CN104093772A - 光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品 - Google Patents

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Abstract

本发明提供与由现有的乙烯/四氟乙烯共聚物构成的成形体相比，透明性、耐热性优异且耐光性良好的光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品。光学构件，由包含乙烯/四氟乙烯共聚物的交联物的成形体构成，上述乙烯/四氟乙烯共聚物具有基于四氟乙烯的单元(A)、基于乙烯的单元(B)和基于CH2＝CHCnF2n+1的单元(C)，其中，n是2～10的整数，上述单元(A)与上述单元(B)的摩尔比(A)/(B)是50/50～66/34，上述单元(C)与上述单元(A)和上述单元(B)的总计的摩尔比(C)/{(A)+(B)}是4.0/100～10/100。

Description

光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品
技术领域
本发明涉及光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品。
背景技术
电子部件、电子设备等有时具备光学构件(光学膜、光学透镜、发光二极管的密封材料等)。
对于该光学构件，由于下述(i)的理由等，有时要求其使用树脂材料。
(i)随着电子部件、电子设备等的小型化、高集成化、高性能化等，对光学构件也要求小型化。作为该光学构件的材料，从容易将光学构件加工为小型构件的方面考虑，优选树脂材料。
此外，对于该光学构件，从下述(ii)、(iii)的理由等考虑，有时要求耐热性、耐光性。
(ii)有时通过回流焊法将光学构件安装在电路基板上。回流焊法中，从对环境问题的应对方面考虑，理想的是使用无铅焊锡。因此，对于光学构件，要求在无铅焊锡的回流焊温度(约260℃)下也不熔融而能够维持形状的耐热性。
(iii)伴随着发光二极管的高亮度化，对于密封材料，要求更进一步的耐热性、耐光性。
作为耐热性、耐光性优异的树脂材料，已知乙烯/四氟乙烯共聚物(以下记作ETFE)。但是，通常的ETFE因为结晶性高而透明性低，不适合作为光学构件用的树脂材料。
作为透明性得到了改善的ETFE，提出了下述的ETFE。
由基于四氟乙烯(以下记作TFE)的单元(A)、基于乙烯(以下记作E)的单元(B)和基于CH2＝CHCnF2n+1(其中，n是2～10的整数)的单元(C)构成，单元(A)与单元(B)的摩尔比((A)/(B))为50/50～60/40，单元(C)的含量是2～7摩尔％的ETFE(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第3424270号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
作为光学构件的树脂材料，理想的是透明性尽可能高。因此，要求透明性比专利文献1所述的ETFE更高的ETFE。
本发明提供与由现有的ETFE构成的成形体相比，透明性、耐热性优异且耐光性良好的光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明的光学构件的特征是由包含下述ETFE的交联物的成形体构成。
(ETFE)
所述ETFE具有基于TFE的单元(A)、基于E的单元(B)和基于CH2＝CHCnF2n+1的单元(C)，其中，n是2～10的整数，上述单元(A)与上述单元(B)的摩尔比(A)/(B)是50/50～66/34，上述单元(C)与上述单元(A)和上述单元(B)的总计的摩尔比(C)/{(A)+(B)}是4.0/100～10/100。
上述(C)/{(A)+(B)}较好是4.0/100～7.5/100。
本发明的光学构件的波长400nm处的光线透射率在厚220μm的光学构件中较好是90.0％以上。
在厚500μm的光学构件的情况下，将本发明的光学构件以280℃加热5分钟时的收缩率在纵向和横向均为5％以内。
本发明的光学构件的制造方法是制造本发明的光学构件的方法，其特征是，通过对包含上述ETFE的树脂材料的成形体照射放射线，使上述ETFE交联。
本发明的光学构件的制造方法中，放射线的辐射剂量较好是1～10Mrad。
本发明的光学构件的制造方法中，放射线较好是电子射线。
本发明的物品的特征是具备本发明的光学构件。
发明效果
本发明的光学构件与由现有的ETFE构成的成形体相比，透明性、耐热性优异，且耐光性良好。
根据本发明的光学构件的制造方法，可制造与现有的ETFE相比，透明性得到改善且耐热性、耐光性优异的光学构件。
本发明的物品具备与现有的ETFE相比透明性得到改善且耐热性、耐光性优异的光学构件。
具体实施方式
本说明书中的“单元”是指通过单体的聚合而形成的来源于该单体的重复单元。单元既可以是通过聚合直接形成的单元，也可以是通过对聚合物进行处理而将该单元的一部分转化成了其它结构的单元。
此外，本说明书中的“单体”是指具有聚合性不饱和基团的化合物。
此外，本发明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
此外，本发明中的“放射线”是指γ射线、电子射线、X射线等电离性放射线。
<光学构件>
本发明的光学构件是由包含特定的ETFE的交联物的成形体构成的光学构件。ETFE的交联物是通过对ETFE照射放射线使ETFE交联而形成的交联物。
(ETFE)
本发明中的ETFE具有基于TFE的单元(A)、基于E的单元(B)和基于CH2＝CHCnF2n+1的单元(C)，其中，n是2～10的整数。
单元(A)与单元(B)的摩尔比(A)/(B)是50/50～66/34，较好是53/47～65/35，更好是56/44～60/40。如果(A)/(B)在该范围内，则透明性、耐热性、耐光性、耐候性、耐化学品性、阻气性、燃料阻隔、机械强度、成形性等的平衡良好。
单元(C)与单元(A)和单元(B)的总计的摩尔比(C)/{(A)+(B)}为4.0/100～10/100，较好是4.0/100～7.5/100，更好是4.5/100～7.5/100，进一步更好是4.6/100～7.5/100。如果(C)/{(A)+(B)}在4.0/100以上，则透明性高。如果(C)/{(A)+(B)}在10/100以下，则ETFE的制造容易。
CH2＝CHCnF2n+1中的n是2～10的整数，较好是2～8，更好是2～6。如果n在2以上，则所得的ETFE的耐应力龟裂等物性优异。如果n在10以下，则CH2＝CHCnF2n+1的制造容易，聚合性优异。
作为CH2＝CHCnF2n+1的具体例，可例举CH2＝CH(CF2)2F、CH2＝CH(CF2)3F、CH2＝CH(CF2)4F、CH2＝CH(CF2)5F、CH2＝CH(CF2)6F、CH2＝CH(CF2)7F、CH2＝CH(CF2)8F、CH2＝CH(CF2)9F、CH2＝CH(CF2)10F等。
作为CH2＝CHCnF2n+1，由于聚合性优异且ETFE的物性优异，较好是CH2＝CH(CF2)2F、CH2＝CH(CF2)3F、CH2＝CH(CF2)4F、CH2＝CH(CF2)5F、CH2＝CH(CF2)6F、或CH2＝CH(CF2)7F、CH2＝CH(CF2)8F，更好是CH2＝CH(CF2)2F、CH2＝CH(CF2)3F、CH2＝CH(CF2)4F、CH2＝CH(CF2)5F、或CH2＝CH(CF2)6F。
CH2＝CHCnF2n+1可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
除单元(A)、单元(B)和单元(C)以外，本发明中的ETFE还可以具有基于其他单体的单元(D)。
作为其他单体，可例举烃类烯烃(丙烯、丁烯等)、不饱和基团中具有氢原子的氟代烯烃(偏氟乙烯、氟乙烯、三氟乙烯等)、不饱和基团中不具有氢原子的氟代烯烃(六氟丙烯、三氟氯乙烯等；但是TFE除外)、全氟(烷基乙烯基醚)(全氟(丙基乙烯基醚)等)、乙烯基醚(烷基乙烯基醚、(氟烷基)乙烯基醚、缩水甘油基乙烯基醚、羟丁基乙烯基醚、甲基乙烯氧基丁基碳酸酯等)、乙烯基酯(乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、叔戊酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、丁烯酸乙烯酯等)、(甲基)丙烯酸酯((多氟烷基)丙烯酸酯、(多氟烷基)甲基丙烯酸酯等)、酸酐(马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐、5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐等)等。
其他单体可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
本发明中的ETFE具有单元(D)的情况下，单元(D)的比例在ETFE中的全部单元100摩尔％中较好是0.01～20摩尔％，更好是0.01～10摩尔％，进一步更好是0.05～5摩尔％，特别好是0.1～3摩尔％。
作为本发明中的ETFE，从耐热性等物性优异、制造容易的方面考虑，较好是仅由单元(A)、单元(B)和单元(C)构成的ETFE。
本发明中的ETFE的体积流速(以下也称为Q值)较好是1～1000mm3/秒，更好是5～500mm3/秒，进一步更好是5～200mm3/秒。Q值是表示ETFE的熔融流动性的指标，是分子量的基准。Q值越大则表示分子量越低，Q值越小则表示分子量越高。本发明中的ETFE的Q值是使用岛津制作所株式会社(島津制作所社)制的流动试验仪在温度297℃、荷重7kg下挤出至直径2.1mm、长8mm的孔中时的ETFE的挤出速度。
(ETFE的制造方法)
ETFE可通过例如日本专利特开2004-238405号公报中记载的方法等来制造。ETFE的制造方法不限定于该方法。
ETFE的制造方法中，采用通常的使用自由基聚合引发剂的聚合法。作为聚合方法，可例举本体聚合法、使用有机溶剂(氟代烃、氯代烃、氟氯烃、醇、烃等)的溶液聚合法、使用水性介质和根据需要使用的适当的有机溶剂的悬浮聚合法、使用水性介质和乳化剂的乳液聚合法。由于在ETFE中不残留乳化剂等杂质，所以优选溶液聚合法或悬浮聚合法。
作为自由基聚合引发剂，从聚合温度的观点考虑，较好是半衰期10为小时时的温度为0℃～100℃的引发剂，更好是温度为20～90℃的引发剂。
作为自由基聚合引发剂的具体例子，可例举偶氮化合物(偶氮二异丁腈等)、非氟类二酰基过氧化物(过氧化二异丁酰、过氧化二辛酰、过氧化二苯甲酰、过氧化二月桂酰等)、过氧化二碳酸酯(过氧化二碳酸二异丙酯等)、过氧化酯(过氧化新戊酸叔丁酯、过氧化异丁酸叔丁酯、过氧化乙酸叔丁酯等)、含氟二酰基过氧化物(以(Z(CF2)pCOO)2表示的化合物等，其中，Z为氢原子、氟原子或氯原子，p为1～10的整数)、无机过氧化物(过硫酸钾、过硫酸钠、过硫酸铵等)等。
溶液聚合法中，为了控制ETFE的体积流速，较好是使用链转移剂。作为链转移剂，可例举醇(甲醇、乙醇等)、氯氟烃(1,3-二氯-1,1,2,2,3-五氟丙烷、3,3-二氯-1,1,1,2,2-五氟丙烷、1,1-二氯-1-氟乙烷等)、烃(戊烷、己烷、环戊烷、环己烷等)等。此外，为了将与基材(聚酰胺等)的粘接性优异的官能团引入ETFE的末端，可以使用具有官能团(酯基、碳酸酯基、羟基、羧基、碳酰氟等)的链转移剂。作为该链转移剂，可例举乙酸、乙酸甲酯、乙二醇、丙二醇等。
聚合温度较好是0℃～100℃，更好是20～90℃。
聚合压力较好是0.1～10MPa，更好是0.5～3MPa。
聚合时间较好是1～30小时，更好是2～20小时，进一步更好是2～10小时。另外，确认如果过多地添加自由基聚合引发剂，则ETFE中残存的自由基聚合引发剂在加热成形时发泡，需要设定为不发泡的范围内的聚合时间。
(其他成分)
从热稳定性优异的方面考虑，本发明的光学构件可以含有热稳定剂。作为热稳定剂，较好是选自铜化合物、锡化合物、铁化合物、铅化合物、钛化合物和铝化合物的一种以上。作为具体例子，可例举氧化铜、碘化铜、氧化铝、硫酸锡、硫酸锗、碱性硫酸铅、亚硫酸锡、硫酸钡、焦磷酸锡等，优选氧化铜或碘化铜。热稳定剂的含量在光学构件中较好是1×10-8～5质量％，更好是1×10-7～2质量％，进一步更好是5×10-7～1质量％。
本发明的光学构件可以根据用途、目的含有其他掺合剂。作为其他掺合剂，可例举各种添加剂、填料、其他合成树脂等。热稳定剂及其他掺合剂的总含量较好是80质量％以下，更好是50质量％以下，进一步更好是20质量％以下。
(透明性)
本发明的光学构件的波长400nm处的光线透射率在厚度220μm的情况下较好是90.0％以上，更好是90.5％以上，进一步更好是90.9％以上。
光线透射率如下测定。
将包含ETFE的树脂材料在熔点+50℃±20℃的范围(例如熔点250℃的情况下为280℃～320℃)内进行压制成形，得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜照射放射线，得到试样。对于该试样，使用分光光度计测定波长400nm处的光线透射率。
(耐热性)
本发明的光学构件的280℃下加热5分钟时的收缩率，较好是在纵向和横向均为5％以内，更好是3％以内，进一步更好是2％以内。
收缩率通过从对ETFE进行压制成形而制作的厚500μm的膜切割出50mm×50mm，以280℃加热5分钟后进行测定。
(耐光性)
通常，使用日光耐候性试验机(须贺试验机)，黑色面板温度(日文：ブラックパネル温度)评价以63℃照射100小时后的透明性，确认透明性无变化。
(光学构件的制造方法)
本发明的光学构件通过对包含特定的ETFE的树脂材料的成形体照射放射线，使该ETFE交联来制造。
除包含ETFE外，树脂材料也可以包含上述热稳定剂、其他掺合剂。
成形体通过对树脂材料进行成形而得到。作为成形法，可例举公知的成形法(挤出成形法、注塑成形法、压制成形法等)。
ETFE的交联条件根据成形体的形状、厚度等进行适当设定。
光学构件通过对上述成形体照射γ射线、电子射线、X射线等电离性放射线而得到。交联条件根据成形体的形状、厚度等而不同，所以不能一概而论，作为放射线，从设备方面考虑，较好是电子射线。
电子射线的照射在低于氟树脂的熔点的温度气氛、优选玻璃化温度以下的温度气氛下进行至少1次以上，并且在氟树脂的熔点以上的温度气氛下进行至少1次以上。通过在低于氟树脂的熔点的温度气氛下实施照射电子射线的交联，对于成形体即使在进行第2次照射时加热到氟树脂的熔点以上，也不会出现熔融或变形，可维持成形体的形状。如上所述，交联物是指氟树脂的Q值为0mm3/秒、且失去熔融成形性的物质。
放射线的辐射剂量通常为1～20Mrad，较好是3～10Mrad。
(作用效果)
以上说明的本发明的光学构件的情况下，由包含以特定的比例含有基于CH2＝CHCnF2n+1(其中，n是2～10的整数)的单元(C)的ETFE的交联物的成形体构成，所以透明性比由现有的ETFE构成的未交联的成形体更优异。一直以来已知通过增加ETFE中的单元(C)的比例，可改善成形体的透明性，本发明中通过对单元(C)的比例较多的ETFE照射放射线，使ETFE交联，进一步改善了成形体的透明性。
此外，以上说明的本发明的光学构件的情况下，由包含ETFE的交联物的成形体构成，所以耐热性比由现有的ETFE构成的未交联的成形体更优异。
此外，以上说明的本发明的光学构件的情况下，因为使用了本来耐光性就好的ETFE，所以耐光性良好。
本发明的光学构件在维持现有的ETFE的耐光性、耐候性、耐化学品性、阻气性等特性的同时，具有能适用于光学构件的高透明性。
此外，本发明的光学构件具有能适用于使用了无铅焊锡的回流焊的高耐热性。
<具备光学构件的物品>
本发明的物品是具备本发明的光学构件的物品。
作为本发明的物品，可例举将本发明的光学构件作为光学膜(导光板、光扩散片、聚光片等)、光学透镜(拾取透镜、照相机透镜、微阵列透镜、投影机透镜、菲涅耳透镜等)等而安装的电子设备(手机、笔记本电脑、数码照相机、液晶电视等)，将本发明的光学构件作为密封材料而具备的发光二极管等。
实施例
下面例举实施例对本发明进行具体说明，但本发明并不局限于这些例子。
例1～7是实施例，例8～13是比较例。
(各单元的比例)
ETFE中的各单元的比例根据总氟量测定和熔融19F-NMR测定的结果算出。
(熔点)
ETFE的熔点通过使用差示扫描量热仪(SII株式会社制，EXSTARDSC7020)，根据将ETFE以10℃/分钟加热时的吸热峰来算出。
(Q值)
将使用岛津制作所株式会社制的流动试验仪在温度297℃、荷重7kg下挤出至直径2.1mm、长8mm的孔中时的ETFE的挤出速度(mm3/秒)作为Q值。
(ETFE交联前的光线透射率)
将ETFE在熔点+50℃±20℃的范围内进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对于该ETFE膜，使用岛津制作所株式会社制的UV-3600测定波长400nm处的光线透射率。
(ETFE交联后的光线透射率)
将ETFE在熔点+50℃±20℃的范围内进行冲压得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜照射放射线，得到试样。对于该试样，使用岛津制作所株式会社制的UV-3600测定波长400nm处的光线透射率。
(耐热性)
收缩率通过将压制成形而制作的厚500μm的膜切割为50mm×50mm，以280℃加热5分钟后进行测定。收缩率在纵向和横向均为5％以内的情况记作○(优良)，收缩率在纵向和横向中的任一方或双方超过5％的情况记作×(不良)，由此进行评价。
[例1]
在真空脱气后的94L的不锈钢制高压釜中，投入87.3kg的1-氢十三氟己烷、4.21kg的1,3-二氯-1,1,2,2,3-五氟丙烷(旭硝子株式会社制、AK225cb，以下记作AK225cb)、2.13kg的CH2＝CH(CF2)4F，一边搅拌一边升温至66℃，导入TFE/E＝89/11(摩尔比)的混合气体直至达到1.5MPaG，投入50质量％的过氧化新戊酸叔丁酯的AK225cb溶液60.4g，开始聚合。聚合过程中，按照压力达到1.5MPaG的条件连续地添加TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体和相对于该混合气体相当于7.0摩尔％的量的CH2＝CH(CF2)4F，投入7.19kg的TFE/E混合气体后，冷却高压釜，清除残留气体，终止聚合。聚合所需的时间为333分钟。
将所得的ETFE浆料转移至220L的造粒槽中，添加77L的水一边搅拌一边加热，除去聚合溶剂和残留单体，得到7.2kg的ETFE1。ETFE1中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝54.5/39.0/6.5(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE1以250℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例2]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1198.2g的1-氢十三氟己烷、104.2g的AK225cb、32.8g的CH2＝CH(CF2)4F，压入182.7g的TFE、6.3g的E，将聚合槽内升温至66℃，作为自由基聚合引发剂投入2.5质量％的过氧化新戊酸叔丁酯的1-氢十三氟己烷溶液15.4mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为5.0摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)4F。聚合开始239分钟后，在投入100g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到107g的ETFE2。ETFE2中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝53.0/41.4/5.6(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE2以270℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例3]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1156.5g的1-氢十三氟己烷、142.9g的AK225cb、22.7g的CH2＝CH(CF2)4F，压入187.6g的TFE、6.5g的E，将聚合槽内升温至66℃，作为自由基聚合引发剂投入2.5质量％的过氧化新戊酸叔丁酯的1-氢十三氟己烷溶液10.6mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为4.0摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)4F。聚合开始196分钟后，在投入100g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到96g的ETFE3。ETFE3中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝54.3/41.3/4.4(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE3以270℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例4]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1179.4g的1-氢十三氟己烷、167.4g的AK225cb、15.5g的CH2＝CH(CF2)2F，压入187.6g的TFE、6.5g的E，将聚合槽内升温至66℃，作为自由基聚合引发剂投入2.5质量％的过氧化新戊酸叔丁酯的1-氢十三氟己烷溶液10.6mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为4.0摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)2F。聚合开始200分钟后，在投入100g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到98g的ETFE4。ETFE4中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝54.2/41.3/4.5(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE4以270℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例5]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1194.5g的1-氢十三氟己烷、153.4g的AK225cb、33.0g的CH2＝CH(CF2)6F，压入187.6g的TFE、6.5g的E，将聚合槽内升温至66℃，作为自由基聚合引发剂投入2.5质量％的过氧化新戊酸叔丁酯的1-氢十三氟己烷溶液10.6mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为4.0摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)6F。聚合开始193分钟后，在投入100g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到99g的ETFE5。ETFE5中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝54.4/41.3/4.3(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE5以270℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例6]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1128.8g的1-氢十三氟己烷、168.7g的AK225cb、20.2g的CH2＝CH(CF2)4F，压入187.6g的TFE、6.5g的E，将聚合槽内升温至66℃，作为自由基聚合引发剂投入2.5质量％的过氧化新戊酸叔丁酯的1-氢十三氟己烷溶液10.6mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为4.0摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)4F。聚合开始175分钟后，在投入100g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到98g的ETFE6。ETFE6中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝56.4/39.6/4.0(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE6以270℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例7]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1217.0g的1-氢十三氟己烷、12.3g的甲醇、24.5g的CH2＝CH(CF2)4F，压入209.1g的TFE、7.4g的E，将聚合槽内升温至35℃，作为自由基聚合引发剂投入30质量％的过氧化二碳酸二异丙酯的1-氢十三氟己烷溶液30.8mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝60/40(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为4.0摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)4F。聚合开始187分钟后，在投入100g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到93.8g的ETFE7。ETFE7中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝54.3/41.6/4.1(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表1中。
将ETFE7以270℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。对该ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表1。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。耐光性也没有问题。
[例8]
例1的未交联的ETFE膜的光线透射率示于表2。此外，对于该膜评价了280℃时的耐热性，结果发生熔融。
[例9]
例4的未交联的ETFE膜的光线透射率示于表2。此外，对于该膜评价了280℃时的耐热性，结果发生熔融。
[例10]
例5的未交联的ETFE膜的光线透射率示于表2。此外，对于该膜评价了280℃时的耐热性，结果发生熔融。
[例11]
例7的未交联的ETFE膜的光线透射率示于表2。此外，对于该膜评价了280℃时的耐热性，结果发生熔融。
[例12]
对内容积为1.3L的带搅拌机的聚合槽进行脱气，投入1274.3g的1-氢十三氟己烷、23.4g的甲醇、8.1g的CH2＝CH(CF2)4F，压入183.5g的TFE、11.0g的E，将聚合槽内升温至35℃，作为自由基聚合引发剂投入15质量％的过氧化二碳酸二异丙酯的1-氢十三氟己烷溶液15.4mL，开始聚合。聚合过程中，以压力达到恒定的条件连续地投入TFE/E＝54/46(摩尔比)的混合气体，以相对于该混合气体为1.4摩尔％的条件连续地投入CH2＝CH(CF2)4F。聚合开始300分钟后，在投入90g混合气体的时刻，将聚合槽内降至室温并排气至常压。
对所得的ETFE浆料用玻璃滤器进行抽滤，于150℃干燥15小时，从而得到95.8g的ETFE8。ETFE8中的各单元的比例是单元(A)/单元(B)/单元(C)＝52.2/46.3/1.5(摩尔比)。(A)/(B)、(C)/{(A)+(B)}、熔点、Q值示于表2中。
将ETFE8以310℃进行压制成形得到厚220μm的ETFE膜。膜的光线透射率示于表2。此外，对于该膜评价了280℃时的耐热性，结果发生熔融。
[例13]
对例12的ETFE膜以辐射剂量为5Mrad的条件照射放射线(电子射线)，得到试样。该试样的波长400nm处的光线透射率示于表2。此外，对于该试样评价了280℃时的耐热性，没有发现变形。
[表1]
[表2]
工业上利用的可能性
本发明的光学构件因为透明性优异，所以优选用于光学膜、光学透镜、发光二极管的密封材料等。本发明的光学构件因为透明性优异且耐热性也优异，所以可适用于基于使用无铅焊锡的回流焊法的在电路基板等上的安装用途等。
在这里引用2010年1月30日提出申请的日本专利申请2012-016477号的说明书、权利要求书和说明书摘要的全部内容作为本发明说明书的揭示。

Claims (8)

1.一种光学构件，其特征在于，由包含下述乙烯/四氟乙烯共聚物的交联物的成形体构成；
所述乙烯/四氟乙烯共聚物具有基于四氟乙烯的单元(A)、基于乙烯的单元(B)和基于CH2＝CHCnF2n+1的单元(C)，其中n为2～10的整数；所述单元(A)与所述单元(B)的摩尔比((A)/(B))是50/50～66/34；所述单元(C)与所述单元(A)和所述单元(B)的总计的摩尔比、即(C)/{(A)+(B)}为4.0/100～10/100。
2.如权利要求1所述的光学构件，其特征在于，所述(C)/{(A)+(B)}为4.0/100～7.5/100。
3.如权利要求1或2所述的光学构件，其特征在于，波长400nm处的光线透射率在厚220μm的光学构件中为90.0％以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光学构件，其特征在于，在厚500μm的光学构件的情况下，以280℃加热5分钟时的收缩率在纵向和横向均为5％以内。
5.一种光学构件的制造方法，它是制造权利要求1～4中任一项所述的光学构件的方法，其特征在于，通过对包含所述乙烯/四氟乙烯共聚物的树脂材料的成形体照射放射线，使所述乙烯/四氟乙烯共聚物交联。
6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于，放射线的辐射剂量为1～10Mrad。
7.如权利要求5或6所述的制造方法，其特征在于，放射线是电子射线。
8.一种物品，其特征在于，具备权利要求1～4中任一项所述的光学构件。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106046232A (zh) * 2016-06-28 2016-10-26 山东华夏神舟新材料有限公司 一种可交联乙烯‑四氟乙烯共聚物及其合成方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3113193B1 (en) * 2014-02-26 2019-04-24 AGC Inc. Method for manufacturing electrical wire, method for manufacturing molded article, and method for manufacturing resin material that contains modified fluororesin
JP6400362B2 (ja) * 2014-07-18 2018-10-03 デクセリアルズ株式会社 光学部材
JP6998362B2 (ja) * 2019-05-16 2022-01-18 住友化学株式会社 電子部品及びその製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0741522A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Asahi Glass Co Ltd エチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体
CN1313881A (zh) * 1998-06-23 2001-09-19 旭硝子株式会社 农业用被覆材料
US20110213089A1 (en) * 2009-08-31 2011-09-01 Satoshi Yamasaki Molded transparent resin and process for producing the same

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58164609A (ja) * 1982-03-25 1983-09-29 Daikin Ind Ltd 光学繊維用鞘材
JPH0741563A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Asahi Glass Co Ltd 架橋エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体の製造方法
JPH07252366A (ja) * 1994-03-15 1995-10-03 Asahi Glass Co Ltd テトラフルオロエチレン−エチレン系共重合体の架橋方法
JPH07292199A (ja) * 1994-04-28 1995-11-07 Asahi Glass Co Ltd フッ素系ポリマー組成物およびその架橋方法
JP3836255B2 (ja) * 1998-06-10 2006-10-25 株式会社レイテック 改質フッ素樹脂の製造方法
JP4327933B2 (ja) 1999-03-26 2009-09-09 オリンパス株式会社 電子カメラ
JP4294152B2 (ja) * 1999-04-08 2009-07-08 Ａｇｃグリーンテック株式会社 防曇持続性と耐久性に優れた農業用被覆資材
JP4240201B2 (ja) 2002-02-22 2009-03-18 旭硝子株式会社 含フッ素共重合体
JP4120527B2 (ja) * 2002-10-04 2008-07-16 旭硝子株式会社 テトラフルオロエチレン／エチレン系共重合体組成物
JP5663839B2 (ja) * 2006-12-08 2015-02-04 旭硝子株式会社 エチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体及びその製造方法
JP2010037475A (ja) * 2008-08-07 2010-02-18 Sumitomo Electric Fine Polymer Inc 透明樹脂成形体及び光学レンズ
KR101616145B1 (ko) * 2008-10-16 2016-04-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 함불소 공중합체 조성물 및 그 제조 방법
JP5456346B2 (ja) * 2009-03-25 2014-03-26 住友電気工業株式会社 耐熱性を有する透明樹脂成形体
JP5673532B2 (ja) * 2009-07-01 2015-02-18 旭硝子株式会社 含フッ素共重合体組成物およびその製造方法
JP5609872B2 (ja) 2009-07-13 2014-10-22 旭硝子株式会社 エチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体
JP5416629B2 (ja) * 2010-03-19 2014-02-12 住友電気工業株式会社 白色樹脂成形体及びｌｅｄ用リフレクタ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0741522A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Asahi Glass Co Ltd エチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体
CN1313881A (zh) * 1998-06-23 2001-09-19 旭硝子株式会社 农业用被覆材料
US20110213089A1 (en) * 2009-08-31 2011-09-01 Satoshi Yamasaki Molded transparent resin and process for producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106046232A (zh) * 2016-06-28 2016-10-26 山东华夏神舟新材料有限公司 一种可交联乙烯‑四氟乙烯共聚物及其合成方法
CN106046232B (zh) * 2016-06-28 2018-06-01 山东东岳未来氢能材料有限公司 一种可交联乙烯-四氟乙烯共聚物及其合成方法

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