合物层的光学浓度高，在着色组合物层的曝光工序中的灵敏度高。

附图说明

图1是表示本发明的前面板一体型传感器的结构的一例的剖面概略图。

图2是表示本发明中的前面板的一例的说明图。

图3是表示本发明中的电极图案的一例的说明图。

图4是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。

图5是表示形成有第二装饰层的前面板一体型传感器的一例的俯视图。

图6是表示形成有第一电极图案的前面板一体型传感器的一例的俯视图。

图7是表示形成有第一及第二电极图案的前面板一体型传感器的一例的俯视图。

图8是表示形成有迂回布线的前面板一体型传感器的一例的俯视图。

图9是表示金属纳米线剖面的说明图。

图10是表示透明电极图案的端部的锥形形状的一例的说明图。

图11A是本发明的膜传感器的一例的概略图。

图11B是本发明的膜传感器的一例的概略图。

图12是用于说明本发明的膜传感器的制造方法的一例中的、沿迂回布线与外敷层的边界的外敷层的区域的图。

图13是表示本发明的转印薄膜的结构的一例的剖面概略图。

具体实施方式

以下，对本发明的转印薄膜、膜传感器的制造方法、膜传感器、前面板一体型传感器及图像显示装置进行说明。

以下所记载的构成要件的说明是根据本发明的代表性实施方式和具体例而完成的，但本发明并不限定于这些实施方式和具体例。

另外，本说明书中使用“～”所表示的数值范围是指包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。

在本说明书中，用语“工序”不仅指独立的工序，即使是无法与其他工序明确区别的情况，只要能够达成该工序所期望的目的，则仍包含于本用语中。

另外，针对在各附图中以相同元件符号表示的共同的构成要素有时省略其说明。

[转印薄膜]

本发明的一实施方式中的转印薄膜为用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的转印薄膜，且具有临时支撑体及黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和膜厚b(μm)满足下述式1的着色组合物层。另外，本发明的其他实施方式中的转印薄膜还用于在膜传感器形成装饰层的用途以外的用途，且具有临时支撑体及黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和膜厚b(μm)满足下述式1的着色组合物层。

80＞a×b＞10……式1

本发明的一实施方式中的转印薄膜为用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的转印薄膜。在这种情况下，装饰层为具有隐藏遮光性导电膜的作用的层。

本发明的转印薄膜中，着色组合物层的光学浓度高且着色组合物层的曝光工序中的灵敏度高。从提高光学浓度的观点考虑，优选转印薄膜的着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)与转印薄膜的着色组合物层的膜厚b(μm)的积即a×b的值大于特定的下限值(10)。更优选a×b的值大于20，进一步优选大于30，尤其优选为50以上。另一方面，从提高灵敏度的观点考虑，优选转印薄膜的着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)与转印薄膜的着色组合物层的膜厚b(μm)的积即a×b的值小于特定的上限值(80)，更优选a×b的值小于40。

以下，关于本发明的转印薄膜的优选方式进行说明。

<结构>

图13中示出本发明的转印薄膜的优选结构的一例。图13是临时支撑体46、着色组合物层48及保护剥离层(保护膜)47依次相互邻接层叠而成的转印薄膜49的概略图。

针对为了在膜传感器的至少一个表面形成装饰层而使用本发明的转印薄膜的情况，将包含从本发明的转印薄膜转印着色组合物层48而形成的装饰层45的本发明的膜传感器的一例的概略图示于图11A及图11B。

关于本发明的膜传感器的结构及使用本发明的转印薄膜在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的方法将进行后述。

<着色组合物层>

本发明的转印薄膜具有包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a(质量％)和着色组合物层的膜厚b(μm)满足下述式1。

80＞a×b＞10……式1

本发明的转印薄膜中，从满足无卤素的观点考虑，优选前述着色组合物层的含有卤素的化合物的含量为1质量％以下，更优选为0.2质量％以下。

(黑色颜料或白色颜料)

前述着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量相对于着色组合物层的溶剂以外的总固体成分进行计算。在本说明书中所说的总固体成分是指从着色组合物层中去除溶剂等的不挥发成分的总质量。

前述着色组合物层中，黑色颜料或白色颜料的含量相对于着色组合物层的溶剂以外的总固体成分优选为大于3质量％且40质量％以下，更优选为25质量％以下，更优选为3质量％～20质量％，尤其优选为5质量％～18质量％，更尤其优选为10质量％～18质量％。从保持薄膜厚的状态下提高光学浓度的观点考虑，优选黑色颜料或白色颜料的含量大。从提高灵敏度的观点考虑，优选黑色颜料或白色颜料的含量为25质量％以下。

作为黑色颜料，只要不违背本发明的主旨，则没有特别限制。

作为本发明中使用的黑色颜料，能够适当地使用公知的黑色颜料(有机颜料、无机颜料等)。

从光学浓度的观点考虑，作为黑色颜料，例如可列举炭黑、碳化钛、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中，优选炭黑。

从表面电阻的观点考虑，可用于本发明的转印薄膜的炭黑优选为表面用树脂包覆的炭黑。

作为白色颜料，只要不违背本发明的主旨，则没有特别限制，更优选白色无机颜料。

作为白色无机颜料，能够使用日本特开2005-7765公报的0015段落及0114段落中记载的白色颜料。

具体而言，作为白色无机颜料，优选氧化钛、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白炭黑、氧化铝、氢氧化铝、硫酸钡，更优选氧化钛、氧化锌，尤其优选为氧化钛。其中，白色无机颜料进一步尤其优选金红石型或锐钛矿型氧化钛，更进一步优选金红石型氧化钛。

氧化钛的表面能够进行二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、氧化锆处理或有机物处理，并且，也可并用这些处理。

由此，能够抑制氧化钛的催化剂活性，并且能够改善耐热性、褪光性等。

从减小加热后的着色组合物层的厚度(b的值)的观点考虑，对氧化钛表面的表面处理优选为氧化铝处理及氧化锆处理中的至少一个处理，尤其优选并用氧化铝及氧化锆的处理。

本发明的转印薄膜中，优选前述黑色颜料或前述白色颜料为炭黑或氧化钛粒子。

黑色颜料(优选炭黑)或白色颜料优选用作分散液。该分散液能够通过将预先混合黑色颜料或白色颜料和颜料分散剂而得到的组合物添加到后述有机溶剂(或媒介物)中并使其分散来制备。媒介物是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质部分，包含呈液态且与黑色颜料或白色颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)和将其进行溶解稀释的成分(有机溶剂)。

作为使黑色颜料或白色颜料分散时所使用的分散机，并无特别的限制，可以列举例如在朝仓邦造著、“颜料辞典”、第一版、朝仓书店、2000年、438项中记载的捏合机、辊磨机、磨碎机、超级研磨机、溶解器、均质混合器、砂磨机等公知的分散机。也可以进一步通过该文献的310页中记载的机械磨碎，利用摩擦力进行微粉碎。

另外，分散剂根据颜料及溶剂选择即可，例如能够使用市售的分散剂。

从分散稳定性的观点考虑，黑色颜料或白色颜料优选数均粒径为0.001μm～0.1μm，进一步优选0.01μm～0.08μm。

另外，“粒径”是指将粒子的电子显微镜照片图像设为相同面积的圆时的直径，“数均粒径”是指针对任意100个粒子求出粒径而求出的粒径的平均值。

本发明的转印薄膜可以是负型材料，也可以是正型材料。

本发明的转印薄膜为负型材料的情况下，优选着色组合物层中包含前述黑色颜料或前述白色颜料以外的其它粒子、聚合性化合物、粘合剂(优选碱可溶性树脂)、聚合引发剂、硫醇、溶剂。还可以使用添加剂等，但并不限定于此。

与最终在230～240℃左右进行加热的设置于前面板的后述第二装饰层(掩模层)用途的转印薄膜的着色组合物层或彩色滤光片用途的转印薄膜的着色组合物层不同，膜传感器用途的转印薄膜的着色组合物层最终只在130～170℃左右进行加热。因此，膜传感器用途的转印薄膜的着色组合物层无法过于期待加热引起的聚合。因此，膜传感器用途的转印薄膜的着色组合物层的组成优选为在光聚合中能够充分地聚合的组成，与设置于前面板的第二装饰层用途的转印薄膜的着色组合物层或彩色滤光片用途的转印薄膜的着色组合物层的优选的组成不同。

(其他粒子)

从转印性的观点考虑，着色组合物层中，优选在不损害本发明的效果的范围内添加前述黑色颜料或前述白色颜料以外其他粒子。当使用其他粒子中的颜料时，优选使其均匀地分散于着色组合物层中，因此，优选粒径为0.1μm以下，尤其优选为0.08μm以下。

作为其他粒子，可列举维多利亚纯蓝BO(Color Index(以下C.I.)42595)、碱性槐黄(C.I.41000)、脂溶黑HB(C.I.26150)、莫诺赖特·黄GT(C.I.颜料黄12)、永久黄GR(C.I.颜料黄17)、永久黄HR(C.I.颜料黄83)、永久胭脂红FBB(C.I.颜料红146)、广告画颜料红ESB(C.I.颜料紫19)、永久红宝石FBH(C.I.颜料红11)、法斯特尔粉红B苏普拉(C.I.颜料红81)、莫钠斯特拉尔坚牢蓝(C.I.颜料蓝15)、莫诺赖特监牢黑B(C.I.颜料黑1)及炭黑、C.I.颜料红97、C.I.颜料红122、C.I.颜料红149、C.I.颜料红168、C.I.颜料红177、C.I.颜料红180、C.I.颜料红192、C.I.颜料红215、C.I.颜料绿7、C.I.颜料蓝15∶1、C.I.颜料蓝15∶4、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝64、C.I.颜料紫23等。

其他粒子中，作为在着色组合物层中能够优选添加的物质，可列举C.I.颜料红177。

其他粒子相对于黑色颜料或白色颜料，优选为30质量％以下，更优选为3～20质量％，尤其优选为5～15质量％。

(聚合性化合物)

作为用于着色组合物层的聚合性化合物，优选光聚合性化合物。作为光聚合性化合物所具有的光聚合性基没有特别限制，能够列举烯属不饱和基、环氧基等。用于着色组合物层的聚合性化合物优选含有烯属不饱和键的化合物，更优选包含具有(甲基)丙烯酰基的化合物。

作为含有烯属不饱和键的化合物，能够使用日本专利第4098550号公报的0023～0024段落中记载的聚合性化合物、三环癸烷二醇二甲醇二丙烯酸酯等2官能聚合性化合物等。

在着色组合物层中，能够优选使用DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)、二季戊四醇(五/六)丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯等至少具有5个烯属不饱和基的聚合性化合物；氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物等的氨基甲酸酯系单体；乙氧基化双酚A二丙烯酸酯、三环癸烷二醇二甲醇二丙烯酸酯等2官能聚合性化合物。

从灵敏度的观点考虑，本发明的转印薄膜优选前述着色组合物层包含至少具有5个烯属不饱和基的聚合性化合物。

光聚合性化合物可以单独仅使用一种，也可以组合两种以上使用，但从灵敏度的观点考虑，优选组合两种以上使用。本发明的转印薄膜的着色组合物层中使用的聚合性化合物优选组合使用至少具有5个烯属不饱和基的聚合性化合物和2官能聚合性化合物。2官能光聚合性化合物相对于所有光聚合性化合物，优选在10～90质量％的范围内使用，更优选在20～85质量％的范围内使用，尤其优选在30～80质量％的范围内使用。至少具有5个烯属不饱和基的光聚合性化合物相对于所有聚合性化合物，优选在10～90质量％的范围内使用，更优选在15～80质量％的范围内使用，尤其优选在20～70质量％的范围内使用。

聚合性化合物的平均分子量优选为200～3000，更优选为250～2600，尤其优选为280～2200。

着色组合物层中，聚合性化合物相对于粘合剂的比例(聚合性化合物的含量/粘合剂的含量)优选为0.1～2倍，更优选为0.2～1.5倍，尤其优选为0.3～1倍。

(粘合剂)

作为用于着色组合物层的粘合剂，只要不违背本发明的主旨则没有特别限制，能够从公知的粘合剂中适当地选择，优选碱可溶性高分子化合物。

作为碱可溶性高分子化合物，例如能够使用日本特开2011-95716号公报的0025段落中记载的聚合物及日本特开2010-237589号公报的0033～0052段落中记载的聚合物。

作为碱可溶性高分子化合物，优选含有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元和来自于(甲基)丙烯酸酯的结构单元的丙烯酸系聚合物。

从优化边缘粗糙度的观点考虑，本发明的转印薄膜优选着色组合物层含有具有羧基的粘合剂。

从优化边缘粗糙度的观点考虑，本发明的转印薄膜优选前述粘合剂的酸值为50mgKOH/g以上，更优选为60mgKOH/g以上，尤其优选为65mgKOH/g以上。

作为用于着色组合物层的粘合剂，没有特别限制，能够使用甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸的无规共聚物、甲基丙烯酸环己酯(a)/甲基丙烯酸甲酯(b)/甲基丙烯酸共聚物(c)的甲基丙烯酸缩水甘油酯加成物、甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸的共聚物、甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羟乙酯的共聚物。

对于用于着色组合物层的粘合剂的重均分子量(Mw)没有特别限制，优选4000～200000，更优选4500～100000，尤其优选5000～60000。

在本说明书中，能够在下述条件下，通过凝胶渗透色谱法(GPC)来进行重均分子量(Mw)的测定。校准曲线由TOSOH CORPORATION制造的“标准试样TSK standard，聚苯乙烯(polystyrene)”：“F-40”、“F-20”、“F-4”、“F-1”、“A-5000”、“A-2500”、“A-1000”、“正丙苯”这8个样品来制作。

-条件-

·GPC：HLC(注册商标)-8020GPC(TOSOH CORPORATION制造)

·柱：TSKgel(注册商标)，使用3条Super MultiporeHZ-H(TOSOH CORPORATION制造，4.6mmID×15cm)

·洗提液：THF(四氢呋喃)

·试样浓度：0.45质量％

·流速：0.35ml/min

·样品注入量：10μl

·测定温度：40℃

·检测器：差示折射计(RI)

(聚合引发剂)

着色组合物层优选含有聚合引发剂。

作为用于着色组合物层的聚合引发剂，优选光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂，能够使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段落中记载的聚合引发剂、日本特开2015-014783号公报的0064～0081段落中记载的肟系聚合引发剂。例如，除1，2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(0-苯甲酰肟)](商品名：IRGACURE OXE-01，BASF公司制造)之外，能够优选使用乙烷-1-酮，[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(0-乙酰肟)(商品名：IRGACURE OXE-02，BASF公司制造)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE 379EG，BASF公司制造)、2-甲基-1-(4-甲基硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 907，BASF公司制造)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 127，BASF公司制造)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE 369，BASF公司制造)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE1173，BASF公司制造)、1-羟基-环己基-苯基-酮(商品名：IRGACURE 184，BASF公司制造)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 651，BASF公司制造)、肟酯系的商品名：Lunar 6(DKSH JAPAN K.K.制造)、2，4-二乙基噻吨酮(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造“Kayacure DETX-S”)、作为芴肟系聚合引发剂的DFI-091、DFI-020(均为DAITO CHEMIXCo.，Ltd.制造)等。

其中，从提高灵敏度的观点考虑，优选使用彩色滤光片材料等中使用的三氯甲基三嗪系化合物等含有卤素的聚合引发剂以外的其他引发剂，更优选α-氨基烷基苯酮系化合物、α-羟基烷基苯酮系化合物、肟酯系化合物等肟系聚合引发剂。从提高灵敏度的观点考虑，本发明的转印薄膜尤其优选前述着色组合物层包含肟系聚合引发剂。

上述聚合引发剂可以单独使用一种，也可以组合两种以上使用。

从抑制锥角及析出的观点考虑，着色组合物层中的聚合引发剂相对于聚合性化合物的质量比优选为0.05～0.125，进一步优选为0.070～0.100。

聚合引发剂的含量相对于着色组合物层的固体成分量，优选0.1质量％以上，更优选0.5质量％以上，进一步优选1.0质量％以上。

并且，聚合引发剂的含量相对于着色组合物层的固体成分量，优选20质量％以下，更优选10质量％以下。

(硫醇化合物)

从提高灵敏度的观点考虑，本发明的转印薄膜优选前述着色组合物层含有硫醇化合物。作为硫醇化合物，可以是硫醇基(也称为巯基)的数即官能数为1的1官能的硫醇化合物或硫醇基(巯基)的数即官能数为2以上的2官能以上的硫醇化合物中的任一个。从提高灵敏度的观点考虑，本发明的转印薄膜优选前述硫醇化合物为2官能以上，更优选为2～4官能，尤其优选为2～3官能。

作为用于着色组合物层的1官能的硫醇化合物，可列举N-苯基巯基苯并咪唑等。作为用于着色组合物层的2官能以上的硫醇化合物，可列举1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷(Karenz MT BD1 SHOWA DENKO K.K.制造)、1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮(Karenz MT NR1 SHOWA DENKO K.K.制造)、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)(Karenz MT PE1 SHOWA DENKO K.K.制造)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)(SAKAICHEMICAL INDUSTRY CO.，LTD.制造“PEMP”)等。

上述硫醇化合物可以单独使用一种，也可以组合两种以上使用。

(敏化剂)

本发明的转印薄膜中，前述着色组合物层可以根据曝光条件含有敏化剂。

作为能够用于本发明的敏化剂，只要是吸收活化光线并通过电子转移机构或能量转移机构使聚合引发剂敏化的敏化剂，则能够没有特别限制地使用。

作为敏化剂，优选蒽衍生物、吖啶酮衍生物、噻吨酮衍生物、香豆素衍生物、碱性苯乙烯基衍生物、及二苯乙烯基苯衍生物。

作为蒽衍生物，优选蒽、9，10-二丁氧基蒽、9，10-二氯蒽、2-乙基-9，10-二甲氧基蒽、9-羟基甲基蒽、9-溴蒽、9-氯蒽、9，10-二溴蒽、2-乙基蒽及9，10-二甲氧基蒽。

作为吖啶酮衍生物，优选吖啶酮、N-丁基-2-氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、2-甲氧基吖啶酮及N-乙基-2-甲氧基吖啶酮。

作为噻吨酮衍生物，优选噻吨酮、二乙基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮及4-异丙基噻吨酮。

作为香豆素衍生物，优选香豆素-1、香豆素-6H、香豆素-110或香豆素-102。

作为碱性苯乙烯基衍生物，可列举2-(4-二甲基氨基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(4-二甲基氨基苯乙烯基)苯并噻唑、及2-(4-二甲基氨基苯乙烯基)萘并噻唑。

作为二苯乙烯基苯衍生物，可列举二苯乙烯基苯、二(4-甲氧基苯乙烯基)苯及二(3，4，5-三甲氧基苯乙烯基)苯。

作为敏化剂的具体例，可列举下述所示的化合物。另外，下述所示的化合物中，Me表示甲基，Et表示乙基，Bu表示丁基。

[化学式1]

并且，从高灵敏度的观点考虑，敏化剂可以使用由下述通式(I)所表示的化合物(增感染料)。

[化学式2]

通式(I)中，A表示芳香族环残基或杂环残基，X表示氧原子、硫原子或N-(R₃)。R₁、R₂及R₃分别独立地表示氢原子、卤原子或一价的非金属原子团，A和R₁及R₂和R₃可以为了形成脂肪族性或芳香族性的环而分别相互键合。

对通式(I)进一步进行详细说明。

通式(I)中，R₁、R₂及R₃分别独立地表示氢原子、卤原子或一价的非金属原子团。作为R₁、R₂及R₃中的一价的非金属原子团，可适当地列举经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的烯基、经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的芳香族杂环残基、经取代或未经取代的烷氧基、经取代或未经取代的烷硫基、及氢氧基。

作为R¹、R²及R³中的烷基，可列举碳原子数1～20的直链状、支链状、或环状的烷基，其中，更优选碳原子数1～12的直链状烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)、碳原子数3～12的支链状烷基(例如，异丙基、异丁基、叔丁基等)及碳原子数5～10的环状烷基(例如，环己基等)。

作为R¹、R²及R³中的烯基的例子，例如可列举1-丙烯基等。

作为R¹、R²及R³中的芳基，例如可列举苯基、甲苯磺酰基等。

作为R¹、R²及R³中的芳香族杂环残基，可列举具有含有氮原子、碳原子及硫原子中的至少一个的单环或多环的芳香族环的基团(例如，吡啶基等)。

作为R¹、R²及R³中的卤原子，可列举氟原子(-F)、溴原子(-Br)、氯原子(-Cl)及碘原子(-I)。

作为R¹、R²及R³中的烷基、烯基、芳基、芳香族杂环残基、烷氧基或烷硫基可以具有的取代基，只要是能够导入这些基团的取代基，则没有特别限定。

通式(I)中，A表示芳香族环残基或杂环残基，芳香族环残基或杂环残基可以是未经取代，也可以具有取代基。

由A表示的芳香族环残基与R₁、R₂及R₃中的“经取代或未经取代的芳基”含义相同，具体例及优选方式也相同。并且，由A表示的杂环残基与R₁、R₂及R₃中的“经取代或未经取代的芳香族杂环残基”含义相同，具体例及优选方式也相同。

由通式(I)表示的化合物(增感染料)能够通过日本专利第5075450号公报中记载的酸性核或具有活性亚甲基的酸性核与经取代或未经取代的芳香族环或杂环的缩合反应来获得，例如能够参考特公昭59-28329号公报来合成。

以下示出由通式(I)表示的化合物的优选的具体例(D1～D9)，但并不限定于这些具体例。另外，关于由连结酸性核和碱性核的双键产生的异构体，并不限定于任一种异构体。

[化学式3]

敏化剂可以使用市售品，也可以通过公知的合成方法合成。

并且，敏化剂能够单独使用一种或组合两种以上使用。

从灵敏度的观点考虑，敏化剂相对于聚合引发剂100质量份，优选20～300质量份，尤其优选30～200质量份。

(金属抗氧化剂)

在本发明的转印薄膜的着色组合物层中，为了在除了绝缘层或装饰层的区域中对金属布线部(电极图案或布置布线)进行表面处理而对金属布线部赋予保护性，可以根据需要包含金属抗氧化剂。作为在本发明中所使用的金属抗氧化剂，优选为在分子内具有包含氮原子的芳香环的化合物。

并且，作为本发明所使用的金属抗氧化剂，优选包含上述氮原子的芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环及这些环与其他芳香环的稠环构成的组的至少一个环，更优选包含上述氮原子的芳香环更优选为咪唑环或者咪唑环与其他芳香环的稠环。

作为上述其他芳香环，可以是单环，也可以是杂环，但优选为单环，更优选为苯环或萘环，更优选为苯环。

作为优选的金属抗氧化剂，优选例示咪唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑及苯并三唑，更优选咪唑、苯并咪唑及苯并三唑。

并且，金属抗氧化剂的含量相对于本发明所使用的着色组合物层的总质量优选为0.1～20质量％，更优选为0.5～10质量％，尤其优选为1～5质量％。

(添加剂)

在着色组合物层中可以使用添加剂。作为添加剂，例如可列举日本专利第4502784号公报的0017段落及日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中记载的表面活性剂、日本专利第4502784号公报的0018段落记载的热聚合抑制剂(也称为阻聚剂。优选吩噻嗪)、以及日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中记载的其他添加剂。

(溶剂)

着色组合物层优选还包含溶剂。

作为在通过涂布制造着色组合物层的情况下也可以包含的溶剂，能够列举以下的溶剂。

作为溶剂，能够没有特别限制地使用通常所使用的溶剂。具体而言，例如可列举酯类、醚类、酮类、芳香族烃类等。

并且，在本发明中也能够适当地使用与美国专利申请公开第2005/282073A1号说明书的0054～0055段落中记载的溶剂(Solvent)相同的甲乙酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮、环己醇、甲基异丁基酮、乳酸乙酯及乳酸甲酯等。

上述溶剂中，1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、二乙二醇单乙醚乙酸酯(乙基卡必醇乙酸酯)、二乙二醇单丁醚乙酸酯(丁基卡必醇乙酸酯)、二醇甲醚乙酸酯及甲乙酮等优选用作本发明中的溶剂。

溶剂可以单独使用一种或者组合两种以上使用。

并且，能够根据需要使用沸点为180℃～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。作为高沸点溶剂，可列举二乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚、3，5，5-三甲基-2-环己烯-1-酮、二丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇正丙醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚、乙酸-2-乙基己酯、乙酸-3-甲氧基-3-甲基丁酯、γ-丁内酯、三丙二醇甲基乙基乙酸酯、二丙二醇正丁基乙酸酯、丙二醇苯基醚乙酸酯、1，3-丁二醇二乙酸酯等。

着色组合物层优选包含蒸发速度为乙酸丁酯的200％以上的第1溶剂和蒸发速度为乙酸丁酯的50％以下的第2溶剂作为溶剂。作为溶剂，优选包含作为多元醇衍生物的溶剂和作为酮的溶剂。

(膜厚)

本发明的转印薄膜，从与前面板贴合时的美观性的观点考虑，前述着色组合物层的膜厚优选为0.5μm～10μm，更优选为1.0μm～8.0μm，尤其优选为1.5μm～5.0μm。

<临时支撑体>

本发明的转印薄膜优选具有临时支撑体。

作为临时支撑体的材料，能够使用具有挠性的材料。

作为临时支撑体的例子，可列举环烯烃共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(以下，也称为“PET”。)、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等，其中，从操作性的观点考虑，尤其优选PET。

并且，临时支撑体可以是透明的，也可以含有染料硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。

并且，通过日本特开2005-221726号公报中所记载的方法等，能够对临时支撑体赋予导电性。

<其他层>

本发明的转印薄膜可以在临时支撑体与着色组合物层之间还包含热塑性树脂层及中间层。

(热塑性树脂层)

作为用于热塑性树脂层的成分，优选日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质，优选选自维卡(Vicat)法(具体而言为基于美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法)的软化点为约80℃以下的有机高分子物质。具体而言，可列举聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯共聚物、聚氯乙烯、氯乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙等的聚酰胺树脂等有机高分子。

另外，热塑性树脂层的干燥厚度通常为2μm～30μm，优选5μm～20μm，尤其优选7μm～16μm。

(中间层)

若具有中间层，则能够防止涂布多个涂布层时及涂布后的保存时的成分混合。

作为中间层，优选使用在日本特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的具有隔氧功能的隔氧膜。在这种情况下，曝光时灵敏度提高，曝光机的时间负载减小，生产性提高。

作为隔氧膜，优选显示低的透氧性、且分散或溶解于水或碱性水溶液中的隔氧膜，能够从公知的隔氧膜中适当地选择。尤其优选为将聚乙烯醇和聚乙烯基吡咯烷酮组合而成的层。

另外，中间层的干燥厚度通常为0.2μm～5μm，优选0.5μm～3μm，尤其优选1μm～2.5μm。

本发明的转印薄膜优选在前述着色组合物层的表面还设置保护膜(以下，也称作“保护剥离层”。)等。作为前述保护膜，能够适当地使用日本特开2006-259138号公报的0083～0087段落及0093段落中记载的保护膜。

<转印薄膜的制造方法>

本发明的转印薄膜能够按照日本特开2006-259138号公报的0094～0098段落中记载的固化性转印材料的制作方法制作。本发明的转印薄膜能够通过以下转印薄膜的制造方法制造。

转印薄膜的制造方法优选包括在临时支撑体上形成着色组合物层的工序。

转印薄膜的制造方法优选包括在前述临时支撑体上形成前述着色组合物层之前，进一步形成热塑性树脂层的工序。

转印薄膜的制造方法优选包括在形成前述热塑性树脂层的工序之后，在前述热塑性树脂层与前述着色组合物层之间形成中间层的工序。具体而言，在形成具有中间层的转印薄膜的情况下，能够通过如下方法适当地制作：在临时支撑体上涂布与热塑性的有机高分子一同溶解有添加剂的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)，使其干燥而设置热塑性树脂层之后，在该热塑性树脂层上涂布在不会溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液(中间层用涂布液)，使其干燥而层叠中间层，在该中间层上进一步涂布使用不会溶解中间层的溶剂来制备的着色组合物层用涂布液，使其干燥而层叠着色组合物层。

[膜传感器]

本发明的膜传感器为具备透明的基材片、配置于前述基材片的至少一个表面(单面或双面)的电极图案、连接于前述电极图案的迂回布线及以覆盖前述电极图案的方式层叠而成的外敷层的膜传感器，在前述膜传感器的至少一个表面配置有从已叙述的本发明的转印薄膜转印的转印层即着色组合物层作为装饰层。装饰层优选为通过后述本发明的膜传感器的制造方法转印着色组合物层而形成的层。

另外，基材片为“透明”是指具有如下性质：使用UV-1800(SHIMADZU CORPORATION制造)等紫外可见分光光度计，并以空气作为R1ank进行透射率测量时550nm处的透射率为50％以上。

<膜传感器的结构>

图11A示出本发明的膜传感器的一例的概略图。

图11A所示的构成的本发明的膜传感器在基材片1A的两个表面上分别配置有透明膜11。

图11A所示的构成的本发明的膜传感器在基材片1A的表面内层叠后述前面板的一侧的表面侧配置有电极图案4、遮光性导电膜9、外敷层7、迂回布线6、装饰层45。

图11A所示的构成的本发明的膜传感器在基材片1A的表面内与层叠有后述前面板的一侧相反的一侧的表面侧配置有电极图案3、遮光性导电膜9、外敷层7、迂回布线6。

膜传感器具有转印本发明的转印薄膜的前述着色组合物层而形成的装饰层45(膜传感器的装饰层)。

即使在横跨迂回布线6和外敷层7，并从转印薄膜压合前述着色组合物层的情况下，通过使用本发明的转印薄膜即使不使用真空层压机等昂贵的设备，也能够以简单的工序进行在掩模部分边界不产生气泡的压合。

装饰层优选为框状的装饰层。即，在将本发明的膜传感器用于具备后述本发明的前面板一体型传感器作为构成要素的图像显示装置的情况下，优选装饰层以框状包围中央的图像显示部分(电子设备显示窗)。作为本发明的膜传感器的装饰层的优选方式，能够列举与日本专利5020580号公报中记载的框状遮光层相同的方式。

另外，膜传感器的装饰层45的厚度的优选范围与本发明的转印薄膜的着色组合物层的膜厚的范围相同。

在将本发明的膜传感器用于后述前面板一体型传感器的情况下，电极图案有时在行方向和列方向大致正交的2个方向上分别作为第一电极图案及第二电极图案而设置(例如参考图3)。例如，在图3的构成中，电极图案可以是第二电极图案4，也可以是第一电极图案3。

利用图3对第一电极图案3及第二电极图案4进行说明。图3是表示第一电极图案及第二电极图案的一例的说明图。如图3所示，第一电极图案3是通过焊盘部分3a经由连接部分3b在第一方向C上延伸而形成的。并且，第二电极图案4通过绝缘层5而与第一电极图案3电绝缘，由在与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向D)上延伸形成的多个焊盘部分构成。在此，在形成第一电极图案3的情况下，可以将前述焊盘部分3a和连接部分3b制作成一体，也可以仅制作连接部分3b，并将焊盘部分3a和第二电极图案4制作(图案化)成一体。在将焊盘部分3a和第二电极图案4制作(图案化)成一体的情况下，如图3所示以连接部分3b的一部分与焊盘部分3a的一部分连结且第一电极图案3与第二电极图案4通过绝缘层5电绝缘的方式形成各层。图3中，为了说明而将绝缘层5作为不连续的膜而记载，但在本发明的膜传感器中，能够使用基材片1A作为绝缘层5。

本发明的膜传感器优选包括未形成有前述电极图案的非图案区域。在本说明书中，非图案区域是指未形成有电极图案4的区域。

优选前述基材片1A及透明膜11相互邻接。

图11A中示出在前述基材片1A上相邻层叠有前述透明膜11的方式。

然而，只要不违背本发明的主旨，则在前述基材片1A及前述透明膜之间可以层叠有第三透明膜。例如，在前述基材片1A及前述透明膜11之间，也可以具有折射率1.5～1.52的第三透明膜(图11A中未图示)。

膜传感器优选前述透明膜及前述电极图案相互邻接。

前述电极图案4的端部中，对其形状没有特别限制，但也可以具有锥形形状，例如可列举图10所示的电极图案的端部具有锥形形状的电极图案的例子。

在此，前述电极图案的端部呈锥形形状时的电极图案的端部的角度(以下也称作“锥角”)优选为30°以下，更优选为0.1～15°，尤其优选为0.5～5°。

在本说明书中的锥角的测定方法中，拍摄前述电极图案端部的显微镜照片，将该显微镜照片的锥形部分近似于三角形，通过直接测定而能够求出锥角。

图10中的近似锥形部分的三角形的底面为800nm，高度(与底面大致平行的上底部分的膜厚)为40nm，该情况下的锥角α约为3°。近似锥形部分的三角形的底面优选为10～3000nm，更优选为100～1500nm，尤其优选为300～1000nm。

另外，近似锥形部分的三角形的高度的优选范围与电极图案的膜厚的优选范围相同。

迂回布线6优选与第一电极图案3及第二电极图案4中的至少一个电连接，并且与第一电极图案3及第二电极图案4为不同的要素。

在图11A中，示出迂回布线6经由遮光性导电膜9连接于第二电极图案4的图。迂回布线优选为框状。即，在将本发明的膜传感器用于具备后述本发明的前面板一体型传感器作为构成要素的图像显示装置的情况下，优选迂回布线以框状包围中央的图像显示部分。

膜传感器优选前述电极图案及遮光性导电膜相互邻接。

遮光性导电膜优选为框状。即，在将本发明的膜传感器用于具备后述本发明的前面板一体型传感器作为构成要素的图像显示装置的情况下，优选遮光性导电膜以框状包围中央的图像显示部分。

并且，在图11A中，以覆盖迂回布线以外的各构成要素的方式设置有外敷层7。外敷层7可以以仅覆盖各构成要素的一部分的方式构成。

膜传感器优选通过前述透明膜及外敷层连续地直接或经由其他层包覆前述电极图案及未形成有前述电极图案的非图案区域这两者。

在此，“连续”是指前述透明膜及前述外敷层不是图案膜，而是连续膜。即，从不易视觉辨认电极图案的观点考虑，优选前述透明膜及前述外敷层不具有开口部。

并且，前述电极图案及前述非图案区域通过前述透明膜及前述外敷层而直接被包覆，这比经由其它层而被包覆更优选。作为经由其他层包覆时的“其他层”，能够列举在膜传感器中包含遮光性导电膜时的遮光性导电膜等。

<膜传感器的材料>

以下，对膜传感器的材料进行说明。

(装饰层)

转印本发明的转印薄膜的前述着色组合物层而形成的装饰层45的材料与本发明的转印薄膜的前述着色组合物层的材料相同。

(基材片)

基材片，更优选使用无光学应变的基材片及透明度较高的基材片，具体的原材料能够举出，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、环烯烃聚合物(COP)。

(透明膜)

从进一步改善电极图案的视觉辨认性的观点考虑，透明膜优选折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜。

前述透明膜的折射率优选为1.6～1.78，更优选为1.65～1.74。在此，前述透明膜可以是单层结构，也可以是2层以上的层叠结构。在前述透明膜为2层以上的层叠结构的情况下，前述透明膜的折射率是指总层的折射率。

透明膜中的“透明”是指膜在使用UV-1800(SHIMADZU CORPORATION制造)等紫外可见分光光度计，并将空气作为Blank进行透射率测量时550nm下的透射率为50％以上。

只要满足这种折射率的范围，前述透明膜的材料没有特别的限制，

前述透明膜的厚度优选为55～110nm，更优选为60～110nm，尤其优选为70～90nm。

在前述透明膜为2层以上的层叠结构的情况下，前述透明膜的膜厚是指总层的合计膜厚。

(电极图案)

本发明的膜传感器具有配置于基材片的至少一个表面(单面或双面)的电极图案。

本发明的膜传感器中，前述第一电极图案可以是透明电极图案，也可以不是透明电极图案，但优选为透明电极图案。

本发明的膜传感器中，前述第二电极图案可以是透明电极图案，也可以不是透明电极图案，但优选为透明电极图案。

前述电极图案的折射率优选为1.75～2.1。

前述电极图案的材料并无特别的限制，能够使用公知的材料。例如能够用ITO(氧化铟锡，Indium Tin Oxide)、IZO(氧化铟锌，Indium Zinc Oxide)等透光性的导电性金属膜来制作。作为这种金属膜，可以举出ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；SiO₂等金属氧化膜等。此时，各要素的膜厚能够设为10～200nm。并且通过烧结使非晶形ITO膜成为多晶ITO膜，因此也能够降低电阻。并且，前述第一电极图案3、第二电极图案4及后述引绕布线6也能够利用具有使用了导电性纤维的光固化性树脂层的感光性薄膜来制造。此外，在通过ITO等形成第一电极图案等的情况下，能够参考日本专利第4506785号公报的0014～0016段落等。其中，前述电极图案优选为ITO膜。

(迂回布线)

本发明的膜传感器具有迂回布线。迂回布线优选为电极图案的迂回布线，并且与电极图案为不同的导电性要素。迂回布线可以是与后述遮光性导电膜不同的导电性要素，迂回布线也可以是与后述遮光性导电膜相同的部件。

迂回布线的材料并无特别的限制，能够使用公知的材料。以往，从导电性高且容易进行微细加工的方面考虑，作为迂回布线的材料，通常使用Mo/Al/Mo这3层结构的MAM，但能够优选使用与上述电极图案的材料相同的材料，进而还能够使用Au(金)、Ag(银)、Cu(铜)、Al(铝)、Mo(钼)、Pd(钯)、Pt(铂)、C(碳)、Fe(铁)等金属。通过利用湿法使包含这些金属的导电性糊剂或导电性油墨成膜，与蒸镀法相比，能够以更廉价的工艺得到迂回布线。迂回布线的材料优选为金属，更优选为铜或铝。

(遮光性导电膜)

遮光性导电膜9可列举导电率高且遮光性良好的单一的金属膜或由合金或金属化合物等构成的膜。遮光性导电膜能够通过真空蒸镀法、溅射法、离子镀膜法、镀金法等形成。并且，遮光性导电膜9优选由电极图案不会被蚀刻但遮光性导电膜9自身会被蚀刻的材料形成。即，遮光性导电膜9的材料优选从存在不会蚀刻电极图案而会蚀刻遮光性导电膜9的蚀刻剂的材料中选择。

作为优选的金属的例子，可列举铝、镍、铜、银、锡等。尤其是由铜箔构成的厚度20nm～1000nm的金属膜的导电性、遮光性优异，即使在电极图案不会被蚀刻的酸性气氛下，也能够用过氧化氢水轻松地进行蚀刻，因此非常优选。遮光性导电膜9的厚度更优选为30nm以上。遮光性导电膜9的厚度进一步优选为100nm～500nm。通过设为100nm以上的厚度，能够得到导电性高的遮光性导电膜9，通过设为500nm以下，能够得到容易操作且加工性优异的遮光性导电膜9。

在本发明的转印薄膜中，装饰层具有隐藏如上所述的遮光性导电膜9的作用。

(外敷层)

膜传感器优选将外敷层转印在电极图案上制作而成。

能够将在膜传感器上制作的柔性布线即电极图案及迂回布线直接连接于迂回布线的终端部(未图示)，由此，能够将膜传感器的信号发送到电路。

外敷层可以是光固化性，也可以是热固性且光固化性。其中，从在转印后容易进行光固化而成膜，并且在成膜后进行热固化而赋予膜的可靠性的观点考虑，优选外敷层为热固性透明树脂层且光固化性透明树脂层。

作为前述外敷层的厚度优选为1μm以上，从充分发挥表面保护能力的观点考虑，更优选为5μm～16μm，尤其优选为5μm～13μm，进一步尤其优选为5μm～10μm。

前述外敷层的在100℃下测量的熔融粘度ηc优选为1.0×10³Pa·s以上，进一步优选为1.0×10³Pa·s～1.0×10⁶Pa·s，更优选为3.0×10³Pa·s～1.0×10⁶Pa·s，尤其优选为4.0×10³Pa·s～1.0×10⁵Pa·s。

前述外敷层的折射率优选为1.50～1.53，更优选为1.50～1.52，尤其优选为1.51～1.52。

外敷层优选包含粘合剂聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂。

外敷层优选为透明树脂层。作为控制外敷层的折射率的方法，并无特别的限制，能够单独使用所希望的折射率的外敷层，或者能够使用添加了金属粒子、金属氧化物粒子等粒子的外敷层，或者还能够使用金属盐和高分子的复合物。

而且，前述外敷层中可以使用添加剂。作为前述添加剂，可以举出例如日本专利第4502784号公报的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂，日本专利第4502784号公报的0018段落中所记载的热聚合抑制剂、及在日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其他添加剂。

-粘合剂聚合物-

作为优选包含于前述外敷层的粘合剂聚合物，能够没有特别限制地使用任意的聚合物成分，但优选表面硬度、耐热性高的聚合物，更优选碱可溶性树脂，在碱可溶性树脂中，优选使用公知的固化性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。优选用于形成外敷层的有机溶剂系树脂组合物中所含的粘合剂聚合物含有丙烯酸树脂。对外敷层的前述粘合剂聚合物的优选范围进行具体说明。

作为用于前述外敷层、对有机溶剂具有溶解性的树脂(称为粘合剂、聚合物)，只要不违背本发明的主旨则没有特别限制，能够从公知的树脂中适当选择，优选碱可溶性树脂，作为前述碱可溶性树脂能够使用日本特开2011-95716号公报的0025段落、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段落中记载的聚合物。

并且，外敷层也可以包含聚合物乳胶。在此所说的聚合物乳胶是不溶于水的聚合物的微粒子分散于水中的乳胶。关于聚合物乳胶，例如记载于室井宗一著“高分子乳胶的化学(高分子刊行会发行(1973年))”。

作为聚合物粒子，优选由选自丙烯酸类、乙酸乙烯酯类、橡胶类(例如苯乙烯-丁二烯类、氯丁二烯类)、烯烃类、聚酯类、聚氨酯类、聚苯乙烯类等聚合物及它们的共聚物的聚合物构成的聚合物粒子。

优选使构成聚合物粒子的聚合物链彼此之间的键合力增强。作为增强聚合物链彼此之间的键合力的方法，可以举出利用基于氢键的相互作用的方法和生成共价键的方法。作为赋予氢键力的方法，优选在聚合物链上将具有极性基团的单体进行共聚或者接枝聚合而导入。作为极性基团，可以举出羧基(丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富马酸、马来酸、巴豆酸、部分酯化马来酸等中所含有)、伯氨基、仲氨基及叔氨基、铵盐基、磺酸基(苯乙烯磺酸等)等，尤其优选羧基、磺酸基。

具有这些极性基团的单体的共聚比的优选范围相对于聚合物100质量％为5质量％～35质量％，更优选为5质量％～20质量％，进一步优选在15质量％～20质量％的范围内。另一方面，作为生成共价键的方法，可以举出使环氧化合物、封端异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸基等进行反应的方法。

在利用了这些反应的聚合物中，优选通过多元醇类和聚异氰酸酯化合物的反应而得到的聚氨酯衍生物，作为扩链剂更优选同时使用多元胺，尤其优选进一步在聚合物链中导入上述极性基团而形成离聚物型的聚合物。

聚合物的质均分子量优选为1万以上，进一步优选为2万～10万。作为在本发明中优选的聚合物，可列举作为乙烯和甲基丙烯酸的共聚物的乙烯离聚物、聚氨酯离聚物。

能够使用于本发明中的聚合物乳胶可以通过乳化聚合而得到，也可以通过乳化而得到。关于聚合物乳胶的制备方法，例如记载于“乳液/乳胶手册”(乳液/乳胶手册编辑委员会编辑，TAISEISHA LTD.发行(1975年))。

能够用于本发明的聚合物乳胶，例如能够列举将聚乙烯离聚物的水性分散液(商品名：CHEMIPEARL(注册商标)S120 Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分27质量％)、CHEMIPEARL(注册商标)S100 Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分27质量％)、CHEMIPEARL(注册商标)Slll Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分27质量％)、CHEMIPEARL(注册商标)S200 Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分27质量％)、CHEMIPEARL(注册商标)S300 Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分35质量％)、CHEMIPEARL(注册商标)S650 Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分27质量％)、CHEMIPEARL(注册商标)S75N Mitsui Chemicals，Inc.制造，固体成分24质量％)、及聚醚系聚氨酯的水性分散液(商品名：Hydran WLS-201 DIC CORPORATION制造，固体成分35质量％，Tg-50℃)(商品名：Hydran WLS-202 DIC CORPORATION制造，固体成分35质量％，Tg-50℃)(商品名：Hydran WLS-221 DIC CORPORATION制造，固体成分35质量％，Tg-30℃)(商品名：Hydran WLS-210 DIC CORPORATION制造，固体成分35质量％，Tg-15℃)(商品名：Hydran WLS-213 DIC CORPORATION制造，固体成分35质量％、Tg-15℃)(商品名：HydranWLI-602 DIC CORPORATION制造，固体成分39.5质量％，Tg-50℃)(商品名：Hydran WLI-611DIC CORPORATION制造，固体成分39.5质量％，Tg-15℃)、丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名：JURYMER(注册商标)AT-210 Nihon Junyaku Co.，Ltd.制造)、丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名：JURYMER(注册商标)ET-410Nihon Junyaku Co.，Ltd.制造)、丙烯酸烷基酯共聚物铵(商品名：JURYMER(注册商标)AT-510Nihon Junyaku Co.，Ltd.制造)、聚丙烯酸(商品名：JURYMER(注册商标)AC-10L Nihon Junyaku Co.，Ltd.制造)进行氨中和并乳化而成的聚合物乳胶。

-聚合性化合物-

外敷层优选包含聚合性化合物。作为聚合性化合物，可以是光聚合性化合物，也可以是热聚合性化合物。

外敷层优选具有光聚合性化合物。作为光聚合性化合物所具有的光聚合性基没有特别限制，能够列举烯属不饱和基、环氧基等。作为外敷层的光聚合性化合物，优选包含具有烯属不饱和基的化合物，更优选包含具有(甲基)丙烯酰基的化合物。

光聚合性化合物可以单独仅使用一种，也可以组合两种以上使用，但从改善将转印后的外敷层进行曝光后的赋予盐水后的耐湿热性的观点考虑，优选组合两种以上使用。从改善将转印后的外敷层进行曝光之后的赋予盐水后的湿热耐性的观点考虑，光聚合性化合物优选组合使用3官能以上的光聚合性化合物和2官能的光聚合性化合物。

2官能的光聚合性化合物相对于所有光聚合性化合物，优选在10质量％～90质量％的范围内进行使用，更优选在20质量％～85质量％的范围内进行使用，尤其优选在30质量％～80质量％的范围内进行使用。

3官能以上的光聚合性化合物相对于所有光聚合性化合物，优选在10质量％～90质量％的范围内进行使用，更优选在15质量％～80质量％的范围内进行使用，尤其优选在20质量％～70质量％的范围内进行使用。

作为前述光聚合性化合物，优选至少包含具有两个乙烯性不饱和基团的化合物及具有至少三个乙烯性不饱和基团的化合物，更优选至少包含具有两个(甲基)丙烯酰基的化合物及具有至少三个(甲基)丙烯酰基的化合物。

并且，作为前述光聚合性化合物，优选包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的混合量相对于所有的光聚合性化合物优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物优选光聚合性基团的官能团数量即(甲基)丙烯酰基的数量为3官能以上，更优选为4官能以上。

具有2官能的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物，只要是在分子内具有两个乙烯性不饱和基团的化合物，则无特别的限定，能够使用市售的(甲基)丙烯酸酯化合物。例如能够优选使用三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、三环癸二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、1，9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)等。

具有3官能以上的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物只要是在分子内具有三个以上乙烯性不饱和基团的化合物，则无特别的限定，例如能够使用二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、异氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，但优选(甲基)丙烯酸酯之间的跨距长度长的化合物。具体而言，能够优选使用前述二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、异氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(NIPPON KAYAKUCo.，Ltd.制造的KAYARAD DPCA，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的A-9300-1CL等)、环氧烷改性化合物(NIPPON KAYAKU Co.，Ltd.制造的KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制造的EBECRYL 135等)等。并且，能够优选使用含有羧基的多元酸改性的(甲基)丙烯酸酯单体(TOAGOSEI CO.，LTD.制造的ARONIX M-510、M-520等)。并且，优选使用3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，能够优选使用8UX-015A(TAISEI FINE CHEMICAL CO，.LTD.制造)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、UA-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)等。

光聚合性化合物的平均分子量优选为200～3000，更优选为250～2600，尤其优选为280～2200。

作为热聚合性化合物，能够优选使用上述光聚合性化合物中还为热聚合性化合物的化合物。

前述外敷层中，聚合性化合物相对于前述粘合剂聚合物的比例(聚合性化合物的含量M/粘合剂聚合物的含量B)优选为0.1～2倍，更优选为0.2～1.5倍，尤其优选为0.3～1倍。

-聚合引发剂-

前述外敷层优选包含聚合引发剂。作为聚合引发剂，可以为光聚合引发剂，也可以为热聚合引发剂。

外敷层优选具有光聚合引发剂。前述固化性透明树脂层包含前述光聚合性化合物及前述光聚合引发剂，由此能够容易形成固化性透明树脂层的图案。

作为使用于有机溶剂类树脂组合物中的光聚合引发剂，能够使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段落中所记载的光聚合引发剂。

作为热聚合引发剂，能够优选使用日本特开2011-32186号公报的0193～0195段落中记载的热聚合引发剂，该公报的内容并入本说明书中。

前述外敷层中，优选含有相对于前述外敷层为1质量％以上的前述聚合引发剂，更优选含有2质量％以上。前述外敷层中，优选含有相对于前述外敷层为10质量％以下的前述聚合引发剂，从改善图案形成性、基板密合性的观点考虑，更优选含有5质量％以下。

-金属氧化物粒子-

前述外涂层以调节折射率或透光性为目的，可以包含或不包含粒子(优选金属氧化物粒子)。为了将前述外涂层的折射率控制在上述范围内，根据所使用的聚合物或聚合性化合物的种类，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子。在前述外涂层中，优选包含相对于前述外涂层为0～35质量％的前述金属氧化物粒子，更优选包含0～10质量％，尤其优选不包含。

金属氧化物粒子的透明性高且具有透光性，因此能够可得到高折射率且透明性优异的正型固化性树脂组合物。

前述金属氧化物粒子优选为折射率比由从外涂层中去除该粒子的材料构成的组合物的折射率高的金属氧化物粒子。

另外，前述金属氧化物粒子的金属中还包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。

作为透光性且折射率高的金属氧化物粒子，优选为包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更优选氧化钛、钛复合氧化物、氧化锌、氧化锆、铟/锡氧化物及锑/锡氧化物，进一步优选氧化钛、钛复合氧化物及氧化锆，尤其优选氧化钛及氧化锆，最优选二氧化钛。作为二氧化钛，尤其优选折射率高的金红石型。为了对这些金属氧化物粒子赋予分散稳定性而能够用有机材料对表面进行处理。

从外涂层的透明性的观点考虑，前述金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，尤其优选为3～80nm。在此，粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜来测定任意200个粒子的粒径并算出的其算术平均。并且，粒子的形状为非球形的情况下，将最长边设为粒径。

并且，前述金属氧化物粒子可以单独使用一种，也能够同时使用两种以上。

从将折射率控制在前述外敷层的折射率的范围的观点考虑，优选外敷层具有ZrO₂粒子、Nb₂O₅粒子及TiO₂粒子中的至少一个，更优选ZrO₂粒子及Nb₂O₅粒子。

[膜传感器的制造方法]

本发明的膜传感器的制造方法包含以下工序：在膜传感器的至少一表面，从本发明的转印薄膜转印前述着色组合物层而形成装饰层，所述膜传感器具备透明的基材片、配置于前述基材片的至少一个表面(单面或双面)的电极图案、连接于前述电极图案的迂回布线及以覆盖前述电极图案的方式层叠的外敷层。

<透明膜的成膜>

在本发明的膜传感器还具有折射率为1.6～1.78且膜厚为55～110nm的透明膜的情况下，前述透明膜在前述透明的基材片上直接成膜或经由其他层成膜。

作为前述透明膜的成膜方法没有特别限制，优选通过涂布、转印或溅射进行成膜的方法。

在前述透明膜为无机膜的情况下，优选通过溅射而形成。即，在层叠体中，前述透明膜也优选通过溅射而形成。

作为溅射方法，能够优选使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中使用的方法。

另外，本说明书中的“透明”是指波长400nm～750nm的光的透射率为80％以上。

<电极图案、遮光性导电膜及迂回布线的形成>

前述电极图案、前述遮光性导电膜及前述迂回布线能够使用感光性薄膜而形成于薄膜基材上。

优选第一电极图案3、第二电极图案4和迂回布线6中的至少一个要素使用依次具有临时支撑体和光固化性树脂层的感光性薄膜来形成。若使用前述感光性薄膜形成前述各要素，则能够以用简单的工序制造经薄层化及轻量化的前面板一体型传感器。

并且，前述电极图案、前述遮光性导电膜也优选通过日本专利第5026580号公报的0030～0042段落中记载的方法来形成。

(感光性薄膜)

对在制造本发明的膜传感器或后述前面板一体型传感器时优选使用的本发明的转印薄膜以外的前述感光性薄膜进行说明。前述感光性薄膜具有临时支撑体和光固化性树脂层，优选在临时支撑体与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。若使用具有前述热塑性树脂层的感光性薄膜形成前述电极图案、前述遮光性导电膜、前述迂回布线或第二装饰层等，则在转印光固化性树脂层而形成的要素中不易产生气泡，并且在图像显示装置中不易产生图像不均匀等，能够获得优异的显示特性。

前述感光性薄膜可以是负型材料，也可以是正型材料。

-光固化性树脂层以外的层、制作方法-

作为前述感光性薄膜中的前述临时支撑体、前述热塑性树脂层，能够使用日本特开2014-108541号公报的0041～0047段落中记载的热塑性树脂层。并且，作为前述感光性薄膜的制作方法，也能够使用与日本特开2014-108541号公报的0041～0047段落中记载的制作方法相同的方法。

-光固化性树脂层-

前述感光性薄膜根据其用途将添加物添加于光固化性树脂层。即，在形成第二装饰层时使用前述感光性薄膜的情况下，使光固化性树脂层中含有着色剂。并且，在为了形成前述电极图案、前述遮光性导电膜、前述迂回布线，而前述感光性薄膜具有导电性光固化性树脂层的情况下，前述光固化性树脂层中含有导电性纤维等。

在前述感光性薄膜为负型材料的情况下，优选光固化性树脂层含有碱溶性树脂、聚合性化合物及聚合引发剂。还可以使用导电性纤维、着色剂及其它添加剂等，但并不限定于此。

--碱溶性树脂、聚合性化合物及前述的聚合引发剂--

作为前述感光性薄膜中所包含的碱溶性树脂、聚合性化合物及前述的聚合引发剂，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的碱溶性树脂、聚合性化合物及聚合引发剂。

--导电性纤维(用作导电性光固化性树脂层的情况)--

将层叠有前述导电性光固化性树脂层的前述感光性薄膜，在形成电极图案或引绕布线时进行使用的情况下，能够将以下导电性纤维等使用于光固化性树脂层中。

作为导电性纤维的结构并无特别的限制，根据目的，能够适当地进行选择，但优选实心结构及中空结构中的任意结构。

在此，有时将实心结构的纤维称作“线”，将中空结构的纤维称作“管”。并且，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm且平均长轴长度为1μm～100μm的导电性纤维称作“纳米线”。

并且，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm、平均长轴长度为0.1μm～1,000μm且具有中空结构的导电性纤维称作“纳米管”。

作为前述导电性纤维的材料，只要具有导电性就无特别的限制，根据目的，能够适当地进行选择，但优选金属及碳中的至少任一种，其中，前述导电性纤维尤其优选金属纳米线、金属纳米管及碳纳米管中的至少任一种。

作为前述金属纳米线的材料并无特别的限制，例如优选选自包括长周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期及第6周期的组的至少一种金属，更优选选自第2族～第14族的至少一种金属，进一步优选选自包括第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族及第14族的组的至少一种金属，尤其优选作为主要成分而包含。

作为前述金属可以举出例如铜、银、金、铂金、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅及它们的合金等。其中，从导电性优异的方面考虑，优选主要含有银，或者优选含有银和银以外金属的合金。

主要含有前述银是指在金属纳米线中银含有50质量％以上，优选含有90质量％以上。

作为以与前述银的合金而使用的金属，可以举出铂金、锇、钯及铱等。这些可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

作为前述金属纳米线的形状没有特别限制，能够根据目的适当地选择，例如能够采用圆柱状、长方体状、截面为多边形的柱状等任意的形状，但在需要高透明性的用途中，优选圆柱状、截面的多边形没有棱角的截面形状。

在基材上涂布金属纳米线水分散液，并通过透射电子显微镜(TEM)来观察剖面，从而能够检查前述金属纳米线的剖面形状。

前述金属纳米线的剖面的角是指，将剖面的各个边进行延长，与从相邻的边下垂的垂线相交的点的周边部。并且，“剖面的各个边”是指连结这些相邻的角和角的直线。该情况下，将相对于前述“剖面的各个边”的合计长度的前述“剖面的外周长度”的比率设为锐度。例如，如图9所示的金属纳米线剖面中，锐度能够由用实线表示的剖面的外周长度与用虚线表示的五边形的外周长度的比例来表示。将锐度为75％以下的剖面形状定义为无棱角的剖面形状。前述锐度优选为60％以下，更优选为50％以下。若前述锐度超过75％，则该角部或者因局部存在电子，且等离子吸收增加，残留黄色等透明性变差。并且，图案的边缘部的线性降低，会产生波动。前述锐度的下限优选为30％，更优选为40％。

作为前述金属纳米线的平均短轴长度(有时称作“平均短轴直径”、“平均直径”)，优选为150nm以下，更优选为1nm～40nm，进一步优选为10nm～40nm，尤其优选为15nm～35nm。

若前述平均短轴长度小于1nm，则有可能抗氧化性变差，而耐久性变差，若超过150nm，则产生由金属纳米线引起的散射，无法获得充分的透明性。

关于前述金属纳米线的平均短轴长度，利用透射电子显微镜(TEM；JEOL Ltd.制造，JEM-2000FX)观察300个金属纳米线，由其平均值求出金属纳米线的平均短轴长度。

另外，关于前述金属纳米线的短轴为在非圆形情况下的短轴长度，将最长的作为短轴长度。

作为前述金属纳米线的平均长轴长度(有时称作“平均长度”)，优选为1μm～40μm，更优选为3μm～35μm，进一步优选为5μm～30μm。

若前述平均长轴长度小于1μm，则不易形成稠密的网状组织，有时无法获得充分的导电性，若超过40μm，则因金属纳米线过长而制造时缠结，有时在制造过程中会生成凝聚物。

前述金属纳米线的平均长轴长度例如使用透射型电子显微镜(TEM；JEOL Ltd.制造，JEM-2000FX)观察任意300个金属纳米线，并求出300个金属纳米线的长轴长度的平均值，设为金属纳米线的平均长轴长度。另外，在前述金属纳米线弯曲的情况下，将金属纳米线考虑为呈弧形的圆，将由圆的半径及曲率算出的值作为长轴长度。

从涂布液的稳定性、涂布时的干燥、形成图案时的显影时间等工艺适性的观点考虑，导电性光固化性树脂层的层厚优选为0.1μm～20μm，更优选为0.5μm～18μm，进一步优选为1μm～15μm。

从导电性和涂布液的稳定性的观点考虑，相对于前述导电性光固化性树脂层的总固体成分，前述导电性纤维的含量优选为0.01质量％～50质量％，进一步优选为0.05质量％～30质量％，尤其优选为0.1质量％～20质量％。

--着色剂(当用作第二装饰层时)--

并且，在将前述感光性薄膜用作第二装饰层的情况下，能够将着色剂使用于光固化性树脂层中。作为光固化性树脂曾中所使用的着色剂，能够适宜地使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。

将前述光固化性树脂层用作黑色的第二装饰层的情况下，从光学浓度的观点考虑，优选含有黑色着色剂。作为黑色着色剂，可以举出例如炭黑、钛黑、氧化铁、氧化钛、黑铅等，其中，优选炭黑。另外，在光固化性树脂层中，除了黑色着色剂以外，还能够使用红色、蓝色、绿色等颜料的混合物等。

将前述光固化性树脂层用作白色的第二装饰层的情况下，能够使用日本特开2005-7765公报的0015及0114段落中所记载的白色颜料。为了用作其它颜色的第二装饰层，也可以混合日本专利第4546276号公报的0183～0185段落等中所记载的颜料或染料而使用。具体而言，能够适宜地使用日本特开2005-17716号公报的0038～0054段落中所记载的颜料及染料、日本特开2004-361447号公报的0068～0072段落中所记载的颜料、日本特开2005-17521号公报的0080～0088段落中所记载的着色剂等。

前述着色剂(优选为颜料，更优选为炭黑)优选作为分散液而使用。该分散液能够通过将预先混合前述着色剂和颜料分散剂而得到的组合物添加到后述有机溶剂(或媒介物)中使其分散而制备。前述媒介物是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质部分，包含呈液态且与前述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)和将其进行溶解稀释的成分(有机溶剂)。

使前述颜料分散时所使用的分散机并无特别的限制，可以举出例如在朝仓邦造著、“颜料辞典”、第一版、朝仓书店、2000年、438项中记载的捏合机、辊磨机、磨碎机、超级研磨机、溶解器、均质混合器、砂磨机及珠磨机等公知的分散机。

另外，通过该文献310页所记载的机械磨碎，可以利用摩擦力进行微粉碎。

从分散稳定性的观点考虑，前述着色剂优选为数均粒径为0.001μm～0.1μm的着色剂，进一步优选数均粒径为0.01μm～0.08μm的着色剂。另外，在此所谓“粒径”是指将粒子的电子显微镜照片图像设为相同面积的圆时的直径，并且“数均粒径”是指求出多个粒子的前述粒径，并从其中任意选择的100个粒径的平均值。

从与其它层的厚度差的观点考虑，包含着色剂的光固化性树脂层的层厚优选为0.5μm～10μm，进一步优选为0.8μm～5μm，尤其优选为1μm～3μm。前述着色组合物的固体成分中的着色剂的含有率并无特别的限制，但从充分地缩短显影时间的观点考虑，优选为15质量％～70质量％，更优选为20质量％～60质量％，进一步优选为25质量％～50质量％。

在本说明书中所说的总固体成分是指从着色感光性树脂组合物中去除溶剂等的不挥发成分的总质量。

另外，在使用前述感光性薄膜而形成绝缘层的情况下，从维持绝缘性的观点考虑，光固化性树脂层的层厚优选为0.1μm～5μm，进一步优选为0.3μm～3μm，尤其优选为0.5μm～2μm。

--其他添加剂--

而且，上述光固化性树脂层也可以使用其它添加剂。作为前述添加剂，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的添加剂。

并且，作为通过涂布而制造前述感光性薄膜时的溶剂，能够使用与本发明的转印薄膜中所使用的相同的溶剂。

以上，以前述感光性薄膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但前述感光性薄膜也可以是正型材料。在前述感光性薄膜为正型材料的情况下，光固化性树脂层中可以使用例如在日本特开2005-221726号公报中所记载的材料等，但并不限定于此。

(通过感光性薄膜形成第一电极图案及第二电极图案、迂回布线)

前述第一电极图案3、第二电极图案4及引绕布线6能够利用蚀刻处理或具有导电性光固化性树脂层的前述感光性薄膜，或者将感光性薄膜作为剥离材料进行使用而形成。

-蚀刻处理-

通过蚀刻处理形成前述第一电极图案3、第二电极图案4及迂回布线6时，首先，在形成有第二装饰层2等的前面板1的形成有第二装饰层2的一侧(非接触面上)通过溅射形成ITO等透明电极层。接着，在前述透明电极层上，使用具有蚀刻用光固化性树脂层作为前述光固化性树脂层的前述感光性薄膜，通过曝光及显影而形成蚀刻图案。之后，对透明电极层进行蚀刻而将电极图案化，并去除蚀刻图案，由此能够形成第一透明电极图案3等。

在将前述感光性薄膜用作蚀刻抗蚀剂(蚀刻图案)的情况下，也能够以与前述方法相同的方式获得抗蚀剂图案。至于前述蚀刻，通过在日本特开2010-152155公报的0048～0054段落等中所记载的公知的方法而能够适用蚀刻、抗蚀剂剥离。

例如，作为蚀刻方法可以举出通常进行的、浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。至于湿式蚀刻中所使用的蚀刻液，配合蚀刻对象而适当地选择酸性类型的蚀刻液或碱性类型的蚀刻液即可。作为酸性类型的蚀刻液，可以例示出盐酸、硫酸、氟酸、磷酸等单独酸性成分的水溶液，酸性成分和三氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可以使用组合多个酸性成分的酸性成分。并且，作为碱性类型的蚀刻液，可以例示出氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵之类的有机胺的盐等单独碱性成分的水溶液，碱性成分和高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱性成分可以使用组合多种碱性成分的碱性成分。

蚀刻液的温度并无特别限定，但优选45℃以下。在本发明中作为蚀刻掩模(蚀刻图案)而使用的树脂图案是通过使用上述光固化性树脂层而形成的，因此对这种温度区域中的酸性及碱性的蚀刻液发挥尤其优异的耐性。从而，防止在蚀刻工序中树脂图案被剥离，不存在树脂图案的部分被选择性地蚀刻。

在前述蚀刻之后，为了防止生产线的污染，根据需要，也可以进行清洗工序及干燥工序。关于清洗工序，例如在常温下通过纯水经10～300秒钟清洗基材，关于干燥工序，使用鼓风来适当地调整鼓风压(0.1～5kg/cm²左右)而进行即可。

接着，作为树脂图案的剥离方法并无特别限定，但可以举出例如在30～80℃，优选在50～80℃下将基材经5～30分钟浸渍于搅拌中的剥离液的方法。在本发明中，作为蚀刻掩模而使用的树脂图案，如上所述，在45℃以下显示出优异的耐化学性，若药液温度成为50℃以上，则显示出通过碱性剥离液而溶胀的性质。根据这种性质，若使用50～80℃的剥离液进行剥离工序，则具有工序时间缩短且树脂图案的剥离残渣减少的优点。即，通过在前述蚀刻工序与剥离工序之间设置药液温度差，在本发明中作为蚀刻掩模而使用的树脂图案在蚀刻工序中发挥良好的耐化学性，另一方面，在剥离工序中显示出良好的剥离性，能够均满足耐化学性和剥离性这两种相反的特性。

作为剥离液，可以举出例如将氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱性成分、叔胺、季铵盐等有机碱性成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合溶液中的剥离液。也可以使用前述剥离液，并通过喷雾法、喷淋法、旋覆浸没式法等进行剥离。

-具有导电性光固化性树脂层的感光性薄膜-

使用具有导电性光固化性树脂层的前述感光性薄膜而形成前述第一电极图案3、第二电极图案4及引绕布线6的情况下，能够通过将前述导电性光固化性树脂层转印到前述前面板1的表面而形成。

若使用具有前述导电性光固化性树脂层的感光性薄膜来形成前述第一电极图案3等，则即使在具有开口部的基板(前面板)上，也不会从开口部分泄漏抗蚀剂成分，且不会污染基板背面侧，而能够以简单的工序制造具有薄层化及轻量化的优点的触摸面板。

而且，在形成第一电极图案3等时，使用具有在导电性光固化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层结构的前述感光性薄膜，由此防止在感光性薄膜层压时产生气泡，并能够形成导电性优异且电阻小的第一电极图案3、第二电极图案4及引绕布线6。

-感光性薄膜作为剥离材料的使用-

并且，也能够将前述感光性薄膜用作剥离材料而形成第一透明电极层、第二透明电极层及迂回布线。

该情况下，在使用前述感光性薄膜而进行图案化之后，且在基材整面形成透明导电层之后，对所堆积的每一个透明导电层进行前述光固化性树脂层的溶解和去除，从而能够获得所希望的透明导电层图案(剥离法)。

<层叠外敷层的工序>

在膜传感器的制造方法中，形成前述外敷层7时，能够通过使用转印薄膜在任意地形成有各要素的前述基材片1A的表面转印前述外敷层而形成。

层叠外敷层的工序优选为转印(贴合)工序。转印工序是指如下工序：外敷层从转印薄膜被层叠在任意的材料(例如形成有电极图案或遮光性导电膜或迂回布线等的基材)上，结果外敷层被贴合在任意的材料上。此时，优选包括将转印薄膜的前述外敷层压合在基材上后，去除临时支撑体的工序的方法。

通过该工序，外敷层以覆盖电极图案的方式被层叠。

在形成有电极图案、遮光性导电膜、迂回布线等的基材上层叠外敷层的工序优选通过将前述外敷层重叠在基材的表面并加压及加热来进行。

在基材上层叠外敷层的工序中，能够使用层压机、真空层压机及能够更加提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。层压机优选具备橡胶辊等任意的能够进行加热的辊，能够进行加压及加热。

层叠外敷层的工序中的贴合外敷层和基材时的温度优选为60～150℃，更优选为65～130℃，尤其优选为70～100℃。

在层叠外敷层的工序中的外敷层与基材之间，优选施加线压60～200N/cm，更优选施加线压70～160N/cm，尤其优选施加线压80～120N/cm。

层叠外敷层的工序中的外敷层的传送速度优选为2.0m/min以上，更优选为3.0m/min以上，进一步优选为4.0m/min以上。即使在这种高速压合时，也能够抑制向基材压合时的气泡混入。

膜传感器的制造方法优选具有对外敷层进行曝光的曝光工序及对经曝光的外敷层进行显影的显影工序。

外敷层的曝光工序及显影工序将在后面进行说明。

<形成装饰层的工序>

本发明的膜传感器的制造方法包括形成装饰层的工序。

形成装饰层的工序为以下工序：在膜传感器的至少一个表面从本发明的转印薄膜转印前述着色组合物层而形成装饰层，所述膜传感器具备透明的基材片、配置于前述基材片的至少一个表面的电极图案、连接于前述电极图案的迂回布线及以覆盖前述电极图案的方式层叠的外敷层。

在膜传感器的制造方法中，当形成前述装饰层时，优选通过使用本发明的转印薄膜将前述着色组合物层转印在任意地形成各要素的前述膜传感器的外敷层的表面来形成。

在本发明的膜传感器的制造方法中，更优选在转印前述着色组合物层的前述膜传感器的一个表面包含前述迂回布线的至少一部分区域及前述外敷层的至少一部分区域。

膜传感器的制造方法中，当本发明的转印薄膜包含保护膜时，优选包括在层叠装饰层的工序之前，从本发明的转印薄膜去除前述保护膜的保护膜去除工序。

<曝光工序、显影工序>

膜传感器的制造方法优选具有对转印在基材上的外敷层(在没有层叠外敷层的基材中，对固化性透明树脂层或着色组合物层、优选还对第二透明树脂层)进行曝光的曝光工序；及对经曝光的外敷层(在没有层叠外敷层的基材中，对固化性透明树脂层或着色组合物层、优选还对第二透明树脂层)进行显影的显影工序。

作为前述曝光工序、显影工序及其它工序的例子，将日本特开2006-23696号公报的0035～0051段落中记载的方法也能够适当地使用于本发明中。

前述曝光工序是对转印至电极图案上的前述固化性透明树脂层、前述着色组合物层等进行曝光的序。

具体而言，可列举在形成于前述电极图案上的前述固化性透明树脂层、前述着色组合物层的上方配置预先设定的掩模，然后经由掩模、临时支撑体从掩模上方对前述固化性透明树脂层或前述着色组合物层进行曝光的方法。

在此，作为前述曝光的光源，只要是能够照射可以固化前述固化性透明树脂层或前述着色组合物层的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源，则能够适当地选定而使用。具体而言，可列举超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯、激光直接绘制曝光法、DLP曝光法等。

作为曝光量，通常为5～200mJ/cm²左右，优选为10～100mJ/cm²左右。

作为曝光的光源，也可以是能够激发对前述固化性透明树脂层或前述着色组合物层进行固化的波长区域的激光束的半导体激光器。作为半导体激光器的例子，可列举激发390nm以上且小于440nm的激光束的半导体激光器，作为这种半导体激光器，能够适当地使用淡化镓系的蓝色激光。尤其，从通过直接绘制曝光法而易形成图案的方面考虑，优选使用半导体激光器作为光源。并且，也可使用Hitachi Via Mechanics，Ltd.制造的“DE-1AH”(商品名)等数字直接曝光机。

作为激光曝光的替代评价，能够使用将以高压汞灯等汞灯作为光源的光中波长365nm以下的光去掉99.5％以上而获得的活化光线(例如h射线)作为在390nm以上且小于440nm的波长范围内具有峰值的光。

作为用于去掉波长365nm以下的光的滤光器，可列举SIGMAKOKI CO.，LTD.制造的锐波滤光器“SCF-100S-39L”(产品名)、Asahi Spectra Co.，Ltd.制造的光谱滤光器“HG0405”(产品名)等。

作为当应用去掉波长365nm以下的光而得的活化光线的时，将活化光线照射到前述固化性透明树脂层或前述着色组合物层的所期望的区域的方法，可列举通过被称为工艺模型图(art work)的负掩模图案或正掩模图案以图像状照射活化光线，并固化照射部的方法。

前述显影工序是对经曝光的固化性透明树脂层、前述着色组合物层等进行显影的工序。

在本发明中，前述显影工序是利用显影液对图案曝光后的前述固化性透明树脂层、前述着色组合物层等进行图案显影的狭义含义的显影工序。

前述显影能够使用显影液来进行。作为前述显影液并无特别的限制，能够使用在日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。另外，显影液优选光固化性树脂层或前述着色组合物层采取溶解型显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物的显影液。另一方面，前述固化性透明树脂层及前述着色组合物层本身不形成图案的情况下的显影液优选为进行不溶解前述非碱性显影型着色组合物层的类型的显影行为的显影液，例如优选以0.05～5mol/L的浓度含有pKa＝7～13的化合物的显影液。在显影液中还可以少量添加具有与水的混和性的有机溶剂。作为具有与水的混和性的有机溶剂，可以举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁基醚、苯甲醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基膦酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。

并且，前述显影液中还能够添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。

作为前述显影方式，可以是旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等中的任一种。在此，若对前述喷淋显影进行说明，则曝光后通过喷淋对前述固化性透明树脂层及前述着色组合物层等喷附显影液而能够去除未固化部分。并且，优选在显影之后，通过喷淋而喷附清洗剂等，并用刷子等进行擦拭，由此去除显影残渣。显影液的液体温度优选为20℃～40℃，并且显影液的pH优选为8～13。

<热处理>

本发明的膜传感器的制造方法优选在转印前述着色组合物层而形成装饰层的工序之后，包含对前述膜传感器在130～170℃下进行热处理的工序(后烘烤工序)。通过在这样的温度下进行热处理，在薄膜基材上预先形成电极图案、迂回布线、遮光性导电膜、外敷层等其它部件之后形成装饰层的膜传感器的制造方法中，也能够进行热处理，且不会对其它部件带来不良影响。

进行热处理的工序的温度更优选为140℃～160℃，尤其优选为140℃～150℃。

进行热处理的工序的时间优选为1分钟～60分钟，更优选为10分钟～60分钟，尤其优选为20分钟～50分钟。

<其他工序>

膜传感器的制造方法可以具有后曝光工序、其他工序。

另外，可以在剥离临时支撑体之后进行图案化曝光或整面曝光，也可以在剥离临时支撑体之前进行曝光，然后剥离临时支撑体。可以是经由掩模的曝光，也可以是使用激光等的数字曝光。

[前面板一体型传感器]

本发明的前面板一体型传感器具有透明的前面板及本发明的膜传感器。

前面板一体型传感器优选为静电电容型输入装置。

以下，说明本发明的前面板一体型传感器的优选方式的详细内容。

<前面板一体型传感器的结构>

首先，针对本发明的前面板一体型传感器的优选的结构，与构成装置的各部件的制造方法一并进行说明。

图1是表示本发明的前面板一体型传感器的优选的构成的剖视图。在图1中示出前面板一体型传感器由透明基板(前面板)1、第二装饰层(掩模层)2、本发明的膜传感器43构成的方式。

图1中将透明的前面板1的设置有各要素的一侧称为非接触面侧。在本发明的前面板一体型传感器中，以使手指等接触透明的前面板1的接触面(与非接触面相反的面)的方式等进行输入。

本发明的前面板一体型传感器优选前述透明的前面板为玻璃。

更优选透明的前面板为折射率1.5～1.55的玻璃基板。前述透明的前面板的折射率尤其优选为1.5～1.52。前述透明的前面板由玻璃基板等透光性基板构成，能够使用以Corning公司的GoriIla Glass(“Gorilla”为注册商标)为代表的强化玻璃等。并且，作为前述透明的前面板，能够优选使用在日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所使用的材料。

另外，在透明的前面板1上，如图2所示能够在局部设置开口部8。在开口部8能够设置按压式机械开关。

本发明的前面板一体型传感器优选在前述透明的前面板的一个表面的一部分区域具有第二装饰层。

图1中，在透明的前面板1的非接触面上设置有第二装饰层2。第二装饰层2为形成于触摸面板前面板的非接触面侧的显示区域周围的框缘状(框状)的图案，是为了使得从接触面侧看不到迂回布线6等而形成的。

如图2所示，优选在前面板一体型传感器上以覆盖透明的前面板1的一部分区域(在图2中为输入面以外的区域)的方式设置有第二装饰层2。

前述第二装饰层以框缘状设置在接触面的与用手指或触控笔等触摸的区域相反的一侧的面的周围，为了使得从接触侧看不到电极图案的迂回布线或为了进行装饰而设置。前述第二装饰层优选为白色或黑色的第二装饰层。

前述第二装饰层更优选与前述透明的前面板相邻设置。

优选将第二装饰层2的厚度设为7μm～30μm。

本发明的前面板一体型传感器优选前述第二装饰层配置于前述透明的前面板与前述膜传感器的装饰层之间。

就本发明的前面板一体型传感器而言，当从前述透明的前面板的法线方向观察时，优选前述第二装饰层的正投影与前述膜传感器的装饰层的至少部分区域重叠。

优选前述膜传感器的装饰层45的内缘位于比前述第二装饰层2的内缘靠中央侧的位置。

更优选透明的前面板1的形成有第2装饰层的一侧的面和膜传感器的装饰层45之间的距离为10μm～100μm。若前面板1的形成有第2装饰层的一侧的面和装饰层45之间的距离为10μm以上，则粘合剂的厚度充分地变厚，会提高膜传感器和透明的前面板1的密合力。并且，若前面板1的形成有第2装饰层的一侧的面和装饰层45之间的距离为100μm以下，则会提高包围显示画面的一部分的外观上的一体感。

<前面板一体型传感器的制造方法>

作为在制造本发明的前面板一体型传感器的过程中形成的实施方式的例，能够列举图4～图8的方式。图4是表示形成有开口部8的由强化处理玻璃构成的透明的前面板1的一例的俯视图。图5是表示形成有第二装饰层2的前面板一体型传感器的一例的俯视图。

图6～图8是层叠有膜传感器的前面板一体型传感器的结构的一例。图6是表示层叠有膜传感器并形成有第一电极图案3的前面板一体型传感器的一例的俯视图。图7是表示层叠有膜传感器并形成有第一电极图案3和第二电极图案4的前面板一体型传感器的一例的俯视图。图8是表示层叠有膜传感器并形成有第一电极图案及第二电极图案和迂回布线6的前面板一体型传感器的一例的俯视图。这些是表示将以下说明进行具体化的例子的图，本发明的范围并不会被这些附图限定地解释。

在前面板一体型传感器的制造方法中，优选使用依次具有临时支撑体和光固化性树脂层的感光性薄膜形成第二装饰层2。

若使用本发明的转印薄膜或前述感光性薄膜来形成前述第二装饰层，则即使在具有开口部的基板(前面板)上也不会从开口部分泄漏抗蚀剂成分，尤其在需要将遮光图案形成至前面板的边界线正上方为止的第二装饰层上，抗蚀剂成分不会从玻璃端溢出(泄漏)，因此不会污染前面板背面侧，能够以简单的工序制造薄层化及轻量化的触摸面板。

使用前述感光性膜形成前述第二装饰层时，感光性膜在压合于基材上之后，根据需要按照图案进行曝光，在感光性膜为负型材料的情况下，可以通过对非曝光部分进行显影处理并将其去除而得到图案，在感光性膜为正型材料的情况下，可以通过对曝光部分进行显影处理并将其去除而得到图案。显影时可以分别用不同的显影液将热塑性树脂层和光固化性树脂层进行显影而去除，也可以用相同的显影液进行去除。根据需要，可以将刷子、高压喷射器等公知的显影设备进行组合。在显影之后，根据需要，也可以进行后曝光、后烘干。

(通过感光性薄膜形成第二装饰层)

使用前述感光性薄膜，将光固化性树脂层转印到透明的前面板1等，从而能够形成前述第二装饰层。例如在形成黑色的第二装饰层2的情况下，能够使用具有黑色光固化性树脂层作为前述光固化性树脂层的前述感光性薄膜，通过将前述黑色光固化性树脂层转印到前述透明的前面板1的表面而形成。

而且，在形成需要遮光性的第二装饰层2时，使用具有在光固化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层结构的前述感光性薄膜，从而防止在感光性薄膜层压时产生气泡，并能够形成无漏光的高品质的第二装饰层2。

[图像显示装置]

本发明的图像显示装置为具备本发明的前面板一体型传感器作为构成要素的图像显示装置。

本发明的前面板一体型传感器及具备该前面板一体型传感器的图像显示装置，可以应用“最新触摸面板技术”(2009年7月6日发行TechnoTimes)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术和开发”、CMC出版(2004，12)、FPD International 2009Forum T-11讲演教材、Cypress Semiconductor Corporation应用注解AN2292等中公开的结构。

实施例

以下列举实施例而进一步具体地说明本发明的实施方式。以下实施例中示出的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨就能够适当地进行变更。从而，本发明的实施方式并不限定于以下所示的具体例。

另外，只要没有特别指明，“份”及“％”为质量基准。

[实施例1]

<着色组合物的制备>

将炭黑、分散剂、聚合物及溶剂混合，使其成为下述K颜料分散物1的组成，使用3根辊和珠磨机得到K颜料分散物1。

通过以下步骤，获得了着色组合物形成层的着色组合物的黑色组合物K1(着色组合物)。

首先，量取表1中所记载的量的K颜料分散物1、丙二醇单甲醚乙酸酯(MMPG-Ac)，在温度24℃(±2℃)下进行混合，以150RPM(Round Per Minutes：每分钟转速)搅拌10分钟。接着，量取表1中记载的量的溶剂(甲乙酮、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、粘合剂、酚噻嗪、聚合性化合物、聚合引发剂、表面活性剂，在温度25℃(±2℃)下依次添加于搅拌后的溶液中，在温度24℃(±2℃)下、以150RPM搅拌30分钟。

另外，表1中记载的量为质量基准的份数。

(K颜料分散物1)

·按照日本专利第5320652号公报的0036～0042段落制作的树脂包覆炭黑：13.1质量％

·下述分散剂1： 0.65质量％

·聚合物： 6.72质量％

(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(＝72/28摩尔比)的无规共聚物，重均分子量3.7万)

·丙二醇单甲醚乙酸酯： 79.53质量％

[化学式4]

<转印薄膜的制作>

在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴涂布由下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂布液并使其干燥，并形成热塑性树脂层。接着，涂布由下述配方P1构成的中间层用涂布液并使其干燥而形成了中间层。进而，将作为前述着色组合物层形成用的着色组合物的黑色组合物K1涂布于中间层上并使其干燥而形成了着色组合物层。如此，在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层及干燥膜厚为2.0μm的黑色的着色组合物层，最后压接了保护膜(厚度12μm聚丙烯膜)。

这样，制作了临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)、黑(K)的着色组合物层和保护膜成为一体的实施例1的转印膜。

(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)

(C₆F₁₃CH₂CH₂OCOCH＝CH₂ 40份和H(OCH(CH₃)CH₂)₇OCOCH＝CH₂ 55份和H(OCH₂CH₂)₇OCOCH＝CH₂ 5份的共聚物，重均分子量3万、甲乙酮30质量％溶液，DIC CORPORATION制造，商品名：Megaface F780F)

(中间层用涂布液：配方P1)

·PVA205： 32.2质量份

(聚乙烯醇，KURARAY CO.，LTD.制造，皂化度＝88％，聚合度550)

·聚乙烯基吡咯烷酮： 14.9质量份

(ISB CORPORATION.制造，K-30)

·蒸馏水： 524质量份

·甲醇： 429质量份

<光学浓度的评价>

对所获得的实施例1的转印薄膜，使用X-Rite 361T(V)(SAKATA INX ENG.CO.，LTD.制造)测定光学浓度。值越大越优选，A、B或C为实用范围，优选为A或B，更优选为A。所获得的结果示于下述表3。

～评价基准～

A：3.4以上

B：2.5以上且小于3.4

C：1.1以上且小于2.5

D：0.6以上且小于1.1

E：小于0.6

<灵敏度的评价>

从所获得的实施例1的转印薄膜去除保护膜，使去除后露出的黑色的着色组合物层的表面和作为基板的环稀经共聚物薄膜(COP薄膜、TOPAS Advanced Polymers GmbH公司制，商品名TOPAS 5013L-10)的表面以接触的方式重合，使用层压机(Hitachi IndustriesCo.，Ltd.制造(LamicII型))，以橡胶辊温度130℃、线压100N/cm、传送速度2.2m/分钟进行压合。接着，将聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体在与热塑性树脂层的界面剥离，去除了临时支撑体。剥离临时支撑体后，使用具有超高压汞灯的接近式曝光机(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co.，Ltd.制造)在将基板和掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)垂直地立起的状态下，将曝光掩模面和黑色的着色组合物层之间的距离设定为200μm，以曝光量70mJ/cm²进行图案曝光。

接着，将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，将商品名：T-PD2(FUJIFILMCo.，Ltd.制造)用纯水稀释12倍(将T-PD2用1份和纯水11份的比例混合)而得的液体)在30℃下以平齐式喷嘴压力0.1MPa进行20秒钟的喷淋显影，去除了热塑性树脂层和中间层。接着，在该COP薄膜的上表面喷吹空气而进行除夜之后，将纯水通过喷淋喷射10秒钟，进行纯水喷淋清洗，然后喷吹空气，减少基板上的液体滞留。

然后，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(将商品名：T-CDl(FUJIFILM Co.，Ltd.制造)用纯水稀释5倍(将T-CDl以1份和纯水4份的比例混合)的液体)，在30℃下对将喷淋压力设定为0.1MPa，将着色组合物层进行30秒钟的显影，用纯水进行清洗。

接着，使用含表面活性剂的清洗液(将商品名：T-SD3(FUJIFILM Co.，Ltd.制)用纯水稀释10倍的液体)，在33℃下以锥形喷嘴压力0.1MPa通过喷淋喷射20秒钟，清洗了着色组合物层。进而，用超高压清洗喷嘴以9.8MPa的压力喷射超纯水而进行残渣去除。

用微小线宽测定装置(CP-30；SoftWorks Co.Ltd.，制造)测定相对于掩模线宽12.0μm(W2)的图案线宽(Wl)，按照下述评价基准评价了灵敏度。值越大越优选，A、B或C为实用范围，优选为A或B，更优选为A。所获得的结果示于下述表3。

～评价基准～

A：15μm以上

B：12μm以上且小于15μm

C：10μm以上且小于12μm

D：5μm以上且小于10μm

E：小于5μm

<表面电阻的评价>

从用上述的制造方法制作的实施例1的转印薄膜去除保护膜，使去除后露出的黑色的着色组合物层的表面和Eagle XG玻璃基板(Corning Incorporated制造)的表面以接触的方式重合，使用层压机(Hitachi Industries Co.，Ltd.(LamicII型))，在橡胶辊温度130℃下以线压100N/cm、传送速度2.2m/分钟进行压合。接着，将聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体在与热塑性树脂层的界面剥离，去除了临时支撑体。剥离临时支撑体后，用具有超高压汞灯的接近式曝光机(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co.，Ltd.制造)在将基板和掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)垂直地立起的状态下，将曝光掩模面和黑色的着色组合物层之间的距离设定为200μm，以曝光量500mJ/cm²进行全面曝光。

接着，将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，将商品名：T-PD2(FUJIFILMCo.，Ltd.制造)用纯水稀释12倍(将T-PD2以1份和纯水11份的比例混合)而得的液体)，在30℃下以平齐式喷嘴压力0.1MPa进行20秒钟的喷淋显影，去除了热塑性树脂层和中间层。接着，在该裸晶片基板的上表面喷吹空气而进行除夜之后，通过喷淋喷射纯水10秒钟，进行纯水喷淋清洗，喷射空气减少基板上的液体滞留。然后，在烘箱中，在145℃下加热60分钟，获得了固化膜。

针对该固化膜，使用Hiresta-UX MCP-HT800(Mitsubishi Chemical AnalytechCo.，Ltd.制造)测定表面电阻。另外，评价基准如下。值(Ω/sq)越大越优选，A、B或C为实用范围，优选为A或B，更优选为A。所获得的结果示于下述表3。

～评价基准～

A：1×10¹³以上

B：1×10¹²以上且小于1×10¹³

C：1×10¹¹以上且小于1×10¹²

D：1×10¹⁰以上且小于1×10”

E：小于1×10¹⁰

<外敷层用的干薄膜抗蚀剂的制作>

接着，对外敷层用的干薄膜抗蚀剂的制作方法进行说明。在具备搅拌器、回流冷却器、惰性气体导入口及温度计的烧瓶中，加入下述所示的量的丙二醇单甲醚及甲苯(1)，在氮气气氛下升温至80℃，一边将反应温度保持在80℃±2℃，一边经4小时向其中均匀地滴加由下述所示的量的(2)表示的成分的混合物。滴加混合物后，一边将液体温度维持在80℃±2℃，一边继续搅拌6小时，获得了重均分子量为约80，000的粘合剂聚合物的溶液(固体成分45质量％)(Al)。粘合剂聚合物的重均分子量为65000，酸值为78mgKOH/g。

(1)

·丙二醇单甲醚 62质量份

·甲苯 62质量份

(2)

使用磁力搅拌器将下述材料混合30分钟，制作了抗蚀剂用感光性涂布液A。

使用厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜作为临时支撑体，在临时支撑体上使用狭缝状喷嘴均匀地涂布上述所制作的抗蚀剂用感光性涂布液A，用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟并去除溶剂，由此形成感光层，获得了外敷层用的干薄膜抗蚀剂。所获得的感光层的厚度为2.5μm。

<膜传感器的制作>

将从辊中卷出的厚度200μm的无色聚酯薄膜作为透明的基材片，在无色聚酯薄膜的单面用溅射法以200nm的厚度形成由铟锡氧化物构成的透明导电膜(第一电极图案用或第二电极图案用的导电膜)，在透明导电膜上用溅射法以500nm的厚度形成铜膜(遮光性导电膜用及迂回布线用的导电膜)，从而准备了导电性膜。

接着，使用透明粘合材料压合一组导电性膜，获得了在两面各自层叠有透明导电膜、遮光性导电膜及迂回布线用的导电膜而成的层叠体。

然后，使用具备能够用碳酸钠1％液体进行显影的负型的丙烯酸系感光层的干薄膜抗蚀剂，在前述层叠体的两面各自的整个面形成厚度10nm的第一光致抗蚀剂层，在其中一面侧载置具有X方向的电极图案的掩模，在另一面侧载置具有Y方向的电极图案的掩模，使用金属卤化物灯对层叠体的两面同时进行曝光，浸渍于碳酸钠1％液体中进行了显影。

接着，将没有层叠通过氯化铁的蚀刻液图案化的第一光致抗蚀剂层的部分的由铟锡氧化物构成的透明导电膜及铜膜同时进行了蚀刻去除。其结果，在透明的基材片的中央窗口部的一面侧，遮光性导电膜露出而形成X方向的第二电极图案及遮光性导电膜的层叠体。在透明的基材片的中央窗口部的另一面侧，遮光性导电膜露出而形成Y方向的第一电极图案及遮光性导电膜的层叠体。在包围其中央窗口部的外框部，迂回布线在表背两面露出而形成用作与第一电极图案(或第二电极图案)、遮光性导电膜且平均线宽20μm的电极图案连接的迂回布线的细线迂回图案的层叠体。

接着，将层叠体的两面的第一光致抗蚀剂层剥离之后，使用具备能够用碳酸钠1％液体进行显影的负型的丙烯酸系感光层的干薄膜抗蚀剂，各自在两面的整个面形成厚度10nm的第二光致抗蚀剂层，在第二光致抗蚀剂层的两面载置掩模，使用金属卤化物灯对两面侧同时进行曝光，浸渍于碳酸钠1％液体中而进行了显影。

接着，在酸性气氛下将层叠体浸渍于过氧化氢水，则作为露出的中央窗口部的铜膜的遮光性导电膜被蚀刻去除，作为铟锡氧化物膜的第一电极图案或第二电极图案露出。

接着，将层叠体的两面的第二光致抗蚀剂层进行剥离之后，使用外敷层用的干薄膜抗蚀剂各自在两面的整个面形成第三光致抗蚀剂层，在第三光抗蚀剂层的两面除了端子部的外框部载置掩模，使用金属卤化物灯对两面侧同时进行曝光，浸渍于碳酸钠1％液体中而进行显影，以覆盖电极图案的方式形成了外敷层。

接着，使用实施例1的转印薄膜，从实施例1的转印薄膜将厚度2μm的着色组合物层作为第四光致抗蚀剂层转印在包含迂回布线的至少一部分区域及外敷层的至少一部分区域的其中一面侧(形成有第2电极图案的一侧)的整个面上。在着色组合物层上载置掩模，使用金属卤化物灯仅对第四光致抗蚀剂层的表面进行曝光，浸渍于碳酸钠1％液体中而进行了显影。

然后，在烘箱中以145℃加热30分钟并使其固化。

将残存的黑色的第四光致抗蚀剂层设为框状的装饰层。

接着切割一个膜传感器，获得了实施例1膜传感器。

另外，实施例1的膜传感器为从图11A所示的膜传感器的概略图去除了透明膜11的结构，遮光性导电膜9的一部分是与迂回布线6相同的部件。

<转印性评价>

使用光学显微镜观察沿迂回布线及外敷层的边界的外敷层的区域中通过转印形成装饰层时混入的气泡的数量，按以下基准评价了转印性。沿外敷层的区域是指，在与转印薄膜的压合方向(膜厚方向)垂直的方向上与构成外敷层的层的侧部的下端相接的部分。在图11A所示的膜传感器的概略图中，迂回布线6和外敷层7的边界存在高度差。另外，将沿迂回布线6及外敷层7的边界的外敷层的区域的概略图示于图12。

在转印性评价中，气泡的个数越少越优选，A、B或C为实用范围，优选为A或B，更优选为A。所获得的结果示于下述表3。

～评价基准～

A：气泡的数量少于5个

B：气泡的数量为5个以上且少于30个

C：30个以上且少于50个

D：50个以上且少于100个

E：100个以上

<边缘粗糙度评价>

在实施例1的膜传感器中，针对框状的装饰层的内侧部分，使用激光显微镜(VK-9500，KEYENCE CORPORATION制造，物镜50倍)进行观察，将视野内的边缘位置中最鼓起的部位(山顶部)和最收缩的部位(谷底部)之差作为绝对值而求出，计算出观察5个视野内而得到的绝对值的平均值，将计算出的平均值作为边缘粗糙度。边缘粗糙度的值越小，护罩玻璃一体型传感器的显示画面的轮廓变得越清晰，越优选。A、B或C为实用范围，优选为A或B，更优选为A。所获得的结果示于下述表3。

～评价基准～

A：小于1μm

B：1μm以上且小于2μm

C：2μm以上且小于4μm

D：4μm以上且小于7μm

E：7μm以上

<前面板一体型传感器的制作>

作为透明的前面板，使用了由厚度0.7mm的硼硅酸系玻璃构成的玻璃基板。在该透明的前面板的贴合膜传感器的一侧的面的周边部，使用黑色油墨通过丝网印刷形成厚度7μm的第二装饰层，从而获得了护罩玻璃。

用透明粘合材料将实施例1的膜传感器贴合于护罩玻璃的形成有第二装饰层的一侧，从而制作了第二装饰层配置于透明的前面板和膜传感器的装饰层之间的实施例1的前面板一体型传感器(以下，也称为“护罩玻璃一体型传感器”。)。

实施例1的护罩玻璃一体型传感器中，膜传感器的装饰层的内缘位于比透明的前面板的第二装饰层的内缘更靠中央侧0.1mm的位置，在从透明的前面板的法线方向观察时，第二装饰层的正投影与膜传感器的装饰层的至少一部分区域重叠。并且，作为透明的前面板的玻璃基板的贴合膜传感器的一侧的面和膜传感器的装饰层之间的距离为25μm。

另外，实施例1的前面板一体型传感器为从图1所示的前面板一体型传感器的概略图去除了透明膜11的结构，遮光性导电膜9的一部分是与迂回布线6相同的部件。

[实施例2～11、13～22、比较例1～3]

在实施例1的转印薄膜的制造中，使用表1或表2中记载的组成的着色组合物代替着色组合物层形成用的着色组合物，将着色组合物层的膜厚变更为表1或表2中记载的膜厚，除此以外，以与实施例1相同的方式制作各实施例及比较例的转印薄膜，并进行了评价。

之后，在实施例1的膜传感器及护罩玻璃一体型传感器的制造中，将实施例1的转印薄膜变更为各实施例及比较例的转印薄膜，除此以外，以与实施例1相同的方式制作各实施例及比较例的膜传感器及护罩玻璃一体型传感器，并进行了评价。所获得的结果示于表3。

表1或表2中记载的K颜料分散物2及R颜料分散物3使用3根辊和珠磨机将颜料、分散剂、聚合物及溶剂分别进行混合，使其成为下述组成而制作。另外，下述的Orionengineered carbon’s Ltd.，制造的Nipex35为表面没有被树脂包覆的炭黑。

(K颜料分散物2)

·炭黑：13.1质量％

(Orion engineered carbon’s Ltd.，制造的Nipex35)

·前述分散剂1：0.65质量％

·聚合物：6.72质量％

(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比的无规共聚物，重均分子量3.7万)

·丙二醇单甲醚乙酸酯：79.53质量％

(R颜料分散物3)

·C.I.颜料红177：10质量份

(PR177；一次粒子15～60nm)

·分散剂(BYK2000，BYK Co，.LTD制造，固体成分40质量％)：10质量份

·苯乙烯/甲基丙烯酸苄酯/丙烯酸/2-羟基甲酯共聚物(摩尔比30/40/10/20，酸值：70mgKOH/g，分子量6000)：4质量份

·丙二醇单甲醚乙酸酯：76质量份

[实施例12]

在实施例1的转印膜的制造中，将作为着色组合物层形成用的着色组合物的黑色组合物Kl变更为表1中记载的着色组合物，除此以外，以与实施例1相同的方式制作实施例12的转印薄膜，并进行了评价。所获得的结果示于表3。

然后，在实施例1的膜传感器的制造中，将实施例1的转印薄膜变更为实施例12的转印薄膜，除此以外，以与实施例1相同的方式制作实施例12的膜传感器，并进行了评价。所获得的结果示于表3。

在由厚度0.2mm的PET基座构成的透明的前面板的非接触面的周边部，使用黑色油墨通过丝网印刷形成厚度7μm的第二装饰层而获得了前面板。最后，使用透明粘合材料贴合实施例12的膜传感器的第四光致抗蚀剂层侧和前面板的第二装饰层侧，从而制成前面板一体型传感器。

实施例12的前面板一体型传感器中，膜传感器的装饰层的内缘位于比透明的前面板的第二装饰层的内缘更靠中央侧0.1mm的位置，在从透明的前面板的法线方向观察时，第二装饰层的正投影与膜传感器的装饰层的至少一部分区域重叠。并且，作为透明的前面板的玻璃基板的背面和膜传感器的装饰层之间的距离为25μm。

[表2]

[化学式5]

结构物1

PO：环氧丙烷，EO：环氧乙烷)

[实施例23～24]

在实施例1的转印薄膜的制造中，使用表4中记载的组成的着色组合物代替着色组合物层形成用的着色组合物，将着色组合物层的膜厚变更为表4中记载的膜厚，除此以外，以与实施例1相同的方式制作各实施例的转印薄膜，并进行了评价。

然后，在实施例1的膜传感器及护罩玻璃一体型传感器的制造中，将实施例1的转印薄膜变更为各实施例的转印薄膜，除此以外，以与实施例1相同的方式制作各实施例的膜传感器及护罩玻璃一体型传感器，并进行了评价。所获得的结果示于表5。

另外，如下进行实施例23及实施例24的转印薄膜的灵敏度评价中的曝光。除此以外，按照实施例1的评价方法实施。该灵敏度评价能够作为假设进行了激光曝光的替代评价。

使用具有超高压汞灯的接近式曝光机(Hitachi High-Tech ElectronicsEngineering Co.，Ltd.制造)，将滤光器(汞排放线用带通滤光片HB0405，Asahi SpectraCo.，Ltd.制造)制造)作为曝光掩模设置于转印薄膜上，进而设定与转印薄膜的临时支撑体之间的距离成为125μm，并经由临时支撑体以曝光量100mJ/cm²(h射线)进行了曝光。

[表4]

引发剂A

[化学式6]

增感染料B

[化学式7]

[化学式8]

[表5]

各实施例的转印薄膜为用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层的转印膜，且为着色组合物层的光学浓度高、着色组合物层的曝光工序中的灵敏度高的转印膜。

另外，实施例1～11、实施例13～24的前面板一体型传感器在构成图像显示装置时，若经由作为护罩玻璃的透明的前面板观察图像显示装置的显示画面，则显示画面的轮廓清晰，视觉辨认性优异，并且与包围显示画面的部分具有外观上的一体感。实施例12的前面板一体型传感器通过PET薄膜的透明的前面板观察到的显示画面的轮廓清晰，视觉辨认性优异，并且在包围显示画面的部分具有外观上的一体感。

另一方面，低于式1的下限值的比较例1及比较例2的转印薄膜的光学浓度低。并且，比较例1及比较例2的前面板一体型传感器透过显示部的框，无法得到外观上的一体感。

对作为用于形成膜传感器的装饰层的着色组合物使用黑色颜料或白色颜料为高浓度的彩色抗蚀剂材料的方法(日本特开2012-133597号公报中记载的方法)进行了检验的比较例3的光学薄膜不满足式1的上限值，灵敏度差。并且，比较例3的膜传感器及前面板一体型传感器中，着色组合物层在基于光的聚合中固化不充分，在显影工序中有欠缺而边缘粗糙度变差，因此，显示部的框脏且外观差。并且，烘烤温度低且固化不充分，因此装饰层容易损伤，成品率大幅下降。

〔图像显示装置(触摸面板)的制作〕

在通过日本特开2009-47936号公报中记载的方法制造的液晶显示元件上贴合先前制造的各实施例的前面板一体型传感器，利用公知的方法制作了具备静电电容型输入装置即各实施例的前面板一体型传感器作为构成要素的各实施例的图像显示装置。

各实施例的图像显示装置的通过前面板观察到的显示画面的轮廓清晰，视觉辨认性优异，并且在包围显示画面的部分具有外观上的一体感。

2015年10月26日申请的日本专利申请2015-210249号、2016年6月3日申请的日本专利申请2016-111468号及2016年7月15日申请的日本专利申请2016-140527号的公开的其全部内容通过参考引入本说明书中。

对于本说明书中所记载的所有文献、专利申请和技术标准，引入各自的文献、专利申请和技术标准作为参考，并与具体且分别记载的情况程度相同地引入本说明书中作为参考。

Claims

1.一种转印薄膜，其用于在膜传感器的至少一个表面形成装饰层，所述转印薄膜具有：

临时支撑体；及

包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，

所述着色组合物层中的黑色颜料或白色颜料的含量a质量％和所述着色组合物层的膜厚bμm满足下述式1：

80＞a×b＞10……式1。

2.一种转印薄膜，其具有：

临时支撑体；及

包含黑色颜料或白色颜料的着色组合物层，

80＞a×b＞10……式1。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的转印薄膜，其中，

所述黑色颜料包含炭黑，所述白色颜料包含氧化钛粒子。

4.根据权利要求3所述的转印薄膜，其中，

所述炭黑包含表面用树脂包覆的炭黑。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层的膜厚为0.5μm～10μm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层含有聚合引发剂。

7.根据权利要求6所述的转印薄膜，其中，

所述聚合引发剂包含肟系聚合引发剂。

8.根据权利要求6或权利要求7所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层含有敏化剂。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层含有硫醇化合物。

10.根据权利要求9所述的转印薄膜，其中，

所述硫醇化合物包含2个以上的硫醇基。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层含有具有羧基的粘合剂，

所述粘合剂的酸值为50mgKOH/g以上。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层含有至少具有5个烯属不饱和基的聚合性化合物。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的转印薄膜，其中，

所述着色组合物层中，包含卤素的化合物的含量为1质量％以下。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的转印薄膜，其含有除了所述黑色颜料或所述白色颜料以外的其他粒子。

15.一种膜传感器的制造方法，其包含以下工序：将所述着色组合物层从权利要求1至14中任一项所述的转印薄膜转印到膜传感器的至少一个表面而形成装饰层，

所述膜传感器具备：

透明的基材片；

配置于所述基材片的至少一个表面的电极图案；

连接于所述电极图案的迂回布线；及

以覆盖所述电极图案的方式层叠的外敷层。

16.根据权利要求15所述的膜传感器的制造方法，其包含以下工序：

在转印所述着色组合物层而形成装饰层的工序之后，在130℃～170℃下对所述膜传感器进行热处理。

17.根据权利要求15或权利要求16所述的膜传感器的制造方法，其中，

在转印所述着色组合物层的所述膜传感器的一个表面包含所述迂回布线的至少一部分区域及所述外敷层的至少一部分区域。

18.一种膜传感器，其具备：

透明的基材片；

配置于所述基材片的至少一个表面的电极图案；

连接于所述电极图案的迂回布线；及

以覆盖所述电极图案的方式层叠的外敷层，其中，

在所述膜传感器的至少一个表面具有权利要求1至14中任一项所述的转印薄膜的转印层即着色组合物层作为装饰层。

19.一种前面板一体型传感器，其具有透明的前面板及权利要求18所述的膜传感器。

20.根据权利要求19所述的前面板一体型传感器，其中，

在所述前面板的一个表面的一部分区域具有第二装饰层，

所述第二装饰层配置于所述前面板与所述膜传感器的所述装饰层之间，

从所述前面板的法线方向观察时，所述第二装饰层的正投影与所述膜传感器的所述装饰层的至少一部分区域重叠。

21.根据权利要求19或权利要求20所述的前面板一体型传感器，其中，

所述前面板为玻璃。

22.一种图像显示装置，其具备权利要求19至21中任一项所述的前面板一体型传感器。