CN103080876A - 带透明导电层的基体及其制造方法、以及触控面板用透明导电膜层叠体、触控面板 - Google Patents

带透明导电层的基体及其制造方法、以及触控面板用透明导电膜层叠体、触控面板 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供一种触控面板用的带透明导电层的基体，该带透明导电层的基体在透明支承体上具有其图案不能容易地被视觉辨认到的透明导电性图案，能够使用简单且高效的方法形成，且其图案不能容易地被视觉辨认到。发明人等在透明基体上形成透明导电性图案时，并非通过图案区域内被均质的透明导电性被膜覆盖的导电性区域、和使它们电绝缘且未被透明导电性被膜覆盖的高电阻区域形成，而是代替该导电性区域和高电阻区域，使用成为混合了被透明导电性被膜覆盖的部分及未被透明导电性被膜覆盖的部分的结构的区域，由此解决上述视觉辨认性的问题。

Description

带透明导电层的基体及其制造方法、以及触控面板用透明导电膜层叠体、触控面板
技术领域
本发明涉及带透明导电层的基体及贴附该带透明导电层的基体形成的触控面板，所述带透明导电层的基体在透明基体上形成有具有被图案化的透明导电性区域的透明导电层，由于所述透明导电性区域与其以外的区域的光学特性极为近似，因此所述透明导电性区域在光学上未被可见化，具有难以视觉辨认的特性。尤其，本发明涉及所述基体是透明薄膜基体的带透明导电层的薄膜、以及在静电电容结合方式的触控面板制造中使用的带透明导电层的薄膜。另外，本发明涉及该带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜的制造方法；贴合有该带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜的触控面板用透明导电膜层叠体；以及使用该带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜而制造出的视觉辨认性良好的触控面板。
背景技术
在透明基体上形成有透明导电层的各种带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜作为重要的功能性部件被大量使用在利用发光、受光功能的电子装置等中。尤其是近年来，在移动设备的普及当中，支持“对人友好”图形用户界面的触控面板技术得以发展，其中使用的功能性部件变得重要。尤其是，通过将透明导电层图案化而使微小的透明电极平面排列的部件、以及使这样的图案化的透明导电层重合而形成了在透明电极间形成的微小的电容器要件的平面排列的部件通过检测因向各透明电极的接触而产生的导通或电容变化，从而作为能够检测该接触位置的开关发挥功能。如此使用透明导电层被图案化的带透明导电层的基体、薄膜而使其具有电极、开关等功能的功能性部件大多作为兼备显示器和输入机构的触控面板用的原材料用于个人数字助理(PDA)、笔记本PC、OA设备、医疗设备或汽车导航系统等电子设备中，另外，还成为用于上述电子装置的薄型化、小型化的必须的部件。
特别是，作为该触控面板技术，广泛知晓所述静电电容结合方式的触控面板安装在液晶面板、CRT等显示装置上，检测观察者触碰显示画面的位置的技术(参照专利文献1)。
作为所述透明导电层被图案化的带透明导电层的基体，通常利用蚀刻或激光消融使通过ITO或ATO等金属氧化物的蒸镀形成的透明导电层图案化来制造，在安装于上述的显示装置中的静电电容结合方式的触控面板，以往使用ITO作为触控面板的传感器电极的透明导电性膜材料。然而，另一方面，也尝试取而代之地提供透明电极，对通过制造成本更低且能够大量生产的涂敷工序进行的制造进行了研究。作为所述方法，开发出通过使用导电性粒子、导电性纳米线等作为导电性物质的导电性涂料的涂敷来形成直接图案的方法、或者在一次形成均匀的导电性涂膜之后以适合于形成的涂膜的各种图案形成工序形成图案的方法等。在专利文献2中公开一种导电性图案覆盖体和制造方法，其基于无需使导电性极细纤维凝集或缠绕而使其分散配置并交叉，形成在该交叉的部分相互电接触而构成的导电性纤维膜的工序；向所述导电性纤维膜的期望的位置照射激光光线，使所述导电性极细纤维的一部分断线或消失，由此形成导电性图案部的工序(参照专利文献2)。
在使用具有所述电极、开关功能的带透明导电层的基体作为触控面板用等的原材料的情况下，带透明导电层的基体由此能够视觉辨认到显示器等的图像。因此，无论使用上述何种制造方法，使形成的图案不被可见化都极为重要。如果因带透明导电性层的基体上的电极、开关等的图案形成部分与非形成部分的光学特性值的差使所述图案被辨识到，则存在位于带透明导电性层的基体的背后的显示器等的图像的良好的视觉辨认性降低的可能性。
尤其是，当在显示器的整个面上配置具有电极、开关功能的带透明导电层的基体、薄膜，并接受来自所述高辉度的图像的光入射和来自外部环境的光入射这双方的触控面板时，虽然光透射率、反射率、雾度等略微不同，但作为电极、开关图案容易被可见化，成为显示器等的图像的视觉辨认性降低的原因。
尤其是，在作为近年来变化为ITO的透明导电性膜用的导电性物质而使用基于涂敷的透明导电性膜形成的开发迅速发展的纤维状导电性物质的透明导电性膜中，与使用现有的ITO的透明导电性膜相比，由于能够通过涂敷形成导电膜，因此具有制造效率提高且成本降低的优点，并且具有透明导电膜为低电阻、高透射率的优点，但具有纤维状的导电性物质导致的雾度的差容易可见化的问题。
作为防止带透明导电层的基体、薄膜的透明导电层图案的可见化的方法之一，具有在形成于基体上的导电性层的非形成区域上形成具有同样的光学特性的高电阻的涂膜的方法。例如，以使通过形成有透明导电膜的图案形成区域的光的透过光谱和通过未形成有透明导电膜的非图案形成区域的光的透过光谱或反射率近似的方式，在非图案形成区域形成透射率调整区域(参照专利文献3、专利文献4)。进而，在导电层上表面的规定部位涂敷在水中分散了合成树脂或糊、氯化铵或氯化铁、氯化铜的溶液，以代替去除作为导电性物质的银而形成绝缘部的方式，将导电部层内的银作为绝缘性的氯化银而形成绝缘部，从而减少导电部与绝缘部的光学特性的差异(参照专利文献5)。
然而，上述的带透明导电层的基体、薄膜在形成透明导电膜的图案或者透明导电膜后，另行地在透明导电膜的非形成区域形成透射率调整层，或在透明导电膜的一部分形成绝缘部，制造过程变得复杂，且在专利文献3、专利文献4所记载的方法中，必须将透射率调整区域准确地形成在透明导电部的非形成区域，难以进行对位。进而，在如专利文献5所记载的方法那样使用氯化物的溶液的情况下，应当维持本来良好的导电性的透明导电膜的图案形成区域与银的反应可能增加。
另一方面，可以例举出以下的方法，即，在本来为导电性图案的非形成区域与其他的导电性区域同样地形成导电性区域，在与其他的导电性区域之间形成难以视觉辨认到的狭窄的非形成区域，由此形成与其他的导电性区域电绝缘的孤立图案的区域的方法。例如，在使用导电性极细纤维形成导电性纤维膜后，向期望的位置照射激光光线而使导电性极细纤维的一部分断线或消失，由此形成与其他的导电性区域绝缘的孤立导电性区域(参照专利文献2)。在专利文献2中，公开了通过下述工序形成的导电性图案覆盖体和制造方法，所述工序包括：形成不使导电性极细纤维凝集缠绕而使其分散配置并交叉，在该交叉部分相互电接触而构成的导电性纤维膜的工序；向所述导电性纤维膜的期望的位置照射激光光线，使所述导电性极细纤维的一部分断线或消失，由此形成导电性图案部的工序。根据该方法，由于非导电性图案部也含有或浸渗有与导电性图案覆盖体相同成分的极细纤维·粘结剂，因此导电性图案部与非导电性图案部的色相、光线透射率、雾度值等光学特性相同，不会视觉辨认到其差异，也难以视觉辨认到导电性图案。由于这一孤立图案区域与其他的导电性区域的光学特性相同，因此该差异不会被视觉辨认到，另外，导电性区域之间的交界即非形成区域的宽度狭窄，交界本身也不会被视觉辨认到。另外，由于孤立图案区域通过非形成区域而与其他的导电性区域绝缘，因此在电气方面具有与非形成区域同样的功能。
这一作为绝缘部分发挥功能的透明导电膜的非形成区域的图案形成在通过光刻法、激光加工等精密的图案形成方法进行导电性图案的形成时极为有效。然而，将导电性区域与孤立图案区域之间的非形成区域的宽度形成为无法视觉辨认到的程度的宽度且可靠地使两区域间绝缘是通过通常的图案形成方法难以进行的。尤其是，在导电性图案的形成中使用涂敷工序的情况下，难以形成上述那样准确且宽度狭窄的非形成区域，例如，在通过使用了导电性涂料的涂敷工序形成导电性图案的情况下，无法形成上述那样的孤立图案区域。另外，通过这样的方法，孤立图案的区域的光学特性与透明导电膜的形成区域的光学特性大致相等，不具备其调整功能。这种情况下，在形成静电电容型的触控面板时那样将带透明导电层的基体、薄膜多片贴合的情况下，非导电性图案部的透明导电膜的形成区域重叠的部分与例如导电性图案部的透明导电膜的形成区域未重叠的部分相比，光学的透射率大幅降低，相反成为图案容易被视觉辨认到的原因。
例如上述方法存在以下问题，在专利文献1所公开的与X-Y方式触控面板相应的情况下，通过向X传感器阵列的X轴线迹的由导电性极细纤维膜形成的透明电极部和Y传感器阵列的Y轴线迹的导电性极细纤维膜分别照射激光光线，并使导电性极细纤维的一部分断线或消失，由此成为形成有非电接触的非导电性部分的状态，虽然如此，但若孤立的导电性极细纤维有所残留的非导电性图案部彼此重叠，则虽在进行重合前的各图案视觉辨认性良好，但色相、光线透射率、雾度值明显劣化，存在通过触控面板观察的显示装置的画质劣化的问题。并且，与完全除去导电性极细纤维膜而形成非导电性部分的一般的方法相比，不仅未进行改良，反而存在视觉辨认性劣化的情况。
通常，在将具有图案化的透明导电层的透明基体、透明薄膜基体作为触控面板等的原材料使用的情况下，大多将透明导电性基体、薄膜或具有图案化的透明导电层的带透明导电层的基体、薄膜组合、层叠使用，只要作为所述层叠体的整体使图案不被视觉辨认到即可。因此，即使一个具有图案化的透明导电层的带透明导电层的基体的图案被视觉辨认到，通过层叠具有与其相抵的图案的带透明导电层的基体，作为整体也能够防止导电性图案被视觉辨认。然而，形成的图案本身越精细，则在层叠它们时的对位精度要求越高。
例如，在为静电电容结合方式的触控面板的情况下，视觉辨认性的问题如下。
通常在静电电容结合方式的触控面板中经常使用的X-Y方式触控面板中，具有在第一方向(例如Y方向)上延伸且沿与所述第一方向交叉的第二方向(例如X方向)上并列设置的多个Y电极、与该Y电极交叉而在所述第二方向上延伸且在所述第一方向上并列设置的多个X电极。
对于X-Y方式触控面板而言，未通过手指等触碰的状态(稳定状态)的1条电极线的电容包括：相邻的电极之间的电极间电容、在与串联的电极交叉的交叉部形成的交叉部电容、与配置在触控面板下的显示装置之间的对地电容、及在控制用IC与触控面板之间的配线产生的配线电容，通过检测因人的手指等触碰触控面板而产生的电极间电容的变化，从而检测观察者所触控的位置坐标。
因此，期望电极间电容以外的电容更小，X、Y电极的交叉部的面积尽可能设置得小。另一方面，为了实现足够的位置分辨率，各电极的间隔在不产生相邻的电极间的短路的范围内尽可能地制造得窄。
进而，X电极和Y电极通常形成在不同的透明的绝缘基板上，为了实现足够的分辨率，在X电极和Y电极层叠时，优选从操作面观察时相邻的X电极和Y电极不重叠而呈同样的外观。因此，在层叠的X电极和Y电极上设置有不存在电极的间隙以防止相邻的X、Y电极的重叠。
此时，在透明导电层中具有纤维状透明导电性物质的图案在形成有含有纤维状导电性物质的电极部的导电性图案部分和不存在该电极部的间隙部分之间，色相、光线透射率、雾度值不同，因此能够明显地视觉辨认到存在于二个导电性图案部间的交界处的间隙部分。进而，在彼此朝着一方向延伸的X电极和Y电极在直角方向上贴合时，必然产生能够将形成的电极连结的连结部分的导电性膜彼此的交叉部分，在该交叉部分和未产生交叉的导电性图案部之间也产生光学特性的差异。尤其是，由于极细纤维导致的光散射，导电性图案部的雾度值不得不高于不存在导电性图案的非导电性图案部，在上述导电性图案部分与间隙部分、或者不产生导电成膜的交叉的导电性图案部分与产生交叉的连结部分之间存在雾度值上的差异。因此，在适用于例如触控面板、液晶或有机EL用的显示器等用途上存在问题。(参照图15、图16、图17)
【在先技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】WO2001-027868号公报
【专利文献2】日本特开2010-044968号公报
【专利文献3】WO2006/126604号公报
【专利文献4】日本特开2008-098169号公报
【专利文献5】日本特开2008-290354号公报
发明内容
【发明要解决的课题】
本发明的目的在于提供带透明导电层的基体或带透明导电层的薄膜、以及制造它们的方法，所述带透明导电层的基体或带透明导电层的薄膜在透明支承体上具有图案不容易视觉辨认到的透明导电性图案，无需使用光刻法或激光加工这样的精密加工手法，也无需进行精密的对位，可以使用涂敷工序、印刷工序等更为简单且高效的方法形成。进而，提供使用这样简单且高效的方法在透明支承体上形成图案不会容易地被视觉辨认到的透明导电层图案的方法。进而，提供使用这样的具有透明导电层图案的带透明导电层的基体从而其图案不容易被视觉辨认到的触控面板用的带透明导电层的基体、薄膜、触控面板用透明导电膜层叠体、或触控面板。
进而，更具体而言，本发明的目的在于提供带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜，作为触控面板的电极的透明导电性膜材料，代替现有的ITO，使用不使导电性极细纤维凝集或缠绕而使其分散配置并交叉，通过该交叉的部分相互电接触而构成的导电性纤维膜，在形成X-Y方式触控面板时，带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜的色相、光线透射率、雾度值不会劣化，且导电性图案部和非导电性图案部不容易被视觉辨认到。尤其是，提供在使所述带透明导电层的基体、薄膜以导电性图案的电极部彼此不重叠的方式重合时，在2张导电性图案部间产生的间隙部的光学特性的差异不会被视觉辨认到的带透明导电层的基体薄膜。
【用于解决课题的手段】
发明人等发现下述情况而作出了本申请发明，即，在透明基体上形成透明导电性图案时，并非通过图案区域内被均质的透明导电性被膜覆盖的导电性区域、和使它们电绝缘且未被透明导电性被膜覆盖的高电阻区域形成，而是代替该高电阻区域，使用成为混合了被透明导电性被膜覆盖的部分及未被透明导电性被膜覆盖的部分的结构的区域，取代现有的完全未被透明导电性被膜覆盖的高电阻区域，由此能够简单且高效地解决视觉辨认性的问题。
本发明提供一种带透明导电层的基体，在透明基体、透明薄膜基体上具有通过含有粘结剂树脂及导电性物质的透明导电性被膜而形成有图案的透明导电层，所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域(A)之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有在该区域内被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列。
进而，本发明提供一种带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜的制造方法，带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜在透明基体、透明薄膜基体上具有透明导电层，该透明导电层通过含有粘结剂树脂及导电性物质的透明导电性被膜而形成有图案，所述带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜的制造方法的特征在于，所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域(A)之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列图案，使用在一个版中具有用于进行与所述区域(A)对应的印刷的部分和用于进行与所述区域(B)中的具有小区域(C)及小区域(D)的区域对应的印刷的部分的版，通过透明导电层用涂料的涂敷或透明导电层用墨液的印刷而在透明基体、透明薄膜基体上形成所述透明导电层。
进而，本发明提供一种带透明导电层的基体、薄膜的制造方法，所述带透明导电层的基体、薄膜在透明基体、透明薄膜基体上具有透明导电层，该透明导电层通过含有粘结剂树脂及导电性物质的透明导电性被膜而形成有图案，所述带透明导电层的基体、薄膜的制造方法的特征在于，所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域(A)之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列，在透明基体上的整个面上形成透明导电性被膜，使用以负和正与所述透明导电层的图案相反的图案在基体上形成有粘接剂层的剥离用基材，从所述透明导电层剥离不需要部分而形成所述透明导电层，在所述剥离用基材的制造中，使用在一个版上具有用于进行与所述导电性区域(A)以及具有所述小区域(C)及所述小区域(D)的区域的负图案对应的印刷的部分的版，通过涂敷或印刷而在所述基体上进行粘接剂层的形成。
进而，本发明提供一种将上述带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜沿直角方向贴合而形成的触控面板用透明导电膜层叠体。
进而，本发明提供一种具有上述透明导电膜层叠体的静电电容结合方式的触控面板。
本发明的带透明导电层的基体具有透明导电层，该透明导电层形成有含有粘结剂树脂及透明导电性物质的透明导电性被膜的反复图案，所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(低电阻区域)(A)和彼此相邻的透明导电性区域间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域为具有被透明导电性被膜覆盖的区域和未被覆盖的区域的两方的混合区域，具有被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)是形成具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期及/或大小的二维的排列图案的孤立区域、或所述区域彼此局部连结的区域。这样形成的高电阻区域(B)通过调整所述小区域(C)、小区域(D)的分布、形状、连结状态而能够形成导电性被膜并实现高电阻的性能。因此，与所述高电阻区域(B)由完全未被所述透明导电性被膜覆盖的非形成区域形成的情况相比，能够使光学特性更接近导电性区域的光学特性，能够难以视觉辨认到透明导电性图案。进而，在高电阻区域(B)形成有具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期的二维的排列图案时，光学特性在该区域整体上在外观方面均匀。进而，在该高电阻区域(B)中，通过调整形成它们的小区域(C)及小区域(D)的分布、形状，从而能够调整其电特性和光学特性。
进而，在透明基体为透明薄膜基体的情况下，使用在一个版中具有进行与所述区域(A)对应的印刷的部分、和进行与所述区域(B)中的具有小区域(C)及小区域(D)的区域对应的印刷的部分的版，通过透明导电层用涂料的涂敷、或透明导电层用墨液的印刷来在透明性基体上制造带透明导电层的薄膜，由此具有通过所述导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和高电阻区域(B)且在高电阻区域(B)中具有被导电性被膜覆盖的小区域(C)及/或未覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)通过在透明薄膜基体上同时且容易地形成下述图案从而能够更加容易地进行透明导电性图案的形成，所述图案包括形成具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立区域、或所述区域彼此局部连结的区域。
进而，在透明基体、透明薄膜基体上的整个面上形成透明导电性被膜，将剥离用基材经由粘接剂层压接到所述透明导电性被膜上后进行剥离，所述剥离用基材是以负和正与需要制造的反复图案相反的图案在基体上形成有粘接剂层的剥离薄膜等，所述粘接剂层使用在一个版中具有用于进行与上述导电性区域(A)以及所述高电阻区域(B)中的具有小区域(C)及小区域(D)的区域的、负图案对应的印刷的部分的印刷版，通过涂敷或印刷在基体上形成粘接剂层，由此，通过透明导电层用的涂料、墨液朝向通常的透明基体、透明薄膜基体上的直接的涂敷方法、印刷方法，即使在具有透明导电层难以向透明基体、透明薄膜基体上形成图案的特性的情况下，也能够通过基本的涂敷或印刷的方法形成透明导电层图案。
若使用上述带透明导电层的基体，则在使它们重合而形成的例如触控面板用的透明导电膜层叠体等中，也能够改善视觉辨认性。即，在如静电电容型的触控面板那样使具有图案化的透明导电层的带透明导电层的基体重合来使用的情况下，对预先设定透明导电层重合的区域使用同样的方法，维持设定重合的区域的导电性，且同时调整其光透射率、雾度值等光学特性，能够防止在重叠时与相邻的部分相比光学特性大幅度变化，防止重叠部分的图案可见化。进而，对于预先设定完全不产生透明导电层的重合的区域，在维持该区域的绝缘性的同时调整其光学特性，能够使在它们重合时与相邻的导电层部分的光学特性的差异不会变大。
如此，本发明的带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜能够形成为，所述透明基体上的图案为透明电极图案，所述带透明导电层的基体、薄膜沿直角方向贴合，从而形成用于静电电容结合方式触控面板的制造中的能够形成触控面板用透明导电膜层叠体的带图案化透明导电层的基体、薄膜。这种情况下，所述带透明导电层的基体、薄膜成为下述的图案化透明导电性基体，即，在透明基体、透明薄膜基体上具有由含有在固定方向上延伸的纤维状导电性物质的透明导电层构成的多个线状电极图案平行且等间隔地排列的电极列部分(a)、以及所述电极列之间的高电阻部分即电极列未形成部分(b)，所述电极列部分(a)具有等间隔地排列的电极部(a1)、以及将所述电极部连结的连结部(a2)，在进行所述电极部彼此不重叠且连结部彼此产生重叠的直角方向的重合时，在所述电极列未形成部分(b)中，在该电极列未形成部分(b)彼此的产生重合的区域(b1)形成有具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期或大小的透明导电层的二维排列图案。
即，对于用于X-Y方式的静电电容型触控面板中的带图案化导电层的基体而言，在形成X电极及Y电极的X电极用导电性图案覆盖体和Y电极用导电性图案覆盖体中，在使两覆盖体贴合而成的触控面板的、X电极与Y电极之间不存在电极的间隙所对应的部分，使用形成电极的透明导电层被膜而配置下述导电性被膜，从而形成高电阻区域，所述导电性被膜由具有被导电性被膜覆盖的小区域及未被导电性被膜覆盖的小区域且具有通过肉眼难以视觉辨认到或无法视觉辨认到的周期及/或大小的二维排列图案构成。
并且，优选，调整二维排列图案的局部的光学特性，以使在上述的两电极间的间隙部分具有二维图案的区域的雾度值与在使X电极用导电性图案覆盖体与Y电极用导电性图案覆盖体贴合时形成于X、Y各电极部分的各电极部分的雾度值相同，由此能够实现在保持作为触控面板的良好的电特性、绝缘特性的同时使导电性图案最难以视觉辨认到的情况。
另外，在与上述同样的X-Y方式触控面板的X电极用导电性图案覆盖体和Y电极用导电性图案覆盖体中，在使两覆盖体贴合得到的触控面板的X电极与Y电极的交叉部分配置导电性被膜的未覆盖部分，通过配置导电性被膜的未覆盖部分而形成透明导电性区域，所述导电性被膜由具有被导电性被膜覆盖的小区域及未被导电性被膜覆盖的小区域且具有通过肉眼难以视觉辨认到无法视觉辨认到的周期及/或大小的二维排列图案构成。并且优选形成为，与上述的交叉部分对应的例如呈网点状地具有未覆盖部分的透明导电性区域的雾度值在使X电极用导电性图案覆盖体和Y电极用导电性图案覆盖体贴合时与X、Y各电极部分的透明导电膜的雾度值相同，由此能够进一步实现导电性图案最难以视觉辨认到的情况。
【发明效果】
本发明的带透明导电层的基体在透明基体上具有透明导电层图案，具有导电性区域和高电阻区域这2个区域且所述区域的光学特性的差异小，透明导电性图案难以视觉辨认到。进而，本发明的带透明导电层的基体的制造方法不需要进行透明导电性图案形成时的精细加工，可以仅通过使用透明导电层用涂料或透明导电层用墨液的涂敷工序或印刷工序的方法而形成在透明基体、透明薄膜基体上具有图案化的透明导电层，且该透明导电层图案难以视觉辨认到的带透明导电层的基体、薄膜。
进而，能够提供一种触控面板，在作为触控面板的传感器电极的透明导电性膜材料代替ITO而使用不使导电性极细纤维凝集或缠绕而使其分散配置并交叉，且使该交叉部分相互电接触而构成的导电性纤维膜时，通过使用本发明的结构，能够使与X电极和Y电极之间的不存在电极的间隙对应的部分及X电极和Y电极的交叉部分的雾度值与电极部分的雾度值大致相等，并且触控面板整体的色相、光线透射率、雾度值不会劣化且透明导电层的图案难以被视觉辨认到。
附图说明
图1表示本发明的带透明导电层的基体即X电极用导电性图案覆盖体的示意图。
图2表示本发明的带透明导电层的基体即Y电极用导电性图案覆盖体的示意图。
图3表示使本发明的带透明导电层的基体即X、Y电极用导电性图案覆盖体重合的示意图。
图4表示使本发明的带透明导电层的基体即X、Y电极用导电性图案覆盖体重合的触控面板传感器部的剖视图。
图5表示本发明的在图4所示的间隙用虚设图案中使用的不连续的透明导电性膜的显微镜图。
图6表示在本发明的图5所示的两电极间的交叉部分的连接桥中使用的具有导电性的透明导电性膜的显微镜图。
图7表示在使本发明的带透明导电层的基体即X电极用导电性图案覆盖体中的、X、Y电极用导电性图案覆盖体重合时产生的电极间的间隙中使用的虚设图案中设置了浓度倾斜的放大示意图。
图8是用于形成占有面积约50％的绝缘性虚设图案的黑白格状的热敏粘接剂用负图案的放大示意图。
图9是在电极部的间隙形成的占有面积约50％的黑白格状的绝缘性虚设图案的放大示意图。
图10是用于形成绝缘性虚设图案的格子状的热敏粘接剂用负图案的放大示意图。
图11是在电极部的间隙形成的格子状的绝缘性虚设图案的放大示意图。
图12是在连结电极部的连结部形成的条纹状的未涂敷部分的放大示意图。
图13是在连结电极部的连结部形成的点状的未涂敷部分的放大示意图。
图14是用于形成在连结电极部的连结部形成的点状的未涂敷部的热敏粘接剂用负图案的放大示意图。
图15是与比较例对应的现有的X电极用导电性图案覆盖体的示意图和放大图。
图16是与比较例对应的现有的Y电极用导电性图案覆盖体的示意图和放大图。
图17表示使与比较例对应的现有的X、Y电极用导电性图案覆盖体重合的示意图。
图18是本发明的带透明导电层的基体即带透明导电层的基体的剖视图。
图19是在本发明的带透明导电层的基体的制造中使用的具有负图案化的热敏粘接剂的支承体的剖视图。
图20是本发明的带透明导电层的基体与具有负图案化的热敏粘接剂的支承体的加热、加压贴合工序的示意剖视图。
图21是本发明的带透明导电层的基体与具有负图案化的热敏粘接剂的支承体的剥离工序的示意剖视图。
图22是在本发明的图案化的透明导电层上涂敷保护层用涂料而形成保护层后的剖视图。
图23是本发明的带透明导电层的基体中的触控面板用透明导电层的X轴用图案的俯视图。
图24是本发明的带透明导电层的基体中的触控面板用透明导电层的Y轴用图案的俯视图。
图25是在本发明的带透明导电层的基体的制作中形成在支承体上的热敏粘接剂层用的X轴用负图案的俯视图。
图26是在本发明的带透明导电层的基体的制作中形成在支承体上的热敏粘接剂层用的Y轴用负图案的俯视图。
具体实施方式
本发明的透明导电性图案的特征在于，具有由透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有由透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案。
需要说明的是，在本申请中，以“带透明导电层的基体”和“带透明导电层的薄膜”为代表，在各处将“基体”、“薄膜”及“薄膜基体”合并记载，这是用于明确地表示在本申请发明的带透明导电层的基体上包含带透明导电层的薄膜这一情况的表述。在本申请发明中，带透明导电层的基体是带透明导电层的薄膜的上位概念。
本发明的高电阻区域并非单纯的分隔由导电性被膜覆盖的导电性区域的未形成导电性被膜的高电阻的区域，而是作为结果显示为高电阻，且虽然将相邻的导电性区域电分隔，但在高电阻区域内具有由透明导电性被膜覆盖的部分和未被覆盖的部分。并且，至少某一部分成为形成具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立的区域或将所述区域彼此局部连结而得到的区域。通过使高电阻区域形成为这样的区域，能够更可靠地使平均表面电阻值高于导电性区域，另一方面，该区域的光学特性与高电阻区域完全未被导电性被膜覆盖的情况相比，能够使其更接近导电性区域。需要说明的是，所述二维的排列图案的周期或大小为在视觉观察下视觉辨认不到的微小，因此在仅视觉观察下光学特性在高电阻区域(B)中均匀。
小区域(C)及/或小区域(D)是形成具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立区域或将所述区域彼此局部连结而成的区域。即，被覆盖的小区域(C)存在形成该区域的周围由未被透明导电性被膜覆盖的部分包围且与其他的小区域(C)或导电性区域(A)分离的孤立区域、或者将所述区域彼此局部连结而成的区域的情况。或者，另一方面，未被覆盖的小区域(D)存在形成该区域的周围由被透明导电性被膜覆盖的区域包围且与其他的未被覆盖的小区域(D)或其他的未被透明导电性被膜覆盖的区域分离的孤立区域、或者将所述区域彼此局部连结而成的区域的情况。此外，在二维的排列图案中，形成上述的覆盖状态的至少一方或者也可以形成两方。
即，在被覆盖的小区域(C)是形成具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立区域、或者将所述区域彼此局部连结的区域的情况下，该区域(C)以未被透明导电性被膜覆盖的部分为背景而相互分离或局部连结地存在。另一方面，在未被覆盖的区域(D)是形成具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立区域、或者将所述区域彼此局部连结的区域的情况下，该区域以被透明导电性被膜覆盖的部分为背景而相互分离或局部连结地存在。
并且，在存在所述多个小区域(C)及小区域(D)时，根据它们各自的区域的大小、密度、相邻的小区域的间隔等而存在各种分布状态。
基于这样的小区域的分布确定的表面电阻值的值依赖于形成有被覆盖的区域(C)和未被覆盖的区域(D)中的哪一个、还是形成有两方、或者被覆盖的区域整体占高电阻区域整体的何种程度的比例、或者在何种分布状态下形成小区域(C)或小区域(D)。为了将高电阻区域的电阻值维持得高，在高电阻区域中优选使被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)尽可能相互远离而孤立地存在，小区域(C)的总和面积越小则电阻值越高，能够稳定地实现更高的绝缘性。但是，越实现高电阻则该区域的光学特性与导电性区域(A)的光学特性之差越变大，导电性图案越容易视觉辨认得到。因此，为了将高电阻区域的电阻保持得高，且不增大其光学特性与导电性区域的光学特性之差，优选在小区域(C)的总和面积保持得较大的情况下使各小区域(C)间以窄间隔完全孤立，不形成将小区域(C)间电连结的网络。
另一方面，在对高电阻区域的绝缘性的容许度大时，在高电阻区域中未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)可以使用与被透明导电性被膜覆盖的部分分离地存在且分布的区域，也可以使用被透明导电性被膜覆盖的部分局部地连结而成的区域。在这种情况下，未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)的总和面积越小，则与导电性区域(A)的光学差异越小，电阻值越降低。总和面积大而隔着各小区域(D)的未被透明导电性被膜覆盖的部分越窄，则电阻值越高，但与导电性区域(A)的光学特性的差异越大。
或者，对于导电性区域而言，例如以被导电性被膜覆盖的区域为背景，制作由未被覆盖的小区域(D)形成的图案，通过调整小区域(D)的大小、重叠占想定的区域的面积比例，从而无需大幅降低导电性而使该区域的光透射率上升或者使雾度值下降，能够使该区域重合时的光学特性更接近相邻的该区域未重合的区域。
是使用上述这样例如在高电阻区域具有小区域(C)和小区域(D)中的任一种的高电阻区域、还是使用具有所述两方的高电阻区域，可以通过透明导电层的图案所需求的高电阻区域的电阻值或绝缘性、或者在透明基体上制成的透明导电性图案所允许的视觉辨认性的程度来决定。
进而，使用小区域(C)或小区域(D)中的任一方或者双方时的小区域的大小、分布、被覆盖的部分和未被覆盖的部分的总和面积等也由最终的带透明导电层的基体、薄膜所需求的特性而适当决定。
形成在高电阻区域(B)的具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的周期只要在视觉观察下图案无法被视觉辨认到即可，虽然根据意欲制造的透明导电层的光学特性的不同而略有不同，但优选为250μm以下，更优选为150μm以下，进而优选为100μm以下。另外，小区域(C)或小区域(D)的大小优选为250μm以下，更优选为150μm以下，进而优选为100μm以下。
在为触控面板用的带透明导电层的基体、薄膜的情况下，导电性区域(A)为电极列形成部分(a)，高电阻区域(B)为电极列未形成部分(b)，并且，在作为高电阻区域(B)的电极列未形成部分(b)的重合的区域(b1)形成有具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案。在该排列图案具有周期时，该周期只要在视觉观察下无法视觉辨认到图案即可，虽然根据意欲制造的透明导电层的光学特性而略有不同，但优选为250μm以下，更优选为150μm以下，进而优选为100μm以下。
进而，即使二维的排列图案的周期本身并非无法进行视觉辨认那么细，但只要小区域(C)或小区域(D)本身的大小足够小，则不会出现排列图案被视觉辨认到的情况。这种情况下，优选各小区域的大小为250μm以下，更优选为150μm以下，进而优选为100μm以下。
所述二维的排列图案从改善视觉辨认性的观点出发优选形成在区域(b1)的整个面上且仅形成在电极列未形成部分(b)中的区域(b1)上。
通过调整如上述那样在电极列未形成部分(b)的重合区域(b1)形成的具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维的排列图案的周期、形状，从而能够将高电阻区域的光学特性和导电性独立地调整至一定程度。
以下，使用作为本发明的带透明导电层的基体、薄膜的实施方式之一的图案化透明导电层基体、薄膜，即形成X-Y触控面板的X轴、Y轴方向的各电极传感器且具有金刚石形状的电极部沿着通用轴而由连结部连结的线状的电极平行排列的形状的透明导电层图案，并参照附图而对本发明的带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜即带图案化透明导电层的基体、薄膜中的具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的二维图案的形成进行详细说明。需要说明的是，本发明不局限于所述的实施方式。
图1表示本发明的一实施方式中的X电极用的带透明导电层的基体或带图案化透明导电层的基体、薄膜的平面示意图和其局部的放大图。
图2表示本发明的一实施方式中的Y电极用的带透明导电层的基体或带图案化透明导电层的基体、薄膜的平面示意图和其局部的放大图。
在本实施方式中，形成有将X电极用带图案化透明导电层的基体、薄膜和Y电极用图案化透明导电层基体、薄膜这2个带透明导电层的基体贴合而成的触控面板的、X电极与Y电极之间的不存在电极的间隙部分。该间隙部分是图1及图2的放大图的金刚石图案的周边灰色部分。使用与在该间隙部分形成有电极部的透明导电被膜同样组成的透明导电被膜来配置具有通过肉眼难以视觉辨认到的周期及/或大小的网点或网眼形状的虚设图案(dummy pattern)(绝缘性图案)(参照图8、图10)。在该间隙部分，优选具有与虚设图案形成前同样的高电阻，且优选与形成前相比电阻值不降低。即使发生了电阻值的降低，也优选降低幅度小。
进而，上述的虚设图案的雾度值优选，对于基于透明导电膜形成的网点或网眼而言，在将X电极用导电性图案覆盖体与Y电极用导电性图案覆盖体贴合且间隙部分彼此重合时，该部分的光学特性与基本未发生重合的电极部分的透明导电层的光学特性相同。尤其是，在透明导电性物质为纤维状的导电性物质时，由于因雾度值之差而容易使图案可见化，因此优选以使重合的间隙部分的雾度值与电极部分的雾度值相同的方式形成。
另外，虽然在将X电极用带图案化透明导电层的基体(X电极用带图案化透明导电层的薄膜)与Y电极用带图案化透明导电层的基体(Y电极用带图案化透明导电层的薄膜)贴合而成的触控面板的、X电极与Y电极的交叉部分存在将金刚石形状的电极彼此连接并使它们导通的连接桥(连结部)(图1、图2的放大图)，但优选在此配置具有通过肉眼难以视觉辨认到的大小的网点状的未覆盖部分的透明导电层(参照图13)。
进而，上述的交叉部分的透明导电层优选，在将X电极用带图案化透明导电层的基体(X电极用带图案化透明导电层的薄膜)和Y电极用带图案化透明导电层的基体(Y电极用带图案化透明导电层的薄膜)贴合并使它们重叠时，以使未重合的X.Y各自的电极部分的透明导电层的雾度值相同的方式形成。
图3表示使图1的带透明导电层的基体即X电极用带图案化透明导电层的基体(X电极用图案化透明导电层薄膜)与图2的带透明导电层的基体即Y电极用带图案化透明导电层的基体(Y电极用带图案化透明导电层的薄膜)重合时的主视图及剖视图，X电极、Y电极的各自的虚设图案部重合，埋入X电极、Y电极的间隙部分。
另外，X电极、Y电极的交叉部分形成为，X电极、Y电极的各自的连接桥(连结部)对应地经由绝缘层即OCA(光学用透明粘着剂)使X电极用、Y电极用各自的带图案化透明导电层的基体(薄膜)在直角方向上重合。
图4表示本发明的一实施方式的在图3中使X电极用带图案化透明导电层的基体(薄膜)、Y电极用带图案化透明导电层的基体(薄膜)各自的带透明导电层的基体(薄膜)重合而成的层叠体的剖视图的一例。
在形成于透明薄膜基体1上且具有电极部分的透明导电性被膜4、间隙部分的绝缘性虚设图案5及连接桥的X电极用带图案化透明导电层的基体(薄膜)上经由OCA(光学用透明粘着剂)2层叠同样具有电极部分的透明导电性被膜4、间隙部分的绝缘性虚设图案5及连接桥的Y电极用带图案化透明导电层的基体(薄膜)，进而将触控面板传感器保护用的筛网面板经由OCA(光学用透明粘着件)2层叠在Y电极用带图案化透明导电层的基体(薄膜)上，形成X-Y方式触控面板传感器。
以下详细说明前述的带图案化透明导电层的基体(薄膜)的绝缘性虚设图案和导电性虚设图案。
在绝缘性虚设图案中，例如图5所示那样以微小且孤立的导电层区域相互分离且不产生导通的方式形成的网点状导电膜图案可以作为优选的绝缘性虚设图案使用。另一方面，在导电性图案中，如图6所示那样在导电膜中呈网点状地配置未覆盖部分的网眼状导电膜图案可以优选作为导电性虚设图案使用。
对在本发明中使用的在与X电极与Y电极之间的不存在电极的间隙对应的部分形成的绝缘性虚设图案详细地进行说明。
如上所述，虚设图案可以通过例如形成电极的透明导电膜制造作为通过肉眼难以进行视觉辨认的大小的网点或织眼形状的不具有导通性的虚设图案。并且，优选，沿着各电极用的带图案化透明导电层的基体(薄膜)的通用轴将整列连结的一连串的金刚石型电极部连结得到的形状的电极列间不发生短路，进而，在使X电极、Y电极各自的电极用带图案化透明导电层的基体(薄膜)重合时，重合的状态下的虚设图案的雾度值与电极部的雾度值相同。
形成上述虚设图案的网点形状只要能够实现上述目的则没有特别的限制，但作为最简单的形状的一例，可以使用图5所示那样的点形状。点的间距优选为250μm以下，更优选150μm以下。进一步而言，优选为100μm以下，更优选为80μm以下，进而优选为60μm以下。
另外，在X、Y的各电极用导电性图案覆盖体中使用的上述虚设图案用点的大小可以为均匀也可以具有差异，只要以在使X、Y重叠的时刻下难以视觉辨认到的方式进行适当选择即可。
另外，以下对将本实施方式的带透明导电层的基体即X、Y两电极用的带图案化透明导电层的基体(薄膜)贴合而成触控面板的、X电极与Y电极的交叉部分即连接桥部进行详细说明。
如上所述，在连接桥部的透明导电被膜中可以使用如下的网眼状的导电性虚设图案，该网眼状的导电性虚设图案以金刚石形状的电极彼此导通的方式确保导电性，且同时例如如图6所示那样配置有通过肉眼难以视觉辨认到的大小的网点状的未覆盖部分。由此，由于能够使与交叉部分对应的连结部(连接桥)的雾度值降低，因此不会在电极用导电性图案的交叉部分产生高雾度值，并导致其在例如显示器上被可见化。
进而，上述的交叉部分的透明导电被膜优选在X电极用带透明导电层图案的基体(薄膜)和Y电极用带透明导电层图案的基体(薄膜)贴合的时刻以与X电极、Y电极各自的电极部分的透明导电被膜的雾度值相同的方式形成。
形成在上述连接桥部的例如网点上的未覆盖部分的形状只要能够实现上述目的则没有特别的限制，但作为最为简单的形状的一例，例如可以使用图6的放大示意图所示那样的点。点的间距优选为250μm以下，更优选为150μm以下。另外，更优选为100μ以下，进而优选为80μm以下，更进而优选为60μm以下。点的大小只要考虑导通电阻和雾度值而适当选择即可，但优选为250μm以下，更优选为150μm以下。另外，更优选为100μ以下，进而优选为80μm以下，更进而优选为60μm以下。
在使X、Y两电极用的带图案化透明导电层的基体(薄膜)层叠时的交叉部的透明导电膜的雾度值为X方向、Y方向各自的电极部分的雾度值的50％～150％的范围，更优选为80％～120％。另外，层叠前的交叉部的雾度值作为在X方向、Y方向各自不产生重合的部分的透明导电膜的雾度值上乘以连结(连接桥)部中的透明导电膜的占有面积率得到的值而被求出，能够确定以实现必要的导通电阻且实现上述范围的雾度值的方式在交叉部分形成的网点状的未覆盖部分(小区域D)的总面积。
由以上可知，在本实施方式的带图案化透明导电层的基体(薄膜)中，电极间的间隙部分以及电极的交叉部分的色相、光线透射率、雾度值与电极部分的色相、光线透射率、雾度值的差减小，在配置在例如显示器上时，两电极用图案难以被视觉辨认到。尤其是，导电性物质由导电性极细纤维等导电性纤维构成，在具有因该导电性纤维的光散射产生的雾度值时，通过减小该雾度值的差而带来的改善视觉辨认性的效果极大。
这样的带透明导电层的基体或带透明导电层的基体、薄膜可以通过使用透明导电层用涂料或透明导电层用墨液在透明基体上或透明薄膜基体上进行涂敷、印刷的工序来制造，所述透明导电层用涂料或透明导电层用墨液由使透明导电性物质在分散介质中分散而得到的分散液构成。
具有图案化的透明导电层的所述X电极用、Y电极用的各自的带图案化透明导电层的基体或薄膜也可以通过上述涂敷工序或印刷工序形成。此时，通过将在电极列未形成部分形成的具有在视觉观察下视觉辨认不到的微小的周期或大小的透明导电层的二维排列图案制作成印刷版等具有的形成有网点或网眼的图案，从而能够将所述具有极为微小的周期或大小的二维图案通过涂敷或印刷过程而与整体的透明导电层的图案形成同时且容易地形成。
即，在通常进行的图像的基于涂敷或印刷过程的形成当中，通过被称为网点的具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的大小或二维的周期的像素的集合体来调整图像的浓度和色调。所述网点通过填充在该网点中的涂料或墨液的量能够形成在相互连结而被视觉辨认到的情况下被识别成高浓度的均匀的被膜，也能够使网点彼此相互孤立而在网点彼此之间形成未被墨液覆盖的区域。由此，可以使用一个版而通过透明导电性用涂料的涂敷或透明导电性用墨液的印刷在透明性基体上同时形成与电极列图案对应的印刷、以及在电极列未形成部分上形成的具有极为微小的在视觉观察下无法视觉辨认得到的周期及/或大小的二维的排列图案的两方。
在本发明中形成的具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期的透明导电层的二维排列图案在光学上呈均匀的外观，可以通过调整形成有透明导电层的区域与未形成透明导电层的区域的比率、其形状来调整形成二维图案的区域的导电性和光学特性。形成有在视觉观察下无法视觉辨认到的二维排列图案的部分的、形成有透明导电层的区域与未形成透明导电层的区域的比率及其形状只要维持例如具有二维的排列图案的部分的导电性并同时调整光学特性，则以在透明导电层的区域形成网眼状的透明导电层的方式调整印刷版等的网点的形状、大小等来形成，并调整织眼的开口率即可。
但是，在导电性物质是纤维状的导电性物质时，由于导电性物质缠绕且同时形成网的眼状的导电路径，因此若形成导电性层的网眼的宽度变小，则难以形成通过缠绕纤维状导电性物质而形成的导电路径，导电性容易降低。
另一方面，只要维持高电阻、绝缘性且调整光学特性，则能够以使未形成透明导电层的区域呈网眼状地留下而将透明导电层的区域形成为岛状、点状的方式调整印刷版等的网点的形状、大小等而形成，能够通过调整岛或点的大小来进行。
在作为导电性物质使用纤维状的导电性物质而形成透明导电性图案时，透明导电层中的纤维状的导电性物质在与相邻的纤维状导电性物质相互接触的同时形成网络并维持导电性区域整体的导电性。因此，即使仅仅是纤维状导电性物质一部分的接触断裂，区域整体的导电性也会下降而电阻值上升。因此，在例如透明导电性区域中形成未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，使该区域的密度逐渐上升而调整该区域的电阻值，此时，在调整的初始段階区域内的导电性受到损失的情况居多。
[带透明导电层的基体的构成材料]
以下，对本发明所规定的带透明导电层的基体(薄膜)中的各部分的结构、及用于制造该带透明导电层的基体(薄膜)中的透明导电层的、能够在透明导电层用涂料中使用的原料、材料进行记载，进而对使用所述原材料的本申请发明的带透明导电层的基体(薄膜)的制造方法进行记载。
作为本发明中将透明导电层形成在其上的透明基体，主要可以使用由玻璃类构成的板状基体、由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯类、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、EVA等的聚烯烃类、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等乙烯系树脂、聚砜、聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯树脂等塑料构成的片状基体，进而可以使用由同样的塑料构成的薄膜，其中，优选全可见光透射率为70％以上的板状基体、片状基体或者薄膜状基体。上述构件可以在不妨碍本发明的目的的程度上进行着色，进而也可以单层使用，还可以作为将2层以上组合而成的例如多层薄膜使用。进而，也可以在基体的至少一方的表面上实施易剥离性处理。在板状基体、片状基体、薄膜中，塑料薄膜为轻量且在加工性方面富于便于处理性。因此，在所述塑料薄膜中，从透明性、耐热性、便于处理性、价格的方面出发，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜，且聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜最佳。该透明塑料基体的厚度在薄时处理性差而厚时可见光的透射率降低，因此优选5μm～300μm。进而优选10μm～250μm，更进而优选25μm～200μm。
在本发明中，形成在透明基体上的图案化的透明导电性区域含有粘结剂树脂及导电性物质。
作为透明导电性物质的形状，可以使用粒子状、纤维状、薄膜状等各种形状。
作为具有粒子状的形状的物质，可以使用通过公知的方法形成的氧化锡、氧化镉、氧化锡锑(ATO)、掺氟氧化锡(FTO)、掺锡氧化铟(ITO)、掺铝氧化锌(AZO)等导电性无机微粒子。其中，由于ITO能够获得更为良好的导电性，因而优选ITO。或者，也可以使用在作为芯材的微细的物质的表面进行透明导电性物质的涂布而得到的物质，例如可以使用将ATO、ITO等无机材料涂布到硫酸钡等具有透明性的微粒子的表面而形成的物质。或者，作为芯材也可以使用有机质的导电性微粒子。这种情况下，可以举出将例如金属材料涂布到树脂微粒子表面上得到的物质。所述微粒子的粒子径通常优选为10μm以下，进而优选为1.0μm以下，更进而优选50nm至150nm。
作为在本发明中使用的微细的导电性物质，优选纤维状的物质，其中，优选无分支、易解开且容易获得纤维状物质的均匀分布密度以使得在纤维与纤维的缠结之间形成大的开口部，并能够实现良好的光透射率的线状的物质。作为形成此种形状的导电性物质的示例，可以举出碳纳米管或线状的导电性金属即金属纳米线。本发明中的金属纳米线是指形状为直线或曲线的细的棒状且材质为金属的纳米金属尺寸的微细的导电性物质。在微细的导电性物质为纤维状、优选为线状时，它们相互缠绕而成为网的眼状，由此即使为少量的导电性物质也能够形成良好的导电路径，能够进一步降低导电性层的电阻值，因此优选。进而，在形成此种网的眼状的情况下，由于网眼的间隙部分的开口大，因此即使纤维状的导电性物质本身不为透明，作为涂膜也能够实现良好的透明性。
作为金属纳米线的金属，具体可以举出铁、钴、镍、铜、锌、钌、铑、钯、银、镉、锇、铱、铂、金，从导电性的观点出发，优选铜、银、铂、金，更优选进行了镀铂或镀金的银。金属纳米线的至少一个剖面尺寸优选小于500nm，更优选小于200nm，更进而优选小于100nm。作为金属纳米线，优选纵横比(aspect ratio)超过10。更优选纵横比超过50，更进而优选具有超过100的纵横比。金属纳米线的形状、大小可以通过扫描型电子显微镜或透过型电子显微镜来进行确认。
金属纳米线可以通过在本技术领域已知的方法进行调制。例如可以举出在溶液中还原硝酸银的方法、在前体表面从探测头的前端部作用外加电压或电流，在探测头前端部将金属纳米线引出，并连续地形成该金属纳米线的方法等(日本特开2004-223693公报)。作为在溶液中还原硝酸银的方法，更具体而言，银纳米线在乙二醇等多元醇及聚乙烯吡咯烷酮的存在下进行硝酸银等银盐的液相还原而能够进行合成。均匀尺寸的银纳米线的大量生产可以按照例如Xia，Y.etal.，Chem.Mater.(2002)、14、4736-4745及Xia，Y.etal.，Nano letters(2003)3(7)、955-960所记载的方法为基准进行调制，但不局限于上述记载的方法。
此种具有导电性的金属纳米线在透明基体上保持适当的间隔的同时具有相互缠绕的状态，并形成导电网，由此，能够实现实质上透明的导电网。具体的金属种类、轴长和纵横比等可以根据使用目的等而适当设定。
在本申请发明的带透明导电层的基体的制造中，使用分散有所述微细的导电性物质的分散液在透明基体上形成透明导电层并制造带透明导电层的基体。作为为此使用的导电性物质的分散液即用于形成透明导电性涂料的分散介质的液体没有特定的局限，可以使用已知的各种分散介质。例如，可以举出正己烷等饱和烃类、甲苯、二甲苯等芳香族烃类、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇类、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁酮、二异丁基酮等的酮类、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类、四氢呋喃、二氧杂环己烷、乙醚等醚类、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N，N-二甲基乙酰胺等酰胺类、二氯化乙烯、氯苯等卤代烃等。另外，根据分散介质的种类也可以使用分散剂。其中，优选具有极性的分散介质，尤其是甲醇、乙醇等醇类、NMP等酰胺类这样的具有与水的亲和性的物质，即使不使用分散剂其分散性也良好，因此优选。所述液体可以单独使用，也可以将2种以上混合使用。
另外，作为分散介质也可以使用水。在使用水的情况下，当透明基体表面具有疏水性时，水容易弹开，在涂敷透明导电性涂料时难以获得均匀的膜。在这种情况下，通过在水中混合醇或选择并添加改善向疏水性的透明基体的润湿性的界面活性剂，从而获得均匀的膜。
作为使用的分散介质的液体的量没有特别限制，以使所述微细的导电性物质的分散液具有适于涂敷或印刷的粘度的方式进行调整即可。例如，可以设定成相对于所述透明导电性物质100重量份而言液体为100～100000重量份的程度这种大范围，能够根据所述透明导电性物质和分散介质的种类、使用的搅拌、分散装置来适当选择。
所述导电性物质向分散介质中的分散可以相对于作为导电性物质和分散介质的液体的混合物根据需要使用公知的分散方法来进行。但是，为了形成具有良好的透明性和导电性的透明导电层，使微细的导电性物质的特性在分散处理前后没有大的变化且不会失去混合物的透明性这一点很重要。尤其是，在导电性物质为金属纳米线的情况下，由于因弯折而引起导电性的降低、透明性的降低，因此选择不破坏金属纳米线的形状的分散方法十分重要。
在透明导电层用涂料或透明导电性用墨液中可以含有粘结剂树脂。
包含在透明导电层中的粘结剂树脂发挥将透明导电层中的导电性物质隔着导电层固定在基体上的功能。作为发挥粘结剂树脂功能的树脂，并非必须仅是在透明基体上形成透明导电层时使用的树脂，在最终形成图案化透明导电层前的各工序中，相对于透明导电性物质或一次形成在基体上的透明导电层中的导电性物质在以后的各工序中应用的各种树脂发挥该功能。
在含有粘结剂树脂和透明导电性物质的透明导电层向透明基体上制造时，作为在基体上形成所述透明导电层的工序或在基体上将透明导电层固定化的工序中的任一方或两方中使用的粘结剂树脂可以举出以下的树脂。
以下说明能够作为在透明导电层的形成或透明导电层的固定化中使用的粘结剂树脂的材料或材料的组合。基于这些粘结剂树脂进行的涂膜的形成或者固定化通过以下方式进行，即，利用光照射或加热而使在保护层用涂料中含有的单体或低聚物(10～100单体)聚合、或者利用干燥及加热而使保护层用涂料中的树脂交联而形成固体高分子基质，或者，通过除去溶剂而将溶剂中的粘结剂树脂形成交联涂膜，但是，该涂膜并非必须限定为经过聚合、交联过程而固化形成的涂膜。但是，在涂膜的耐久性、耐擦过性的方面，优选为经由通过可见光线、紫外线、电子线或加热等进行的单体的聚合或者通过交联剂进行的高分子化合物的交联而固定化得到的物质。
作为粘结剂使用的有机聚合体优选具有与碳架结合的极性官能团的物质。作为极性官能团，可以例示出羧基、酯基、酮基、腈基、氨基、磷酸基、磺酰基、磺酸基、聚烷撑二醇基、及醇性羟基等。作为粘结剂有用的聚合体的示例包括丙烯树脂、醇酸树脂、聚氨酯、丙烯聚氨酯、聚碳酸酯、聚酯、聚苯乙烯、聚甲醛、聚酰胺、聚乙烯醇、聚酢酸乙烯及纤维素等。另外，作为无机聚合体的示例包括四烷氧硅烷通过加水分解·缩聚生成的硅氧烷系聚合体。
作为单体的聚合性的有机单体或低聚物的示例包括以丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油酯、环氧乙烷改性磷酸丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚乙二醇甲基丙烯酸酯、聚丁二烯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等为代表的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯型的单体及低聚物；单(2-甲基丙烯酰氧乙基)酸性磷酸酯、丙烯酸、丙烯酸甲酯、衣康酸、丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、乙烯基甲苯等其他乙烯单体；双酚A二缩水甘油醚等环氧化合物等。
作为单体的聚合性的无机单体的示例包括Si、Ti、Zr、Al、Sn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Pb、Ag、In、Sb、Pt、Au等金属的无机酸盐、有机酸盐、醇盐及络化物(螯合物)。它们经过加水分解或热分解而聚合，并最终成为无机物(金属氧化物、氢氧化物、碳化物、金属等)，因此在本发明中作为无机单体处理。这些无机单体也可以以部分为加水分解物的状态来使用。接下来，例示出各金属化合物的具体例，但不局限于此。
[带透明导电层的基体、薄膜的制造方法]
以下，对使用上述原材料制造本发明的带透明导电层的基体、薄膜的方法进行记载。
在本发明中，为了使用所述的粘结剂树脂及导电性物质而通过含有它们的透明导电性被膜形成透明导电层图案，且使该图案为下述图案，即，在透明基体上具有导电性区域(A)及高电阻区域(B)，在该高电阻区域(B)中具有被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，且所述小区域(C)及/或小区域(D)是形成具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期及/或大小的二维的排列图案的孤立区域、或所述区域彼此局部连结的区域，通过利用含有粘结剂树脂和导电性物质的导电性墨液进行印刷，由此能够实现上述特征。
对于适用于图案化的带透明导电层的基体或薄膜的、具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期或大小的透明导电层的二维的图案而言，其通过涂敷或印刷进行的形成方法大体分为以下两种方法。
(1)将透明导电层用涂料或透明导电层用墨液直接通过已知的涂敷方法或印刷法涂敷、印刷到透明基体上或透明薄膜基体上而进行图案形成的方法；
(2)在透明基体上或透明基体薄膜上的整个面上通过已知的涂敷方法或印刷方法形成透明导电层后，通过蚀刻法、激光划线法、剥离法等进行图案形成的方法。
直接形成透明导电层图案的(1)方法是在将透明导电层用涂料或透明导电层用墨液向基体或薄膜上涂敷或印刷时，通过版的设计和涂料或墨液的配合设计而调整涂敷或印刷的膜厚以及涂敷、印刷的图案的方法，通常，通过利用丝网、凹版、墨液喷射等方法涂敷或印刷涂料、墨液而形成图案。
然而，在形成使用银纳米线等导电性极细纤维的透明导电被膜时，为了确保透明性和导电性，需要均匀且高精度地涂敷少量的导电极细纤维，进而使纤维彼此交且在该部分形成相互电接触的状态。因此，在透明导电层形成用涂敷液中，需要减少导电性极细纤维的含有量并极力减少阻碍电接触的粘结剂树脂。另一方面，为了通过印刷形成透明导电层的图案，控制墨液的粘弹性而赋予适于印刷性是十分重要的，且使用了所述导电性极细纤维的墨液或涂敷液在组成方面的限制较大，难以获得必要的流变能力。因此，作为电极形成均匀膜厚的透明导电性被膜，且通过该透明导电性被膜一次性地印刷本发明的形成有微细图案的带透明导电层的薄膜是极为困难的。
另一方面，在(2)方法中，蚀刻用的抗蚀液、蚀刻液、剥离用的剥离剂、粘接剂等需要使用满足用于进行蚀刻或剥离的基本特性的物质，但对于透明导电层用的涂料，只要能够形成均匀的透明导电层即可，透明导电层用涂料和透明导电层用墨液的组成设计的限制较少。这种情况下，蚀刻法会产生显影废液、蚀刻废液，从环境负荷的方面考虑不能称得上是优选的方法。
另外，由于激光划线也需要专用的激光加工装置，因此图案形成需要花费时间，所以成本提高。另一方面，对于印刷形成剥离剂、粘接剂图案并进行转印、剥离的方法，由于印刷技术的进步使得能够进行10μm程度的微细印刷，在使用部分的转印或除去不需要部分的图案形成工序中，可以选择干式过程，能够仅通过涂敷或印刷工序而进行导电性被膜的图案形成，从这一点来说，作为本发明的图案形成方式是最优选的方法。
[透明导电层用涂料、墨液的通过涂敷、印刷所进行的直接的图案形成方法]
以下，从相对于透明基体或薄膜通过直接的涂敷或印刷而使透明导电性被膜图案化的方法进行记载。
在此，该图案具有被透明导电性被膜以相同方式覆盖的导电性区域(A)和高电阻区域(B)，在该高电阻区域(B)中，区域(C)及/或区域(D)是形成具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立区域、或所述区域彼此局部连结的区域。在本发明中，在涂敷方法或印刷方法中使用在一个版中具有用于进行与所述区域(A)对应的印刷的部分、和用于进行与所述区域(B)中的具有小区域(C)及小区域(D)的区域对应的印刷的部分的印刷版而通过透明导电层用墨液的印刷来形成。
作为能够使用的印刷方法可以选择使用了平版、凸版、凹版、丝网等制版的印刷方法中的与所使用的导电性墨液的特性相应地使用的印刷方法。在这样的印刷方法中，基于凹版印刷的方法能够通过调整网点的大小、密度以及深度而更加精密地调整基于所述网点形成的二维的图案，因此优选。
为了使用具有这种版的例如凹版印刷而在透明基体上形成本申请发明的透明导电性图案，可以使用凹版滚筒，该凹版滚筒在同一滚筒中具有进行与区域(A)对应的实体印刷的凹版单元图案、以及进行在所述区域(B)中的小区域(C)及小区域(D)中形成有对应的具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列图案的孤立区域或者所述区域彼此局部连结的区域这样的区域的印刷的凹版单元图案，通过在透明性基体上进行透明导电层用涂料的凹版印刷来制造。
进而，对基于本发明的印刷法向透明基体上、透明薄膜基体上形成绝缘性虚设图案及导电性虚设图案的方法进行详细说明。
对于本发明的网点状图案、网眼状图案的形成、网点形状的确定，作为更为简便的方法可以利用在印刷方法中在以限制了亮度色标或颜色的图像的色数进行印刷的情况下使用的网点技法。网点技法是在例如白色的纸上排列黑色墨液的印刷点的大小或点密度变化的点状图案的方法。在从足够的距离观察其时，由于印刷点非常小，因此通过人类的眼睛无法设别到该点的形状，而辨认成好像是灰色，根据黑点与白色背景的面积的比例能够表现从黑色向白色的连续的明亮度。
通过利用同样的网点技法对透明导电层用涂料或者墨液进行印刷，通过在控制导电膜的“有”、“无”的二值状态的同时控制各网点的占有面积比率，从而能够形成具有期望的均匀的雾度值的透明导电性区域或者高电阻区域。
进而，本发明的带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜中的导电性区域或高电阻区域的电特性或者光学特性的调整可以通过使用下述的各种印刷技法而精密地进行。
在网点技法中，在使用最常用的以网点的点的大小来表现浓淡度的“AM丝网(Ampritude Modulation)”的情况下，上述特性的调整通过调整网点的点彼此的分离和连接而如图7所示那样调整小区域(C)的形成来进行。即，利用如下的特性：从印刷点小的高光到中间浓度附近，印刷的网点的点为分离状态，另外，从中间浓度附近到实体区域，印刷点变大而成为相互连结的状态，通过网点的点的连结而被覆盖的区域的面积基本连续变化。此时，相反地，不进行印刷的区域留下点状，其面积逐渐减少。
透明导电层的导电率等电特性主要受作为小区域(C)的网点的点间是否处于连结状态的影响较大，而雾度等光学特性受作为小区域(C)的网点的点的总专有面积的影响较大。期望的网点的点的总专有面积和点彼此的分离状态及连结状态能够通过改变点的形状而一定程度独立地进行调整。具体而言，在使用圆形点的情况下，点彼此的连结在浓度比中间浓度高即点占有率大于50％的区域产生。
另一方面，在使用图8那样的黑白网格的点形状和配置时，点彼此的连结在浓度比中间浓度低即点占有率小于50％的区域产生。通过以这种方式进行点的形状的调整，从而能够进一步扩大电特性和光学特性各自的调整幅度。
另外，为了将网点的点分离或连结的图案形成为通过肉眼难以视觉辨认到的大小，可以通过使印刷版的丝网线数足够大而实现。
另外，通常，被网点印刷的点状的透明导电性被膜彼此的分离和连接可以通过圆形状的点的使用而保持相互分离的状态至高印刷浓度并形成维持了绝缘性的小区域(C)，在使用方形点时，与圆形状点相比可以得到低浓度且小区域(C)即点状的导电性被膜彼此连结的导电性的印刷图案。
通过利用上述特性，在X电极部、Y电极部各自的带透明导电层的基体(薄膜)中的透明导电性区域、高电阻区域等具有导电性被膜的区域中，光学特性可以实现电极列形成部分(a)与电极列未形成部分(b)的中间程度的值，且对于透明导电被膜的导通、绝缘等电特性，可以进行向分别接近透明导电性区域、高电阻区域的值的调整。
作为用于维持雾度值等的特定的光学特性且控制导电性、绝缘性等电特性的方法不局限于上述方法，也可以适当利用使网点的周期可变而进行控制的FM丝网点法、和将控制网点的大小的AM丝网点法与上述FM丝网点法组合的“Fairdot2”(MEDIA TECHNOLOGY JAPAN CO.，LTD.商品名)等网点技法。
进而，近年来，使用激光的数字制版技术不断进步，通过这种方式，无需依赖于表示印刷的分辨率的丝网线数，可以以任意的间隔配置具有任意的大小的微小单元，或将印刷单元形成为任意的格子状，在本发明的为了控制带透明导电层的基体(薄膜)的导电性被膜的电特性和光学特性所必要的印刷版的形成中是尤为有效的方法。
[在形成透明导电层后形成图案形成的方法]
以下，对为了形成具有良好的导电性和光学特性的透明导电层图案而在透明基体薄膜上的整个面上通过已知的涂敷方法或印刷方法形成透明导电层后，通过蚀刻法、激光划线法、剥离法等进行图案形成的方法进行说明。尤其是，在导电性物质为纤维状导电性物质的情况下，优选使用以下的方法。
即，在使用纤维状导电性物质如上述那样在透明基体、透明薄膜基体上形成静电电容型触控面板用的透明导电层这样的周期的图案时，存在纤维状的导电性物质凝集的问题以及如上述那样纤维状导电性物质间的电接点的确保问题，需要提高导电性纤维彼此的缠绕状态下的开口率，将透明导电层的光透射率维持得高。因此，在透明导电层形成用的涂料的该涂料中不含有用于通过印刷方法进行直接图案形成的足够的树脂成分的情况居多，难以进行用于低粘度、用于图案形成的印刷的情况居多。
在这样的情况下，可以预先在透明基体、透明薄膜基体上形成均匀的透明导电层，通过各种方法除去不需要的透明导电层部分，或相反地仅切取必要的图案而得到图案化的透明导电层。
因此，在所述导电性物质的分散液中，在导电性能的提高方面优选不含有粘结剂树脂。这是由于，在透明导电性被膜中，只要不使用粘结剂树脂则不会阻碍导电性物质彼此的接触。因此，能够确保导电性物质相互间的导电性，将得到的导电层的电阻值抑制得更低。另外，通过使导电性物质的分散液不含有粘结剂树脂，从而在基体上形成有透明导电性被膜时，在下一工序中能够容易地将透明导电性涂膜的一部分从该透明薄膜基体上剥离，因此优选。进而，此后，在将图案化的透明导电层通过保护层用涂料向透明基体、透明薄膜基体上固定的固定化的工序中，将保护层用涂料浸渗到透明导电层中并使其到达基体而进行该工序，因此透明导电性物质的分散液不含有粘结剂树脂意味着透明导电层含有更多的间隙，在不阻碍通过保护层用涂料的含浸进行的固定化的方面优选。
若考虑导电性能的提高的方面，则作为透明导电层用涂料的纤维状的导电性物质的分散液优选不含有粘结剂树脂或者即使含有其含有量也极少，仅含有用于至少临时形成涂膜所必要的最低限的量。在通过这样的透明导电性涂料制造的透明导电层中，不会因粘结剂树脂的存在而阻碍导电性物质彼此的接触。因此，能够确保纤维状的导电性物质相互间的导电性，将得到的导电层的电阻值抑制得更低。另外，通过使纤维状导电性物质的分散液不含有粘结剂树脂，从而在基体上形成透明导电性被膜时，在下一工序中能够容易地将透明导电性被膜从该透明(薄膜)基体上剥离，能够容易地形成透明导电层，因此优选。
通常，无论导电性物质的形状如何，此外无论以何种方法进行图案化，在通过涂敷或印刷在基体上或薄膜上形成导电性被膜时，都优选涂料或墨液极力减少粘结剂树脂的含有量。尤其是，为了利用使用了纤维状的透明导电性物质的透明导电性涂料而在透明基体上形成透明导电层，而优选将含有纤维状的导电性物质且优选不含有粘结剂树脂的透明导电性涂料涂敷在透明基体上，并充分确保纤维状的透明导电性物质彼此的接点后，根据需要使用于固定纤维状的透明导电性物质的树脂向形成在该透明导电性物质间的间隙浸透，使其固化而形成保护层并制成透明导电层。此时，在进行透明导电层的图案化的情况下，优选在充分确保透明导电性物质彼此的接点后，使用于固定透明导电性物质的树脂浸透前进行。
根据以上可知，在透明基体、透明性薄膜基体上的整个面上形成透明导电层之后，形成进行图案形成而图案化了的透明导电层时，优选经过以下的各工序。
(1)在基体上通过涂敷形成在后续工序的图案化时能够剥离的透明导电层的工序
(2)在形成有均匀的透明导电性层或者图案化了的透明导电层的基体整个面上涂敷保护层用涂料并将透明导电层在基体上固定化的工序
在使用这样不含有粘结剂树脂或者含有极少量粘结剂树脂的透明导电性涂料形成透明导电层，或者进一步进行了该透明导电层的图案化时，此后，根据需要在该透明导电层上涂敷含有粘结剂树脂的保护层用涂料，并使该保护层用涂料浸渗到导电层而到达基体，并且将透明基体和透明导电层更牢固地固定化。因此，导电性物质的分散液不含有粘结剂树脂意味着透明导电层含有更多的间隙，在不阻碍基于保护层用涂料的浸渗的固定化的方面优选。
在透明基体上形成透明导电层时，若发挥向基体固定透明导电性物质的功能的粘结剂树脂的量过多，则为了将导电层中的导电性物质完全覆盖、埋设而使导电层的表面固有电阻上升。因此，需要以使粘结剂树脂具有与用途对应的表面固有电阻的方式确认最终的导电性物质向导电层表面露出的状况，从而调整粘结剂树脂的量。
进而，在基体上形成导电性涂膜后，为了提高导电性物质的充填率并提高导电性，而从导电层的上方进行加压处理，增加导电性物质彼此的接触点，在进行如此的处理的情况下，若粘结剂树脂过多则存在缓冲作用，因此削减加压效果。
在透明导电层的制造方法中，可以在透明基体上形成能够剥离的导电性涂膜后，进而为了提高透明导电层的导电性，在增加涂敷形成后的透明导电层的透明导电性物质彼此的交叉部分的接触点的同时增加接触面积而进行用于使该接触可靠的加压工序。尤其是，在使用导电性物质间的接触点和接触面积少的纤维状导电性物质的情况下，加压工序更为有效。
对导电性物质的交叉部分进行加压的工序具体而言是对透明导电层面进行加压的工序，在透明导电性物质为导电性微粒子的情况下，为提高该微粒子的密度而增加微粒子彼此的接触点和接触面积的工序，在透明导电性物质为金属纳米线那样的纤维状、更详细而言为线状的情况下，是从正上方向分散成网眼状的透明导电层施加压力，使透明导电层压缩，增加内部的金属纳米线的接触点的工序。通过该工序，导电性微粒子、金属纳米线间的接触电阻降低。
本工序只要是对通常涂膜面加压的公知的方法即可，没有特别的限制，可以举出将通过涂敷得到的层例如在能够加压的2张平板间配置透明导电层，并进行固定时间加压的平板按压法、以及在能够加压的2根辊之间夹入透明导电层而进行线加压并使辊旋转由此对面整体进行加压的压延法等。
在通过辊进行的压延法中，对透明导电层加压的压力为500kN/m2～50000kN/m2，优选为1000kN/m2～10000kN/m2，更优选为2000kN/m2～5000kN/m2。
只要是不降低基体上的涂膜的导电性和从基体剥离的涂膜剥离性且不会损害通过保护层用涂料中的树脂进行的导电性层的固定化工序的程度的量，则也可以在透明导电层用涂料、透明导电层用墨液中含有树脂，其种类和量可以在能够获得上述特性的范围内适当选择。
在上述的添加量范围内，导电性物质的分散液也可以含有所述树脂及其他的添加剂，以进行粘度调整、防腐蚀、提高向基体粘接的粘接性及控制导电性物质的分散。作为适当的添加剂及结合剂的示例，可以举出羧甲基纤维素(CMC)、羟乙基纤维素(HEC)、羟丙基甲基纤维素(HPMC)、甲基纤维素(MC)、聚乙烯醇(PVA)、三丙二醇甲醚(TPG)、及黄原胶(XG)、及聚氧乙烯醚、烷氧基、环氧乙烷、及环氧丙烷等界面活性剂及它们的共聚体、磺酸盐、硫酸盐、二磺酸盐、磺化琥珀酸盐、磷酸盐酯、及氟系界面活性剂，但不仅局限于此。
进而，作为膜成形剂也可以使用2-烷氧基乙醇、β-二酮、烷基酯等非聚合体系有机化合物。
使基体上的透明导电层图案化的工序也可以在使透明导电层在基体上固定化的工序之后进行，但在通过涂敷在基体上形成透明导电层的工序之后且在使透明导电层在基体上固定化的工序之前进行，则更容易进行图案化且能够适用的方法也更多。进而，优选在图案化后，在通过图案化的透明导电层被局部覆盖的透明基体的整个面上涂敷保护层用涂料，由此能够使图案化后的透明导电层更为可靠地向透明基体固定，因而优选。
作为在上述基体上形成图案化的透明导电层的具体方法，可以使用基于激光束进行的图案化、光蚀刻等方法，但从能够利用涂敷工序连续地进行处理方面、不需要光照射或掩蔽等处理方面、进而不需要蚀刻等湿式处理的方面、以及能够确保稳定的导电性的方面考虑，优选使用下述方法，即，相对于需要形成的图案，使用通过粘接剂涂料形成有负图案的剥离用基材，剥离在基体上形成的透明导电层的不需要部分，而形成期望的图案化的透明导电层的方法。
在这种情况下，进行下述工序即可，即，相对于基材使用例如热敏粘接剂来形成负图案而制造剥离用基体，从在透明基体、透明薄膜基体上形成的均匀的透明导电层利用该剥离用基材而剥离与负图案对应的不需要部分，所述负图案是由导电性区域(A)及具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维排列图案的高电阻区域(B)构成的图案。
即，在使用含有纤维状的导电性物质的透明导电性涂料制造本发明的带透明导电层的基体、带透明导电层的薄膜的情况下，在透明基体、透明薄膜基体上的整个面上形成透明导电性被膜，并将以负和正与需要在透明基体上形成的反复图案相反的图案在支承体上形成有粘接剂层的剥离用薄膜等的剥离用基材的该粘接剂层向所述透明导电性被膜压接后剥离，从而能够形成所述反复图案。此时，所述剥离性薄膜的制造通过使用在一个版中具有用于进行与所述区域(A)对应的区域的负图案所对应的印刷的部分、以及用于进行与所述区域(B)中的具有小区域(C)及小区域(D)的区域的负图案对应的印刷的部分的印刷版在支承体上涂敷或印刷来进行，由此通过涂敷工序或印刷工序一次性地形成剥离用薄膜。
或者，也可以直接在剥离用薄膜上进行粘接而将转移成图案状的负图案本身利用作为导电性图案，但为了实现透明导电层的稳定的表面导电性，优选使用残留在透明基体上的图案而将当初形成在透明薄膜基体上的透明导电性被膜的表面作为直接被图案化的透明导电层的表面来使用。
[基于图案化的透明导电层的剥离法的形成]
以下按照工序对从预先制造的均匀的透明导电层使用具有形成有负图案的粘接剂层的剥离用基材消除不需要部分而得到图案化的带透明导电层的薄膜的制造方法详细地进行说明。
即，作为使用含有纤维状导电性物质的均匀的透明导电层而形成图案化的透明导电层，制造最终具有固定在透明基体上的图案化的透明导电层的透明导电膜的方法，可以举出使用以下的工序的方法。
(1)通过涂敷而在基体上形成能够剥离的透明导电层的工序
(2)在支承体上形成负图案化的热敏粘接剂层的工序
(3)将所述基体和所述支承体以所述透明导电层与所述热敏粘接剂层相互密接的方式贴合的工序
(4)从所述基体剥离所述支承体，将与所述热敏粘接剂层密接的部分的所述透明导电层移至热敏粘接剂层上，由此在基体上形成透明导电层的图案的工序
(5)在形成有所述透明导电性层图案的基体整个面上涂敷保护层用涂料，并使透明导电层在基体上固定化的工序。
[能够剥离的透明导电层的形成]
本发明中使用的能够剥离的透明导电性涂膜通过在透明薄膜基体上涂敷在液体介质(分散介质)中分散了微细的透明导电性物质而得到的透明导电性涂料而形成。在此，透明导电性物质也包括虽然其自身并不透明，但通过控制形状、含有量而能够成为形成透明导电层的导电性材料的物质。本发明的透明导优选表面电阻率为0.01Ω/□～1000Ω/□，在可见光域具有高透明性，且全光线透射率为80％以上，并且能够从基体上剥离。在此，能够剥离是指至少在使用表面上具有粘接剂层的剥离用基材，使该剥离用基材的粘接剂层与透明导电层重合并粘接后将剥离用基材剥离时，能够在基体上的透明导电层不会发生内部破坏并且不会对基体及基体与透明导电层的界面造成损伤的情况下进行剥离。
为了使用上述原料而在透明基体上形成透明导电性涂膜，将图18那样含有透明导电性物质、分散介质并且根据需要含有树脂的分散液涂敷到透明基体(11)上并使其干燥，由此在透明基体上形成均匀的导电性涂膜(12)。
作为涂敷方法可以使用喷涂、棒涂、辊涂、模涂、墨液射涂、网涂、浸涂等公知的涂敷方法。
透明导电层的膜厚在过薄时存在无法实现作为导体足够的导电性的倾向，在过厚时存在因雾度值的上升、全光线透射率的降低等导致透明性受损的倾向。通常在10nm～10μm之间进行适当调整，但在如金属纳米线那样导电性物质本身不透明的情况下，若增加膜厚会导致透明性容易受到损失，因此大多形成更薄的膜厚的导电层。在这种情况下，采用开口部极多的导电层，但作为通过接触式的膜厚计测定时的平均膜厚，优选10nm～500nm的膜厚范围，更优选30nm～300nm，最优选50nm～150nm。
作为更容易从基体上剥离设置在透明基体(11)上的透明导电层(12)的方法，也可以预先在透明基体上的涂敷面上设置容易进行透明导电层(12)的剥离的基底层，这种情况下，优选形成不会损害形成有导电性层(12)的基体的透明性、导电性、保护层用涂料用的粘结剂树脂的粘接性的基底层，其组成和结构可以根据透明性基体(11)、在后续工序中从透明导电层(12)上浸渗而到达基体的保护层用涂料的组成而适当选择。
以下，进行与在透明基体进行直接印刷而形成图案化透明导电层的情况不同的、上述工序的(2)～(4)的透明导电层的图案化所涉及的部分的说明。
〔具有图案化的热敏粘接剂层的支承体(剥离用基材)的制造(工序(2)〕
为了将形成在基体上的透明导电层局部地从基体剥离而制造剥离用基材。如图19所示，本发明中使用的剥离用基材(20)在薄膜状支承体(13)上具有负图案化的热敏粘接剂层(14)。剥离用基材(20)可以通过将在支承体(13)上含有热敏粘接剂和溶剂的热敏粘接剂层用涂料涂敷形成相对于需要在基体上形成的期望的导电性图案相反的负图案而形成。
热敏粘接剂虽然在常温完全不展现粘着性，但通过加热而展现粘着性。作为形成在支承体上的热敏粘接剂层的热敏粘接剂，只要是相对于形成在所述透明基体上的透明导电层和支承体的双方具有亲和性而能够将两者牢固地粘接的热敏粘接剂即可，没有特别的限定，可以使用公知的各种热敏粘接剂，但作为展现粘着性的温度，优选向透明导电层的导电性物质的间隙浸透且与导电性物质良好地密接且作为透明基体使用薄膜的情况下，以不会大幅度超过基体薄膜的玻化温度的温度展现粘着性。另外，在加热后以常温程度剥离支承体时，优选能够显示出相对于导电性物质和支承体这两方的较强的粘接力而进行良好的剥离。
作为这样的热敏粘接剂，例如可以举出聚氨酯系粘接剂、聚酯系粘接剂、氯乙酸乙烯(氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚体)系粘接剂、丙烯系粘接剂等。其中，优选具有常温以上的玻化温度Tg，具有羧酸基、磺酸基等酸基，并以非晶性聚酯树脂、聚酯系聚氨酯树脂为主剂的热敏粘接剂，作为玻化温度优选20～100℃的范围。另外，根据操作热敏温度的目的，也可以在上述主剂中适量地配合具有相溶性且玻化温度Tg不同的树脂。
在热敏粘接剂中可以根据需要添加聚烯烃系树脂粒子来作为防堵塞剂。其中，优选添加聚乙烯树脂粒子或聚丙烯树脂粒子，更具体而言，优选添加高密度聚乙烯树脂粒子、低密度聚乙烯树脂粒子、改性型聚乙烯树脂粒子、分解型低密度聚乙烯树脂粒子、分解型聚丙烯树脂粒子。另外，所述聚乙烯树脂粒子及分解型聚丙烯树脂粒子的重量平均粒子径为0.1～25μm，但在粒子为扁平状、鳞片状的情况下优选3～25μm的范围，分子量优选为1000～29000的范围，熔点优选为100～150℃的范围。
在热敏粘接剂层用涂料中使用的溶剂只要使在热敏粘接剂中使用的粘结剂树脂良好地溶解或分散即可，没有特别的限定，只要是非腐蚀性则可以使用任意的溶剂。作为更适当的溶剂的示例可以举出水、醇类、酮类、四氢呋喃等环醚化合物类、环己烷等烃类或苯、甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂。进而，溶剂为挥发性溶剂，优选具有200℃以下的沸点，更优选150℃以下，进而优选具有100℃以下的沸点。
作为本发明中在剥离用基材中使用的支承体，主要可以使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯类、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、EVA等的聚烯烃类、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等的乙烯系树脂、聚砜、聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯树脂等塑料构成的薄膜。其中，在使透明导电层与热敏粘接剂层相互密接并通过加热进行贴合的工序中，优选不会发生热变形的材料。
所述支承体可以在不妨碍本发明的目的的程度上进行着色，进而也可以单层使用，还可以作为将2层以上组合而成的例如多层薄膜使用。其中，从透明性、耐热性、便于处理性、价格的方面出发，聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜最为适合。该透明塑料基体的厚度在薄时耐热性差而厚时热电容变大导致通过热敏粘接剂的加热而展现粘着性需要较长的时间，因此优选5μm～100μm。进而优选10μm～50μm，更进而优选15μm～30μm的膜厚。
支承体上的热敏粘接剂层形成为将意欲在基体上得到的期望的透明导电性图案反转的、所谓的负图案状。
作为粘接剂的负图案形成方法可以使用公知的印刷方法，只要通过加热展现了粘着性的热敏粘接剂层形成为用于在下一工序中相对于基体上的透明导电层良好地粘接的足够的热敏粘接剂的厚度即可，没有特别的限制，可以使用公知的方法。例如，可以使用凹版印刷法、胶版印刷法、凹版胶版印刷法、丝网印刷法、墨液喷射印刷法等。另外，热敏粘接剂层的厚度优选为0.05μm～5.0μm，更优选为0.1μm～2.0μm，进而优选为0.2μm～1.0μm。
对于本发明的印刷版的制造条件，在AM丝网的情况下，作为表示印刷的分辨率的丝网线数为170lpi(line per inch)以上，优选为260lpi以上且500lpi以下。若丝网线数小，则图案容易作为点而被视觉辨认到，且难以在狭窄的区域中分开作成绝缘图案和导通图案。另一方面，若丝网线数大，则点间间距狭窄，能够形成视觉辨认性优越的图案，但相反地，点容易连结，难以进行导通和绝缘的控制。
以下使用附图说明AM丝网的情况下的绝缘性虚设图案的形成方法。图8是形成负图案的单元的占有面积约为50％的放大示意图。通过该印刷版，使用印刷后的热敏粘接剂的负图案进行图案形成，并形成表示图9所示的放大示意图的绝缘性图案。
另外，作为通过使用了利用激光进行的数字制版技术的任意的单元形状而形成绝缘性图案的方法，包括在印刷版面上形成格子状的槽的方法。在图10中示出用于这种情况下形成绝缘性虚设图案的热敏粘接剂用负图案。根据该印刷版，使用印刷后的热敏粘接剂的负图案进行图案形成，从而形成表示图11所示的放大示意图的绝缘性图案。
接下来，使用附图说明导电性虚设图案的形成方法。作为导电性虚设图案的形成方法，包括在连接电极间的部分形成图12所示那样的呈条纹状的导电膜的未覆盖部分的方法、以及形成图13所示那样呈网点状的导电膜的未覆盖部分的方法，可以通过适当使用在绝缘虚设图案形成法中使用的、基于激光进行的数字制版技术、AM丝网法、FM丝网法等来形成。作为用于形成图13所示那样的图案的剥离用基材，只要在支承体上形成图14所示那样的负图案的热敏粘接剂层即可。
〔透明导电层的图案形成工序〕
本发明中使用的含有纤维状的导电性物质的透明导电层的图案形成工序包括：(3)将所述基体和所述支承体以所述透明导电层和所述负图案化后的热敏粘接剂层相互密接的方式贴合的工序；(4)将所述支承体从所述基体剥离，并将与所述热敏粘接剂层密接的部分的所述透明导电层移至热敏粘接剂层上，由此在基体上留下期望的透明导电层而形成图案的工序。在进行贴合的工序中，对设置有所述透明导电层的基体和设置有形成了所述负图案的热敏粘接剂层的支承体即剥离用基材以透明导电层和热敏粘接剂层相互密接的方式贴合加热并加压。尤其是，在透明导电层不含有粘结剂树脂或者含有但含有量少时，通过热敏粘接剂层的加热、加压，使热敏粘接剂软化而向透明导电层的导电性微粒子的间隙或者纤维状导电性物质的网眼内浸透，由此热敏粘接剂与透明导电层内的导电性物质粘接。
然后，将贴合部分的热敏粘接剂层冷却至常温程度后，从所述基体剥离所述支承体，并除去与所述热敏粘接剂层粘接的部分的透明导电层，由此在基体上形成透明导电层的正图案。
作为上述透明导电层的图案化时使用的贴合方法，只要是不会因贴合时的加热、加压而产生基体的热变形的方法，则没有特别的限定，可以使用。例如，可以举出平板层压和辊层压法等，所述平板层压法在能够加热、加压的2张平板之间配置所述基体的透明导电层和所述剥离用基材的支承体上的热敏粘接剂层，并进行固定时间的加热、加压，所述辊层压法如图20所示，在任一方或两方能够加热的2根辊对(15)、(16)的辊隙间输送并夹入具有所述透明导电层(12)的基体(11)和具有所述热敏粘接剂层(14)的支承体(13)并进行加热、线加压，使辊(15)、(16)旋转而对面整体进行加压。
尤其是，在后者的辊层压方式中，能够进行使用了薄膜基体和薄膜状的剥离用基材的辊对辊方式的连续处理，具有良好的生产效率。如上所述，辊层压方式的辊为任一方或两方能够加热的辊，辊的材质只要使透明导电层与热敏粘接材层良好地热粘接且不会产生基体的热变形即可，没有特别的限定。作为使用辊的种类包括金属辊为主体的刚体辊、耐热橡胶制为主体的弹性辊，作为它们的的组合可以使用金属/金属、金属/弹性、弹性/弹性的所有组合，但为了在辊对的辊隙间展现热敏粘接剂的粘着性，优选辊隙宽度宽、加热时间长的弹性/弹性、弹性/金属的辊对。
另外，作为贴合时的处理条件，在不产生薄膜基体的热变形的情况下适当地选择使热敏粘接剂展现相对于透明导电层的粘着性的温度和压力条件即可。例如，处理温度优选为70℃～150℃，更优选为80℃～130℃，进而优选为90℃～120℃。压力为辊线压，在10kN/m～60kN/m的范围内选择能够获得良好的转印状态的最小线压即可。
进而，还可以根据需要在贴合前对热敏粘接剂层部分进行预备加热。另外，当在热敏粘接剂层中混入气泡时，由于与导电性层的局部的粘接不良，通过剥离基材进行的导电性层的剥离容易进行得不完全。因此，为了防止混入气泡防止，也可以在贴合工序中在减压气氛下进行剥离基材的热敏粘接层部分的加热、加压。
在剥离贴合后的基体和剥离基材的工序中，将贴合后的带透明导电层的基体以及由具有图案化的热敏粘接剂层的支承体构成的剥离用基材冷却至常温程度，并从所述基体剥离所述支承体。如图21所示，与形成在支承体(13)上的热敏粘接剂层(14)的形成部分对应地，在剥离工序中与热敏粘接剂层粘接了的透明导电层(18)与热敏粘接剂层(14)一起从基体剥离，不与热敏粘接剂的形成部分对应的透明导电层(17)留在基体(11)上作为透明导电层的正图案，基本上完成透明导电层的图案。需要说明的是，在剥离用基材的剥离前，设置向剥离用基材的支承体和热敏粘接剂层部分喷射冷却用的空气等的冷却机构，这在良好地进行剥离且防止产生未剥离部分等图案形成缺陷的目的上是有效的。
通过热敏粘接剂在剥离用基材上形成负图案、从在基体上均匀地形成的透明导电层剥离不需要部分的剥离法所产生的图案化仅根据涂敷在剥离用基材的支承体上的热敏粘接剂的有无来确定，在与透明导电层的未剥离部分对应的剥离用基材的部分上未涂敷热敏粘接剂。因此，能够可靠地在基体上留下透明导电层，并且不会在透明导电层上留下不需要的热敏粘接剂而使透明导电层的光透射率降低。
〔保护层用涂料的涂敷(透明导电层的固定)〕
在基体上形成透明导电层的期望的图案后，在基体上及形成在基体上的透明导电层的整个面上进行保护层用涂料的涂敷。
保护层用涂料的涂敷工序如图22那样通过上述的贴合工序及剥离工序以如下方式进行，即，在局部被形成的透明导电层图案覆盖的基体上的整个面上涂敷保护层用涂料并使溶剂成分干燥，使含有的树脂成分固化而形成保护层(19)。通过本工序，透明导电层的表面被覆盖而被保护，且保护层用涂料填充到透明导电层中的导电性微粒子的间隙、纤维状、优选为线状的导电性物质形成的网眼的间隙中而到达基体且固化，此时，在基体上牢固地使透明导电层整体固定化，形成带透明导电层的基体。
以下说明能够作为在透明导电层的的固定化中使用的粘结剂树脂的材料或材料的组合。基于这些粘结剂树脂进行的固定化通过以下方式进行，即，利用光照射或加热而使在保护层用涂料中含有的单体或低聚物(10～100单体)聚合、或者利用干燥及加热使保护层用涂料中的树脂交联而形成固体高分子基质，或者，通过除去溶剂而将溶剂中的粘结剂树脂形成交联涂膜，但是，该涂膜并非必须限定为经过聚合、交联过程而固化形成的涂膜。但是，在涂膜的耐久性、耐擦过性的方面，优选为经由通过可见光线、紫外线、电子线或加热等进行的单体的聚合或者通过交联剂进行的高分子化合物的交联而固定化得到的物质。
作为粘结剂使用的有机聚合体优选具有与碳架结合的极性官能团的物质。作为极性官能团，可以例示出羧基、酯基、酮基、腈基、氨基、磷酸基、磺酰基、磺酸基、聚烷撑二醇基、及醇性羟基等。作为粘结剂有用的聚合体的示例包括丙烯树脂、醇酸树脂、聚氨酯、丙烯聚氨酯、聚碳酸酯、聚酯、聚苯乙烯、聚甲醛、聚酰胺、聚乙烯醇、聚酢酸乙烯及纤维素等。另外，作为无机聚合体的示例包括四烷氧硅烷通过加水分解·缩聚生成的硅氧烷系聚合体。
作为单体的聚合性的有机单体或低聚物的示例包括以丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油酯、环氧乙烷改性磷酸丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚乙二醇甲基丙烯酸酯、聚丁二烯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等为代表的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯型的单体及低聚物；单(2-甲基丙烯酰氧乙基)酸性磷酸酯、丙烯酸、丙烯酸甲酯、衣康酸、丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、乙烯基甲苯等其他乙烯单体；双酚A二缩水甘油醚等环氧化合物等。
作为单体的聚合性的无机单体的示例包括Si、Ti、Zr、Al、Sn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Pb、Ag、In、Sb、Pt、Au等金属的无机酸盐、有机酸盐、醇盐及络化物(螯合物)。它们经过加水分解或热分解而聚合，并最终成为无机物(金属氧化物、氢氧化物、碳化物、金属等)，因此在本发明中作为无机单体处理。这些无机单体也可以以部分为加水分解物的状态来使用。接下来，例示出各金属化合物的具体例，但不局限于此。
利用有机溶剂根据需要将上述的聚合体系粘结剂(聚合体、单体或低聚物)中的1种或2种以上溶解或稀释，调制粘度为25cps以下，优选为10cps以下的液体，用于在第一工序中形成的涂膜的浸渗。当该液体的粘度高于25cps时，在涂膜浸渗时，液体无法充分地浸透到涂膜内部以到达基体，无法获得目标的密接性及膜强度的提高效果。另外，当液体为高粘度时，过剩的液体堆积在由第一工序形成的透明导电层上，形成不含有导电性微粉末的绝缘性的层，因此导电性明显降低。
用于溶解或稀释的有机溶剂没有特别的限制，除了与(1)的涂膜形成工序相关地例示出的各种有机溶剂以外，还可以使用在(1)的涂膜形成工序中作为膜形成剂使用的液状有机化合物及水来作为溶剂。
可以根据需要在该浸渗用液体中添加固化催化剂(热固化的情况)、光聚合引发剂(紫外线固化的情况)、交联剂、加水分解催化剂(例如酸)、界面活性剂、pH调整剂等。
作为适当的溶剂的示例可以举出水、醇类、酮类、环醚化合物(四氢呋喃等)、烃类(例如，环己烷)或芳香族系溶剂(苯、甲苯、二甲苯等)。进而优选溶剂为挥发性溶剂，具有200℃以下、150℃以下或100℃以下的沸点。
另外，保护涂敷材料也可以含有交联剂、聚合引发剂、稳定剂(例如，防氧化剂及用于制品寿命长期化的紫外线稳定剂、及用于改善保存期间的防聚合剂)、界面活性剂及具有同样效果的物质。另外，保护涂敷材料还可以含有防止金属纳米线的腐蚀的防腐蚀剂。
作为形成保护层的方法只要是公知的湿法涂敷方法则没有特别的限制。具体而言可以举出喷涂、棒涂、辊涂、模涂、墨液射涂、网涂、浸涂等。
在通过保护层用涂料浸渗透明导电层而形成保护层时，涂敷、干燥后的保护层的膜厚若相对于涂敷前的透明导电层过薄，则耐擦过性、耐磨损性、耐候性等作为保护层的功能降低，若过厚，则导电性物质完全埋设于保护层而导致作为导体的接触电阻增加。
对于保护层用涂料的涂敷而言，在透明导电层的膜厚形成在50～150nm的范围时，优选涂敷、干燥后的膜厚为30～150nm，考虑透明导电层的膜厚而以表面电阻率、雾度等能够实现规定的值的方式进行调整。更优选40～175nm，最优选50～150nm。虽然保护层用涂料的干燥后的膜厚也受透明导电层的膜厚的影响，但若为30nm以上的膜厚，则基于保护层的保护功能存在更为良好地作用的倾向，若为150nm以下的膜厚，则存在能够确保良好的导电性能的倾向。
如此制造的带透明导电层的薄膜与其他的电子部件组合而作为各种制品或者制品用的部件使用，进而，通过附加必要的结构，能够作为触控面板用片材而与各种显示器装置一起使用。
本发明的带透明导电层的薄膜通过在此基础上进一步组合必要的结构，能够作为静电电容型的触控面板使用。
在具有位置检测功能的触控面板中使用的带透明导电层的薄膜在透明基板上上排列作为电容器的电极发挥功能的透明导电性图案，但通常使X轴检测用和Y轴检测用的各自的片材重合使用，各片材具有透明导电性区域的反复图案，所述反复图案具有所述特定的反复单位沿一方向连结的直线上的构造，该直线上的构造以固定的间隔平行排列。
尤其是，为了防止所述透明导电性图案被视觉辨认到，在将它们重合时，优选以尽可能不产生相互的图案彼此重合的部分或完全不重合的部分的方式形成透明导电性图案。
为此，在使所述特定的反复单位即透明导电性区域的直线状的构造以固定的间隔平行排列而覆盖透明基体时，优选具有下述这样的透明导电性图案的带透明导电层的薄膜，所述透明导电性图案作为未覆盖区域在透明基体上具有与其正交的直线状的同样的图案。
例如，特定的反复单位可以使用如下的带透明导电层的薄膜，其具有大致菱形的所述区域(A)，具有将该反复单位在一方向上连结得到的直线状的构造的透明导电性区域以固定的间隔平行排列而得到的透明导电性图案，且与其成直角的方向上的直线状的同样的图案作为未覆盖区域设置在透明基体上。
这样的带透明导电层的薄膜可以使用2张而在直角方向上将透明导电层设置在内侧，以彼此的透明导电性区域与相互的高电阻区域对置的方式重合而进行贴合并作为触控面板用的图案使用。此时，导电性区域相对于高电阻区域制造得小，在使二个带透明导电层的薄膜重合时，在对置的透明导电性区域之间形成无透明导电性层的区域，且该部分的光学特性与其他不同，因此作为图案容易被视觉辨认到。进而，对于直线上的透明导电性图案彼此呈直角地重合的部分，由于光学特性与其他的导电性区域不同，因此该部分的图案可能被视觉辨认到。
在这种情况下，通过使导电性区域之间的高电阻区域为具有小区域(C)及小区域(D)的区域，且在将导电性区域间的绝缘性保持得良好的同时使光学特性为导电性区域的值的50％左右，由此能够使重合时的光学特性与导电性区域大致相等而难以视觉辨认到导电性图案。进而，对于相互成直角方向的导电性区域重合的部分，通过形成为具有小区域(C)及小区域(D)的区域，能够在将导电性保持得良好的同时使光学特性与导电性区域相比更接近于高电阻区域的光学特性，由此，在它们重合时，能够不与其他导电性区域的部分的光学特性产生大的不同。
在这样的重合的部分，通过形成为具有小区域(C)及小区域(D)的区域，从而能够在将导电性或者绝缘性维持得良好的同时使光学特性变化，能够抑制导电性图案的易视觉辨认性，尤其是在小区域(C)、小区域(D)的形成中，通过以使它们与导电性区域的交界部分的光学特性逐渐从导电性区域的光学特性发生变化的方式形成它们，从而与导电性区域的交界部分变得更容易被视觉辨认到且使它们重合时，由于使具有彼此反向的倾斜的光学特性的区域重合，因此作为整体能够近似于导电性区域的光学特性。
【实施例】
以下，针对透明导电性物质为银纳米线的情况，举出制造触控面板用带透明导电层的薄膜及触控面板用透明导电膜层叠体的情况下的实施例来进一步具体地说明本发明，但本发明不局限于所述实施例。
(实施例1)
〔银纳米线的合成〕
银纳米线是在使用记载于Y.Sun，B.Gates，B.Mayers，&Y.Xia、“Crystalline silver nanowires by soft solution processing”，Nano letters，(2002)，2(2)165～168中的多元醇的方法后，在存在聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的情况下在乙二醇中溶解硫酸银，并使其还原从而合成得到的纳米线。即，在本发明中使用了通过在Cambrios Technologies Corporation美国临时申请第60/815627号中记载的修正后的多元醇方法进行合成而得到的纳米线。
〔透明导电层的制造〕
作为形成透明导电层的金属纳米线，使用槽模涂层机，将在水性介质中含有0.5％w/v的上述方法合成的短轴径约70nm～80nm、纵横比100以上的银纳米线的水分散体(Cambrios Technologies Corporation社制ClearOhmTM，Ink-A AQ)在厚度为50μm的高透明PET薄膜(东洋纺社制COSMOSHINE A4100)的透明性薄膜基体上涂敷25μm的湿涂层厚度，在使其干燥后，以2000kN/m2压力进行加压处理而形成透明导电层(参照图18)。
〔由具有负图案化后的热敏粘接剂层的支承体构成的剥离用基材的制造〕
接下来，使CRISVON NT-810-45(DIC社制聚氨酯树脂，45％溶液)100重量份在甲基乙基酮62.5重量份、甲苯62.5重量份中溶解而得到热敏粘接剂。该聚氨酯树脂的代表性的物性值中，由通过粘弹性测定(升温速度3℃/分钟)得到的tanδ的峰值得到的玻化温度为42℃，由拉伸速度300mm/分钟得到的拉伸断裂强度为277×10E5Pa，拉伸断裂伸长率为665％，在高压式流量测试仪(模具(dies)：
Figure BDA00002883915700461
加压：98N)的测定下得到的流动开始温度为90℃。使上述的热敏粘接剂用液以厚度为23μm的PET薄膜(帝人杜邦薄膜社制帝人Tetoron薄膜G2)作为支承体而在其上相对于需要在透明薄膜基体上形成的透明导电层的图案进行负图案印刷。
在此，作为需要在透明薄膜基体上形成的期望的导电层图案，采用图1及图2的静电电容方式投影型触控面板用的电极图案。该图案具有一边的长度为3.7mm且内角为90度的金刚石形状的电极部(静电元素)，连接该各电极部的连结部(连接桥)的线宽为X电极0.7mm、Y电极1.0mm。如图3所示，对于各自的电极而言，在X电极、Y电极重合时，以将金刚石形状的两电极连接的直线上的连结部重叠，而金刚石形状的电极部不重叠，其间隙为0.3mm的方式配置双方的直线状电极图案。
进而，作为改善视觉辨认性的虚设图案，在基于将所述静电元素连接的透明导电性被膜而形成的连结部上形成以73μm间距配置未被透明导电性被膜覆盖的直径为40μm的点状区域而得到的导电性虚设图案的区域。
另外，在X电极、Y电极沿直角方向重合时，形成在不存在透明导电性被膜的间隙部分以73μm间距配置被透明导电性被膜覆盖的直径为40μm的点状区域而得到的绝缘性虚设图案的区域。
前者的连结部存在导通，具有与未形成虚设图案的电极列部分同样的导电性，雾度值为未形成虚设图案的电极列部分的60％。另外，后者的间隙部分不存在导通，具有与电极列未形成部分同样的高电阻，雾度值为未形成虚设图案的电极列部分的40％。
在此，相对于需要通过上述的透明导电层形成的图案图23及图24，在所述支承体上，通过丝网线数为350lpi的凹版作出其负图案即图25、及图26的图案。此时，对于上述的虚设图案部分，对形成有其负图案的区域在同一的凹版上调整凹版单元的大小、深度而进行制造，可以通过凹版印刷法同时地制造其负图案。
需要说明的是，在支承体上，以使干燥后热敏粘接剂层的厚度为0.5μm～0.8μm的方式进行印刷，得到图25及图26那样热敏粘接剂被图案印刷成负图形状的剥离用基材(图19)。
〔透明导电层的图案形成工序〕
接下来，使形成有制成为辊状的涂敷物的透明导电层的基体、和具有负图案化的热敏粘接剂层的剥离用基材移动，使透明导电层和热敏粘接剂层以相互对合的方式重叠，使用通过金属制加热辊、耐热硅辊而具有加热、加压捏夹功能的层压器在加热辊温度为110℃、辊捏夹压(线压)为30kN/m、速度为5m/分钟的条件下连续地进行贴合(图20)。在使贴合的材料移动的同时将贴合部分的温度下降至室温程度，在这一时刻，从透明薄膜基体连续地将剥离用基材剥离，得到透明导电层呈期望的图案状地留在透明薄膜基体上的图案化的带透明导电层的薄膜。通过上述的剥离工序连续地形成该带透明导电层的薄膜，得到卷绕成辊状的带透明导电层的薄膜(图21)。
在通过显微镜观察图案化的透明导电层部分时，透明薄膜基体上的透明导电层部分在使用剥离用基材的剥离工序中不会受到损伤，另外，不会在剥离用基材剥离了透明导电层的部分残留透明导电层，从而完全地进行了剥离。另外，热敏粘接剂也不会附着在带导电层的薄膜侧。
〔通过保护层用涂料的涂敷进行的保护层的形成(透明导电层的固定)〕
作为保护层用涂料将丙烯树脂(DIC社制ACRYDIC A-815-45不挥发量45％)100份、异氰酸盐系固化剂(DIC社制BURNOCK DN-980不挥发量75％)7.2份充分溶解于甲基乙基酮2200份、甲苯2200份而形成保护层用涂料。
在其上具有所述图案化的透明导电层的透明薄膜基体的整个面上使用槽模涂层机利用该保护层用涂料填充透明导电层中的网眼状纳米线的间隙，涂敷成湿涂层厚度为10μm并进行干燥，形成干燥厚度约为0.1μm的保护层涂膜。然后，放置在60℃的气氛中24小时，使异氰酸盐系固化剂与丙烯树脂进行固化反应而形成保护层(图22)。如此，制成具有图23和图24这2种触控面板用透明导电层图案的带透明导电层的薄膜。为了由所述导电层被图案化的带透明导电层的薄膜制造静电电容型的触控面板，通过如下的工序制造，即，例如使2种带透明导电层的薄膜的透明导电层朝向同一方向(例如朝上)，使一方作为X电极用图案化透明导电性薄膜、另一方作为Y电极用图案化透明导电性薄膜，将一方的透明导电层形成部分在另一方的导电层未形成部分上以互不相同的方式重叠配置，并隔着OCA(光学用粘着片材)重合。对于形成的透明导电层图案，为了进行静电电容方式的投影型触控面板用带透明导电层的薄膜或触控面板用透明导电膜层叠体的评价，进行了后述的测定。其结果在表1中示出。
(实施例2)
在实施例2中，作为提高视觉辨认性的虚设图案，在将所述电极部连接的透明导电层所形成的连结部形成有以73μm的间距配置有未被直径为30μm的大小的点状的透明导电性被膜覆盖的区域的导电性虚设图案区域。另外，在X电极、Y电极重合时的不存在透明导电性被膜的间隙部分形成有以73μm的间距配置有被直径为30μm的大小的点状的透明导电性被膜覆盖的区域的绝缘性虚设图案区域。
将前者的电极部连接的连结部存在导通，具有与电极部同样的导电性，且雾度值为未形成虚设图案的电极列部分的70％。另外，后者的间隙部分不存在导通，具有与电极列的未形成部分同样的高电阻，且雾度值为未形成虚设图案的电极列部分的30％。此外，以与实施例1完全相同的方式制成静电电容方式投影型触控面板用的带透明导电层的薄膜。
然后，与实施例1同样地，使2种带透明导电层的薄膜的透明导电层朝向同一方向(例如朝上)，将一方的电极列部分即透明导电层形成部分在另一方的电极列未形成部分上以互不相同的方式重叠配置，并使它们隔着OCA(光学用粘着片材)重合而进行了贴合。对于形成的透明导电层图案，为了进行静电电容方式投影型触控面板用的带透明导电层的薄膜或触控面板用透明导电膜层叠体的评价，进行了后述的测定。其结果在表1中示出。
(比较例1)
以使线状的X电极、Y电极的电阻值成为与实施例1相同的方式，使X电极的静电元素间连接部(将电极部连接的连结部)的宽度为0.4mm，使Y电极的静电元素间连接部(将电极部连接的连结部)的宽度为0.6mm，在静电元素连接部(连结部)与X电极、Y电极重合时的静电元素间间隙部(电极间间隙部)未形成在实施例1中制造的微小图案，而形成图23、图24的静电电容方式投影型触控面板用的电极图案。
然后，与实施例1同样地，使2种带透明导电层的薄膜的透明导电层朝向同一方向(例如朝上)，将一方的电极列部分在另一方的电极列未形成部分上以互不相同的方式重叠配置，并使它们隔着OCA(光学用粘着片材)重合，经由上述工序而制成触控面板用透明导电膜层叠体。
对于形成的触控面板用的透明导电膜层叠体的透明导电层图案，为了进行静电电容方式投影型触控面板的带透明导电层的薄膜或触控面板用透明导电膜层叠体的评价，进行了后述的测定。其结果在表1中示出。
(比较例2)
与实施例1同样地在透明薄膜基体上形成透明导电层。然后，不进行图案形成而以与实施例1同样的方法涂敷形成保护层。对该无图案的一样的透明导电层使用YAG激光，使导电性极细纤维的一部分断线或消失而切断与其他透明导电性图案的导通，并制造非导电图案部即电极列未形成部分，由此形成比较例2的透明导电层图案。该透明导电层图案的导电性图案部分即电极列部分与非导电性图案部即电极列未形成部分在与其他区域的导通的有无这一电特性方面不同，但其结构、组成上几乎不存在差异。因此，导电性图案部和非导电性图案部基本呈同等的色相、光线透射率、雾度值，因此在视觉方面两部分的几乎未产生区别。
以下，针对在实施例及比较例中制成的触控面板用的图案化的带透明导电层的薄膜及使它们贴合而成的透明导电膜层叠体的透明导电层图案，为了确认作为静电电容方式的触控面板的带透明导电层的薄膜、或触控面板用透明导电层叠体的特性而进行了评价，以下示出评价项目及其测定方法。
〔表面电阻率〕
对利用光学用粘着片材(OCA)进行贴合前的带图案化透明导电层的薄膜和贴合后的透明导电膜层叠体，使用4探针法电阻率计(三菱技术分析社制Roresuta EP)对10cm见方的样品向样品中央部按压4探针测头而测定表面电阻率(Ω/□)。对电极列部分和电极列未形成部分进行测定，此时，在制造触控面板用图案时，使用同时形成的评价用的面积更大的测定用图案。从该测定用图案的不同的部位各选定5处，对10cm见方的涂膜样品进行采样并进行测定，且取得平均值。
〔触控面板用透明导电层图案的电阻值测定〕
对利用光学用粘着片材(OCA)进行贴合前的带图案化透明导电层的薄膜和贴合后的透明导电膜层叠体，在各自的透明导电图案的两末端电阻测定部设置检测器而测定电阻。另外，还测定相邻的透明导电图案间的电阻。
在本发明中使用的触控面板用的透明导电层图案中，如图23及图24所示，金刚石图案沿X轴方向或Y轴方向连结，且相邻的图案的连结彼此绝缘。在图案的连结的两端形成有配线用的端子的图案。若图案的连结在中途断线，则在两端的端子进行测定时，无法得到适当的电阻值。进而，若相邻的图案的连结彼此在中途短路，则相邻彼此的端子无法良好地绝缘。因此，通过对图案的连结的两端的端子和相邻的端子的电阻进行测定，从而能够确认是否良好地进行了透明导电层的图案化。选定5个中央部不同的触控面板图案，对两端的端子和相邻的端子各1处，各计5处进行测定，并取得平均值。
〔光学特性(全光线透射率、雾度)的测定〕
对利用光学用粘着片材(OCA)进行贴合前的带图案化透明导电层的薄膜和贴合后的透明导电膜层叠体进行了全光线透射率、雾度值的测定。
测定使用积分球式全光线透射率测定机(日本电色工业社制NDH-2000)测定了全光线透射率(Tt){以JIS K-7361为基准，NDH-2000测定方法1}和雾度(模糊度)(Hz){以JIS K-7136为基准，NDH-2000测定方法3}。此外，对于透明导电层形成前的基体薄膜也进行了上述测定。进而，在利用光学用粘着片材而进行的贴合前和贴合后测定未形成有透明导电膜的基体薄膜的部分的雾度值，相对于基体薄膜的部分的雾度值的测定值，分别求出与利用光学用粘着片材进行的贴合前和贴合后的透明导电层的电极部分、将电极部分连接的连结部分及X、Y电极的间隙部分的雾度值的测定值的差。以上测定样品从制造触控面板图案时同时形成的评价用的面积更大的测定用图案的不同的部位，分别在5处对导电层形成部分和导电层剥离部分的样品进行采样，并测定各样品的中央部而取得平均值。
【表1】
Figure BDA00002883915700521
由表1可知，本发明的触控面板用的带图案化透明导电层的薄膜及触控面板用透明导电膜层叠体维持电极列部分的良好的导电性和电极列未形成部分的良好的绝缘性，且在贴合时重合的电极连结部及在X、Y电极间产生的成为间隙部分的区域的雾度值得以调整，在作为静电电容方式的触控面板使用时，能够制造不使所述透明导电层图案可见化且视觉辨认性优越的触控面板。
另外，无需进行蚀刻方式中的清洗过程以及激光图案形成用的特殊装置，能够在形成电极图案的同时形成用于改善视觉辨认性的虚设图案，因此在生产性方面也良好。
【产业上的可利用性】
本发明的带图案化的透明导电层的薄膜中的透明导电层图案可以应用在有机/无机场致发光电极、电磁波屏蔽机构、电子纸用电极、色素增感型太阳能电池用电极、液晶电极等中，尤其无需用于制造的特殊装置，能够在形成电极图案的同时形成改善视觉辨认性用的图案，尤其能够适当地应用于触控面板用的透明电极。
【符号说明】
1丝网面板
2光学用透明粘着剂
3光学用透明PET
4电极部分的导电膜
5间隙部分的绝缘性虚设图案
11(透明导电层形成用)基体
12透明导电层
13(热敏粘接剂负图案形成用)支承体
14热敏粘接剂层
15加热、加压用金属辊
16加热、加压用耐热硅橡胶辊
17图案化的透明导电层
18从热敏粘接剂剥离的透明导电层
19保护层(通过保护用涂料浸渗而将透明导电层在基体上固定化的保护层)
20剥离用基材

Claims (25)

1.一种带透明导电层的基体，其特征在于，
在透明基体上具有通过含有粘结剂树脂及导电性物质的透明导电性被膜而形成有图案的透明导电层，所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域(A)之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有在该区域内被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列。
2.根据权利要求1所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述小区域(C)及/或小区域(D)所形成的二维的排列具有100μm以下的反复周期。
3.根据权利要求1所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述高电阻区域(B)中的未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)具有整个高电阻区域(B)的70％以下的总面积。
4.根据权利要求1所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述导电性物质为纤维状导电性物质。
5.根据权利要求4所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述纤维状导电性物质为纳米线。
6.根据权利要求1所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述透明基体上的图案为电极图案，所述导电性区域(A)是在固定方向上并列且等间隔地延伸的线状的电极列部分(a)，所述高电阻区域(B)是所述电极列之间的电极列未形成部分(b)。
7.根据权利要求6所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述带透明导电层的基体是在直角方向上贴合而用于静电电容结合方式触控面板的制造的带透明导电层的基体，所述电极列部分(a)的各电极列具有等间隔地排列的电极部(a1)和将所述电极部连结的连结部(a2)，在进行所述电极部彼此不重叠且连结部彼此产生重叠的直角方向的重合时，在所述电极列未形成部分(b)中，在该电极列未形成部分(b)彼此的产生重合的区域(b1)形成有具有二维的排列的透明导电层，所述二维的排列是所述小区域(C)及/或小区域(D)所形成的且具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小。
8.根据权利要求7所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
进而，在连结部(a2)中连结部彼此重合的区域也形成有具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的所述二维的排列。
9.根据权利要求7所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述小区域(C)及/或小区域(D)形成有周期为100μm以下的反复图案。
10.根据权利要求9所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述电极列未形成部分(b)彼此产生重合的区域(b1)中的未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)具有所述区域(b1)的70％以下的总面积。
11.根据权利要求7所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述导电性物质为纤维状导电性物质。
12.根据权利要求11所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述纤维状导电性物质为纳米线。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述形成有图案的透明导电层经过含有透明导电性物质的透明导电层用涂料的涂敷工序或印刷工序来制造，所述二维的排列具有在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期，该周期为在涂敷或印刷中使用的版的网点的周期。
14.根据权利要求1至12中任一项所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述图案通过从形成在透明基体上的均匀的透明导电层除去不需要部分而形成。
15.根据权利要求14所述的带透明导电层的基体，其特征在于，
所述形成有图案的透明导电层通过在透明基体的整个面上涂敷形成透明导电性被膜后，使用在基体上具有形成有负图案的粘接剂层的剥离用基材，从所述透明导电层剥离不需要部分而形成，其中，所述负图案相对于所述图案而言为负图案，
所述粘接剂层通过在所述基体上进行涂敷工序或印刷工序而制造，所述负图案具有与所述二维的排列对应且在视觉观察下无法视觉辨认到的微小的周期，所述周期是在所述粘接剂层的涂敷或印刷中使用的版的网点的周期。
16.一种触控面板用透明导电膜层叠体，其特征在于，
在直角方向上贴合有权利要求1至12中任一项所述的带透明导电层的基体。
17.一种触控面板，其特征在于，
具有权利要求16所述的触控面板用透明导电膜层叠体。
18.一种带透明导电层的基体的制造方法，所述带透明导电层的基体在透明基体上具有透明导电层，该透明导电层通过含有粘结剂树脂及导电性物质的透明导电性被膜而形成有图案，所述带透明导电层的基体的制造方法的特征在于，
所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域(A)之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列，使用在一个版中具有用于进行与所述区域(A)对应的印刷的部分和用于进行与所述区域(B)中的具有小区域(C)及小区域(D)的区域对应的印刷的部分的版，通过透明导电层用涂料的涂敷或透明导电层用墨液的印刷而在透明基体上形成所述透明导电层。
19.根据权利要求18所述的带透明导电层的基体的制造方法，其特征在于，
所述透明基体上的图案为电极图案，所述导电性区域(A)是在固定方向上并列且等间隔地延伸的线状的电极列部分(a)，所述高电阻区域(B)是所述电极列之间的电极列未形成部分(b)。
20.根据权利要求19所述的带透明导电层的基体的制造方法，其特征在于，
所述带透明导电层的基体是在直角方向上贴合而用于静电电容结合方式触控面板的制造的带透明导电层的基体，所述电极列部分(a)的各电极列具有等间隔地排列的电极部(a1)和将所述电极部连结的连结部(a2)，在进行所述电极部彼此不重叠且连结部彼此产生重叠的直角方向的重合时，在所述电极列未形成部分(b)中，在该电极列未形成部分(b)彼此的产生重合的区域(b1)形成有具有二维的排列的透明导电层，所述二维的排列是所述小区域(C)及/或小区域(D)所形成的且具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小。
21.根据权利要求20所述的带透明导电层的基体的制造方法，其特征在于，
进而，在连结部(a2)中连结部彼此重合的区域也形成有具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的所述二维的排列，在版中还具有用于进行与该区域对应的印刷的部分。
22.一种带透明导电层的基体的制造方法，所述带透明导电层的基体在透明基体上具有透明导电层，该透明导电层通过含有粘结剂树脂及导电性物质的透明导电性被膜而形成有图案，所述带透明导电层的基体的制造方法的特征在于，
所述透明导电层具有通过透明导电性被膜以同样方式覆盖的导电性区域(A)和该透明导电性区域(A)之间的高电阻区域(B)，所述高电阻区域(B)具有被透明导电性被膜覆盖的小区域(C)及未被透明导电性被膜覆盖的小区域(D)，所述小区域(C)及/或小区域(D)形成具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的二维的排列图案，在透明基体上的整个面上形成透明导电性被膜，使用以负和正与所述透明导电层的图案相反的图案在基体上形成有粘接剂层的剥离用基材，从所述透明导电层剥离不需要部分而形成所述透明导电层，在所述剥离用基材的制造中，使用在一个版上具有用于进行与所述导电性区域(A)以及具有所述小区域(C)及所述小区域(D)的区域的负图案对应的印刷的部分的版，通过涂敷或印刷而在基体上进行粘接剂层的形成。
23.根据权利要求22所述的带透明导电层的基体的制造方法，其特征在于，
进而，在连结部(a2)中连结部彼此重合的区域也形成有具有无法视觉辨认到的微小的周期或大小的所述二维的排列，在版中还具有用于进行与该区域的负图案对应的印刷的部分。
24.根据权利要求18～23中任一项所述的带透明导电层的基体的制造方法，其特征在于，
所述导电性物质为纤维状导电性物质。
25.根据权利要求24所述的带透明导电层的基体的制造方法，其特征在于，
所述纤维状导电性物质为纳米线。
CN2011800427374A 2010-07-05 2011-07-04 带透明导电层的基体及其制造方法、以及触控面板用透明导电膜层叠体、触控面板 Pending CN103080876A (zh)

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Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104331205A (zh) * 2014-11-25 2015-02-04 上海天马微电子有限公司 触控显示装置和电子设备
CN104345964A (zh) * 2013-07-25 2015-02-11 三星显示有限公司 触摸屏面板、平板显示设备及其制造方法
EP2919100A1 (en) * 2014-03-10 2015-09-16 LG Electronics, Inc. Conductive film and touch panel including the same
CN104951155A (zh) * 2014-03-31 2015-09-30 宸盛光电有限公司 电容式触控装置及其制作方法
CN104951156A (zh) * 2014-03-31 2015-09-30 宸盛光电有限公司 电容式触控装置
CN106608122A (zh) * 2015-10-21 2017-05-03 日本航空电子工业株式会社 采用柔性版印刷的绝缘膜的形成方法及柔性版印刷版
CN107003763A (zh) * 2014-11-20 2017-08-01 东友精细化工有限公司 薄膜触摸传感器及其制造方法
CN107003776A (zh) * 2014-12-12 2017-08-01 东友精细化工有限公司 薄膜触摸传感器及其制备方法
CN107250960A (zh) * 2015-02-24 2017-10-13 夏普株式会社 具有触控传感器的显示装置
US9811222B2 (en) 2014-07-17 2017-11-07 Industrial Technology Research Institute Sensing structure
US10031612B2 (en) 2013-10-09 2018-07-24 Noritake Co., Limited Capacitive touch switch panel
CN108829289A (zh) * 2018-06-30 2018-11-16 云谷（固安）科技有限公司 导电叠层结构及其制备方法、触控屏
CN109554135A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 东友精细化工有限公司 包含金属纳米线的透明导电性粘接剂膜及其制造方法
CN109976591A (zh) * 2017-12-28 2019-07-05 盈天实业(深圳)有限公司 触控传感器及其制备方法和应用
CN110415865A (zh) * 2019-07-29 2019-11-05 北京华纳高科科技有限公司 一种光学一致透明导电薄膜及其制备方法
CN110618761A (zh) * 2018-06-20 2019-12-27 夏普株式会社 位置输入装置和带位置输入功能的显示装置
CN110770687A (zh) * 2017-06-22 2020-02-07 卡纳图有限公司 透明导电膜
CN110808263A (zh) * 2018-08-06 2020-02-18 云谷（固安）科技有限公司 显示面板、显示屏及显示终端
US10782815B1 (en) * 2019-03-12 2020-09-22 Samsung Display Co., Ltd. Electronic panel
CN112908520A (zh) * 2018-10-30 2021-06-04 苏州诺菲纳米科技有限公司 银纳米线的蚀刻方法、透明导电电极及其制备方法

Families Citing this family (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009150546A2 (en) * 2008-06-10 2009-12-17 Johnson Controls Technology Company Capacitive switch sensors on decorative in-mold films background
JP5630616B2 (ja) * 2011-07-22 2014-11-26 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜構造体とその製造方法およびタッチパネル
CN102955628B (zh) * 2011-08-26 2015-12-09 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板的制造方法
DE102011111506B4 (de) * 2011-08-31 2017-05-18 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Kunststofffolie und Touchsensor
JP5868642B2 (ja) * 2011-09-15 2016-02-24 恵和株式会社 光学シート、液晶表示装置用バックライトユニット及び光学シートの製造方法
US8903679B2 (en) 2011-09-23 2014-12-02 Cypress Semiconductor Corporation Accuracy in a capacitive sense array
US9612265B1 (en) 2011-09-23 2017-04-04 Cypress Semiconductor Corporation Methods and apparatus to detect a conductive object
CN103123547A (zh) * 2011-11-16 2013-05-29 宸鸿科技(厦门)有限公司 光学面板的堆叠结构及其制造方法
JP5875484B2 (ja) * 2011-12-22 2016-03-02 富士フイルム株式会社 導電シート及びタッチパネル
KR20130078665A (ko) * 2011-12-30 2013-07-10 삼성디스플레이 주식회사 패턴 인식 입력 방식의 표시 장치
JP6047994B2 (ja) * 2012-01-24 2016-12-21 デクセリアルズ株式会社 透明導電性素子およびその製造方法、入力装置、電子機器、ならびに透明導電層の加工方法
JP2013175152A (ja) * 2012-01-24 2013-09-05 Dexerials Corp 透明導電性素子およびその製造方法、入力装置、電子機器、ならびに薄膜のパターニング方法
CN103246410B (zh) * 2012-02-10 2016-04-06 瀚宇彩晶股份有限公司 触控面板的制造方法
JP5865851B2 (ja) 2012-03-23 2016-02-17 富士フイルム株式会社 導電性部材の製造方法、導電性部材、それを用いたタッチパネル
KR101751588B1 (ko) * 2012-04-04 2017-06-27 히타치가세이가부시끼가이샤 도전 패턴의 형성 방법 및 도전 패턴 기판
CN102662552A (zh) * 2012-04-11 2012-09-12 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 电阻式触摸面板及具有该电阻式触摸面板的电子装置
KR20130119045A (ko) * 2012-04-23 2013-10-31 삼성전자주식회사 터치 패널 및 그의 제조 방법
KR101477340B1 (ko) 2012-05-07 2014-12-30 주식회사 엘지화학 잉크젯 프린팅법에 의해 형성된 투명 전도성 고분자 전극, 이를 포함하는 표시장치 및 그 제조방법
KR101542043B1 (ko) * 2012-06-27 2015-08-06 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
CN102841717B (zh) * 2012-08-31 2015-04-01 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式触摸屏及其制造方法
JPWO2014098158A1 (ja) * 2012-12-19 2017-01-12 株式会社クラレ 膜形成方法、導電膜、及び絶縁膜
CN103187118B (zh) * 2013-02-06 2015-02-18 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜、导电膜的制造方法及其触摸屏
US8970796B2 (en) 2013-04-26 2015-03-03 Cypress Semiconductor Corporation Field-line repeater (FLR) structure of a sense array
EP3016742A4 (en) 2013-07-05 2017-09-06 Nitto Denko Corporation Photocatalyst sheet
CN105453001B (zh) 2013-07-31 2018-10-16 3M创新有限公司 将电子部件粘结到图案化纳米线透明导体
TWI518756B (zh) 2013-08-16 2016-01-21 財團法人工業技術研究院 圖案化的導電薄膜及其製造方法與應用
US9495050B1 (en) 2013-09-10 2016-11-15 Monterey Research, Llc Sensor pattern with signal-spreading electrodes
US8872526B1 (en) 2013-09-10 2014-10-28 Cypress Semiconductor Corporation Interleaving sense elements of a capacitive-sense array
US20150268756A1 (en) * 2013-09-11 2015-09-24 Ronald Steven Cok Multi-area micro-wire structure
US9759846B2 (en) * 2013-09-27 2017-09-12 Cam Holding Corporation Silver nanostructure-based optical stacks and touch sensors with UV protection
KR102211863B1 (ko) * 2013-10-15 2021-02-04 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 터치 패널의 제조 방법
KR20160058745A (ko) * 2013-10-16 2016-05-25 히타치가세이가부시끼가이샤 도전성 섬유를 포함하는 적층체, 감광성 도전 필름, 도전 패턴의 제조 방법, 도전 패턴 기판, 및 터치 패널
JP5910605B2 (ja) * 2013-10-22 2016-04-27 株式会社村田製作所 グラビア印刷版およびその製造方法、グラビア印刷機、ならびに積層セラミック電子部品の製造方法
JP6278388B2 (ja) * 2013-11-13 2018-02-14 Ｎｉｓｓｈａ株式会社 タッチセンサおよびその製造方法
JP6316317B2 (ja) * 2013-12-26 2018-04-25 阪本 順 積層体の製造方法、及び積層体の製造装置
KR101849149B1 (ko) * 2014-01-16 2018-04-16 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 광투과성 도전재료
JP6466070B2 (ja) 2014-03-05 2019-02-06 株式会社東芝 透明導電体およびこれを用いたデバイス
WO2015152870A1 (en) * 2014-03-31 2015-10-08 Hewlett-Packard Development Company, L. P. Process image data
CN104978058B (zh) * 2014-04-04 2019-05-07 宝宸（厦门）光学科技有限公司 电路元件及其制造方法
US11343911B1 (en) 2014-04-11 2022-05-24 C3 Nano, Inc. Formable transparent conductive films with metal nanowires
CN105204674B (zh) * 2014-06-12 2019-01-22 宸鸿科技(厦门)有限公司 一种触控显示模组
CN105224150B (zh) * 2014-06-12 2019-03-01 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板
JP6457255B2 (ja) * 2014-12-10 2019-01-23 デクセリアルズ株式会社 接続体の検査方法、接続体、導電性粒子、異方性導電接着剤及び接続体の製造方法
TWI564761B (zh) * 2015-01-16 2017-01-01 友達光電股份有限公司 觸控電極層
CN104777930B (zh) * 2015-02-09 2017-12-08 合肥鑫晟光电科技有限公司 Ogs触摸屏及其制造方法、ogs触摸装置
TWI564762B (zh) * 2015-04-22 2017-01-01 恆顥科技股份有限公司 觸控薄膜疊層卷的製作方法與所製得之觸控薄膜疊層片
CN104765181A (zh) * 2015-05-06 2015-07-08 京东方科技集团股份有限公司 触控显示面板及其制备方法、触控显示装置
JP6388558B2 (ja) * 2015-05-29 2018-09-12 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、タッチパネルセンサー、および、タッチパネル
CN105138201A (zh) * 2015-09-08 2015-12-09 昆山龙腾光电有限公司 电容式触控显示面板
GB201613051D0 (en) 2016-07-28 2016-09-14 Landa Labs (2012) Ltd Applying an electrical conductor to a substrate
AU2019200607B2 (en) * 2016-07-28 2019-10-10 Lumet Technologies Ltd. Apparatus for application of a conductive pattern to a substrate
KR102517515B1 (ko) * 2016-07-29 2023-04-04 삼성전자주식회사 입력 감지 패널을 구비한 전자 장치
KR102586280B1 (ko) * 2016-08-30 2023-10-10 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 이를 포함하는 표시 장치
KR102089340B1 (ko) 2016-08-31 2020-03-16 엘지디스플레이 주식회사 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
EP3690622A1 (en) 2016-12-02 2020-08-05 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, method of manufacturing the same, and capacitive sensor that uses transparent electrode member
WO2019016754A1 (en) * 2017-07-21 2019-01-24 3M Innovative Properties Company FLEXIBLE CONDUCTIVE DISPLAY FILM
DE102018101168A1 (de) * 2018-01-19 2019-07-25 Dr. Ing. H.C. F. Porsche Aktiengesellschaft Benutzerschnittstelle für eine Ladesäule
TWI698784B (zh) * 2018-03-14 2020-07-11 日商阿爾卑斯阿爾派股份有限公司 透明電極構件、層積透明電極構件及靜電電容式感測器
US11216140B2 (en) 2019-04-16 2022-01-04 Elo Touch Solutions, Inc. PCAP touchscreens with varying ITO dicing patterns
KR102387063B1 (ko) 2019-05-31 2022-04-15 쇼와 덴코 가부시키가이샤 투명 도전 필름의 제조 방법
US11169645B2 (en) * 2019-12-05 2021-11-09 Young Fast Optoelectronics Co., Ltd. Method for forming auxiliary conductive unit on transparent electrode of touch sensor and product thereof
JP6855648B1 (ja) * 2019-12-27 2021-04-07 昭和電工株式会社 透明導電フィルムの製造方法
WO2021131099A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 昭和電工株式会社 透明導電フィルムの製造方法
CN115605831A (zh) * 2020-06-03 2023-01-13 谷歌有限责任公司（Us） 校正触摸输入
US20220301739A1 (en) * 2021-03-16 2022-09-22 Cambrios Film Solutions Corporation Optically consistent transparent conductor and manufacturing method thereof
TWI795005B (zh) * 2021-09-30 2023-03-01 大陸商宸美（廈門）光電有限公司 觸控面板及其製造方法
CN114286498B (zh) * 2021-12-06 2024-04-02 广东高仕电研科技有限公司 一种pcb板的制备方法及pcb板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101292362A (zh) * 2005-08-12 2008-10-22 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体
CN101520708A (zh) * 2008-02-27 2009-09-02 株式会社日立显示器 显示面板
CN101609384A (zh) * 2008-06-18 2009-12-23 爱普生映像元器件有限公司 静电电容式输入装置以及带输入功能的显示装置
JP2010009456A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Micro Gijutsu Kenkyusho:Kk 静電容量型タッチパネル
JP2010146283A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Toshiba Mobile Display Co Ltd 静電容量式タッチパネルの製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0228712B1 (en) * 1986-01-06 1995-08-09 Sel Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Photoelectric conversion device with a high response speed and method for manufacturing the same
US7030860B1 (en) 1999-10-08 2006-04-18 Synaptics Incorporated Flexible transparent touch sensing system for electronic devices
JP2001282139A (ja) * 2000-01-27 2001-10-12 Sharp Corp アクティブマトリックス基板およびその製造方法、並びに、液晶表示装置
JP3994156B2 (ja) 2003-01-27 2007-10-17 独立行政法人産業技術総合研究所 金属ナノワイヤ製造法及び金属ナノワイヤ製造用前駆体
US20060022910A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Takuro Sekiya Multifunction display device
US8603611B2 (en) 2005-05-26 2013-12-10 Gunze Limited Transparent planar body and transparent touch switch
JP2008290354A (ja) 2007-05-25 2008-12-04 Panasonic Corp 導電シート及びその製造方法
WO2009054273A1 (ja) * 2007-10-26 2009-04-30 Konica Minolta Holdings, Inc. 透明導電性フィルム及びその製造方法
JP5289859B2 (ja) 2008-08-13 2013-09-11 日本写真印刷株式会社 導電性パターン被覆体の製造方法および導電性パターン被覆体
JP5305807B2 (ja) * 2008-09-25 2013-10-02 グンゼ株式会社 透明面状体及び透明タッチスイッチ
JP5259368B2 (ja) 2008-12-15 2013-08-07 日本写真印刷株式会社 導電性ナノファイバーシート及びその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101292362A (zh) * 2005-08-12 2008-10-22 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体
CN101520708A (zh) * 2008-02-27 2009-09-02 株式会社日立显示器 显示面板
CN101609384A (zh) * 2008-06-18 2009-12-23 爱普生映像元器件有限公司 静电电容式输入装置以及带输入功能的显示装置
JP2010009456A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Micro Gijutsu Kenkyusho:Kk 静電容量型タッチパネル
JP2010146283A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Toshiba Mobile Display Co Ltd 静電容量式タッチパネルの製造方法

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104345964A (zh) * 2013-07-25 2015-02-11 三星显示有限公司 触摸屏面板、平板显示设备及其制造方法
CN104345964B (zh) * 2013-07-25 2019-02-01 三星显示有限公司 触摸屏面板、平板显示设备及其制造方法
US10031612B2 (en) 2013-10-09 2018-07-24 Noritake Co., Limited Capacitive touch switch panel
EP2919100A1 (en) * 2014-03-10 2015-09-16 LG Electronics, Inc. Conductive film and touch panel including the same
US10949002B2 (en) 2014-03-10 2021-03-16 Lg Electronics Inc. Conductive film and touch panel including the same
CN104951156A (zh) * 2014-03-31 2015-09-30 宸盛光电有限公司 电容式触控装置
CN109828700B (zh) * 2014-03-31 2023-05-23 宸盛光电有限公司 电容式触控装置及其制作方法
CN110045862A (zh) * 2014-03-31 2019-07-23 宸盛光电有限公司 电容式触控装置及其制作方法
CN104951155A (zh) * 2014-03-31 2015-09-30 宸盛光电有限公司 电容式触控装置及其制作方法
CN104951155B (zh) * 2014-03-31 2019-05-17 宸盛光电有限公司 电容式触控装置及其制作方法
CN109828700A (zh) * 2014-03-31 2019-05-31 宸盛光电有限公司 电容式触控装置及其制作方法
US9811222B2 (en) 2014-07-17 2017-11-07 Industrial Technology Research Institute Sensing structure
CN107003763A (zh) * 2014-11-20 2017-08-01 东友精细化工有限公司 薄膜触摸传感器及其制造方法
US11609668B2 (en) 2014-11-20 2023-03-21 Dongwoo Fine-Chem Co.. Ltd. Film touch sensor and manufacturing method therefor
US11216131B2 (en) 2014-11-20 2022-01-04 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. Film touch sensor and manufacturing method therefor
CN104331205A (zh) * 2014-11-25 2015-02-04 上海天马微电子有限公司 触控显示装置和电子设备
US10338709B2 (en) 2014-11-25 2019-07-02 Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. Touch display device with inconspicuous transparent electrodes and electronic apparatus
US10705659B2 (en) 2014-12-12 2020-07-07 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. Film touch sensor and method of preparing the same
CN107003776A (zh) * 2014-12-12 2017-08-01 东友精细化工有限公司 薄膜触摸传感器及其制备方法
CN107250960A (zh) * 2015-02-24 2017-10-13 夏普株式会社 具有触控传感器的显示装置
US10675902B2 (en) 2015-10-21 2020-06-09 Japan Aviation Electronics Industry, Limited Insulator film formation method by flexographic printing and flexographic printing plate
CN106608122A (zh) * 2015-10-21 2017-05-03 日本航空电子工业株式会社 采用柔性版印刷的绝缘膜的形成方法及柔性版印刷版
CN110770687A (zh) * 2017-06-22 2020-02-07 卡纳图有限公司 透明导电膜
CN109554135A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 东友精细化工有限公司 包含金属纳米线的透明导电性粘接剂膜及其制造方法
CN109554135B (zh) * 2017-09-26 2021-05-18 东友精细化工有限公司 包含金属纳米线的透明导电性粘接剂膜及其制造方法
CN109976591B (zh) * 2017-12-28 2022-11-18 盈天实业(深圳)有限公司 触控传感器及其制备方法和应用
CN109976591A (zh) * 2017-12-28 2019-07-05 盈天实业(深圳)有限公司 触控传感器及其制备方法和应用
CN110618761B (zh) * 2018-06-20 2023-06-27 夏普株式会社 位置输入装置和带位置输入功能的显示装置
CN110618761A (zh) * 2018-06-20 2019-12-27 夏普株式会社 位置输入装置和带位置输入功能的显示装置
CN108829289A (zh) * 2018-06-30 2018-11-16 云谷（固安）科技有限公司 导电叠层结构及其制备方法、触控屏
CN110808263A (zh) * 2018-08-06 2020-02-18 云谷（固安）科技有限公司 显示面板、显示屏及显示终端
US11335765B2 (en) 2018-08-06 2022-05-17 Yungu (Gu'an) Technology Co., Ltd. Display panels, display screens, and display terminals
CN112908520A (zh) * 2018-10-30 2021-06-04 苏州诺菲纳米科技有限公司 银纳米线的蚀刻方法、透明导电电极及其制备方法
US10782815B1 (en) * 2019-03-12 2020-09-22 Samsung Display Co., Ltd. Electronic panel
CN110415865A (zh) * 2019-07-29 2019-11-05 北京华纳高科科技有限公司 一种光学一致透明导电薄膜及其制备方法

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