CN103717353B

CN103717353B - 多研磨工具

Info

Publication number: CN103717353B
Application number: CN201180072342.9A
Authority: CN
Inventors: 尼古拉·菲奥雷
Original assignee: Ren SRL
Current assignee: Ren SRL
Priority date: 2011-05-16
Filing date: 2011-07-07
Publication date: 2017-03-29
Anticipated expiration: 2031-07-07
Also published as: JP5844455B2; ES2546673T3; EP2709799B1; WO2012157006A1; US9895790B2; CA2836116C; EP2709799A1; HK1194032A1; MX2013013429A; JP2014513635A; MX336863B; ITMI20110850A1; CA2836116A1; US20140154961A1; PL2709799T3; BR112013029474A2; CN103717353A

Abstract

一种多研磨工具，由在其上存在研磨元件的支撑部组成。将此类研磨元件以这样的方式布置，使得形成一条或多条路径，沿着该路径，当从一个元件到下一个元件时，连续的研磨元件具有连续增加或减小任意量的粒度。该原理使得研磨工具具有用于抛光机和用于磨石的不同结构。对于旋转轨道的抛光机和行星抛光机，以及可选地，轨道抛光机，此类支撑部是圆形的，并且粒度顺序是圆周的，或径向的，或在两个方向上。第一工具由连续的(或不连续的)圆环组成，其是不同的研磨剂。第二工具包括沿着圆形外边缘布置的不同研磨元件。第三工具包括从边缘开始沿着360°的螺旋路径布置的不同研磨元件。第四工具包括两条180°的螺旋路径，该路径具有颠倒的粗糙度顺序。第四工具包括多对在同心圆周上固定至板的不同的研磨剂小圆柱体。通过用于固定不同的研磨部分的凸起和垫片，在抛光机的板上直接获得第五工具。对于直线抛光机，研磨支撑部是皮带，不同的研磨矩形或倾斜区域沿着该皮带彼此跟随。对于可替代的抛光机，研磨支撑部是与上述皮带一样形状的板。对于与磨石使用的工具，多研磨元件具有圆柱形旋转对称性，或是具有圆形顶端的圆锥形，或是球形对称性。

Description

多研磨工具

技术领域

本发明应用于研磨工具的制造，该研磨工具用于使具有粗糙表面的各种材料的表面抛光，例如，如：石头、混凝土、金属、木材，更精确地应用于多研磨工具。本发明可用于平面研磨工具(其用于任何类型的抛光机)的研制，并可用于对磨石具有圆柱对称性的工具。可以潜在使用本发明的研磨工具的抛光机是，例如，使用在两条轴上旋转的砂纸带的那些；使用在直线上振动的研磨剂的那些；具有简单旋转的研磨单盘的那些；使用相对于其自己的轴(其本身不旋转)传递轨道振动运动的研磨剂的轨道抛光机；旋转轨道抛光机，其中，与轨道机不同，轴线本身也旋转；行星抛光机(planetary polishing machine)，其中，多个圆形工具在本身旋转的圆周周围滚动。可以潜在使用本发明的研磨工具的磨石是，例如，台式磨床、角向磨光机(angle grinder)(也称作“柔性的”)，以及具有用于装配有柄部(shank)的工具的心轴的板式磨光机(board grinder)。

背景技术

可通过在实际表面相对于理想光滑表面的高度的测量结果之间的均方根(RMS)表示表面的粗糙度或修饰度级别(finish grade)，以μm计。抛光、或水磨，是机械抛光材料的方法，其适于根据待抛光的材料或所使用的方法，借助于各种性质的研磨剂消除、或至少降低表面粗糙度。

研磨剂的特征在于其硬度，其低易碎性，以及其具有晶状性质的事实。众所周知的天然研磨剂包括：金刚石、刚玉、石英、硅石、浮石、砂岩、金刚砂、石榴石等。人造研磨剂包括：氧化铝、三氧化二铬、氧化铁、氮化硼、碳化硅、玻璃、碳化硼等。在制造研磨工具时，首先，研磨具有以上性能的材料直到获得预定的粒度，并且，可以对以这种方式所获得的粉末进行不同的处理，例如：与适当的粘合剂混合并插入至所需形状的模具，然后以便在烤炉中加热；与树脂混合并应用于平面基底(软盘或平盘)；烧结成工具的形状，或烧结成将应用于其支撑板的元件的形状；电化学地置于适当形状的基底上，如对黄铜、铝、镍等的基底中的金刚石粉末实现的。在研磨过程中，产生碎片和粉末，其来自研磨剂和废料(scrapedmaterial)。由研磨所产生的摩擦还会产生大量的热量，其促进不期望的化学反应。在硬质材料的抛光中，人们由此使用基于水的润滑剂，例如，减少热量并去除碎片和粉末的水和矿物油的混合物。在软质材料的抛光中，通过使用具有蜡和固体脂肪的润滑剂避免研磨剂的阻塞，即由废料覆盖研磨表面，以形成防止与研磨颗粒及起作用的材料接触的层。抛光表面的修饰度级别严格取决于研磨剂的粒度，即取决于其微粒或颗粒的平均直径。通过筛分将研磨剂的颗粒进行分类，并且采用与每个线性英寸的这种滤网的网眼数量相对应的识别数量(recognition number)，这在其样本的连续分级粒度分析中保持大部分颗粒。因此，颗粒的分类值与颗粒的平均直径成反比；因此，颗粒的标识值(identification value)越高，颗粒越细。在以下文献中定义了在从粒度8上达至包括240的范围的序列内，到目前为止普遍接受的用于控制人造刚玉和碳化硅的磨粒的表：由美国商务部公布并由UNI于1957年4月的表格3898全部采用的“简化实践建议118-50(simplified practice recommendation118-50)”。相对于通过沉降来选择的细得多的颗粒，此类表的后续改进考虑了以千表达的粒度值。在以下文件中收集了在柔性研磨剂的制造中使用的磨粒，例如，砂纸：同样由美国商务部公布且由欧洲磨料制品制造商联盟(FEPA)采用的“商业标准CS217-59”。

将如上所述分类的研磨剂应用于在导言中提到的抛光机(便携式和台式机器)中使用的工具。第一种(通常是手动的)可在小型、中型和大型市场上用到。在地板的抛光中，在安装之后，其能够使由一片和另一片之间的凸起而产生的不平光滑，能够恢复由于可能的表面磨损或调节而产生的水平状态的损失，或降低表面直到获得所需的最终设计。

台式抛光机包括用于一般手工艺工作(artisanal job)的小型机器，以及大型自动工业机器，其由多个串联布置的自发机动单元(autonomously motorized unit)组成，每个单元具有装配有一个或多个相同粒度的研磨工具的头部，颗粒的尺寸从一个头部向下一个头部逐渐减小。在这些大型机器中，将粗板材放在传送带上，传送带在每个头部下方运送该粗板材，从最粗糙的研磨剂开始，以逐渐变光滑并抛光。

图1示出了行星类型的典型的便携式抛光机，其具有大于300Kg的重量，由垂直布置的、10HP三相电动机2驱动，其驱动轴与包括于工具驱动头3中的行星类型的齿轮机构结合，如图2所示。将头部3封闭在圆形壳体4中，圆形壳体4与橡皮刷状的橡皮圈5相接。将电机-行星本体以可过度转动(overturnable)的方式固定至框架6，框架6装配有两个轮子7和具有控制按钮的把手8。框架6容纳用于冷却并润滑研磨剂的水的水箱9，以及用于电子元件的壳体10。头部3包括三个板11、12、13，其以可从300至1300rpm(转／分)变化的速度，以外摆线方式(epicycloidal manner)旋转。快速结合系统允许将更适合的研磨工具14安装在单个板11、12、13上。此机器的可能应用如下：去除混凝土上的不整齐；去除树脂和胶水；制备表面；擦亮大理石和花岗岩；混凝土的镜面加工等。

后面的图3至图9示出了大量可安装在头部3的板11、12、13上，或可在另一类型的抛光机中使用的研磨工具中的有限部分。所述工具通常采用刚性圆形板的形状，其由能够与存在于工作面上的特定几何形状的凸起中的研磨剂粘合的材料的基底组成；或采用通过粘合剂或Velcro固定至支撑垫的软盘的形状。与所选择的研磨剂的类型无关，其在支撑盘或板上的结构将必须在形状和重量上对称，以保持抛光机的头部在旋转过程中非常好地平衡，从而不会由于旋转质量的不平衡而破坏横向振动。在市场上可找到的工具中考虑了该特性。研磨工具与抛光机的头部的连接也可以是完全不同的类型，例如：压力、螺钉、螺旋、卡口、销钉、磁性等。

在图3中，示出了磨盘16，其可具有各种厚度，例如，从4mm至13mm，由包含在树脂状粘合基质中的微粒金刚石粉末组成。可利用直接快速结合装置，或利用固定至存在于盘16后面上的Velcro的拖挂盘(支撑垫)，固定至抛光机的旋转板。研磨面具有一系列倾斜齿17，其形成从外边缘开始的圆环。将此工具设计为在大理石地板上获得最大持续时间和最佳精加工。该工具被广泛使用，并且其出现在各种手册中，例如，其包括在Meneghini&Bonfanti(La Genovese)手册中的工具之间，具有以下使用可能性：

大理石，可使用ASTM尺度的以下粒度：30／50／120／220／400／600／800目。对于良好的修饰度级别，使用400粒度是足够的，同时，可继续用两个后续粒度来获得额外的抛光。

花岗岩，在以下粒度中的微粒的各种混合物中：30／50／150／300／500／1000／2000／4000目。建议使用整个序列，除了一些特别简单的花岗岩以外，其可以在2000目停止，然后用粉末和毡垫擦亮。

图4示出了磨盘18，其由于其在中心是空的事实，并由于齿19通过同心圆槽分裂，而与前面的不同。盘18是非常软的，从而适合于擦亮凹面。

图5示出了研磨工具20，其包括板21，四个具有相同粒度且沿着边缘规则隔开的短金刚石研磨缸体22从板21突出。在板的中心，存在孔23，经由三个螺钉24应用于背面的拖挂盘。非常积极的工具(aggressive too1)可用于去除树脂和漆，并用于抛光混凝土。板21可以是塑料的或金属的，以及金刚石缸体22粘接于其；或者，可在树脂状物质和研磨材料的一次成型过程中获得板和缸体。

图6示出了研磨工具26，其由碳化硅和合成的含镁粘合剂制成，由在中心穿孔且径向地形成深槽以形成六个扇形27的非常厚的盘组成。该工具适合于去除乳香树脂或使非常耐磨的地板抛光，其中，树脂状金刚石盘可能是不方便的。其也可用于磨工业模板。

图7示出了研磨工具28，其由具有在中心穿孔的圆形边缘的缸体29组成，由与之前工具的材料相同的材料制成，并且具有相同的使用可能性。

图8示出了研磨工具30，其由在中间穿孔的圆板31组成，圆板31由树脂状材料制成，几乎为平行六面体的金刚石研磨块32从其突出，研磨块32沿板的边缘规则地隔开。特别建议将此工具用于抛光硬的、老化的混凝土。

后面的图9-图12示出了由单盘抛光机使用的研磨工具的几个实例。该工具由一组安装在支撑部上的研磨元件组成，支撑部通常与抛光机的圆板本身相符合，适合基于通过用乳香树脂装配或粘合来安装的研磨元件的形状成形。研磨元件可具有不同的形状，例如：Cassani类型；“virgule Genovesi”类型；Munchen，Frankfurt，Fickert，Tibaud，Pedrini棱柱形状的段的类型等。关于板与抛光机的旋转头的连接，通常提供大螺母，或者，与卫星抛光机中使用的那些相似的快速连接机构。必须特别注意研磨元件在板上的定位，以避免板在旋转过程中的不平衡。

图9示出了装配有一系列同心圆槽的支撑垫33的前面，该同心圆槽用于装配小尺寸研磨剂。或者，可以粘结软磨盘或刚性研磨缸体。在图10中，示出了图9的支撑垫的后面，在其中心，可看到与单盘抛光机的旋转板螺钉连接的大螺母34。因此，支撑垫33用作中间支撑部。图11、12、13示出了三个磨盘35a、35b、35c，每个磨盘具有其自己的粒度，以及三个具有减小的尺寸的微粒，可分别应用于支撑垫33，以实现抛光过程的三个阶段。

图14示出了单盘抛光机的圆板36，Frankfurt类型的三个以120°布置的研磨部分37从单盘抛光机突出。在特定实例中，部分37由碳化硅颗粒制成，其与具有梯形固体形状的菱镁矿粘合，该梯形固体包括弯曲且锥形的用于除去碎片的大中心导管。将三个连接器固定至板36，其由两个坚固的通过在板36上邻接的底座连接的横向肩部38组成。将肩部38与板36螺纹连接，并且，与底座组成棱柱形状的部分37的座部。在肩部38与底座连接处，具有两个相应的凹槽，其用作引导件并适于Frankfurt研磨部分37。

图15示出了板40，其圆形边缘41是凸起的。将三角形凸起42固定至板40，在接近边缘41的圆周上规则地隔开，并几乎突出相同的高度。使凸起42以与边缘41形成三个隔开120°的座部的方式定向，该座部用于安装三个Cassani类型的研磨部分43，其具有从边缘41突出的半圆壁形状，由与菱镁矿或水泥粘结的碳化硅颗粒制成。

图16示出了圆板44，其具有三个隔开120°的从外边缘开始的弯曲凹口45，相同数量的研磨部分46从其突出，以形成由与Cassani研磨部分相同的材料制成的“virgolaGenovese”。相对于前面的凹口隔开的三个其他矩形凹口47可用于其他研磨剂。

上述附图中示出的工具通常允许大理石、花岗岩和混凝土的抛光。

技术问题的概述

在抛光表面的过程中(更通常在研磨过程中)，研磨工具去除的效率以及尤其是可获得的表面质量在相当大程度上由硬质材料颗粒的平均尺寸决定。最大的颗粒允许获得较大的去除效率，但是会负面影响表面加工的质量，而最小的颗粒允许获得改善质量的表面，但是具有较低的去除效率。这种相反的结果需要进行粗成型操作和精加工操作。目前，表面抛光方法依次包括以下步骤：使光滑、粗成型、封闭可能的线和孔，以及精加工；然后是擦亮步骤。每个步骤需要不同的研磨剂，从而是不同类型的研磨剂。待抛光的表面可以是许多不同材料的地板的表面，具有原水泥的空间，来自采石场的之前简单使其拉平／光滑的粗糙石板，或经砑光机砑光的金属板，或木质地板。在手动抛光机中，移动机器本身，并且由于抛光过程需要上述通过逐渐更细的颗粒研磨剂来进行的后续步骤，所以该方法的总持续时间将增加更换研磨工具所必需的停滞时间。为了近似地计算抛光过程的总时间，必须考虑，从刚刚提到的地板开始，对于几乎所有的材料类型，例如：大理石、花岗岩、“seminati”、集块岩等，从粗成型到准备抛光，表面将经历约10个步骤，颗粒研磨剂越来越细。下表表示大理石或花岗岩表面的抛光过程中所需的步骤，排除了通常在毛毡支撑垫的帮助下用细粉执行的抛光步骤。

表1用于单盘抛光机的单研磨工具

每个步骤会需要几个在相同区域上相交的通道。对于每次更换研磨剂，操作员将必须关闭机器，清洗加工面，并将废液传送至适当的容器桶中或直接传送至排泄井中，使加工面干燥，检查进行的工作，安装用于后续步骤的研磨工具，并最终重新开始。对于这种技术要求，在完整的操作水平下，装配有传统单盘的抛光机或行星抛光机将在每天8工作小时内抛光并擦亮平均15m²，包括粉刷工作。如果需要抛光更大的表面积，并且，如果可用到“巨型”手动抛光机，那么，日平均量可增加至60-80m²，收集废液的工作对该平均量的影响很小；在仍待加工的地板区域中头部的胶带可推出这种废液，这里，可使其干燥，然后去除。

对于上述平均次数，将必须加入用于周边抛光的时间，通常用装配有砂纸的小磨床进行，每次更换砂纸，从大粒度减小至小粒度。当由墙壁对地板划界时，周边抛光是必不可少的，因为抛光机的头部具有防止将旋转工具被推压靠在墙壁上的横向体积(lateralbulk)。因此，沿着房间的整个周边，形成条带，在该条带中，地板保持高度差。

传统的研磨过程还需要更换粒度减小的工具，因此，虽然在较小程度上，但具有抛光的缺点。

发明目的

本发明的目的是缩短抛光过程的持续时间。

本发明的另一目的是缩短研磨过程的持续时间。

本发明的另一目的是减小上述过程中所必需的研磨工具的数量。

本发明的另一目的是改善墙壁附近的抛光。

本发明的另一目的是使得抛光和研磨过程更经济。

发明内容

为了实现这些目的，本发明具有作为目的的研磨工具，其中，根据本发明，其在工作面上包括至少两个具有不同粗糙度的研磨元件，如权利要求1所述。

以其最普通形式描述的本发明使其自身具有不同的实施方式，并且，在从属权利要求中，在认为是创新的其各种实施方式中，描述了本发明的其他特征。

在优选实施方式中，工作面包括超过两个具有不同粗糙度的研磨元件，其以这样的方式布置：沿相邻研磨元件之间的至少一条路径，以形成通过增加或减小粗糙度值排序的序列。

有利地，相对于使用传统工具，本发明减小了待抛光或待研磨表面上研磨“通道”的数量，其中，在每个“通道”，必须用另一具有更细粒度即具有更小的粗糙度的工具代替该工具，从而还缩短了用于工具更换的停滞时间。在抛光中，实际上，其可以导致用一个创新工具进行表1的10个步骤，或者，更保守地，用两个工具，第一个用于粗成型步骤，第二个用于精炼步骤。

“令人惊讶的”效果是，在新构思的多研磨工具中，具有连续粗糙度的各种研磨剂在平粗糙面上无法彼此不同地工作，而是其为了实现相同的结果而一起工作，到目前为止，其已经通过具有减小粒度的不同单研磨工具的通道获得。该现象的理论解释并不简单：已经在由粒度的连续性质和工具在待抛光或研磨的表面上移动过程中操作的连续性质导致的不同粒度之间验证了协同作用。由于刮擦面之间的逐渐增加的高度差，一种经验解释可在不同研磨元件的作用之间假设一种类型的自补偿。例如，一开始比其他元件更大程度得减小最显著粗糙度的较大粒度的元件相对于相邻的元件将更大得消耗研磨支撑部，从而，其趋向于保持该更大粒度的研磨剂与表面的平均水平间隔得更大。相同的机构对所有相邻的磨粒逐渐起作用。除了上述内容以外，当更细的微粒起作用时，从其产生的粉末使具有更大粒度的研磨剂中存在的粗糙度饱和，防止其影响已经精抛光的表面。根据本发明的第一实施方式，该工具具有圆形形状或任何规则的多边形形状，即具有旋转对称性。对于所有类型的抛光机，都具有该圆形形状，除了那些线性的或仅环形的以外，即其中相对于待抛光表面仅出现研磨剂的刚性平移。将研磨元件布置在(平衡的)平圆形的支撑部上，将必须确保该工具产生动态平衡的总体效果。这在以下模式中是可能的：a)通过相对于工具的中心对称分布研磨块和非研磨块；b)通过不对称分布研磨剂，使得相对于工具的中心沿着相对侧上的直径对准的研磨元件m1，m2(其质心位于离上述中心距离r1，r2处)，对工具的惯性力矩产生相等的贡献m1.r1²、m2.r2²，并且这对规则的多边形形状的工具来说也是有效的。

在第一种类型的圆形工具中，离工具中心的距离从一个研磨元件到相邻的一个研磨元件的距离增加或减小取决于遵循该顺序的顺时针或逆时针方向。在这种意义上，一个实施方式是其中研磨元件是具有连续粗糙度的同心圆环，不管其是连续的还是任意隔开的。在类似的工具中，可以增加圆环的数量直到获得在径向方向上几乎连续的可变粗糙度。一个变体是，其中具有连续粗糙度的研磨元件部分占据相同数量的同心圆环，不管其是连续的还是任意隔开的。在该变体的工具中，相同粒度的多研磨元件在相应的同心圆环内隔开。制造方式相对之前的工具改变，但是优点仍是相同的。

对于不由墙壁划界的待抛光表面来说，如上所述制造的工具是最佳的，或者，以完全等同的方式，以应用于台式抛光机的抛光头，其横向运动可以超过待抛光表面的边缘。在存在侧壁或等同的限制时，抛光在外围带内并不是最佳的，外围带的宽度取决于所使用的抛光机的头部的边缘的总尺寸，并取决于所安装的工具的类型。通过使用具有圆环的创新工具，将使(已经提到的)缺点变大，因为在同心研磨元件的仅径向方向上的连续布置-即使圆环较窄且影响圆周边缘附近的带子-在任何情况中都将导致相同粒度的研磨剂从工具的边缘逐渐离开。因此，研磨剂将从待抛光表面的边缘离开，这将逐渐没有这种颗粒的效果。通过相邻研磨元件(例如，第二类型的圆形工具，其中，具有连续粗糙度的研磨元件离工具的中心均具有相同的距离，这意味着，沿着靠近圆形工具本身的外围边缘附近，布置具有连续粗糙度的研磨元件)的不同布置，可减小以上缺点。仍具有减少抛光处理步骤的优点，因为一个工具可完成许多与所装配的不同磨粒的数量相应的同步步骤；还具有几乎去除待通过的外围带的优点，因为在边缘附近可使用所有颗粒。

第三种类型的圆形工具通过沿着螺旋路径部分布置具有连续粗糙度的研磨元件，将上述两个方面协同地组合。因此，研磨工具的粗糙度随着该顺序的每个研磨元件径向地且成角度地变化。相对于仅径向布置的研磨元件，源自其的另一优点是，能够安装更宽的研磨元件，而不会由此增加外围带的宽度，逐渐缺乏研磨剂的连接作用。现在，此类带子的宽度仅取决于螺旋的间隔，可基于可在不同材料的抛光中获得的最佳结果来选择该间隔。相对于仅角度的研磨连续性质，增加径向部件可促进各种颗粒之间的协同作用，因为使用此类部件增加其之间的高度差。该差有利于对各种研磨元件的抛光贡献之间的自补偿。当螺旋的间隔减小时，观察第三工具类型将趋向于会聚为第二种是有用的，其中，沿着圆周布置具有连续粗糙度的研磨元件。

在第三工具类型中，可通过将研磨元件布置为形成两个具有相同数量的等距隔开的元件的连续序列，改善由墙壁划界的边缘附近的抛光，包括具有从外围朝着内部增加的粗糙度的第一序列，以及具有从外围朝着内部减小的粗糙度的第二序列。可理解，这种布置允许所有颗粒在边缘附近起作用。

根据本发明的第二实施方式，研磨工具随着以连续或交替的方式沿直线平移而起作用，并且，颗粒序列中的相邻研磨元件相对于所述直线占据倾斜的或垂直的带子。

根据在磨石中特别有用的本发明的第三实施方式，研磨工具具有旋转对称性，例如，圆锥形的或圆柱形的，并且，研磨面在颗粒序列中的连续带内的侧面上延伸。上述带可以是环形的，或者，特别是在与柄部相关的工具中，具有圆柱形螺旋形状。

根据在磨石中也特别有用的本发明的第四实施方式，研磨工具具有球形对称性，并且，在颗粒序列中，研磨面在连续球形区域之后的点上包括球形帽。

相对于传统工具，根据本发明的多研磨工具的制造需要更多的时间和更多的步骤来沉积研磨剂，但是，本质上，其使用相同的方法。主要差异包括，将各种颗粒选择性地固定至基质，对于每个待固定的颗粒来说，这需要掩盖当前颗粒未影响的区域。例如，相对固定可经由静电方法而产生，或在金属的帮助下通过电解驱动而产生。在颗粒沉积之后，存在用于后续颗粒的未掩盖区域以及最后沉积的颗粒的掩盖区域。批量生产将允许获得规模经济，并且并不排除在未来可发展出更有效的制造方法。

发明的优点

与相同创新理念的不同实现方面相联系，已经充分说明了本发明的优点；因此，可通过说明以下内容来将其进行总结：通过实现更复杂的研磨工具，由于更大的复杂性而可获得其数量的减小，并且，为了净减少通道数量以及为了节省由于更换工具而产生的停滞时间，由于整个抛光或研磨过程的速度增加而仍可保持净效益。通过在所述粗糙度序列中使用研磨元件的特定布置，还可在墙壁附近获得抛光改善。

最后，为了艺术作品或手工艺作品使用小型手动工具时，有利的是，通过每次选择待使用的工具的部分能够研磨弯曲表面。

附图说明

从本发明的以下实施方式的具体详细说明和仅作为非限制性实例给出的附图中，本发明的其他目的和优点将更清楚，其中：

图1是典型的行星类型的便携式抛光机的透视图；

图2是图1的抛光机中包含的行星式头部的底部透视图；

图3至图8示出了图2所示的行星式头部中使用的属于现有技术的研磨工具的子设备；

图9和图10示出了可固定至单盘抛光机的旋转板的支撑垫的两个面，其作为各种形状的研磨元件的中间支撑部；

图11、12、13示出了三个柔性研磨盘，每个具有其自己的粒度，并且三个颗粒具有逐渐减小的尺寸，可固定至图9的衬板；

图14、15、16是现有技术的研磨工具的透视图，其包括安装在单盘抛光机的旋转板上的研磨元件；

图17至图24示出了相同数量的根据本发明的平圆形工具；

图25示出了根据本发明布置的在其上安装圆柱形研磨工具的支撑垫的透视图；

图26是根据本发明布置的在其上安装圆柱形研磨工具的单盘抛光机的旋转板的底视图；

图27、28、29示出了根据本发明的可安装在图26的板上的研磨工具的其他结构的透视图；

图30示出了安装根据本发明制造的研磨带的线性抛光机的正视图；

图31示出了安装在图30的抛光机上的研磨带的部分的底视图；

图32是安装根据本发明制造的研磨板的轨道抛光机或可替换的抛光机的正视图；

图33示出了安装在图32的抛光机上的研磨板的底视图；

图34是根据本发明制造的具有圆柱形形状的台式研磨工具的透视图；

图35是根据本发明的具有圆柱形形状的台式研磨工具的透视图，其包括圆形顶端的底视图；

图36是根据本发明获得的球形形状的台式研磨工具的前视图。

具体实施方式

在以下描述中，可用相同的符号表示在不同附图中出现的等同元件。在一幅图的图示中，可以参考未在该图中清楚表示而是在之前的图中清楚表示的元件。各种所示元件的尺寸和比例并非必须与实际的尺寸和比例相一致。

图17示出了由中心穿孔的平圆形支撑部51组成的研磨工具50，其由适合于所使用的研磨材料类型并适合用于固定研磨粉末的技术的材料制成。如果工具50是金刚石工具，则支撑部51可以是，例如：黄铜、铝、树脂状材料，植物纤维或人造纤维等。在支撑部51上，从外部边缘开始，研磨粉末形成相等宽度的十个同心圆环52-61，彼此连续，由不同尺寸的颗粒制成。在最外侧的圆环52上具有最小的粒度，在最内侧的圆形颗粒61上具有最大的粒度，而在其他圆环53-60上，从更外侧向更内侧的圆环粒度尺寸增加。圆环的数量、其宽度、以及从一个环到下一个环增加的研磨剂粒度的尺寸，是基于待抛光的材料和最佳实验结果可自由选择的所有参数。使研磨工具50动态地平衡，并且其用于未由墙壁包围的抛光平面或弯曲表面。

图18示出了仅对于以下事实与工具50不同的平圆形研磨工具64：在平圆形支撑部65上，在最内侧的圆环66上具有最小的粒度，在最外侧的圆环75上具有最大的粒度，而在其他圆环74-67上，从更外侧的圆环到更内侧的圆环的粒度尺寸减小。图17和图18的工具可制成具有最少两个圆环和最多允许连续改变粒度的数量的圆环。

图19示出了由在中心穿孔的平圆形支撑部79组成的研磨工具78的底视图，在其工作面上存在四个研磨元件80、81、82、83。沿着外边缘布置这些元件，并且其具有相同的几何形状、相同的尺寸、以及顺次安排的不同粒度。计划形状是70°宽的圆环扇形的形状，在没有研磨剂的情况下四个扇形彼此隔开20°宽的间隙。通过沿着与板79的表面垂直的线突出扁平形状获得每个研磨元件的空间中的形状，以这样的方式产生对于所有研磨元件相同的厚度。径向方向上的深度是任意的，但是，对于所有扇形是相等的，以使得工具动态地平衡。从具有较大粒度的研磨元件80开始，在逆时针方向上，从一个元件到下一个元件，其他研磨元件的粒度减小任意的量。相反，从具有最小粒度的研磨元件83开始，在顺时针方向上，从一个元件到下一个元件，其他研磨元件的粒度增加相同任意的量。顺时针或逆时针方向的选择是任意的。圆环扇形形状是能够占据具有分开的研磨元件的板97的大部分外表面的形状；然而，其并不限于获得该工具，并且其他形状，例如：圆扇形、圆多边形、梯形、矩形或其他形状，在各种研磨颗粒的尺寸中可使用连续性质的相同原理。

图20示出了由于以下事实而与工具78不同的研磨工具86：在平圆形支撑部87的工作面的外边缘上，存在六个圆环扇形形状的研磨元件88、89、90、91、92、93，其具有顺序安排的不同粒度，48°宽，并且在没有研磨剂的情况下彼此隔开12°的空间。从具有最大粒度的研磨元件88开始，在逆时针方向上，从一个元件到下一个元件，其他研磨元件的粒度减小任意的量。顺时针或逆时针选择的选择是任意的。属于工具86的具有最大粒度的研磨元件88的颗粒的尺寸比属于图19的工具78的具有最小粒度的研磨元件83的颗粒的尺寸小。一起考虑两个工具78和86，其提供一批按粒度顺序排列的十个研磨元件。因此，仅使用两个多研磨工具，可以进行表1的整个抛光过程，根据现有技术，其将需要数10个单研磨工具。下表2总结了新的方法。在本说明书中，术语“多研磨”是指多个不同尺寸的研磨剂颗粒。

表2用于单盘抛光机的多研磨工具

另外，已经考虑了研磨元件的布置，所有研磨元件与相应工具的外边缘连接，将由墙壁包围的外围带中的辅助抛光减小至最小，如果不是实际上不存在的话。可用最少数量的两个圆环扇形来实现图19和图20的工具，宽上达至180°。

图21和图22示出了变体的底视图，其将研磨剂粒度顺序的径向部件增加至图19和图20的工具。因此，根据该变型的圆形工具的粒度顺序将具有两个几何形状的部件：一个是角度的且一个是径向的。因此，任何预选形状的研磨元件将必须沿着螺旋形路径布置，限制于第一圈或其一部分。通过在这种意义上操作，在存在相同的具有圆环形状的研磨元件下，将必须改变研磨块的分布的直径对称性。那么，将必须适当地改变研磨元件的尺寸，以在旋转过程中恢复圆形工具的动态平衡。由于缺少平衡，工具将触发振动，其趋向于使工具部分从待抛光表面相对于直径相对的部分交替地上升和下降，包括处理效率。该平衡需要去除作用于旋转轴上的力；这可通过使单研磨元件的惯性力矩m_ir_i ²相等来获得，该单研磨元件相对于中心沿着相对侧上的直径对准。由于研磨元件的圆环扇形形状在新工具中保持，以避免重叠，所以从更外部的研磨元件到更内部的研磨元件，角度必须减小，这是由于螺旋曲率半径逐渐减小的原因。因此，也将必须改变径向方向上的尺寸，以补偿角度的减小(其减小质量)和离圆盘97的中心更小的距离(对于给定相同的质量，其减小惯性力矩)。因此，研磨元件将变得较小的角度延伸，并在径向方向上更宽，换言之，当远离外边缘时，更低和更宽。

参考图21的底视图，观察到由在中心穿孔的平圆形支撑部97组成的研磨工具96，在其工作面上存在四个研磨元件98、99、100、101；将这些元件沿着螺旋路径布置在外边缘附近，该螺旋路径比在边缘上开始的360°螺旋稍小。研磨元件具有相同的几何形状，其具有圆环扇形，在径向和角度方向上具有不同的尺寸，并具有按尺寸顺序布置的不同尺寸的磨粒。通过沿着与板97的表面垂直的线挤出扁平形状，来获得该空间中的形状，产生对于所有研磨元件相同的厚度，使得它们至少在初始工作步骤中，可同时位于待抛光表面上。螺旋的间隔小于下深部101的研磨元件的径向方向上的宽度(深度)，其相接在板97的边缘上。以这种方式，将与圆形边缘相邻的没有研磨剂的区域减到最小，于是减小需要辅助抛光的外围带的宽度。从具有较大粒度的研磨元件98开始，在逆时针方向上，从一个元件到下一个元件，其他研磨元件的粒度减小任意的量。相反，从具有最小粒度的研磨元件101开始，在顺时针方向上，从一个元件到下一个元件，其他研磨元件的粒度增加相同的任意量。顺时针或逆时针方向的选择是任意的。关于动态平衡，例如，考虑两个研磨元件98和100，并且，假设将这些中每个研磨元件的质量集中在相应的重心中，重心质量和离板97的中心的相应距离是这样的，使得验证以下等式：m₉₈r₉₈ ²=m₁₀₀r₁₀₀ ²，并且，这对于所有的研磨元件对都是有效的，于是获得工具96的平衡。在一个研磨元件和相邻元件之间缺少研磨剂的空间，在改变其角宽度之后，沿着螺旋路径改变其宽度。

在磨粒的尺寸顺序中增加径向成分通过减小抛光所需的时间并改善抛光表面的质量提高多研磨工具的效率。在较大磨粒是较内部的磨粒的序列中，用实验方法检测最大效率。关于与墙壁相对的外围带中的抛光，粒度连续的沿着边缘布置小面积的研磨部分的结构，防止形成朝着建筑物墙稍微升高的边缘。另外，由于较大粒度的研磨剂是较内部的研磨剂，所以，会出现这种边缘升高；实际上，其导致尽可能靠近板的边缘，考虑这样的事实：在研磨部分在作用最大的部分是外边缘，剩余的部分更用作支撑部，并仅随后变得相关。

图22示出了研磨工具104，其由于以下事实而与工具96不同：在平圆形支撑部105的工作面的外边缘上，存在六个具有圆环扇形形状的研磨元件106、107、108、109、110、111，其具有不同的粒度。从具有最大粒度的最内侧的研磨元件106开始，在螺旋路径中，在逆时针方向上，从一个元件到下一个元件，其他研磨元件的粒度减小任意的量。顺时针或逆时针方向的选择是任意的。工具104的具有最大粒度的研磨元件106的颗粒的尺寸比图21的工具96的具有最小粒度的研磨元件101的颗粒小。研磨元件的布置和尺寸是使得工具104动态地平衡。一起考虑两个工具96和104，与图19和图20的工具78和86一样，其提供10个按粒度顺序排列的研磨元件的布置；因此，在不对这对工具96和104进行任何修改的情况下，表2是可适用的。可将图21和图22的工具制造为具有最少两个圆环扇形，宽上达至接近180°，并以这样的方式构造尺寸，使得保持转动力矩相等，按照以下两种交替的模式：a)离外边缘最远的扇形，宽度比第一个稍小且稍深；b)离外边缘最远的扇形，比第一个稍宽且具有相等的深度。

下面的图23和图24示出了两种研磨工具，其在一个工具中使图21和图22的两个研磨工具96和104合成且翻倍，允许在一个步骤中完成表2中的粗成形和精炼。

图23的底视图示出了由在中心穿孔的平圆形支撑部115组成的研磨工具114，在其工作面上存在20个研磨元件。将这些元件分成两组，每组10个，每组占据平圆形支撑部115的工作面的一半。将第一组的用116、117、118、119、120、121、122、123、124、125表示的研磨元件沿着180°的螺旋路径布置在外边缘附近，与在边缘上开始的半螺旋一致。还将第二组的用126、127、128、129、130、131、132、133、134、135表示的研磨元件沿着另一具有半螺旋长度的螺旋路径布置在外边缘附近，然而，其并不从之前的半螺旋继续，而是在外边缘上从之前的半螺旋的末端重新开始。

研磨元件具有与圆环扇形相同的几何形状，角开口稍微不同，在径向方向上具有相同的深度，并且磨粒具有连续布置的不同尺寸。从第一组的10个研磨元件开始，具有最小粒度的元件125与板115的外边缘接触，在顺时针方向上，从一个元件到下一个元件，该序列的其他研磨元件的粒度增加任意的量，直到达到具有最大粒度的最内侧的元件116。在顺时针方向上继续，第二组的10个研磨元件继续，其中，具有最大粒度的元件135与板115的外边缘接触，在顺时针方向上，从一个元件到下一个元件，该序列的其他研磨元件的粒度减小任意的量，直到达到具有最小粒度的最内侧的元件116。可理解，在图中，通过改变所有磨粒的布置方向，工具114的结构不改变，实际上，这种改变等于刚性的半圈旋转。还可理解，不管预先选择哪个旋转方向，两组粒度之间的转变连续地出现。为了改善抛光，保持在相应序列中占据相同位置的元件的相同的粒度值是有利的。观察该图，显示出两个其他感兴趣的方面。第一方面关于获得动态平衡的简化实现方式。第二方面关于使外围带抛光的优点。关于第一方面，通过观察虚线直径，可观察到，将两个序列中的相同顺序的元件从相对侧在板115的中心相同的距离处沿着公共直径对准。这意味着，它们具有相同的角开口，从而在径向方向上必须具有相同的尺寸。对于所有相应的元件对来说，这都是适用的，这建议保持所有研磨元件的径向尺寸不变。关于第二方面，可观察到，即使为了保持10个颗粒在径向方向上的连续尺寸变化，也必须将研磨元件相对于图22的工具104与板115的边缘隔开更大的空间；还确切的是，在由于具有相同粒度的研磨元件径向偏离地布置而完全翻转的过程中，主要恢复使由于沿着每个序列逐渐缺少研磨剂而缺少的抛光。实际上，该偏离布置允许相同粒度的研磨剂完成外围带中的两个平行周边。

图24的底视图示出了由在中心穿孔的平圆形支撑部141组成的研磨工具140，在其工作面上存在20个研磨元件，分成4组，每组5个，每组彼此相连。将每组5个元件的研磨元件沿着90°的螺旋路径布置，该螺旋路径相当于1／4圈，每次从板141的外边缘开始。接着，将4组分成2组，每组2个，以形成两个大组，每组由10个按连续粒度排列的研磨元件组成。每个大组占据平圆形支撑部141的工作面的一半。第一大组的研磨元件用142、143、144、145、146、147、148、149、150、151表示。第二大组的研磨元件用152、153、154、155、156、157、158、159、160、161表示。研磨元件具有与圆环扇形相同的几何形状，相同的角开口，在径向方向上相同的深度，并且，如上所述，连续排序的不同尺寸的磨粒。与工具114不同，将每个研磨元件的外边缘放在半径小于或等于较外部相邻研磨元件的圆周的半径的圆周上，最内侧的边缘位于该圆周上。通过这种布置，使研磨元件径向地且角度地隔开。当然，该元件在径向方向上的宽度必须小于工具114的元件的宽度，以避免缺少研磨剂的外围区域的过度放大；为此原因，将10个的大组分成2组，每组5个，每组从板141的外边缘开始。在第一大组的10个研磨元件中，具有最小粒度的元件142与板141的外边缘接触，与具有中间粒度的第六元件147一样；从元件141开始，在顺时针方向上，从一个元件到下一个元件，该序列10个连续的研磨元件的粒度增加任意的量，直到达到最大粒度的元件151。在顺时针方向上继续，第二大组的10个研磨元件继续，其中，具有最大粒度的元件152和具有中间粒度的第六元件157与板115的外边缘接触，在顺时针方向上，从一个元件到下一个元件，该序列的其他研磨元件的粒度减小，直到达到最小粒度的元件161。研磨元件布置中的顺时针或逆时针方向是完全任意的。对平衡的考虑以及可用工具140获得的优点，与关于图23的工具114所述的相同。研磨元件的径向方向上的较的宽度看起来并不会以明显的方式对工具140的操作持续时间产生不利影响，因为(如上所述)研磨元件主要在外边缘上工作。

下面的图25、26、27、28、29的目的是示出根据本发明所述的内容实现的研磨工具，通过以“工艺的”方式适应抛光机的板和市场上容易找到的研磨部件来获得。在结构上，此类新工具比在之前图17至图24中描述的那些更简单获得，因为其不需要研磨元件的特定设计；另一方面，使用10个尺寸减小的磨粒的抛光方法需要超过两个表2所述的研磨工具，但是，在任何情况中，小于10个表1所列出的工具。对平衡的考虑也适用于安装图25至图29所示的结构的工具的抛光机的板，只要将所述工具以相对于支持其的板的中心对称的方式固定。

图25的透视图示出了工具170，其包括在其上固定6个研磨元件172、173、174、175、176、177的圆板171，这些研磨元件具有小圆柱体的形状，彼此隔开60°，并且两两布置在同心圆上。与板171的固定可以是以下类型中的一种：Velcro、胶粘、或装配在适当的凹槽或腔体中。该6个小圆柱体形成具有3种不同粒度的3组；每组包括2个相同研磨剂粒度的元件。将每组的研磨剂小圆柱体在相对侧上相对于板171的中心，在离其相同距离处沿着公共直径对准。离中心的距离从一组到另一组变化，使得可以识别第一组、第二组和第三组，第一组的两个小圆柱体位于离中心较大的距离处；在第二组中，其位于中间距离处；以及在第三组中，其位于最小距离处。离相邻组元件的中心的距离差大于或等于研磨剂小圆柱体的底部的直径，因此，这导致径向地隔开。使这三个组以磨粒尺寸顺序排列。更特别地，第一组包括最外侧的具有最小粒度的小圆柱体172、173，位于板171的外边缘附近；第二相邻的组包括具有中间粒度的小圆柱体174、175；最后，第三相邻的组包括具有最大粒度的圆柱体176、177。在不限制本发明的情况下，可任意地改变以下设计参数：研磨剂小圆柱体组的数量；每组小圆柱体的数量；相邻组的元件之间的径向方向上的距离；径向方向上增加或减小的粒度顺序；初始颗粒的尺寸和单颗粒变化步骤的程度。可通过使用类型170的研磨工具使表1的抛光过程更快且更有效。例如，可以用类型170的仅具有两个小圆柱体组的两个工具完成粗成形，并用两个如图中所示的工具170进行后续的精炼。可将工具170安装在任何类型的在其运动中包括旋转的抛光机上。

图26的底视图示出了构造在单盘抛光机的圆板181上的抛光结构180。板181具有在以下面的表面上方垂直突出的外边缘182，在该面上固定有6个梯形凸起183、184、185、186、187、188。将此类凸起布置在中心孔周围的圆中，以将6个相应的研磨部分锁定在边缘182上，如对图15的Cassani研磨部分所描述的。在该底视图中，每个研磨部分具有伪内切梯形(mixtilinear trapezoid)的形状，或更适合于圆环扇形。在立体图中，每个扇形由非研磨支撑部组成，例如，含镁的，实际的金刚石研磨元件从其向上延伸，占据包含于第二组的最上侧的边缘直到径向方向上的宽度的一半之间的部分。参考图26，可观察到粒度相等的研磨部分190、192、194彼此隔开120°，并通过由相应的梯形凸起183、185、187施加在属于相应的研磨部分的含镁支撑部191、193、195上的压力保持在边缘182上。将另外三个彼此隔开120°的研磨部分196、199、202(具有相等的粒度，大于之前的研磨元件的粒度)，在相对于圆形边缘182收回的位置，插入三个研磨部分190、192、194。将三个收回的研磨部分沿着圆周布置，并通过由相应的梯形凸起188、186、184共同施加在属于相应部分的支撑部197、200、203上的压力，并通过放在研磨部分196、199、200的外边缘和具有板181的凸起182的圆形外边缘之间的多对垫片198、201、204保持固定在板182上。总而言之，研磨元件从边缘182突出相等高度的一部分。垫片198、201、204使研磨部分保持在离边缘182任意距离处，特别是大于或等于相邻的研磨部分的宽度，以除了与粒度顺序角度隔开以外，还可径向隔开。可通过使用板180的结构，使表1的抛光处理更快且更有效；实际上，可以将步骤和工具的数量减半。基于板181的直径和所使用的研磨部分的尺寸，可以(根据相同的方案)安装具有超过两个磨粒的部分。

可用最少两个比图中所示的宽的研磨部分来实现图26的研磨结构，其尺寸以保持转动力矩的相等。

图27示出了由具有圆环扇形形状的支撑部211组成的研磨工具210的透视图，两个平行行的平行六面体形状的研磨块从其突出；此类块具有相同的厚度和不同的粒度。最外行包括三个沿着外边缘布置的金刚石研磨块212、213、214；最内行包括两个沿着内边缘布置的金刚石研磨块215、216。块215、216的磨粒的粒度比块212、213、214的粒度大。可将工具210认为是图15的Cassani类型的研磨部分的根据本发明的变体，或是图8的金刚石树脂状圆盘的一部分的根据本发明的变体。

图28示出了由具有圆环扇形形状的支撑部219组成的研磨工具218的透视图，将两个研磨部分220和221粘在其上，其具有相同尺寸的圆环扇形形状。研磨部分220与横跨一侧的支撑部219的外边缘平齐，而部分221相对于220位于更靠后，并在另一侧的上方和下边缘的上方，在支撑部219上延伸。研磨部分220由在其上粘有四个研磨元件222、223、224、225的支撑部组成；此类元件是假平行六面体形状的，具有减小的厚度和不同的尺寸，并布置在两个平行的行上。研磨元件222和223与其自己部分的外边缘相接，而元件224和225与内边缘相接。研磨部分221由在其上粘有布置在两个平行的行上的四个研磨元件222、223、224、225的支撑部组成。后面的元件是假平行六面体形状的，具有减小的厚度，具有不同的尺寸，并且其粒度比前面的研磨元件的粒度更大。可通过使用合适的凸起将研磨工具218有利地安装在单盘抛光机的板上。在研磨构造的结构中，例如，在图26的板181上，必须将每个研磨部分220和221认为是独特的研磨元件，使得粒度的连续性质在径向和圆周方向上具有两个值。两个部分的设置类似于图26的结构180的两个相邻的部分，使其彼此靠近为连续的点。

图29示出了由三个连续的研磨支撑部231、232、233组成的研磨工具230的透视图，具有类似于长／宽圆环扇形或伪内切梯形的形状。三个相邻的支撑部从后面的支撑部逐渐退后。沿着一侧粘贴支撑部231和232；将支撑部233旋转90°，并且其具有粘贴至支撑部232的另一侧的内边缘。研磨支撑部231包括两个研磨元件234、235，其是假平行六面体形状的，并具有减小的厚度。研磨支撑部232包括三个研磨元件236、237、238，其是假平行六面体形状的，并具有减小的厚度，其粒度比前面的研磨元件的粒度更大。研磨支撑部233包括两个研磨元件239和240，其是假平行六面体形状的，并具有减小的厚度，其粒度比前面的研磨元件的粒度更大。所有平行六面体形状的研磨元件都具有与其自己的支撑部的曲线边缘相接的短边。元件234与其自己的支撑部的外边缘相接，而元件235与内边缘相接。两个元件不对准。元件236和237与其自己的支撑部的外边缘相接，而元件238与内边缘相接，并且，与前两个元件不对准。元件239和240与其自己部分的边缘相接。可通过使用合适的凸起将研磨工具230有利地安装在单盘抛光机的板上。而且，在此情况中，可将每个研磨部分认为是一个研磨元件，使得粒度的连续性质在径向和圆周方向上具有三个值。

图30示出了带式抛光机250，其电动机使缠绕在三个平行的辊子251、252、253的组件上的磨带254旋转，通过抛光机的重量将该辊子保持在待抛光的薄片255上。在图31中示出了磨带部分254，其中，可观察到，研磨表面由四个矩形研磨区域(258、259、260、261)的纵向方向上的重复序列组成，具有从一个区域到下一个区域减小任意量的研磨粒度。当从一个序列到下一个序列，或到前一个序列时，为了避免粒度的突然不连续，以这样的方式将左右相邻的序列中的粒度顺序颠倒，使得具有最小粒度的区域261的左侧是具有与前面的区域260相同的粒度的区域263，类似地，具有最大粒度的区域258的右侧是具有与后面的区域259相同的粒度的区域262。与带254的长度一致，研磨区域的数量，最少是两个，及其长度都是任意的参数。研磨区域也可以是倾斜的。

图32示出了手动类型的或交替的直线类型的轨道抛光机270，在其上安装有研磨板271，通过由电动机273驱动的机构272移动这种板。操作员抓住把手274，以在待抛光的薄片275上操纵板271。参考图33，可观察到，矩形板271在纵向方向上包括四个矩形研磨区域的序列：278、279、280、281，从一个区域到下一个区域，具有减小任意量的研磨粒度。与板271的长度一致，研磨区域的数量，最少是两个，及其长度都是任意的参数。研磨区域也可以是倾斜的。

后面的图34、35、36示出了特别适合于在磨石中使用的多颗粒研磨工具。

图34示出了在其中心穿孔的圆柱形研磨工具290，其侧面支撑在从底座附近的最大粒度的区域291开始的粒度序列中四个彼此连续的研磨环形区域，分别是291、292、293、294。可颠倒该序列的顺序，并且根据需要改变环形带的数量。工具290特别适合于在台式磨石中使用。

图35示出了具有圆形顶端的圆柱形研磨工具298，装配有用于固定至磨石的柔性砂轮的柄部299。在图中示出了从下方看的顶端。圆柱形表面支撑螺旋形状的交替的连续带，其具有三种不同尺寸的磨粒，用字母F(小)、M(中)和G(大)表示。将每个螺旋带沿着整个侧面缠绕。该顶端支撑三个连续的具有粒度F，M，G的研磨球形区域。在图中，可理解，随着最小允许的变化，出现从一个粒度到下一个粒度的转变。

图36示出了球形形状的研磨工具302，其装配有用于固定至磨石的柔性砂轮的柄部303。球形表面支撑交替的连续带，其与柄部相对的部分是球形帽，并且其他部分是球形区域。这些带具有三个从帽开始的粒度G、M、F，并且其以柔性过渡继续。

基于对优选实施方式提供的描述，显而易见的是，在不背离从以下权利要求得到的本发明的范围的情况下，本领域中的技术人员可引入一些改变。

Claims

1.一种研磨工具，其特征在于，所述研磨工具在工作面上包括超过两个具有不同粗糙度的研磨元件，所述研磨元件以这样的方式布置，使得，沿着相邻研磨元件之间的至少一条路径，形成通过增加或减小粗糙度值来排序的序列，所述研磨工具具有圆形形状或任何一种规则的多边形形状，所述研磨元件的布置包括，相对于所述研磨工具的中心分配研磨质量，使得其质心相对于所述研磨工具的中心在相对侧上对准的分别位于离所述中心距离r1、r2处的研磨元件m1、m2对所述研磨工具的惯性力矩产生相等的贡献m1.r1²和m2.r2²，其中m1和m2是指研磨元件的质量，每个研磨元件离所述研磨工具的中心的距离从一个研磨元件向相邻的一个增加或减小，这取决于所述至少一个序列所遵循的顺时针或逆时针方向。

2.根据权利要求1所述的研磨工具，其特征在于，所述研磨元件(80-83；88-93)位于离所述研磨工具的中心相同距离处，布置在外边缘附近。

3.根据权利要求1所述的研磨工具，其特征在于，所述研磨元件完全占据各自的同心圆环(52-61；66-75)，所述同心圆环是连续的或任意隔开的。

4.根据权利要求3所述的研磨工具，其特征在于，所述研磨元件的粒度在径向方向上几乎连续地变化。

5.根据权利要求1所述的研磨工具，其特征在于，所述研磨元件部分占据各自的同心圆环，所述同心圆环是连续的或任意隔开的。

6.根据权利要求1所述的研磨工具，其特征在于，将所述研磨元件从所述研磨工具的外边缘开始沿着360°的螺旋路径布置。

7.根据权利要求1所述的研磨工具，其特征在于，将含有相同数量的研磨元件的组以开口360°的因数的相等角度沿着两条或更多条螺旋路径隔开，并从所述研磨工具的外边缘开始。

8.根据权利要求7所述的研磨工具，其特征在于，

通过从外围朝内部增加粒度，对布置在螺旋路径(116-125)上的第一组研磨元件或布置在相邻螺旋路径(142-146；147-151)上的几个第一组研磨元件排序；

通过从外围朝内部减小粒度，对布置在螺旋路径(135-127)上的相同数量的第二组研磨元件或布置在相邻螺旋路径(152-156；157-161)上的几个相同数量的第二组研磨元件排序。

9.根据权利要求5至8中任一项所述的研磨工具，其特征在于，所述研磨元件具有通过将与所述工作面垂直的圆环部分挤出至相同高度获得的形状。

10.根据权利要求1所述的研磨工具，其特征在于，其通过布置在圆中的凸起(183-188)在抛光机的板(181)上直接获得，以将研磨元件(190、192、194、196、199、202)在压力下直接和通过垫片(198、201、204)固定至突出的外边缘(182)。