CN104723710B - 记录介质 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种记录介质。一种记录介质，其以下述顺序包括：基材、含有无机颗粒的墨接收层和保护层。所述保护层含有胶体二氧化硅、气相法二氧化硅、和选自树脂颗粒和湿法二氧化硅颗粒的至少一种颗粒。所述至少一种颗粒的平均粒径是1.5μm以上。

Description

记录介质
技术领域
本发明涉及一种记录介质。
背景技术
作为喷墨记录介质的墨接收层，已经广泛地使用其中例如气相法二氧化硅或水合氧化铝颗粒等的多孔无机颗粒与例如聚乙烯醇等的粘合剂粘合的空隙型接收层(日本专利申请特开No.H07-076162、日本专利申请特开No.2000-247022、日本专利申请特开No.H07-101142和日本专利申请特开No.2007-136777)。
在日本专利申请特开No.H07-076162中，提出了一种喷墨记录材料，其中由胶体二氧化硅和水溶性粘合剂形成的二氧化硅凝胶层形成在具有勃姆石结构的水合氧化铝接收层上。另外，在日本专利申请特开No.2000-247022中，提出了一种记录介质，其中由胶体二氧化硅和树脂乳液形成的多孔层形成在具有勃姆石结构的水合氧化铝接收层上。另外，在日本专利申请特开No.H07-101142中，提出了一种喷墨记录薄片，其中形成了由胶体颗粒和高分子乳胶形成的层。另外，在日本专利申请特开No.2007-136777中，提出了一种喷墨记录薄片，其中形成了由微细颜料和粘合剂形成的保护层。
然而，由本发明的发明人做出的研究已经表明：虽然上述专利文献中记载的记录介质已经改善了墨吸收性、耐擦伤性和获得的图像的显色性，但其这些性能尚未达到近年来要求的水平。
因此，本发明的目的是提供一种记录介质，其具有高水平的墨吸收性、耐擦伤性和获得的图像的显色性。
发明内容
根据本发明的实施方案，提供了一种记录介质，其以下述顺序包括：基材；含有无机颗粒的墨接收层；和保护层，其中所述保护层含有胶体二氧化硅；气相法二氧化硅；和选自选自树脂颗粒和湿法二氧化硅颗粒的至少一种颗粒，和其中所述至少一种颗粒的平均粒径是1.5μm以上。
本发明进一步的特征将从以下示例性实施方案的说明书而变得显而易见。
具体实施方式
以下详细地描述本发明。
记录介质
本发明的记录介质以下述顺序包括：基材；含有无机颗粒的墨接收层；和保护层。优选的是本发明的记录介质用作用于喷墨系统的记录方法的记录介质，即，用作喷墨记录介质。另外，本发明的记录介质可以在所述基材和所述墨接收层之间，或在所述墨接收层和所述保护层之间包括其他层。进一步，只要获得本发明的效果，本发明的记录介质可以在所述保护层上包括再一其他层。在本发明中，优选的是保护层用作所述记录介质的最外表面层。
保护层
包括于本发明的记录介质的保护层含有胶体二氧化硅；气相法二氧化硅；和选自树脂颗粒和湿法二氧化硅颗粒的至少一种颗粒(下文中有时称为“粗糙化颗粒”)，所述至少一种颗粒具有1.5μm以上的平均粒径。当保护层含有那些组分时，可以提供一种记录介质，其能够同时具有高水平的墨吸收性、获得的图像的显色性和耐擦伤性。
胶体二氧化硅具有对耐擦伤性的改善作用。然而，胶体二氧化硅趋向于易于致密地填充，难以导致空隙形成，并且因此可能降低墨吸收性。因此，当气相法二氧化硅与胶体二氧化硅混合来促进空隙形成时，改善了保护层的墨吸收性。另外，当具有1.5μm以上平均粒径的粗糙化颗粒分散在由胶体二氧化硅和气相法二氧化硅形成的层中从而在保护层上形成突起时，表面接触区域会降低。因此，耐擦伤性可以进一步改善而不降低图像的显色性。在该情况下，当粗糙化颗粒的平均粒径小于1.5μm时，不充分地获得对耐擦伤性的改善作用。
保护层的干燥涂布量优选0.05g/m2以上且3.0g/m2以下，更优选0.1g/m2以上且1.0g/m2以下。当保护层满足0.05g/m2以上且3.0g/m2以下的干燥涂布量时，在抑制了保护层的墨吸收性的降低的同时，保护层的耐擦伤性可以改善。
保护层的厚度是指除了由粗糙化颗粒形成的突起以外的保护层的厚度，并且优选1μm以下，更优选0.5μm以下。当除了由粗糙化颗粒形成的突起以外的保护层的厚度是1μm以下时，由粗糙化颗粒形成的突起可以有效地改善耐擦伤性，并且可以获得具有良好的墨吸收性的保护层。
上述除了由粗糙化颗粒形成的突起以外的保护层的厚度可以由在保护层的除了由粗糙化颗粒形成的突起以外的且在所述突起附近的十个点处用扫描电子显微镜测量厚度的结果的平均值来计算，所述测量针对用旋转式切片机切出的记录介质的垂直剖面进行。
从耐擦伤性和膜形成性的观点，优选的是保护层进一步含有粘合剂。从涂膜的粘合性和透明性的观点，特别优选的是粘合剂是聚乙烯醇。聚乙烯醇可以通过例如水解聚乙酸乙烯酯来合成。聚乙烯醇的实例包括KURARAY CO.,LTD.制造的“PVA-417”和“PVA-420”(两种都是商品名)。
保护层中，聚乙烯醇的含量相对于胶体二氧化硅和气相法二氧化硅的总含量优选3质量％以上且40质量％以下，更优选5质量％以上且30质量％以下。当聚乙烯醇的含量是3质量％以上时，可以容易地获得涂膜的高强度。当聚乙烯醇的含量是40质量％以下时，抑制了获得的图像的显色性的降低，并且可以容易地获得高墨吸收性。
聚乙烯醇优选具有75mol％以上且85mol％以下的皂化度。当皂化度是75mol％以上时，水溶性较不可能降低，并且加工特性变得良好。当皂化度是85mol％以下时，在涂布保护层用涂布液时几乎不发生凝聚，有效地抑制了获得的图像的显色性的降低。另外，聚乙烯醇优选具有1,500以上且2,200以下的平均聚合度。当平均聚合度是1,500以上时，更有效地抑制了涂膜的强度的降低。当平均聚合度是2,200以下时，可以更有效地抑制获得的图像的显色性的降低。应该注意的是，在本发明中，聚乙烯醇的皂化度是指通过JIS-K6726的方法测量的值。就化学性能而言，聚乙烯醇的皂化度是指在通过聚乙酸乙烯酯的皂化制备聚乙烯醇时通过皂化反应产生的羟基的摩尔数的比。另外，聚乙烯醇的平均聚合度是指通过JIS-K6726(1994)中记载的方法测定的粘度平均聚合度。
在本发明中，从涂膜的透明性和耐水性的观点，优选的是保护层除了聚乙烯醇以外含有具有10nm以上且100nm以下的平均粒径的阳离子性聚氨酯颗粒(下文中有时简称为“阳离子性聚氨酯颗粒”)。
保护层中，阳离子性聚氨酯颗粒的含量相对于胶体二氧化硅和气相法二氧化硅的总含量优选3质量％以上且40质量％以下，更优选5质量％以上且20质量％以下。
阳离子性聚氨酯颗粒的平均粒径更优选10nm以上且70nm以下。
阳离子性聚氨酯颗粒的平均粒径是指通过动态光散射法测量而测定的平均粒径，随后使用“Polymer Structure(2)；Scattering Experiments and MorphologicalObservation；First Chapter:Light Scattering”(KYORITSU SHUPPAN CO.,LTD.，TheSociety of Polymer Science编辑，日本)，或J.Chem.Phys.，70(B)，15Apl.，3965(1979)中记载的累积量法来分析。
适当地用于本发明的阳离子性聚氨酯颗粒的实例包括DAI-ICHI KOGYO SEIYAKUCO.,LTD.制造的“SUPERFLEX 600”、“SUPERFLEX 610”、“SUPERFLEX 620”和“SUPERFLEX650”(商品名)；和制造的“HYDRAN CP-7030”、“HYDRAN CP-7050”和“HYDRAN CP-7060”(商品名)。
胶体二氧化硅
在本发明中，保护层含有胶体二氧化硅。在胶体二氧化硅中，从涂膜的透明性和耐擦伤性的观点，优选单分散性胶体二氧化硅，特别地，单分散球状胶体二氧化硅。术语“单分散性”是指多个颗粒以一次颗粒的形式存在于分散液中而不聚集。另外，术语“球状”是指：当记录介质的剖面使用扫描电子显微镜来拍摄，并且测定任意选择的颗粒(50以上且100以下个颗粒)的长轴a和短轴b(各自是平均值)时，短轴与长轴的比b/a落在0.80以上至1.00以下的范围内。短轴与长轴的比b/a优选0.90以上且1.00以下，更优选0.95以上且1.00以下。
另外，从涂膜的涂布性和耐水性的观点，优选的是胶体二氧化硅是阳离子性的。阳离子性胶体二氧化硅可以通过使通常阴离子性胶体二氧化硅的表面通过使用有机或无机处理剂的表面处理变为阳离子性的来制备。无机或无机表面处理剂的实例包括各种硅烷偶联剂和铝化合物。从分散液的稳定性和获得容易性的观点，优选已通过用铝化合物表面处理的用氧化铝覆盖的阳离子性胶体二氧化硅。
单分散球状阳离子性胶体二氧化硅的实例包括Nissan Chemical Industries,Ltd.制造的“SNOWTEX AK-L”和Clariant Co.,Ltd.制造的“Cartacоat K303C”(商品名，两者都作为溶胶提供)。
胶体二氧化硅具有优选20nm以上且100nm以下，更优选30nm以上且60nm以下的平均粒径dA。当平均粒径dA是20nm以上时，墨吸收性几乎不降低。当平均粒径dA是60nm以下时，涂膜的透明性几乎不降低，并且因此特别抑制了获得的图像的显色性的降低。另外，胶体二氧化硅的平均粒径是指从基于使用扫描电子显微镜拍摄的颗粒的照片(观察到50以上且100以下个颗粒)测量的各个颗粒的长轴a和短轴b的平均值计算的平均直径，并且因此是指平均一次粒径。
气相法二氧化硅
在本发明中，保护层含有气相法二氧化硅。气相法二氧化硅通常是指通过燃烧四氯化硅、氢气和氧气来生产的二氧化硅，并且有时称为干法二氧化硅或气相二氧化硅。气相法二氧化硅的一次颗粒连结从而形成簇形式的二次颗粒。从墨吸收性、获得的图像的显色性、和涂布和干燥时裂缝的抑制的观点，要用于本发明的气相法二氧化硅优选具有由BET法测定的比表面积为50m2/g以上且400m2/g以下，更优选200m2/g以上且350m2/g以下。另外，在本发明中，气相法二氧化硅优选具有3nm以上且小于20nm的平均一次粒径。气相法二氧化硅的平均一次粒径从基于使用扫描电子显微镜拍摄的记录介质的剖面的照片测量的任意选择的(50以上且1,000以下个)气相法二氧化硅颗粒的直径的平均值来计算。进一步，从同时实现墨吸收性和获得的图像的显色性的观点，就基于动态光散射法使用激光粒度分析仪测定的平均二次粒径而言，优选的是气相法二氧化硅具有100nm以上且300nm以下的平均二次粒径。
应该注意的是BET法是基于气相吸附法测量粉末表面积的方法之一，并且是从等温吸附线测定1g样品的总表面积，即，比表面积的方法。在BET法中，通常，最经常使用包括使用氮气作为被吸附气体，和测量基于被吸附气体的压力或体积改变的吸附量的方法。关于这点，多分子吸附的等温线的最著名的表达式是Brunauer-Emmett-Teller等式，所述等式称为“BET等式”并且广泛地用于测定比表面积。在BET法中，吸附量基于BET等式来测定，并且乘以在表面中的一个吸附分子的占有面积，从而因此获得比表面积。在BET法中，在通过氮气吸附-脱附法的测量中，吸附量与特定相对压力的关系在几个点下测量，并且测量的标绘的斜率和截距通过最小二乘法来测定，从而因此导出比表面积。
气相法二氧化硅的具体实例可以是市售气相法二氧化硅(例如，商品名：“AEROSIL300”，EVONIK Co.制造，SB＝300±30m2/g)。
从耐擦伤性和墨吸收性之间的平衡的观点，保护层中的胶体二氧化硅的含量以质量比率计为气相法二氧化硅的含量的优选1倍以上且19倍以下，更优选1.5倍以上且9.0倍以下。
气相法二氧化硅可以以通过与分散剂和阳离子树脂或多价金属盐的媒染剂混合而分散的分散液形式使用。所述分散液的形式称为气相法二氧化硅溶胶。应该注意的是气相法二氧化硅溶胶可以按照需要含有添加剂例如：例如硅烷偶联剂等的表面改性剂；增稠剂；流动性改进剂；消泡剂；抑泡剂；表面活性剂；脱模剂；渗透剂、着色颜料；着色染料；荧光增白剂；UV吸收剂；抗氧化剂；防腐剂；抗菌剂；耐水添加剂；交联剂；或耐候材料。
水、有机溶剂，或其混合溶剂可以用作气相法二氧化硅溶胶的分散介质。它们中，优选水作为分散介质。
在将气相法二氧化硅与分散剂和媒染剂混合之后，颗粒可以使用分散机来更细化，从而因此获得其中已经分散了具有100nm以上且300nm以下的平均二次粒径的气相法二氧化硅的气相法二氧化硅溶胶。作为分散机，可以使用各种已知的分散机例如高速旋转分散机、介质搅拌型分散机(例如球磨机或砂磨机)、超声分散机、胶体磨分散机和高压均质机。
具有1.5μm以上的平均粒径的粗糙化颗粒
在本发明中，保护层含有选自树脂颗粒和湿法二氧化硅颗粒的至少一种颗粒，所述至少一种颗粒具有1.5μm以上的平均粒径。
粗糙化颗粒的平均粒径需要是1.5μm以上。当平均粒径是小于1.5μm时，在组合使用胶体二氧化硅和气相法二氧化硅的情况下，变得难以满足耐擦伤性以及优异的墨吸收性。粗糙化颗粒的平均粒径优选1.5μm以上且30μm以下，更优选2μm以上且30μm以下，特别优选3μm以上且15μm以下。当粗化粒径的平均粒径是1.5μm以上且30μm以下时，可以有效地抑制粗糙化颗粒从保护层上除去，并且可以有效地改善耐擦伤性。
从耐擦伤性的观点，优选的是包含于保护层的粗糙化颗粒的干燥涂布量是0.001g/m2以上且0.05g/m2以下。粗糙化颗粒的干燥涂布量更优选0.003g/m2以上且0.02g/m2以下。
树脂颗粒的实例可以包括以下树脂颗粒，例如包括聚(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚(甲基)丙烯酸、淀粉、聚乙烯、氟树脂、聚酯树脂、丁缩醛树脂、聚苯醚树脂、聚氯乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂和硅橡胶等的各种热塑性弹性体等的热塑性树脂；聚氨酯树脂、三聚氰胺酯树脂、硅树脂、聚酰胺树脂、酚树脂、环氧树脂和不饱和聚酯树脂；和其共聚物的树脂颗粒。特别地，优选例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯和聚乙烯的热塑性树脂的树脂颗粒。作为那些热塑性树脂的树脂颗粒，更优选的是使用耐候性和耐溶剂性优异的交联型。在本发明中，树脂颗粒的平均粒径是指通过基于Coulter原理的孔电阻法测量的等效球粒径(sphere equivalent particle diameter)。平均粒径可以使用例如“Multisizer 3”(商品名，Beckman Coulter,Inc.制造)来测量。
湿法二氧化硅的实例包括沉淀法二氧化硅和胶体法二氧化硅。沉淀法二氧化硅在碱性条件下通过硅酸钠和硫酸的反应来生产。将在生产过程中经历过颗粒增长的二氧化硅颗粒聚集和沉淀，然后进行过滤、水洗、干燥、粉碎和分级的步骤从而变为最终产品。通过该方法生产的二氧化硅的二次颗粒是松散聚集的颗粒，并且因此获得了相对易于粉碎的颗粒。沉淀法二氧化硅是例如购自TOSOH SILICA CORPORATION的商品名Nipsil下，或购自Tokuyama Corporation的商品名TOKUSIL或FINESIL下。胶体法二氧化硅在酸性条件下通过硅酸钠和硫酸的反应来生产。在该情况下，小的二氧化硅颗粒在老化时溶解，并且在具有大粒径的一次颗粒之间再沉淀从而将一次颗粒粘结在一起。因此，明确的一次颗粒消失，并且形成了具有内部空隙结构的相对硬的聚集的颗粒。例如，胶体法二氧化硅购自MizusawaIndustrial Chemicals,Ltd.的商品名MIZUKASIL下，或购自Grace Japan商品名SYLOJET下。在本发明中，湿法二氧化硅的平均粒径(平均二次粒径)从基于使用扫描电子显微镜拍摄的记录介质的剖面照片测量的任意选择的(50以上且1,000以下个)湿法二氧化硅的直径的平均值来计算。
其它组分
另外，保护层可以含有各种添加剂例如增稠剂、消泡剂、点调节剂(dotadjuster)、防腐剂、pH调节剂、抗静电剂和导电剂。
保护层的制造方法
保护层可以通过制备保护层用涂布液并且涂布该液体来生产。涂布可以在墨接收层是湿润状态和干燥状态的任何时进行。作为保护层用涂布液的涂布方法，例如，可以使用气刀涂布法、凹面涂布法、刮板涂布法、刮棒涂布法、辊式涂布法、棒条涂布法(rod barcoating method)、狭缝模涂法(slot die coating method)、帘式涂布法或施胶压榨法。
墨接收层
要用于本发明的墨接收层含有无机颗粒。从快速吸收性、染料固定性、透明性、印刷浓度、和显色性的观点，优选的是使用选自由气相法二氧化硅、水合氧化铝和氧化铝组成的组的无机颗粒的至少一种作为无机颗粒。其中，从耐擦伤性的观点，优选使用气相法二氧化硅。
墨接收层的干燥涂布量优选5g/m2以上且50g/m2以下。当墨接收层的干燥涂布量是5g/m2以上时，可以容易地抑制墨吸收性的降低。当墨接收层的干燥涂布量是50g/m2以下时，耐折裂性几乎不降低。
墨接收层通过制备墨接收层用涂布液，将其涂布至基材上，随后干燥来获得。墨接收层用涂布液含有无机颗粒和粘合剂，并且可以按需要含有各种添加剂。添加剂的实例可以包括颜料分散剂、增稠剂、流动性改进剂、消泡剂、抑泡剂、表面活性剂、脱模剂、渗透剂、着色颜料、着色染料、荧光增白剂、UV吸收剂、抗氧化剂、防腐剂、抗菌剂、耐水添加剂、染料固定剂、固化剂和耐候材料。
已知涂布法可以用作将墨接收层用涂布液涂布至基材上的方法。其实例包括刮板涂布法、气刀涂布法、帘式模涂法(curtain die coating method)、滑珠模涂法(slidebead die coating method)、狭缝模凃法(slot die coating method)、刮棒涂布法、凹面涂布法和辊式涂布法。
在已经涂布至基材上之后，墨接收层用涂布液可以使用干燥设备例如热风干燥机、热鼓或远红外线干燥机来干燥从而因此形成墨接收层。应该注意的是墨接收层可以形成在后述的基材的一个表面或两个表面上。另外，为了改善图像的分辨率和传送性等的目的，只要不损害本发明的效果，墨接收层可以使用例如轧光机(calender)或浇注(casting)设备的设备来进行平滑化处理。
气相法二氧化硅
将用于保护层的上述气相法二氧化硅的说明类似地应用于可以用于墨接收层的气相法二氧化硅。
水合氧化铝
作为可以用于墨接收层的水合氧化铝，例如，可以适当地使用由以下通式(X)表示的一种。
Al2O3-n(OH)2n·mH2O····(X)
(在该式中，n表示0、1、2和3的任何一个，并且m表示0以上且10以下，优选0以上且5以下的数字，条件是m和n不同时表示0。)
在很多情况下，mH2O表示不涉及晶格形成的可脱离的水相，并且因此m可以表示整数或非整数值。另外，当加热水合氧化铝时，m可以表示0值。
对于根据进行加热处理的温度变化的水合氧化铝的晶体结构，已知无定形、三水铝石型和勃姆石型的水合氧化铝。可以使用具有任何晶体结构的水合氧化铝。其中，优选使用在通过X射线衍射法的分析中示出勃姆石结构或无定形结构的水合氧化铝。
另外，水合氧化铝具有通过BET法测定的比表面积优选为100m2/g以上且200m2/g以下，更优选125m2/g以上且175m2/g以下。
水合氧化铝的实例可以是市售的“Disperal HP14”(商品名，Sasol制造)。应该注意的是水合氧化铝的一种可以单独使用，或其两种以上可以以组合使用。
氧化铝
可以用于墨接收层的氧化铝的实例可以包括γ-氧化铝、α-氧化铝、δ-氧化铝、θ-氧化铝和χ-氧化铝。其中，从获得的图像的显色性和墨吸收性的观点，优选γ-氧化铝。
氧化铝的具体实例可以是市售的气相法γ-氧化铝(例如，商品名：“AEROXIDE AluC”，EVONIK制造)。
含有水合氧化铝或氧化铝的水性分散液
水合氧化铝或氧化铝优选地作为水性分散液与墨接收层用涂布液混合。另外，优选的是使用酸(抗絮凝酸)作为包含于水性分散液的分散剂。从耐图像模糊性的观点，优选的是抗絮凝酸是由以下通式[I]表示的磺酸。
通式[I]：R1-SO3H
在通式[I]中，R1表示氢原子、取代或未取代直链或支链C1-3烷基、或取代或未取代直链或支链C2-3烯基。在该情况下，烷基或烯基可以具有的取代基是例如氧代基(＝O)、卤素原子、甲氧基、乙氧基、甲酰基、乙酰基或丙酰基，并且烷基或烯基可以具有多个取代基。
气相法二氧化硅、水合氧化铝和氧化铝可以作为混合物使用。例如，气相法二氧化硅、水合氧化铝和氧化铝的至少两种以粉末状态混合，然后混合物分散在适当的分散介质中从而制备分散液(溶胶)。选择地，气相法二氧化硅的粉末可以通过添加至含有水合氧化铝的水性分散液或含有氧化铝的水性分散液，或添加至含有水合氧化铝的水性分散液和含有氧化铝的水性分散液的混合分散液来使用。
粘合剂
优选的是墨接收层含有粘合剂。在本发明中，粘合剂是指具有粘合无机颗粒从而形成膜的能力的材料。作为粘合剂，可以使用任何迄今已知的粘合剂，并且特别地，优选使用聚乙烯醇。聚乙烯醇具有优选1,500以上，更优选2,000以上且5,000以下的平均聚合度。另外，聚乙烯醇具有优选80mol％以上且100mol％以下，更优选85mol％以上且100mol％以下的皂化度。平均聚合度和皂化度的定义如上所述。
除了前述以外，改性聚乙烯醇例如末端用阳离子改性的聚乙烯醇或具有阴离子性基团的阴离子改性聚乙烯醇可以用作粘合剂。
交联剂
墨接收层可以含有交联剂。交联剂的实例包括醛系化合物、三聚氰胺系化合物、异氰酸酯系化合物、锆系化合物、酰胺系化合物、铝系化合物、和硼酸化合物或硼酸化合物的盐。交联剂的一种可以单独使用，或其两种以上可以以组合使用。那些交联剂中，从交联速度和防止涂布表面的裂纹的观点，优选选自硼酸化合物和硼酸化合物的盐的至少一种。
硼酸化合物的实例包括原硼酸(H3BO3)、偏硼酸(HBO2)和连二硼酸(H4B2O4)。其中，优选原硼酸。硼酸化合物的盐的实例包括硼酸化合物的碱金属盐(例如Na2B4O7·10H2O和NaBO2·4H2O、和K2B4O7·5H2O和KBO2)、硼酸化合物的铵盐(例如NH4B4O9·3H2O和NH4BO2)、和硼酸化合物的碱土金属盐。
另外，从涂布液随时间的稳定性的观点，优选的是墨接收层中，选自硼酸化合物和硼酸化合物的盐的至少一种的含量相对于粘合剂的含量是10质量％以上且50质量％以下。
基材
基材的实例包括：例如铸涂纸、钡涂纸、或树脂涂布纸(树脂涂布纸具有用例如聚烯烃的树脂涂布的一个表面或两个表面)的纸类；由例如热塑性树脂膜的膜制成的基材；由玻璃、或金属等制成的片材。
进一步，为了改善任何这样的基材和墨接收层之间的粘合强度，基材的表面可以进行电晕放电处理或各种底涂处理。上述基材中，从形成墨接收层之后的记录介质的例如光泽性等的品质的观点，优选使用树脂涂布纸。树脂涂布纸优选聚烯烃树脂涂布纸，更优选两面涂布的聚烯烃树脂涂布纸。聚烯烃树脂涂布纸的优选形式具有根据JIS-B0601的十点平均粗糙度为0.5μm以下和根据JIS-Z-8741的60°镜面光泽度为25％以上且75％以下。
对树脂涂布纸的厚度没有特别限制，但优选25μm以上且500μm以下。当树脂涂布纸的厚度是25μm以上时，有助于抑制记录介质刚性的降低，并且有助于抑制例如记录介质的手感和质地的恶化和不透明性降低等的不便发生。另外，当树脂涂布纸的厚度是500μm以下时，抑制记录介质变得僵硬，这促进其操作性，并且可以将所述记录介质在打印机中供给并且顺利地传送。树脂涂布纸的厚度更优选50μm以上且300μm以下。另外，对树脂涂布纸的基重没有特别限制，但优选25g/m2以上且500g/m2以下。
实施例
通过实施例以下更详细地描述了本发明。然而，本发明不限于以下实施例。应该注意的是喷墨记录介质在以下各个实施例中生产。应该注意的是市售产品的各种物理性能是在各自制造商的目录中示出的值。
基材的制造
基材在以下条件下生产。首先，制备了具有以下组合物的纸料，其中将固成分浓度用水调节至3质量％。
纸料组合物
下一步，将纸料用长网造纸机(Fourdrinier paper machine)制成纸，并且将纸进行三阶段的湿压然后用多筒式干燥机干燥。然后将干燥的纸用施胶压榨机以获得1.0g/m2的干燥涂布量的方式用氧化淀粉的水溶液浸渍，并且干燥。之后，所得物进行机械压延抛光从而获得具有基重170g/m2、施胶度100秒、透气度50秒、Bekk平滑度30秒和Gurley刚度11.0mN的基纸A。
将由低密度聚乙烯(70质量份)、高密度聚乙烯(20质量份)和二氧化钛(10质量份)形成的25g/m2的树脂组合物涂布至基纸A上。进一步，将由高密度聚乙烯(50质量份)和低密度聚乙烯(50质量份)形成的25g/m2的树脂组合物涂布基纸A的背面上从而获得树脂涂布基材。
气相法二氧化硅溶胶的制备
向79.23质量份的离子交换水添加1.54质量份的阳离子性树脂(二甲基二烯丙基氯化铵缩聚物，商品名：“SHALLOL DC902P”，DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO.,LTD.制造，固成分浓度：50质量％)作为气相法二氧化硅分散剂从而获得阳离子性树脂水溶液。在将阳离子性树脂水溶液在3,000rpm的旋转条件下用均质混合机(Tokushu Kika Kogyo Co.,Ltd.制造，商品名：“T.K.HOMO MIXER MARK II Model 2.5”)搅拌的同时，一点一点地添加19.23质量份的气相法二氧化硅(商品名：“AEROSIL 300”，EVONIK Co.制造)。将混合物进一步用高压均质器处理两次(商品名：“Nanomizer”，YOSHIDA KIKAI CO.,LTD.制造)从而制备具有20质量％的固成分浓度的气相法二氧化硅溶胶。
水合氧化铝溶胶的制备
向80质量份的离子交换水添加0.33质量份的甲磺酸作为水合氧化铝抗絮凝酸从而获得甲磺酸水溶液。在将甲磺酸水溶液在3,000rpm的旋转条件下用上述均质混合机搅拌的同时，一点一点地添加19.67质量份的水合氧化铝(商品名：“DISPERAL HP14”，Sasol制造)。在添加完成之后继续搅拌30分钟从而制备具有20质量％的固成分浓度的水合氧化铝溶胶。
树脂颗粒分散液的制备
向80质量份的离子交换水添加0.16质量份的聚丙烯酸作为分散剂从而获得聚丙烯酸水溶液。在将丙烯酸水溶液在1,500rpm的旋转条件下用上述高速搅拌器搅拌的同时，一点一点地添加19.84质量份的具有5μm的平均粒径的交联的聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒(商品名：“Techpolymer SSX-105”，SEKISUI PLASTICS CO.,LTD.制造)。在添加完成之后继续搅拌30分钟从而制备具有20质量％的固成分浓度的树脂颗粒分散液。
胶体二氧化硅溶胶的制备
制备了胶体二氧化硅溶胶(Nissan Chemical Industries,Ltd.制造，商品名：SNOWTEX AK-L)。胶体二氧化硅具有50nm的平均一次粒径。
沉淀法二氧化硅颗粒分散液的制备
向80质量份的离子交换水添加0.16质量份的聚丙烯酸作为分散剂，并且将混合物在1,500rpm的旋转条件下用均质混合机(Tokushu Kika Kogyo Co.,Ltd.制造，商品名：.K.HOMO MIXER MARK II Model 2.5)搅拌。在搅拌时，一点一点地添加19.84质量份的具有6.2μm的平均二次粒径的沉淀法二氧化硅颗粒(商品名：FINESIL X-60，TokuyamaCorporation制造)。在添加完成之后继续搅拌30分钟从而制备具有20质量％的固成分浓度的沉淀法二氧化硅颗粒分散液。沉淀法二氧化硅具有6.2μm的平均二次粒径。
墨接收层用涂布液1的制备
将前述制备的气相法二氧化硅溶胶与聚乙烯醇(商品名：“PVA-235”，KURARAYCO.,LTD.制造)的8质量％水溶液混合，从而相对于100质量份的包含于溶胶的气相法二氧化硅固成分，聚乙烯醇的含量以固成分换算是20质量份。下一步，将具有5质量％的固成分浓度的原硼酸水溶液添加至混合物，以使相对于100质量份的混合液中的聚乙烯醇固成分，原硼酸的含量以固成分换算是20质量份。进一步，添加表面活性剂(商品名：“Surfynol465”，Nissin Chemical Industry Co.,Ltd.制造)以使其浓度为0.1质量％从而获得墨接收层用涂布液1。
墨接收层用涂布液2的制备
将前述制备的水合氧化铝溶胶与聚乙烯醇水溶液混合，以使相对于100质量份的包含于溶胶的水合氧化铝固成分，聚乙烯醇的含量以固成分换算是10质量份。下一步，将具有5质量％的固成分浓度的原硼酸水溶液添加至混合液，以使相对于100质量份的混合液中的聚乙烯醇固成分，原硼酸的含量以固成分换算是10质量份。然后将表面活性剂(商品名：“Surfynol 465”，Nissin Chemical Industry Co.,Ltd.制造)进一步添加至所得混合液以使其浓度为0.1质量％，从而获得墨接收层用涂布液2。
墨接收层涂布片A的制造
将墨接收层用涂布液1以其干燥涂布量是23g/m2的方式涂布至基材上。应该注意的是墨接收层用涂布液1的涂布在40℃的涂布液的液温下使用滑动模来进行。下一步，将所得物在45℃下干燥从而制造具有一层含有气相法二氧化硅的墨接收层的墨接收层涂布片A。
墨接收层涂布片B的制造
将墨接收层用涂布液2以其干燥涂布量是35g/m2的方式涂布至基材上。应该注意的是墨接收层用涂布液2的涂布在40℃的涂布液的液温下使用滑动模来进行。下一步，将所得物在80℃下干燥从而制造具有一层含有水合氧化铝的墨接收层的墨接收层涂布片B。
保护层用涂布液1-1的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-1。
实施例1-1
将保护层用涂布液1-1用迈耶棒涂布至墨接收层涂布片A的墨接收层上，然后在60℃下干燥。因此，获得了具有干燥涂布量为0.31g/m2的保护层(包括干燥涂布量为0.01g/m2的树脂颗粒)的喷墨记录介质1-1。另外，保护层具有0.26μm的厚度。
实施例1-2
除了使用墨接收层涂布片B代替墨接收层涂布片A以外，喷墨记录介质1-2(保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
实施例1-3
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-2以外，喷墨记录介质1-3(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.24μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-2的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-2。
实施例1-4
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-3以外，喷墨记录介质1-4(具有0.35g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.05g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.27μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-3的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-3。
实施例1-5
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-4以外，喷墨记录介质1-5(具有0.301g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.001g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.23μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-4的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-4。
实施例1-6
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-5以外，喷墨记录介质1-6(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.30μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-5的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-5。
实施例1-7
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-6以外，喷墨记录介质1-7(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.17μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-6的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-6。
实施例1-8
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-7，并且将保护层的干燥涂布量改变为1.01g/m2(包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.72μm的厚度)以外，喷墨记录介质1-8以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-7的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-7。
实施例1-9
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-8，并且将保护层的干燥涂布量改变为0.06g/m2(包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.08μm的厚度)以外，喷墨记录介质1-9以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-8的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-8。
实施例1-10
除了在实施例1-1的“树脂颗粒分散液的制备”中，将树脂颗粒改变为具有2μm的平均粒径的交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒(商品名：“Techpolymer SSX-102”，SEKISUIPLASTICS CO.,LTD.制造)以外，喷墨记录介质1-10(保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
实施例1-11
除了在实施例1-1的“树脂颗粒分散液的制备”中，将树脂颗粒改变为具有27μm的平均粒径的交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒(商品名：“Techpolymer SSX-127”，SEKISUIPLASTICS CO.,LTD.制造)以外，喷墨记录介质1-11(保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
实施例1-12
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-9，喷墨记录介质1-12(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.28μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-9的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-9。
实施例1-13
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-10以外，喷墨记录介质1-13(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.25μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-10的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-10。
实施例1-14
除了在实施例1-1的“树脂颗粒分散液的制备”中，将树脂颗粒改变为具有6μm的平均粒径的交联聚苯乙烯树脂颗粒(商品名：“Techpolymer SBX-6”，SEKISUI PLASTICS CO.,LTD.制造)以外，喷墨记录介质1-14(保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
实施例1-15
除了在实施例1-1的“树脂颗粒分散液的制备”中，将树脂颗粒改变为具有6μm的平均粒径的聚乙烯树脂颗粒(商品名：“FLO-BEADS LE-1080”SUMITOMO SEIKA CHEMICALSCO.,LTD.制造)以外，喷墨记录介质1-15(保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
比较例1-1
除了不形成保护层以外，喷墨记录介质1-16以与实施例1-1相同的方式来获得。
比较例1-2
除了不形成保护层以外，喷墨记录介质1-17以与实施例1-2相同的方式来获得。
比较例1-3
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-11以外，喷墨记录介质1-18(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.36μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-11的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-11。
比较例1-4
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-12以外，喷墨记录介质1-19(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.19μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-12的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-12。
比较例1-5
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液1-13以外，喷墨记录介质1-20(具有0.30g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0g/m2的树脂颗粒的干燥涂布量；保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液1-13的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液1-13。
比较例1-6
除了在实施例1-1的“树脂颗粒分散液的制备”中，将树脂颗粒改变为具有1μm的平均粒径的交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒(商品名：“Techpolymer SSX-101”，SEKISUIPLASTICS CO.,LTD.制造)以外，喷墨记录介质1-21(保护层具有0.26μm的厚度)以与实施例1-1相同的方式来获得。
比较例1-7
除了在实施例1-1的“树脂颗粒分散液的制备”中，使用具有5μm的平均粒径的碳酸钙颗粒(商品名：“BF-200”，SHIRAISHI CALCIUM KAISHA,LTD.制造)代替树脂颗粒以外，喷墨记录介质1-22(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的碳酸钙颗粒的干燥涂布量；除了由碳酸钙形成的突起之外保护层的厚度为0.26μm)以与实施例1-1相同的方式来获得。
实施例2-1
除了将保护层用涂布液1-1改变为以下保护层用涂布液2-1以外，喷墨记录介质2-1(具有0.31g/m2的保护层的干燥涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒的干燥涂布量)以与实施例1-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-1的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液2-1。
实施例2-2
除了将保护层用涂布液2-1不涂布至墨接收层片A的墨接收层上，而是涂布至墨接收层片B的墨接收层上以外，喷墨记录介质2-2以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-3
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方之外，喷墨记录介质2-3(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-2的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-4
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-4(具有0.35g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.05g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-3的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-5
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-5(具有0.301g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.001g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-4的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-6
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-6(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-5的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-7
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-7(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-6的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-8
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-8(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-7的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-9
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-9(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-8的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-10
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方，并且将保护层的涂布量改变为以干燥固成分涂布量计1.01g/m2(包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以外，喷墨记录介质2-10以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-9的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-11
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方，并且将保护层的涂布量改变为以干燥固成分涂布量计的0.06g/m2(包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以外，喷墨记录介质2-11以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-10的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-12
在实施例2-1的“胶体二氧化硅的溶胶的制备”中，将所述胶体二氧化硅颗粒改变为具有25nm的平均一次粒径的胶体二氧化硅(商品名：SNOWTEX AK，Nissan ChemicalIndustries,Ltd.制造)。除了前述以外，喷墨记录介质2-12以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-13
在实施例2-1的“胶体二氧化硅的溶胶的制备”中，将所述胶体二氧化硅颗粒改变为具有90nm的平均一次粒径的胶体二氧化硅(商品名：CARTACOAT K303C，Clariant Co.,Ltd.制造)。。除了前述以外，喷墨记录介质2-13以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-14
在实施例2-1的“气相法二氧化硅的溶胶的制备”中，将所述气相法二氧化硅改变为气相法二氧化硅(商品名：AEROSIL 380，EVONIK Co.制造)。作为通过使用扫描电子显微镜拍摄的粒径测量的结果，发现气相法二氧化硅具有7nm的平均一次粒径。除了前述以外，喷墨记录介质2-14以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-15
在实施例2-1的“气相法二氧化硅的溶胶的制备”中，将所述气相法二氧化硅改变为气相法二氧化硅(商品名：AEROSIL 200，EVONIK Co.制造)。作为通过使用扫描电子显微镜拍摄的粒径测量的结果，发现气相法二氧化硅具有13nm的平均一次粒径。除了前述以外，喷墨记录介质2-15以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-16
在实施例2-1的“沉淀法二氧化硅颗粒分散液的制备”中，将所述沉淀法二氧化硅颗粒改变为具有1.5μm的平均二次粒径的沉淀法二氧化硅颗粒(商品名：FINESIL T-32，Tokuyama Corporation制造)。除了前述以外，喷墨记录介质2-16以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-17
在实施例2-1的“沉淀法二氧化硅颗粒分散液的制备”中，将所述沉淀法二氧化硅颗粒改变为具有14μm的平均二次粒径的沉淀法二氧化硅颗粒(商品名：Nipgel BY-001，TOSOH SILICA CORPORATION制造)。除了前述以外，喷墨记录介质2-17以与实施例2-1相同的方式来获得。
实施例2-18
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-18(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-11的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
实施例2-19
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-19(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-12的配方
将以下组分彼此混合从而制备了具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
比较例2-1
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-20(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-13的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
比较例2-2
除了将保护层用涂布液2-1的配方改变为以下配方以外，喷墨记录介质2-21(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
保护层用涂布液2-14的配方
将以下组分彼此混合从而制备具有2.0质量％的固成分浓度的保护层用涂布液。
比较例2-3
在实施例2-1的“沉淀法二氧化硅颗粒分散液的制备”中，制备的沉淀法二氧化硅颗粒分散液用珠磨机进一步进行分散处理(氧化锆珠具有0.3mm的直径)从而具有0.8μm的平均二次粒径。除了前述以外，喷墨记录介质2-22(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的沉淀法二氧化硅颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
比较例2-4
在实施例2-1的“沉淀法二氧化硅颗粒分散液的制备”中，将沉淀法二氧化硅颗粒改变为具有5.0μm的平均粒径的碳酸钙颗粒(商品名：BF-200，SHIRAISHI CALCIUM KAISHA,LTD.制造)。除了前述以外，喷墨记录介质2-23(具有0.31g/m2的保护层的干燥固成分涂布量，包括0.01g/m2的碳酸钙颗粒)以与实施例2-1相同的方式来获得。
评价
下一步，以上实施例和比较例中获得的各个记录介质1-1至1-22和2-1至2-23进行以下评价。表1示出了评价结果。评价方法和评价标准如下所述。
墨吸收性
评价了各个记录介质的墨吸收性。在记录表面上的印刷使用通过改造“iP4600”(商品名，Canon Inc.制造)的印刷处理方法获得的设备来进行。通过以下做出评价：使用具有64-阶调(以6.25％的任务的增加的64-阶调、0至400％任务)的实心(solid)绿颜色作为印刷图案；并且进行其中印刷在25英寸/秒的输送速度下在进行往复路径两次，即，前进路径和返回路径之后完成的双向印刷。应该注意的是400％的任务是指将44ng的墨涂布至600dpi的四方形(具有600dpi的1平方英寸)。墨吸收性与珠状化具有大体上的相关性。因此，记录介质的墨吸收性通过珠状化的评价来评价。评价基于以下评价标准通过目测来进行。
评价标准
5：在300％的任务下没有观察到珠状化。
4：在300％的任务下观察到轻度珠状化，但在250％的任务下没有观察到珠状化。
3：在250％的任务下观察到轻度珠状化，但在200％的任务下没有观察到珠状化。
2：在200％的任务下观察到轻度珠状化，但在150％的任务下没有观察到珠状化。
1：甚至在150％的任务下观察到珠状化。
获得的图像的显色性
黑块的实印刷使用在Super Photo Paper和没有颜色校正的模式下的喷墨记录设备(商品名：“iP4500”，Canon Inc.制造)在各个记录介质的记录表面上进行。使用光学反射浓度计(X-Rite Co.制造，商品名：530分光浓度计)来测量各个记录介质的光学浓度，并且获得的图像的显色性基于以下标准来评价。
评价标准
5：光学浓度是2.35以上。
4：光学浓度是2.25以上且小于2.35。
3：光学浓度是2.15以上且小于2.25。
2：光学浓度是2.05以上且小于2.15。
1：光学浓度是小于2.05。
耐擦伤性
各个记录介质使用JIS-L0849中规定的Gakushin-Type Rubbing Tester ModelII(TESTER SANGYO CO.,LTD.制造)如下所述对其耐擦伤性进行评价。
将记录介质设置在振动台上作为样品从而记录面侧朝上。将“KIMTOWEL”(商品名)安装在其上放置100-g重量的测试机的摩擦臂上，并且对着记录介质的记录表面摩擦五次。之后，测量了与“KIMTOWEL”摩擦的记录介质的记录表面的部分，和其其它部分之间的75°光泽度的差。作为测量光泽度的设备，使用NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES CO.,LTD.制造的“VG2000”(商品名)。
评价标准
5：光泽度差是小于5。
4：光泽度差是5以上且小于10。
3：光泽度差是10以上且小于15。
2：光泽度差是15以上且小于20。
1：光泽度差是20以上。
表1
评价结果
在根据示例性实施方案已经描述了本发明的同时，要理解的是本发明不限于公开的示例性实施方案。权利要求的范围符合最广泛的解释从而涵盖全部这样的修改和等同的结构和功能。

Claims (6)

1.一种记录介质，其以下述顺序包括：基材；含有无机颗粒的墨接收层；和保护层，其特征在于，
所述保护层含有：
单分散的球状胶体二氧化硅；
气相法二氧化硅；和
选自交联的热塑性树脂颗粒和湿法二氧化硅颗粒的至少一种颗粒，
其中所述至少一种颗粒的平均粒径是1.5μm以上，
其中所述保护层中的所述单分散的球状胶体二氧化硅的含量以质量比率计是所述气相法二氧化硅的含量的1倍以上且3.00倍以下，和
其中所述保护层的干燥涂布量是0.060g/m2以上且0.310g/m2以下。
2.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述胶体二氧化硅的平均一次粒径是20nm以上且100nm以下。
3.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述气相法二氧化硅的平均一次粒径是3nm以上且小于20nm。
4.根据权利要求1所述的记录介质，其中包含于所述保护层的所述至少一种颗粒的干燥涂布量是0.001g/m2以上且0.05g/m2以下。
5.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述保护层进一步含有聚乙烯醇。
6.根据权利要求5所述的记录介质，其中所述保护层中，所述聚乙烯醇的含量相对于所述胶体二氧化硅和所述气相法二氧化硅的总含量是3质量％以上且40质量％以下。
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