CN104141106B

CN104141106B - 掩模

Info

Publication number: CN104141106B
Application number: CN201410015576.5A
Authority: CN
Inventors: 韩政洹
Original assignee: Samsung Display Co Ltd
Current assignee: Samsung Display Co Ltd
Priority date: 2013-05-10
Filing date: 2014-01-14
Publication date: 2018-08-24
Anticipated expiration: 2034-01-14
Also published as: US9435019B2; JP6286210B2; TWI645245B; TW201443547A; JP2014218732A; KR102160695B1; KR20140133277A; US20140331925A1; CN104141106A

Abstract

本发明公开了一种掩模，所述掩模包括：板状的主体，包括开口；以及修整部分，包括从板状的主体沿第一方向突出并沿第二方向纵向地延伸的至少一个第一弯曲部分。

Description

掩模

技术领域

示例性实施例涉及制造技术，更具体地说，涉及一种掩模。

背景技术

精细金属掩模（FMM）是一种用于在相对大的基板上沉积有机材料的掩模。为了利用沉积工艺来制造有机发光显示装置，通常将精细金属掩模（FMM）图案化为具有与将要在基板上沉积为薄膜等的期望图案相同的图案。

传统地，例如，已经通过诸如金属蚀刻工艺，激光工艺、光刻工艺、电成型工艺等的各种方法来制造FMM。另外，通常通过在平面上设置图案来制造FMM。此外，制造的FMM通常受拉并焊接在掩模框上拉，以在沉积工艺中使用。作为向FMM施加拉拉力的结果，FMM的总厚度通常比在受拉之前的厚度小。这样，在执行上述受拉焊接工艺之后执行清洁工艺时，FMM可能由于至少部分地由FMM的厚度减小而导致的耐久性减小而被破坏或损坏。为此，随着FMM的尺寸增大，与厚度和耐久性的减小相关的问题加剧。

该背景技术部分中公开的上述信息仅用于增强对本发明的背景技术的理解，因此，它可能包含未形成在本国中本领域普通技术人员已经了解的现有技术的信息。

发明内容

示例性实施例提供了一种被构造为防止在以受拉状态结合到框架时厚度减小的掩模。

附加方面将在下面的详细描述中阐述，并且部分地将通过本公开而清楚，或者可以通过本发明的实施而了解。

根据示例性实施例，一种掩模包括：板状的主体，包括开口；修整部分，包括从板状的主体沿第一方向突出并且沿第二方向纵向地延伸的至少一个第一弯曲部分。

根据示例性实施例，一种掩模包括：板状的主体，包括开口；修整部分，包括从板状的主体突出的突起。突起被设置为图案。

根据示例性实施例，虽然掩模可以被拉紧，但是掩模的修整部分可以被拉伸，这样，掩模的长度和/或宽度可以被修整，但是掩模的厚度可以不减小，而是基本得以保持。这样，整个掩模的厚度基本保持为具有与初始厚度几乎相同的厚度，并且以这种方式，耐久性增加。为此，能够防止（或减少）由于在受拉焊接工艺、沉积工艺和/或清洁工艺期间掩模的耐久性问题而导致的损坏或破坏。掩模的耐久性的增加还增加了掩模在制造工艺期间的使用时间。对于有机发光二极管显示装置，这还可以起到降低制造成本的作用，这反过来可以降低消费者的花费。

根据示例性实施例，当掩模被拉紧焊接时，即使可以将相对大量的拉力施加到掩模，掩模也具有对施加的外力的抵抗力。这样，即使掩模的长度和/或宽度可以增大来制造大面积的有机发光二极管显示器，掩模的总体形状也可以稳定地保持。按这种方式，掩模在例如沉积工艺过程中的可靠性可以得到保持。

前面的总体描述以及下面的详细描述是示例性的和解释性的，并且意图提供对要求保护的本发明的进一步的解释。

附图说明

包括附图来提供对本发明的进一步理解，并且附图包含在说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了本发明的示例性实施例，并与描述一起用于解释本发明的原理。

图1是根据示例性实施例的掩模的透视图。

图2是根据示例性实施例的图1的掩模中的修整后的开口的透视图。

图3中的(A)是根据示例性实施例的沿剖面线A-A'截取的图2的掩模的剖视图。

图3中的(B)至图3中的(E)分别是根据示例性实施例的示意性掩模的各种其它修整（modified）部分的剖视图。

图4中的(A)至图4中的(E)分别是根据示例性实施例的示意性掩模的各种其它修整部分的剖视图。

图5是根据示例性实施例的掩模的透视图。

图6A是根据示例性实施例的掩模的平面图。

图6B是根据示例性实施例的沿剖面线B-B'截取的图6A的掩模的剖视图。

图6C是根据示例性实施例的沿剖面线C-C'截取的图6A的掩模的剖视图。

图7A是根据示例性实施例的掩模的平面图。

图7B是根据示例性实施例的沿剖面线D-D'截取的图7A的掩模的剖视图。

图8A是根据示例性实施例的掩模的平面图。

图8B是根据示例性实施例的沿剖面线E-E'截取的图8A的掩模的剖视图。

具体实施方式

在下面的描述中，为了解释的目的，阐述了多个特定的细节，以提供对各种示例性实施例的全面的理解。然而，显然的是，各种示例性实施例可以在没有这些特定的细节的情况下或者是具有一个或更多个等同布置的情况下来实施。在其它情况下，为了避免不必要地使各种示例性实施例不清楚，利用框图来示出公知的结构和装置。

在附图中，为了清楚和描述性的目的，可以夸大层、膜、面板、区域等的尺寸和相对尺寸。另外，同样的标号表示同样的元件。

当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在另一元件或层上、直接连接到或直接结合到另一元件或层，或者可以存在中间元件或中间层。然而，当元件或层被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”以及“从由X、Y、Z组成的组中选择的至少一个”可以被解释为只有X、只有Y、只有Z或者X、Y和Z中的两个或更多个的任意组合，例如，XYZ、XYY、YZ和ZZ。同样的标号始终表示同样的元件。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的全部组合和任意组合。

虽然可以在这里使用术语第一、第二等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。使用这些术语来将一个元件、组件、区域、层和/或部分与另一个元件、组件、区域、层和/或部分区分开来。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，以下讨论的第一元件、组件、区域、层和/或部分可以被命名为第二元件、组件、区域、层和/或部分。

为了描述的目的，在这里可使用空间相对术语，如“在…之下”、“在…下方”、“下面的”、“在…上方”、“上面的”等，并由此用来描述在图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。空间相对术语意在包含除了在附图中描述的方位之外的装置在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果在附图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因而，示例性术语“在…下方”可包括“在…上方”和“在…下方”两种方位。另外，所述装置可被另外定位（例如，旋转90度或者在其它方位），并对在这里使用的空间相对描述符做出相应的解释。

这里使用的术语出于描述特定实施例的目的，而不意图限制。如在这里使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式也意图包括复数形式。另外，当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包含”时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。

在此参照作为理想示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图来描述各种示例性实施例。这样，预计会出现例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。因此，这里公开的示例性实施例不应该被解释为局限于在此示出的区域的特定形状，而将包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出为矩形的注入区域在其边缘将通常具有圆形或弯曲的特征和/或注入浓度的梯度，而不是从注入区域到非注入区域的二元变化。同样，通过注入形成的埋区会导致在埋区和通过其发生注入的表面之间的区域中的一些注入。因此，在图中示出的区域实际上是示意性的，它们的形状并不意图示出装置的区域的实际形状，也不意图限制。

除非另有定义，否则这里使用的所有术语（包括技术术语和科学术语）具有与本公开所属领域的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。除非这里明确定义，否则术语（例如在通用的字典中定义的那些术语）应该被解释为具有与相关领域的环境中它们的意思一致的意思，而不将理想地或者过于正式地解释它们的意思。

图1是根据示例性实施例的掩模的透视图。

参照图1，掩模100包括主体110和修整部分120。主体110可以具有包括穿过其形成的多个开口（或孔）111a的板状。板状的主体110的第一维度可以沿第一方向延伸，板状的主体110的第二维度可以沿第二方向延伸。为此，板状的主体的厚度可以沿第三方向延伸。注意的是，第一方向、第二方向和第三方向可以彼此垂直（或基本垂直）。

根据示例性实施例，主体110可以由具有足够刚度的任何合适的金属材料制成。换言之，主体110可以由具有足够水平的刚度的金属材料形成，以致当主体110例如通过焊接工艺结合到掩模框架（未示出）时，可以防止通常至少部分地由于前述焊接工艺导致的变形或者至少使该变形最小化。还应注意的是，可以选择金属材料来防止（或者减小）至少部分地由于主体110自身的质量（或重量）导致的变形。例如，主体110可以由铬（Cr）、铜（Cu）、镍（Ni）、镁（Mg）、铁（Fe）、锡（Sn）、钛（Ti）、铝（Al）、不锈钢（SUS）等和/或它们的一种或多种的混合物和/或它们的一种或多种的层形成。

根据示例性实施例，开口111a的尺寸可以对应于形成在用于制造显示装置（例如，有机发光显示（OLED）装置）的基板上的像素的尺寸。注意的是，典型的OLED装置可包括多个像素，每个像素包括三个子像素（例如，绿色子像素、蓝色子像素和红色子像素），然而，可以应用任何合适的颜色（例如黄色、品红色、白色等）和/或任何合适的数量的子像素。为此，开口111a的尺寸可以对应于包括上述子像素构造的像素的尺寸。虽然开口111a被示出为限定诸如矩形开口的多边形开口，但是要理解的是，开口111a可以限定任何其它合适的形状的开口，例如，椭圆形、六边形等。

图2是根据示例性实施例的图1中的掩模中的修整后的开口的透视图。

如图2中所示，开口111b可以被形成为在主体110上的图案。当与例如电成型方法一起使用时，图案化的开口111b可以被形成为实现精确的图案和表面整平效果。然而，要理解的是，开口111b可以利用任何附加的或可选的方法制造，例如蚀刻法、激光加工法等。当通过蚀刻来制造开口111b时，包括与开口111b相同的图案的抗蚀剂层可以利用光致抗蚀剂形成在薄板上，或者可以通过在将包括该图案的膜附着（或者结合）在薄板的表面上之后对薄板进行蚀刻来形成。正如开口111a一样，要理解的是，开口111b可以限定任何合适的形状的开口，例如，矩形、六边形、椭圆形等的开口。

参照图1和图2，根据示例性实施例，修整部分120可以包括多个第一弯曲部分121。虽然描述为第一“弯曲”部分121，但是如将在下面变得更加明显的，第一“弯曲”部分121的轴剖面（例如，沿着在第二方向上延伸的剖面线截取的剖视图）可以包括弧形地形成的特征和/或线性地形成的特征。在示例性实施例中，第一弯曲部分121基本从主体110的表面沿第三方向突出，并且沿第一方向纵向地延伸。例如，第一弯曲部分121可以被构造为沿第一方向跨过主体110从一侧向另一侧纵向地延伸。与第一开口111a和111b一样，第一弯曲部分121可以不从主体110的一侧向另一侧纵向地延伸，而是可以设置在掩模100的确定部分中。可以选择掩模110的这些确定部分以抵消在例如将掩模100焊接到掩模框架时可能会随后被施加到掩模100的拉力和/或重力。

根据示例性实施例，主体110可以包括任何合适数量的第一弯曲部分121。当修整部分120包括多个第一弯曲部分121时，多个第一弯曲部分121可以以第一尺寸（或间距）P1彼此隔开。为此，虽然每个第一弯曲部分121被示出为具有相同的轴剖面构造，但是要理解的是，一个或更多个第一弯曲部分121可以包括不同的轴剖面形状。为此，第一弯曲部分的轴剖面形状可以根据沿其纵向维度的位置而改变。例如，第一弯曲部分可以包括第一轴剖面形状的第一子部分、第二轴剖面形状的第二子部分以及第一轴剖面形状的第三子部分。为此，第一弯曲部分121可以包括任何合适数量的轴剖面形状的任何合适数量的子部分。此外，各种子部分的轴剖面形状可以彼此混合。要注意的是，可以利用轴剖面形状的差异来确保掩模在焊接到掩模框架时均匀地受拉。另外，虽然开口111a和111b被示出为在主体110的位于第一弯曲部分121之间的部分中，但是开口111a和111b可以额外地（或可选地）与第一弯曲部分121相关联地设置。

继续参照图1和图2，第一弯曲部分121可以形成在主体110的未形成开口111a和111b的部分中。例如，当开口111a和111b沿与主体110交叉的假想线形成时，第一弯曲部分121可以形成在沿第一假想线的第一开口111a和111b与沿相邻于第一假想线的另一假想线的另一开口111a和111b之间。当开口111a和111b形成图案时，弯曲部分121可以形成在开口111a和111b之间。按照这种方式，开口111a和111b可以以第二尺寸（或间距）P2彼此隔开。特别地参照图2，开口111b的图案还可以以第三尺寸（或间距）P3彼此隔开。

虽然图1和图2示出了第一弯曲部分121从主体110的基本上一侧纵向地延伸到主体110的基本上另一侧，但是要理解的是，第一弯曲部分121可以形成在主体110的一个或更多个确定的区域中。即，第一弯曲部分121可以不从掩模100的基本上一侧向基本上另一侧纵向地延伸。例如，虽然未示出，但是第一弯曲部分121可以仅形成在主体110的中心区域中。作为另一示例，第一弯曲部分121可以仅形成在与主体110的一个或多个边缘相邻的区域中。然而，另一方面，要理解的是，第一弯曲部分121可以设置在主体110的任何合适的数量的部分（或区域）中，第一弯曲部分121可以跨过主体110的一部分纵向延伸，或者从主体110的一侧（或基本上一侧）纵向地延伸到另一侧（或基本上另一侧）。为此，一些第一弯曲部分121可以从主体110的一侧（或基本上一侧）纵向地延伸到另一侧（或基本上另一侧），而其它的第一弯曲部分121可以不从主体110的一侧（或基本上一侧）延伸到另一侧（或基本上另一侧）。

根据示例性实施例，形成在该结构中的修整部分120可以由与主体110相同的材料制成。然而，要理解的是，修整部分120可以由与主体110不同的材料制成。例如，修整部分120的材料可以包括一种或更多种金属，例如铬（Cr）、铜（Cu）、镍（Ni）、镁（Mg）、铁（Fe）、锡（Sn）、钛（Ti）、铝（Al）、不锈钢（SUS）等或它们的一种或多种的化合物和/或它们的一种或多种的层。还要理解的是，修整部分120可以由任何合适的聚合物制成。聚合物可以是由分子组成的化合物，其中，一种或多种组成单元通过彼此连接的化学键聚合而成。

如上所述，第一弯曲部分121的剖面可以包括弧形地形成和/或线性地形成的特征，其示例将结合图3中的(A)至(E)更详细地描述。图3中的(A)是根据示例性实施例的沿剖面线A-A’截取的图2的掩模的剖视图。图3中的(B)至(E)分别是根据示例性实施例的示意性掩模的各种其它修整部分的剖视图。要注意的是，提供图3中的(A)至(E)仅作为第一弯曲部分121的轴向剖面的示例，因此，要理解的是，可以应用其它合适的剖面形状的第一弯曲部分121。

参照图3中的(A)至(E)，修整部分120的轴向剖面的形状可以是半圆形、半椭圆形、多边形构造等。例如，如图3中的(A)所示，第一弯曲部分121的形状可以是半圆形。如图3中的(B)所见，第一弯曲部分121b的形状可以是半椭圆形。在图3中的(D)中，第一弯曲部分121d的形状被示出为三角形。在图3中的(E)中，第一弯曲部分121e的形状被示出为梯形。另外，如图3中的(C)所示，修整部分120的与主体110相邻的部分可以是弯曲的并且顶部部分可以是平坦的。换言之，修整部分120可以包括高台状构造的第一弯曲部分121c。

如图3中的(A)至图3中的(E)的每个中所见，各种弯曲部分121以及121b-121e均基本沿相同的方向（例如，第三方向）从各个掩模的主体110的表面突出。虽然未示出，但是各种弯曲部分121以及121b-121e可以被构造为基本沿与第三方向相反的方向突出，例如，基本从主体110的底表面突出），诸如以基本沿“负的”第三方向突出为例。为此，修整部分120可以包括基本沿第三方向突出的第一弯曲部分121以及基本沿负的第三方向突出的第二弯曲部分121，这将结合图4中的(A)至图4中的(E)更详细地描述。

如图4中的(A)至图4中的(E)所示，修整部分120可被形成为包括至少一个基本沿第三方向（例如，沿向上方向）突出的第一弯曲部分（例如，弯曲部分121a、121b、121c、121d或121e）以及至少一个基本沿负的第三方向（例如，沿向下方向）突出的第二弯曲部分（例如，弯曲部分121a'、121b'、121c'、121d'或121e'）。按这种方式，当掩模100包括多个修整部分120时，第一弯曲部分（例如，弯曲部分121a、121b、121c、121d或121e）可以与第二弯曲部分（例如，弯曲部分121a'、121b'、121c'、121d'或121e'）交替。

返回参照图1，在掩模100结合到掩模框架（未示出）之前，修整部分120的形状可以保持其从主体110突出的形状。然而，当掩模100受拉并被结合到掩模框架时，修整部分120可以被一个或多个外力而逐渐地被拉伸，并因此变得被修整。例如，当掩模100被拉紧并结合到掩模框架时，修整部分120可以被平坦化。即，当掩模100被拉紧时，修整部分120可以被拉伸，从而从主体110的各个突出件（例如，第一弯曲部分121）的突出程度减小，但是材料的厚度未减小。要理解的是，第一弯曲部分121可以被平坦化，以与主体110的其它部分基本上共面。这样，掩模100的厚度可以保持为与板状材料的初始厚度基本相同的厚度。按照这种方式，可以增加整体耐久性，这可以防止（或者减小）由于例如与受拉焊接工艺、沉积工艺、清洁工艺等相关的耐久性问题而导致的破坏或损坏。

根据示例性实施例，掩模100的构造使生产工艺使用时间至少部分地由于掩模100的耐久性的提高而延长。为此，由于可以减少额外的掩模100的数量，所以制造成本可以降低。由于制造成本更低，所以例如利用掩模100制造的OLED显示器的成本可以降低，这可以减小消费者的花费。另外，当掩模100被拉紧焊接到掩模框架时，即使可以将相对大拉紧量作用于掩模100，掩模100也可以抵抗外力的厚度减小效应。结果，当将要制造大面积OLED显示器时，即使掩模100的总尺寸可以增大，但是掩模100的板状材料的厚度可以稳定地保持，这可以提高掩模100在一个或更多个沉积工艺期间的可靠性。

根据示例性实施例，掩模可以包括矩阵状形成的凸起和/或开口。这将结合图5、图6A至图6C、图7A、图7B、图8A和图8B来更详细地描述。

图5是根据示例性实施例的掩模的透视图。

参照图5，掩模200可以包括修整部分220。修整部分220可包括至少一个第一弯曲部分121和至少一个第二弯曲部分222。虽然被描述为第一“弯曲”部分121和第二“弯曲”部分222，但是轴剖面，例如，第一“弯曲”部分121的沿着在第二方向上延伸的剖面线截取的剖面和第二“弯曲”部分222的沿着在第一方向上延伸的剖面线截取的剖面可以包括弧形地形成的特征和/或线性地形成的特征。

在示例性实施例中，第一弯曲部分121基本沿第三方向从主体110的表面突出，并且沿第一方向纵向延伸。第二弯曲部分222基本沿第三方向从主体110突出，并且沿第二方向纵向延伸。如前面提到的，第一方向、第二方向和第三方向可以彼此垂直（或基本垂直）。

如图5中所看出的，掩模200可以分别包括多个第一弯曲部分121和多个第二弯曲部分222。按这种方式，第一弯曲部分121可以以第一尺寸P1彼此隔开，而第二弯曲部分222可以以第四尺寸（或间距）P4彼此隔开。为此，多个第一弯曲部分121可以与多个第二弯曲部分222相交，从而主体110的多个部分可以通过两个第一弯曲部分121和两个第二弯曲部分222的各个子部分而形成边界。按照这种方式，主体110的边界部分可以沿第一方向延伸尺寸P4并且沿第二方向延伸尺寸P1。为此，开口111b可以形成在主体110的一个或多个边界部分中。在示例性实施例中，第二弯曲部分222的构造与第一弯曲部分121的构造基本相似（没有纵向方向的延伸），因此，为了避免使这里描述的示例性实施例不清楚，省略了重复的描述。

虽然第一弯曲部分121和第二弯曲部分222被示出为彼此相交，但是还要理解的是，一个或更多个第一弯曲部分121和第二弯曲部分222可以包括按照第五和/或第六尺寸（或间距）彼此隔开的多个隔开的子部分。按这种方式，第一弯曲部分121和第二弯曲部分222可以彼此不相交。另外，在图5中，虽然第一弯曲部分121和第二弯曲部分222被形成为在整个主体110上，但是要理解的是，第一弯曲部分121和第二弯曲部分222可以形成在主体110的确定区域中，例如在中心区域、与主体110的一个或多个边缘相邻的一个或更多个区域等中。此外，虽然未示出，但是第一弯曲部分121和/或第二弯曲部分222中的第一部分可以沿第三方向突出，而第一弯曲部分121和/或第二弯曲部分222中的第二部分可以沿负的第三方向突出。按这种方式，第一弯曲部分121和/或第二弯曲部分222中的第一部分与第一弯曲部分121和/或第二弯曲部分222中的第二部分可以交替。另外，为了避免使这里描述的示例性实施例不清楚，省略了重复的描述，因此，第一弯曲部分121和第二弯曲部分222的其余构造可以参照图1、图2、图3中的(A)至图3中的(E)、图4中的(A)至图4中的(E)以及本公开的对应部分来理解。

根据示例性实施例，掩模200包括沿第一方向和第二方向形成的修整部分220。这样，当掩模200沿第一方向和/或第二方向受拉时，掩模200的板材的厚度可以得以保持，但是掩模200占据的总面积可以增大。因此，要理解的是，第一弯曲部分121和第二弯曲部分222可以被平坦化，以与主体110的其它部分基本共面。这样，掩模200的厚度可以被保持为与板状材料的初始厚度基本相同。按这种方式，可以提高整体耐久性，这可以防止（或者减小）由于与例如受拉焊接工艺、沉积工艺和清洁工艺等相关的耐久性问题而导致的破坏或损坏。

根据示例性实施例，掩模200的构造还可以使生产工艺使用时间能够至少部分地由于掩模200的耐久性的提高而延长。为此，由于可以减少额外的掩模200的数量，所以制造成本可以降低。由于制造成本更低，所以例如利用掩模200制造的OLED显示器的成本可以降低，这可以减小消费者的花费。另外，当掩模200被拉紧焊接到掩模框架时，即使可以将相对大拉紧量作用于掩模200，掩模200也可以抵抗外力的厚度减小效应。结果，当将要制造大面积OLED显示器时，即使掩模200的总尺寸可以增大，掩模200的板状材料的厚度可以稳定地保持，这可以提高掩模200在一个或更多个沉积工艺期间的可靠性。

如上所述，如开口（或孔）可以的那样，掩模的突出部分可以设置在主体110的选择区域中。这将结合图6A至图6C、图7A、图7B、图8A和图8B更详细地描述。另外，要注意的是，图6A至图6C、图7A、图7B、图8A和图8B中示出的掩模的突出部分和开口被设置为矩阵状的形式。

图6A是根据示例性实施例的掩模的平面图。图6B和图6C分别是沿对应的剖面线B-B'和C-C'截取的图6A的掩模的剖视图。

参照图6A，掩模300包括主体110和修整部分320。要注意的是，主体110与图1、图2和图5中示出的主体110基本相同，因此，为了避免使这里描述的示例性实施例不清楚，省略了重复的描述。

根据示例性实施例，修整部分320包括基本沿第三方向从主体110突出的多个第三弯曲部分323。按这种方式，如将在下面变得更清楚的，多个第三弯曲部分323可以以图案或矩阵状构造来设置。在示例性实施例中，第三弯曲部分323的轴剖面形状可以是从半圆形、锥形、包括任何合适的多边形底的棱柱等中选择的一种。虽然每个第三弯曲部分323被示出为限定相同的轴剖面构造，但是要注意的是，一个或更多个弯曲部分323可以表现出一种或更多种不同的轴剖面构造。为此，虽然被描述为第三“弯曲”部分323，但是第三“弯曲”部分323的轴剖面可以包括弧形地形成的特征和/或线性地形成的特征。

如图6A中所见，多个第三弯曲部分323形成包括沿着在第一方向上延伸的假想的第一线设置的五个第三弯曲部分323的示意性图案，以及沿着在第二方向上延伸的假想的第二线设置的五个第三弯曲部分323。即，主体110包括总共25个第三弯曲部分323。按这种方式，各个第三弯曲部分323可以彼此隔开沿第一方向延伸的第七尺寸（或间距）P7，并且彼此隔开沿第二方向延伸的第八尺寸（或间距）P8。然而，要注意的是，主体110可以包括任何合适的数量和/或构造的突起。

根据示例性实施例，掩模300可以包括可以与图2和图5的开口111b相似地构造的多个开口111b。这样，为了避免使这里描述的示例性实施例不清楚，省略了重复的描述。然而，要注意的是，第三弯曲部分323可以设置在沿第一方向和第二方向隔开的各对开口111b之间的空间中。例如，各个第三弯曲部分323可以设置在沿第一方向和第二方向隔开的各对开口111b之间的中心区域中。换言之，第三弯曲部分323可以设置在两条假想对角线的交叉处，所述两条假想对角线在各对相邻地设置的沿在第一方向和第二方向之间延伸的各自的对角线方向彼此隔开的开口111b之间延伸。按这种方式，如图6B和图6C中所示，第三弯曲部分323可以不位于沿第一方向和第二方向的相邻地设置的开口111b之间。例如，如图6B和图6C中可见，开口111b未被设置在设置为沿着在第一方向上延伸的同一假想线的第三弯曲部分323之间。然而，要注意的是，沿同一假想对角线设置的各个开口111b可以设置在沿同一假想对角线设置的第三弯曲部分323之间。

虽然未示出，但是第三弯曲部分323可以不设置在基本上整个主体110上方。换言之，第三弯曲部分323的设置可以被限制到主体110的一个或更多个选择的区域。例如，选择的区域可以是中心区域、设置为与主体110的一个或更多个边缘相邻的一个或更多个区域等。例如，主体110可以包括分别沿着在第一方向上延伸的假想线设置的三个第三弯曲部分323，以及分别沿着在第二方向上延伸的假想线设置的三个第三弯曲部分323，从而主体包括仅设置在主体110的中心区域的九个第三弯曲部分323。作为另一示例，主体可以包括设置为与主体110的一个或更多个边缘相邻的一个或更多个第三弯曲部分323，使得第三弯曲部分323未设置在主体110的中心区域中。然而，要注意的是，可以使用任何其它合适的突起（例如，第三弯曲部分323）的布置和/或数量。

根据示例性实施例，掩模300包括修整部分320，修整部分320包括可以选择性地关于掩模300设置的第三弯曲部分323。这样，当掩模300沿第一方向和/或第二方向受拉时，掩模300的板材的厚度可以得以保持，但是掩模300所占据的总面积可以增大。因此，要理解的是，第三弯曲部分323可以平坦化，以与主体110的其它部分基本共面。这样，掩模300的厚度可以保持为与板状材料的初始厚度基本相同。以这种方式，总体耐久性可以提高，这可以防止（或者减小）由于与例如受拉焊接工艺、沉积工艺、清洁工艺等相关的耐久性问题而导致的破坏或损坏。

根据示例性实施例，掩模300的构造还可以使制造工艺使用时间至少部分地由于掩模300的耐久性的提高而延长。为此，由于可以减少额外的掩模300的数量，所以制造成本可以降低。由于制造成本更低，所以例如利用掩模300制造的OLED显示器的成本可以降低，这可以减小消费者的花费。另外，当掩模300被拉紧焊接到掩模框架时，即使可以将相对大拉紧量作用于掩模300，掩模300也可以抵抗外力的厚度减小效应。结果，当将要制造大面积OLED显示器时，即使掩模300的总尺寸可以增大，但是掩模300的板状材料的厚度可以稳定地保持，这可以提高掩模300在一个或更多个沉积工艺期间的可靠性。

根据示例性实施例，掩模300包括沿第一方向和第二方向形成的修整部分320。这样，当掩模300沿第一方向和/或第二方向受拉时，掩模300的板材的厚度可以得以保持，但是掩模300占据的总面积可以增大。因此，要理解的是，第三弯曲部分323可以平坦化，以与主体110的其它部分基本共面。这样，掩模300的厚度可以被保持为与板状材料的初始厚度基本相同。按这种方式，可以提高整体耐久性，这可以防止（或者减小）由于与例如受拉焊接工艺、沉积工艺和清洁工艺等相关的耐久性问题而导致的破坏或损坏。

根据示例性实施例，掩模300的构造还可以使生产工艺使用时间能够至少部分地由于掩模300的耐久性的提高而延长。为此，由于可以减少额外的掩模300的数量，所以制造成本可以降低。由于制造成本更低，所以例如利用掩模300制造的OLED显示器的成本可以降低，这可以减小消费者的花费。另外，当掩模300被拉紧焊接到掩模框架时，即使可以将相对大拉紧量作用于掩模300，掩模300也可以抵抗外力的厚度减小效应。结果，当将要制造大面积OLED显示器时，即使掩模300的总尺寸可以增大，掩模300的板状材料的厚度可以稳定地保持，这可以提高掩模300在一个或更多个沉积工艺期间的可靠性。

如前面所述，第三弯曲部分323可以被构造为具有一个或更多个交替的轴剖面形状，结合图7A和图7B来详细地描述它们中的一个。图7A是根据示例性实施例的掩模的平面图。图7B是沿剖面线D-D'截取的图7A的掩模的剖视图。

参照图7A和图7B，掩模400可以与图6A至图6C的掩模300基本相同；然而，除了修整部分320之外或代替修整部分320，掩模400可以包括修整部分420。在示例性实施例中，修整部分420包括一个或更多个第四弯曲部分423，第四弯曲部分423可以包括对应于具有任何合适的多边形底的棱柱或棱锥（例如，如图7A和图7B中可见的四棱锥）的轴剖面形状。然而，要理解的是，可以使用任何合适的轴剖面构造，例如，三棱柱/三棱锥、四棱柱/四棱锥和/或五棱柱/五棱锥等。要注意的是，掩模400的其它特征可以与掩模100、200和/或300中的一个或多个基本相似，因此，为了避免使这里描述的示例性实施例不清楚，已经省略了重复的描述。为此，要注意的是，来自于掩模400的特征、功能和优点可以相似于与掩模100、200和/或300中的一个或多个相关地获得的特征、功能和优点。

如前面所述的，突起（例如，第三弯曲部分323）和/或开口（例如，开口111b）的矩阵构造可以以任何合适的矩阵状或其它合适的图案形成来构造。结合图8A和图8B来更详细地描述一种示例性可选的（或额外的）矩阵状构造。图8A是根据示例性实施例的掩模的平面图。图8B是沿剖面线E-E'截取的图8A的剖视图。要注意的是，除了突起部分和开口的设置之外，图8A和图8B的掩模500可以与图6A至图6C的掩模300基本相似。这样，为了避免使这里描述的示例性实施例不清楚，在下面描述这些区别。

参照图8A和图8B，掩模500包括主体110，主体110包括修整部分520和开口111b。修整部分520包括一个或更多个第五弯曲部分523。根据示例性实施例，至少一些第五弯曲部分523沿第一方向以第七尺寸P7彼此隔开，并且沿第二方向以第八尺寸P8彼此隔开。为此，至少一些第五弯曲部分523沿第一方向与另一些第五弯曲部分523以第九尺寸（或间距）P9隔开。另外，至少一些第五弯曲部分523沿第二方向与另一些第五弯曲部分523以第十尺寸（或间距）P10隔开。按这种方式，第五弯曲部分523可以彼此交错，这可以形成菱形状构造的第五弯曲部分523。

根据示例性实施例，开口111b可以设置在至少一些菱形状构造的中心区域中。这样，每个开口111b可以与沿第一方向设置在开口111b上方和下方以及沿第二方向设置在开口111b的左侧和右侧的相应的第五弯曲部分523相邻地设置。按这种方式，至少一些第五弯曲部分523可以关于沿第二方向延伸的包括沿同一假想线设置的开口111b在内的假想线设置，而另一些第五弯曲部分523可以关于沿第二方向延伸的不包括沿对应的假想线设置的开口111b在内的假想线设置。为此，至少一些第五弯曲部分523可以关于沿第一方向延伸的包括沿同一假想线设置的开口111b在内的假想线设置，而另一些第五弯曲部分523可以关于沿第一方向延伸的不包括沿对应的假想线设置的开口111b在内的假想线设置。

要注意的是，掩模500的其余特征可以与掩模100、200、300和/或400中的一个或多个基本相似，因此，为了避免使这里描述的实施例不清楚，已经省略了重复的描述。为此，要注意的是，来自于掩模500的特征、功能和优点可以相似于与掩模100、200、300和/或400中的一个或多个相关地获得的特征、功能和优点。

虽然已经在此描述了某些示例性实施例和实施方式，但是其它实施例和修改将通过本说明书而变得明显。因此，本发明不限于这些实施例，而是相反，本发明限于本权利要求书及各种显而易见的修改和等同布置的更宽的范围。

Claims

1.一种掩模，所述掩模包括：

板状的主体，包括开口；以及

修整部分，包括从板状的主体沿第一方向突出并沿第二方向纵向地延伸的至少一个第一弯曲部分以及从板状的主体沿第一方向突出并沿第三方向纵向地延伸的至少一个第二弯曲部分，

其中，第二方向和第三方向基本相互垂直。

2.如权利要求1所述的掩模，其中：

所述至少一个第一弯曲部分是多个第一弯曲部分中的一个；

所述多个第一弯曲部分彼此隔开；并且

开口位于所述多个第一弯曲部分中的各对第一弯曲部分之间。

3.如权利要求1所述的掩模，其中，所述至少一个第一弯曲部分设置在板状的主体的一个或多个限定的区域中。

4.如权利要求3所述的掩模，其中，所述一个或多个限定的区域对应于板状的主体的中心区域。

5.如权利要求3所述的掩模，其中，所述一个或多个限定的区域被设置为与板状的主体的一个或多个边缘相邻。

6.如权利要求1所述的掩模，其中，第一弯曲部分的轴剖面的形状为半圆形、半椭圆形或多边形。

7.如权利要求1所述的掩模，其中：

所述至少一个第二弯曲部分是多个第二弯曲部分中的一个；

所述多个第二弯曲部分彼此隔开；并且

开口设置在所述多个第二弯曲部分中的各对第二弯曲部分之间。

8.如权利要求1所述的掩模，其中，所述至少一个第二弯曲部分设置在板状的主体的一个或多个限定的区域中。

9.如权利要求8所述的掩模，其中，所述一个或多个限定的区域对应于板状的主体的中心区域。

10.如权利要求8所述的掩模，其中，所述一个或多个限定的区域被设置为与板状的主体的一个或多个边缘相邻。

11.如权利要求7所述的掩模，其中，所述多个第二弯曲部分中的至少一些第二弯曲部分的轴剖面的形状为半圆形、半椭圆形或多边形。

12.如权利要求1所述的掩模，其中，第一方向从板状的主体向上或向下延伸。

13.如权利要求1所述的掩模，其中：

修整部分包括至少两个第一弯曲部分；

所述两个第一弯曲部分中的至少一个沿第一方向突出；并且

所述两个第一弯曲部分中的至少一个沿与第一方向相反的方向突出。

14.如权利要求1所述的掩模，其中，修整部分包含铬、铜、镍、镁、铁、锡、钛、铝和不锈钢中的至少一种。

15.如权利要求1所述的掩模，其中，修整部分由聚合物形成。

16.如权利要求1所述的掩模，其中，修整部分由与板状的主体的材料相同的材料形成。

17.如权利要求1所述的掩模，其中，修整部分由与板状的主体的材料不同的材料形成。

18.如权利要求1所述的掩模，其中，修整部分被构造为在拉力下拉伸，从而：

能够使板状的主体的厚度基本得以保持；并且

能够使板状的主体的至少一个其他维度增大。