CN105552107A - 一种显示面板、制作方法以及电子设备 - Google Patents

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Tianma Microelectronics Co Ltd
Shanghai Tianma AM OLED Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种显示面板、电子设备以及制作方法，该显示面板包括：基板；设置在基板同一侧的阳极层以及阴极层，阳极层以及阴极层在垂直于基板的方向上相对设置；阳极层设置在所述基板与所述阴极层之间，且阳极层分割为多个阳极；设置上在所述阳极层与所述阴极层之间的发光功能层，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；至少两个在第一方向上相邻的像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。该显示面板避免了泄漏发光问题，保证了图像显示的效果。

Description

一种显示面板、制作方法以及电子设备
技术领域
本发明涉及显示装置技术领域，更具体的说，涉及一种显示面板、制作方法以及电子设备。
背景技术
近年来，LCD显示器以及OLED显示器等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，成为显示器市场中的主流产品。其中，OLED显示器具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、可视角范围广、使用温度范围宽、可实现柔性显示以及大面积全色显示等诸多优点，被业界认为是最优发展潜力的显示器。
OLED显示器件的主要结构是OLED器件，OLED器件包括相对设置的阳极与阴极；以及设置在阳极与阴极之间的功能层。OLED器件的发光原理是半导体材料和有机发光材料在阴极与阳极之间的电场驱动下，通过载流子注入和复合进而发光。
随着显示器的分辨率不断提高，像素单元的个数也在不断增加，使得像素单元之间的间隔逐渐减小。另外，随着用于OLED显示器的发光材料的发光效率提高，能够通过低电流和低电压实现高亮度，从而降低功耗。由于像素单元之间的间隔减小以及发光材料在少量电流的情况下即可发光的原因，所以从一个像素单元泄漏到另一个相邻像素单元的少量电流会导致上述高发光效率的发光材料发光，造成应该发光的相邻像素单元发光。因泄漏电流而发射的光被称为泄漏发光现象。如果发生了泄漏发光，会影响OLED显示器的图像显示效果。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板、制作方法以及电子设备，避免了因漏电流而导致的泄漏发光问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种显示面板，该显示面板包括：
基板；
设置在所述基板同一侧的阳极层以及阴极层，所述阳极层以及阴极层在垂直于所述基板的方向上相对设置；所述阳极层设置在所述基板与所述阴极层之间，且所述阳极层分割为多个阳极；
设置上在所述阳极层与所述阴极层之间的发光功能层，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；
其中，至少两个在第一方向上相邻的像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。
本发明还提供了一种电子设备，该电子设备包括：上述显示面板。
本发明还提供了一种制作方法，用于制作上述显示面板，该制作方法包括：
提供一基板；
在所述基板表面形成阳极层；
图案化所述阳极层，形成多个成阵列排布的阳极；
在图案化的阳极层表面形成发光功能层；
在所述发光功能层表面形成阴极层；
其中，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；在第一方向上相邻的两个像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。
通过上述描述可知，本发明提供的显示面板在第一方向上相邻的像素单元之间设置有隔断结构，用于使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开，这样，就可以避免这两个像素单元由于像素单元之间间隔较小而导致的泄漏发光问题，保证了图像显示的效果。本发明所述制作方法可采用成熟的光刻以及蒸镀工艺制备上述显示面板，制作工艺简单，制作成本低。本发明所述电子设备具有上述显示面板，因此具有较好的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的一种显示面板的俯视图；
图4为本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视图；
图5a为本申请实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图5b为本申请实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图6为本申请实施例提供的一种制作方法的流程示意图；
图7为本申请实施例提供的一种形成发光功能层的原理示意图；
图8为本申请实施例提供的一种形成发光功能层以及阴极层方法的流程示意图；
图9为本申请实施例提供的一种制作凸起结构方法的流程示意图；
图10为本申请实施例提供的另一种制作凸起结构方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
正如背景技术中所述，现有的显示面板随着分辨率不断提高，像素单元的个数也在不断增加，使得像素单元之间的间隔逐渐减小。另外，随着用于OLED显示器的发光材料的发光效率提高，能够通过低电流和低电压实现高亮度，从而降低功耗。所以从一个像素单元泄漏到另一个相邻像素单元的少量电流会导致上述高发光效率的发光材料发光，造成应该发光的相邻像素单元发光，从而导致泄漏发光问题。而泄漏发光问题会影响OLED显示器的图像显示效果。
为了解决上述问题，本申请实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括：
基板；
设置在所述基板同一侧的阳极层以及阴极层，所述阳极层以及阴极层在垂直于所述基板的方向上相对设置；所述阳极层设置在所述基板与所述阴极层之间，且所述阳极层分割为多个阳极；
设置上在所述阳极层与所述阴极层之间的发光功能层，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；
其中，至少两个在第一方向上相邻的像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。
所述显示面板在第一方向上相邻的像素单元之间设置有隔断结构，用于使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开，从而可以阻断相邻两个像素单元之间的漏电通道，消除二者之间的漏电流，这样，就可以避免这两个像素单元由于像素单元之间间隔较小而导致的泄漏发光问题，保证了图像显示的效果。
为了使本发明实施例提供的技术方案更加清楚，下面结合附图对上述方案进行详细描述。
参考图1，图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图，该显示面板包括：基板11；设置在所述基板11同一侧的阳极层12以及阴极层13，所述阳极层12以及阴极层13在垂直于所述基板的方向上相对设置；设置上在所述阳极层12与所述阴极层13之间的发光功能层，所述发光功能层包括至少一层子功能层。所述基板11为包括多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管用于显示驱动和/或触控驱动。
图1中示出了所述发光功能层两层子功能层，该两层子功能层包括有机发光层14以及空穴传输层15。需要说明的是，所述发光功能层的结构包括但不局限于图1所示实施方式。
所述阳极层12设置在所述基板11与所述阴极层13之间，且所述阳极层12分割为多个阳极。
所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置。图1所示实施方式中，示出了红色像素单元R、绿色像素单元G以及蓝色像素单元B三个在第一方向X上相邻的像素单元。
其中，至少两个在第一方向X上相邻的像素单元之间设置有隔断结构16；所述隔断结构16使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向X平行于所述基板11。
图1所示实施方式中，在第一方向X上相邻的任意两个像素单元之间均设置有隔断结构16。隔断结构16用于使得发光功能层的所有子功能层在第一方向X上相邻的两个像素单元之间均断开。
可选的，在所述第一方向X上相邻的两个像素单元之间具有像素定义结构17。其中，所述阳极12包括：发光区121以及连接区122。其中，所述连接区122用于与薄膜晶体管电连接。
在垂直于所述基板11的方向上，所述像素定义结构17在所述基板11表面的投影与所述发光区121在所述基板11表面的投影不交叠。所述像素定义结构17用于在基板11表面形成多个阵列排布的像素区域，用于设置像素单元对应的阴极层以及发光功能层。
为了保证发光效率，在垂直于所述基板11的方向上，所述隔断结构16在所述基板11表面的投影与所述发光区121在所述基板11表面的投影不交叠。
图1所示实施方式中，所述隔断结构16是设置在两个像素单元的同一层子功能层之间的开口；所述开口位于所述像素定义结构17背离所述基板11的一侧。具体的，所述隔断结构16为设置在子功能层上的开口，用于使得子功能层在两个像素单元之间断开。当隔断结构16为开口时，使得隔断结构16的制作工艺简单。在形成该开口时，只需要通过采用预设形状的掩膜版即可形成隔断结构，无需通过刻蚀工艺隔断发光功能层，避免了由于过刻蚀对阳极层的损坏。
对于在第一方向X上相邻的两个像素单元：所述隔断结构16还用于使得所述阴极层13在该两个像素单元之间断开。
需要说明的是，本申请实施例的附图中为了便于进行图示说明，定义第一方向X、与第三方向Y以及第二方向Z构成XYZ坐标系。其中，上述垂直于基板的方向为第三方向Y。
在其他实施方式中，所述阴极层还可为一整层结构，即阴极层在像素单元之间不断，此时，显示面板的结构如图2所示，图2为本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。
在上述显示面板中，隔断结构可以第二方向Z延伸，所述第二方向Z垂直于所述第一方向X。其中，所述显示面板包括显示区。所述像素单元设置在所述显示区。此时，所述隔断结构的设置方式可以如图3与图4所示。
参考图3，图3为本申请实施例提供的一种显示面板的俯视图，所示显示面板包括：设置在显示区的多个阵列排布的像素单元31。在第一方向X上相邻的像素单元31之间设置有隔断结构。该实施方式中，所述隔断结构16贯穿所述显示区。具体的，所述阵列的行方向平行于第一方向X，列方向平行于第二方向Z。在两列像素单元之间设置有隔断结构16，该隔断结构16贯穿相邻两列像素单元之间的区域。
参考图4，图4为本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视图，与图3不同之处在于，图4所示实施方式中，隔断结构16贯穿在所述第一方向X上相邻的两个像素单元31的相对区域。隔断结构16在两行像素单元之间断开。
可选的，本申请实施例所述显示面板中，所述像素单元包括第一颜色像素单元，在所述第一方向上，所述第一颜色像素单元与两侧相邻的其他像素单元之间设置有所述隔断结构。具体的，所述显示面板包括红色像素单元、绿色像素单元以及蓝色像素单元。其中，所述第一颜色像素单元为绿色像素单元。人眼对绿光波段感应较为敏感，通过设置隔断结构使得绿色像素单元与第一方向上两侧的其他颜色像素单元隔离，能够防止绿色像素单元因漏电流而漏光，保证图像显示效果。如果第一方向上两个相邻的像素单元之间的距离小于预设距离，则在该两个像素单元之间设置隔断结构。像素单元的距离发光区之间的间距。可选的所述预设距离为80μm。
一般的，当显示面板的多个像素单元成阵列排布时，两行像素单元之间需要设置栅极线以及薄膜晶体管等结构，因此在列方向上两相邻像素单元之间的间距较大，二者之间的泄漏电流不足以引发泄漏发光问题。而两列像素单元之间的间距较小，为了提高显示面板的分别率，会大大压缩在行方向上相邻的两像素单元之间的间距。故本申请实施例中，优选的在行方向上相邻的两个像素单元之间设置隔断结构，以防止泄露发光问题。
本申请实施例中，所述隔断结构还可以为凸起结构。此时，所述显示面板的结构如图5a或是图5b所示。图5a以及图5b所示显示面板与上述各个实施例不同在于隔断结构的实现方式不同。在图1与图2所示实施方式中，隔断结构16为设置在发光功能层上的开口。在图5a以及图5b所示实施方式中，隔断结构16为设置在两个像素单元之间的凸起结构；所述凸起结构位于所述像素定义结构背离所述基板的一侧；所述凸起结构用于使得所述两个像素单元的阴极相互隔断以及发光功能层相互隔断。具体的，图5a中，隔断结构16与像素定义结构17采用同一介质层制备而成；图5b中，隔断结构16与像素定义结构17采用不同的介质层制备而成。
本申请实施例所述显示面板中，对于图1以及图2所示结果的显示面板可以通过采用设定形状的掩膜版蒸镀发光功能层，在发光功能层上形成开口状的隔断结构。而对于图5所示结构的显示面板，可以通过光刻工艺形成凸起结构的隔断结构，该凸起结构能够在后续蒸镀形成发光功能层以及阴极层时，使得发光功能层以及阴极层在该凸起结构的位置断开。
本申请实施例所述显示面板中，隔断结构设置在像素定义结构上，不影响像素单元的开口率以及显示面板的分别率。通过形成在发光功能层上的隔断结构阻断两个像素单元之间的漏电流，而非通过隔断阴极层的方式阻断漏电流，漏电流的阻断效果更佳有效。且无需额外的布线，制作工艺简单，不会损失开口率以及分辨率。
通过上述描述可知，本申请实施例所述显示面板通过设置隔断结构阻断第一方向上相邻两个像素单元之间的漏电通道，消除二者之间的漏电流，这样，就可以避免这两个像素单元由于像素单元之间间隔较小而导致的泄漏发光问题，保证了图像显示的效果。所述显示面板可以采用现有的半导体制作工艺制备，制作工艺简单，制作成本较低。
基于上述显示面板实施例，本申请另一实施例还提供了一种电子设备，该电子设备包括上述实施例所述的显示面板。
所述电子设备可以为手机、笔记本电脑、平板电脑以及电视等具有显示功能的电子设备。所述电子设备采用上述实施例所述的显示面板，图像显示效果较好，制作成本低。
基于上述显示面板实施例，本申请另一实施例还提供了一种制作方法，用于制作上述实施例所述的显示面板。该制作方法如图6所示。
参考图6，图6为本申请实施例提供的一种制作方法的流程示意图，该制作方法包括：
步骤S11：提供一基板。
所述基板为TFT阵列基板，包括多个薄膜晶体管。所述薄膜晶体管用于显示驱动和/或触控驱动。
步骤S12：在所述基板表面形成阳极层。
如上述，基板为TFT阵列基板。当形成阳极层时，需要在基板表面形成一层绝缘层。并通过光刻工艺对绝缘层进行刻蚀，形成通孔。然后在形成有通孔的绝缘层表面形成阳极层。可以通过蒸镀工艺形成所述阳极层。阳极层通过该所述通孔与对应的薄膜晶体管点连接。
步骤S13：图案化所述阳极层，形成多个成阵列排布的阳极。
可以通过光刻工艺图案化所述阳极层，形成多个阳极。具体的，一个阳极对应一个像素单元。
步骤S14：在图案化的阳极层表面形成发光功能层。
其中，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；在第一方向上相邻的两个像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。
通过隔断结构，使得在第一方向上相邻的两个像素单元的至少一层子功能层在该两个像素单元之间断开，从而消除该两个像素单元之间发生电流泄漏的问题，避免泄漏发光的问题，可以保证最终制备的显示面板的图像显示效果。
步骤S15：在所述发光功能层表面形成阴极层。
阴极层可以分为多个与阳极一一对应的阴极单元，也可以为一整层导电层结构。
所述制作方法在图案化所述阳极层后，在图案化的阳极层表面形成发光功能层之前，还包括形成像素定义结构。形成像素定义结构方法包括：
步骤S21：在所述阳极层的一侧形成像素定义层。
步骤S22：图案化所述像素定义层，以暴露出对应所述像素单元的至少部分所述阳极层。暴露的阳极层为阳极的发光区。
可以通过光刻工艺图案化所述像素定义层。图案化后的像素定义层后，形成像素定义结构。像素定义结构形成多个像素区域。所述像素区域与显示面板的像素单元一一对应。
像素定义层被刻蚀的部分用于形成与像素单元一一对应的像素开口区，未被刻蚀的部分形成所述像素定义结构，所述像素定义结构上方用于形成隔断结构。
可选的，在所述制作方法中，设置有所述隔断结构的子功能层的形成过程包括：通过蒸镀工艺，采用设定形状的掩膜版形成所述子功能层。其中，所述掩膜版包括沿第二方向Z延伸的条形遮挡区域，在蒸镀形成所述子功能层时，所述条形遮挡区域用于在所述子功能层上形成开口。
一般的，发光功能层包括多层子功能层。可以通过蒸镀工艺采用掩膜版形成需要形成开口作为隔断结构的子功能层。
可选的，所述在所述发光功能层表面形成阴极层包括：通过蒸镀工艺，采用所述掩膜版在所述发光功能层表面形成所述阴极层。其中，在蒸镀形成所述阴极层时，所述条形遮挡区域用于在所述阴极层上形成开口；在垂直于所述基板的方向上，所述阴极层上的开口与所述子功能层上的开口相对设置。该实施方式中，阴极层与发光功能层的预设子功能层采用相同的掩膜版进行蒸镀，形成开口，减少了掩膜版的使用，降低了制作成本。采用该实施方式，可以形成如图1所示的显示面板。
可选的，所述在所述发光功能层表面形成阴极层包括：通过蒸镀工艺，在所述发光功能层表面形成阴极层。该实施方式中，只在发光功能层的预设子功能层形成开口，而阴极是直接蒸镀的整层导电层。采用该实施方式，可以形成如图2所示的显示面板。
在上述制作方法中，隔断结构为形成设置在发光功能层上的开口。通过蒸镀工艺，采用预设结构的掩膜版在发光功能层上形成开口作为隔断结构。需要说明的是，本领域内技术人员应该理解，上述采用预设结构的掩膜版对发光功能层进行蒸镀以形成开口的方式只是本发明的优选实施例，本发明的在发光功能层上形成开口的制作方法还可以是采用整面沉积发光功能层，然后对沉积的发光功能层进行光刻方式或者激光(laser)镭射方式进行图案化处理。与此同时，在技术和工艺条件允许的情况下，上述在阴极层形成开口的制作方法也可以是采用整面沉积阴极层，然后对沉积的阴极层进行光刻或激光镭射方式进行图案化处理。具体视情况而定，本发明对此不作限制。
在其他实施方式中，隔断结构还可以为形成两像素单元之间的凸起结构，此时，上述制作方法中，所述在图案化的阳极层表面形成发光功能层，在所述发光功能层表面形成阴极层的方法如图8。
当隔断结构为设置在发光功能层上的开口时，如上述，可以通过预设形状的掩膜版形成发光功能层，该条形掩膜版的结构如图7所示，图7为本申请实施例提供的一种形成发光功能层的原理示意图。在第一方向X上相邻的两像素单元31的发光功能层形成开口作为隔断结构，可以采用蒸镀工艺形成发光功能层，在进行蒸镀形成发光功能层时，采用掩膜版71进行蒸镀。掩膜版71具有沿第二方向Z延伸的条形遮挡区域72，在蒸镀形成所述子功能层时，所述条形遮挡区域能够在所述子功能层上形成沿第二方向延伸的开口。此时，行形成的显示面板的结构如图3所述。
参考图8，图8为本申请实施例提供的一种形成发光功能层以及阴极层方法的流程示意图，该方法包括：
步骤S31：在所述阳极层表面形成像素隔离结构以及位于所述像素隔离结构表面的凸起结构。
步骤S32：通过蒸镀工艺，在所述基板设置有所述阳极层的一侧形成发光功能层以及阴极层，所述发光功能层位于所述阴极层与所述阳极层之间。
其中，所述凸起结构用于使得所述发光功能层以及所述阴极层在与所述凸起结构相对的位置处断开。当凸起结构的高度大于预设高度值且侧面与底面夹角大于预设角度时，蒸镀发光功能层以及阴极时，凸起结构会使得发光功能层和阴极层在凸起位置断裂。该实施方式制备如图5所示的显示面板。发光功能层的所有子功能层均会由于该凸起结构的作用发生断裂，从而避免凸起结构两侧的两个像素单元之间发生电流泄漏问题，避免了泄漏发光的问题。
可选的，所述预设高度为2μm。所述预设角度为85°。需要说明的是，当预设角度大于90°时，凸起结构在图5表示为倒置的梯形结构，即凸起结构的上表面长度大于下表面长度。
图8所示实施方式中，形成凸起结构的方法可以如图9与图10所示。
参考图9，图9为本申请实施例提供的一种制作凸起结构方法的流程示意图，该方法包括：
步骤S41：在所述阳极层表面形成第一介质层。
步骤S42：通过第一次光刻工艺图案化所述第一介质层，形成像素隔离结构。
步骤S43：在所述像素隔离结构表面形成第二介质层。
步骤S44：通过第二次光刻工艺图案化所述第二介质层，形成所述凸起结构。
该实施方式中，第一光刻形成像素隔离结构，第二次光刻形成凸起结构。第一介质层与第二介质层的材料可以相同或是不同，该实施方式制备如图5a或图5b所示的显示面板。
参考图10，图10为本申请实施例提供的另一种制作凸起结构方法的流程示意图，该方法包括：
步骤S51：在阳极层表面形成介质层；
步骤S52：采用具有不同透光率的掩膜版进行一次光刻工艺，同时形成所述像素隔离结构以及所述凸起结构。
该实施方式中，采用一层介质层，通过该具有不同透光率的掩膜版，进行一次光刻即可同时形成所述像素隔离结构以及所述凸起结构，该实施方式制备如图5a所示的显示面板。
通过上述描述可知，本申请实施例所述制作方法通过现有的半导体制作工艺即可形成上述实施例所述的显示面板，制作工艺简单，制作成本较低。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (19)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
设置在所述基板同一侧的阳极层以及阴极层，所述阳极层以及阴极层在垂直于所述基板的方向上相对设置；所述阳极层设置在所述基板与所述阴极层之间，且所述阳极层分割为多个阳极；
设置上在所述阳极层与所述阴极层之间的发光功能层，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；
其中，至少两个在第一方向上相邻的像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述第一方向上相邻的两个所述像素单元之间具有像素定义结构；
其中，所述阳极包括：发光区；在垂直于所述基板的方向上，所述像素定义结构在所述基板表面的投影与所述发光区在所述基板表面的投影不交叠。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述基板的方向上，所述隔断结构在所述基板表面的投影与所述发光区在所述基板表面的投影不交叠。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构还用于使得所述阴极层在所述两个像素单元之间断开。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构沿第二方向延伸，所述第二方向垂直于所述第一方向；
其中，所述显示面板包括显示区；所述隔断结构贯穿在所述第一方向上相邻的两个像素单元的相对区域。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构贯穿所述显示区。
7.根据权利要求5或6所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构是设置在两个像素单元的同一层子功能层之间的开口；所述开口位于所述像素定义结构背离所述基板的一侧。
8.根据权利要求5或6所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构是设置在两个像素单元之间的凸起结构；所述凸起结构位于所述像素定义结构背离所述基板的一侧；所述凸起结构用于使得所述两个像素单元的阴极相互隔断以及发光功能层相互隔断。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素单元包括第一颜色像素单元，在所述第一方向上，所述第一颜色像素单元与两侧相邻的其他像素单元之间设置有所述隔断结构。
10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一方向上相邻的两个像素单元之间的距离小于预设距离。
11.一种电子设备，其特征在于，包括：如权利要求1-10任一项所述的显示面板。
12.一种制作方法，用于制作如权利要求1-10任一项所述的显示面板，其特征在于，该制作方法包括：
提供一基板；
在所述基板表面形成阳极层；
图案化所述阳极层，形成多个成阵列排布的阳极；
在图案化的阳极层表面形成发光功能层；
在所述发光功能层表面形成阴极层；
其中，所述发光功能层包括至少一层子功能层；所述发光功能层划分为成阵列排布的多个像素单元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素单元与所述阳极一一相对设置；在第一方向上相邻的两个像素单元之间设置有隔断结构；所述隔断结构使得至少一层子功能层在所述两个像素单元之间断开；所述第一方向平行于所述基板。
13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述在图案化的阳极层表面形成发光功能层之前，还包括：
在所述阳极层的一侧形成像素定义层；
图案化所述像素定义层，以暴露出对应所述像素单元的至少部分所述阳极层。
14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，设置有所述隔断结构的子功能层的形成过程包括：
通过蒸镀工艺，采用设定形状的掩膜版形成所述子功能层；
其中，所述掩膜版包括沿第二方向延伸的条形遮挡区域，在蒸镀形成所述子功能层时，所述条形遮挡区域用于在所述子功能层上形成开口。
15.根据权利要求14所述的制作方法，其特征在于，所述在所述发光功能层表面形成阴极层包括：
通过蒸镀工艺，采用所述掩膜版在所述发光功能层表面形成所述阴极层；
其中，在蒸镀形成所述阴极层时，所述条形遮挡区域用于在所述阴极层上形成开口；在垂直于所述基板的方向上，所述阴极层上的开口与所述子功能层上的开口相对设置。
16.根据权利要求14所述的制作方法，其特征在于，所述在所述发光功能层表面形成阴极层包括：
通过蒸镀工艺，在所述发光功能层表面形成阴极层。
17.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述在图案化的阳极层表面形成发光功能层，在所述发光功能层表面形成阴极层包括：
在所述阳极层表面形成像素隔离结构以及位于所述像素隔离结构表面的凸起结构；
通过蒸镀工艺，在所述基板设置有所述阳极层的一侧形成发光功能层以及阴极层，所述发光功能层位于所述阴极层与所述阳极层之间；
其中，所述凸起结构用于使得所述发光功能层以及所述阴极层在与所述凸起结构相对的位置处断开。
18.根据权利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述在所述阳极层表面形成像素隔离结构以及位于所述像素隔离结构表面的凸起结构包括：
在所述阳极层表面形成第一介质层；
通过第一次光刻工艺图案化所述第一介质层，形成像素隔离结构；
在所述像素隔离结构表面形成第二介质层；
通过第二次光刻工艺图案化所述第二介质层，形成所述凸起结构。
19.根据权利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述在所述阳极层表面形成像素隔离结构以及位于所述像素隔离结构表面的凸起结构包括：
在阳极层表面形成介质层；
采用具有不同透光率的掩膜版进行一次光刻工艺，同时形成所述像素隔离结构以及所述凸起结构。
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