CN111584551B - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例提供的显示面板，包括平坦化层、阳极层、像素定义层和发光器件层。所述像素定义层远离所述第一面的一侧设置有至少两个容纳槽，所述容纳槽与容纳槽之间的第一面设置有开口，所述容纳槽由所述像素定义层远离所述第一面的一侧延伸至所述平坦化层。通过在像素定义层设置容纳槽，可以增大发光器件层与像素定义层之间的接触面积，改善在卷曲时易发生的膜层脱落问题，防止因膜层脱落而影响显示效果。并且容纳槽延伸至平坦化层，能够更好的增大发光器件层与下方膜层的结合力，进一步防止了膜层脱落。

Description

一种显示面板及显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
在有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix organic light-emitting diode,AMOLED)面板结构中，有机电致发光半导体(Organic Light-Emitting Diode，OLED)面板从之前的固态弯折(SF)到动态弯折(DF)，再到现在的卷轴(Rollable)显示器技术，但卷轴显示器卷曲时常出现膜层脱落问题，实验结果表明，脱落膜层常发生在像素定义层与发光器件层。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及显示装置，能够改善发光器件层与像素定义层之间的脱落问题。
本申请提供一种显示面板，包括：
平坦化层，所述平坦化层包括相对设置的第一面和第二面；
阳极层，所述阳极层部分覆盖所述第一面；
像素定义层，所述像素定义层覆盖所述第一面和所述阳极层，所述像素定义层远离所述第一面的一侧设置有至少两个容纳槽，所述容纳槽与容纳槽之间的第一面设置有开口，所述容纳槽由所述像素定义层远离所述第一面的一侧延伸至所述平坦化层；
发光器件层，所述发光器件层设置在所述容纳槽和所述开口中，且覆盖所述像素定义层远离所述平坦化层的一面。
在一些实施例中，所述容纳槽包括凹槽和通孔；所述凹槽设置在所述平坦化层；所述通孔贯穿所述像素定义层与所述凹槽连通。
在一些实施例中，所述通孔底部的平坦化层设置有至少两个凹槽，所述凹槽排列为锯齿状、波浪状、脉冲状或凹凸折线状任一种。
在一些实施例中，所述通孔的底部周缘与所述凹槽的顶部周缘对应。
在一些实施例中，所述容纳槽的侧壁设有至少两个子凹槽。
在一些实施例中，所述开口与开口之间的第一面设置有至少两个容纳槽。
在一些实施例中，所述开口对应所述阳极层设置；所述发光器件层通过所述开口与所述阳极层连接。
在一些实施例中，所述容纳槽的底面和侧壁形成的角度为90°至155°。
在一些实施例中，还包括依次层叠设置的基板、缓冲层、阵列电路层；所述平坦化层设置在所述阵列电路层上。
本申请提供一种显示装置，包括卷轴和显示面板；所述卷轴内部设置有电池以及电路组件；所述显示面板一端与所述卷轴连接，所述显示面板可绕所述卷轴卷曲或者展开，所述显示面板为以上所述的显示面板。
本申请实施例提供的显示面板，包括平坦化层、阳极层、像素定义层和发光器件层。所述像素定义层远离所述第一面的一侧设置有至少两个容纳槽，所述容纳槽与容纳槽之间的第一面设置有开口，所述容纳槽由所述像素定义层远离所述第一面的一侧延伸至所述平坦化层。通过在像素定义层设置容纳槽，可以增大发光器件层与像素定义层之间的接触面积，改善在卷曲时易发生的膜层脱落问题，防止因膜层脱落而影响显示效果。并且容纳槽延伸至平坦化层，能够增大发光器件层与平坦化层的结合力，减小对像素定义层的影响，且进一步防止了膜层脱落。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的显示面板的第一种结构示意图；
图2为本申请实施例提供的显示面板的第二种结构示意图；
图3为本申请实施例提供的显示面板的局部示意图；
图4为本申请实施例提供的容纳槽的一种结构示意图；
图5为本申请实施例提供的显示面板制程方法的一种流程示意图；
图6为本申请实施例提供的显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
需要说明的是，在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
本申请实施例提供一种显示面板及显示装置，以下对显示面板做详细介绍。
请参阅图1，图1是本申请实施例中的显示面板10的第一种结构示意图。其中，显示面板10包括基板101、缓冲层102、阵列电路层103、平坦化层104、阳极层105、像素电极层106以及发光器件层107。缓冲层102设置在基板101上，阵列电路层103设置在缓冲层102上，平坦化层104设置在阵列电路层103上，阳极层105设置在平坦化层104上，且阳极层105部分覆盖平坦化层104，像素电极层106覆盖阳极层105和平坦化层104，发光器件层107设置在像素定义层106上。
其中，基板101包括依次层叠设置的第一聚酰亚胺层1011、隔离层1012、无机层1013以及第二聚酰亚胺层1014。
其中，阵列电路层103包括半导体层1031、第一栅极绝缘层1032、第一栅极层1033、第二栅极绝缘层1034、第二栅极层1035、层间绝缘层1036以及源漏极层1037。半导体层1031设置在缓冲层102上且部分覆盖缓冲层102；第一栅极绝缘层1032覆盖缓冲层102和半导体层1031；第一栅极层1033对应半导体层1031设置，且部分覆盖第一栅极绝缘层1032；第二栅极绝缘层1034覆盖第一栅极绝缘层1032和第一栅极层1033；第二栅极层1035对应第一栅极层1033设置，且部分覆盖第二栅极绝缘层1034；层间绝缘层1036覆盖第二栅极绝缘层1034和第二栅极层1035；源漏极层1037部分覆盖层间绝缘层1036且穿过层间绝缘层1036、第二栅极绝缘层1034以及第一栅极绝缘层1032与半导体层1031连接；平坦化层104覆盖源漏极层1037和层间绝缘层1036。
其中，平坦化层104包括相对设置的第一面104a和第二面104b。阳极层105部分覆盖第一面104a。像素定义层106覆盖第一面104a和阳极层105，像素定义层106远离第一面104a的一侧设置有至少两个容纳槽108，容纳槽108与容纳槽108之间的第一面104a设置有开口109，容纳槽108由像素定义层106远离第一面104a的一侧延伸至平坦化层104。发光器件层107设置在容纳槽108和开口109中，且覆盖像素定义层106远离平坦化层104的一面。
需要说明的是，第一面104a可以为平坦化层104的上表面，第二面104b可以为平坦化层104的下表面。当然，第一面104a也可以为平坦化层104的下表面，第二面104b可以为平坦化层104的上表面。本申请实施例中不做特殊说明的情况下，默认为第一面104a为平坦化层104的上表面，第二面104b为平坦化层104的下表面。
其中，阳极层105穿过平坦化层104与源漏极层1037连接。
其中，容纳槽108包括凹槽1081和通孔1082。凹槽设置在平坦化层104，通孔1082贯穿像素定义层106与凹槽1081连通。先采用掩膜的方法在平坦化层104上设置凹槽1081。在沉积阳极层105和像素定义层106之后再采用掩膜的方法在像素定义层106上设置通孔1082和开口109。通孔1082与凹槽1081连通组成容纳槽108。通过两步制程分别设置凹槽1081和通孔1082，可以使容纳槽108的形状更为可控，因为若直接在像素定义层106设置好之后在进行掩膜挖孔，难以达到理想的深度，并且深度过深的情况下，底面的形状难以控制。另外，采用两步制程可以在平坦化层104形成不同形状的凹槽1081，比如，在平坦化层104进行掩膜时，直接设置多个凹槽1081阵列排列，最终形成的容纳槽108表面积更大。能够更好的增大发光器件层107与像素定义层106以及平坦化层105的接触面积，改善膜层脱落的问题。
进一步地，请参阅图2和图3，图2是本申请实施例提供的显示面板10的第二种结构示意图。图3是本申请实施例提供的显示面板10的局部示意图。通孔底部的平坦化层104设置有至少两个凹槽1081，凹槽1081排列为锯齿状、波浪状、脉冲状或凹凸折线状中的任一种。将凹槽1081排列为锯齿状、波浪状、脉冲状或凹凸折线状中的任一种，一方面可以减小平坦化层104的表面应力，防止显示面板在弯折时发生断裂；另一方面可以增大平坦化层104与发光器件层107的接触面积，增强平坦化层104与发光器件层107之间的结合力。
其中，通孔1082的底部周缘与凹槽1081的顶部周缘对应。将通孔1082的底部周缘与凹槽1081的顶部周缘对应设置可以使容纳槽108表面平整，以便上方膜层的涂布或印刷，因为表面平整能够使涂布或印刷的膜层更易成膜，且方便仪器操作，在平整的表面涂布或印刷上方膜层也能使上方膜层更好的与表面结合。通孔1082的底部周缘也可以与凹槽1081的顶部周缘不对应设置，可以采用填充的方式设置上方膜层，由于通孔1082的底部周缘与凹槽1081的顶部周缘不对应设置，增大了膜层之间的接触面积，接触面积增大，能够增大膜层之间的结合力。
进一步地，请参阅图4，图4是本申请实施例提供的容纳槽108的一种结构示意图。容纳槽108的侧壁设有至少两个子凹槽1083。子凹槽1083采用压印的方式通过一步制程进行设置。进一步地，可以采用纳米压印、光刻-紫外压印、滚轴压印中的任一种方法设置子凹槽1083。具体地，采用锯齿状、波浪状的模具在容纳槽108侧壁进行纳米压印、光刻-紫外压印或滚轴压印来设置子凹槽1083。模具还可以为其他形状，本申请实施例不做限制。通过压印子凹槽1083，只需增加一步制程便可在不影响器件其他膜层的情况下进一步增大像素定义层106与发光器件层107的接触面积。
其中，容纳槽108的底面和容纳槽108的侧壁形成的角度为90°至155°。具体地，容纳槽108的底面和容纳槽108的侧壁形成的角度可以为90°、100°、110°、120°、130°、140°、150°以及155°。容纳槽108底面与侧壁形成的角度越大，容纳槽108的开口坡度越缓，有利于发光器件层107的涂布与填充。比如，当容纳孔107的底面和容纳孔107的侧壁形成的角度为120°至140°时，发光器件层106的填充和成型效率最高，并且涂布时由于坡度更平，操作更方便。但角度更大时，不能保证像素定义层105的厚度足够大，也不能很好的增大像素定义层105与发光器件层106的接触面积。因此选取的角度范围为90°至155°。
其中，开口109与开口109之间的第一面104a设置有至少两个容纳槽108。容纳槽108的数量越多，膜层之间的接触面积越大，膜层之间的结合力也越大，能够更有效地防止膜层脱落。开口109对应阳极层105设置，发光器件层107通过开口109与阳极层105连接。
其中，发光器件层107设置在容纳孔108、开口109内以及第一面104a。
本申请实施例提供的显示面板10，通过在像素定义层106设置容纳槽108，并且通过改变容纳槽108的结构，增大了发光器件层107与像素定义层106之间的接触面积，进而增大了发光器件层107与像素定义层106之间的结合力，改善在显示面板在卷曲时易发生的膜层脱落问题，防止因膜层脱落而影响显示效果。并且容纳槽108延伸至平坦化层104，能够增大发光器件层108与平坦化层104的结合力，减小对像素定义层106的影响，并进一步防止了膜层脱落，提高了产品良率。
本申请实施例提供一种显示面板的制程方法，以下对显示面板制程方法做详细介绍。请参阅图5，图5是本申请实施例中的显示面板制程方法的一种流程示意图。
201、提供一第一聚酰亚胺层。
202、在第一聚酰亚胺层上依次层叠设置隔离层、无机层以及第二聚酰亚胺层。
其中，第一聚酰亚胺层、隔离层、无机层以及第二聚酰亚胺层组成基板。
203、在第二聚酰亚胺层上设置缓冲层。
204、在缓冲层上设置阵列电路层。
其中，在缓冲层上依次沉积半导体层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、层间绝缘层、源漏极层以及平坦化层。半导体层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、层间绝缘层、源漏极层以及平坦化层组成阵列电路层。
其中，在层间绝缘层、第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层蚀刻出两个接触孔，分别位于第一栅极层与第二栅极层两侧，且与半导体层连通。源漏极层通过接触孔与半导体层连接。
205、在阵列电路层上设置平坦化层，平坦化层包括相对设置的第一面和第二面。
206、在第一面设置阳极层，阳极层部分覆盖第一面。
其中，阳极层穿过平坦化层与源漏极层连接。
207、在平坦化层上设置凹槽。
其中，采用掩膜的方法在平坦化层上设置凹槽。
208、在第一面和阳极层上设置像素定义层。
209、在像素定义层上设置通孔和开口，通孔与凹槽组成容纳槽。
其中，采用掩膜的方法在像素定义层上设置通孔和开口。
其中，在容纳槽形成后，采用压印的方法在容纳槽侧壁设置子凹槽。具体地，可以采用纳米压印、光刻-紫外压印、滚轴压印中的任一种方法设置子凹槽。采用压印的方法利用锯齿形或波浪形模具在容纳槽侧壁压印出子凹槽，但模具形状不限于锯齿形或波浪形。
210、在开口、容纳槽中以及像素定义层远离平坦化层的一面设置发光器件层。
其中，采用涂布或印刷的方式在容纳孔、开口内和第一面上设置发光器件层。采用涂布或印刷的方式可以减小发光器件层的厚度，增大发光器件层与像素定义层的结合力，减小显示面板弯折时的层间应力，使发光器件层不易脱落，进一步改善膜层脱落问题。
本申请提供一种显示装置100，图6为本申请实施例中显示装置100的结构示意图。其中，显示装置100包括以上所述的显示面板10和卷轴20，显示面板10一端与卷轴20连接，显示面板10可绕卷轴20卷曲或者展开，卷轴20内部设置有电池以及电路组件。显示装置100还可以包括其他装置。本申请实施例中卷轴20和其他装置及其装配是本领域技术人员所熟知的相关技术，在此不做过多赘述。
本申请实施例提供的显示装置100，包括显示面板10和卷轴20，显示面板10可绕卷轴20卷曲或者展开。在显示面板10中的像素定义层和平坦化层设置容纳槽，减小对像素定义层影响的同时，增大了膜层之间的接触面积，使膜层之间结合能力更强。并且，采用涂布或印刷的方式设置发光器件层，可以减小发光器件层的厚度，增大发光器件层与像素定义层的结合力，减小显示面板弯折时的层间应力，使发光器件层不易脱落，进一步改善膜层脱落问题。
以上对本申请实施例提供显示面板及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请。同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (7)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
平坦化层，所述平坦化层包括相对设置的第一面和第二面；
阳极层，所述阳极层部分覆盖所述第一面；
像素定义层，所述像素定义层覆盖所述第一面和所述阳极层，所述像素定义层远离所述第一面的一侧设置有至少两个容纳槽，相邻两个所述容纳槽之间的第一面设置有开口，所述开口对应所述阳极层设置；所述容纳槽由所述像素定义层远离所述第一面的一侧延伸至所述平坦化层，所述容纳槽包括凹槽和通孔，所述凹槽设置在所述平坦化层，所述通孔于所述阳极层的间隔处贯穿所述像素定义层与所述凹槽连通，所述容纳槽的侧壁设有至少两个子凹槽，一所述子凹槽位于所述像素定义层形成的所述侧壁上；
发光器件层，所述发光器件层设置在所述容纳槽和所述开口中，且覆盖所述像素定义层远离所述平坦化层的一面，所述发光器件层通过所述开口与所述阳极层连接。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述通孔底部的平坦化层设置有至少两个凹槽，所述凹槽排列为锯齿状、波浪状、脉冲状或凹凸折线状任一种。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述通孔的底部周缘与所述凹槽的顶部周缘对应。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开口与开口之间的第一面设置有至少两个容纳槽。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述容纳槽的底面和容纳槽侧壁形成的角度为90°至155°。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括依次层叠设置的基板、缓冲层、阵列电路层；所述平坦化层设置在所述阵列电路层上。
7.一种显示装置，其特征在于，包括卷轴和显示面板；所述卷轴内部设置有电池以及电路组件；所述显示面板一端与所述卷轴连接，所述显示面板可绕所述卷轴卷曲或者展开，所述显示面板为权利要求1至6任一项所述的显示面板。
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