CN104114366A - 防污层、防污性基材、显示装置和输入装置 - Google Patents

Abstract

一种防污性基材，所述防污性基材具备具有表面的基材和设置于基材表面上的防污层。防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方。防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。

Description

防污层、防污性基材、显示装置和输入装置

技术领域

本技术涉及防污层、防污性基材、显示装置和输入装置。具体而言，涉及一种抑制表面的脏污的防污层。

背景技术

近年来，搭载有触摸面板作为用户界面(UI)的信息显示装置正在迅速地普及。触摸面板具有通过直接用手指接触显示画面而可直观地操作设备的优点，另一方面，有因指纹的附着而使画面的视认性恶化的问题。因此，需要即使指纹附着也难以看得见的耐指纹表面。

迄今为止，在含有触摸面板的显示器表面，使用设计为使氟类化合物、硅类化合物等露出在最表面的防污层(例如参照专利文献1)。这有以下效果：通过形成疏水疏油表面而减弱构成指纹的油脂成分的附着力，使得用布等的擦去容易。但是，只要不用布等擦去，就有以下问题：由于油脂成分在层表面被排斥而形成液滴，散射光从而使指纹显眼。

作为其对策，提出了不排斥油脂成分的疏水亲油表面(例如参照专利文献2)。由于附着于该表面的指纹的油脂成分展开而不形成液滴，所以变得难以看得见指纹。但是，由于指纹图案残留，所以只要不用布等擦去，就会因由此引起的光散射而看得见附着指纹。另外，在连续地附着指纹的情况下，最后会使附着指纹显眼。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第04666667号公报

专利文献2：日本特开2010-128363号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

如上所述，希望难以看得见附着的指纹的表面，但若考虑电容触摸面板等的用途，则认为用手指可擦去指纹的表面(即，在使用后指纹变得不显眼的表面)是重要的。但是，迄今为止尚未研究有关提高由手指产生的指纹消除性(払拭性)的技术。

因此，本技术的目的在于，提供可提高由手指等产生的指纹消除性的防污层、防污性基材、显示装置和输入装置。

解决课题的手段

为了解决上述课题，第1技术为一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于基材表面的防污层，

其中，

防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

第1化合物和第2化合物中的至少一方吸附于基材表面，

防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。

第2技术为一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于基材表面的防污层，

其中，

防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

第1化合物以下列式(1)或式(2)表示，

第2化合物以下列式(3)或式(4)表示，

防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下，

(式中，R₁为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团，R₂为碳原子数为2个以上的基团。)

(式中，R₁、R₂各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团。)

。

第3技术为一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于基材表面的防污层，

其中，

防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

防污层含有第2化合物的同时还含有在末端具有链状烃基的第3化合物，

第3化合物以下列式(5)或式(6)表示，

防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下，

。

第4技术为一种防污层，

所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

第1化合物和第2化合物中的至少一方吸附于基材表面，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下。

第5技术为一种防污层，

所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

第1化合物以下列式(1)或式(2)表示，

第2化合物以下列式(3)或式(4)表示，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下，

(式中，R₁为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团，R₂为碳原子数为2个以上的基团。)

(式中，R₁、R₂各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团。)

。

第6技术为一种防污层，

所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

防污层含有第2化合物的同时还含有在末端具有链状烃基的第3化合物，

第3化合物以下列式(5)或式(6)表示，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下，

。

在本技术中，由于将输入面、显示面或表面处的油酸的前进接触角设为15°以下，将油酸的后退接触角设为10°以下，所以可将附着于输入面、显示面或表面的指纹用手指等擦拭而薄薄地润湿展开，从而不显眼。

发明的效果

如上所述，根据本技术，可提高由手指等产生的指纹消除性。

附图说明

图1为示出本技术的第1实施方式所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图2为用以说明通过滑落法测定的前进接触角和后退接触角的示意图。

图3为示出第1变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图4为示出第2变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图5为示出第3变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图6为示出第4变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图7为示出第5变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图8A~图8C为示出本技术的第2实施方式所涉及的防污性基材的构成例的示意图。

图9A为示出本技术的第3实施方式所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。图9B为示出本技术的第3实施方式所涉及的防污性基材的一个构成例的平面图。

图10A为用以对耐指纹表面处毛细管压力的方向进行说明的示意图。图10B为用以说明凹凸面处的毛细管现象的示意图。图10C为用以说明凹凸面的接触角的示意图。

图11为示出变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。

图12为示出本技术的第4实施方式所涉及的显示装置的一个构成例的分解斜视图。

图13A为示出本技术的第5实施方式所涉及的输入装置的一个构成例的分解斜视图。图13B为示出本技术的第5实施方式所涉及的输入装置的变形例的分解斜视图。

图14A、图14B为示出实施例13的防污性薄膜的表面形状的评价结果的图。

具体实施方式

按照以下顺序对本技术的实施方式进行说明：

1. 第1实施方式(具有耐指纹表面的防污性基材的实例)

2. 第2实施方式(具有耐指纹表面的防污性基材的实例)

3. 第3实施方式(具有耐指纹表面的防污性基材的实例)

4. 第4实施方式(具有耐指纹表面的显示装置的实例)

5. 第5实施方式(具有耐指纹表面的输入装置的实例)。

<1. 第1实施方式>

[防污性基材的构成]

图1为示出本技术的第1实施方式所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。如图1所示，该防污性基材具备基材1和设置于基材1的一个主面上的防污层2。防污性基材在设置有防污层2一侧的表面具有耐指纹表面(防污性表面) S。

第1实施方式所涉及的防污性基材适合应用于显示装置的显示面、输入装置的输入面和壳体表面等。另外，也优选在这些各种表面上无基材1而直接应用防污层2。作为将防污性基材或防污层2应用于显示面的显示装置，例如可列举出电视机、个人计算机(PC)、移动设备(例如智能电话、平板PC等)、相框等，但并不限定于此。作为将防污性基材或防污层2应用于输入面的输入装置，优选具有用手或手指接触的输入部的输入装置。作为这样的输入装置，例如可列举出触摸面板、鼠标、键盘等，但并不限定于此。作为触摸面板，例如可列举出设置于电视机、个人计算机、移动设备(例如智能电话、平板PC等)、相框等的触摸面板，但并不限定于此。作为应用防污性基材或防污层2的壳体，例如可列举出电视机、个人计算机、移动设备(例如智能电话、平板PC等)、相框等的壳体等，但并不限定于此。

应用防污性基材或防污层2的对象并不限定于上述电子设备或壳体，只要为具有用手或手指接触的表面的对象，则可适宜应用。作为上述电子设备或壳体以外的物品的实例，例如可列举出纸、塑料、玻璃制品等的最表面等(具体而言例如相片、相框、塑料箱、玻璃窗、装饰框等的最表面等)，但并不限定于此。

耐指纹表面S的油酸的前进接触角为15°以下，油酸的后退接触角为10°以下。由此，若用手指擦拭附着于耐指纹表面S的指纹，则可将指纹薄薄地润湿展开，可使得指纹不显眼。因此，在将防污性基材或防污层2应用于输入装置或显示装置等的情况下，在使用这些装置后可使指纹不显眼。此处，前进接触角和后退接触角为油酸的动态接触角，通过滑落法(滚落法)进行测定。滑落法为将载有液滴的固体样品倾斜而使液滴滑动的方法。

图2为用以说明通过滑落法测定的前进接触角和后退接触角的示意图。如图2所示，前进接触角θ_a、后退接触角度θ_r分别为，在将载有油酸液滴10的耐指纹表面S倾斜的情况下，液滴10开始滚落时的前进接触角度、后退接触角度。此处，前进接触角θ_a为液滴10润湿展开一侧(液滴前进一侧)的接触角。后退接触角θ_r为液滴10收缩一侧(液滴前进一侧的相反侧)的接触角。

油酸为构成指纹的成分之一，认为其动态接触角定量地表示用手指擦拭指纹时在材料表面的润湿展开程度。因此，认为在油酸的动态接触角为上述规定值以下的表面，指纹通过手指擦拭而薄薄地润湿展开，从而变得不显眼。

(基材)

基材1例如为具有透明性的无机基材或塑料基材。作为基材1的形状，例如可使用薄膜状、片状、板状、块状等。作为无机基材的材料，例如可列举出石英、蓝宝石、玻璃等。作为塑料基材的材料，例如可使用公知的高分子材料。作为公知的高分子材料，具体而言例如可列举出三乙酰基纤维素(TAC)、聚酯(TPEE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺(PA)、芳族聚酰胺、聚乙烯(PE)、聚丙烯酸酯、聚醚砜、聚砜、聚丙烯(PP)、二乙酰基纤维素、聚氯乙烯、丙烯酸树脂(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、环氧树脂、尿素树脂、聚氨酯树脂、三聚氰胺树脂、环烯烃聚合物(COP)等。

可将基材1加工为电子设备等的外包装或显示器的一部分。另外，基材1的表面形状并不限定于平面，可为凹凸面、多边形面、曲面或这些形状的组合。作为曲面，例如可列举出球面、椭圆面、抛物面、自由曲面等。另外，对于基材1的表面，例如可通过UV转印、热转印、压力转印、熔融挤出等赋予规定的结构。

(防污层)

防污层2为含有下列中至少一方的表面改性层：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，和具有环状烃基的第2化合物。由于防污层2含有第1化合物和第2化合物中的至少一方，可提高指纹消除性。此处，末端表示主链和侧链的末端。防污层2例如为通过湿法或干法形成的涂布层。

在防污层2含有第2化合物的情况下，防污层2优选在含有第2化合物的同时还含有在末端具有链状烃基的第3化合物。由此，可进一步提高指纹消除性。此处，末端表示主链和侧链的末端。防污层2中第2化合物与第3化合物的含有比例无特殊限定，但由于第3化合物具有较易集中于耐指纹性表面S的性质，所以考虑该性质而优选选择上述含有比例。

防污层2根据需要可进一步含有聚合引发剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、催化剂、着色剂、抗静电剂、润滑剂、流平剂(leveling agent)、消泡剂、聚合促进剂、抗氧化剂、阻燃剂、红外线吸收剂、表面活性剂、表面改性剂、触变剂等添加剂。另外，为了将AG (防眩，Anti-Glare)功能赋予至耐指纹表面S，防污层2可进一步含有散射光的有机树脂填料等光散射粒子。在赋予AG功能的情况下，光散射粒子可从防污层2的耐指纹表面S突出或由防污层2所含有的树脂等覆盖。另外，光散射粒子可与或不与作为底层的基材1接触。防污层2的平均膜厚例如在单分子厚度以上且1mm以下、优选单分子厚度以上且100μm厚度以下、特别优选单分子厚度以上且10μm以下的范围内。

第1化合物和/或第2化合物例如为防污层2的构成材料的主要成分和辅助成分中的至少一方。此处，在防污层2为通过湿法形成的层的情况下，主要成分例如为基础树脂，辅助成分例如为上述流平剂等添加剂等。第1化合物、第2化合物和第3化合物优选为添加剂。其原因在于，由此可抑制基础树脂的硬度劣化等。在这样的化合物为添加剂的情况下，添加剂优选为流平剂。在第1化合物、第2化合物和第3化合物为流平剂等添加剂的情况下，第1化合物、第2化合物和第3化合物优选通过聚合反应等与基础树脂键合。其原因在于，可提高耐指纹性表面S的耐久性。

(第1化合物)

第1化合物只要在末端以外的部分具有酯键即可，可为有机材料或有机-无机的复合材料，另外，可为高分子材料或单分子材料。另外，只要第1化合物确实具有酯键，对酯键以外的分子结构无特殊限定，可具有任何的官能团、结合部位、杂原子、卤素原子和金属原子等。作为第1化合物，例如可使用分子内具有如下列式(1)或式(2)所示的结构的化合物。

(式中，R₁为含有C、N、S、O、Si、P或Ti等原子的基团。含有这些原子的基团例如为烃基、磺基(含磺酸盐)、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、酰胺基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯(盐)基、氰基、巯基或羟基等。R₂为碳原子数为2个以上的基团，例如为含有C、N、S、O、Si、P或Ti等原子的基团。含有这些原子的基团例如为烃基、磺基(含磺酸盐)、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、酰胺基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯基、氰基、巯基或羟基等。)

(式中，R₁、R₂各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti等原子的基团。含有这些原子的基团例如为烃基、磺基(含磺酸盐)、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、酰胺基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯基、氰基、巯基或羟基等。)

(第2化合物)

第2化合物具有环状烃基。环状烃基例如可为不饱和环状烃基或饱和环状烃基，或者可在分子内同时具有不饱和环状烃基和饱和环状烃基。防污层2可同时含有具有不饱和环状烃基的第2化合物和具有饱和环状烃基的第2化合物。环状烃基可为单环式或多环式。另外，这些环状烃基可具有其它的取代基。作为其它的取代基，例如为烃基、磺基(含磺酸盐)、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、酰胺基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯基、氰基、巯基或羟基等。如果第2化合物含有环状烃基，则可为有机材料或有机-无机的复合材料，另外，可为高分子材料或单分子材料。只要第2化合物确实具有环状烃基，对环状烃基以外的分子结构无特殊限定，可具有任何的官能团、结合部位、杂原子、卤素原子和金属原子等。作为饱和环状烃基，例如可列举出具有碳原子数为5以上的单环、二环、三环、四环结构等的基团。更具体而言，可列举出环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、环十二烷基、金刚烷基、降金刚烷基(noradamantyl)、三环癸基、四环十二烷基、降冰片基、异冰片基、类固醇基等。作为不饱和环状烃基，例如可列举出苯基、萘基、芘基、并五苯基、蒽基等。

作为有机材料，例如可使用在分子内具有如下列式(3)所示的结构的化合物。

作为有机-无机的复合材料，例如可使用在分子内具有如下列式(4)所示的结构的化合物。

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(第3化合物)

第3化合物在末端具有链状烃基(非环类烃基)。链状烃基例如可为不饱和链状烃基或饱和链状烃基，或者可在分子内同时具有不饱和链状烃基和饱和链状烃基。链状烃基可为直链或支链，或者可在分子内同时具有直链的烃基和支链的烃基。另外，链状烃基可具有其它的取代基。作为其它的取代基，例如可列举出烃基、磺基(含磺酸盐)、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、酰胺基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯基、氰基、巯基或羟基等。

作为第3化合物，如果为在末端具有链状烃基的化合物，则可使用有机材料或无机-有机的复合材料，另外，可使用高分子材料或单分子材料。只要第3化合物在末端具有链状烃基，则对链状烃基以外的分子结构无特殊限定，可具有任何的官能团、结合部位、杂原子、卤素原子和金属原子等。作为不饱和链状烃基，例如可列举出碳原子数为2以上的不饱和链状烃基。更具体而言，可列举出丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十二烯基、十四烯基、十六烯基、十八烯基、二十二烯基等。作为饱和链状烃基，例如可列举出碳原子数为2以上的饱和链状烃基。更具体而言，可列举出乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、戊基、异戊基、己基、异己基、庚基、异庚基、辛基、异辛基、壬基、异壬基、癸基、异癸基、十二烷基、异十二烷基、月桂基、十三烷基、异十三烷基、十四烷基、异十四烷基、十六烷基、异十六烷基、十八烷基、异十八烷基、二十烷基、异二十烷基、二十二烷基、异二十二烷基、胆固醇基等。

作为有机材料，例如可使用在分子内具有如下列式(5)所示的结构的化合物。

作为有机-无机的复合材料，例如可使用在分子内具有如下列式(6)所示的结构的化合物。

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(耐指纹表面的确认方法)

防污性基材是否具有耐指纹表面S例如可如下进行确认。首先，测定防污性基材表面的动态接触角，确认是否油酸的前进接触角为15°以下且油酸的后退接触角在10°以下的范围内。然后，若油酸的前进接触角和油酸的后退接触角在上述范围内，则可判断防污性基材具有耐指纹表面S。

另外，也可如下进行确认。

首先，在用溶剂提取防污性基材表面的材料后，通过气相色谱质谱分析法(Gas Chromatograph-Mass Spectrometry：GC-MASS)进行组成分析。然后，若检测出上述第1化合物和第2化合物中的至少一方，则可判断防污性基材具有耐指纹表面S。

也可使将上述2种确认方法组合，确认防污性基材是否具有耐指纹表面S。

[防污性基材的制备方法]

以下对使用湿法的防污性基材的制备方法的一例进行说明。

(树脂组合物的制备)

首先，将树脂成分溶于溶剂中而制备树脂组合物。作为溶剂，例如可使用水或有机溶剂。树脂组合物以能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂组合物中的至少一方作为主要成分。

能量射线固化性树脂组合物指可通过照射能量射线而固化的树脂组合物。能量射线表示电子束、紫外线、红外线、激光束、可见光线、电离放射线(X射线、α射线、β射线、γ射线等)、微波、射频波等可成为自由基、阳离子、阴离子等的聚合反应的触发器的能量射线。能量射线固化性树脂组合物可根据需要与其它的树脂组合物混合而使用，例如可与热固化性树脂组合物等其它的固化性树脂组合物混合而使用。另外，能量射线固化性树脂组合物可为有机无机杂化材料(hybrid material)。另外，可使2种以上的能量射线固化性树脂组合物混合而使用。作为能量射线固化性树脂组合物，优选使用通过紫外线固化的紫外线固化树脂组合物。

能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂例如含有下列化合物中的至少一方：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，和具有环状烃基的第2化合物。从提高指纹消除性的观点出发，能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂优选进一步含有在末端具有链状烃基的第3化合物。

能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂含有基础树脂和添加剂(含引发剂)。第1化合物、第2化合物和第3化合物优选为能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂组合物等的添加剂。在该情况下，添加剂优选为流平剂。

紫外线固化性树脂组合物例如含有具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯和引发剂。此处，(甲基)丙烯酰基指丙烯酰基或甲基丙烯酰基。另外，(甲基)丙烯酸酯指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。紫外线固化性树脂组合物例如含有单官能单体、二官能单体、多官能单体等，具体而言，为将如下所示的材料单独或多种混合而成的组合物。

作为单官能单体，例如可列举出羧酸类(丙烯酸)，羟基类(丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-4-羟基丁酯)，烷基、脂环类(丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸异冰片酯(イソボニルアクリレート)、丙烯酸环己酯)，其它的功能性单体(丙烯酸-2-甲氧基乙酯、丙烯酸甲氧基乙二醇酯、丙烯酸-2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢化糠基酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸-N,N-二甲基氨基乙酯、N,N-二甲基氨基丙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰基吗啉、N-异丙基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸-2-(全氟辛基)乙酯、丙烯酸-3-全氟己基-2-羟基丙酯、丙烯酸-3-全氟辛基-2-羟基丙酯、丙烯酸-2-(全氟癸基)乙酯、丙烯酸-2-(全氟-3-甲基丁基)乙酯)，丙烯酸-2,4,6-三溴苯酯，甲基丙烯酸-2,4,6-三溴苯酯，丙烯酸-2-(2,4,6-三溴苯氧基)乙酯)，丙烯酸-2-乙基己酯等。

作为二官能单体，例如可列举出二丙烯酸三(丙二醇)酯、三羟甲基丙烷二烯丙基醚、聚氨酯丙烯酸酯等。

作为多官能单体，例如可列举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯等。

作为引发剂，例如可列举出2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等。

例如从树脂成分的涂布性、稳定性和涂膜的平滑性等观点出发，溶剂可掺混于树脂组合物中使用。在不需要的情况下可无溶剂。具体而言例如可将下列的1种或2种以上混合而使用：甲苯、二甲苯等芳族类溶剂，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙二醇单甲基醚等醇类溶剂，醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸溶纤剂等酯类溶剂，丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类溶剂，2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇甲基醚等二醇醚类，醋酸-2-甲氧基乙酯、醋酸-2-乙氧基乙酯、醋酸-2-丁氧基乙酯、丙二醇甲基醚醋酸酯等二醇醚酯类，氯仿、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯甲烷等氯类溶剂，四氢呋喃、乙醚、1,4-二氧六环、1,3-二氧戊环等醚类溶剂，N-甲基吡咯烷酮，二甲基甲酰胺，二甲基亚砜，二甲基乙酰胺等。为了抑制涂布面上的干燥不均或裂纹，也可进一步添加高沸点溶剂，从而控制溶剂的蒸发速度。例如可列举出丁基溶纤剂、双丙酮醇、三甘醇丁基醚(butyl triglycol)、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丙基醚、乙二醇单异丙基醚、二甘醇单丁基醚、二甘醇单乙基醚、二甘醇单甲基醚二甘醇二乙基醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚、丙二醇单丁基醚、丙二醇异丙基醚、二丙二醇异丙基醚、三丙二醇异丙基醚、乙二醇甲基醚(methyl glycol)。这些溶剂可单独使用或将多种组合。

(树脂组合物的涂布)

接着，将已制备的树脂组合物涂布或印刷于基材的一个主面或两个主面。作为涂布法，例如可使用线棒涂布、刮刀涂布、旋转涂布、逆转辊式涂布、模头涂布、喷雾涂布、辊式涂布、凹印涂布、微凹印涂布(microgravure coating)、唇模涂布、气刀涂布、帘式涂布、缺角轮涂法(Comma Coating)、浸渍法等。作为印刷方式，例如可使用凸版印刷法、胶印印刷法、凹印印刷法、凹版印刷法、胶版印刷法、喷墨法、丝网印刷法等。

(干燥)

接着，根据需要，通过将树脂组合物干燥，从而将溶剂挥发。干燥条件无特殊限定，可为自然干燥，或调整干燥温度、干燥时间等的人工干燥。但是，在干燥时向涂料表面吹风的情况下，优选使在涂膜表面不产生风纹。另外，干燥温度和干燥时间可通过涂料中所含有的溶剂的沸点适宜决定。在该情况下，干燥温度和干燥时间优选考虑基材11的耐热性，在不因热收缩而引起基材11变形的范围内进行选择。

(固化)

接着，例如通过电离放射线照射或热从而将涂布于基材1的一个主面的树脂组合物固化。由此，在基材1的一个主面或两个主面上形成防污层2。作为电离放射线，例如可使用电子束、紫外线、可见光线、伽马射线、电子束等，从生产设备的观点出发，优选紫外线。累积照射量优选考虑树脂组合物的固化特性、抑制树脂组合物、基材11的黄变等而适宜选择。另外，作为照射的气氛，优选根据树脂组合物的种类而适宜选择，例如可列举出空气、氮、氩等惰性气体的气氛。

由此，得到作为目标的防污性基材。

(效果)

根据第1实施方式，由于将防污性基材的耐指纹表面S处油酸的前进接触角设为15°以下，油酸的后退接触角设为10°以下，所以可将附着于防污性基材的耐指纹表面S的指纹用手指等擦拭而薄薄地润湿展开，变得不显眼。因此，可提高由手指等产生的指纹消除性。

[变形例]

在上述第1实施方式中，将以下构成作为实例进行说明，其中，防污层2含有具有环状烃基的第2化合物和在末端具有链状烃基的第3化合物两者，但本技术并不限定于该实例。可采用以下构成：防污层2含有具有环状烃基且在末端具有链状烃基的第4化合物。在该情况下，也可得到与上述第1实施方式相同的指纹消除性。

另外，在上述第1实施方式中，将毗邻基材1的一个主面设置防污层2的构成作为实例进行说明，但防污性基材的构成并不限定于该实例。以下对防污性基材的变形例进行说明。

(第1变形例)

图3为示出第1变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。如图3所示，该防污性基材在以下方面与第1实施方式所涉及的防污性基材不同：进一步具备设置于基材1与防污层2之间的锚固层3。通过这样具备设置于基材1与防污层2之间的锚固层3，可提高基材1与防污层2的密合性。

作为锚固层3的材料，例如可从目前公知的天然高分子树脂和合成高分子树脂中广泛地选择并使用。作为这些树脂，例如可使用透明的热塑性树脂、通过电离放射线照射或热而固化的透明固化性树脂。作为热塑性树脂，例如可使用聚氯乙烯、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、硝基纤维素、氯化聚乙烯、氯化聚丙烯、乙基纤维素、羟丙基甲基纤维素等。作为透明固化性树脂，例如可使用甲基丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、异氰酸酯、环氧树脂、聚酰亚胺树脂等。作为电离放射线，例如可使用电子束、光(例如紫外线、可见光线等)、伽马射线、电子束等，从生产设备的观点出发，优选紫外线。

可使锚固层3的材料进一步含有添加剂。作为添加剂，例如可列举出表面活性剂、粘度调整剂、分散剂、固化促进催化剂、增塑剂、抗氧化剂或抗硫化剂等稳定剂等。

(第2变形例)

图4为示出第2变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。如图4所示，该防污性基材在以下方面与第1实施方式所涉及的防污性基材不同：进一步具备设置于基材1与防污层2之间的硬涂层4。在使用塑料薄膜等树脂基材作为基材1的情况下，特别优选这样设置硬涂层4。如上所述，通过在基材1与防污层2之间具备硬涂层4，可提高实用特性(例如耐久性、铅笔硬度等)。

作为硬涂层4的材料，例如可从目前公知的天然高分子树脂和合成高分子树脂中广泛地选择并使用。作为这些树脂，例如可使用透明的热塑性树脂、通过电离放射线或热而固化的透明固化性树脂。作为热塑性树脂，例如可使用聚氯乙烯、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、硝基纤维素、氯化聚乙烯、氯化聚丙烯、乙基纤维素、羟丙基甲基纤维素等。作为透明固化性树脂，例如可使用甲基丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、异氰酸酯、环氧树脂、聚酰亚胺树脂等。作为电离放射线，例如可使用电子束、光(例如紫外线、可见光线等)、伽马射线、电子束等，从生产设备的观点出发，优选紫外线。

可使硬涂层4的材料进一步含有添加剂。作为添加剂，例如可列举出表面活性剂、粘度调整剂、分散剂、固化促进催化剂、增塑剂、抗氧化剂或抗硫化剂等稳定剂等。另外，为了将AG (防眩，Anti-Glare)功能赋予至耐指纹表面S，硬涂层4可进一步含有散射光的有机树脂填料等光散射粒子。在该情况下，光散射粒子可从硬涂层4的表面或防污层2的耐指纹表面S突出，或者由硬涂层4或防污层2所含有的树脂覆盖。光散射粒子可与或不与作为底层的基材1接触。硬涂层4和防污层2的两层可进一步含有光散射粒子。另外，代替AG (防眩，Anti-Glare)功能或补充于AG (防眩，Anti-Glare)功能，可将AR (抗反射，Anti-Reflection)功能赋予至防污性基材。AR (抗反射，Anti-Reflection)功能例如可通过在硬涂层4上形成AR层而赋予。作为AR层，例如可使用低折射率层的单层膜、低折射率层与高折射率层交替层合而成的多层膜。

(第3变形例)

图5为示出第3变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。如图5所示，该防污性基材在以下方面与第1实施方式所涉及的防污性基材不同：进一步具备设置于基材1与防污层2之间的硬涂层4和设置于基材1与硬涂层4之间的锚固层3。在使用塑料薄膜等树脂基材作为基材1的情况下，特别优选这样设置硬涂层4。

(第4变形例)

图6为示出第4变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。如图6所示，该防污性基材在以下方面与第1实施方式所涉及的防污性基材不同：在基材1的两个主面上进一步具备硬涂层4。防污层2设置于在基材1的两个主面上设置的硬涂层4中之一的表面上。在使用塑料薄膜等树脂基材作为基材1的情况下，特别优选这样设置硬涂层4。

(第5变形例)

图7为示出第5变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。如图7所示，该防污性基材在以下方面与第1实施方式所涉及的防污性基材不同：在基材1的两个主面上进一步具备锚固层3和硬涂层4。锚固层3设置于基材1与硬涂层4之间。防污层2设置于在基材1的两个主面上设置的硬涂层4中之一的表面上。在使用塑料薄膜等树脂基材作为基材1的情况下，特别优选这样设置硬涂层4。

<2. 第2实施方式>

[防污性基材的构成]

图8A~图8C为示出本技术的第2实施方式所涉及的防污性基材的构成例的示意图。第2实施方式所涉及的防污性基材在以下方面与第1实施方式所涉及的防污性基材不同：在基材1的一个主面上吸附吸附化合物2a，形成防污层2。此处，基材1可含有防污层以外的层(锚固层、硬涂层等)。防污层2例如为由吸附化合物2a形成的单分子层。吸附有吸附化合物2a的区域并不限定于基材1的一个主面，可为基材1的两个主面或其一部分的区域，可仅在用手或手指等频繁接触的主面或区域选择性地吸附吸附化合物2a。

吸附化合物2a相对于基材1表面的吸附位置可为吸附化合物2a的侧链或主链的末端，或者可为两者吸附于基材1表面。在图8A中，示出以下构成：吸附化合物2a的主链的一个末端吸附于基材1表面。在图8B中，示出以下构成：吸附化合物2a的侧链的末端吸附于基材1表面。在图8C中，示出以下构成：吸附化合物2a的主链吸附于基材1表面。吸附可为物理吸附或化学吸附，但若从耐久性的观点出发，则优选化学吸附。作为吸附，具体而言例如可列举出由酸碱反应、共价键、离子键、氢键等导致的吸附。

作为吸附化合物2a，例如可使用以下化合物：对上述第1实施方式的第1化合物和第2化合物进一步赋予吸附于基材1表面的吸附基团而成的化合物。设置吸附基团的位置可为吸附化合物2a的末端或侧链，或者可在1个吸附化合物2a中赋予多个吸附基团。

作为吸附基团，只要可吸附于基材1即可。具体而言，为磺基(含磺酸盐)、磺酰基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、环氧基、异氰酸酯基、巯基等。这样的吸附基团只要在吸附化合物2a中至少存在1个即可。

作为具有吸附基团的第1化合物，例如可使用在分子内具有如下列式(7)所示的结构的化合物。

(式中，X例如为磺基(含磺酸盐)、磺酰基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、环氧基、异氰酸酯基或巯基等。)

作为具有吸附基团的第2化合物，例如可使用在分子内具有如下列式(8)所示的结构的化合物。

(式中，X例如为磺基(含磺酸盐)、磺酰基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、环氧基、异氰酸酯基或巯基等。)

作为具有吸附基团的第3化合物，例如可使用在分子内具有如下列式(9)所示的结构的化合物。

(式中，X例如为磺基(含磺酸盐)、磺酰基、羧酸基(含羧酸盐)、氨基、磷酸基(含磷酸盐、磷酸酯)、膦基、环氧基、异氰酸酯基或巯基等。)

[防污性基材的制备方法]

以下对使用湿法的防污性基材的制备方法的一例进行说明。

(吸附化合物溶液的制备)

首先，将吸附化合物2a溶于溶剂中而制备处理溶液。在吸附化合物2a于常温为液体的情况或通过实施加热处理等而制成液体状态的情况下，也可直接使用。通过将该处理溶液接近至基材1表面，从而吸附吸附化合物2a。由于增加处理溶液中的吸附化合物的量，则吸附速度提高，所以优选化合物浓度大，具体而言优选0.01质量%以上。

溶剂可适宜选择能够将吸附化合物2a溶解为规定浓度的溶剂而使用。具体而言例如可将下列的1种或2种以上混合而使用：甲苯、二甲苯等芳族类溶剂，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙二醇单甲基醚等醇类溶剂，醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸溶纤剂等酯类溶剂，丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类溶剂，2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇甲基醚等二醇醚类，醋酸-2-甲氧基乙酯、醋酸-2-乙氧基乙酯、醋酸-2-丁氧基乙酯、丙二醇甲基醚醋酸酯等二醇醚酯类，氯仿、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯甲烷等氯类溶剂，四氢呋喃、乙醚、1,4-二氧六环、1,3-二氧戊环等醚类溶剂，N-甲基吡咯烷酮，二甲基甲酰胺，二甲基亚砜，二甲基乙酰胺等。

(吸附)

接着，例如将作为处理对象物的基材1浸渍于处理溶液中，或在作为处理对象物的基材1的一个主面或两个主面涂布或印刷一定量的处理溶液。

作为涂布法，例如可使用线棒涂布、刮刀涂布、旋转涂布、逆转辊式涂布、模头涂布、喷雾涂布、辊式涂布、凹印涂布、微凹印涂布、唇模涂布、气刀涂布、帘式涂布、缺角轮涂法、浸渍法等。作为印刷法，例如可使用凸版印刷法、胶印印刷法、凹印印刷法、凹版印刷法、胶版印刷法、喷墨法、丝网印刷法等。

在使用浸渍法的情况下，优选准备作为处理对象物的基材1充分浸泡量的处理溶液，将基材1浸渍0.1秒~48小时。可在浸渍后，根据需要，用吸附化合物2a的良溶剂清洗基材1，冲洗未吸附的吸附化合物2a。然后，根据需要，通过进行干燥，从而完成吸附处理。作为干燥方法，例如可使用自然干燥或者使用加热装置等的人工干燥中。另外，在浸渍作为处理对象物的基材1的期间，通过进行加热处理和/或超声处理等，可加快吸附化合物2a的吸附速度。

在使用涂布法的情况下，在将处理溶液涂布于基材1上时，可并用对基材1的加热处理和/或超声处理等。可在涂布后，根据需要，用吸附化合物2a的良溶剂清洗基材1，冲洗未吸附的吸附化合物2a。然后，根据需要，通过进行干燥，从而完成吸附处理。作为干燥方法，例如可使用自然干燥或者使用加热装置等的人工干燥。所希望的处理溶液的涂布量没有必要通过1次涂布达成，可通过将上述涂布和清洗工序重复数次，从而达成所希望的处理溶液的涂布量。

(效果)

根据第2实施方式，由于在基材1表面吸附吸附化合物2a，在基材1表面形成防污层2，所以可得到与上述第1实施方式相同的效果。

[变形例]

在上述第1实施方式和第2实施方式中，防污性基材的制备方法以使用湿法的方法作为实例进行说明，但防污性基材的制备方法并不限定于该实例，也可使用干法。即，也可通过干法而将上述第1实施方式或第2实施方式的防污层2在基材1表面上直接成膜。

作为干法，例如可使用溅射法、热CVD (化学气相沉积，Chemical Vapor Deposition)法、等离子体CVD法、ALD (原子层沉积，Atomic Layer Deposition)法、离子镀覆法等。防污层2的膜厚例如在单分子厚度以上且1mm以下、优选单分子厚度以上且100μm以下、特别优选单分子厚度以上且10μm以下的范围内。

<3. 第3实施方式>

图9A为示出本技术的第3实施方式所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。图9B为示出本技术的第3实施方式所涉及的防污性基材的一个构成例的平面图。

第3实施方式所涉及的防污性基材在以下方面与第1实施方式不同：在防污层2的耐指纹表面S上设置凹部2a。

设置有凹部2a的耐指纹表面S处油酸的前进接触角为9.8°以下，油酸的后退接触角为4°以下。由此，若用手指擦拭附着于耐指纹表面S的指纹，则与耐指纹表面S为平面的情况相比，可以薄薄地润湿展开指纹，可进一步使指纹不显眼。因此，在将防污性基材或防污层2应用于输入装置或显示装置等的情况下，可以在使用这些装置后使指纹更为不显眼。

凹部2a用以对位于耐指纹表面S的液体的表面产生正的毛细管压力，并且增加表面积。通过在耐指纹表面S上设置这样的凹部2a，与耐指纹表面S为平面的情况相比可降低表面处油酸的前进接触角和后退接触角。即，可进一步提高由手指等产生的指纹消除性。

图10A为用以对耐指纹表面处毛细管压力的方向进行说明的示意图。在耐指纹表面S的面内方向中，毛细管压力P沿远离液滴11的方向起作用。此处，将沿远离位于耐指纹表面S上的液滴11的方向起作用的毛细管压力P定义为正的毛细管压力P。通过正的毛细管压力P对位于耐指纹表面S上的液滴11起作用，从而可将液滴11薄薄地润湿展开。优选附加于正的毛细管压力P，在深度方向进一步使毛细管压力p起作用。其原因在于，由此可将液滴11进一步薄薄地润湿展开。

多个凹部2a例如可通过规则或无规图案设置于防污层2的耐指纹表面S上。作为凹部2a，例如可使用孔部、沟部，若从润湿展开指纹等的观点出发，则优选使用沟部。

作为沟部，例如可使用在一个方向延伸设置(延設)的一维沟或在2个方向延伸设置的二维沟，若从二维地润湿展开指纹等的观点出发，则优选使用二维沟。

作为从与耐指纹表面S垂直的方向观察到的沟部的形状，可列举出条纹状、格子状、网状、同心圆状、螺旋状等，但并不限定于此。另外，可使沟部在面内方向摇摆(wobble)。另外，可使沟部的深度和/或宽度向其延伸设置方向周期性地或无规则地变化。需说明的是，在图9B中，示出作为凹部2a的沟部具有格子状的形状的实例。

将沟部与其延伸设置方向垂直地切断所得的截面形状若为可产生毛细管压力和增加表面积的形状，则无特殊限定，但若示例，则例如可列举出U字形、V字形、半圆形、半椭圆形等。

作为孔部的形状，例如可使用柱状、锥体状、半球状、半椭球状、不定形状等，但并不限定于此。作为孔部的排列，可为规则或无规图案，或者可将两者组合而使用。

凹部2a可为设置于突起间的凹部。作为突起的形状，例如可使用柱状、锥体状、半球状、半椭球状、不定形状等，但并不限定于此。作为突起的排列，可为规则或无规图案，或者可将两者组合而使用。

凹部2a的宽度W和深度D为可产生毛细管压力和增加表面积的宽度和深度。具体而言，凹部2a的宽度W优选在1nm以上且1mm以下的范围内。另一方面，凹部2a的深度D优选在1nm以上且1mm以下的范围内。

凹部2a的间距P为可产生毛细管压力和增加表面积的间距。具体而言，凹部2a的间距P优选在1nm以上且1mm以下的范围内。

通过在防污层2的耐指纹表面S设置多个凹部2a而制成凹凸面，如果可产生如下所示的2个效果(毛细管压力和表面积增加的效果)，则认为凹凸面的接触角与平面相比变小。

(毛细管压力)

图10B为用以说明凹凸面的毛细管现象的示意图。凹凸面的毛细管现象可通过以下Lucas-Washburn的式(1)来表示。

L=√(rγcosθt/2η)　　　(1)

L=位移(前进的距离)，r：毛细管半径，γcosθ：浸透力，γ：液体的表面张力，θ：接触角，η：粘度，t：时间。

(表面积增加)

图10C为用以说明凹凸面的接触角的示意图。凹凸面的接触角可通过以下Wenzel的式(2)来表示。

cosθ*=rcosθ　　　　　(2)

r (实际面积系数)：A_act/A_app (A_act：实际面积，A_app：表观面积)，θ*：凹凸面的接触角，θ：平滑面的接触角。

根据第3实施方式，由于在耐指纹表面(防污性表面) S设置多个凹部2a，所以与第1实施方式相比可降低耐指纹表面S处的油酸的前进接触角和油酸的后退接触角。因此，可进一步提高由手指等产生的指纹消除性。

[变形例]

图11为示出变形例所涉及的防污性基材的一个构成例的截面图。可在基材1的表面设置凹部1a，并以模仿该凹部1a的方式设置防污层2的凹部2a。在该构成的防污性基材中，可采用第2实施方式的防污层2作为防污层2。即，可在设置有多个凹部1a的基材1的表面上吸附吸附化合物2a，从而设置防污层2。

<4. 第4实施方式>

图12为示出本技术的第4实施方式所涉及的显示装置的一个构成例的斜视图。如图12所示，在显示装置101的显示面S₁上设置防污层2。在图12中，示出将防污层2直接设置于显示装置101的显示面S₁上的实例，但也可通过将防污性基材应用于显示装置101的显示面S₁，从而将防污层2设置于显示装置101的显示面S₁上。在这样对显示面S₁应用防污性基材的情况下，可采用以下构成：介助贴合层而将防污性基材贴合于显示装置101的显示面S₁。在采用该构成的情况下，作为防污性基材的基材1，优选使用具有透明性和柔性的片材等。

作为显示装置101，例如可使用液晶显示器、CRT (阴极射线管，Cathode Ray Tube)显示器、等离子体显示器(Plasma Display Panel：PDP)、电致发光(Electro Luminescence：EL)显示器、表面传导型电子发射显示器(Surface-conduction Electron-emitter Display：SED)等各种显示装置。

根据第4实施方式，由于将显示装置101的显示面S₁设为耐指纹表面S，所以可将附着于显示装置的显示面S₁的指纹用手指等擦拭而薄薄地润湿展开，从而不显眼。因此，可提高显示装置101的视认性。

<5. 第5实施方式>

图13A为示出本技术的第5实施方式所涉及的显示装置的一个构成例的斜视图。如图13A所示，在显示装置101的显示面S₁上设置输入装置102。然后，在输入装置102的输入面S₂上设置防污层2。例如介助包含粘合剂等的贴合层而将显示装置101与输入装置102贴合。在图13A中，示出将防污层2直接设置于输入装置102的输入面S₂上的实例，但也可通过将防污性基材应用于输入装置102的输入面S₂，从而将防污层2设置于输入装置2的显示面S₁上。在这样对输入面S₂应用防污性基材的情况下，可采用以下构成：介助贴合层而将防污性基材贴合于输入装置102的输入面S₂。在采用该构成的情况下，作为防污性基材的基材1，优选使用具有透明性和柔性的片材等。

输入装置102例如为电阻膜式或电容式的触摸面板。作为电阻膜式的触摸面板，例如可列举出矩阵电阻膜式的触摸面板。作为电容式的触摸面板，例如可列举出线传感器(Wire Sensor)式或ITO栅(ITO Grid)式的投影型电容式触摸面板。

根据第5实施方式，由于可将输入装置102的输入面S₂设为耐指纹表面S，所以可将附着于输入装置102的输入面S₂的指纹用手指等擦拭而薄地润湿展开，从而不显眼。因此，可提高设置有输入装置102的显示装置101的视认性。

[变形例]

图13B为示出本技术的第5实施方式所涉及的输入装置的变形例的分解斜视图。如图13B所示，可在输入装置102的输入面S₂上进一步具备前面板(表面构件) 103。在该情况下，在前面板103的面板表面S₃上设置防污层2。例如通过包含粘合剂等的贴合层而将输入装置102与前面板(表面构件) 103贴合。

[实施例]

按照以下顺序对本技术的实施例进行说明：

1. 含有具有酯键的化合物的表面

2. 含有具有环状烃基的化合物的表面

3. 动态接触角

4. 具有沟形状的表面

以下通过实施例具体地说明本技术，但本技术并不只限定于这些实施例。

<1. 含有具有酯键的化合物的表面>

(实施例1)

使用3号绕线棒(coil bar)将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟，从而在TAC薄膜上形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(10)所示的结构的化合物：10质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

分子量(Mw)：100000

R₁、R₂、R₆为烃基，R₃为碳原子数为2个以上的烃基，R₅为碳原子数为2个以上的基团，在中间和/或末端具有氨基。

(实施例2)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟，从而在TAC薄膜上形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(11)所示的结构的化合物：10质量%

溶剂(甲乙酮)：90质量%

分子量(Mn)：8000

R₁~R₄为烃基。

(实施例3)

使用5号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而在TAC薄膜上形成防污层。

(树脂组合物的组成)

亲水硬涂层(中国涂料株式会社制，商品名：Pholucid (フォルシード) 440C-M去掉引发剂)：38.4质量%

多官能丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制，商品名：A-TMM-3L)：10.5质量%

光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制，商品名：Irgacure (イルガキュアー) 127)：1.1质量%

溶剂(乙醇)：50质量%

进而，于室温在下列组成的处理溶液中浸渍10秒，在亲水硬涂层表面上吸附化合物。然后，用乙腈充分地进行冲洗，于80℃干燥2分钟。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(处理溶液的组成)

具有如下列式(12)所示的结构的化合物：10质量%

溶剂(乙腈)：90质量%

分子量(Mw)：100000

R₁、R₂、R₆为烃基，R₃为碳原子数为2个以上的烃基，R₅为碳原子数为2个以上的基团，在中间和/或末端具有氨基。

(实施例4)

使用10号绕线棒将下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而在TAC薄膜上形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

聚氨酯丙烯酸酯(Sartomer公司(サートマー社)制，商品名：CN9006)：9.4质量%

光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制，商品名：Irgacure (イルガキュアー) 184)：0.5质量%

溶剂(叔丁醇)：90质量%

流平剂(具有如下列式(13)所示的结构的化合物)：0.1质量%

R₁~R₄为烃基。

(比较例1)

使用蒸镀法将含有氟原子、具有如下列式(14)所示的结构的化合物附着于玻璃基板上。由此，得到作为目标的表面处理基板。

R₁为含有氟原子的烃基，R₂为碳原子数为5以下的烃基。

(比较例2)

使用5号绕线棒将下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟后在氮气氛下进行UV固化，从而在TAC薄膜上形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

聚氨酯丙烯酸酯(Sartomer公司(サートマー社)制，商品名：CN9006)：9.4质量%

光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制，商品名：Irgacure (イルガキュアー) 184)：0.5质量%

溶剂(叔丁醇)：90质量%

亲油化剂(丙烯酸十六烷基酯)：0.1质量%

接着，对于如上所述而得的实施例1~4，比较例1、2的防污性薄膜表面，进行“动态接触角的评价”、“指纹的手指消除性的评价”和“硬度的评价”。将其结果示出于表1中。

(水和油酸静态接触角的评价)

使用便携式接触角计(协和界面化学株式会社制，商品名：PCA-1)在下列条件下评价水和油酸的静态接触角。将其结果示出于表1中。

·将水加入塑料注射器中，在其前端安装不锈钢制的针(15G)而滴落至评价面。

·将油酸加入塑料注射器中，在其前端安装特氟隆制的针(18G)而滴落至评价面。

·液滴滴落量：2μl (水)、1μl (油酸)

·测定温度：25℃。

(动态接触角的评价)

使用自动接触角计(协和界面化学株式会社制，商品名：DM-501)，在下列条件下通过滑落法评价油酸开始滚落时的前进接触角和后退接触角。将其结果示出于表1中。此处，前进接触角和后退接触角的定义如参照图2进行说明那样。

·将油酸加入塑料注射器中，在其前端安装不锈钢制的针而滴落至评价面。

·油酸滴落量：5μl

·测定温度：25℃

·开始滚落的判定设为液滴的倾斜下侧开始移动的时刻

·前进接触角和后退接触角通过切线法求得。

(指纹的手指消除性的评价)

首先，使用两面粘合片(日东电工株式会社制，商品名：LUCIACS CS9621T)，将已准备的样品贴合于黑色丙烯酸板(Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (三菱レイヨン株式会社)制，商品名：Acrylite (アクリライト))上，使其评价面朝上。接着，将指纹沾于评价面，用手指将该部分擦拭5次后，对该表面照射荧光灯，通过目视观察表面，按照以下标准进行评价。将其结果示出于表1中。

4：与评价结果“3”相比进一步未观察到指纹附着脏污

3：几乎未观察到指纹附着脏污

2：稍稍观察到指纹附着脏污

1：明显地观察到指纹附着脏污。

(硬度的评价)

硬度通过马氏硬度(Martens Hardness)进行评价。马氏硬度用PICODENTOR HM500 (商品名，Fischer Instruments K.K. ((株)フィッシャー·インストルメンツ)制)进行评价。将负荷设为3mN。使用金刚石锥体作为针，在136°的面角下进行测定。

(临界表面张力的评价)

使用便携式接触角计(协和界面化学株式会社制，商品名：PCA-1)，在下列条件下评价水、乙二醇和十六烷的静态接触角，然后使用Zisman Plot算出临界表面张力，将其结果示出于表1中。

·将水和乙二醇加入塑料注射器中，在其前端安装不锈钢制的针(15G)而滴落至评价面。

·将十六烷加入塑料注射器中，在其前端安装特氟隆制的针(22G)而滴落至评价面。

·液滴滴落量：2μl

·测定温度：25℃

表1示出实施例1~4和比较例1、2的评价结果。

(考察)

由表1知晓以下情况。

实施例1、2：由于通过具有酯键的化合物形成防污层，所以油酸的动态接触角低，得到良好的消除性。

实施例3：即使在使具有酯键的化合物吸附于表面的情况下，也表现出良好的消除性。

实施例4：即使在通过将丙烯酸化合物作为主要成分的材料形成防污层的情况下，通过使该材料中含有具有酯键的化合物作为流平剂，可以抑制表面的动态接触角，改善消除性。

比较例1：在疏水疏油防污表面，动态接触角高，手指产生的消除性差。

比较例2：即使为难以观察到附着指纹的亲油薄膜，由于动态接触角也高，所以利用手指的消除性差。

<2. 含有具有环状烃基的化合物的表面>

(实施例5)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor (ゼオノア) 薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(15)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.5质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例6)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(16)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.5质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例7)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(17)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.4905质量%

具有如下列式(18)所示的结构的单官能甲基丙烯酸酯：0.0095质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例8)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(19)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.4525质量%

具有如下列式(20)所示的结构的单官能甲基丙烯酸酯：0.0475质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例9)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(21)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.405质量%

具有如下列式(22)所示的结构的单官能甲基丙烯酸酯：0.095质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例10)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(23)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.31质量%

具有如下列式(24)所示的结构的单官能甲基丙烯酸酯：0.19质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例11)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为100μm的Zeonor薄膜(Zeon Corporation (日本ゼオン株式会社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而形成防污层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(25)所示的结构的二官能丙烯酸酯：9.4525质量%

具有如下列式(26)所示的结构的单官能丙烯酸酯：0.0475质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：0.5质量%

溶剂(甲基异丁基酮)：90质量%

(实施例12)

在常温下将厚度为1.3mm的载玻片(松浪硝子工业社制)在具有下列组成的树脂组合物中浸渍2小时。然后，用丙酮进行冲洗，于80℃干燥2分钟，进而于150℃固化2小时。由此，得到作为目标的防污性表面。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(27)所示的结构的化合物：1质量%

具有如下列式(28)所示的结构的化合物：1质量%

溶剂(丙酮)：98质量%

(动态接触角的评价)

与上述实施例1~4和比较例1、2相同地评价动态接触角。将其结果示出于表3中。

(指纹的手指消除性的评价)

与上述实施例1~4和比较例1、2相同地评价指纹的手指消除性。将其结果示出于表2中。

表2示出实施例5~12的评价结果。

[表2]

(考察)

由表2知晓以下情况。

在实施例5、6中，由于在表面含有具有环状烃基的化合物，所以油酸的动态接触角低，得到良好的消除性。

在实施例7~10中，由于在表面同时含有具有环状烃基的化合物和在一个末端具有链状烃基的化合物，所以油酸的动态接触角低，得到良好的消除性。

在实施例11中，在表面含有具有带支链的链状烃基的化合物。在该情况下，也得到与实施例7~10相同的效果。

在实施例12中，在表面含有以下硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂包含具有环状烃基的化合物和在一个末端具有链状烃基的化合物双方。在该情况下，也得到与实施例7~10相同的效果。

虽然若将具有环状烃基的化合物与具有链状烃基的化合物组合使用，则进一步提高指纹的消除性的理由不确定，但可认为如下。环状烃基部分较大，认为在形成耐指纹表面时在环状烃基彼此之间存在一些间隙。由于在该部分无原子，所以在该部分分子间力几乎不作用于指纹成分，无法吸引指纹成分。因此，若将具有环状烃基的化合物与具有链状烃基的化合物组合而使用，则链状烃基的一部分进入环状烃基彼此的间隙，认为可填补该间隙。由此，认为吸引耐指纹表面的指纹成分的力增加，指纹的消除性提高。

如上，在表面含有具有环状烃基的化合物的情况下，也与在表面含有上述具有酯键的化合物的情况相同地得到良好的消除性。

在表面同时含有具有环状烃基的化合物和具有链状烃基的化合物的情况下，与表面单独含有具有环状烃基的化合物或具有酯键的化合物的情况相比，得到更良好的消除性。

<3. 动态接触角>

(比较例3)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟，从而在TAC薄膜上形成涂布层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

三醋酸纤维素(和光纯药制)：10质量%

溶剂(二氯甲烷)：90质量%。

(比较例4)

使用3号绕线棒将具有下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于150℃干燥30分钟，从而在TAC薄膜上形成涂布层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

聚酰胺酰亚胺(东洋纺社制，商品名：HR-11NN)：10质量%

溶剂(N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP))：90质量%。

(比较例5)

使用3号绕线棒将下列组成的树脂组合物涂布于厚度为80μm的TAC薄膜(富士薄膜公司(富士フィルム社)制)上，于80℃干燥2分钟后，在氮气氛下进行UV固化，从而在TAC薄膜上形成涂布层。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

聚氨酯丙烯酸酯(Sartomer公司(サートマー社)制，商品名：CN9006)：9.5质量%

光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制，商品名：Irgacure (イルガキュアー) 184)：0.5质量%

溶剂(叔丁醇)：90质量%。

接着，对于上述各种薄膜的表面，如下进行“动态接触角的评价”和“指纹的手指消除性的评价”。

(动态接触角的评价)

与上述实施例1~4，比较例1、2相同地评价指纹的动态接触角。将其结果示出于表3中。

(指纹的手指消除性的评价)

与上述实施例1~4，比较例1、2相同地评价指纹的手指消除性。将其结果示出于表3中。

表3示出比较例3~5的评价结果。

(考察)

若综合如表1~表3所示的评价结果，则对于油酸的动态接触角和防污层材料的分子结构知晓以下情况。

(油酸的动态接触角)

若油酸的前进接触角为15°以下，后退接触角为10°以下，则消除性优异，只通过用手指擦拭附着于评价面的指纹，指纹附着脏污变得几乎看不到。

(防污层材料的分子结构)

在实施例1~12中，使用分子内具有酯键或环状烃基(饱和环状烃基或不饱和环状烃基)的材料作为防污层的材料。在这样的防污层中，防污层表面的油酸的动态接触角小，得到良好的消除性。

在比较例3中，虽然使用分子内具有酯键的材料(三醋酸纤维素)作为防污层的材料，但防污层表面的油酸的动态接触角大，未得到良好的消除性。认为其原因在于，酯键位于侧链等的末端。

在比较例4、5中，使用分子内具有酰胺键或聚氨酯键(urethane linkage)的材料(聚酰胺酰亚胺、聚氨酯丙烯酸酯)作为防污层的材料。在这样的防污层中，防污层表面的油酸的动态接触角大，未得到良好的消除性。

若综合以上评价结果，则知晓以下情况：指纹消除性与油酸的动态接触角相关，通过将表面的油酸的前进接触角设为15°以下，将油酸的后退接触角设为10°以下，可提高指纹消除性。

另外，知晓以下情况：通过在表面含有在非末端的部分具有酯键的化合物或具有环状烃基的化合物，可得到具有上述动态接触角数值范围的表面。

<4. 具有沟形状的表面>

(实施例13)

首先，以1μm的厚度在φ150mm的玻璃基板(Atock Inc. (アトック社)制，AN100材)上蒸镀Cr (铬)层。接着，在Cr层上旋转涂布光致抗蚀剂(AZ Electronic Materials Co., Ltd. (AZエレクトリックマテリアルズ株式会社)制)，于100℃预烘焙2分钟。由此，膜厚约为1μm的光致抗蚀剂层成膜。

接着，使用画有图案的铬玻璃掩模，将已成膜的光致抗蚀剂层曝光。接着，使用AZ300MIF (AZ Electronic Materials Co., Ltd. (AZエレクトリックマテリアルズ社)制)，将已曝光的光致抗蚀剂层显像，于110℃进行2分钟的后烘焙。接着，使用Cr蚀刻剂(Nagase ChemteX Corporation (ナガセケムテック株式会社)制，商品名：11N)，将铬层蚀刻5分钟。

接着，使用剥离液(东京应化工业株式会社制，商品名：106)，将光致抗蚀剂层于80℃处理5分钟，从已蚀刻的Cr层进行剥离。接着，在已剥离光致抗蚀剂层的玻璃基板上旋转涂布疏水处理剂(信越化学工业社制，商品名：KP-801)，进行脱模处理。由此，得到在一个主面上设置有转印图案的玻璃基板(模子)。接着，在PET基材(Mitsubishi Polyester, Inc. (三菱ポリエステル社)制，商品名：O300E)上涂布下列组成的树脂组合物后，通过将作为模子的玻璃基板的转印图案UV转印于树脂组合物上，从而形成在表面具有格子状沟(图9B)的防污层。需说明的是，设为格子状沟的间距P：100μm、宽度W：10μm、深度D：0.9μm。由此，得到作为目标的防污性薄膜。

(树脂组合物的组成)

具有如下列式(29)所示的结构的树脂：95质量%

Irgacure (イルガキュアー) 184 (Ciba Specialty Chemicals Inc. (チバスペシャリティケミカルズ社)制光聚合引发剂)：5质量%

(形状的评价)

用激光显微镜确认如上得到的实施例13的防污性薄膜的表面形状。将其结果示出于图14A中。

(动态接触角的评价)

与上述实施例1~4和比较例1、2相同地评价动态接触角。将其结果示出于表4中。

表4示出实施例13的评价结果。需说明的是，为了比较评价结果，在表4中也一并记载实施例6的评价结果。

[表4]

(考察)

由表4知晓以下情况。

在实施例6中，由于使用具有环状烃基的树脂组合物而形成平面，所以可将后退接触角降低至6.7°。

在实施例13中，由于使用与实施例6相同的树脂组合物而形成具有格子状沟的表面，所以与实施例6相比可进一步降低后退接触角，为4.7°。

因此，为了进一步降低动态接触角，进一步提高指纹的手指消除性，优选在防污层的表面设置沟等凹部。

以上具体地对本技术实施方式和实施例进行说明，但本技术并不限定于上述实施方式，可基于本技术的技术思想进行各种变形。

例如，在上述实施方式和实施例中列举的构成、方法、工序、形状、材料和数值等到底不过为实例，可根据需要使用与它们不同的构成、方法、工序、形状、材料和数值等。

另外，上述实施方式的构成、方法、工序、形状、材料和数值等只要不偏离本技术的主旨，就可相互组合。

另外，本技术也可采用以下构成。

(1)

一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于所述基材表面上的防污层，

其中，

所述防污层含有下列化合物中的至少一方：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，和具有环状烃基的第2化合物，

所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。

(2)

(1)中记载的防污性基材，其中，所述防污层具有设置有凹部的表面。

(3)

(2)中记载的防污性基材，其中，所述凹部对位于所述防污层表面的液体产生正的毛细管压力。

(4)

(2)或(3)中记载的防污性基材，其中，所述凹部的宽度W在1nm以上且1mm以下的范围内，

所述凹部的深度D在1nm以上且1mm以下的范围内。

(5)

(1)~(4)的任一项中记载的防污性基材，其中，所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方吸附于所述基材表面。

(6)

(1)~(5)的任一项中记载的防污性基材，其中，所述防污层为含有所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方的单分子层。

(7)

(1)~(6)的任一项中记载的防污性基材，其中，所述防污层为涂布层。

(8)

(7)中记载的防污性基材，其中，所述涂布层含有能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂组合物中的至少一方，

所述能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂组合物含有所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方。

(9)

(7)或(8)中记载的防污性基材，其中，所述第1化合物和所述第2化合物为添加剂。

(10)

(9)中记载的防污性基材，其中，所述添加剂为流平剂。

(11)

(1)~(10)的任一项中记载的防污性基材，其中，所述防污层含有所述第2化合物的同时还含有在末端具有链状烃基的第3化合物。

(12)

(1)~(11)的任一项中记载的防污性基材，其中，所述第1化合物以下列式(1)或式(2)表示，

所述第2化合物以下列式(3)或式(4)表示：

(式中，R₁为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团，R₂为碳原子数为2个以上的基团。)

(式中，R₁、R₂各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团。)

。

(13)

(12)中记载的防污性基材，其中，所述式(1)和式(2)的R₁、R₂各自独立地为烃基、磺基、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基、氨基、酰胺基、磷酸基、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯基、氰基、巯基或羟基。

(14)

(11)中记载的防污性基材，其中，所述第3化合物以下列式(5)或式(6)表示：

。

(15)

一种输入装置，所述输入装置具有设置有防污层的输入面，

具有以下输入面，所述输入面的所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。

(16)

一种显示装置，所述显示装置具有设置有防污层的显示面，

所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。

(17)

一种防污层，所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下。

符号说明

1　基材

1a　凹部

2　防污层

2a　凹部

2a　吸附化合物

3　锚固层

4　硬涂层

101　显示装置

102　输入装置

103　前面板

S　耐指纹表面(防污性表面)

S₁　显示面

S₂　输入面

S₂　面板表面

θ_a　前进接触角

θ_r　后退接触角。

Claims (17)

1. 一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于所述基材表面上的防污层，

其中，

所述防污层含有下列化合物中的至少一方：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，和具有环状烃基的第2化合物，

所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方吸附于所述基材表面，

所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。

2. 一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于所述基材表面的防污层，

其中，

所述防污层含有下列化合物中的至少一方：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，和具有环状烃基的第2化合物，

所述第1化合物以下列式(1)或式(2)表示，

所述第2化合物以下列式(3)或式(4)表示，

所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下：

式中，R¹为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团，R²为碳原子数为2个以上的基团；

式中，R¹、R²各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团；

；

。

3. 一种防污性基材，所述防污性基材具备：

具有表面的基材，和

设置于所述基材表面的防污层，

其中，

所述防污层含有下列化合物中的至少一方：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，和具有环状烃基的第2化合物，

所述防污层含有所述第2化合物的同时还含有在末端具有链状烃基的第3化合物，

所述第3化合物以下列式(5)或式(6)表示，

所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，

所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下：

；

。

4. 权利要求1~3中任一项的防污性基材，其中，所述防污层具有设置有凹部的表面。

5. 权利要求4的防污性基材，其中，所述凹部对位于所述防污层表面的液体产生正的毛细管压力。

6. 权利要求4或5的防污性基材，其中，所述凹部的宽度W在1nm以上且1mm以下的范围内，

所述凹部的深度D在1nm以上且1mm以下的范围内。

7. 权利要求1的防污性基材，其中，所述防污层为含有所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方的单分子层。

8. 权利要求1~7中任一项的防污性基材，其中，所述防污层为涂布层。

9. 权利要求8的防污性基材，其中，所述涂布层含有能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂组合物中的至少一方，

所述能量射线固化性树脂组合物和热固化性树脂组合物含有所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方。

10. 权利要求8或9的防污性基材，其中，所述第1化合物和所述第2化合物为添加剂。

11. 权利要求10的防污性基材，其中，所述添加剂为流平剂。

12. 权利要求2的防污性基材，其中，所述式(1)和式(2)的R¹、R²各自独立地为烃基、磺基、磺酰基、磺酰胺基、羧酸基、氨基、酰胺基、磷酸基、膦基、硅醇基、环氧基、异氰酸酯基、氰基、巯基或羟基。

13. 一种输入装置，所述输入装置具备权利要求1~12中任一项的防污性基材。

14. 一种显示装置，所述显示装置具备权利要求1~12中任一项的防污性基材。

15. 一种防污层，所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

所述第1化合物和所述第2化合物中的至少一方吸附于所述基材表面，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下。

16. 一种防污层，所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

所述第1化合物以下列式(1)或式(2)表示，

所述第2化合物以下列式(3)或式(4)表示，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下：

式中，R¹为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团，R²为碳原子数为2个以上的基团；

式中，R¹、R²各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团；

；

。

17. 一种防污层，所述防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方，

所述防污层含有所述第2化合物的同时还含有在末端具有链状烃基的第3化合物，

所述第3化合物以下列式(5)或式(6)表示，

表面的油酸的前进接触角为15°以下，

表面的油酸的后退接触角为10°以下：

；

。