JP2010248426A - 耐指紋性に優れた転写材及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】プラスチック表面の耐指紋性、耐擦傷性、硬度を付与する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する転写材を提供すること。
【解決手段】分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有することを特徴とする転写材。
【選択図】なし

Description

本発明は、プラスチック表面の耐指紋性、耐擦傷性、硬度を付与するハードコート層あるいは該ハードコート層を与える紫外線硬化型樹脂組成物の層を有する転写材に関する。更に詳しくは、離型性を有する基材、即ち、離型層を設けたポリエステルや離型層を設けたアクリル等のプラスチックフィルム又はシートに塗布し、紫外線硬化させることにより耐指紋性、耐擦傷性、硬度を付与することが可能な紫外線硬化型樹脂組成物の層、あるいは該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する転写材に関する。特に耐指紋性に優れていることから、タッチパネル等のディスプレイ類やインモールド成形で製造される携帯電話やノートパソコン、弱電製品等の筐体類、家電製品等のスイッチパネル等に適している。本発明で耐指紋性とは、指紋押捺痕の見えにくさのことである指紋視認性と付着した指紋痕の拭取り易さのことである指紋拭取り性に優れることを意味する。

更に本発明は、成形品表面部分の曲面部にクラックを発生させず、且つ、耐擦傷性に優れる成形品のハードコート層として用い得る紫外線硬化型樹脂組成物の転写材に関する。即ち、成形性にも優れているためインモールド成形に用い得る転写材に関する。

現在、プラスチックは自動車業界、家電業界、電気電子業界を初めとして種々の産業界で大量に使われている。このようにプラスチックが大量に使われているのは、その加工性、透明性に加えて軽量、安価、光学特性が優れている等の理由による。しかしながら、プラスチックはガラス等に比べて柔らかく、表面に傷が付きやすい等の欠点を有している。これらの欠点を改良するために、プラスチック表面にハードコート剤をコーティングする事が一般的な手段として行われている。このハードコート剤には、シリコーン系塗料、アクリル系塗料、メラミン系塗料等の熱硬化型のハードコート剤が用いられている。この中でも特に、シリコーン系ハードコート剤は、硬度が高く、品質が優れているため多く用いられている。しかしながら、硬化時間が長く、高価であり、連続的に加工するフィルムに設けられるハードコート層には適しているとは言えない。

近年、感光性のアクリル系ハードコート剤が開発され、利用されるようになった（特許文献１）。感光性ハードコート剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより直ちに硬化して硬い皮膜を形成するため、加工処理スピードが速く、又、硬度、耐擦傷性等に優れた性能を持ち、トータルコスト的に安価になるため、今やハードコート分野の主流になっている。特に、ポリエステル等のフィルムの連続加工に適している。

プラスチックのフィルムとしては、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、塩化ビニルフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム等があるが、ポリエステルフィルムが種々の優れた特性から最も広く使用されている。このポリエステルフィルムは、ガラスの飛散防止フィルム、あるいは、自動車の遮光フィルム、ホワイトボード用表面フィルム、システムキッチン表面防汚フィルム等に使用されている。又、電子材料面では、ＣＲＴ（ブラウン管）フラットテレビ、タッチパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイ等の機能性フィルム、家電製品のボディやスイッチパネル、携帯電話やパソコンの筐体、自動車内装用部品として広く用いられている。これらはいずれもその表面に傷が付かないようにするためにハードコート層を設けている。

又、プラスチックのフィルム以外ではポリカーボネートやアクリル等のシートや基板にハードコートしたものが、光ディスクや液晶のバックライト周辺関連部材に使用されている。

ハードコートした基材については、近年、耐擦傷性という性能以外の機能性が求められてきている。例えば、フィルムを設けたＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、タッチパネル等の表示体では、反射により表示体画面が見難くなり目が疲れやすいという問題が生じるため、用途によっては表面反射防止能のあるハードコート処理が必要とされている（特許文献２）。

又、帯電防止機能を付与したハードコートとして界面活性剤や導電性の金属酸化物の使用についても開発されている（特許文献３）。

更に、ハードコートとしての耐擦傷性、硬度といった特性と相反する伸びや柔軟性といった性能をハードコートに求められる場合もある。

成形加工分野においてもフィルムを使用する場合が増えてきている。例えば、携帯電話やパソコン等の筐体、メーターカバー等の自動車内装材料、ＡＶ機器や家電製品の表示パネルやスイッチボタン等の成形加工時にもフィルムが使用されるようになってきている。

プラスチック製品の成形を行なう際には金型を使用し射出成形にて行なうが、この製品の表面を加工する方法として、フィルムを金型内面に装着し、成形と同時に成形品の表面に貼り付け、デザインや機能性を成形と同時に付与する方法（加飾）が提案されており、インモールド成形、フィルムインサートインジェクション成形等と呼ばれている。即ち、携帯電話やパソコン等の筐体は金型を使用した射出成形等の成形技術により製造しているが、これらプラスチック製品の製造において、金型内に機能を設けたフィルムを装着し、同時に射出成形を行なうことでフィルムの機能を成形と同時に付与する方法である。更に、この装着するフィルムに模様や柄を印刷したり、ハードコート処理をしておくことにより、成形品への装飾や硬度アップといった美粧性、機能性を付与することもできるようになっている。

射出成形に使用するハードコートフィルムは、基材フィルムにハードコートを塗工し、ハードコートフィルムごと一体成形する場合と、離型層を有するフィルムにハードコートを塗工し、成形加工後に離型フィルムを取り除く場合とがある（特許文献４）。

射出成形に使用するハードコートはプラスチック製品の一番表面にあることから、表面硬度はもちろんのこと、光沢感といった美粧性や、成形加工に耐えうる伸び、柔軟性といった硬さと相反する性能も必要である。そのため、ハードコート層を基材フィルム上に形成させる場合、１）既に硬化（架橋）しているハードコートフィルムを一体成形してしまう方法と、２）ハードコートフィルムを作製する際、膜形成のみを行い、成形後に硬化（架橋）させる方法がある。

又、インモールド成形には、ハードコート層を設けた基材フィルムそのものを一体成形してしまう方法（ＩＭＬ：インモールドラミネーション又はインモールドラベリング）と離型層を設けたフィルム上にハードコート層等を設け、成形時にはハードコート層等のみを転写し、離型層を設けたフィルムは一体化されないで残る方法（ＩＭＤ：インモールドデコレーション又はインモールド転写）とに大きく分けることができる。

ＩＭＤフィルムに使用するハードコートとしては、プレキュアータイプとアフターキュアータイプの２種類に分けることができる。プレキュアータイプとは、離型層上にハードコート層を設けた際に紫外線によりハードコート層を硬化させてしまうものであり、アフターキュアータイプとは、成形後に紫外線により硬化するものである。

ＩＭＬ方式の一般的な層構成としては、成形後の表側から、「ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／蒸着層又は印刷層／接着層／成形物」となるが、ＩＭＤ方式の一般的な層構成としては、成形後の表側から、「基材／離型層／ハードコート層／アンカー層／蒸着層又は印刷層／接着層／成形物」となり、成形後に基材を離型層から剥がし、結果としてハードコート層が最表面に来ることになる。

最近では、各種筐体、各種表示装置、タッチパネル、成形品のスイッチボタン等については、これらの表面に指紋が付着しにくい機能の付与が求められ、指紋が付着しても簡単に拭取れるような機能性が求められている。

指紋付着防止、指紋痕拭き取り性を向上させる方法として、フッ素系材料やシリコーンオイル等をコーティング組成物中に混合して使用することにより表面の撥水性・撥油性を向上させる方法がある。しかしながら、この方法ではフッ素やシリコーンといった低屈折率成分が表面に存在することにより、指紋成分との屈折率差が大きくなり、少量付着している指紋が見えやすくなってしまうといった欠点がある。更に、拭き取りが不十分であると、屈折率差が大きいことに加え、撥水・撥油機能があるために指紋との接触角が高くなり、より指紋が見えやすくなってしまうという欠点もある。

又、上記で述べたＩＭＤフィルムを作製する場合、ハードコート層の上に様々な層を重ねていくことから、ハードコート層にフッ素やシリコーン成分が含まれていると、ハードコート上に他の層を塗り重ねることが困難であるという問題が発生し、ＩＭＤフィルムのハードコート層に耐指紋性を付与することは非常に困難であった。

特開平９−４８９３４号公報 特開平９−１４５９０３号公報 特開平１０−２３１４４４号公報 特許第３００７３２６号公報

本発明は、上記の欠点を改善し、プラスチック表面の耐指紋性、耐擦傷性、硬度を付与するハードコート層を形成するための転写材を提供することを目的とする。

本発明者らは前記課題を解決するため、鋭意検討を行った結果、特定の物性範囲を有する特定の化合物、特定の組成を有する樹脂組成物を用いた転写材が前記課題を解決することを見いだし、本発明に到達した。

即ち、本発明は、
（１）分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する転写材；

（２）紫外線硬化型樹脂組成物が、その硬化物の屈折率が１．４５〜１．５５の範囲であり、該硬化物にオレイン酸を滴下し室温３０秒後に測定したオレイン酸の接触角が１５°以下である硬化物を与える樹脂組成物である前記（１）に記載の転写材；
（３）分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）が活性水素を有する多官能（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とを反応させて得られる化合物である前記（１）又は（２）に記載の転写材；
（４）（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）が分子中に１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物である前記（１）〜（３）のいずれか一項に記載の転写材；
（５）ポリエーテル骨格がポリテトラメチレングリコール骨格である前記（１）〜（４）のいずれか一項に記載の転写材；
（６）紫外線硬化型樹脂組成物中の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）の添加量が、該樹脂組成物の固形分１００重量％に対して、１〜３０重量％である前記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の転写材；

（７）紫外線硬化型樹脂組成物中に光重合開始剤（Ｃ）を含有する前記（１）〜（６）のいずれか一項に記載の転写材；
（８）紫外線硬化型樹脂組成物中に一次粒径が１ｎｍ〜２００ｎｍのコロイダルシリカ（Ｄ）を含有する前記（１）〜（７）のいずれか一項に記載の転写材；

（９）離型性を有する基材上に前記（１）〜（８）のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層が設けられていることを特徴とする転写材；
（１０）離型性を有する基材上に前記（１）〜（８）のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層の上に、アンカー層、印刷層、接着層がこの順で設けられていることを特徴とする転写材。

（１１）離型性を有する基材上に前記（１）〜（８）のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物の層を設けた後、紫外線を照射してハードコート層とすることを特徴とする転写材の製造方法；
（１２）前記（１）〜（１０）のいずれか一項に記載の転写材を用いて成形品表面にハードコートを形成させるハードコートされた成形品の製造方法；
に関する。

本発明により、優れた耐指紋性（即ち、指紋視認性及び指紋拭取り性が良好）、優れた耐擦傷性、優れた硬度を有するハードコート層あるいは該ハードコート層を与える紫外線硬化型樹脂組成物の層を構成部分とする転写材を提供することができる。

本発明の転写材は、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有することを特徴とする。

まず、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物について説明する。
分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）としては、好ましくは分子中に３〜１２個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物であり、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン（ＥＣＨ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、シリコーンヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、活性水素を有する多官能（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物を反応させた多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。なお、これらは単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。

前記の活性水素を有する多官能（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物を反応させた多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物における活性水素を有する多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール類、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等のメチロール類、ビスフェノールＡジエポキシアクリレート等のエポキシアクリレート類等を挙げることができる。好ましくは、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートが挙げられる。これらの活性水素を有する多官能（メタ）アクリレートは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。

該ポリイソシアネート化合物としては、鎖状飽和炭化水素、環状飽和炭化水素（脂環式）、芳香族炭化水素を構成要素とするポリイソシアネート化合物が挙げられ、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の鎖状飽和炭化水素ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、水添トルエンジイソシアネート等の環状飽和炭化水素（脂環式）ポリイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルー４，４’−ジイソシアネート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネートが挙げられる。好ましくは、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートが挙げられる。これらポリイソシアネート化合物は単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。

前記多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物の製造に際し、活性水素を有する多官能（メタ）アクリレート化合物中の活性水素基１当量に対し、ポリイソシアネート化合物をイソシアネート基当量として通常０．１〜５０当量の範囲で使用し、好ましくは０．１〜１０当量の範囲で使用する。反応温度は通常３０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃の範囲である。反応の終点は残存イソシアネート量を過剰のｎ−ブチルアミンで反応させ、１Ｎ塩酸にて逆滴定する方法により算出し、残存ポリイソシアネート量が０．５重量％以下となった時点を終了とする。

反応時間の短縮を目的として触媒を添加してもよく、該触媒としては、塩基性触媒及び酸性触媒のいずれかが用いられる。
該塩基性触媒としては、例えば、ピリジン、ピロール、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、アンモニア等のアミン類、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類を挙げることができる。
該酸性触媒としては、例えば、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、トリブトキシアルミニウム、トリチタニウムテトラブトキシド、ジルコニウムテトラブトキシド等の金属アルコキシド類、塩化アルミニウム等のルイス酸類、２−エチルヘキサンスズ、オクチルスズトリラウリレート、ジブチルスズジラウリレート、オクチルスズジアセテート等のスズ化合物が挙げられる。
これら触媒の添加量は、ポリイソシアネート１００重量部に対して、通常０．１重量部〜１重量部程度である。

更に、反応に際して、反応中の（メタ）アクリレート化合物の重合を防止するために重合禁止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン等）を使用することが好ましく、該重合禁止剤の使用量は反応混合物に対して０．０１重量％〜１重量％程度、好ましくは０．０５重量％〜０．５重量％程度である。反応温度は６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃である。

前記の紫外線硬化型樹脂組成物に含有されるポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）におけるポリエーテル骨格としては、ポリエーテル骨格を有する多価アルコールに基づく構造であり、該多価アルコールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。中でも、ポリテトラメチレングリコールが好ましい。

ポリテトラメチレングリコール骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）としては、例えば、ポリテトラメチレングリコールのポリエステル（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールのエポキシ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールのウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられ、特にポリテトラメチレングリコールのウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。

該ポリテトラメチレングリコールのウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリテトラメチレングリコールの骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリテトラメチレングリコールを使用し、ヘキサメチレンジイソシアネート、脂環式ポリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネート類と、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートのε−カプロラクトン付加物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の水酸基含有エチレン性不飽和化合物類との反応物を挙げることができる。ポリテトラメチレングリコール類、有機ポリイソシアネート類、水酸基含有エチレン性不飽和化合物類はそれぞれ単一の化合物を使用しても複数の化合物の混合物を使用してもよい。

又、前記ポリテトラメチレングリコールと共に他のポリオール類を使用してもよい。他のポリオール類としては、例えば、ポリテトラメチレングリコール以外のポリエーテルポリオール、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。
このようなポリテトラメチレングリコールのウレタン（メタ）アクリレートとして好ましくは数平均分子量が８００〜３０００のポリテトラメチレングリコール、イソホロンジイソシアネート又はヘキサメチレンジイソシアネート、２−ヒドロキシエチルアクリレートを使用した反応物（アクリロイル基：２個）等が挙げられる。

前記ウレタン（メタ）アクリレートは、ポリオール類の水酸基１当量あたりポリイソシアネート化合物のイソシアネート基を好ましくは１．１〜２．０当量を、好ましくは７０〜９０℃で反応させ、次いで、ポリオール類と有機ポリイソシアネート類との反応物１当量あたり、水酸基含有エチレン性不飽和化合物類を１〜１．５当量反応させて得ることができる。

該紫外線硬化型樹脂組成物において、前記（Ａ）成分の含有量は、樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、通常２０重量％〜９９重量％であり、好ましくは５０重量％〜９０重量％であり、前記（Ｂ）成分の含有量は、樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、通常１重量％〜３０重量％であり、好ましくは５重量％〜２０重量％である。（Ｂ）成分を添加することにより、指紋視認性の向上、指紋拭取性の向上、成形性の向上が期待できる。又、（Ｂ）成分が１重量％未満では指紋拭取り性が悪くなり、３０重量％を超えるとハードコートの硬度が低下してしまう。

該樹脂組成物には光重合開始剤（Ｃ）を含有してもよく、該光重合開始剤（Ｃ）としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；アセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン−１−オン、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のアセトフェノン類；２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−クロロアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、４，４’−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等が挙げられる。又、市場より、チバ・スペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、イルガキュア９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）等を容易に入手出来る。又、これらの光重合開始剤は、単独で使用しても２種以上を混合して使用してもよい。

該樹脂組成物において、前記（Ｃ）成分の含有量は、該樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、０重量％〜１０重量％程度、好ましくは１重量％〜７重量％程度である。

又、前記の光重合開始剤（Ｃ）は硬化促進剤と併用することもできる。併用しうる硬化促進剤としては、例えば、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、２−メチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ＥＰＡ（ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル）等のアミン類、２−メルカプトベンゾチアゾール等の水素供与体が挙げられる。これらの硬化促進剤の含有量は、該樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、０重量％〜５重量％である。

該樹脂組成物には一次粒径が１ｎｍ〜２００ｎｍのコロイダルシリカ（Ｄ）を含有してもよく、該コロイダルシリカ（Ｄ）としては、溶媒にコロイダルシリカを分散させたコロイド溶液又は分散溶媒を含有しない微粉末のシリカが挙げられる。コロイダルシリカを分散させたコロイド溶液の分散媒としては、例えば、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ダイアセトンアルコール等のアルコール類、エチレングリコール等の多価アルコール類若しくはその誘導体、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルアセトアミド等のケトン類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の非極性溶媒、２−ヒドロキシエチルアクリレート等のアクリレート類又は一般有機溶剤類が使用できる。分散媒の量は、通常コロイダルシリカ１００重量％に対して、１００重量％〜９００重量％である。

該コロイダルシリカ（Ｄ）は、文献記載の方法で製造することができ、又，市販されているものを用いることもできる。例えば、日産化学工業株式会社製のオルガノシリカゾルＭＥＫ−ＳＴ等が挙げられる。シリカ表面をシランカップリング剤等で処理し、反応性基を持たせたものも使用することができる。このような処理によって更に強靭な膜が得られる。
本発明において一次粒径とは凝集を崩したときの、その粒子が持つ一番小さい粒径を意味し、ＢＥＴ法の平均粒子径として測定することができる。コロイダルシリカ（Ｄ）の一次粒径は１ｎｍ〜２００ｎｍのものを使用すればよく、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍのものを使用すればよい。１ｎｍ〜１００ｎｍのコロイダルシリカの使用では透明性が確保でき、更に１ｎｍ〜５０ｎｍの使用では透明性、ヘイズともに十分に良好な結果が得られる。

該樹脂組成物において、前記（Ｄ）成分の含有量は、該樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、分散媒を含む場合はそれを除いた固形分として、０重量％〜５０重量％、好ましくは０重量％〜３０重量％である。

コロイダルシリカ（Ｄ）を使用することにより、離型性を有する基材に対する濡れ性が向上し、溶剤を含有する組成物であってもハジキを発生させることなく、容易に塗工を行なうことができる。

該樹脂組成物には希釈剤（Ｅ）を含有してもよい。該希釈剤（Ｅ）としては、例えば、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−ヘプタラクトン、α−アセチル−γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトン等のラクトン類；ジオキサン、１，２−ジメトキシメタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル類；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン類；フェノール、クレゾール、キシレノール等のフェノール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン、ジエチルベンゼン、シクロヘキサン等の炭化水素類；トリクロロエタン、テトラクロロエタン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤類、２Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系アルコール類、パーフルオロブチルメチルエーテル、パーフルオロブチルエチルエーテル等のハイドロフルオロエーテル類；メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等のアルコール類；ケトンとアルコールの両方の性能を兼ね備えたダイアセトンアルコール等が挙げられる。これらは単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。

該樹脂組成物において、前記（Ｅ）成分の含有量は、該樹脂組成物全体量に対し、０重量％〜７０重量％、好ましくは０重量％〜５０重量％である。

更に、該樹脂組成物には、ポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００未満のポリエーテル骨格を有していてもよく分子中に１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｆ）を添加してもよい。
該（メタ）アクリレート化合物（Ｆ）としては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０等）、ビスフェノールＡのＥＯ付加物のジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート；トリシクロデカン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエンオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、アダマンタン（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート類、フェニルグリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の芳香環を有する（メタ）アクリレート類、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、モルフォリン（メタ）アクリレート等の複素環（メタ）アクリレート類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート類、エチルカルビトール（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。

該樹脂組成物において、前記（Ｆ）成分の含有量は、該樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、０重量％〜２０重量％、好ましくは１重量％〜１０重量％である。

該樹脂組成物には、ポリマー（Ｇ）を含有させてもよい。該ポリマー（Ｇ）としては常温で固体であるものが好ましく、前記の希釈剤（Ｅ）に溶解するものが好ましい。更に、ラジカル重合によって重合させたものが好ましく、重合に使用するモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類、その他、スチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリル等のα，β−不飽和単量体が挙げられる。それらを周知の方法によって共重合することによりポリマーを得ることができる。得られたポリマーの官能基を利用して（メタ）アクリレート基を付与し、光反応性を持たせてもよい。

該樹脂組成物において、前記（Ｇ）成分の含有量は、該樹脂組成物の固形分を１００重量％とした場合、０重量％〜９０重量％であるが、基材に該樹脂組成物を塗工し、溶剤を揮発させた段階で塗工面にベタツキがなく、そのフィルムを容易に巻き取ることができることが望まれる。

更に、該樹脂組成物には、必要に応じてレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、コロイダルシリカ（Ｄ）以外の無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。
レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等があるが、指紋視認性を妨げないために使用を控える事が望ましく、使用する場合はアクリル系化合物又は高沸点溶剤系化合物を使用することが好ましい。
該紫外線吸収剤としてはベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、該光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、該酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられ、該重合禁止剤としてはメトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、該架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、ブロックイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
該無機微粒子としては、金属酸化物微粒子としてアンチモン酸亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫、リンドープ酸化錫、インジウムドープ酸化錫等の導電性金属酸化物や酸化チタン、酸化ジルコニウム等屈折率を調整するための金属酸化物が挙げられ、該フィラーとしては平均粒径がミクロンオーダーのシリカやアクリルビーズ、ウレタンビーズ等が挙げられる。

該樹脂組成物は、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分と、必要に応じて（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｇ）成分及びその他の成分を適宜用い、任意の順序で混合することにより得られる。

こうして得られた該樹脂組成物は、該樹脂組成物の固形分を１００％とした場合（希釈剤の屈折率を除外した時）の屈折率が２５℃において１．４４〜１．５４の範囲であることが好ましい。屈折率がこの範囲外であると、付着した指紋との屈折率の差が大きくなりすぎ、結果として指紋痕が見えやすくなってしまう。

こうして得られた該樹脂組成物は経時的に安定である。

本発明の転写材は、主に離型性を有する基材に前記の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、該紫外線硬化型樹脂組成物の層を形成して得られる。該基材としては、ポリプロピレン系、ポリエチレン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリアクリル系、ポリ塩化ビニル系等のフィルム、シートが挙げられ、基材によってはそのままでも離型性を有しているものもあるが、各種離型層を設けたフィルム、シートとして市販されているものでも使用できる。このような離型層として、シリコーン系、フッ素樹脂系、エポキシ系、エポキシメラミン系、アミノアルキド系、メラミン系、セルロース誘導体系、尿素樹脂系、ポリオレフィン系離型剤等を各種コーティング方法により塗工した塗膜が使用される。又、離型性を有する基材に凹凸を設けることにより、転写後の転写層表面を艶消しにすることも可能である。

前記の樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、バーコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工、マイクログラビア塗工、マイクロリバースグラビアコーター塗工、ダイコーター塗工、ディップ塗工、スピンコート塗工、スプレー塗工等が挙げられる。

本発明の転写材にハードコート層を設ける場合は、前記の該樹脂組成物を乾燥後の膜厚が通常０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜２０μｍになるように塗布し、乾燥後に紫外線を照射して硬化膜を形成させることにより得られる。

特にポリマー（Ｇ）を使用する場合には、乾燥後にベタツキがなくなり次の層を設けることが容易になるため、成形品と接着させ基材を剥離した後、紫外線を照射して硬化膜を形成させてもよい。

本発明の転写材には、紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層の上に他の層を設ける場合も含まれる。他の層としては、アンカー層、印刷層、接着層をこの順に設ければよい。通常、アンカー層はハードコート層の上に形成され、例えば、アクリル系等の市販の樹脂により形成される。印刷層とは、各種顔料系、染料系のインキを使用し印刷を行なうために設けられる。接着層は、転写材と成形品を接着するために使用し、使用する接着剤としてはアクリル系、ポリスチレン系、ポリアミド系樹脂等市販のものを使用すればよい。

本発明の転写材を成形品に接着後、必要に応じて硬化させ、離型層を有する基材を剥がすことにより、成形品の最表層にハードコート層の硬化膜を形成することができる。

特に、本発明の転写材は、硬化させたハードコート層全体として耐指紋性を有するため、転写後に転写面側にも耐指紋性を発現させることができるのが特徴である。

得られた硬化膜の屈折率は２５℃において１．４５〜１．５５の範囲であることが好ましい。屈折率がこの範囲外であると、付着した指紋との屈折率の差が大きくなりすぎ、結果として指紋痕が見えやすくなってしまう。又、該硬化膜上にオレイン酸を滴下し、室温で３０秒後測定した接触角が１５°以下であることが好ましく、１３°以下がより好ましい。接触角が２０°以上であると、譬え屈折率が１．４５〜１．５５の範囲に入っていたとしても付着した指紋痕が見えやすくなってしまう。

前記の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化のためには活性エネルギー線を使用することができ、該活性エネルギー線としては紫外線や電子線等が挙げられる。紫外線により硬化させる場合、その光源としては、キセノンランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を有する紫外線照射装置が使用でき、光量、光源の配置等を適宜調整して使用すればよい。例えば、高圧水銀灯を使用する場合、８０〜１２０Ｗ／ｃｍ^２のエネルギーを有するランプ１灯に対して搬送速度５〜６０ｍ／分で硬化させるのが好ましい。一方、電子線により硬化させる場合は、１００〜５００ｅＶのエネルギーを有する電子線加速装置を使用するのが好ましく、その際、光重合開始剤（Ｃ）は使用しなくてもよい。

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。又、実施例中、特に断りがない限り、部は重量部を示す。

合成例１
乾燥容器中にポリテトラメチレングリコール（保土谷化学工業（株）製ＰＴＧ−２０００ＳＮ；分子量１９９３）を１３９５．１部、イソホロンジイソシアネートを３１１．２部入れ、攪拌しながら８０℃まで徐々に昇温し、８０℃にて反応させた。イソシアネートの割合が６．７〜７．２％の範囲に入ったら、２−ヒドロキシエチルアクリレートを１６７．４部、メトキノンを０．５部添加し、再び８０℃まで徐々に昇温し、８０℃にて５時間攪拌後、ジブチルスズラウリレートを０．１５部添加し、更に反応を進め、イソシアネートの割合が０．１％以下となり反応がほぼ定量的に終了したところで反応を止めた。合成されたウレタンアクリレートはアクリロイル基を２個有していた。

合成例２
乾燥容器中にポリテトラメチレングリコール（保土谷化学工業（株）製ＰＴＧ−８５０ＳＮ；分子量８５０）を５９５．０部、イソホロンジイソシアネートを３１１．２部入れ、攪拌しながら８０℃まで徐々に昇温し、８０℃にて反応させた。イソシアネートの割合が６．７〜７．２％の範囲に入ったら、２−ヒドロキシエチルアクリレートを１６７．４部、メトキノンを０．５部添加し、再び８０℃まで徐々に昇温し、８０℃にて５時間攪拌後、ジブチルスズラウリレートを０．１５部添加し、更に反応を進め、イソシアネートの割合が０．１％以下となり反応がほぼ定量的に終了したところで反応を止めた。合成されたウレタンアクリレートはアクリロイル基を２個有していた。

合成例３
乾燥容器中にポリプロピレングリコール（保土谷化学工業（株）製ＰＰＧ−２０００ＳＮ；分子量２０００）を１３９５．１部、ヘキサメチレンジイソシアネートを２３５．２部入れ、攪拌しながら８０℃まで徐々に昇温し、８０℃にて反応させた。イソシアネートの割合が６．７〜７．２％の範囲に入ったら、２−ヒドロキシプロピルアクリレートを１８４．７部、メトキノンを０．５部添加し、再び８０℃まで徐々に昇温し、８０℃にて５時間攪拌後、ジブチルスズラウリレートを０．１５部添加し、更に反応を進め、イソシアネートの割合が０．１％以下となり反応がほぼ定量的に終了したところで反応を止めた。合成されたウレタンアクリレートはアクリロイル基を２個有していた。

実施例１〜５
表１に示す材料を配合した樹脂組成物を、離型性を有する基材として離型処理ポリエステルフィルム（２５μｍ；リンテック（株）製ＡＬ−５）上にバーコーターにて塗布し、溶剤（ＭＩＢＫ）を含有する組成の場合は約８０〜１００℃で乾燥後、易接着層を有するポリエステルフィルム（１８８μｍ；東洋紡績（株）製コスモシャインＡ４３００）を空気が入らないようにラミネートした。易接着層を有するポリエステルフィルム側から紫外線をハリソン東芝ライティング（株）製ＫＵＶ−４０１５１−１ＸＫＡ−ＤＭ（高圧水銀灯：８０Ｗ／ｃｍ；ランプ高さ：１０ｃｍ；コンベアスピード：５ｍ／分×３パス（エネルギー：約２００ｍＷ／ｃｍ^２、約３６０ｍＪ／ｃｍ^２））により照射し、離型層を有する基材を剥離して、易接着層を有するポリエステルフィルム上に膜厚約５μｍの硬化層を形成した。尚、表１において単位は「部」を表す。

［表１］
実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 実施例５
（Ａ）成分
ＰＥＴ−３０ ７５ ７５ ７５ ８５ ２２．０
（Ｂ）成分
合成例１の化合物 ２０ １０ ５．５
合成例２の化合物 ２０
合成例３の化合物 ２０
（Ｃ）成分
Ｉｒｇ．１８４ ５ ５ ５ ５ ２．５
（Ｄ）成分
ＭＥＫ−ＳＴ ６６．７
（Ｅ）成分
ＭＩＢＫ ３．３
（合計） １００ １００ １００ １００ １００．０

比較例１
実施例１の合成例１の化合物を全量ＰＥＴ−３０に置換えた。

（注）
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート／テトラアクリレート混合物
Ｉｒｇ．１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
ＭＥＫ−ＳＴ：日産化学工業（株）製オルガノシリカゾル、固形分３０％、ＭＥＫ分散液（平均粒子径：１０ｎｍ〜１５ｎｍ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン

実施例１〜５で得られたハードコート層につき、下記項目を評価しその結果を表２に示した。

（鉛筆硬度）
ＪＩＳ Ｋ ５６００に従い、鉛筆引っかき試験機を用いて、上記組成の塗工フィルムの鉛筆硬度を測定した。詳しくは、測定する硬化皮膜を有するポリエステルフィルム上に、鉛筆を４５度の角度で、上から７５０ｇの荷重を掛け５ｍｍ程度引っかき、５回中、４回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さで表した。

（耐指紋視認性１）
下記の人口指紋液を５０〜１００μｍピッチの樹脂型にて上記組成の塗工フィルムに押印し、その印痕をヘイズ測定により確認した。ヘイズ値を示す。

（耐指紋視認性２）
上記耐指紋性視認１の印痕を目視で確認した。
○：ほとんど見えず
△：やや見える
×：はっきり見える

（指紋拭取り性１）
上記耐指紋視認性１の印痕を２００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけて１０往復させて拭取り、痕の残り状況をヘイズ測定により確認した。ヘイズ値を示す。

（指紋性拭取り２）
上記指紋拭取り性１の痕の残り状況を目視で確認した。
○：痕残りなし
△：やや残りあり
×：残り目立つ

＜人口指紋液＞
以下の組成比にて調製して作成した。
オレイン酸： ６．１％
オリーブ油：２９．３％
ホホバ油 ：４７．５％
スクアレン ：１７．１％

（屈折率）
アッベ社製屈折率計を用いて２５℃で屈折率を測定した。尚、溶剤を含む組成の場合は溶剤の屈折率を考慮して、固形分１００％としての数値を計算で求めた。

（接触角）
自動接触角計（協和界面科学（株）ＤＭ５００）を用いて、ポリエステルフィルム上に塗工し硬化させた硬化皮膜フィルム上に滴下したオレイン酸の接触角を滴下後室温３０秒で測定した。

［表２］
鉛筆硬度 指紋視認性 指紋拭取り性 屈折率 接触角
１ ２ １ ２
実施例１ Ｈ １．０ ○ ０．６ ○ １．４７６ ６．１
実施例２ Ｈ １．０ ○ ０．７ ○ １．４７７ ７．５
実施例３ Ｈ １．０ ○ ０．７ ○ １．４７６ １０．２
実施例４ ２Ｈ １．０ ○ ０．６ ○ １．４７３ ７．１
実施例５ ２Ｈ １．１ ○ ０．８ ○ １．４７３ １２．１
比較例１ ２Ｈ ５．５ × ６．２ × １．４８０ ２０．０

表２の結果から明らかなように、本発明の転写材から転写して得られたハードコート層は、いずれも耐指紋性が良好で、又、硬度についても良好であった。比較例１では、ポリエーテル骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）が含まれていないため、耐指紋性の結果が悪い。

本発明の転写材から得られたハードコート層は、指紋視認性及び指紋拭取り性が良好であり、硬度、耐擦傷性についても良好なハードコート層である。従って、本発明の転写材は、耐指紋性、硬度を必要としている耐指紋性ハードコート用途、特にＩＭＤフィルム、転写フィルムを用いる用途で最適である。

Claims (12)

1. 分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する転写材。
2. 紫外線硬化型樹脂組成物が、その硬化物の屈折率が１．４５〜１．５５の範囲であり、該硬化物にオレイン酸を滴下し室温３０秒後に測定したオレイン酸の接触角が１５°以下である硬化物を与える樹脂組成物である請求項１に記載の転写材。
3. 分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）が活性水素を有する多官能（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とを反応させて得られる化合物である請求項１又は２に記載の転写材。
4. （メタ）アクリレート化合物（Ｂ）が分子中に１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物である請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写材。
5. ポリエーテル骨格がポリテトラメチレングリコール骨格である請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写材。
6. 紫外線硬化型樹脂組成物中の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）の添加量が、該樹脂組成物の固形分１００重量％に対して、１〜３０重量％である請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写材。
7. 紫外線硬化型樹脂組成物中に光重合開始剤（Ｃ）を含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の転写材。
8. 紫外線硬化型樹脂組成物中に一次粒径が１ｎｍ〜２００ｎｍのコロイダルシリカ（Ｄ）を含有する請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写材。
9. 離型性を有する基材上に請求項１〜８のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層が設けられていることを特徴とする転写材。
10. 離型性を有する基材上に請求項１〜８のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層の上に、アンカー層、印刷層、接着層がこの順で設けられていることを特徴とする転写材。
11. 離型性を有する基材上に請求項１〜８のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物の層を設けた後、紫外線を照射してハードコート層とすることを特徴とする転写材の製造方法。
12. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写材を用いて成形品表面にハードコートを形成させるハードコートされた成形品の製造方法。