CN105717746A - 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件 - Google Patents

感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件 Download PDF

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CN105717746A CN201510907562.9A CN201510907562A CN105717746A CN 105717746 A CN105717746 A CN 105717746A CN 201510907562 A CN201510907562 A CN 201510907562A CN 105717746 A CN105717746 A CN 105717746A
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陈奕光
吴明儒
施俊安
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    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Abstract

本发明提供一种感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件,该感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件的显影性佳及显影操作可靠性佳。感光性聚硅氧烷组成物包括碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)以及溶剂(D)。碱可溶性树脂(A)包括聚硅氧烷(A-1)。具有乙烯性不饱和基的化合物(B)包括具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1),其中具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)包括由式(1)表示的(甲基)丙烯酸酯单体及由式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一个。

Description

感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件
技术领域
本发明是有关于一种感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件,特别是关于一种显影性佳及显影操作可靠性佳的感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件。
背景技术
在液晶显示元件、集成电路元件、固体摄像元件、有机电致发光(Electroluminescence,简称EL)等的显示元件中,设有用以防止以触控面板(touchpanel)为代表的电子零件的劣化或损伤的保护膜、或用以保持以层状而配置的配线间的绝缘性的层间绝缘膜等硬化膜。为了形成此种硬化膜,一直使用感放射线性组成物,例如可在基板上形成感放射线性组成物的涂膜,隔着具有预定图案的光罩(photomask)而照射放射线(以下称为“曝光”),利用有机碱显影液进行显影而将不需要的部分溶解去除,然后进行后烤(postbake),藉此形成硬化膜。
对于被用作触控面板的保护膜的硬化膜而言,要求对触控面板元件的配线的密接性高、膜自身平滑且硬度高、耐擦伤性优异、在高温条件下也不变色而保持透明性(耐热透明性)、在高温条件下也不产生龟裂(裂缝)(耐热龟裂性)、对放射线的感度优异、可形成并无显影残膜的良好图案(显影性)等特性。
另一方面,在被用作层间绝缘膜的硬化膜中,必须形成配线用的接触孔(contacthole)的图案,因此除了上述保护膜的要求特性以外,进一步要求能以高的解析度高精细地形成图案像(高解析度)等。
先前,感放射线性组成物的成分主要是使用丙烯酸系树脂,但近年来,相较于丙烯酸系树脂而耐热性及透明性更优异的聚硅氧烷系材料受到关注(专利文献1~专利文献3)。然而,聚硅氧烷系材料与铟锡氧化物(IndiumTinOxide,简称ITO)基板的密接性不充分,且容易产生龟裂,因此有作为保护膜而不耐实用的问题。另外,关于液晶显示元件的层间绝缘膜形成用材料,正在进行在成本方面有利的负型感放射线性组成物的开发(专利文献4),但此种负型感放射线性组成物难以形成具有实用上可使用的水准(level)的孔径的接触孔。因此,就接触孔形成的优越性而言,为了形成显示元件的层间绝缘膜而广泛使用正型感放射线性组成物(专利文献5)。
另外,已提出了以下的感放射线性组成物,其是使含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐与其他不饱和化合物的共聚物、聚合性不饱和化合物及光聚合起始剂的组成物中,以添加剂的形式极微量含有具有氧杂环丙基(oxiranyl)、环氧丙烷基(oxetanyl)或巯基的硅氧烷低聚物而成,且已记载该感放射线性组成物可以合适地用于形成显示元件的间隔物(spacer)(专利文献6)。然而,显示元件的间隔件与保护膜或层间绝缘膜的用途不同,因此难以充分满足对保护膜或层间绝缘膜的所有要求特性。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2000-001648号公报
[专利文献2]日本专利特开2006-178436号公报
[专利文献3]日本专利特开2008-248239号公报
[专利文献4]日本专利特开2000-162769号公报
[专利文献5]日本专利特开2001-354822号公报
[专利文献6]日本专利特开2008-233518号公报
然而,上述专利文献1~专利文献6的感放射线性组成物的显影性不佳,而无法令业界所接受。另一方面,将专利文献1~专利文献6的感放射线性组成物进行显影而制作成保护膜时,显影操作可靠性不佳,故在制程条件上不易控制。
因此,如何达到目前业界对显影性及显影操作可靠性的要求,实为本发明所属技术领域中努力研究的目标。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的元件,该感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件显影性佳及显影操作可靠性佳。
本发明提供一种感光性聚硅氧烷组成物,其包括碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)以及溶剂(D)。碱可溶性树脂(A)包括聚硅氧烷(A-1)。具有乙烯性不饱和基的化合物(B)包括具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1),其中具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)包括由式(1)表示的(甲基)丙烯酸酯单体及由式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一个。
式(1)中,R1及R2各自独立表示氢原子或甲基;a表示0至4的数。
式(2)中,R3及R4各自独立表示氢原子或甲基;b表示0至4的数。
在本发明的一实施例中,上述的聚硅氧烷(A-1)为由硅烷单体组分聚缩合而得,硅烷单体组分包括由式(I-1)表示的化合物及由式(I-2)表示的化合物。
Si(Ra)w(ORb)4-w式(I-1)
式(I-1)中,Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基,至少一个Ra为含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基;w表示1至3的整数。
Si(Rc)u(ORd)4-u式(I-2)
式(I-2)中,Rc各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基或碳数为6至15的芳基;Rd各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基;u表示0至3的整数。
在本发明的一实施例中,基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,聚硅氧烷(A-1)的使用量为30至100重量份,具有乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为5至100重量份,具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)的使用量为0.5至10重量份,光起始剂(C)的使用量为3至30重量份,溶剂(D)的使用量为50至500重量份。
在本发明的一实施例中,上述的具有乙烯性不饱和基的化合物(B)还包括具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)。
在本发明的一实施例中,基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的使用量为1至30重量份。
在本发明的一实施例中,上述的碱可溶性树脂(A)还包括碱可溶性树脂(A-2),其中碱可溶性树脂(A-2)由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)、含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)以及其他不饱和化合物(a-2-3)共聚合而得。
在本发明的一实施例中,上述的含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)包括含环氧丙烷基的不饱和化合物(a-2-2a)。
本发明另提供一种保护膜,其是将上述的感光性聚硅氧烷组成物涂布在元件上,再经预烤、曝光、显影及后烤后而形成。
本发明还提供一种具有保护膜的元件,其包括元件以及上述的保护膜,其中保护膜覆盖在元件上。
基于上述,由于本发明的感光性聚硅氧烷组成物含有聚硅氧烷以及具有乙烯性不饱和基(如(甲基)丙烯酰基)的化合物,因此显影性佳及显影操作可靠性佳,而适用于形成保护膜。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例作详细说明如下。
具体实施方式
<感光性聚硅氧烷组成物>
本发明提供一种感光性聚硅氧烷组成物,其包括碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)以及溶剂(D)。此外,若需要,感光性聚硅氧烷组成物可还包括添加剂(E)。
以下将详细说明用于本发明的感光性聚硅氧烷组成物的各个成分。
在此说明的是,以下是以(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸,并以(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯;同样地,以(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。
碱可溶性树脂(A)
碱可溶性树脂(A)包括聚硅氧烷(A-1)及碱可溶性树脂(A-2)。
聚硅氧烷(A-1)
聚硅氧烷聚合物(A)的种类并没有特别限制,惟其可达到本发明所诉求的目的即可。聚硅氧烷(A-1)为由硅烷单体组分聚缩合(即水解(hydrolysis)及部分缩合(partiallycondensation))而得,其中硅烷单体组分包括硅烷单体(a-1)。另外,硅烷单体组分可还包括但不限于除了硅烷单体(a-1)以外的硅烷单体(a-2)、硅氧烷预聚物(a-3)、二氧化硅粒子(a-4),或其组合。以下,进一步说明硅烷单体组分的各个成分以及聚缩合的反应步骤与条件。
硅烷单体(a-1)
硅烷单体(a-1)为由式(I-1)表示的化合物。
Si(Ra)w(ORb)4-w式(I-1)
式(I-1)中,Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基,至少一个Ra为含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基;w表示1至3的整数。
更详细而言,当式(I-1)中的Ra表示碳数为1至10的烷基时,具体而言,Ra例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第三丁基、正己基或正癸基。又,Ra也可以是烷基上具有其他取代基的烷基,具体而言,Ra例如是三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-氨丙基、3-巯丙基或3-异氰酸丙基。
当式(I-1)中的Ra表示碳数为2至10的烯基时,具体而言,Ra例如是乙烯基。又,Ra也可以是烯基上具有其他取代基的烯基,具体而言,Ra例如是3-丙烯酰氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。
当式(I-1)中的Ra表示碳数为6至15的芳基时,具体而言,Ra例如是苯基、甲苯基(tolyl)或萘基(naphthyl)。又,Ra也可以是芳基上具有其他取代基的芳基,具体而言,Ra例如是对-羟基苯基(o-hydroxyphenyl)、1-(对-羟基苯基)乙基(1-(o-hydroxyphenyl)ethyl)、2-(对-羟基苯基)乙基(2-(o-hydroxyphenyl)ethyl)或4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基(4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl)。
此外,式(I-1)中的Ra表示含有酸酐基的烷基,其中烷基较佳为碳数为1至10的烷基。具体而言,所述含有酸酐基的烷基例如是式(I-1-1)所示的乙基丁二酸酐、式(I-1-2)所示的丙基丁二酸酐或式(I-1-3)所示的丙基戊二酸酐。值得一提的是,酸酐基是由二羧酸(dicarboxylicacid)经分子内脱水(intramoleculardehydration)所形成的基团,其中二羧酸例如是丁二酸或戊二酸。
再者,式(I-1)中的Ra表示含有环氧基的烷基,其中烷基较佳为碳数为1至10的烷基。具体而言,所述含有环氧基的烷基例如是环氧丙烷基戊基(oxetanylpentyl)或2-(3,4-环氧环己基)乙基(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl)。值得一提的是,环氧基是由二元醇(diol)经分子内脱水所形成的基团,其中二元醇例如是丙二醇、丁二醇或戊二醇。
式(I-1)中的Ra表示含有环氧基的烷氧基,其中烷氧基较佳为碳数为1至10的烷氧基。具体而言,所述含有环氧基的烷氧基例如是环氧丙氧基丙基(glycidoxypropyl)或2-环氧丙烷基丁氧基(2-oxetanylbutoxy)。
另外,当式(I-1)的Rb表示碳数为1至6的烷基时,具体而言,Rb例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。当式(I-1)中的Rb表示碳数为1至6的酰基时,具体而言,Rb例如是乙酰基。当式(I-1)中的Rb表示碳数为6至15的芳基时,具体而言,Rb例如是苯基。
在式(I-1)中,w表示1至3的整数。当w表示2或3时,多个Ra可为相同或不同;当w表示1或2时,多个Rb可为相同或不同。
硅烷单体(a-1)的具体例包括3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,简称TMS-GAA)、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane)、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane,简称ECETES)、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三苯氧基硅烷(2-oxetanylbutoxypropyltriphenoxysilane)、由东亚合成所制造的市售品:2-环氧丙烷基丁氧基丙基三甲氧基硅烷(2-oxetanylbutoxypropyltrimethoxysilane,商品名TMSOX-D)、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三乙氧基硅烷(2-oxetanylbutoxypropyltriethoxysilane,商品名TESOX-D)、3-(三苯氧基硅基)丙基丁二酸酐、由信越化学所制造的市售品:3-(三甲氧基硅基)丙基丁二酸酐(商品名X-12-967)、由WACKER公司所制造的市售品:3-(三乙氧基硅基)丙基丁二酸酐(商品名GF-20)、3-(三甲氧基硅基)丙基戊二酸酐(简称TMSG)、3-(三乙氧基硅基)丙基戊二酸酐、3-(三苯氧基硅基)丙基戊二酸酐、二异丙氧基-二(2-环氧丙烷基丁氧基丙基)硅烷(diisopropoxy-di(2-oxetanylbutoxypropyl)silane,简称DIDOS)、二(3-环氧丙烷基戊基)二甲氧基硅烷(di(3-oxetanylpentyl)dimethoxysilane)、(二正丁氧基硅基)二(丙基丁二酸酐)、(二甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐)、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基二甲基乙氧基硅烷(3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane)、二(2-环氧丙烷基丁氧基戊基)-2-环氧丙烷基戊基乙氧基硅烷(di(2-oxetanylbutoxypentyl)-2-oxetanylpentylethoxysilane)、三(2-环氧丙烷基戊基)甲氧基硅烷(tri(2-oxetanylpentyl)methoxysilane)、(苯氧基硅基)三(丙基丁二酸酐)、(甲基甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐),或上述化合物的组合。
硅烷单体(a-1)可单独使用或组合多种来使用。
硅烷单体(a-1)的具体例较佳为包括3-(三乙氧基硅基)丙基丁二酸酐、3-(三甲氧基硅基)丙基戊二酸酐、(二甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐)、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三乙氧基硅烷或上述化合物的组合。
基于硅烷单体组分中的单体的总量为100摩尔百分率,硅烷单体(a-1)的使用量为0.5摩尔百分率至20摩尔百分率,较佳为1摩尔百分率至15摩尔百分率,且更佳为1摩尔百分率至10摩尔百分率。当感光性聚硅氧烷组成物中,形成聚硅氧烷(A-1)的硅烷单体组分含有硅烷单体(a-1)时,感光性聚硅氧烷组成物的显影性较佳。
硅烷单体(a-2)
硅烷单体(a-2)为由式(I-2)表示的化合物。
Si(Rc)u(ORd)4-u式(I-2)
式(I-2)中,Rc各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基或碳数为6至15的芳基;Rd各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基;u表示0至3的整数。
更详细而言,当式(I-2)中的Rc表示碳数为1至10的烷基时,具体而言,Rc例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第三丁基、正己基或正癸基。又,Rc也可以是烷基上具有其他取代基的烷基,具体而言,Rc例如是三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-氨丙基、3-巯丙基或3-异氰酸丙基。
当式(I-2)中的Rc表示碳数为2至10的烯基时,具体而言,Rc例如是乙烯基。又,Rc也可以是烯基上具有其他取代基的烯基,具体而言,Rc例如是3-丙烯酰氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。
当式(I-2)中的Rc表示碳数为6至15的芳基时,具体而言,Rc例如是苯基、甲苯基(tolyl)或萘基(naphthyl)。又,Rc也可以是芳基上具有其他取代基的芳基,具体而言,Rc例如是对-羟基苯基(o-hydroxyphenyl)、1-(对-羟基苯基)乙基(1-(o-hydroxyphenyl)ethyl)、2-(对-羟基苯基)乙基(2-(o-hydroxyphenyl)ethyl)或4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基(4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl)。
另外,当式(I-2)的Rd表示碳数为1至6的烷基时,具体而言,Rd例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。当式(I-2)中的Rd表示碳数为1至6的酰基时,具体而言,Rd例如是乙酰基。当式(I-2)中的Rd表示碳数为6至15的芳基时,具体而言,Rd例如是苯基。
在式(I-2)中,u为0至3的整数。当u表示2或3时,多个Rc可为相同或不同;当u表示0、1或2时,多个Rd可为相同或不同。
在式(I-2)中,当u=0时,表示硅烷单体为四官能性硅烷单体(即具有四个可水解基团的硅烷单体);当u=1时,表示硅烷单体为三官能性硅烷单体(即具有三个可水解基团的硅烷单体);当u=2时,表示硅烷单体为二官能性硅烷单体(即具有二个可水解基团的硅烷单体);并且当u=3时,则表示硅烷单体为单官能性硅烷单体(即具有一个可水解基团的硅烷单体)。值得一提的是,所述可水解基团是指可以进行水解反应并且与硅键结的基团,举例来说,可水解基团例如是烷氧基、酰氧基(acyloxygroup)或苯氧基(phenoxygroup)。
由式(I-2)表示的硅烷单体的具体例包括但不限于:
(1)四官能性硅烷单体:四甲氧基硅烷(tetramethoxysilane)、四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane)、四乙酰氧基硅烷(tetraacetoxysilane)或四苯氧基硅烷等(tetraphenoxysilane);
(2)三官能性硅烷单体:甲基三甲氧基硅烷(methyltrimethoxysilane简称MTMS)、甲基三乙氧基硅烷(methyltriethoxysilane)、甲基三异丙氧基硅烷(methyltriisopropoxysilane)、甲基三正丁氧基硅烷(methyltri-n-butoxysilane)、乙基三甲氧基硅烷(ethyltrimethoxysilane)、乙基三乙氧基硅烷(ethyltriethoxysilane)、乙基三异丙氧基硅烷(ethyltriisopropoxysilane)、乙基三正丁氧基硅烷(ethyltri-n-butoxysilane)、正丙基三甲氧基硅烷(n-propyltrimethoxysilane)、正丙基三乙氧基硅烷(n-propyltriethoxysilane)、正丁基三甲氧基硅烷(n-butyltrimethoxysilane)、正丁基三乙氧基硅烷(n-butyltriethoxysilane)、正己基三甲氧基硅烷(n-hexyltrimethoxysilane)、正己基三乙氧基硅烷(n-hexyltriethoxysilane)、癸基三甲氧基硅烷(decyltrimethoxysilane)、乙烯基三甲氧基硅烷(vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基硅烷(vinyltriethoxysilane)、苯基三甲氧基硅烷(phenyltrimethoxysilane,简称PTMS)、苯基三乙氧基硅烷(phenyltriethoxysilane,简称PTES)、对-羟基苯基三甲氧基硅烷(p-hydroxyphenyltrimethoxysilane)、1-(对-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷(1-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane)、2-(对-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷(2-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane)、4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基三甲氧基硅烷(4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyltrimethoxysilane)、三氟甲基三甲氧基硅烷(trifluoromethyltrimethoxysilane)、三氟甲基三乙氧基硅烷(trifluoromethyltriethoxysilane)、3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷(3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane)、3-氨丙基三甲氧基硅烷(3-aminopropyltrimethoxysilane)、3-氨丙基三乙氧基硅烷(3-aminopropyltriethoxysilane)、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷;
(3)二官能性硅烷单体:二甲基二甲氧基硅烷(dimethyldimethoxysilane简称DMDMS)、二甲基二乙氧基硅烷(dimethyldiethoxysilane)、二甲基二乙酰氧基硅烷(dimethyldiacetyloxysilane)、二正丁基二甲氧基硅烷[di-n-butyldimethoxysilane]或二苯基二甲氧基硅烷(diphenyldimethoxysilane);或
(4)单官能性硅烷单体:三甲基甲氧基硅烷(trimethylmethoxysilane)或三正丁基乙氧基硅烷(tri-n-butylethoxysilane)等。所述的各种硅烷单体可单独使用或组合多种来使用。
硅氧烷预聚物(a-3)
硅氧烷预聚物(a-3)是由式(I-3)表示的化合物。
式(I-3)中,Re、Rf、Rg及Rh各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至6的烯基或碳数为6至15的芳基,其中该烷基、烯基及芳基中任一个可选择地含有取代基;Ri与Rj各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基,其中该烷基、酰基及芳基中任一个可选择地含有取代基;s表示1至1000的整数。
式(I-3)中,Re、Rf、Rg及Rh各自独立表示碳数为1至10的烷基,举例来说,Re、Rf、Rg及Rh各自独立为甲基、乙基或正丙基等。式(I-3)中,Re、Rf、Rg及Rh各自独立表示碳数为2至10的烯基,举例来说,Re、Rf、Rg及Rh各自独立为乙烯基、丙烯酰氧基丙基或甲基丙烯酰氧基丙基。式(I-3)中,Re、Rf、Rg及Rh各自独立表示碳数为6至15的芳基,举例来说,Re、Rf、Rg及Rh各自独立为苯基、甲苯基或萘基等。值得注意的是,所述烷基、烯基及芳基中任一个可选择地具有取代基。
式(I-3)中,Ri与Rj各自独立表示碳数为1至6的烷基,举例来说,Ri与Rj各自独立为甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。式(I-3)中,Ri与Rj各自独立表示碳数为1至6的酰基,举例来说,例如是乙酰基。式(I-3)中,Ri与Rj各自独立表示碳数为6至15的芳基,举例来说,例如是苯基。值得注意的是,上述烷基、酰基及芳基中任一个可选择地具有取代基。
式(I-3)中,s可为1至1000的整数,较佳为3至300的整数,并且更佳为5至200的整数。当s为2至1000的整数时,Re各自为相同或不同的基团,且Rf各自为相同或不同的基团。
硅氧烷预聚物(a-3)的具体例包括但不限于1,1,3,3-四甲基-1,3-二甲氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四乙基-1,3-二乙氧基二硅氧烷或者由吉来斯特(Gelest)公司制造的末端为硅烷醇的聚硅氧烷(Silanolterminatedpolydimethylsiloxane)的市售品(商品名如DMS-S12(分子量400至700)、DMS-S15(分子量1500至2000)、DMS-S21(分子量4200)、DMS-S27(分子量18000)、DMS-S31(分子量26000)、DMS-S32(分子量36000)、DMS-S33(分子量43500)、DMS-S35(分子量49000)、DMS-S38(分子量58000)、DMS-S42(分子量77000)或PDS-9931(分子量1000至1400))。
硅氧烷预聚物(a-3)可单独使用或组合多种来使用。
二氧化硅粒子(a-4)
二氧化硅粒子(a-4)的平均粒径并无特别的限制。平均粒径的范围为2nm至250nm,较佳为5nm至200nm,且更佳为10nm至100nm。
二氧化硅粒子的具体例包括但不限于由催化剂化成公司所制造的市售品(商品名如OSCAR1132(粒径12nm;分散剂为甲醇)、OSCAR1332(粒径12nm;分散剂为正丙醇)、OSCAR105(粒径60nm;分散剂为γ-丁内酯)、OSCAR106(粒径120nm;分散剂为二丙酮醇)等)、由扶桑化学公司所制造的市售品(商品名如QuartronPL-1-IPA(粒径13nm;分散剂为异丙酮)、QuartronPL-1-TOL(粒径13nm;分散剂为甲苯)、QuartronPL-2L-PGME(粒径18nm;分散剂为丙二醇单甲醚)或QuartronPL-2L-MEK(粒径18nm;分散剂为甲乙酮)等)或由日产化学公司所制造的市售品(商品名如IPA-ST(粒径12nm;分散剂为异丙醇)、EG-ST(粒径12nm;分散剂为乙二醇)、IPA-ST-L(粒径45nm;分散剂为异丙醇)或IPA-ST-ZL(粒径100nm;分散剂为异丙醇))。二氧化硅粒子可单独使用或组合多种来使用。
聚缩合的反应步骤与条件
一般而言,上述聚缩合反应是以下列步骤来进行:硅烷单体组分中添加溶剂、水,或可选择性地添加催化剂(catalyst);以及在50℃至150℃下加热搅拌0.5小时至120小时,且可进一步通过蒸馏(distillation)除去副产物(醇类、水等)。
聚缩合反应所使用的溶剂并没有特别限制,且所述溶剂可与本发明的感光性聚硅氧烷组成物所包括的溶剂(D)相同或不同。基于硅烷单体组分的总量为100克,溶剂的使用量较佳为15克至1200克,更佳为20克至1100克;且再更佳为30克至1000克。
基于硅烷单体组分的可水解基团为1摩尔,聚缩合反应所使用的水(即用于水解的水)为0.5摩尔至2摩尔。
聚缩合反应所使用的催化剂没有特别的限制,且较佳为选自酸催化剂或碱催化剂。酸催化剂的具体例包括但不限于盐酸、硝酸、硫酸、氢氟酸(hydrofluoricacid)、草酸、磷酸、醋酸、三氟醋酸、蚁酸、多元羧酸或其酸酐或离子交换树脂等。碱催化剂的具体例包括但不限于二乙胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化钠、氢氧化钾、含有氨基的具有烷氧基的硅烷或离子交换树脂等。
基于硅烷单体组分的总量为100克,催化剂的使用量较佳为0.005克至15克,更佳为0.01克至12克;且较佳为0.05克至10克。
基于安定性(stability)的观点,聚硅氧烷(A-1)较佳为不含副产物(如醇类或水)及催化剂。因此,可选择性地将聚缩合反应后的反应混合物进行纯化(purification)来获得的聚硅氧烷(A-1)。纯化的方法无特别限制,较佳为可使用疏水性溶剂(hydrophobicsolvent)稀释反应混合物。接着,将疏水性溶剂与反应混合物转移至分液漏斗(separationfunnel)。然后,以水洗涤数回有机层,再以旋转蒸发器(rotaryevaporator)浓缩有机层,以除去醇类或水。另外,可使用离子交换树脂除去催化剂。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,聚硅氧烷(A-1)的使用量可为30至100重量份,较佳为50至100重量份,更佳为50至99重量份。
当感光性聚硅氧烷组成物不含有聚硅氧烷(A-1)时,显影操作可靠性不佳。
碱可溶性树脂(A-2)
碱可溶性树脂(A-2)可为包含具有羧基的结构单元及具有环氧基的结构单元的共聚物以及其他结构单元,其中具有羧基的结构单元来自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1),并且具有环氧基的结构单元较佳为来自含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)。具体而言,碱可溶性树脂(A-2)由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)、含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)以及其他不饱和化合物(a-2-3)共聚合而得。
不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)
不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)的具体例包括丙烯酸(acrylicacid)、甲基丙烯酸、巴豆酸(crotonicacid)、2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸(2-acryloyloxyethylsuccinicacid)、2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸等单羧酸;马来酸(即顺丁烯二酸)(maleicacid)、富马酸(即反丁烯二酸)(fumaricacid)、柠康酸(即甲基顺丁烯二酸,citraconicacid)等二羧酸;该二羧酸的酸酐等;或上述二羧酸及其酸酐的组合。该些不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)中,就共聚合反应性、所得的共聚物在碱显影液中的溶解性的方面而言,较佳为丙烯酸、甲基丙烯酸、2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、马来酸酐。
不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)可单独使用或组合多种来使用。
基于不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)、含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)以及其他不饱和化合物(a-2-3)的合计使用量为100重量份,不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)的使用量为15重量份至40重量份,较佳为18重量份至38重量份,更佳为20重量份至35重量份。
含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)
含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)包括含环氧丙烷基(oxetanyl)的聚合性不饱和化合物(a-2-2a)与其他含环氧基的不饱和化合物(a-2-2b)中的至少一个。
含环氧丙烷基的聚合性不饱和化合物(a-2-2a)的具体例包括3-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷(3-(methacryloyloxymethyl)oxetane)、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基环氧丙烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-甲基环氧丙烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)环氧丙烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-3-乙基环氧丙烷、2-乙基-3-(甲基丙烯酰氧基乙基)环氧丙烷、3-(丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-3-乙基环氧丙烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-甲基环氧丙烷、3-(丙烯酰氧基乙基)环氧丙烷、3-(丙烯酰氧基乙基)-3-乙基环氧丙烷、2-乙基-3-(丙烯酰氧基乙基)环氧丙烷、2-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、2-甲基-2-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、3-甲基-2-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、4-甲基-2-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、甲基丙烯酸-2-(2-(2-甲基环氧丙烷基))乙酯、甲基丙烯酸-2-(2-(3-甲基环氧丙烷基))乙酯、2-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-甲基环氧丙烷、2-(甲基丙烯酰氧基乙基)-4-甲基环氧丙烷、2-(丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、2-甲基-2-(丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、3-甲基-2-(丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、4-甲基-2-(丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷、2-(丙烯酰氧基乙基)-2-甲基环氧丙烷、2-(丙烯酰氧基乙基)-4-甲基环氧丙烷等具有环氧丙烷基的(甲基)丙烯酸酯,或上述化合物的组合。
当使用含环氧丙烷基的聚合性不饱和化合物(a-2-2a)共聚合成碱可溶性树脂(A-2)时,显影操作可靠性较佳。
其他含环氧基的不饱和化合物(a-2-2b)的具体例包括丙烯酸环氧丙酯(glycidylacrylate)、丙烯酸-2-甲基环氧丙酯、丙烯酸-3,4-环氧丁酯(3,4-epoxybutylacrylate)、丙烯酸-6,7-环氧庚酯、丙烯酸-3,4-环氧环己酯、丙烯酸-3,4-环氧环己基甲酯等丙烯酸环氧烷基酯;甲基丙烯酸环氧丙酯、甲基丙烯酸-2-甲基环氧丙酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧环己酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧环己基甲酯等甲基丙烯酸环氧烷基酯;α-乙基丙烯酸环氧丙酯、α-正丙基丙烯酸环氧丙酯、α-正丁基丙烯酸环氧丙酯、α-乙基丙烯酸-6,7-环氧庚基等α-烷基丙烯酸环氧烷基酯;邻乙烯基苄基环氧丙酯(o-vinylbenzylglycidylether)、间乙烯基苄基环氧丙酯、对乙烯基苄基环氧丙酯等乙烯基苄基环氧丙酯;或上述化合物的组合。
含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)可单独使用或组合多种来使用。
基于不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)、含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)以及其他不饱和化合物(a-2-3)的合计使用量为100重量份,含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)的使用量为20重量份至40重量份,较佳为22重量份至38重量份,更佳为25重量份至35重量份。
其他不饱和化合物(a-2-3)
碱可溶性树脂(A-2)的共聚物中也可含有除了具有羧基的结构单元及具有环氧基的结构单元以外的其他结构单元,其中其他结构单元来自其他不饱和化合物(a-2-3)。
其他不饱和化合物(a-2-3)的具体例包括(甲基)丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯、含氧原子的不饱和杂五元环或六元环(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、顺丁烯二酰亚胺化合物、(甲基)丙烯酸的羟基烷基酯、(甲基)丙烯酰胺、芳香族乙烯基化合物、1,3-丁二烯,或上述化合物的组合。
(甲基)丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷的具体例包括3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷,或上述化合物的组合。
(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例包括甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸第三丁酯,或上述化合物的组合。
(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯的具体例包括甲基丙烯酸环戊酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸-2-甲基环己酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯(或称为(甲基)丙烯酸二环戊酯(dicyclopentanyl(meth)acrylate),以下也将三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基称为“二环戊基”(dicyclopentanyl))、甲基丙烯酸-2-二环戊氧基乙酯、甲基丙烯酸异冰片酯(isobornylmethacrylate)、丙烯酸环戊酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、丙烯酸-2-二环戊氧基乙酯、丙烯酸异冰片酯,或上述化合物的组合。
含氧原子的不饱和杂五元环或六元环甲基丙烯酸酯的具体例包括含有四氢呋喃(tetrahydrofuran)骨架的不饱和化合物、含有呋喃骨架的不饱和化合物、含有四氢吡喃骨架的不饱和化合物、含有吡喃骨架的不饱和化合物,或其组合。含有四氢呋喃骨架的不饱和化合物的具体例包括(甲基)丙烯酸四氢糠酯(tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate)、2-甲基丙烯酰氧基-丙酸四氢糠酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮,或上述化合物的组合。含有呋喃骨架的不饱和化合物的具体例包括2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮(2-methyl-5-(3-furyl)-1-pentene-3-one)、(甲基)丙烯酸糠酯、1-呋喃-2-丁基-3-烯-2-酮、1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮、6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮、丙烯酸-2-呋喃-2-基-1-甲基-乙酯、6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮,或上述化合物的组合。含有四氢吡喃骨架的不饱和化合物的具体例包括甲基丙烯酸(四氢吡喃-2-基)甲酯、2,6-二甲基-8-(四氢吡喃-2-基氧基)-辛-1-烯-3-酮(2,6-dimethyl-8-(tetrahydropyran-2-yloxy)-oct-1-ene-3-one)、2-甲基丙烯酸四氢吡喃-2-酯、1-(四氢吡喃-2-氧基)-丁基-3-烯-2-酮,或上述化合物的组合。
含有吡喃骨架的不饱和化合物的具体例包括4-(1,4-二氧杂-5-氧代-6-庚烯基)-6-甲基-2-吡喃(4-(1,4-dioxa-5-oxo-6-heptenyl)-6-methyl-2-pyran)、4-(1,5-二氧杂-6-氧代-7-辛烯基)-6-甲基-2-吡喃,或上述化合物的组合。
(甲基)丙烯酸的羟基烷基酯的具体例包括(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯(2-hydroxyethyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-2,3-二羟基丙酯,或上述化合物的组合。
(甲基)丙烯酸芳基酯的具体例包括(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯,或上述化合物的组合。
不饱和二羧酸二酯的具体例包括顺丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二乙酯、衣康酸二乙酯(diethylitaconate),或上述化合物的组合。
顺丁烯二酰亚胺化合物的具体例包括N-苯基顺丁烯二酰亚胺(N-phenylmaleimide)、N-环己基顺丁烯二酰亚胺、N-苄基顺丁烯二酰亚胺、N-(4-羟基苯基)顺丁烯二酰亚胺、N-(4-羟基苄基)顺丁烯二酰亚胺、N-丁二酰亚氨基-3-顺丁烯二酰亚胺苯甲酸酯(N-succinimidyl-3-maleimidebenzoate)、N-丁二酰亚氨基-4-顺丁烯二酰亚胺丁酸酯、N-丁二酰亚氨基-6-顺丁烯二酰亚胺己酸酯、N-丁二酰亚氨基-3-顺丁烯二酰亚胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)顺丁烯二酰亚胺,或上述化合物的组合。
(甲基)丙烯酰胺的具体例包括丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、4-羟基苯基丙烯酰胺、4-羟基苯基甲基丙烯酰胺、3-羟基苯基丙烯酰胺、3-羟基苯基甲基丙烯酰胺,或上述化合物的组合。
芳香族乙烯基化合物包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯,或上述化合物的组合。
该些其他不饱和化合物(a-2-3)中,较佳为(甲基)丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、芳香族乙烯基化合物、顺丁烯二酰亚胺化合物、(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯、(甲基)丙烯酰胺,特佳为(甲基)丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷。
其他不饱和化合物(a-2-3)可单独使用或组合多种来使用。
基于不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)、含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)以及其他不饱和化合物(a-2-3)的合计使用量为100重量份,其他不饱和化合物(a-2-3)的使用量为20重量份至65重量份,较佳为24重量份至60重量份,更佳为30重量份至55重量份。
碱可溶性树脂(A-2)例如可通过将不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)及含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)、视需要将其他不饱和化合物(a-2-3)在溶剂中在自由基聚合起始剂的存在下进行聚合而制造。
聚合反应中所用的溶剂的具体例包括醇类、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚、二乙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇单烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚丙酸酯、芳香族烃类、酮类、上文所述以外的醚类、上文所述以外的酯类等。
自由基聚合起始剂可根据所使用的化合物的种类而适当选择。自由基聚合起始剂的具体例包括2,2'-偶氮双-2-甲基丁腈(2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile,简称AMBN)、2,2'-偶氮双异丁腈(2,2'-azobisisobutyronitrile)、2,2'-偶氮双-(2,4-二甲基戊腈)(2,2'-azobis-(2,4-dimethylvaleronitrile),简称ADVN)、2,2'-偶氮双-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、4,4'-偶氮双(4-氰基戊酸)、二甲基-2,2'-偶氮双(2-甲基丙酸酯)、2,2'-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)等偶氮化合物等。该些自由基聚合起始剂中,较佳为2,2'-偶氮双异丁腈、2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)等。自由基聚合起始剂可单独使用或组合多种来使用。相对于单体的合计量100重量份,自由基聚合起始剂的使用量通常为0.1重量份至50重量份,较佳为0.1重量份至20重量份。
另外,在聚合反应中,可使用分子量调整剂以调整分子量。分子量调整剂的具体例包括氯仿(chloroform)、四溴化碳等卤化烃类;正己硫醇(n-hexylmercaptan)、正辛硫醇、正十二硫醇、第三-十二硫醇、硫代乙醇酸等硫醇类;硫化二甲基黄原酸酯(dimethylxanthogensulfide)、二硫化二异丙基黄原酸酯等黄原酸类;异松油烯(terpinolene)、α-甲基苯乙烯二聚物等。相对于单体的合计量100重量份,分子量控制剂的使用量通常为0.1重量份至50重量份,较佳为0.2重量份至16重量份,更佳为0.4重量份至8重量份。
另外,聚合温度通常为0℃至150℃,较佳为50℃至120℃;聚合时间通常为10分钟至20小时,较佳为30分钟至6小时。
碱可溶性树脂(A-2)可单独使用或组合多种来使用。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,碱可溶性树脂(A-2)的使用量可为0至70重量份,较佳为0至50重量份,更佳为1至50重量份。
当感光性聚硅氧烷组成物含有碱可溶性树脂(A-2)时,显影操作可靠性较佳。
具有乙烯性不饱和基的化合物(B)
具有乙烯性不饱和基的化合物(B)包括具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)。另外,具有乙烯性不饱和基的化合物(B)可还包括至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)及其他化合物(B-3)。
具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)
具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)包括由式(1)表示的(甲基)丙烯酸酯单体及由式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一个。
式(1)中,R1及R2各自独立表示氢原子或甲基;a表示0至4的数。
式(2)中,R3及R4各自独立表示氢原子或甲基;b表示0至4的数。
式(1)与式(2)中的a与b表示环氧烷的重复单元,且为每分子平均重复单元数。
由式(1)表示的(甲基)丙烯酸酯单体的具体例包括对枯基苯基(甲基)丙烯酸酯(p-Cumylphenyl(meth)acrylate)、对枯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯(p-Cumylphenoxyethyl(meth)acrylate),或上述化合物的组合。
由式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯单体的具体例包括邻苯基苯基(甲基)丙烯酸酯、间苯基苯基(甲基)丙烯酸酯、对苯基苯基(甲基)丙烯酸酯、邻苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、间苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、对苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯,或上述化合物的组合。由式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯单体的具体例较佳为包括邻苯基苯基(甲基)丙烯酸酯、邻苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯或其组合。
市售品的具体例包括新中村化学工业(股)制造的A-LEN-10;东亚合成(股)制造的AronixTO-1463、AronixTO-2344。市售品的具体例较佳为新中村化学工业(股)制造的A-LEN-10。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)的使用量为0.5至10重量份,较佳为1至10重量份,更佳为1至8重量份。当感光性聚硅氧烷组成物不含有具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)时,有显影性不佳且显影操作可靠性不佳的问题。
具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)
具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)可由现有的方法获得。具体的制备方法可例如但不限于:先由聚异氰酸酯与多元醇反应,接着再与含羟基的(甲基)丙烯酸酯反应而制得氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物;或是先由聚异氰酸酯与含羟基的(甲基)丙烯酸酯反应,接着再与多元醇反应而制得氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物较佳是先由双官能的聚异氰酸酯与双官能的多元醇反应,接着再与异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯反应而得。更佳地,该制备方法还包括使用反应催化剂,其中反应催化剂可例如但不限于二丁基锡二月桂酸酯等已知的氨基甲酸酯化催化剂。
含羟基的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基甲酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、二(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、三酸甘油二(甲基)丙烯酸酯、异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯,或上述化合物的组合。含羟基的(甲基)丙烯酸酯较佳为异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯。
含羟基的(甲基)丙烯酸酯可单独使用或组合多种来使用。
聚异氰酸酯是分子内具有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯。聚异氰酸酯的具体例包括亚甲苯基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯基聚异氰酸酯、甲苯胺二异氰酸酯、萘二异氰酸酯等芳香族类;六亚甲基二异氰酸酯(hexamethylenediisocyanate)、异氟尔酮二异氰酸酯(isophoronediisocyanate)、亚茬基二异氰酸酯(xylylenediisocyanate)、氢化亚茬基二异氰酸酯(hydrogenatedxylylenediisocyanate)、二环己基甲烷二异氰酸酯,或上述化合物的组合。聚异氰酸酯可单独使用或组合多种来使用。
多元醇的具体例包括聚(环氧丙烷)二醇、聚(环氧丙烷)三醇、共聚(环氧乙烷-环氧丙烷)二醇、聚(四氢呋喃)二醇、乙氧基化双酚A、乙氧基化双酚S、螺环二醇(spiroglycol)、己内酯改质二醇、碳酸酯二醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇,或上述化合物的组合。多元醇可单独使用或组合多种来使用。
具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的分子量范围可为1,000至200,000,较佳为1,200至100,000,更佳为1,500至50,000。
具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的市售品的具体例包括日本合成化学(股)制造的紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7600B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA;根上工业(股)制造的ArtResinUV-7630B、ArtResinUV-7640B、ArtResinUN-9000H、ArtResinUN-3320HA、ArtResinUN-3320HC、ArtResinUN-3320HS、ArtResinUN-901T;新中村化学工业(股)制造的NKOligoU-6HA、NKOligoU-6LPA、NKOligoU-15HA、NKOligoUA-32P、NKOligoU-324A、NKOligoU-6H;大赛璐氰特(Daicel-Cytec)公司制造的EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL220;荒川化学工业(股)制造的BeamSet575。具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的市售品的具体例较佳为日本合成化学(股)制造的紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7605B;新中村化学工业(股)制造的NKOligoU-6HA;及根上工业(股)制造的ArtResinUN-3320HC、ArtResinUN-3320HS。
具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的市售品可单独使用或组合多种来使用。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的使用量为1至30重量份,较佳为1至25重量份,更佳为2至25重量份。当感光性聚硅氧烷组成物含有具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)时,显影操作可靠性较佳。
其他化合物(B-3)
其他化合物(B-3)为具有2官能及2官能以上的乙烯性不饱和基的化合物,就聚合性良好,所得的保护膜的强度提高的观点而言,其他化合物(B-3)较佳为使用3官能及3官能以上的(甲基)丙烯酸酯。
2官能及2官能以上的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括使乙二醇、丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇般的二价的脂肪族多羟基化合物与(甲基)丙烯酸反应而获得的多官能(甲基)丙烯酸酯,其具体例包括乙二醇二丙烯酸酯(ethyleneglycoldiacrylate)、丙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯,或上述化合物的组合。多官能(甲基)丙烯酸酯的市售品的具体例包括AronixM-210、AronixM-240、AronixM-6200(以上为东亚合成公司制造);KAYARADHDDA、KAYARADHX-220、KAYARADR-604(以上为日本化药公司制造);Viscoat260、Viscoat312、Viscoat335HP(以上为大阪有机化学工业公司制造);LightAcrylate1,9-NDA(共荣社化学公司制造)等。
3官能及3官能以上的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括使甘油(glycerine)、三羟甲基丙烷(trimethylolpropane)、季戊四醇(pentaerythritol)、二季戊四醇般的三价以上的脂肪族多羟基化合物与(甲基)丙烯酸反应而获得的多官能(甲基)丙烯酸酯,其具体例包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯与二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改质二季戊四醇六丙烯酸酯,或上述化合物的组合。多官能(甲基)丙烯酸酯的市售品的具体例包括AronixM-309、AronixM-315、AronixM-400、AronixM-405、AronixM-450、AronixM-7100、AronixM-8030、AronixM-8060、AronixTO-1450(以上为东亚合成公司制造);KAYARADTMPTA、KAYARADDPHA、KAYARADDPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARADDPCA-60、KAYARADDPCA-120、KAYARADDPEA-12(以上为日本化药公司制造);Viscoat295、Viscoat300、Viscoat360、ViscoatGPT、Viscoat3PA、Viscoat400(以上为大阪有机化学工业公司制造)等。
另外,除了三(2-丙烯酰氧基乙基)磷酸酯(tri(2-acryloyloxyethyl)phosphate)、三(2-甲基丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、琥珀酸改质季戊四醇三丙烯酸酯、琥珀酸改质二季戊四醇五丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异三聚氰酸酯(tri(acryloyloxyethyl)isocyanurate)以外,也可使用使具有直链亚烷基及脂环式结构且具有2个以上的异氰酸酯基的化合物,与分子内具有1个以上的羟基且具有3个、4个或5个(甲基)丙烯酰氧基的化合物反应而获得的多官能丙烯酸聚氨酯(acrylicurethane)类化合物等。含有多官能丙烯酸聚氨酯类化合物的市售品的具体例包括NewFrontierR-1150(第一工业制药公司制造)、KAYARADDPHA-40H(日本化药公司制造)等。
其他化合物(B-3)的具体例较佳为包括1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、或二季戊四醇六丙烯酸酯与二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物、环氧乙烷改质二季戊四醇六丙烯酸酯、琥珀酸改质季戊四醇三丙烯酸酯、琥珀酸改质二季戊四醇五丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异三聚氰酸酯、含有多官能丙烯酸聚氨酯类化合物的市售品等。其中,较佳为3官能以上、特别是3官能至6官能的(甲基)丙烯酸酯,更佳为二季戊四醇六丙烯酸酯与二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物。
其他化合物(B-3)成分可单独使用或组合多种来使用。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,其他化合物(B-3)的使用量为3.5至60重量份,较佳为8至60重量份,更佳为12至57重量份。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,具有乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为5至100重量份,较佳为10至95重量份,更佳为15至90重量份。
光起始剂(C)
光起始剂(C)为光自由基聚合起始剂。光自由基聚合起始剂是可通过可见光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等放射线的曝光而产生可引发上述具有乙烯性不饱和基的化合物(B)的硬化反应的活性种的化合物。
光自由基聚合起始剂的具体例包括O-酰基肟化合物(O-acyloximecompound)、苯乙酮化合物(acetophenonecompound)、酰基氧化膦化合物(acylphosphineoxidecompound)、联咪唑化合物(biimidazolecompound)等。
O-酰基肟化合物的具体例包括乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)(ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-,1-(O-acetyloxime),商品名OXE-02;汽巴精化有限公司(CibaSpecialtyChemicals)制造)、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9H-咔唑-3-基]-辛烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-[9-正丁基-6-(2-乙基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢吡喃基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氢呋喃基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧杂环戊基(oxolanyl))甲氧基苯甲酰基}-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基甲氧基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、1,2-辛二酮,1-(4-(苯硫基)苯基)-,2-(O-苯甲酰基肟)(1,2-Octanedione,1-(4-(phenylthio)phenyl)-,2-(O-benzoyloxime),商品名OXE-01;汽巴精化有限公司(CibaSpecialtyChemicals)制造)、1-(4-苯基-硫代苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-氧-苯甲酸脂、1-(4-苯基-硫代苯基)-辛烷-1-酮肟-氧-醋酸酯、1-(4-苯基-硫代苯基)-丁烷-1-酮肟-氧-醋酸酯、或上述化合物的组合。O-酰基肟化合物可单独使用或组合多种来使用。
O-酰基肟化合物的具体例较佳为包括乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基甲氧基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧杂环戊基)甲氧基苯甲酰基}-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、1,2-辛二酮,1-(4-(苯硫基)苯基)-,2-(O-苯甲酰基肟),或上述化合物的组合。
苯乙酮化合物的具体例包括α-氨基酮化合物、α-羟基酮化合物。苯乙酮化合物可单独使用或组合多种来使用。
α-氨基酮化合物的具体例包括2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁烷-1-酮(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1-one)、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代-1-丙酮(2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholino-1-propanone,商品名IRGACURE907;汽巴精化有限公司制造),或上述化合物的组合。
α-羟基酮化合物的具体例包括1-苯基-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮(1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropane-1-one)、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮,或上述化合物的组合。
该些苯乙酮化合物中,较佳为α-氨基酮化合物,特佳为2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮,或上述化合物的组合。
酰基氧化膦化合物的具体例包括2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦(2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide)、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦,或上述化合物的组合。酰基氧化膦化合物可单独使用或组合多种来使用。
该些酰基氧化膦化合物中,较佳为双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦。
联咪唑(biimidazole)化合物的具体例包括2,2'-双(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2'-联咪唑(2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(4-ethoxycarbonylphenyl)-1,2'-biimidazole)、2,2'-双(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑、2,2'-双(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑、2,2'-双(2,4,6-三氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑,或上述化合物的组合。联咪唑化合物可单独使用或组合多种来使用。
该些联咪唑化合物中,较佳为2,2'-双(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑、2,2'-双(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑、2,2'-双(2,4,6-三氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑,或上述化合物的组合。
另外,在使用联咪唑化合物的情形时,可添加选自氨基类增感剂及供氢化合物中的至少一种。
氨基类增感剂的具体例包括N-甲基二乙醇胺(N-methyldiethanolamine)、4,4'-双(二甲基氨基)二苯甲酮(4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone)、4,4'-双(二乙基氨基)二苯甲酮、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对二甲基氨基苯甲酸异戊酯,或上述化合物的组合。该些氨基类增感剂中,特佳为4,4'-双(二乙基氨基)二苯甲酮。
供氢化合物的具体例包括硫醇类化合物。硫醇类化合物例如较佳为2-巯基苯并噻唑(2-mercaptobenzothiazole)、2-巯基苯并恶唑(2-mercaptobenzooxazole)、2-巯基苯并咪唑(2-mercaptobenzoimidazole),或上述化合物的组合。
光起始剂(C)可单独使用或组合多种来使用。在本发明中,光起始剂(C)较佳为含有O-酰基肟化合物或α-氨基酮化合物。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,光起始剂(C)的使用量为3至30重量份,较佳为5至30重量份,更佳为5至25重量份。
溶剂(D)
感光性聚硅氧烷组成物通常是调配溶剂(D)而以液状组成物的形式制备。溶剂(D)只要分散或溶解构成感光性聚硅氧烷组成物的各成分,且不与该些成分反应,具有适度的挥发性,则可适当选择而使用。
溶剂(D)例如是(聚)亚烷基二醇单烷醚类、(聚)亚烷基二醇单烷醚乙酸酯类、其他醚类、酮类、乳酸烷酯类、其他酯类、芳香族碳氢化合物类、羧酸酰胺类或上述溶剂的组合。
(聚)亚烷基二醇单烷醚类的具体例包括乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、二甘醇甲醚、二甘醇乙醚、二甘醇正丙醚、二甘醇正丁醚、三甘醇甲醚、三甘醇乙醚、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、一缩二丙二醇甲醚、一缩二丙二醇乙醚、一缩二丙二醇正丙醚、一缩二丙二醇正丁醚、二缩三丙二醇甲醚、二缩三丙二醇乙醚或上述溶剂的组合。
(聚)亚烷基二醇单烷醚乙酸酯类的具体例包括乙二醇单甲醚乙酸酯(ethyleneglycolmonomethyletheracetate)、乙二醇单乙醚乙酸酯(ethyleneglycolmonoethyletheracetate)、丙二醇单甲醚醋酸酯(propyleneglycolmonomethyletheracetate)、丙二醇单乙醚乙酸酯(propyleneglycolmonoethyletheracetate)或上述溶剂的组合。
其他醚类的具体例包括二甘醇二甲醚、二甘醇甲乙醚、二甘醇二乙醚、四氢呋喃或上述溶剂的组合。
酮类的具体例包括甲乙烷酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮或上述溶剂的组合。
乳酸烷酯类的具体例包括2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯或上述溶剂的组合。
其他酯类的具体例包括2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯(Ethyl3-ethoxypropionate,EEP)、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧基丁酸乙酯或上述溶剂的组合。
芳香族碳氢化合物类的具体例包括甲苯、二甲苯或上述溶剂的组合。
羧酸酰胺类的具体例包括N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或上述溶剂的组合。
溶剂(D)可单独使用或组合多种来使用。
基于碱可溶性树脂(A)为100重量份,溶剂(D)的使用量为50至500重量份,较佳为80至450重量份,更佳为100至400重量份。
添加剂(E)
本发明的感光性聚硅氧烷组成物视需要可含有各种添加剂(E)。
添加剂的具体例包括三苯基锍盐(triphenylsulfoniumsalt)、四氢噻吩鎓盐(tetrahydrothiopheniumsalt)等感放射线性酸产生剂;氨基甲酸-2-硝基苄基环己酯(2-nitrobenzylcyclohexylcarbamate)、O-氨甲酰基羟基酰胺(O-carbamoylhydroxyamide)等感放射线性碱产生剂;非离子类表面活性剂、氟类表面活性剂及硅酮类表面活性剂等表面活性剂;2,2-硫代双(4-甲基-6-第三丁基苯酚)(2,2-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol))、2,6-二-第三丁基苯酚等抗氧化剂;2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯并三唑(2-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole);烷氧基二苯甲酮类等紫外线吸收剂;以及密着促进剂。
表面活性剂的具体例包括由信越化学工业制造的KP产品、由道康宁东丽股份有限公司(DowCorningTorayCo.,Ltd.)制造的SF-8427产品、由共荣社油脂化学工业制造的普利弗隆(Polyflow)产品、由得克姆股份有限公司制造(TochemProductsCo.,Ltd.)的爱夫多普(F-Top)产品、由大日本印墨化学工业制造的美卡夫克(Megafac)产品、由住友3M制造的弗洛多(Fluorade)产品、由旭硝子制造的阿萨卡多(AsahiGuard)产品或由旭硝子公司制造的萨弗隆(Surflon)产品。
密着促进剂的具体例包括乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷或上述化合物的组合。
添加剂(E)可单独使用或组合多种来使用,并且添加剂(E)的使用量可于不损及本发明的目的的范围内适当选择。
<感光性聚硅氧烷组成物的制备方法>
本发明的感光性聚硅氧烷组成物是一种负型感光性组成物。可用来制备感光性聚硅氧烷组成物的方法例如:将碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)以及溶剂(D)放置于搅拌器中搅拌,使其均匀混合成溶液状态,必要时也可添加添加剂(E),予以均匀混合后,便可获得溶液状态的感光性聚硅氧烷组成物。
<保护膜及其形成方法>
本发明另提供一种保护膜,其是将上述的感光性聚硅氧烷组成物涂布在元件上,再经预烤、曝光、显影及后烤后而形成。
本发明还提供一种具有保护膜的元件,其包括元件以及上述的保护膜,其中保护膜覆盖在元件上。具体而言,具有保护膜的元件例如是液晶显示元件及有机电激发光显示器中所使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材、或包覆材料等。
在下文中,以基板作为元件,使用本发明的感光性聚硅氧烷组成物在基板上形成保护膜的方法加以说明。该方法包含以下的步骤(1)至步骤(4)。
(1)将本发明的感光性聚硅氧烷组成物涂布在基板上而形成涂膜的步骤;
(2)对步骤(1)中所形成的涂膜的至少一部分照射放射线的步骤;
(3)利用碱显影液对步骤(2)中经放射线照射的涂膜进行显影的步骤;以及
(4)对步骤(3)中经显影的涂膜进行加热的步骤。
步骤(1)
在步骤(1)中,在基板上涂布本发明的感光性聚硅氧烷组成物的溶液或分散液后,较佳为通过对涂布面进行加热(预烤)而将溶剂去除,形成涂膜。可使用的基板的材质可列举如玻璃、石英、硅或树脂。树脂可列举如聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate)、聚对苯二甲酸丁二酯、聚醚砜(polyethersulfone)、聚碳酸酯、聚酰亚胺、环状烯烃的开环聚合物及其氢化物等。
感光性聚硅氧烷组成物的溶液或分散液的涂布方法并无特别限定,例如可采用喷雾法、辊涂布法、旋转涂布法(spincoatmethod)、狭缝模涂布法、棒涂布法等适当的方法。该些涂布方法中,特佳为旋涂法或狭缝模涂布法。预烤的条件也根据各成分的种类、调配比例等而不同,较佳可设定为70℃至120℃且1分钟至10分钟左右。
步骤(2)
在步骤(2)中,对步骤(1)中形成的涂膜的至少一部分进行曝光。通常,对涂膜的一部分进行曝光时,隔着具有预定图案的光罩进行曝光。曝光所使用的放射线例如可使用可见光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等。该些放射线中,较佳为波长在190nm至450nm的范围内的放射线,特佳为含有365nm的紫外线的放射线。
该步骤的曝光量是设定为通过照度计(OAImodel356、OAIOpticalAssociatesInc.制造)对放射线的波长365nm下的强度进行测定所得的值,较佳为10mJ/cm2至1,000mJ/cm2,更佳为20mJ/cm2至700mJ/cm2
步骤(3)
在步骤(3)中,利用碱显影液对曝光后的涂膜进行显影,藉此将未曝光部分去除,形成预定图案。如此,本发明的感光性聚硅氧烷组成物是将放射线的非照射部分去除,故为负型的感光性组成物。
碱显影液的具体例包括氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水等无机碱显影液,氢氧化四甲基铵(tetramethylammoniumhydroxide,简称TMAH)、氢氧化四乙基铵等有机碱显影液。其中,就成本、生产性的观点而言,较佳为无机碱显影液,特佳为氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物的显影液。本发明的感光性聚硅氧烷组成物在使用无机碱显影液的情形时,也能以高的解析度高精细地形成图案像。
另外,此种碱显影液中,也可添加适当量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂而使用。显影方法例如可利用覆液法(puddlemethod)、浸渍法(dippingmethod)、摇动浸渍法(rockingimmersionmethod)、喷淋法(showermethod)等适当的方法。显影时间是根据感光性聚硅氧烷组成物的组成而不同,较佳为10秒钟至180秒钟左右。继此种显影处理之后,例如进行30秒钟至90秒钟的流水清洗后,例如以压缩空气或压缩氮气进行风干,藉此可形成所需的图案。
步骤(4)
在步骤(4)中,通过使用加热板(hotplate)、烘箱(oven)等加热装置对经显影而图案化的涂膜进行加热(即后烤),可获得具有所需图案的保护膜。加热温度例如为120℃至250℃。加热时间是根据加热机器的种类而不同,例如在加热板上进行加热步骤的情形时可设定为5分钟至30分钟,在烘箱中进行加热步骤的情形时可设定为30分钟至90分钟。也可使用进行2次以上的加热步骤的分步烘烤法等。
如此而形成的保护膜的膜厚较佳为0.1μm~10μm,更佳为0.1μm~6μm,进而更佳为0.1μm~4μm。
通过经过如上所述的步骤,可形成具有所需图案的保护膜。而且,可利用无机碱显影液进行显影,其显影性佳及显影操作可靠性佳。而且,所得的保护膜由于具备此种特性,故可合适地用作例如显示元件的触控面板的保护膜、显示元件的层间绝缘膜。
本发明将就以下实施例来作进一步说明,但应了解的是,上述实施例仅用于例示说明,而不应被解释为本发明实施的限制。
聚硅氧烷(A-1)的合成例与比较合成例
以下说明聚硅氧烷(A-1)的合成例A-1-1至合成例A-1-8:
合成例A-1-1
在容积为500毫升的三口烧瓶中,加入0.05摩尔的3-(三乙氧基硅基)丙基丁二酸酐(以下简称为GF-20)、0.3摩尔的甲基三甲氧基硅烷(以下简称为MTMS)、0.65摩尔的苯基三甲氧基硅烷(以下简称为PTMS)以及200克的丙二醇单乙醚(以下简称为PGEE),并在室温下一边搅拌一边在30分钟内添加草酸水溶液(0.40克草酸溶于75克水)。接着,将三颈烧瓶浸渍在30℃的油浴中并搅拌30分钟。然后,在30分钟内将油浴升温至120℃。待溶液的温度降到105℃(即反应温度)时,持续加热搅拌进行聚合6小时(即聚缩合时间)。再接着,利用蒸馏方式将溶剂及副产物移除,即可获得聚硅氧烷A-1-1。聚硅氧烷A-1-1的成分种类及其使用量如表1所示。
合成例A-1-2至合成例A-1-8
合成例A-1-2至合成例A-1-8的聚硅氧烷(A-1)(即聚硅氧烷A-1-2至聚硅氧烷A-1-8)是以与合成例A-1-1相同的步骤来制备,并且其不同处在于:改变聚硅氧烷(A-1)的硅烷单体组分、溶剂、催化剂及其使用量、反应温度及聚缩合时间(如表1所示)。
表1中简称所对应的化合物如下所示。
简称化合物
GF-203-(三乙氧基硅基)丙基丁二酸酐(3-(triethoxysilyl)propyl
succinicanhydride)
TMSG3-(三甲氧基硅基)丙基戊二酸酐(3-(trimethoxysilyl)propyl
glutaricanhydride)
TMSOX-D2-环氧丙烷基丁氧基丙基三甲氧基硅烷
(2-oxetanylbutoxypropyltrimethoxysilane)
ECETES2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷
(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane)
MTMS甲基三甲氧基硅烷(Methyltrimethoxysilane)
DMDMS二甲基二甲氧基硅烷(Dimethyldimethoxysilane)
PTMS苯基三甲氧基硅烷(Phenyltrimethoxysilane)
PTES苯基三乙氧基硅烷(Phenyltriethoxysilane)
DMS-S27末端为硅烷醇的聚硅氧烷,由吉来斯特(Gelest)公司制造
DMS-S21末端为硅烷醇的聚硅氧烷,由吉来斯特(Gelest)公司制造
OSCAR二氧化硅粒子(粒径12nm,分散剂为甲醇,由催化剂化成公
1132司制造)
IPA-ST二氧化硅粒子(粒径12nm,分散剂为异丙醇,由日产化学公
司制造)
PGEE丙二醇单乙醚(Propyleneglycolmonoethylether)
DAA二丙酮醇(即4-羟基-4-甲基-2-戊酮)(Diacetonealcohol)
水DIwater
草酸Oxalicacid
表1
碱可溶性树脂(A-2)的合成例与比较合成例
以下说明碱可溶性树脂(A-2)的合成例A-2-1至合成例A-2-5:
合成例A-2-1
在具备冷凝管及搅拌机的烧瓶中添加3.0重量份的2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(以下简称为ADVN)及240重量份的二乙二醇二甲醚(以下简称为Diglyme)。继而添加30重量份的甲基丙烯酸(以下简称为MAA)、25重量份的2-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷(以下简称为2OMMA)、25重量份的甲基丙烯酸二环戊酯(以下简称为FA-513M)以及20重量份的苯乙烯单体(以下简称为SM),进行氮气置换,缓缓搅拌并且将溶液的温度上升至70℃,将该温度保持5小时而进行聚合,藉此获得含有碱可溶性树脂A-2-1的溶液。
合成例A-2-2至合成例A-2-5
合成例A-2-2至合成例A-2-5的碱可溶性树脂(A-2)(即碱可溶性树脂A-2-2至碱可溶性树脂A-2-5)是以与合成例A-2-1相同的步骤来制备,并且其不同处在于:改变碱可溶性树脂(A-2)的单体、溶剂、催化剂及其使用量、反应温度及聚缩合时间(如表2所示)。
表2中简称所对应的化合物如下所示。
简称化合物
MAA甲基丙烯酸(methacrylicacid)
AA丙烯酸(acrylicacid)
HOMS2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸(2-acryloyloxyethyl
succinicacid)
EOMMA3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基环氧丙烷
(3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane)
2OMMA2-(甲基丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷
(2-(methacryloyloxymethyl)oxetane)
3-(丙烯酰氧基甲基)环氧丙烷
3OMA(3-(acryloyloxymethyl)oxetane)
GMA丙烯酸环氧丙酯(glycidylacrylate)
EC-MAA甲基丙烯酸-3,4-环氧环己基甲酯
(3,4-epoxycyclohexylmethylmethacrylate)
HEMA甲基丙烯酸-2-羟基乙酯(2-hydroxyethylmethacrylate)
FA-513M甲基丙烯酸二环戊酯(dicyclopentanylmethacrylate)
IBOMA甲基丙烯酸异冰片酯(isobornylmethacrylate)
BzMA甲基丙烯酸苯甲酯(benzylmethacrylate)
SM苯乙烯单体(styrenemonomer)
Diglyme二乙二醇二甲醚(diethyleneglycoldimethylether)
PGMEA丙二醇单乙醚醋酸酯(Propyleneglycolmonoethylether
acetate)
AMBN2,2'-偶氮双-2-甲基丁腈
(2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile)
ADVN2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(2,2'-azobis(2,4-dimethyl
valeronitrile))
表2
感光性聚硅氧烷组成物及保护膜的实施例与比较例
以下说明感光性聚硅氧烷组成物及保护膜的实施例1至实施例11及比较例1至比较例3:
实施例1
a.感光性聚硅氧烷组成物的制备
将100重量份的聚硅氧烷A-1-1、0.5重量份的对枯基苯基丙烯酸酯(B-1-1)、3.5重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(B-3-1)以及3.0重量份的1,2-辛二酮,1-(4-(苯硫基)苯基)-,2-(O-苯甲酰基肟)(商品名OXE-01;汽巴精化有限公司制造)(C-2)加入50重量份的丙二醇单甲醚醋酸酯(D-1)中,并且以摇动式搅拌器(shakingtypestirrer)搅拌均匀后,即可制得实施例1的感光性聚硅氧烷组成物。将实施例1的感光性聚硅氧烷组成物以后述评价方式进行评价,其结果如表3所示。
b.保护膜的形成
将实施例1的感光性聚硅氧烷组成物以旋转涂布方式涂布于100×100×0.7mm3大小的玻璃基板上,以形成厚度约2.2μm的涂膜。接着,将涂膜在90℃下预烤2.5分钟,以形成预烤涂膜。然后,在曝光机与预烤涂膜间置入负光阻用光罩,并利用100mJ/cm2的紫外光对预烤涂膜进行图案化曝光(曝光机型号为AG500-4N,由M&R纳米科技(M&RNanotechnology)制造)。接着,将上面有经曝光的预烤涂膜的基板在23℃下,以0.05%的氢氧化钾(KOH)水溶液显影60秒,以去除玻璃基板上未经曝光的部分的涂膜。然后,用水清洗玻璃基板。然后,将显影后的预烤涂膜在235℃下以烘箱进行后烤30分钟,以在玻璃基板上形成保护膜。
实施例2至实施例11
实施例2至实施例11的感光性聚硅氧烷组成物及保护膜是以与实施例1相同的步骤分别制备,并且其不同处在于:改变成分的种类及其使用量,如表3所示。将实施例2至11所制得的保护膜以后述评价方式进行评价,其结果如表3及表(3)续所示。
比较例1至比较例3
比较例1至比较例3的感光性聚硅氧烷组成物及保护膜是以与实施例1相同的步骤分别制备,并且其不同处在于:改变成分的种类及其使用量,如表3所示。将比较例1至比较例3所制得的保护膜以后述评价方式进行评价,其结果如表3及表(3)续所示。
表3中简称所对应的化合物如下所示。
简称化合物
A-1-1聚硅氧烷A-1-1
A-1-2聚硅氧烷A-1-2
A-1-3聚硅氧烷A-1-3
A-1-4聚硅氧烷A-1-4
A-1-5聚硅氧烷A-1-5
A-1-6聚硅氧烷A-1-6
A-1-7聚硅氧烷A-1-7
A-1-8聚硅氧烷A-1-8
A-2-1碱可溶性树脂A-2-1
A-2-2碱可溶性树脂A-2-2
A-2-3碱可溶性树脂A-2-3
A-2-4碱可溶性树脂A-2-4
A-2-5碱可溶性树脂A-2-5
B-1-1对枯基苯基丙烯酸酯(p-Cumylphenylacrylate)
B-1-2间苯基苯基丙烯酸酯(m-phenylphenylacrylate)
B-1-3邻苯基苯氧基乙基丙烯酸酯(o-phenylphenoxyethylacrylate)
B-1-4对苯基苯氧基乙基丙烯酸酯(p-phenylphenoxyethylacrylate)
B-1-5A-LEN-10(新中村化学工业(股)制)
B-2-1NKOligoU-6HA(新中村化学工业(股)制)
B-2-2紫光UV-1700B(日本合成化学(股)制)
B-2-3紫光UV-7605B(日本合成化学(股)制)
B-2-4ArtResinUN-3320HS(根上工业(股)制造)
B-3-1二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate)
B-3-2二季戊四醇四丙烯酸酯(dipentaerythritoltetraacrylate)
C-1乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰
基肟)(商品名OXE-02;汽巴精化有限公司(CibaSpecialty
Chemicals)制造)
C-21,2-辛二酮,1-(4-(苯硫基)苯基)-,2-(O-苯甲酰基肟)(商品名
OXE-01;汽巴精化有限公司制造)
C-32-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代-1-丙酮(商品名
IRGACURE907;汽巴精化有限公司制造)
D-1丙二醇单甲醚醋酸酯(propyleneglycolmonomethylether
acetate,PGMEA)
D-2二丙酮醇(即4-羟基-4-甲基-2-戊酮)(Diacetonealcohol,DAA)
D-33-乙氧基丙酸乙酯(ethyl3-ethoxypropionate,EEP)
E-1SF-8427(由道康宁东丽聚硅氧股份有限公司制造,界面活性剂)
E-23-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷
(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,商品名KBM403,由信越化
学制造,密着促进剂)
[评价方式]
a.显影性
将感光性聚硅氧烷组成物以旋转涂布方式涂布于玻璃基板上,以形成厚度约2.2μm的涂膜。接着,将涂膜在90℃下预烤2.5分钟,以形成预烤涂膜。然后,在曝光机与预烤涂膜间置入线与间距(lineandspace)的光罩(由日本惠尔康(NIPPONFILCON)制造),并利用100mJ/cm2的紫外光对预烤涂膜进行曝光(曝光机型号为AG500-4N,由M&R纳米科技制造)。接着,将上面有经曝光的预烤涂膜的基板在23℃下,以0.05%的氢氧化钾(KOH)水溶液显影60秒,以去除玻璃基板上未经曝光的部分的涂膜,并且记录显影图案在玻璃基板上可显影的最小线宽。可显影的最小线宽的评价基准如下所示,其中可显影的最小线宽越小,表示显影性越佳。
◎:可显影的最小线宽≤10μm;
○:10μm<可显影的最小线宽≤15μm;
△:15μm<可显影的最小线宽≤20μm;
╳:可显影的最小线宽>20μm。
b.显影操作可靠性
将感光性聚硅氧烷组成物以旋转涂布方式涂布于玻璃基板上,以形成厚度约2.2μm的涂膜。接着,将涂膜在90℃下预烤2.5分钟,以形成预烤涂膜。然后,在曝光机与预烤涂膜间置入线与间距(lineandspace)的光罩(由日本惠尔康制造),并利用100mJ/cm2的紫外光对预烤涂膜进行曝光(曝光机型号为AG500-4N,由M&R纳米科技制造)。接着,将上面有经曝光的预烤涂膜的基板在23℃下,以0.05%的氢氧化钾(KOH)水溶液显影,以去除玻璃基板上未经曝光部分的涂膜,并且记录于不同时间下,10μm的线宽缩减的显影操作时间。显影操作时间的评价基准如下所示,其中显影操作时间越长表示显影操作可靠性越佳。
◎:显影操作时间>210秒钟;
○:210秒钟≥显影操作时间>180秒钟;
△:180秒钟≥显影操作时间>150秒钟;
╳:显影操作时间<150秒钟。
表3
表3(续)
表3(续)
<评价结果>
由表3及表3(续)得知,与含有聚硅氧烷(A-1)的感光性聚硅氧烷组成物(实施例1至实施例11)相比,不含有聚硅氧烷(A-1)的感光性聚硅氧烷组成物(比较例2与比较例3)的显影操作可靠性不佳。
另外,与感光性聚硅氧烷组成物含有具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)(实施例1至实施例11)相比,不含有具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)的感光性聚硅氧烷组成物(比较例1与比较例3)的显影性不佳且显影操作可靠性不佳。
当感光性聚硅氧烷组成物含有碱可溶性树脂(A-2)(实施例7至实施例11)时,显影操作可靠性较佳。
当碱可溶性树脂(A-2)中,以含环氧丙烷基(oxetanyl)的聚合性不饱和化合物(a-2-2a)作为含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)时(实施例7、实施例9以及实施例10),感光性聚硅氧烷组成物的显影性较佳。
当感光性聚硅氧烷组成物含有具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)(实施例6至实施例11)时,显影操作可靠性较佳。
综上所述,本发明的感光性聚硅氧烷组成物是一种负型感光性组成物,其含有聚硅氧烷以及具有乙烯性不饱和基(如(甲基)丙烯酰基)的化合物,因此显影性佳及显影操作可靠性佳,而适用于形成保护膜,例如液晶显示元件及有机电激发光显示器中所使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材、或包覆材料等。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,包括:
碱可溶性树脂(A);
具有乙烯性不饱和基的化合物(B);
光起始剂(C);以及
溶剂(D);
其中所述碱可溶性树脂(A)包括聚硅氧烷(A-1),
所述具有乙烯性不饱和基的化合物(B)包括具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1),其中所述具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)包括由式(1)表示的(甲基)丙烯酸酯单体及由式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一个,
式(1)中,R1及R2各自独立表示氢原子或甲基;a表示0至4的数,
式(2)中,R3及R4各自独立表示氢原子或甲基;b表示0至4的数。
2.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,所述聚硅氧烷(A-1)为由硅烷单体组分聚缩合而得,所述硅烷单体组分包括由式(I-1)表示的化合物及由式(I-2)表示的化合物,
Si(Ra)w(ORb)4-w式(I-1)
式(I-1)中,Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基,至少一个Ra为含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基;w表示1至3的整数,
Si(Rc)u(ORd)4-u式(I-2)
式(I-2)中,Rc各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基或碳数为6至15的芳基;Rd各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基;u表示0至3的整数。
3.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,基于所述碱可溶性树脂(A)为100重量份,所述聚硅氧烷(A-1)的使用量为30至100重量份,所述具有乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为5至100重量份,所述具有乙烯性不饱和基的化合物(B-1)的使用量为0.5至10重量份,所述光起始剂(C)的使用量为3至30重量份,所述溶剂(D)的使用量为50至500重量份。
4.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,所述具有乙烯性不饱和基的化合物(B)还包括具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)。
5.根据权利要求4所述的感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,基于所述碱可溶性树脂(A)为100重量份,所述具有至少六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B-2)的使用量为1至30重量份。
6.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,所述碱可溶性树脂(A)还包括碱可溶性树脂(A-2),其中所述碱可溶性树脂(A-2)由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a-2-1)、含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)以及其他不饱和化合物(a-2-3)共聚合而得。
7.根据权利要求6所述的感光性聚硅氧烷组成物,其特征在于,所述含环氧基的不饱和化合物(a-2-2)包括含环氧丙烷基的不饱和化合物(a-2-2a)。
8.一种保护膜,其特征在于,将权利要求1至7任一项所述的感光性聚硅氧烷组成物涂布于元件上,再经预烤、曝光、显影及后烤后而形成。
9.一种具有保护膜的元件,其特征在于,包括元件以及权利要求8所述的保护膜,所述保护膜覆盖在所述元件上。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107885034A (zh) * 2016-09-29 2018-04-06 奇美实业股份有限公司 负型白色感光性树脂组合物及其应用
CN110128661A (zh) * 2018-02-08 2019-08-16 财团法人工业技术研究院 共聚物与树脂组合物
CN110320755A (zh) * 2018-03-27 2019-10-11 奇美实业股份有限公司 负型白色感光性树脂组成物及其应用
CN110573964A (zh) * 2017-05-24 2019-12-13 东丽株式会社 负型感光性树脂组合物及固化膜
CN110955114A (zh) * 2018-09-27 2020-04-03 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物、经图案化的固化膜的制造方法及固化膜

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018145268A (ja) * 2017-03-03 2018-09-20 Dic株式会社 水性樹脂組成物、コーティング剤、及び該コーティング剤の塗膜を有する物品。
US20190204727A1 (en) * 2017-12-28 2019-07-04 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photoresist and preparation method thereof
JP7272264B2 (ja) * 2018-05-11 2023-05-12 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、フォトスペーサおよび液晶表示装置
US20200105522A1 (en) * 2018-09-27 2020-04-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Photoresist composition and method of forming photoresist pattern
JP2021026029A (ja) * 2019-07-31 2021-02-22 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH ネガ型感光性組成物
JP2021089342A (ja) * 2019-12-03 2021-06-10 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性組成物、硬化膜およびその製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101802033A (zh) * 2007-12-14 2010-08-11 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物
CN103135344A (zh) * 2011-11-25 2013-06-05 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片及其液晶显示元件
CN103282829A (zh) * 2010-12-24 2013-09-04 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物
CN103309161A (zh) * 2012-03-16 2013-09-18 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组合物及其应用
CN103885294A (zh) * 2012-12-20 2014-06-25 奇美实业股份有限公司 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件
CN104076608A (zh) * 2013-03-29 2014-10-01 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组合物及白色矩阵、滤光片和显示器组件

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6162842A (en) * 1999-05-18 2000-12-19 The Goodyear Tire & Rubber Company Radiation curable coating composition
JP2004240241A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Jsr Corp 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
KR101209049B1 (ko) * 2004-12-24 2012-12-07 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 감광성 수지 및 상기 감광성 수지로 이루어진 패턴을 포함하는 박막 표시판 및 그 제조 방법
EP2631932A4 (en) * 2010-10-20 2014-05-14 Tokuyama Corp PHOTOCURABLE NANO-PRINTING COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE COMPOSITION, AND NANO-PRINTING REPLICA MOLD COMPRISING A CURED COMPOSITION PRODUCT
TWI442181B (zh) * 2010-12-02 2014-06-21 Ind Tech Res Inst 感光性組成物與光阻
JP5968041B2 (ja) * 2012-04-23 2016-08-10 株式会社トクヤマ 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法
JP5850873B2 (ja) * 2012-07-27 2016-02-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
CN103144748A (zh) * 2013-03-21 2013-06-12 徐积勉 能提高舰船耐波性能射击精度的舰底可伸缩重锤稳定装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101802033A (zh) * 2007-12-14 2010-08-11 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物
CN103282829A (zh) * 2010-12-24 2013-09-04 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物
CN103135344A (zh) * 2011-11-25 2013-06-05 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片及其液晶显示元件
CN103309161A (zh) * 2012-03-16 2013-09-18 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组合物及其应用
CN103885294A (zh) * 2012-12-20 2014-06-25 奇美实业股份有限公司 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件
CN104076608A (zh) * 2013-03-29 2014-10-01 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组合物及白色矩阵、滤光片和显示器组件

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107885034A (zh) * 2016-09-29 2018-04-06 奇美实业股份有限公司 负型白色感光性树脂组合物及其应用
CN107885034B (zh) * 2016-09-29 2023-03-07 奇美实业股份有限公司 负型白色感光性树脂组合物及其应用
CN110573964A (zh) * 2017-05-24 2019-12-13 东丽株式会社 负型感光性树脂组合物及固化膜
CN110573964B (zh) * 2017-05-24 2023-11-03 东丽株式会社 负型感光性树脂组合物及固化膜
CN110128661A (zh) * 2018-02-08 2019-08-16 财团法人工业技术研究院 共聚物与树脂组合物
CN110128661B (zh) * 2018-02-08 2021-08-31 财团法人工业技术研究院 共聚物与树脂组合物
CN110320755A (zh) * 2018-03-27 2019-10-11 奇美实业股份有限公司 负型白色感光性树脂组成物及其应用
CN110955114A (zh) * 2018-09-27 2020-04-03 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物、经图案化的固化膜的制造方法及固化膜

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