ES2594353T3

ES2594353T3 - Elemento óptico, método para fabricar el mismo, y artículo provisto con el elemento óptico

Info

Publication number: ES2594353T3
Application number: ES13744182.0T
Authority: ES
Inventors: Daisuke Taguchi; Masakazu Ataku; Kazuo Hamazaki
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2012-01-30
Filing date: 2013-01-18
Publication date: 2016-12-19
Anticipated expiration: 2033-01-18
Also published as: EP2810980A4; TW201335199A; KR20140122227A; WO2013114981A1; US20140296367A1; CN104093772A; TWI592431B; KR101950055B1; JPWO2013114981A1; EP2810980A1; JP6003905B2; EP2810980B1; US9194982B2

Abstract

Un elemento óptico hecho de un producto moldeado que contiene un producto reticulado del siguiente copolímero de etileno/tetrafluoretileno: Un copolímero de etileno/tetrafluoretileno comprende unidades (A) a base de tetrafluoretileno, unidades (B) a base de etileno y unidades (C) a base de CH2>=CHCnF2n+1 donde n es un número entero entre 2 y 10, en donde la relación molar ((A)/(B)) de las unidades anteriores (A) a las unidades anteriores (B) es desde 50/ 50 a 66/34, la relación molar ((C)/{(A)+(B)}) de las anteriores unidades (C) a la suma de las unidades anteriores (A) y las unidades anteriores (B) es desde 4,0/100 a 10/100.

Description

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Además, como se ha descrito anteriormente, el elemento óptico de la presente invención está hecho de un producto moldeado que contiene un producto reticulado de un ETFE, por lo cual su resistencia térmica es excelente en comparación con un producto moldeado no-reticulado hecho de un ETFE convencional.

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Además, como se ha descrito anteriormente, en el elemento óptico de la presente invención se usa un ETFE que tiene originalmente una buena resistencia a la luz , y por lo tanto la resistencia a la luz es buena.

El elemento óptico de la presente invención tiene una alta transparencia aplicable a un elemento óptico al tiempo que se 10 mantienen propiedades tales como resistencia a la luz , resistencia a la intemperie, resistencia química y propiedades de barrera de gas de un ETFE convencional.

Además, el elemento óptico de la presente invención tiene una alta resistencia térmica aplicable a soldadura por reflujo usando una soldadura libre de plomo.

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<Artículo provisto con elemento óptico> El artículo de la presente invención es uno provisto con el elemento óptico de la presente invención.

El artículo de la presente invención puede ser, por ejemplo, un dispositivo electrónico (tales como un teléfono móvil, un

20 ordenador portátil, una cámara digital o un TV de cristal líquido) con el elemento óptico de la presente invención montado como una película óptica (tales como una placa de guía de luz, una lámina difusora de luz o una lámina de condensación de luz) o una lente óptica (tal como una lente de captación, una lente de cámara, una lente de microagrupaciones , una lente del proyector o una lente de Fresnel), o un diodo emisor de luz provisto con el elemento óptico de la presente invención como un material sellante.

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EJEMPLOS Ahora, la presente invención se describirá en detalle con referencia a Ejemplos, pero debe entenderse que la presente invención no está restringida a los mismos.

30 Los ejemplos 1 a 7 son Ejemplos de la presente invención, y los Ejemplos 8 a 13 son Ejemplos Comparativos.

(Proporción de unidades respectivas) Las proporciones de las unidades respectivas en el ETFE se calcularon a partir de los resultados de medición total de contenido de flúor y medición de 1 9 F-RMN fundido.

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(Punto de fusión) Mediante un calorímetro diferencial de barrido (EXSTAR DSC7020, fabricado por Seiko Instruments Inc ) el punto de fusión del ETFE se obtuvo a partir del pico endotérmico en el momento de calentar el ETFE a una tasa de 10ºC/min

40 (Valor Q) El valor Q es una tasa de extrusión (mm3/s ) del ETFE en el momento en el que se extruye en un orificio que tiene un diámetro de 2,1 mm y una longitud de 8 mm bajo una carga de 7 kg a una temperatura de 297 °C mediante un medidor de flujo fabricados por Shimadzu Corporation.

45 (Transmitancia luminosa antes de la reticulación del ETFE) El ETFE fue moldeado a presión en un intervalo de un punto de fusión +50º C ± 20º C para obtener una película de ETFE de 220-µm de grosor. De la película de ETFE, se midió la transmitancia luminosa a una longitud de onda de 400 nm mediante un UV-3600 fabricado por Shimadzu Corporation.

50 (La transmitancia luminosa después de reticulación del ETFE) El ETFE fue moldeado a presión en un intervalo de un punto de fusión +50º C ± 20ºC para obtener una película de ETFE de 220-µm de grosor. La película de ETFE fue irradiada con una radiación para obtener una muestra. Se midió la transmitancia luminosa a una longitud de onda de 400 nm de la muestra, mediante un UV-3600 fabricado por Shimadzu Corporation

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(Resistencia térmica) Se midió la contracción de tal manera que una película de 500 µm de grosor preparada por moldeo de presión se cortó en 50 mm x 50 mm, seguido por calentamiento a 280º C durante 5 minutos para llevar a cabo la medición. O (Bueno) representa un caso donde la contracción está dentro del 5% en cada dirección vertical y horizontal, X (Pobre) representa

60 un caso donde la contracción supera el 5% en cada una o en ambas direcciones, vertical y horizontal.

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El ETFE 3 fue moldeado a presión a 270º C para obtener una película de ETFE de 220 µm de espesor. La película de ETFE fue irradiada con una radiación (haz de electrones) en una dosis de 5 Mrad para obtener una muestra. La transmitancia luminosa a una longitud de onda de 400 nm de la muestra se ha mostrado en la Tabla 1. Adicionalmente, la resistencia térmica a 280º C de la muestra fue evaluada y no se observó deformación. La resistencia a la luz tampoco fue problemática.

[Ejemplo 4] Se eliminó el aire de un reactor de polimerización con capacidad interna de 1,3 L, dotado con un agitador y se cargaron 1.179,4 g de 1-hidrotridecafluorohexano, 167,4 g de AK225cb y 15,5 g de CH2=CH(CF2)4 F; se inyectaron 187,6 g de TFE y 6,5 g de E; el interior del reactor de polimerización fue calentado a 66º C; y se cargaron 10,6 mL de una solución de 1-hidrotridecafluorohexano que contenía 2,5% en masa de tert-butilperoxipivalato como iniciador de polimerización radical para iniciar la polimerización. Durante la polimerización se cargó de forma continua una mezcla de gas TFE/E = 60/40 (relación molar), de manera que la presión fue mantenida constante y se cargó de forma continua CH2=CH(CF2)4 F de modo que fuera el 4,0% en mol de gas mezclado. 200 minutos después de la iniciación de la polimerización y cuando se habían cargado 100 g de gas mezclado, se rebajó la temperatura interna del reactor de polimerización a la temperatura ambiente y al mismo tiempo, se realizó la purga hasta que la presión alcanzó la presión normal.

La papilla de ETFE obtenida fue sometida a filtración por succión con un filtro de vidrio, y secada a 150 °C durante 15 horas hasta obtener 98 g de ETFE 4. La relación de las respectivas unidades en el ETFE 4 era tal que unidades (A)/unidades (B)/unidades (C) = 54,2/41,3/4,5 (relación molar).

Los valores (A)/(B), (C)/{ (A) + (B) }, un punto de fusión y un valor Q se muestran en la Tabla 1.

El ETFE 4 fue moldeado a presión a 270º C para obtener una película de ETFE de 220 µm de espesor. La película de ETFE fue irradiada con una radiación (haz de electrones) en una dosis de 5 Mrad para obtener una muestra. La transmitancia luminosa a una longitud de onda de 400 nm de la muestra se ha mostrado en la Tabla 1. Adicionalmente, la resistencia térmica a 280º C de la muestra fue evaluada y no se observó deformación. La resistencia a la luz tampoco fue problemática.

[Ejemplo 5] Se eliminó el aire de un reactor de polimerización con capacidad interna de 1,3 L, dotado con un agitador y se cargaron 1.194,5 g de 1-hidrotridecafluorohexano, 153,4 g de AK225cb y 33,0 g de CH2=CH(CF2)4 F; se inyectaron 187,6 g de TFE y 6,5 g de E; el interior del reactor de polimerización fue calentado a 66º C; y se cargaron 10,6 mL de una solución de 1-hidrotridecafluorohexano que contenía 2,5% en masa de tert-butilperoxipivalato como iniciador de polimerización radical para iniciar la polimerización. Durante la polimerización se cargó de forma continua un gas mezclado TFE/E = 60/40 (relación molar), de manera que la presión fue mantenida constante y se cargó de forma continua CH2=CH(CF2)4F de modo que fuera el 4,0% en mol de gas mezclado. 193 minutos después de la iniciación de la polimerización y cuando se habían cargado 100g de gas mezclado, se rebajó la temperatura interna del reactor de polimerización a la temperatura ambiente y al mismo tiempo, se realizó la purga hasta que la presión alcanzó la presión normal.

La papilla de ETFE obtenida fue sometida a filtración por succión con un filtro de vidrio, y secada a 150 °C durante 15 horas hasta obtener 99 g de ETFE 5. La relación de las respectivas unidades en el ETFE 5 era tal que unidades (A)/unidades (B)/unidades (C) = 54,4/41,3/4,3 (relación molar).

El ETFE 5 fue moldeado a presión a 270º C para obtener una película de ETFE de 220 µm de espesor. La película de ETFE fue irradiada con una radiación (haz de electrones) en una dosis de 5 Mrad para obtener una muestra. La transmitancia luminosa a una longitud de onda de 400 nm de la muestra se ha mostrado en la Tabla 1. Adicionalmente, la resistencia térmica a 280º C de la muestra fue evaluada y no se observó deformación. La resistencia a la luz tampoco fue problemática.

[Ejemplo 6] Se eliminó el aire de un reactor de polimerización con capacidad interna de 1,3 L, dotado con un agitador y se cargaron 1.128,8 g de 1-hidrotridecafluorohexano, 168,7 g de AK225cb y 20,2 g de CH2=CH(CF2)4F; se inyectaron 187,6 g de TFE y 6,5 g de E; el interior del reactor de polimerización fue calentado a 66º C; y se cargaron 10,6 mL de una solución de 1-hidrotridecafluorohexano que contenía 2,5% en masa de tert-butilperoxipivalato como iniciador de polimerización radical para iniciar la polimerización. Durante la polimerización se cargó de forma continua un gas mezclado TFE/E = 60/40 (relación molar), de manera que la presión fue mantenida constante y se cargó de forma continua CH2=CH(CF2)4F de modo que fuera el 4,0% en mol de gas mezclado. 175 minutos después de la iniciación de la polimerización y

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que fuera el 1,4% en mol de gas mezclado. 300 minutos después de la iniciación de la polimerización y cuando se habían cargado 90 g de gas mezclado, se rebajó la temperatura interna del reactor de polimerización a la temperatura ambiente y al mismo tiempo, se realizó la purga hasta que la presión alcanzó la presión normal.

5 La papilla de ETFE obtenida fue sometida a filtración por succión con un filtro de vidrio, y secada a 150 °C durante 15 horas hasta obtener 95,8 g de ETFE 8. La relación de las respectivas unidades en el ETFE 8 era tal que unidades (A)/unidades (B)/unidades (C) = 52,2/46,3/1,5 (relación molar). Los valores (A)/(B), (C)/{(A)+(B)}, un punto de fusión y un valor Q se muestran en la Tabla 1.

10 El ETFE 8 fue moldeado a presión a 310º C para obtener una película de ETFE de 220 µm de espesor. La transmitancia luminosa de la película se muestra en la tabla 2. Adicionalmente, la resistencia térmica a 280º C de la muestra fue evaluada y se observó que se fundía .

[Ejemplo 13]

15 La película ETFE en el Ejemplo 12 fue irradiada con una radiación (haz de electrones) en una dosis de 5 Mrad para obtener una muestra. La transmitancia luminosa de la muestra a una longitud de onda de 400 nm se muestra en la Tabla 2. Adicionalmente, se evaluó la resistencia térmica a 280º C de la muestra y no se observó deformación.

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Claims

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