DE102015116089B4 - Anzeigetafel, Anzeigevorrichtung und Herstellungsverfahren der Anzeigetafel - Google Patents
Anzeigetafel, Anzeigevorrichtung und Herstellungsverfahren der Anzeigetafel Download PDFInfo
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Abstract
ein Substrat (21; 51);
eine Pixeldefinitionsschicht (22), welche auf dem Substrat (21; 51) angeordnet ist,
wobei eine Mehrzahl von Pixelgebieten (23) in der Pixeldefinitionsschicht (22) definiert ist; und
eine organische gemeinsame Schicht (25; 52), die auf den Pixelgebieten (23) und der Pixeldefinitionsschicht (22) angeordnet ist; und
wenigstens eine Ausnehmung (24; 54), die in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen benachbarten Pixelgebieten (23) oder in jeder Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23) angeordnet ist;
wobei die organische gemeinsame Schicht (25; 52) eine Lochtransportschicht (251) und eine Elektronentransportschicht (252) aufweist, eine Dicke der Lochtransportschicht (251), die eine Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, geringer als eine Dicke der Lochtransportschicht (251), die einen Boden der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, ist und eine Dicke der Elektronentransportschicht (252), die eine Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, geringer als eine Dicke der Elektronentransportschicht (252), die einen Boden der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, ist, und
die organische gemeinsame Schicht (25; 52) die Ausnehmung (24; 54) teilweise bedeckt.
Description
- TECHNISCHES GEBIET
- Die vorliegende Anmeldung betrifft das Gebiet von Anzeigetechnologien, insbesondere eine Anzeigetafel, eine Anzeigevorrichtung und ein Herstellungsverfahren der Anzeigetafel.
- HINTERGRUND
- Eine Anzeigetafel mit Aktivmatrix und organischen lichtemittierenden Dioden (AMOLED - Active Matrix Organic Light Emitting Diode) weist Vorteile wie etwa Eigenlumineszenz, niedrigen Energieverbrauch, schnelle Reaktionsgeschwindigkeit, hohes Kontrastverhältnis und breiten Betrachtungswinkel auf und hat daher auf dem Gebiet der Anzeigetechnologien breite Anwendungsaussichten.
- Wenn jedoch im Stand der Technik eine AMOLED-Anzeigetafel ein Bild anzeigt und ein Teil von Pixelgebieten in der AMOLED-Anzeigetafel aufleuchtet, wird zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und einem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet, das an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, ein starker Leckstrom erzeugt und bewirkt, dass das nicht aufleuchtende Pixelgebiet geringfügig aufleuchtet, wodurch eine Qualität des durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes abnimmt.
-
JP 2007-108 469 A -
US 2014/0312329 A1 -
EP 0 189 214 A2 offenbart eine Aktivmatrix-Flüssigkristall-Mehrfarb-Anzeigetafelstruktur, welche transparente erste und zweite Substrate mit einer dazwischen aufgenommenen Schicht von Flüssigkristall aufweist. - KURZFASSUNG
- In Anbetracht des Vorstehenden stellen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung eine Anzeigetafel, eine Anzeigevorrichtung und ein Herstellungsverfahren der Anzeigetafel bereit, um das technische Problem eines Verminderns der Qualität eines durch die AMOLED-Anzeigetafel in dem Stand der Technik angezeigten Bildes zu lösen.
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt eine Anzeigetafel bereit, welche aufweist: ein Substrat; eine Pixeldefinitionsschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist, wobei eine Mehrzahl von Pixelgebieten in der Pixeldefinitionsschicht definiert ist, und eine organische gemeinsame Schicht, die auf den Pixelgebieten und der Pixeldefinitionsschicht angeordnet ist; wobei eine Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher der Pixeldefinitionsschicht entspricht, geringer ist als diejenige wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher dem Pixelgebiet entspricht; oder wenigstens eine Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten angeordnet ist und die organische gemeinsame Schicht die Ausnehmung bedeckt.
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ferner eine Anzeigevorrichtung bereit, welche die vorstehend beschriebene Anzeigetafel aufweist.
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ferner ein Herstellungsverfahren der Anzeigetafel bereit, welches aufweist: Bereitstellen eines Substrats; Ausbilden einer Pixeldefinitionsschicht auf dem Substrat mit einer Mehrzahl von in der Pixeldefinitionsschicht definierten Pixelgebieten; Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten; und Ausbilden einer organischen gemeinsamen Schicht, wobei die organische gemeinsame Schicht auf den Pixelgebieten und der Pixeldefinitionsschicht ausgebildet wird und die Ausnehmung bedeckt.
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ferner ein Herstellungsverfahren einer Anzeigetafel bereit, welches aufweist: Bereitstellen eines Substrats; Ausbilden einer Pixeldefinitionsschicht auf dem Substrat mit einer Mehrzahl von in der Pixeldefinitionsschicht definierten Pixelgebieten; und Ausbilden einer organischen gemeinsamen Schicht, wobei die organische gemeinsame Schicht auf den Pixelgebieten und der Pixeldefinitionsschicht ausgebildet wird und die Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher der Pixeldefinitionsschicht entspricht, geringer ist als die Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher dem Pixelgebiet entspricht.
- Mit der Anzeigetafel, der Anzeigevorrichtung und dem Herstellungsverfahren der Anzeigetafel ist in der Anzeigetafel eine Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher der Pixeldefinitionsschicht entspricht, geringer als diejenige wenigstens eines dem Pixelgebiet entsprechenden Teils der organischen gemeinsamen Schicht; oder ist wenigstens eine Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten angeordnet und bedeckt die organische gemeinsame Schicht die Ausnehmung derart, dass der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht zwischen den Pixelgebieten erhöht sein kann und somit der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom verringert oder gar verhindert werden kann und das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird.
- Figurenliste
- Andere Merkmale, Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der ausführlichen Beschreibung für nicht einschränkende Ausführungsformen, die unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen gemacht ist, ersichtlicher werden, wobei:
-
1 eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer bestehenden AMOLED-Anzeigetafel veranschaulicht; -
2A eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; -
2B eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer anderen Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; -
3 eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer weiteren Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; -
4 eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer weiteren Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; -
5 eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer weiteren Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; -
6 eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer weiteren Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; -
7 eine vergrößerte schematische Darstellung eines Gebiets A in2A ist; -
8A eine schematische Draufsicht ist, welche den Teilaufbau einer durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt; -
8B eine schematische Draufsicht ist, welche den Teilaufbau einer anderen durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt; -
9 eine schematische Draufsicht ist, welche den Teilaufbau einer weiteren durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt; -
10 eine schematische Draufsicht ist, welche den Teilaufbau einer weiteren durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt; -
11 eine schematische Darstellung ist, welche den Aufbau einer durch die Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigevorrichtung zeigt; -
12 ein Flussdiagramm ist, welches das Herstellungsverfahren der gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt; -
13 eine schematische Darstellung eines Ausbildens einer organischen gemeinsamen Schicht mittels Aufdampfung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist; -
14 eine schematische Darstellung eines Ausbildens einer organischen gemeinsamen Schicht mittels einer anderen Aufdampfung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist; und -
15 ein Flussdiagramm ist, welches ein anderes Herstellungsverfahren einer gemäß die Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt. - AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMEN
- Die vorliegende Erfindung wird nachstehend im Zusammenhang mit den begleitenden Zeichnungen und Ausführungsformen in weiteren Einzelheiten beschrieben. Es sollte erwähnt werden, dass die spezifischen Ausführungsformen, die hierin offenbart sind, nur zur Erläuterung der vorliegenden Erfindung denn zu deren Einschränkung da sind. Es sollte auch erwähnt werden, dass die begleitenden Zeichnungen zur Vereinfachung der Beschreibung nur die vorliegende Erfindung betreffende Teile, jedoch nicht in erschöpfender Weise, zeigen.
- Vor einer Beschreibung der Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wird ein Aufbau der bestehenden AMOLED-Anzeigetafel vorgestellt. Wie in
1 , welche eine schematische Darstellung ist, die den Aufbau der bestehenden AMOLED-Anzeigetafel veranschaulicht, gezeigt, weist die bestehende AMOLED-Anzeigetafel auf: ein Substrat11 ; eine auf dem Substrat11 angeordnete Dünnfilmtransistorschicht12 , wobei auf der Dünnfilmtransistorschicht12 Dünnfilmtransistoren bzw. Dünnschichttransistoren, welche eine Schaltfunktion aufweisen, vorgesehen sind; eine Planarisierungsschicht13 , die auf der Dünnfilmtransistorschicht12 angeordnet ist; eine Pixeldefinitionsschicht, die auf der Planarisierungsschicht13 angeordnet ist, wobei in der Pixeldefinitionsschicht14 eine Mehrzahl von Pixelgebieten15 definiert ist; eine Anode16 , die auf der Planarisierungsschicht13 angeordnet und in dem Pixelgebiet15 lokalisiert ist; eine organische gemeinsame Schicht17 , die auf der Pixeldefinitionsschicht14 und der Anode16 angeordnet ist, wobei die organische gemeinsame Schicht17 eine Lochtransportschicht171 und eine Elektronentransportschicht172 , die auf der Lochtransportschicht171 angeordnet ist, aufweist; eine organische lichtemittierende Schicht18 , die zwischen der Lochtransportschicht171 und der Elektronentransportschicht172 angeordnet ist; und eine Kathode19 , die auf der Elektronentransportschicht172 angeordnet ist. - Die vorstehende, bestehende AMOLED-Anzeigetafel arbeitet mit einem Anzeigeprinzip derart, dass: wenn bestimmte Spannungen jeweils an die Anode
16 und die Kathode19 angelegt werden, Löcher von der Anode16 in die Lochtransportschicht171 eingeleitet werden und Elektronen von der Kathode19 in die Elektronentransportschicht172 eingeleitet werden, und dann die Löcher und Elektronen durch die Lochtransportschicht171 bzw. Elektronentransportschicht172 zu der organischen lichtemittierenden Schicht18 transportiert werden und somit in der organischen lichtemittierenden Schicht18 aufeinander treffen, um Exzitonen auszubilden, welche wiederum lichtemittierende Moleküle in der organischen lichtemittierenden Schicht18 anregen, um sichtbares Licht zu emittieren, wodurch die Anzeigewirkung der AMOLED-Anzeigetafel bewirkt wird. - Wenn in dem Stand der Technik die AMOLED-Anzeigetafel ein Bild anzeigt und ein Teil von Pixelgebieten in der AMOLED-Anzeigetafel aufleuchten, könnten, da die Elektronentransportschichten in benachbarten Pixelgebieten miteinander verbunden sind und Lochtransportschichten in benachbarten Pixelgebieten miteinander verbunden sind, in die in dem aufleuchtenden Pixelgebiet in die Elektronentransportschicht eingeleiteten Elektronen und die in dem aufleuchtenden Pixelgebiet in die Lochtransportschicht eingeleiteten Löcher in Richtung eines nicht aufleuchtenden Pixelgebiets, das an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, übertragen werden, und daher wird ein starker Leckstrom zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem benachbarten nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugt, was bewirkt, dass das nicht aufleuchtende Pixelgebiet geringfügig aufleuchtet, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes abnimmt.
- In Anbetracht des Vorstehenden stellen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung technische Lösungen wie folgt bereit.
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt eine Anzeigetafel bereit. Wie in
2A , welche eine schematische Darstellung ist, die den Aufbau einer Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt, weist die Anzeigetafel auf: ein Substrat21 ; eine auf dem Substrat21 angeordnete Pixeldefinitionsschicht22 , wobei eine Mehrzahl von Pixelgebieten23 in der Pixeldefinitionsschicht22 definiert ist; optional wenigstens eine Ausnehmung24 in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht22 zwischen benachbarten Pixelgebieten23 angeordnet ist oder in jeder Pixeldefinitionsschicht22 zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten23 angeordnet ist; und eine organische gemeinsame Schicht25 , die auf den Pixelgebieten23 und der Pixeldefinitionsschicht22 angeordnet ist und die Ausnehmung24 bedeckt. Optional ist die Masse der Pixeldefinitionsschicht22 vor Ausbildung der Ausnehmung24 größer als die Masse der Pixeldefinitionsschicht22 , die mit der Ausnehmung24 ausgebildet ist, d. h., die Masse der Pixeldefinitionsschicht22 wird bei Ausbildung der Ausnehmung24 verringert. Spezifischerweise kann die Ausbildung24 durch Verwenden eines Ätz- oder Laserbestrahlungsprozesses wie etwa eines Trockenätzprozesses, eines Nassätzprozesses oder eines Laserbrennprozesses ausgebildet werden. Bei der vorliegenden Erfindung ist es erforderlich, dass die Ausnehmung24 eine hinreichende Tiefe aufweist, um den Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen benachbarten Pixelgebieten23 wirksam zu erhöhen, und die vorstehenden Prozesses eines Ausbildens der Ausnehmung24 sind anwendbar, um die Ausnehmung mit der erforderlichen Tiefe auszubilden. Optional ist die Tiefe D der Ausnehmung24 größer als oder gleich 0,5 µm. Es ist gefunden worden, dass, falls die Tiefe der Ausnehmung24 geringer als 0,5 µm ist, die Wirkung der Widerstandsjustierung der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den benachbarten Pixelgebieten23 begrenzt ist und die Funktion eines Zurückhaltens der Übertragung der Elektronen und/oder Löcher zwischen benachbarten Pixelgebieten23 schwach ist. - Wie in
2B gezeigt, ist eine Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht25 , welcher der Pixeldefinitionsschicht22 entspricht, geringer als diejenige wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht25 , welcher den Pixelgebieten23 entspricht, so dass die organische gemeinsame Schicht, welche der Pixeldefinitionsschicht entspricht, einen höheren Widerstand aufweist als jene, welche dem Pixelgebiet entspricht, und daher kann die Übertragung der Elektronen und/oder Löcher zwischen den benachbarten Pixelgebieten zurückgehalten werden, wodurch der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugte Leckstrom verhindert werden kann und somit das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. Die Anordnung der Dicke der organischen gemeinsamen Schicht, die der Pixeldefinitionsschicht entspricht, und der Dicke der organischen gemeinsamen Schicht, die den Pixelgebieten entspricht, kann unter Verwendung eines Schrägaufdampfungsprozesses implementiert werden, bei welchen zwischen einer Richtung der Aufdampfung und einer Richtung senkrecht zum dem Substrat ein Winkel vorhanden ist. Optional ist der Winkel ein spitzer Winkel. Optional ist die Richtung der Aufdampfung die gleiche wie die Richtung einer abgeschrägten Kante der Pixeldefinitionsschicht. Optional weist das Gebiet der organischen gemeinsamen Schicht, welches der Pixeldefinitionsschicht entspricht, Diskontinuitäten auf, so dass die Übertragung der Elektronen und/oder Löcher zwischen den benachbarten Pixelgebieten weiter blockiert werden kann. Optional wird die organische gemeinsame Schicht unter Verwendung einer Halbtonmaske geätzt, so dass die Dicke des wenigstens einen Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher der Pixeldefinitionsschicht entspricht, geringer ist als die Dicke des wenigstens einen Teils der organischen Schicht, der dem Pixelgebiet entspricht. Als solches ist bei der vorliegenden Erfindung der Widerstand des Teils der organischen gemeinsamen Schicht, der dem Pixelgebiet entspricht, erhöht, um ein Übersprechen der Elektronen und/oder Löcher zwischen den benachbarten Pixelgebieten zu vermeiden, so dass eine durch das Übersprechen verursachte Unkontrollierbarkeit der Helligkeit oder Dunkelheit des Pixelgebiets vermieden wird. Das Verfahren eines Zurückhaltens der Übertragung der Elektronen und/oder zwischen den benachbarten Pixelgebieten gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst die vorstehenden zwei Weisen, ist jedoch nicht darauf beschränkt, und kann ebenso durch Ändern des Materials der organischen gemeinsamen Schicht usw. implementiert werden, wovon alles in das Konzept der vorliegenden Erfindung fallen sollte. - Wie in
2A oder2B gezeigt, kann die Anzeigetafel ferner eine Dünnfilmtransistorschicht26 und eine Planarisierungsschicht27 jeweils zwischen dem Substrat21 und der Pixeldefinitionsschicht22 angeordnet aufweisen und ist die Planarisierungsschicht27 oberhalb der auf dem Substrat21 angeordneten Dünnfilmtransistorschicht lokalisiert. Die organische gemeinsame Schicht25 weist eine Lochtransportschicht251 und eine auf der Lochtransportschicht251 angeordnete Elektronentransportschicht252 auf. Die organische gemeinsame Schicht25 ist auf der Pixeldefinitionsschicht22 angeordnet und bedeckt die Ausnehmung24 und ist ferner in den Pixelgebieten23 angeordnet. Zusätzlich weist die in2A gezeigte Anzeigetafel ferner auf: eine organische lichtemittierende Schicht253 , die zwischen der Lochtransportschicht251 und der Elektronentransportschicht252 angeordnet ist, und eine Kathode254 , die auf der Elektronentransportschicht252 angeordnet ist. Es ist zu erwähnen, dass bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Richtung von dem Substrat21 zu der Pixeldefinitionsschicht22 als eine Richtung nach oben in Bezug genommen wird und eine hierzu entgegengesetzte Richtung als eine Richtung nach unten in Bezug genommen wird. Die Beschreibung eines Elements als oberhalb oder unterhalb eines anderen Elements befindlich soll lediglich die relative Orientierung der Elemente veranschaulichen, wobei die Elemente in direktem Kontakt miteinander oder separat sein können, und ein spezifischer Aufbau hiervon ist nicht darauf beschränkt. - Auf der Grundlage der vorstehenden Beschreibung kann die durch die Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellte Anzeigetafel als die AMOLED-Anzeigetafel verwendet werden. Wie in
2A gezeigt, ist anders als in dem Fall im Stand der Technik, in welchem zwischen den Pixelgebieten23 keine Ausnehmung angeordnet ist, bei der Anzeigetafel der vorliegenden Erfindung die Ausnehmung24 in der Pixeldefinitionsschicht22 zwischen einem Teil von benachbarten Pixelgebieten23 angeordnet oder ist in der Pixeldefinitionsschicht22 zwischen jeweils zwei benachbarten Pixelgebieten23 angeordnet und ist die Ausnehmung24 durch die organische gemeinsame Schicht25 bedeckt, so dass die Länge der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 aufgrund des Vorhandenseins der Ausnehmung24 vergrößert sein kann, d. h., die Längen sowohl der Lochtransportschicht251 als auch der Elektronentransportschicht252 zwischen den Pixelgebieten23 aufgrund des Vorhandenseins der Ausnehmung24 vergrößert sein können und daher die Widerstände sowohl der Lochtransportschicht251 als auch der Elektronentransportschicht252 zwischen den benachbarten Pixelgebieten23 erhöht sein können. Wenn bei der Anzeigetafel ein Pixelgebiet23 aufleuchtet, kann die Übertragung der Elektronen und/oder Löcher zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und einem an das aufleuchtende Pixelgebiet23 benachbarten, nicht aufleuchtenden Pixelgebiet aufgrund dessen, dass die Widerstände sowohl der Lochtransportschicht als auch der Elektronentransportschicht zwischen den benachbarten Pixelregionen erhöht ist, reduziert werden, und daher kann der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugte Leckstrom reduziert oder sogar beseitigt werden, so dass das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. - Wie in
2A gezeigt, ist der Boden der Ausnehmung24 innerhalb der Pixeldefinitionsschicht22 angeordnet, was lediglich ein spezifisches Anordnungsbeispiel der Ausnehmung innerhalb der Pixeldefinitionsschicht gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist. In einem anderen spezifischen Beispiel der vorliegenden Erfindung erstreckt sich die Ausnehmung24 gemäß der Darstellung in3 durch die Pixeldefinitionsschicht22 hindurch und erreicht die Planarisierungsschicht27 . Im Vergleich mit der in2A gezeigten Ausnehmung weist die in3 gezeigte Ausnehmung24 eine tiefere Tiefe auf und wird demgemäß die organische gemeinsame Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 aufgrund des Vorhandenseins der Ausnehmung24 noch länger und ist daher der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen entsprechenden Pixelgebieten23 gemäß der Darstellung in3 viel größer als der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen entsprechenden Pixelgebieten23 gemäß der Darstellung in2A , so dass die in3 gezeigte Anzeigetafel den zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugten Leckstrom wirksamer reduzieren oder gar beseitigen kann und somit das nicht aufleuchtende Pixelgebiet besser in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. - In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Planarisierungsschicht
27 , welche konfiguriert ist, um eine Oberfläche der Dünnfilmtransistorschicht26 unterhalb der Planarisierungsschicht27 zu planarisieren, in der Anzeigetafel unterhalb der Pixeldefinitionsschicht22 angeordnet. Auf der Grundlage der in2A oder3 gezeigten Anzeigetafel kann zur weiteren Vergrößerung der Tiefe der Ausnehmung die Ausnehmung24 sich durch die Pixeldefinitionsschicht22 hindurch und in die Planarisierungsschicht27 hinein erstrecken, so dass der Boden der Ausnehmung in der Planarisierungsschicht27 angeordnet ist, wie es in4 gezeigt ist. Da die in4 gezeigte Ausnehmung24 eine größere Tiefe als die in2A oder3 gezeigte Ausnehmung aufweist, ist der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 aufgrund des Vorhandenseins der Ausnehmung24 viel größer als der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 in2A oder3 , so dass der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugte Leckstrom weiter verringert oder gar beseitigt werden kann und somit das nicht aufleuchtende Pixelgebiet23 besser in einen dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. - Es ist anzumerken, dass die Tiefen der in der Pixeldefinitionsschicht zwischen den Pixelgebieten vorgesehenen Ausnehmungen alle gleich oder teilweise gleich oder voneinander unterschiedlich sein können, abhängig von tatsächlichen Anforderungen oder tatsächlichen Herstellprozessbedingungen, was hierin nicht eingeschränkt ist.
- Bei den in
2A ,3 und4 gezeigten Anzeigetafeln bedeckt die organische gemeinsame Schicht25 alle Ausnehmungen24 , so dass die Länge der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 vergrößert sein kann und der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 erhöht ist, wodurch der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugte Leckstrom verringert oder gar beseitigt wird. Als solches sind bezüglich der Anzeigetafel nur einige spezifische Beispiele der Lagebeziehung zwischen der organischen gemeinsamen Schicht und der Ausnehmung dargestellt worden. In anderen spezifischen Beispielen kann die organische gemeinsame Schicht alternativ einen Teil der Ausnehmung bedecken. Wie in5 gezeigt, bedeckt die organische gemeinsame Schicht25 eine linke Seitenwand und den Boden der Ausnehmung24 , bedeckt jedoch eine rechte Seitenwand der Ausnehmung24 nicht, d.h., die organische gemeinsame Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 ist an der Stelle der Ausnehmung24 diskontinuierlich, so dass der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 als unendlich angenommen werden kann und daher der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugte Leckstrom verhindert werden kann und das nicht aufleuchtende Pixelgebiet23 in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. - Es ist anzumerken, dass ein Bedecken nur der linken Seitenwand und des Bodens der Ausnehmung
24 durch die organische gemeinsame Schicht25 gemäß der Darstellung in5 lediglich ein spezifisches Beispiel ist, welches die Bedeckung eines Teils der Ausnehmung durch die organische gemeinsame Schicht veranschaulicht. In anderen spezifischen Beispielen kann die organische gemeinsame Schicht nur die rechte Seitenwand und den Boden der Ausnehmung bedecken oder nur die linke Seitenwand der Ausnehmung bedecken oder nur die rechte Seitenwand der Ausnehmung bedecken oder nur einen Teil einer Seitenwand (wie etwa der linken Seitenwand oder der rechten Seitenwand) der Ausnehmung bedecken oder nur eine Seitenwand der Ausnehmung, den Boden der Ausnehmung oder einen Teil einer anderen Seitenwand der Ausnehmung usw. bedecken, solange die Bedeckung der Ausnehmung durch die organische gemeinsame Schicht ermöglicht, dass die organische gemeinsame Schicht zwischen Pixelgebieten diskontinuierlich ist, so dass der Widerstand der entsprechenden organischen gemeinsamen Schicht unendlich wird, was hierauf nicht eingeschränkt ist. - In den vorstehend beschriebenen Figuren ist eine Ausnehmung in der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten vorgesehen. Es kann jedoch eine Mehrzahl von Ausnehmungen in der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten vorhanden sein. Wie in
6 gezeigt, sind zwei Ausnehmungen24 in der Pixeldefinitionsschicht22 zwischen benachbarten Pixelgebieten23 vorhanden, sind Böden der Ausnehmungen24 in der Pixeldefinitionsschicht22 angeordnet und bedeckt die organische gemeinsame Schicht25 die Ausnehmungen24 vollständig. Im Vergleich mit der in2A gezeigten Anzeigetafel ist unter der Voraussetzung, dass die Ausnehmungen24 gemäß der Darstellung in6 die gleiche Tiefe wie die in2A gezeigten aufweisen, die Länge der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 aufgrund des Vorhandenseins der Ausnehmungen24 bei der in6 gezeigten Anzeigetafel signifikant erhöht, so dass der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 signifikant erhöht sein und daher der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugte Leckstrom wirksam verringert oder gar beseitigt werden kann und das nicht aufleuchtenden Pixelgebiet besser in einem dunklen Zustand gehalten werden kann. Es ist festzuhalten, dass die Anzahl der Ausnehmungen in der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten mit tatsächlichen Erfordernissen oder Prozessbedingungen variiert werden kann, was hierauf nicht eingeschränkt ist. -
7 zeigt eine vergrößerte schematische Darstellung eines Gebiets A in2A gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Wie in7 gezeigt, ist eine Dicked11 der Lochtransportschicht251 , welche die Seitenwand der Ausnehmung24 bedeckt, geringer als eine Dicked12 der Lochtransportschicht251 , welche den Boden der Ausnehmung24 bedeckt, und ist eine Dicke d21 der Elektronentransportschicht252 , welche die Seitenwand der Ausnehmung24 bedeckt, geringer als eine Dicked22 der Elektronentransportschicht252 , welche den Boden der Ausnehmung24 bedeckt, d. h., eine Dicked31 der organischen gemeinsamen Schicht25 , welche die Seitenwand der Ausnehmung24 bedeckt, ist geringer als eine Dicked32 der organischen gemeinsamen Schicht25 , welche den Boden der Ausnehmung24 bedeckt. Nachdem die organische gemeinsame Schicht25 mit der Dicked31 bei gleicher Länge einen geringeren Widerstand als die organische gemeinsame Schicht25 mit der Dicked32 aufweist, kann der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht25 zwischen den Pixelgebieten23 durch Verringern der Dicked31 der organischen gemeinsamen Schicht25 , welche die Seitenwand der Ausnehmung24 bedeckt, bezüglich der Dicked32 der organischen gemeinsamen Schicht25 , welche den Boden der Ausnehmung24 bedeckt, weiter erhöht sein, wodurch der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom verringert oder gar beseitigt wird. - Zusätzlich ist gemäß der Darstellung in
3 ,4 und6 die Dicke der organischen gemeinsamen Schicht25 , welche die Seitenwand der Ausnehmung24 bedeckt, auch geringer als diejenige der organischen gemeinsamen Schicht25 , welche den Boden der Ausnehmung24 bedeckt. Eine spezifische Beschreibung kann auf die betreffende Beschreibung von7 bezogen werden, die hierin nicht erneut wiederholt diskutiert wird. - In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Tiefe D der Ausnehmung
24 größer als oder gleich 2 µm. Optional ist die Tiefe D der Ausnehmung24 größer als 2 µm und kleiner als 6 µm. Es ist in Experimenten herausgefunden worden, dass die Ausnehmung24 mit einer größeren Tiefe als 2 µm die Widerstände sowohl der Lochtransportschicht251 als auch der Elektronentransportschicht252 zwischen Pixelgebieten23 signifikant erhöhen kann und hierdurch den zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet23 und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet23 erzeugten Leckstrom besser verringert oder gar beseitigt. Mit den bestehenden Prozessbedingungen ist es leicht, eine Ausnehmung24 mit einer Tiefe, die größer als 2 µm und geringer als 6 µm ist, auszubilden, und die Tiefe der Ausnehmung24 kann mit Erfordernissen für eine Erhöhung von Widerständen sowohl der Lochtransportschicht251 als auch der Elektronentransportschicht252 zwischen den Pixelgebieten23 und für eine Verringerung des Leckstroms variiert werden. Es ist anzumerken, dass die Tiefe der Ausnehmung24 in Abhängigkeit von tatsächlichen Anforderungen unter zulässigen Prozessbedingungen auch größer als oder gleich 6 µm sein kann, was nicht hierauf eingeschränkt ist. - In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann jedes der Pixelgebiete in der Anzeigetafel eines von trichromatischen Pixelgebieten sein, d.h., ein rotes Pixelgebiet, ein grünes Pixelgebiet und ein blaues Pixelgebiet, oder kann jedes der Pixelgebiete in der Anzeigetafel auch eines von tetrachromatischen Pixelgebieten sein, d.h., ein rotes Pixelgebiet, ein grünes Pixelgebiet, ein blaues Pixelgebiet und ein weißes Pixelgebiet oder alternativ ein rotes Pixelgebiet, ein grünes Pixelgebiet, ein blaues Pixelgebiet und ein gelbes Pixelgebiet. Bei der Anzeigetafel können die Pixelgebiete als eine Matrix angeordnet sein oder in einer versetzten Weise oder anderen Anordnungsarten angeordnet sein, was nicht hierauf beschränkt ist. Die Pixelgebiete in der Anzeigetafel werden nachstehend als die trichromatischen Pixelgebiete veranschaulicht werden, um die Anordnung der Pixelgebiete und der Ausnehmungen zu veranschaulichen, und eine solche Veranschaulichung kann auch auf den Fall angewendet werden, dass die Pixelgebiete in der Anzeigetafel tetrachromatische Pixelgebiete sind.
-
8A ist eine schematische Draufsicht, welche den Teilaufbau einer durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt. Wie in8A gezeigt, sind die Pixelgebiete23 in der Anzeigetafel als eine Matrix angeordnet, wobei R ein rotes Pixelgebiet repräsentiert, G ein grünes Pixelgebiet repräsentiert und B ein blaues Pixelgebiet repräsentiert. Wie in8A gezeigt, kann die Anordnung der Pixelgebiete23 als eine Matrix derart vorgesehen sein, dass: jede Spalte von Pixelgebieten23 durch Pixelgebiete der gleichen Farbe aufgebaut ist und jede Zeile von Pixelgebieten23 durch die abwechselnd angeordneten roten, grünen und blauen Pixelgebiete R, G, B aufgebaut ist. Wie in8A gezeigt, sind die Ausnehmungen24 in der Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten23 unterschiedlicher Farben vorgesehen. Spezifischerweise bewirkt, wenn die Anzeigetafel das Bild anzeigt und ein Teil von Pixelgebieten in der Anzeigetafel aufleuchtet, der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom ein Farbübersprechen an der Anzeigetafel, falls das aufleuchtende Pixelgebiet von einer Farbe ist, die sich von derjenigen eines nicht aufleuchtenden Pixelgebiets, das an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, unterscheidet, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes abnimmt. In Anbetracht des Vorstehenden ist bei der Anzeigetafel die Ausnehmung in der Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten unterschiedlicher Farben vorgesehen, wodurch wirksam verhindert wird, dass ein Farbübersprechen Farbigkeit und Qualität des durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes beeinträchtigt. - Im Unterschied zu dem Fall, dass ein aufleuchtendes Pixelgebiet und ein nicht aufleuchtendes Pixelgebiet, welches an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, von unterschiedlichen Farben sind, kann ein aufleuchtendes Pixelgebiet und ein nicht aufleuchtendes Pixelgebiet, das an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, auch von gleicher Farbe sein, in diesem Fall könnte der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet, das an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, erzeugte Leckstrom bewirken, dass das nicht aufleuchtende Pixelgebiet geringfügig aufleuchtet. Daher ist gemäß der Darstellung in
8B , welche eine schematische Draufsicht ist, die den Teilaufbau einer anderen durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt, in dem Fall, dass die Pixelgebiete23 als eine Matrix angeordnet sind, eine Ausnehmung24 in der Pixeldefinitionsschicht zwischen jeweils zwei benachbarten Pixelgebieten23 vorgesehen, so dass die Wirkung des Leckstroms zwischen benachbarten Pixelgebieten auf die Qualität des durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes besser verhindert werden kann. - Im Unterschied zu dem Fall, dass die Pixelgebiete als eine Matrix angeordnet sind, können bei der Anzeigetafel die Pixelgebiete
23 gemäß der Darstellung in9 , welche eine schematische Draufsicht ist, die den Teilaufbau einer weiteren durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt, auch in einer solchen versetzten Weise angeordnet sein, dass: jede Zeile von Pixelgebieten23 durch abwechselnd angeordnete rote, grüne und blaue Pixelgebiete R, G, B aufgebaut ist und benachbarte Zeilen von Pixelgebieten23 zueinander versetzt sind. Für den Fall, dass die Pixelgebiete23 in der versetzten Weise angeordnet sind, ist es erforderlich, dass die Ausnehmung24 in der Pixeldefinitionsschicht zwischen jeweils zwei benachbarten Pixelgebieten23 vorgesehen ist, wie es in9 gezeigt ist, um den zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet, das an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, erzeugten Leckstrom wirksam zu reduzieren oder gar zu beseitigen. - Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann die Ausnehmung entweder an einer Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten unterschiedlicher Farben oder einer Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten der gleichen Farbe vorgesehen sein oder können die Ausnehmungen sowohl an einer Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten unterschiedlicher Farben als auch einer Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten der gleichen Farbe vorgesehen sein, was hierauf nicht beschränkt ist.
- Spezifischerweise ist aus der Perspektive von Materialien zur Herstellung von Pixelgebieten unterschiedlicher Farben die Stromausbeute des Materials zur Herstellung des grünen Pixelgebiets wesentlich höher als diejenige des Materials zur Herstellung von Pixelgebieten anderer Farben und beeinträchtigt daher der zwischen den Pixelgebieten erzeugte Leckstrom signifikant das grüne Pixelgebiet. In Anbetracht des Vorstehenden weist die Pixeldefinitionsschicht zwischen den Pixelgebieten, wo die Ausnehmung vorgesehen ist, gemäß der Darstellung in
10 , welche eine schematische Draufsicht ist, die den Teilaufbau einer weiteren durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigetafel zeigt, eine Pixeldefinitionsschicht um das grüne Pixelgebiet G herum. Als solches kann das Vorsehen der Ausnehmung in der Pixeldefinitionsschicht um das grüne Pixelgebiet herum die Auswirkung des zwischen dem grünen Pixelgebiet und dem Pixelgebiet, welches an das grüne Pixelgebiet angrenzt, erzeugten Leckstroms auf das grüne Pixelgebiet verringern. - Es ist anzumerken, dass die vorstehenden
8A ,8B ,9 und10 schematische Draufsichten sind, welche den Teilaufbau der Anzeigetafeln der vorliegenden Erfindung zeigen. Selbstverständlich weist die gesamte Anzeigetafel mehr Pixelgebiete auf. Beispielsweise kann für die in8A gezeigte Anzeigetafel wenigstens eine Spalte von Pixelgebieten auf der linken Seite der ersten Spalte von Pixelgebieten23 vorgesehen sein, kann auch wenigstens eine Spalte von Pixelgebieten auf der rechten Seite der dritten Spalte von Pixelgebieten23 vorgesehen sein, kann wenigstens eine Zeile von Pixelgebieten oberhalb der ersten Zeile von Pixelgebieten23 vorgesehen sein und kann wenigstens eine Zeile von Pixelgebieten auch unterhalb der zweiten Zeile von Pixelgebieten23 vorgesehen sein. Gleichermaßen können in den in8B ,9 und10 gezeigten Anzeigetafeln mehr Pixelgebiete vorgesehen sein, so dass die Anordnung der Pixelgebiete in der gesamten Anzeigetafel erhalten werden kann. - Die vorstehende Anzeigetafel kann in Abhängigkeit von spezifischen Anforderungen bei tatsächlicher Herstellung eine Berührungssensierungsfunktion aufweisen oder nicht aufweisen. Die Berührunssensierungsfunktion kann eine elektromagnetische Berührungssensierungsfunktion, eine kapazitive Berührungssensierungsfunktion oder eine hinsichtlich Elektromagnetismus und Kapazität integrierte Berührungssensierungsfunktion sein.
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ferner eine Anzeigevorrichtung bereit.
11 ist eine schematische Darstellung, welche den Aufbau einer durch die Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellten Anzeigevorrichtung zeigt. Wie in11 gezeigt, weist die Anzeigevorrichtung30 eine Anzeigetafel31 auf und kann ferner eine Ansteuerungsschaltung und andere Mittel zur Unterstützung eines normalen Betriebs der Anzeigevorrichtung aufweisen. Die Anzeigetafel31 ist die gemäß einer der vorstehenden Ausführungsformen beschriebene Anzeigetafel. Die Anzeigevorrichtung kann eine eines Mobiltelefons, eines Desktop-Computers, eines Tablet-Computers, eines elektrischen Papiers, etc. sein. - Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ferner ein Herstellungsverfahren einer Anzeigetafel bereit. Das Herstellungsverfahren ist konfiguriert, um die gemäß einer der vorstehenden Ausführungsformen beschriebene Anzeigetafel herzustellen.
12 ist ein Flussdiagramm, welches das Herstellungsverfahren der Anzeigetafel, das gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellt wird, zeigt. Wie in12 gezeigt, weist das Herstellungsverfahren der Anzeigetafel nachstehende Schritte41 bis44 auf. - Schritt
41 weist ein Bereitstellen eines Substrats auf. - Schritt
42 weist ein Ausbilden einer Pixeldefinitionsschicht auf dem Substrat auf, wobei eine Mehrzahl von Pixelgebieten in der Pixeldefinitionsschicht definiert sind bzw. werden. - Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist das Herstellungsverfahren der Anzeigetafel ferner auf: Ausbilden einer Planarisierungsschicht zwischen dem Substrat und der Pixeldefinitionsschicht. Bei Herstellung der Anzeigetafel kann auf dem Substrat eine Dünnfilmtransistorschicht ausgebildet werden, und dann werden die Planarisierungsschicht und die Pixeldefinitionsschicht nacheinander auf der Dünnfilmtransistorschicht ausgebildet. Es ist zu erwähnen, dass bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Richtung von dem Substrat zu der Pixeldefinitionsschicht als eine Aufwärtsrichtung in Bezug genommen wird und eine hierzu entgegengesetzte Richtung als eine Abwärtsrichtung in Bezug genommen wird. Die Beschreibung eines Elements als oberhalb oder unterhalb eines anderen Elements befindlich ist lediglich dazu gedacht, die relative Orientierung der Elemente zu veranschaulichen, die Elemente können in direktem Kontakt miteinander oder voneinander getrennt sein, und eine spezifische Struktur hiervon ist hierbei nicht eingeschränkt.
- Schritt
43 weist ein Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten auf. Optional ist die Tiefe der Ausnehmung größer als 0,5 µm. Optional ist die Tiefe der Ausnehmung größer als 2 µm. Optional ist die Tiefe der Ausnehmung größer als 2 µm und geringer als 6 µm. - Optional wird ist die Ausnehmung durch Verwenden eines Ätz- oder Laserbestrahlungsprozesses ausgebildet. Bei der vorliegenden Erfindung ist die Qualität der Pixeldefinitionsschicht vor Ausbilden der Ausnehmung größer als diejenige der Pixeldefinitionsschicht, die mit der Ausnehmung ausgebildet ist, d. h. die Qualität der Pixeldefinitionsschicht wird bei Ausbildung der Ausnehmung verringert. Als solches kann die Ausnehmung durch Verwenden des Ätz- oder Laserbestrahlungsprozesses, wie etwa eines Trockenätzprozesses, eines Nassätzprozesses oder eines Laserbrennprozesses ausgebildet werden, um die Ausnehmung wie vorstehend beschrieben zu erhalten.
- Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann der Schritt eines Ausbildens wenigstens einer Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten aufweisen: Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten und Ausbilden des Bodens der Ausnehmung in der Pixeldefinitionsschicht oder an einer Position, in welcher die Pixeldefinitionsschicht die Planarisierungsschicht berührt.
- Da bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die Planarisierungsschicht unterhalb der Pixeldefinitionsschicht der Anzeigetafel angeordnet ist und konfiguriert ist, um eine Oberfläche der Dünnfilmtransistorschicht unterhalb der Planarisierungsschicht zu planarisieren, kann der Schritt eines Ausbildens wenigstens einer Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten auch aufweisen: Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung, welche sich durch einen Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten hindurch oder durch jede Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten hindurch bis in die Planarisierungsschicht hinein erstreckt, und der Boden der Ausnehmung wird in der Planarisierungsschicht ausgebildet, um die Tiefe der Ausnehmung zu vergrößern.
- Schritt
44 weist ein Ausbilden einer organischen gemeinsamen Schicht auf, wobei die organische gemeinsame Schicht auf den Pixelgebieten und der Pixeldefinitionsschicht ausgebildet wird und die Ausnehmung bedeckt. - Insbesondere kann die organische gemeinsame Schicht eine Lochtransportschicht und eine Elektronentransportschicht aufweisen.
- Es wird festgehalten, dass die Reihenfolge der vorstehend beschriebenen Schritte
41 bis44 gemäß tatsächlichen Prozessbedingungen und -niveaus geeignet angepasst werden kann. Für den Fall beispielsweise, dass der Boden der Ausnehmung in der Pixeldefinitionsschicht ausgebildet wird oder an einer Position, an welcher die Pixeldefinitionsschicht die Planarisierungsschicht berührt, ausgebildet wird, kann die Ausnehmung durch Herstellen einer Pixeldefinitionsschicht mit einer ausnehmungsförmigen Struktur bzw. einer Struktur einer Form mit Ausnehmungen unter Verwendung der Halbtonmaske während Ausbildens der Pixeldefinitionsschicht ausgebildet werden. Daher ist die vorstehend beschriebene Reihenfolge der Schritte nicht hierauf beschränkt. Als solches kann die durch die Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellte Anzeigetafel durch Ausführen der vorstehend beschriebenen Schritte41 bis44 hergestellt werden, und die genaue Beschreibung für die Anzeigetafel kann sich auf die vorstehenden Ausführungsformen beziehen. - Die durch das vorstehende Herstellungsverfahren hergestellte Anzeigetafel kann als die AMOLED-Anzeigetafel verwendet werden. Anders als in dem Fall in dem Stand der Technik, in welchem eine Ausnehmung zwischen den Pixelgebieten nicht angeordnet ist, ist bei der Anzeigetafel der vorliegenden Erfindung die Ausnehmung in der Pixeldefinitionsschicht zwischen einem Teil der benachbarten Pixelgebiete angeordnet oder in der Pixeldefinitionsschicht zwischen jeweils zwei benachbarten Pixelgebieten angeordnet und ist die Ausnehmung durch die organische gemeinsame Schicht bedeckt, so dass die Länge der organischen gemeinsamen Schicht zwischen den Pixelgebieten vergrößert sein kann und somit die Widerstände sowohl der Lochtransportschicht als auch der Elektronentransportschicht zwischen den benachbarten Pixelgebieten vergrößert sein können. Wenn bei der Anzeigetafel ein Pixelgebiet aufleuchtet, kann die Übertragung der Elektronen und/oder Löcher zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und einem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet, welches an das aufleuchtende Pixelgebiet angrenzt, vermindert sein, da die Widerstände sowohl der Lochtransportschicht als auch der Elektronentransportschicht zwischen den benachbarten Pixelgebieten erhöht sind, und daher kann der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom reduziert oder gar beseitigt werden, so dass das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird.
- Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann die Pixeldefinitionsschicht zwischen einem Teil benachbarter Pixelgebiete entweder eine Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten der gleichen Farbe oder eine Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten unterschiedlicher Farben sein oder kann sowohl eine Pixeldefinitionsschicht zwischen Gebieten der gleichen Farbe als auch eine Pixeldefinitionsschicht zwischen Pixelgebieten unterschiedlicher Farben aufweisen, was hierauf nicht beschränkt ist.
- Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann die organische gemeinsame Schicht mittels Aufdampfung ausgebildet werden. Wie in
13 gezeigt, ist eine Richtung X1 der Aufdampfung zur Ausbildung der organischen gemeinsamen Schicht52 senkrecht zu dem Substrat51 . In13 repräsentiert eine Bezugsziffer521 eine Lochtransportschicht, repräsentiert eine Bezugsziffer522 eine Elektronentransportschicht, repräsentiert eine Bezugsziffer53 eine Pixeldefinitionsschicht, repräsentiert eine Bezugsziffer54 eine Ausnehmung und repräsentiert eine Bezugsziffer55 ein Pixelgebiet. Die organische gemeinsame Schicht wird mittels Aufdampfung ausgebildet und die Richtung X1 der Aufdampfung ist senkrecht zu dem Substrat51 , so dass die Dicke der organischen gemeinsamen Schicht52 , die auf einer Seitenwand der Ausnehmung54 ausgebildet wird, geringer ist als die Dicke der organischen gemeinsamen Schicht52 , die auf dem Boden der Ausnehmung54 ausgebildet wird. Daher ist der Widerstand der auf der Seitenwand der Ausnehmung54 ausgebildeten organischen gemeinsamen Schicht52 größer als der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht52 , die auf dem Boden der Ausnehmung54 ausgebildet ist und die gleiche Länge wie die auf der Seitenwand der Ausnehmung54 ausgebildeten organischen gemeinsamen Schicht52 aufweist, so dass der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom weiter verringert oder gar beseitigt werden kann und das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. - Außer dass die Richtung der Aufdampfung zur Ausbildung der organischen gemeinsamen Schicht senkrecht zu dem Substrat ist, kann auch ein Winkel zwischen der Richtung der Aufdampfung und einer Richtung senkrecht zu dem Substrat vorgesehen sein. Optional ist der Winkel ein spitzer Winkel. Da die organische gemeinsame Schicht unter Verwendung einer solchen Aufdampfung der Richtung, welche einen Winkel mit der Richtung senkrecht zu dem Substrat bildet, ausgebildet wird, kann die in der Ausnehmung ausgebildete organische gemeinsame Schicht diskontinuierlich sein und kann daher der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht zwischen den Pixelgebieten als unendlich angenommen werden, so dass der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom verhindert werden kann und das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch die Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird.
- Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann die Richtung der Aufdampfung zur Ausbildung der organischen gemeinsamen Schicht spezifischerweise durch Justieren der Position einer Aufdampfungsquelle variiert werden. Es ist dem Fachmann wohlbekannt, wie die Aufdampfungsquelle justiert wird, was hierin nicht erneut wiederholt diskutiert wird.
- Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist gemäß der Darstellung in
14 ein Winkel zwischen einer Richtung X2 einer Aufdampfung und einer Richtung X3 senkrecht zu dem Substrat51 vorgesehen und ist die Richtung X2 der Aufdampfung parallel zu einer Schrägungsrichtung der rechten Seitenwand der Ausnehmung54 . Allerdings kann die Richtung der Aufdampfung alternativ parallel zu einer Schrägungsrichtung der linken Seitenwand der Ausnehmung sein. Unter der Annahme, dass die Richtung der Aufdampfung zur Ausbildung der organischen gemeinsamen Schicht parallel zu der Schrägungsrichtung einer Seitenwand der Ausnehmung ist, wird die linke oder rechte Seitenwand der Ausnehmung durch die organische gemeinsame Schicht nicht bedeckt, d. h. ist die in der Ausnehmung ausgebildete organische gemeinsame Schicht diskontinuierlich, so dass der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht zwischen den entsprechenden Pixelgebieten unendlich wird und somit der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom verhindert werden kann und das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird. -
15 ist ein Flussdiagramm, welches ein anderes Herstellungsverfahren einer Anzeigetafel, das gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellt wird, zeigt. Wie in15 gezeigt, weist das Herstellungsverfahren der Anzeigetafel die nachstehenden Schritte61 bis63 auf. - Schritt
61 weist ein Bereitstellen eines Substrats auf. - Schritt
62 weist ein Ausbilden einer Pixeldefinitionsschicht auf dem Substrat auf, wobei eine Mehrzahl von Pixelgebieten durch die Pixeldefinitionsschicht definiert sind bzw. werden. - Schritt
63 weist ein Ausbilden einer organischen gemeinsamen Schicht auf, wobei die organische gemeinsame Schicht auf den Pixelgebieten und der Pixeldefinitionsschicht ausgebildet wird und die Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher der Pixeldefinitionsschicht entspricht, geringer ist als die Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher dem Pixelgebiet entspricht. - Die genaue Beschreibung bezüglich vorstehender Schritte
61 bis63 kann sich auf die diesbezügliche Beschreibung der Anzeigetafel in den vorstehenden Ausführungsformen beziehen, die hierin nicht wiederholt diskutiert wird. - Mit der Anzeigetafel, der Anzeigevorrichtung und dem Herstellungsverfahren der Anzeigetafel ist bei der Anzeigetafel eine Dicke wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher der Pixeldefinitionsschicht entspricht, geringer als diejenige wenigstens eines Teils der organischen gemeinsamen Schicht, welcher dem Pixelgebiet entspricht; oder ist wenigstens eine Ausnehmung in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht zwischen benachbarten Pixelgebieten oder in jeder Pixeldefinitionsschicht zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten angeordnet und bedeckt die organische gemeinsame Schicht die Ausnehmung, so dass der Widerstand der organischen gemeinsamen Schicht zwischen den Pixelgebieten erhöht sein kann und somit der zwischen dem aufleuchtenden Pixelgebiet und dem nicht aufleuchtenden Pixelgebiet erzeugte Leckstrom verringert oder gar verhindert werden kann und das nicht aufleuchtende Pixelgebiet in einem dunklen Zustand gehalten werden kann, wodurch eine Qualität eines durch die Anzeigetafel angezeigten Bildes verbessert wird.
Claims (19)
- Eine Anzeigetafel, aufweisend: ein Substrat (21; 51); eine Pixeldefinitionsschicht (22), welche auf dem Substrat (21; 51) angeordnet ist, wobei eine Mehrzahl von Pixelgebieten (23) in der Pixeldefinitionsschicht (22) definiert ist; und eine organische gemeinsame Schicht (25; 52), die auf den Pixelgebieten (23) und der Pixeldefinitionsschicht (22) angeordnet ist; und wenigstens eine Ausnehmung (24; 54), die in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen benachbarten Pixelgebieten (23) oder in jeder Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23) angeordnet ist; wobei die organische gemeinsame Schicht (25; 52) eine Lochtransportschicht (251) und eine Elektronentransportschicht (252) aufweist, eine Dicke der Lochtransportschicht (251), die eine Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, geringer als eine Dicke der Lochtransportschicht (251), die einen Boden der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, ist und eine Dicke der Elektronentransportschicht (252), die eine Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, geringer als eine Dicke der Elektronentransportschicht (252), die einen Boden der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, ist, und die organische gemeinsame Schicht (25; 52) die Ausnehmung (24; 54) teilweise bedeckt.
- Die Anzeigetafel von
Anspruch 1 , wobei die Masse der Pixeldefinitionsschicht (22) vor Ausbildung der Ausnehmung (24; 54) größer als diejenige der mit der Ausnehmung (24; 54) ausgebildeten Pixeldefinitionsschicht (22) ist. - Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei eine Tiefe der Ausnehmung (24; 54) größer als oder gleich 0,5 µm ist.
- Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Tiefe der Ausnehmung (24; 54) größer als oder gleich 2 µm ist.
- Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Tiefe der Ausnehmung (24; 54) größer als 2 µm und geringer als 6 µm ist.
- Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Anzeigetafel ferner eine Planarisierungsschicht (27) aufweist, welche zwischen dem Substrat (21; 51) und der Pixeldefinitionsschicht (22) angeordnet ist.
- Die Anzeigetafel von
Anspruch 6 , wobei ein Boden der Ausnehmung (24; 54) in der Pixeldefinitionsschicht (22) angeordnet ist oder an einer Position angeordnet ist, an welcher die Pixeldefinitionsschicht (22) die Planarisierungsschicht (27) berührt. - Die Anzeigetafel von
Anspruch 6 , wobei die Ausnehmung (24; 54) sich durch die Pixeldefinitionsschicht (22) hindurch erstreckt und sich in die Planarisierungsschicht (27) hinein erstreckt und der Boden der Ausnehmung (24; 54) in der Planarisierungsschicht (27) angeordnet ist. - Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen einem Teil benachbarter Pixelgebiete (23) eine Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen Pixelgebieten (23) der gleichen Farbe und/oder eine Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen Pixelgebieten (23) unterschiedlicher Farben aufweist.
- Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen einem Teil benachbarter Pixelgebiete (23) eine Pixeldefinitionsschicht (22) um ein grünes Pixelgebiet (23) herum ist.
- Die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Pixelgebiete (23) als eine Matrix angeordnet sind und die Ausnehmung (24; 54) in der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen Pixelgebieten (23) unterschiedlicher Farben angeordnet ist oder in der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen jeweils zwei benachbarten Pixelgebieten (23) angeordnet ist; oder die Pixelgebiete (23) in einer versetzten Weise angeordnet sind und die Ausnehmung (24; 54) in der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen jeweils zwei benachbarten Pixelgebieten (23) vorgesehen ist.
- Eine Anzeigevorrichtung aufweisend die Anzeigetafel eines der vorstehenden Ansprüche.
- Ein Herstellungsverfahren einer Anzeigetafel, aufweisend: Bereitstellen eines Substrats (21; 51); Ausbilden einer Pixeldefinitionsschicht (22) auf dem Substrat (21; 51) mit einer Mehrzahl von in der Pixeldefinitionsschicht (22) definierten Pixelgebieten (23); Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung (24; 54) in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen benachbarten Pixelgebieten (23) oder in jeder Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23); und Ausbilden einer organischen gemeinsamen Schicht (25; 52), wobei die organische gemeinsame Schicht (25; 52) auf den Pixelgebieten (23) und der Pixeldefinitionsschicht (22) ausgebildet wird; wobei die organische gemeinsame Schicht (25; 52) eine Lochtransportschicht (251) und eine Elektronentransportschicht (252) aufweist, eine Dicke der Lochtransportschicht (251), die eine Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, geringer als eine Dicke der Lochtransportschicht (251), die einen Boden der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, ist und eine Dicke der Elektronentransportschicht (252), die eine Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, geringer als eine Dicke der Elektronentransportschicht (252), die einen Boden der Ausnehmung (24; 54) bedeckt, ist, und die organische gemeinsame Schicht (25; 52) die Ausnehmung (24; 54) die Ausnehmung (24; 54) teilweise bedeckt.
- Das Herstellungsverfahren von
Anspruch 13 , wobei die Ausnehmung (24; 54) durch einen Ätz- oder Laserbestrahlungsprozess ausgebildet wird. - Das Herstellungsverfahren von
Anspruch 13 oder14 , weiter aufweisend: Ausbilden einer Planarisierungsschicht (27) zwischen dem Substrat (21; 51) und der Pixeldefinitionsschicht (22). - Das Herstellungsverfahren von
Anspruch 15 , wobei das Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung (24; 54) in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen benachbarten Pixelgebieten (23) oder in jeder Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23) aufweist: Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung (24; 54) in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen benachbarten Pixelgebieten (23) oder in jeder Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23) und Ausbilden des Bodens der Ausnehmung (24; 54) in der Pixeldefinitionsschicht (22) oder an einer Position, an welcher die Pixeldefinitionsschicht (22) die Planarisierungsschicht (27) berührt. - Das Herstellungsverfahren von
Anspruch 15 , wobei das Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung (24; 54) in einem Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen benachbarten Pixelgebieten (23) oder in jeder Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23) aufweist: Ausbilden wenigstens einer Ausnehmung (24; 54), wobei die Ausnehmung (24; 54) sich durch einen Teil der Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen den benachbarten Pixelgebieten (23) oder durch jede Pixeldefinitionsschicht (22) zwischen zwei benachbarten Pixelgebieten (23) hindurch erstreckt und sich in die Planarisierungsschicht (27) hinein erstreckt und der Boden der Ausnehmung (24; 54) in der Planarisierungsschicht (27) ausgebildet wird. - Das Herstellungsverfahren eines der
Ansprüche 13 bis17 , wobei die organische gemeinsame Schicht (25; 52) mittels Aufdampfung ausgebildet wird und eine Richtung der Aufdampfung senkrecht zu dem Substrat (21; 51) ist; oder ein Winkel zwischen der Richtung der Aufdampfung und einer Richtung senkrecht zu dem Substrat (21; 51) vorgesehen ist, wobei der Winkel ein spitzer Winkel ist. - Das Herstellungsverfahren von
Anspruch 18 , wobei ein Winkel zwischen der Richtung der Aufdampfung und einer Richtung senkrecht zu dem Substrat (21; 51) vorgesehen ist und die Richtung der Aufdampfung parallel zu einer Schrägungsrichtung einer Seitenwand der Ausnehmung (24; 54) ist.
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