CN106062241B - 溅射靶、光学功能膜及层叠配线膜 - Google Patents

溅射靶、光学功能膜及层叠配线膜 Download PDF

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Abstract

本发明的溅射靶中，作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，所述金属元素的一部分或全部以氧化物形式构成。

Description

溅射靶、光学功能膜及层叠配线膜
技术领域
本发明涉及一种用于溅射形成层叠于金属薄膜且减少金属的反射的光学功能膜的溅射靶、光学功能膜及层叠配线膜。
本申请主张基于2014年6月27日于日本申请的专利申请2014-132524号及2015年6月9日于日本申请的专利申请2015-116826号的优先权，并将其内容援用于此。
背景技术
近年来，作为便携式终端装置等输入机构，利用了投影型静电电容方式的触控面板。该触控面板中，若手指接近配置于触控面板的基板上的感应用的电极，则在指尖与电极之间形成静电电容。该方式的触控面板中，根据该电容的变化，通过控制电路等来检测触摸位置。为了检测触摸位置，需要感应用的电极，以图案化形成该电极，并已知有如下技术，在透明基板的一面设置沿X方向延伸的X电极及沿Y方向延伸的Y电极，将这些电极配置成格子状的技术(例如，参考专利文献1)。
并且，以液晶显示装置和等离子显示器为代表的平板显示器中，采用了以彩色显示为目的的滤色器。该滤色器中，红(R)、绿(G)、蓝(B)的微滤色器与各像素对应而形成为矩阵状。并且，以提高对比度和色纯度且提高可视度为目的，在这些微滤色器彼此之间形成有被称为黑色矩阵(以下，称为BM)的黑色的部件。
已提出有对该BM使用铬(Cr)或铬化合物，形成由金属铬单层膜构成的遮光膜、金属铬与氧化铬的层叠膜、或Cr金属、Cr氧化物及Cr氮化物的层叠膜等的低反射膜(例如，参考专利文献2)。还提出有形成由镍(Ni)与钒(V)的合金或者Ni与V的氧化物、氮化物或氮氧化物构成的遮光膜(例如，参考专利文献3)、形成氮化钨(W)膜作为遮光膜(例如，参考专利文献4)。
另一方面，太阳能电池板中，太阳光经由玻璃基板等而入射时，在其相反侧形成有太阳能电池的背面电极。作为该背面电极，可使用基于钼(Mo)、银(Ag)等的金属膜。从背面侧观察这种太阳能电池板时，若直接看见该背面电极即金属膜，则由于呈现金属光泽，因此作为产品的外观较差。因此，通常贴付黑色的背板等来掩盖其金属光泽的同时也保护该背面电极。
专利文献1：日本特开2013-235354号公报
专利文献2：日本特开2002-182190号公报
专利文献3：日本特开2001-234267号公报
专利文献4：日本特开2013-079432号公报
以往的触控面板中的用于检测触摸位置的电极中使用了ITO薄膜，但随着触控面板的大面积化，使用ITO薄膜会存在电阻变高，并且，检测精度也下降的问题。因此，近年来，提出了将低电阻的金属薄膜作为金属配线使用，从而代替ITO薄膜。然而，存在如下问题：即，由于使用了该金属薄膜的金属配线示出良好的反射特性而反射外部光，因此能够从面板外部看见配线图案的金属光泽，导致难以使用触控面板。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种成膜于触控面板中的金属薄膜的配线上来减少触控面板画面的配线图案的金属光泽的膜(以下，称为光学功能膜)及用于溅射形成该光学功能膜的溅射靶。
本发明人着眼于Mo氧化物膜、In氧化物膜等具有对于可见光区域的外部光的光吸收特性，换言之，反射率极低，且外观呈黑色。即，可知通过将Mo或In的氧化物膜形成于金属薄膜的配线上，由此能够减少配线图案的金属光泽。
然而，将该氧化物膜形成于触控面板的配线上时，若考虑生产率，在形成于触控面板基板上的金属薄膜的表面形成该氧化物膜之后，形成配线图案则效率较高。该配线图案化中，通常，利用蚀刻液经由图案掩模对金属薄膜和氧化物膜进行蚀刻。在此，发现了Mo或In的氧化物膜的基于蚀刻液的蚀刻性优异，但另一方面可靠性(耐化学性、耐候性)较差。另外，上述的蚀刻性是指金属薄膜与氧化物膜整合后被蚀刻的性能，优选蚀刻速度、过度蚀刻等在图案化时没有障碍。
因此，得到了为了提高Mo或In的氧化物膜的可靠性而添加发挥可靠性优异的效果的Cu、Fe为有效的见解，因此确认到若对用于溅射形成该光学功能膜的溅射靶加入Cu、Fe而溅射形成该光学功能膜，则可得到包含Cu、Fe的氧化物的光学功能膜。并且，可知包含该Cu、Fe的氧化物的光学功能膜也能够用作平板显示器中的黑色矩阵(BM)的黑色的部件，而且，还能够代替黑色的背板而设置，从而适合掩盖这些金属光泽的同时也保护太阳能电池板的背面电极。
因此，本发明根据上述见解而得到，为了解决所述课题而采用了以下的构成。
(1)本发明的一方式的溅射靶中，作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，所述金属元素的一部分或全部以氧化物形式构成。
(2)本发明的一方式的溅射靶中，包含如下金属：作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种。
(3)本发明的一方式的溅射靶在所述(1)或(2)的溅射靶中，作为所述金属元素，还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种。
(4)本发明的一方式的光学功能膜中，包含如下金属的氧化物：作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种。
(5)本发明的一方式的光学功能膜在所述(4)的光学功能膜中，包含作为所述金属元素还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种。
(6)本发明的一方式的光学功能膜层叠于金属，且从所述光学功能膜侧测定的平均反射率为30％以下。
(7)本发明的一方式的层叠配线膜为具备金属配线膜及层叠于该金属配线膜的光学功能膜的层叠配线膜，其中，所述光学功能膜包含如下金属的氧化物：作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种。
(8)本发明的一方式的层叠配线膜在所述(7)的层叠配线膜中，包含作为所述金属元素还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种。
本发明的溅射靶含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种，金属元素的一部分或全部以氧化物形式构成。因此，若利用该溅射靶进行溅射成膜，则可得到蚀刻性、掩盖性(减少配线图案的金属光泽)、可靠性均得到满足的光学功能膜。并且，安装于触控面板的触摸画面的外观也变好，而且，有助于提高触控面板的生产率。并且，本发明的光学功能膜还能够用作平板显示器的黑色矩阵(BM)的黑色的部件，还能够代替也同时保护太阳能电池板的背面电极的黑色的背板而设置，从而适合掩盖这些金属光泽。并且，本发明的层叠配线膜层叠有由上述的组成构成的光学功能膜，因此反射特性、可靠性优异。
具体实施方式
本发明的实施方式的溅射靶的特征在于，作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种、20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，一部分或全部以氧化物形式构成。利用上述的构成，能够溅射形成蚀刻性、反射特性及可靠性优异的光学功能膜。另外，设为Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种的合计含量为50原子％以上，从而这些金属元素成为主成分。
在此，关于靶材中的金属成分，能够将所有金属成分中的Mo及In中的任一种或两种确定为5原子％以上。若Mo及In中的任一种或两种小于5原子％，则可见光中，在400～800nm的波长下，反射率不会成为30％以下，由于该层叠膜的反射，无法抑制配线图案的金属光泽。并且，若Mo及In中的任一种或两种为80原子％以上，则恒温恒湿试验前后的反射率变化的最大值为15％以上，若Mo及In中的任一种或两种为60原子％以上，则反射率变化的最大值为10％以上，若Mo及In中的任一种或两种为50原子％以上，则反射率变化的最大值为5％以上，因此从提高氧化物膜的可靠性的观点考虑，Mo及In中的任一种或两种越低越好。考虑到上述情况，优选将Mo及In中的任一种或两种设定为40～70原子％，但并不限定于此。并且，能够将所有金属成分中的Cu及Fe中的任一种或两种确定为20原子％以上。若Cu及Fe中的任一种或两种小于20原子％，则可见光中，在400～800nm的波长下，恒温恒湿试验前后的反射率变化的最大值为15％以上且氧化物膜的可靠性下降。若Cu及Fe中的任一种或两种超过95原子％，则可见光中，在400～800nm的波长下，反射率不会成为30％以下，由于该层叠膜的反射，无法抑制配线图案的金属光泽。优选将Cu及Fe中的任一种或两种设定为30～60原子％，但并不限定于此。
并且，本发明的实施方式的溅射靶中，作为金属元素除了含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种、以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种以外，还能够含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种，有提高光吸收率的效果。在此，关于靶材中的金属成分，优选将所有金属成分中的选自Ni、Mn及Co中的至少一种设为10原子％以下。若选自该Ni、Mn及Co中的至少一种超过10原子％，则蚀刻速度变慢。并且，选自Ni、Mn及Co中的至少一种小于3原子％时，提高光吸收率的效果较小，抑制因碱导致的变色的效果也降低，因此有可能无法充分得到添加这些元素的效果。
并且，氧化铜、氧化铁、氧化钼有可能因碱而变色。其结果，在配线加工时由于去除光致抗蚀剂时使用的抗蚀剂去除剂(碱性)，光功能膜的色调有可能发生变化。在此，通过含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种，能够抑制因碱导致的变色，从而能够抑制因抗蚀剂去除剂引起的光功能膜的色调变化。优选含有5～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种，但并不限定于此。
Ni、Mn及Co中的任一种氧化物与Mo、In的氧化物同样地具有掩盖性优异的反射特性，另外，虽然与Cu、Fe程度不同，但蚀刻性良好，因此通过还含有Ni、Mn及Co中的任一种，能够溅射形成蚀刻性、反射特性及可靠性更优异的光学功能膜。
利用上述的本发明的实施方式的溅射靶溅射形成的光学功能膜包含如下金属的氧化物：作为金属成分含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种、20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，作为所述金属成分还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种。在此，利用以氧化物形式构成的溅射靶通过溅射进行成膜时，光学功能膜的组成成为与溅射靶的组成基本上相同的构成。利用本发明的实施方式的溅射靶进行溅射成膜时，可利用氩等稀有气体进行。
另外，本发明的实施方式的溅射靶以金属、金属氧化物或金属与氧化物形式构成。以金属氧化物或金属与氧化物形式构成的溅射靶例如通过粉末烧结法制造。由金属构成的溅射靶能够由基于含有本发明的实施方式的光学功能膜中的金属元素的熔化铸造的铸锭、金属粉的烧结体或压坯构成。利用含有较多金属的溅射靶溅射形成本发明的实施方式的光学功能膜时，除了氩以外还加入氧为宜。优选将氩与氧的比例(O2/(Ar+O2))设为0.01～0.30，但并不限定于此。
本发明的实施方式的层叠配线膜中，金属配线膜上层叠有由上述的组成构成的光学功能膜，因此反射特性、可靠性优异。并且，含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种时，耐碱性优异，在使用抗蚀剂去除液时，也能够抑制光学功能膜的色调变化。
并且，本发明的实施方式的层叠配线膜中，只要在金属配线膜层叠有光学功能膜，则不限定层叠结构，也可以设为基板/金属配线膜/光学功能膜、基板/光学功能膜/金属配线膜、基板/光学功能膜/金属配线膜/光学功能膜等的层叠结构。
另外，本发明的实施方式的层叠配线膜中，优选光学功能膜的膜厚设为20nm以上且200nm以下的范围内，优选金属配线膜的膜厚设为100nm以上且2000nm以下的范围内。并且，优选配线宽度设为2μm以上且30μm以下的范围内，优选配线的最外缘部与最内缘部之差(过度蚀刻量)为1μm以下。
实施例
接着，关于本发明的溅射靶及以该溅射靶形成的光学功能膜，以下通过实施例进行具体说明。
〔实施例〕
首先，为了制造溅射靶，准备了MoO2粉末、In2O3粉末、CuO粉末、Fe3O4粉末、NiO粉末、Mn2O3粉末及Co3O4粉末。接着，以成为表1及表2所示的靶材组成比(仅金属)的方式称量，并将称量的各粉末填充到混合装置中进行混合，制作出实施例1～6、9～13、15、17～18、20～26、28～32、35～39、41、43～75的混合粉末。将各实施例的混合粉末作为原料，以温度：700℃、压力：300kgf/cm2(29.4MPa)在真空中进行3小时热压，制作出烧结体。将这些烧结体机械加工成直径：152.4mm、厚度：6mm之后，以In焊锡贴付于Cu制的垫板上，制作出实施例1～6、9～13、15、17～18、20～26、28～32、35～39、41、43～75的溅射靶。优选靶材组织的粒径为20μm以下，更优选为10μm以下。靶材组织的粒径通过利用JIS H 0501的切割法计算组织的平均粒径来求出。通过将靶材组织的粒径设定在所述范围，能够抑制溅射时的异常放电。
另一方面，准备Mo粉末、Cu粉末及Fe粉末，以成为表1所示的靶材组成比(仅金属)的方式称量，并将称量的各粉末与氩气一同填充到混合装置中进行混合，制作出实施例8、14、19的混合粉末。将该实施例8、14、19的混合粉末作为原料，以温度：950℃、压力：300kgf/cm2(29.4MPa)在真空中进行3小时热压，制作出烧结体。将这些烧结体机械加工成上述的规定形状，并粘附垫板，制作出实施例8、14、19的溅射靶。优选靶材组织的粒径为20μm以下，更优选为10μm以下。
进一步准备粒状的Cu、In，以成为表1所示的靶材组成比(仅金属)的方式称量，并将称量的各原料投入到石墨坩埚中，通过高频加热炉加热熔解至1200℃，投入到规定尺寸的石墨模具。之后，放冷并冷却至室温，制作出实施例27、33的成型体。将这些成型体机械加工成上述的规定形状，并粘附垫板，制作出实施例27、33的溅射靶。
进一步准备粒状的Cu、In2O3粉末，以成为表1所示的靶材组成比(仅金属)的方式称量，并将称量的各粉末填充到混合装置中进行混合，制作出实施例34、40、42的混合粉末。将各实施例的混合粉末作为原料，以温度：950℃、压力：300kgf/cm2(29.4MPa)在真空中进行3小时热压，制作出烧结体。将这些烧结体机械加工成上述的规定形状，并粘附垫板，制作出实施例34、40、42的溅射靶。靶材组织的粒径优选为20μm以下，更优选为10μm以下。
进一步准备粒状的Mo、Fe3O4粉末，以成为表1所示的靶材组成比(仅金属)的方式称量，并将称量的各粉末填充到混合装置中进行混合，制作出实施例7、16的混合粉末。将各实施例的混合粉末作为原料，以温度：850℃、压力：300kgf/cm2(29.4MPa)在真空中进行3小时热压，制作出烧结体。将这些烧结体机械加工成上述的所定形状，并粘附垫板，制作出实施例7、16的溅射靶。靶材组织的粒径优选为20μm以下，更优选为10μm以下。
〔比较例〕
为了与上述实施例进行比较，设为与实施例(氧化物的溅射靶)的情况相同，并以表3所示的投入组成制作出比较例1～18的溅射靶。比较例1～18的情况下，金属元素中的任一种的含量在实施例的靶材组成比的范围外。另外，这些比较例1～18的溅射靶中，将氧化物作为原料，整个靶材以氧化物形式构成。
[表1]
[表2]
[表3]
接着，关于在上述中制造的实施例及比较例的氧化物溅射靶，将通过ICP进行了金属成分组成的分析的结果示于表4～6。
[表4]
[表5]
[表6]
关于利用实施例1～75及比较例1～18的氧化物溅射靶溅射形成的光学功能膜，将通过ICP进行了金属成分组成的分析的结果示于表7～9。
＜成膜＞
利用上述实施例及比较例的溅射靶，在以下的成膜条件下进行了溅射成膜。
·电源：直流电源
·功率：600W(仅Ag膜、200W)
·气压：0.2Pa
·气体流量：光学功能膜的情况下Ar+O2：50sccm
Cu、Al、Ag、Mo膜的情况下Ar：50sccm
·靶材基板间距离：70mm
·基板：玻璃基板(Eagle XG)
·基板温度：室温
·基板尺寸：20mm见方
·厚度：50nm
另外，关于形成光学功能膜时的Ar与O2的比例：O2/(Ar+O2)，在表10～表12的“O2/(Ar+O2)”栏中示出。
[表7]
[表8]
[表9]
并且，关于利用实施例1～75及比较例1～18的溅射靶在金属薄膜上通过溅射成膜来层叠的光学功能膜(层叠膜)，测量了平均反射率及恒温恒湿试验前后的反射率变化的最大值。进一步对耐碱性进行了评价。
＜反射率的测定＞
以与上述相同的成膜条件进行了溅射成膜。另外，在玻璃基板(Eagle XG)上依次层叠成膜厚度：50nm的氧化物膜(光学功能膜)、使用了厚度：200nm的铜、铝、银或钼中的任一种的金属膜。另外，实施例69中使用Al、实施例70中使用Ag、实施例71中使用Mo、除此以外的实施例及比较例中使用Cu来作为金属膜。金属膜为用于金属配线，该成膜中使用了各自的金属溅射靶。另外，将用于该金属膜的金属示于表10～12的“金属膜”栏中。
接着，关于如上所述的形成于玻璃基板上的层叠膜，测定了反射率。该测定中，利用分光光度计(Hitachi,Ltd.制U4100)从玻璃基板侧在400～800nm的波长下进行了测定。并且，利用以相同的方式制作的四个样品进行测定，对在400～800nm的波长下所得到的测定值进行平均，求出平均反射率。将该测定结果示于表10～表12的“平均反射率(％)”栏中。
＜恒温恒湿试验前后的反射率变化的测定＞
并且，关于如上所述的形成于玻璃基板上的层叠膜，在以下所示的试验条件下进行了恒温恒湿试验。
·温度：85℃
·湿度：85％
·保持时间：250小时
在该恒温恒湿试验后，按照上述的方法测定上述波长范围内的反射率，作为试验后的反射率。并且，求出试验前后的400、500、600、700、800nm的波长各自的反射率变化。上述五个波长中，将试验前后反射率的变化最大的波长的反射率变化的值作为反射率变化的最大值求出。将评价结果示于表10～表12的“反射率变化最大值”的“恒温恒湿”的栏中。
＜耐碱性的评价＞
在玻璃基板上形成厚度50nm的光学功能膜。将形成有光学功能膜的玻璃基板浸泡在40℃的抗蚀剂剥离液(TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD.制104)及5质量％的浓度的NaOH水溶液中10分钟，按照上述的顺序测定浸泡前后的反射率并求出反射率变化的最大值。将评价结果示于表10～表12的“反射率变化最大值”的“104”及“NaOH”的栏中。
＜蚀刻速度的测定＞
接着，按照上述的方法，关于形成于玻璃基板上的厚度50nm的光学功能膜，按照以下所示的蚀刻条件进行了蚀刻试验。蚀刻试验是测量光学功能膜完全熔化为止的时间，并计算出蚀刻速度。将其结果示于表10～表12的“蚀刻速度(nm/sec)”栏中。
·方法：浸渍法
·蚀刻液：SEA2(KANTO CHEMICAL CO.,INC.制)
·液温：40℃
[表10]
[表11]
[表12]
根据以上的结果，实施例1～75的溅射靶中均含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种。可知利用这些溅射靶溅射形成的层叠膜的平均反射率均示出30％以下，能够减少因膜自身的外部光的反射引起的配线图案的金属光泽。并且，确认到恒温恒湿试验前后的反射率变化也较小，具有可靠性。而且，在选自Ni、Mn及Co中的至少一种为10原子％以下的实施例1～71中，确认到相对于上述光学功能膜的蚀刻速度为与层叠形成的金属膜相同程度的速度，可知在同时对层叠形成的光学功能膜及金属膜进行图案化时，蚀刻中没有任何障碍。
因此，确认到利用实施例1～75的溅射靶溅射形成的光学功能膜具备掩盖性(减少配线图案的金属光泽)、可靠性这两种特性。并且，确认到利用实施例1～71的溅射靶溅射形成的光学功能膜还具备良好的蚀刻性。
并且，在含有选自Ni、Mn及Co中的至少一种的实施例62-68、72-75中，确认到在碱液中浸泡后的反射率的变化较少，耐碱性优异。
另外，在利用实施例1～75溅射形成的层叠膜中，确认到即使浸泡在40℃的抗蚀剂剥离液(TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD.制104)中10分钟，反射率的变化较少，即使在通过蚀刻形成配线时，反射率也不会发生太大变化。
另一方面，利用比较例1～3、7～9、13～15的溅射靶溅射形成的光学功能膜的Mo及In中的任一种或两种的合计均低于5原子％，且层叠膜的平均反射率均超过30％，因此掩盖性方面较差。利用比较例4～6、10～12、16～18的溅射靶溅射形成的光学功能膜的Mo及In中的任一种或两种均超过80原子％，且层叠膜的试验前后的反射率变化均较大，因此可靠性方面较差。
如上所述，确认到利用含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种、20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，并且还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种的溅射靶溅射形成的光学功能膜均满足蚀刻性、掩盖性(减少配线图案的金属光泽)及可靠性。
另外，为了将本发明用作溅射靶，优选表面粗糙度：5.0μm以下，更优选为1.0μm以下，优选杂质浓度：0.1原子％以下，更优选为0.05原子％以下，优选抗弯强度：50MPa以上，更优选为100MPa以上。
并且，本发明的技术范围并不限定于上述实施方式及上述实施例，在不脱离本发明的宗旨的范围内能够施加各种变更。
例如，上述实施方式及上述实施例中，通过热压进行了烧结，但作为其他方法也可以采用HIP法(热等静压式烧结法)或常压烧结法等。
并且，基材也可以采用玻璃以外的金属或薄膜等。
产业上的可利用性
本发明的溅射靶能够形成蚀刻性、掩盖性及可靠性均得到满足的光学功能膜。该光学功能膜还可作为平板显示器中的BM的黑色的部件使用，还能够代替黑色的背板而设置，从而适合掩盖这些金属光泽的同时也保护太阳能电池板的背面电极。并且，本发明的层叠配线膜层叠有由上述的组成构成的光学功能膜，因此反射特性、可靠性优异。

Claims (7)

1.一种溅射靶，其中，
作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种，所述金属元素的一部分或全部以氧化物形式构成。
2.根据权利要求1所述的溅射靶，其中，
作为所述金属元素，还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种。
3.一种光学功能膜，其中，包含如下金属的氧化物：
作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种。
4.根据权利要求3所述的光学功能膜，其包含作为所述金属元素还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种的氧化物。
5.根据权利要求3或4所述的光学功能膜，其层叠于金属，且从所述光学功能膜侧测定的平均反射率为30％以下。
6.一种层叠配线膜，其具备金属配线膜及层叠于该金属配线膜的光学功能膜，其中，
所述光学功能膜包含如下金属的氧化物：
作为金属元素，将Mo及In中的任一种或两种以及Cu及Fe中的任一种或两种作为主成分，且含有5～80原子％的Mo及In中的任一种或两种以及20～95原子％的Cu及Fe中的任一种或两种。
7.根据权利要求6所述的层叠配线膜，其中，
所述光学功能膜包含作为所述金属元素还含有3～10原子％的选自Ni、Mn及Co中的至少一种。
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