CN105319875A - 电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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CN105319875A CN201510401681.7A CN201510401681A CN105319875A CN 105319875 A CN105319875 A CN 105319875A CN 201510401681 A CN201510401681 A CN 201510401681A CN 105319875 A CN105319875 A CN 105319875A
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photosensitive element
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杉山和道
川口大辅
田中大介
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Abstract

本发明涉及一种电子照相感光构件，电子照相感光构件的制造方法，处理盒，和电子照相设备。一种电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的底涂层。所述底涂层包含金属氧化物颗粒。所述金属氧化物颗粒表面上包含由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物。

Description

电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及一种电子照相感光构件、电子照相感光构件的制造方法、包括所述电子照相感光构件的处理盒、和包括所述电子照相感光构件的电子照相设备。
背景技术
安装于电子照相设备中的电子照相感光构件在支承体和感光层之间包括含有金属氧化物颗粒的底涂层。已知的是，为了抑制从支承体至感光层的电荷注入和抑制在感光层中的电荷的累积，金属氧化物颗粒的表面由有机化合物来改性。
例如，日本专利特开10-301314和日本专利特开04-229872记载了一种技术，其用于使用烷基烷氧基硅烷来处理(表面处理)金属氧化物颗粒的表面。日本专利特开2010-127963和日本专利特开2006-30698记载了一种技术，其用于使用电子输送物质来改性金属氧化物颗粒的表面，因此抑制在感光层中的电荷的累积。
基于研究结果，本发明人发现在含有金属氧化物颗粒的感光构件中的以下问题，为了抑制从支承体至感光层的电荷注入和抑制在感光层中的电荷的累积，所述金属氧化物颗粒的表面已经由烷基烷氧基硅烷和由电子输送物质来处理。即，因为充分地抑制了在底涂层中的电荷的累积，电位可能在重复的图像形成时期内变化。
发明内容
本发明的目的提供了一种电子照相感光构件，其包括含有金属氧化物颗粒的底涂层，所述金属氧化物颗粒的表面已经同时由烷基烷氧基硅烷和电子输送物质来改性。所述电子照相感光构件在重复的图像形成时期内已经降低了电位的变化。本发明的目的也提供了所述电子照相感光构件的制造方法。本发明的目的也提供了各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
本发明的目的提供了一种电子照相感光构件，其包括
支承体，和
在所述支承体上的底涂层。
所述底涂层包括金属氧化物颗粒，所述金属氧化物颗粒的表面包含：
由以下式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物；和
由以下式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物，
其中，在所述式(A-1)至(A-10)中，X11、X21、X31、X41、X51、X61、X71、X81、X91和X101各自独立地表示氨基、羟基、羧基、由-COONa表示的基团、由-COOK表示的基团、磺基或硫醇基；R11至R17、R21至R27、R31至R37、R41至R45、R51至R53、R61至R69、R71至R77和R81至R85、R91至R97和R101至R109各自独立地表示氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、羟基、硫醇基、氨基、羧基、甲氧基、乙氧基、-SO3Na、-SO3K、未取代或取代的烷基、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氧原子得到的基团、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氮原子得到的基团、未取代或取代的芳基、或未取代或取代的杂环基；所述取代的烷基的取代基是烷基、芳基、卤素原子、或羰基；所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基是卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基、或羰基，
其中，在所述式(B-1)和(B-2)中，R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基，并且R4、R7和R8各自独立地表示甲基、乙基、或苯基。
本发明的目的提供了一种电子照相感光构件的制造方法，所述包括电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的底涂层，所述方法包括：
形成含有金属氧化物颗粒的底涂层用涂布液的涂膜；和
干燥所述涂膜从而形成所述底涂层。
所述金属氧化物颗粒在其表面上包含
由以下式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物，和
由以下式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物。
本发明的目的提供了一种处理盒，其可以可拆卸地安装于电子照相设备的主体，所述处理盒包括：
所述电子照相感光构件，和
选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置，
其中将所述电子照相感光构件和所述至少一种装置一体化支承。
本发明的目的提供了一种电子照相设备，其包括所述电子照相感光构件；充电装置；显影装置；和转印装置。
本发明的目的可以提供一种电子照相感光构件和所述电子照相感光构件的制造方法，所述电子照相感光构件在重复的图像形成时期内已经降低了电位的变化。本发明的目的也可以提供各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
本发明的进一步特征参考附图从示例性实施方案的以下说明而变得明显。
附图说明
图1是包括包含根据本发明的实施方案的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意图。
图2是根据本发明的实施方案的电子照相感光构件的层结构的示意图。
具体实施方式
根据本发明的实施方案的电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的底涂层。所述底涂层包括金属氧化物颗粒。所述金属氧化物颗粒在其表面上包含由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物。
表面上含有所述化合物的金属氧化物颗粒是指其表面已经通过由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物处理的金属氧化物颗粒。
本发明推测原因：这样的电子照相感光构件如下所述在重复的图像形成时期内已经降低了电位的变化。
由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物是具有一个或两个烷氧基的烷基烷氧基硅烷。基于研究结果，发现的是，烷基烷氧基硅烷中，具有三个烷氧基的通用的烷基三烷氧基硅烷不可以有效地抑制电位变化。推测的是，因为烷基三烷氧基硅烷具有三个反应部位，各个硅烷分子结合至相邻的两个硅烷分子和金属氧化物颗粒，因此在金属氧化物颗粒的表面上形成硅烷分子的三维网络结构。该三维网络结构可以阻止用于降低电位的变化的电子输送物质吸附在金属氧化物颗粒的表面上，导致金属氧化物颗粒的不充分的使用电子输送物质的表面处理。
在根据本发明的实施方案的具有一个或两个烷氧基的烷基烷氧基硅烷的情况下，硅烷分子单独存在于金属氧化物颗粒的表面上，或在金属氧化物颗粒的表面上形成线或环状。因此，电子输送物质可以吸附在金属氧化物颗粒的表面上，并且金属氧化物颗粒的表面可以由电子输送物质来有效地处理。这导致在重复的图像形成时期内已经降低了电位的变化。
在所述式(A-1)至(A-10)中，X11、X21、X31、X41、X51、X61、X71、X81、X91和X101各自独立地表示氨基、羟基、羧基、由-COONa表示的基团、由-COOK表示的基团、磺基或硫醇基；R11至R17、R21至R27、R31至R37、R41至R45、R51至R53、R61至R69、R71至R77和R81至R85、R91至R97和R101至R109各自独立地表示氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、羟基、硫醇基、氨基、羧基、甲氧基、乙氧基、由-SO3Na表示的基团、由-SO3K表示的基团、未取代或取代的烷基、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氧原子得到的基团、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氮原子得到的基团、未取代或取代的芳基、或未取代或取代的杂环基。所述取代的烷基的取代基是烷基、芳基、卤素原子、或羰基。所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基是卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基、或羰基。
由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物可以单独或以组合使用。
在所述式(B-1)和(B-2)中，R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基。R4、R7和R8各自独立地表示甲基、乙基、或苯基。为了降低电位的变化，R1、R2、R3、R5和R6可以是具有1至5个碳原子的烷基。
以下描述由式(A-1)至(A-10)表示的化合物的具体实例。然而，本发明不限于这些实例。
表1
X11 R11 R12 R13 R14 R15 R16 R17
(A-1-1) -OH -H -H -H -H -H -H -H
(A-1-2) -OH -H -H -H -OH -H -H -H
(A-1-3) -OH -OH -H -H -H -H -H -H
(A-1-4) -OH -H -H -H -H -OH -H -H
(A-1-5) -OH -H -H -H -H -H -H -OH
(A-1-6) -OH -H -H -H -H -OH -H -OH
(A-1-7) -OH -H -H -H -H -H -CH3 -H
(A-1-8) -OH -H -H -H -H -H -CH2OH -H
(A-1-9) -NH2 -H -H -H -H -OH -H -H
(A-1-10) -COOH -H -H -H -OH -OH -H -H
(A-1-11) -NH2 -OH -H -H -NH2 -OH -H -H
(A-1-12) -OH -H -H -H -H -NO2 -H -H
(A-1-13) -NH2 -H -H -H -H -H -H -CH3
(A-1-14) -NH2 -H -H -H -H -NH2 -CN -CN
(A-1-15) -NH2 -H -H -H -H -NH2 -Cl -Cl
(A-1-16) -NH2 -H -H -H -H -Br -H -SO3Na
(A-1-17) -SO3Na -H -H -H -H -H -H -H
表2
X21 R21 R22 R23 R24 R25 R26 R27
(A-2-1) -OH -H -H -H -H -H -H -H
(A-2-2) -NH2 -H -H -H -H -H -H -H
(A-2-3) -OH -OH -H -H -H -H -H -H
(A-2-4) -OH -OH -H -H -H -OH -H -H
(A-2-5) -OH -H -H -H -H -H -CH3 -H
(A-2-6) -NH2 -H -H -H -H -Br -H -H
表3
X31 R31 R32 R33 R34 R35 R36 R37
(A-3-1) -OH -H -H -H -H -H -H -H
(A-3-2) -COOH -H -H -H -H -H -H -H
(A-3-3) -OH -OH -H -H -H -H -H -H
(A-3-4) -OH -H -H -H -H -H -CH3 -H
(A-3-5) -OH -H -H -H -H -H -Br -H
(A-3-6) -NH2 -NH2 -H -H -H -H -H -H
表4
X41 R41 R42 R43 R44 R45
(A-4-1) -OH -H -H -H -H -H
(A-4-2) -OH -H -H -OH -H -H
(A-4-3) -OH -H -H -H -H -CH3
(A-4-4) -OH -H -H -OH -Cl -Cl
表5
X51 R51 R52 R53
(A-5-1) -OH -H -OH -H
(A-5-2) -OH -OH -OH -OH
(A-5-3) -OH -Br -OH -Br
(A-5-4) -OH -Cl -OH -Cl
(A-5-5) -OH -H -OCH3 -H
表6
X61 R61 R62 R63 R64 R65 R66 R67 R68 R69
(A-6-1) -OH -H -H -H -H -H -H -H -H -H
(A-6-2) -OH -H -H -OH -H -H -H -H -OH -H
(A-6-3) -NH2 -H -H -NH2 -H -H -H -H -NH2 -H
(A-6-4) -OH -H -H -CH3 -H -H -H -H -CH3 -H
(A-6-5) -COOH -H -H -COOH -H -H -H -H -COOH -H
(A-6-6) -OH -H -H -OH -H -OH -H -H -OH -H
表7
X71 R71 R72 R73 R74 R75 R76 R77
(A-7-1) -OH -H -H -H -H -H -H -H
(A-7-2) -OH -H -H -H -H -H -OH -H
(A-7-3) -NH2 -H -H -H -H -H -NH2 -H
(A-7-4) -OH -H -H -H -H -H -Br -H
表8
X81 R81 R82 R83 R84 R85
(A-8-1) -OH -H -COOH -H -H -COOH
(A-8-2) -OH -OH -H -H -H -H
(A-8-3) -NH2 -NH2 -COOH -H -H -COOH
(A-8-4) -COOH -H -COOH -H -H -COOH
表9
X91 R91 R92 R93 R94 R95 R96 R97
(A-9-1) -OH -H -H -OH -H -H -H -H
(A-9-2) -OH -H -H -H -H -Br -H -H
(A-9-3) -OH -H -H -OH -H -H -H -H
(A-9-4) -OH -H -H -H -H -Br -Br -H
表10
X101 R101 R102 R103 R104 R105 R106 R107 R108 R109
(A-10-1) -OH -H -H -H -H -H -OH -OH -H -H
(A-10-2) -OH -H -H -H -H -H -H -OH -H -H
(A-10-3) -OH -OH -H -H -H -H -H -H -H -H
(A-10-4) -OH -H -H -H -H -H -H -H -H -H
由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物可以如下：二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、三乙基乙氧基硅烷、二异丙基二甲氧基硅烷、二异丁基二甲氧基硅烷或环己基甲基二甲氧基硅烷。由式(B-1)和(B-2)表示的化合物可以单独或以组合使用。
表面处理的金属氧化物颗粒可以满足以下式(1)；
14≤S≤25(m2/g)(1)
其中S表示所述金属氧化物颗粒的比表面积(m2/g)。
金属氧化物颗粒也可以满足以下式(2)和(3)：
0.02≤(A+B)≤0.40(2)
0.01≤B/A≤1.0(3)
其中A表示由所述式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物的质量与所述金属氧化物颗粒的比表面积S的比，并且B表示由所述式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物的质量与所述金属氧化物颗粒的比表面积S的比。
在式(2)中，0.02以上的(A+B)导致所述化合物和金属氧化物颗粒之间充分的相互作用和重复使用时的电位变化的明显降低。0.40以下的(A+B)导致化合物之间降低的相互作用和因此导致重复使用时的电位变化的明显降低。
在式(3)中，0.01以上的B/A导致金属氧化物颗粒之间适当的相互作用、顺利的电子流动、和重复使用时的降低的电位。1.0以下的B/A导致在金属氧化物颗粒的表面上由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物的量与由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物的量的适当的比和重复使用时的进一步降低的电位变化。更优选地，B/A是0.07以上且1.0以下。
用于底涂层的金属氧化物颗粒可以是金属氧化物，例如氧化钛、氧化锌、氧化锡、氧化锆或氧化铝。其中，金属氧化物颗粒可以是含有选自由氧化锌和氧化钛组成的组的至少一种的颗粒。金属氧化物颗粒可以是氧化锌颗粒。
例如，通过混合金属氧化物颗粒和由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物生产表面上含有由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物的金属氧化物颗粒。混合可以通过任何通常方法进行，例如，通过将由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和金属氧化物颗粒在溶剂中搅拌进行。对溶剂的种类和搅拌条件没有特别限制。
金属氧化物颗粒的表面可以通过任何已知方法由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物来处理，例如，通过干式法或湿式法等。在干式法中，将式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物的醇水溶液和溶剂添加至在例如Henschel混合机等的高速混合机中的金属氧化物颗粒，同时搅拌，均一地分散，然后干燥。在湿式法中，将金属氧化物颗粒和烷基烷氧基硅烷在溶剂中搅拌或例如在砂磨机中使用玻璃珠分散。分散之后过滤或在减压下蒸发从而除去溶剂。在溶剂除去之后，烘焙可以在100℃以上进行。
金属氧化物颗粒优选具有比表面积S为14m2/g以上且25m2/g以下。在此范围内的比表面积S趋于导致金属氧化物颗粒的均一的分散状态和底涂层的稳定的性能。
金属氧化物颗粒的比表面积可以使用ShimadzuCorporationTristar3000来测量。更具体地，将在测量用玻璃池中的200mg的金属氧化物颗粒在150℃和真空下干燥30分钟来作为预处理。然后将该池任何放置在设备中，并且测量比表面积。
金属氧化物颗粒可以是不同种类的金属氧化物、进行不同的表面处理的金属氧化物、或具有不同的比表面积的金属氧化物的混合物。
以下将要描述根据本发明的实施方案的电子照相感光构件的层状结构。根据本发明的实施方案的电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的底涂层。将感光层配置在底涂层上。感光层可以是由含有电荷产生物质的电荷产生层和含有电荷输送物质的电荷输送层组成的多层(功能分离型)感光层。
图2是根据本发明的实施方案的电子照相感光构件的层结构的示例性图。在图2中，该层结构包括支承体21、底涂层22、电荷产生层23和电荷输送层(空穴输送层)24。
支承体
支承体可以是导电性(导电性支承体)。例如，支承体是由例如铝、铝合金或不锈钢等的金属或合金制成的金属支承体。支承体也可以是具有由真空蒸发形成的铝层、铝合金层或氧化铟-氧化锡合金层的金属或塑料支承体。支承体也可以是埋入有与粘结剂树脂一起的例如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒或银颗粒等的导电性颗粒的塑料或纸质支承体。支承体也可以是含有导电性粘结剂树脂的塑料支承体。支承体可以是圆柱状或带状。
为了降低由激光束的散射导致的干涉条纹，支承体的表面可以进行切割、表面粗糙化或铝阳极化(alumite)处理。
用于降低由激光束的散射导致的干涉条纹或用于覆盖支承体的划痕的导电性层可以配置在支承体和底涂层之间。导电性层可以通过将炭黑或导电性颗粒分散在粘结剂树脂中来形成。导电性层优选具有厚度在范围为5至40μm内，更优选10至30μm。
底涂层
底涂层配置在支承体或导电层和感光层(电荷产生层或电荷输送层)之间。
如果需要，底涂层可以含有粘结剂树脂。粘结剂树脂可以是任何已知树脂，例如，固化性树脂。固化性树脂在形成感光层时在上层中可忽视地溶解，并且导致小的电阻变化。
固化性树脂的实例包括，但不限于，酚醛树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、丙烯酸类树脂、三聚氰胺树脂和聚酯树脂。固化性树脂可以是通过封端异氰酸酯化合物和多元醇的固化来形成。
封端异氰酸酯化合物的实例包括，但不限于，肟封端2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、HDI-三羟甲基丙烷加成物、HDI-异氰脲酸酯、和HDI-缩二脲。肟的实例包括，但不限于，甲醛肟、乙醛肟、甲基乙基酮肟、和环己酮肟。多元醇的实例包括，但不限于，聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、环氧多元醇、或氟化多元醇。
如果需要，底涂层可以含有有机树脂细颗粒和/或流平剂。
有机树脂颗粒的实例包括，但不限于，疏水性有机树脂颗粒，例如硅酮颗粒；和亲水性有机树脂颗粒，例如交联型聚甲基丙烯酸酯树脂(PMMA)颗粒。特别地，PMMA颗粒可以用于适当地控制底涂层的表面粗糙度。底涂层可以具有表面粗糙度Rz在范围为0.6至2.0μm内，和Sm在范围为0.010至0.024mm内。在此范围内的Sm表明细微间距的表面粗糙度并且导致底涂层和电荷产生层之间的改善的密合性。
底涂层可以通过例如浸涂法、喷涂法、旋涂法、珠涂法(beadcoatingmethod)、刮涂法或棒涂法等的涂布方法来施涂。底涂层可以通过加热干燥和/或空气干燥来干燥。加热温度依赖固化温度，并且可以测定从而实现电子照相感光构件的期望的特性。
底涂层优选具有厚度在范围为大约0.5至30μm内，更优选10至30μm。
感光层
感光层(电荷产生层和电荷输送层)配置在底涂层上。
电荷产生物质的实例包括，但不限于，偶氮颜料、酞菁颜料、靛蓝颜料、苝颜料、多环醌颜料、方酸内鎓(squarylium)染料、吡喃鎓盐、噻喃鎓盐、三苯基甲烷染料、喹吖啶酮颜料、薁鎓(azulenium)盐颜料、花青染料、三苯并[cd,jk]芘-5,10-二酮颜料、皮蒽酮颜料、呫吨染料、醌亚胺染料和苯乙烯基染料。这些电荷产生物质可以单独或以组合使用。
这些电荷产生物质中，酞菁颜料和偶氮颜料，特别酞菁颜料具有高的感光度。
酞菁颜料中，氧钛酞菁、氯镓酞菁和羟基镓酞菁具有高的电荷产生效率。
羟基镓酞菁中，在CuKα特征X射线衍射中的布拉格角2θ为7.4±0.3度和28.2±0.3度处具有峰的羟基镓酞菁晶体具有良好的电位特性。
在感光层是多层型感光层的情况下，电荷产生层可以通过以下来形成：将电荷产生物质和粘结剂树脂分散在溶剂中从而制备电荷产生层用涂布液，将电荷产生层用涂布液施涂从而形成涂膜，并且干燥涂膜。
用于电荷产生层的粘结剂树脂的实例包括，但不限于，丙烯酸类树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、环氧树脂、二烯丙基邻苯二甲酸酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、缩丁醛树脂、苯甲醛树脂(benzalresin)、聚丙烯酸酯、聚缩醛、聚酰胺酰亚胺、聚酰胺、聚(烯丙基醚)、聚芳酯、聚酰亚胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚(乙烯醇缩醛)、聚丁二烯、聚丙烯、甲基丙烯酸酯树脂、尿素树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚(乙酸乙烯酯)树脂和聚(氯乙烯)树脂。其中，粘结剂树脂可以是缩丁醛树脂。这些可以单独或作为混合物或共聚物以组合使用。
分散可以使用均质器、超声均质器、球磨机、砂磨机、辊磨机、振动磨机、磨碎机、或液体冲击型高速分散机来进行。在电荷产生层中的电荷产生物质与粘结剂树脂的质量比优选范围为0.3:1至10:1。
用于电荷产生层用涂布液的溶剂的实例包括，但不限于，醇类、亚砜类、酮类、醚类、酯类、脂族卤代烃和芳香族化合物。
电荷产生层优选具有厚度为5μm以下，更优选0.1μm以上且2μm以下。如果需要，电荷产生层可以含有敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、和/或增塑剂。
在包括多层型感光层的电子照相感光构件中，电荷输送层形成在电荷产生层上。电荷输送层可以通过以下来形成：将电荷输送层和粘结剂树脂溶解在溶剂中从而制备电荷输送层用涂布液，将电荷输送层用涂布液施涂从而形成涂膜，并且干燥涂膜。
电荷输送物质的实例包括，但不限于，三芳基胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、茋化合物和丁二烯化合物。其中，电荷输送物质可以是三芳基胺化合物。
在感光层是多层型感光层的情况下，用于电荷输送层的粘结剂树脂可以是丙烯酸类树脂、丙烯腈树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、酚醛树脂、苯氧基树脂、聚丙烯酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰胺、聚(烯丙基醚)、聚丙烯酸酯、聚酰亚胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚(氧化亚苯基)、聚丁二烯、聚丙烯、或甲基丙烯酸酯树脂。特别地，粘结剂树脂可以是聚芳酯或聚碳酸酯。这些可以单独或作为混合物或共聚物以组合使用。
电荷输送物质与粘结剂的质量比优选范围为0.3:1至10:1。为了抑制裂纹，电荷输送层用涂布液的涂膜的干燥温度优选60℃以上且150℃以下，更优选80℃以上且120℃以下。干燥时间优选10分钟以上且60分钟以下。
用于电荷输送层用涂布液的溶剂可以是醇(特别具有3个以上的碳原子的醇)，例如丙醇或丁醇；芳香族烃，例如苯甲醚、甲苯、二甲苯或氯苯；甲基环己烷或乙基环己烷。
在电荷输送层具有多层结构的情况下，为了增加电子照相感光构件的机械强度，在电子照相感光构件的外表面上的电荷输送层的层可以通过以下来形成：将具有链聚合性官能团的电荷输送物质通过聚合(交联)来固化。链聚合性官能团可以是丙烯酰基、烷氧基甲硅烷基、或环氧基。具有链聚合性官能团的电荷输送物质可以通过热、光、和/或照射(电子束)来聚合和/或交联。
在电子照相感光构件包括单层电荷输送层的情况下，电荷输送层优选具有厚度为5μm以上且40μm以下，更优选8μm以上且30μm以下。
在电荷输送层具有多层结构的情况下，与电子照相感光构件的支承体邻接的电荷输送层的层优选具有厚度为5μm以上且30μm以下，并且在电子照相感光构件的外表面上的电荷输送层的层优选具有厚度为1μm以上且10μm以下。
如果需要，电荷输送层可以含有抗氧化剂、紫外线吸收剂、和/或增塑剂。
用于保护感光层的保护层可以配置在感光层上。保护层可以通过以下来形成：将粘结剂树脂溶解在溶剂中从而制备保护层用涂布液，并且将保护层用涂布液施涂和干燥。保护层也可以通过以下来形成：将树脂单体和低聚物溶解在溶剂中从而制备保护层用涂布液，将保护层用涂布液施涂，并且固化和/或干燥保护层用涂布液。保护层用涂布液可以通过光、热或照射(电子束)来固化。
保护层优选具有厚度为0.5μm以上且10μm以下，更优选1μm以上且7μm以下。如果需要，保护层可以含有导电性颗粒。
这些涂布液可以通过例如浸涂法、喷涂法、旋涂法、辊涂法、迈耶棒涂法或刮涂法等的涂布方法来施涂。
电子照相感光构件的最外表面(表面层)可以含有润滑剂，例如硅油、蜡、聚四氟乙烯颗粒、二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒、和/或氮化硼。
图1表明包括包含根据本发明的实施方案的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备。
在图1中，根据本发明的实施方案的圆柱状(鼓状)电子照相感光构件1在预定的圆周速度(处理速度)下沿箭头的方向在轴2上旋转。
电子照相感光构件1的表面在旋转时由充电装置3(一次充电构件，例如充电辊)充电至预定的正或负电位。
电子照相感光构件1的表面然后使用由曝光装置(图像曝光装置)(未示出)发出的曝光光(图像曝光光)4来照射。因此，静电潜像形成在电子照相感光构件1的表面上。
在电子照相感光构件1的表面上的静电潜像然后使用在显影装置5中的显影剂(调色剂)来显影(常规转印或反转转印)。因此将调色剂图像形成在电子照相感光构件1的表面上。在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像然后通过转印装置6(转印辊)转印至转印材料P。
转印材料P从转印材料供给单元(未示出)与电子照相感光构件1的旋转同步地转印至在电子照相感光构件1和转印装置6之间的接触部分。
将具有与调色剂的电荷的极性相反的极性的电压(转印偏置)使用偏置电源(未示出)施加至转印装置6。
将转印了调色剂图像的转印材料P然后与电子照相感光构件1的表面分离并且输送至定影装置8。在调色剂图像定影之后，转印材料P从作为图像形成物(例如打印机或复印机)的电子照相设备输出。转印装置6可以是由一次转印构件、中间转印构件和二次转印构件组成的中间转印系统。
将在调色剂图像已经转印至转印材料P之后的电子照相感光构件1的表面使用清洁装置7(清洁刮板)来清洁，因此从表面除去沉积物，例如残留的显影剂(残留的调色剂)。残留的调色剂可以使用显影装置5回收(无清洁器系统)。
将电子照相感光构件1的表面使用由预曝光装置(未示出)发出的预曝光光(未示出)来照射从而除去电荷。电子照相感光构件1再次用于图像形成。如图1中表明，在充电装置3是接触充电装置，例如充电辊的情况下，不必须需要预曝光。
电子照相感光构件1、充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置7的至少两种可以安装在容器中并且用作处理盒。
处理盒可以可拆卸地附着至电子照相设备的主体，例如，将电子照相感光构件1和充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置7的至少一种一体化支承从而形成处理盒。该盒可以是经由用于电子照相设备的主体的例如导轨的引导10可以可拆卸地安装于电子照相设备的主体的处理盒9。
曝光光4可以是来自原始的反射光或经由原始的透射光；或可以是通过以下发出的光：将原始使用传感器读出；将该读写转换为信号；并且扫描激光束，驱动LED阵列，或驱动响应信号的液晶开门阵列。
实施例
将要参考实施例进一步描述本发明。然而，本发明不限于这些实施例。在实施例中，“％”和“份”分别是指“质量％”和“质量份”。
实施例1
100份的氧化锌颗粒(比表面积：18.8m2/g，粉末电阻：4.9×106Ω·cm，纯度：98.5％)与500份的甲苯混合。将0.75份的二甲基二甲氧基硅烷(商品名：KBM-22，Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制造)添加至混合物。将混合物搅拌6小时。甲苯然后在减压下蒸发。将混合物在140℃下干燥6小时，因此获得了其表面通过由式(B-2)表示的化合物处理的氧化锌颗粒。
将以下材料在砂磨机中使用具有直径为0.8mm的玻璃珠分散3小时。
分散之后，将0.01份的硅油SH28PA(DowCorningToraySiliconeCo.,Ltd.制造)和5.6份的聚(甲基丙烯酸甲酯)树脂颗粒(PMMA，SekisuiPlasticsCo.,Ltd.制造，SSX-103，平均粒径3.5μm)添加至分散液从而制备底涂层用涂布液。
铝制圆筒(ED管)(ShowaDenkoK.K.制造，直径24mm×长度357.5mm，Rzjis＝0.8μm)用作支承体(导电性支承体)。将底涂层用涂布液通过浸涂法施涂至支承体并且在160℃下干燥30分钟从而形成具有厚度为30μm的底涂层。
将10份的在CuKα特征X射线衍射中的布拉格角2θ±0.2度为7.4度和28.1度处具有峰的羟基镓酞菁晶体、0.1份的由以下式(A)表示的化合物、和5份的聚(乙烯醇缩丁醛)树脂(商品名：S-LecBX-1，SekisuiChemicalCo.,Ltd.制造)添加至250份的环己酮并且在砂磨机中使用具有直径为0.8mm的玻璃球分散3小时。将分散液使用100份的环己酮和450份的乙酸乙酯稀释从而制备电荷产生层用涂布液。将涂布液通过浸涂法施涂至底涂层并且在100℃下干燥10分钟从而形成具有厚度为0.17μm的电荷产生层。
将50份的作为电荷输送物质的由以下式(B)表示的化合物、50份的由以下式(C)表示的化合物、和100份的聚碳酸酯树脂(商品名：IupilonZ400，MitsubishiGasChemicalCo.,Inc.制造)溶解在650份的单氯苯和150份的二甲氧基甲烷的混合溶剂中从而制备电荷输送层用涂布液。将电荷输送层用涂布液通过浸涂法施涂至电荷产生层并且在120℃下干燥30分钟从而形成具有厚度为23μm的电荷输送层。
实施例2至23
将在实施例1中的用于制备底涂层用涂布液的金属氧化物颗粒、由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物的种类和量、和由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物的种类和量如表11中列出来改变。除此以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。
比较例1
除了不使用示例性化合物(A-1-1)以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。
比较例2
除了不使用二甲基二甲氧基硅烷以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。
比较例3
除了二甲基二甲氧基硅烷由甲基三甲氧基硅烷代替以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。
比较例4
除了二甲基二甲氧基硅烷由苯基三乙氧基硅烷代替以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。
评价-电位变化
将根据实施例1至23和比较例1至4的电子照相感光构件如下述来评价。
用于评价的电子照相设备是如下述修改的CANONKABUSHIKIKAISHA制造的激光束打印机LBP-2510。即，使充电条件和激光剂量可变化。将各个电子照相感光构件安装在青色处理盒中。该青色处理盒安装在青色处理盒站中。
测定充电条件和激光剂量，以致电子照相感光构件的表面电位在温度为25℃和湿度为20％RH下包括初始暗部电位为-500V和亮部电位为-160V。在表面电位的测量中，改造该盒，以致电位探针(商品名：model6000B-8，TrekJapan制造)放置在显影位置。将电子照相感光构件的中央部的电位使用表面电位计(商品名：model344，TrekJapan制造)测量。
在电位变化的评价中，15000张青色图像输出。在纸张经过时，文字图像在打印率为1％下成功地形成在A4-尺寸普通纸上。在图像输出初始时和在15000张图像输出时，测量暗部电位和亮部电位。从初始暗部电压和初始亮部电压与在15000张图像输出时的暗部电压和亮部电压之间的差来测定由于15000张的输出的暗部电位变化(ΔVd)和亮部电位变化(ΔVl)。表11示出结果。
表11
在表11中，“烷基烷氧基硅烷”是指由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物。
虽然本发明已经参考示例性实施方案描述，但要理解的是，本发明不限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围符合最广泛的解释从而涵盖全部这样的修改和等同的结构和功能。

Claims (14)

1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和在所述支承体上的底涂层，其特征在于，
其中所述底涂层包括金属氧化物颗粒，所述金属氧化物颗粒的表面包含：
由以下式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物；和
由以下式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物，
其中，在所述式(A-1)至(A-10)中，X11、X21、X31、X41、X51、X61、X71、X81、X91和X101各自独立地表示氨基、羟基、羧基、由-COONa表示的基团、由-COOK表示的基团、磺基或硫醇基，
R11至R17、R21至R27、R31至R37、R41至R45、R51至R53、R61至R69、R71至R77和R81至R85、R91至R97和R101至R109各自独立地表示氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、羟基、硫醇基、氨基、羧基、甲氧基、乙氧基、由-SO3Na表示的基团、由-SO3K表示的基团、未取代或取代的烷基、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氧原子得到的基团、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氮原子得到的基团、未取代或取代的芳基、或未取代或取代的杂环基，
所述取代的烷基的取代基是烷基、芳基、卤素原子、或羰基；所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基是卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基、或羰基，
其中，在所述式(B-1)和(B-2)中，R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基，并且R4、R7和R8各自独立地表示甲基、乙基、或苯基。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述金属氧化物颗粒满足以下式(1)：
14m2/g≤S≤25m2/g(1)
其中S表示所述金属氧化物颗粒的以m2/g为单位的比表面积。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述金属氧化物颗粒满足以下式(2)和(3)：
0.02≤(A+B)≤0.40(2)
0.01≤B/A≤1.0(3)
其中A表示由所述式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物的质量与所述金属氧化物颗粒的比表面积S的比，并且
B表示由所述式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物的质量与所述金属氧化物颗粒的比表面积S的比。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述金属氧化物颗粒是其表面已经通过由所述式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和由所述式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物来处理的金属氧化物颗粒。
5.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述金属氧化物颗粒是包括选自由氧化锌和氧化钛组成的组的至少一种的颗粒。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中在所述式(B-1)和(B-2)中的R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至5个碳原子的烷基。
7.一种电子照相感光构件的制造方法，所述电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的底涂层，所述方法的特征在于包括：
形成含有金属氧化物颗粒的底涂层用涂布液的涂膜；和
干燥所述涂膜从而形成所述底涂层，
其中所述金属氧化物颗粒在其表面上包含：
由以下式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物；和
由以下式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物，
其中，在所述式(A-1)至(A-10)中，X11、X21、X31、X41、X51、X61、X71、X81、X91和X101各自独立地表示氨基、羟基、羧基、由-COONa表示的基团、由-COOK表示的基团、磺基或硫醇基，
R11至R17、R21至R27、R31至R37、R41至R45、R51至R53、R61至R69、R71至R77和R81至R85、R91至R97和R101至R109各自独立地表示氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、羟基、硫醇基、氨基、羧基、甲氧基、乙氧基、由-SO3Na表示的基团、由-SO3K表示的基团、未取代或取代的烷基、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氧原子得到的基团、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氮原子得到的基团、未取代或取代的芳基、或未取代或取代的杂环基，
所述取代的烷基的取代基是烷基、芳基、卤素原子、或羰基；所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基是卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基、或羰基，
其中，在所述式(B-1)和(B-2)中，R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基，并且R4、R7和R8各自独立地表示甲基、乙基、或苯基。
8.根据权利要求7所述的电子照相感光构件的制造方法，其中所述金属氧化物颗粒满足以下式(1)：
14m2/g≤S≤25m2/g(1)
其中S表示所述金属氧化物颗粒的以m2/g为单位的比表面积。
9.根据权利要求7所述的电子照相感光构件的制造方法，其中所述金属氧化物颗粒满足以下式(2)和(3)：
0.02≤(A+B)≤0.40(2)
0.01≤B/A≤1.0(3)
其中A表示由所述式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物的质量与所述金属氧化物颗粒的比表面积S的比，并且
B表示由所述式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物的质量与所述金属氧化物颗粒的比表面积S的比。
10.根据权利要求7所述的电子照相感光构件的制造方法，其中所述金属氧化物颗粒是其表面已经通过由所述式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和由所述式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物来处理的金属氧化物颗粒。
11.根据权利要求7所述的电子照相感光构件的制造方法，其中所述金属氧化物颗粒是包括选自由氧化锌和氧化钛组成的组的至少一种的颗粒。
12.根据权利要求7所述的电子照相感光构件的制造方法，其中在所述式(B-1)和(B-2)中的R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至5个碳原子的烷基。
13.一种处理盒，其可拆卸地安装于电子照相设备的主体，所述处理盒的特征在于包括：
根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件；和
选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置，
其中将所述电子照相感光构件和所述至少一种装置一体化支承。
14.一种电子照相设备，其特征在于包括根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件；充电装置；显影装置；和转印装置。
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