CN102270560A - 液处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供液处理装置，从处理液供给部(7)对基板(W)的表面供给涂布液(R)，使之向基板表面喷出以进行液处理，该液处理装置包括：形成处理液的流路(10e)的喷嘴(10)；对从喷嘴的前端部(10d)到基板表面W1间的区域照射光L的光源(110)；对喷嘴与基板表面间的区域进行摄影的摄影部(17)；输出用于从喷嘴向基板喷出处理液的喷出信号，并使摄影部开始摄影的控制部(9a)；和判定部(9b)，在光入射到向着基板喷出的处理液中而在处理液反射时的光的明暗被摄影后，基于该摄影结果进行识别，由此判定有无处理液从喷嘴喷出和从喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。

Description

液处理装置

技术领域

本发明涉及利用处理液喷嘴对例如半导体晶片或液晶显示器用的玻璃基板(LCD基板)等基板喷出抗蚀剂液或显影液等处理液的液处理装置。

背景技术

一般来说，半导体器件或LCD基板的制造工艺之一的在基板上形成抗蚀剂图案的工序，由在基板——例如半导体晶片(以下称为晶片)上形成抗蚀剂膜，在使用光掩膜对该抗蚀剂膜进行曝光后进行显影处理，由此获得所需要的图案的一连串的工序进行，这些一连串的工序一直以来由涂布、显影装置进行。

该涂布、显影装置具有进行抗蚀剂液的涂布的涂布单元、对曝光后的晶片涂布显影液的显影单元等液处理装置，为确保高吞吐量，采用这些涂布单元和显影单元等各具有多个的结构。

例如，在涂布抗蚀剂液作为涂布液的涂布单元中，以包围作为基板保持部的旋转卡盘的周围的方式设置有杯体，通过对保持于该旋转卡盘的晶片的大致中央供给抗蚀剂液并使旋转卡盘旋转，来进行抗蚀剂液的旋转涂布或甩干，进而进行侧冲洗(side rinse)等处理。

作为该涂布液使用的抗蚀剂液大多较为昂贵，需要削减其使用量。例如，在300mm基板的整面涂布处理中的使用量要求在1cc以下，由于喷出的时间短而且喷出量少，所以难以使用流量计来进行测量。另外，近年来涂布、显影装置采用了省空间的结构，纵方向上的层叠化得到发展，用于维护的空间变窄，难以进行肉眼确认。在这种要求和涂布环境中，在应当对处理基板喷出的抗蚀剂液没有喷出的情况下，或涂布液的喷出状态不正常的情况下，若其发现得较迟，则可能会引起大量的不良处理和缺陷处理。

已知有设想这种情况，从LED灯等光源用照明光照射喷嘴前端部，利用照相机摄影喷嘴前端部获取摄影信息，并对摄影信息进行分析以判断涂布液的垂滴等不良状态的技术(参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2008-135679号公报

发明内容

不过，专利文献1中记载的技术，利用照相机对喷嘴前端部的状态进行摄影，并对摄影信息进行分析，所以即使从喷嘴喷出的涂布液的喷出的有无、从喷嘴喷出而供给到基板上的期间的涂布液的喷出状态发生变化——例如发生涂布液中混入气体的气泡现象或涂布液的液柱变细的液柱细化现象，也难以早期发现。

本发明鉴于以上问题完成，其目的在于提供一种液处理装置，能够正确地判定从处理液喷嘴有无处理液喷出和从处理液喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。

为解决上述问题，本发明的液处理装置，对水平地保持于基板保持部的基板的表面，从处理液供给部供给处理液，使之向上述基板的表面喷出以进行液处理，该液处理装置的特征在于，包括：形成从上述处理液供给部供给的上述处理液的流路的处理液喷嘴；对从上述处理液喷嘴的前端部到基板表面间的区域照射光的光源；对上述处理液喷嘴和基板表面间中的至少从上述处理液喷嘴的前端部到上述基板表面间的区域进行摄影的摄影部；输出用于从上述处理液喷嘴向上述基板喷出上述处理液的喷出信号，并使上述摄影部开始摄影的控制部；和判定部，对上述光入射到向着上述基板喷出的处理液中而在上述处理液反射时的光的明暗进行摄影，基于该摄影结果进行识别，由此判定有无上述处理液从上述处理液喷嘴喷出和从上述处理液喷嘴喷出的上述处理液的喷出状态有无变化。

通过采用这样的结构，从光源向从处理液喷嘴的前端部到基板表面间的区域照射光，所以光入射到向着基板喷出的处理液中而在处理液反射，使处理液发光，并由摄影部摄影该光的明暗，判定部基于该摄影结果，识别当光入射到处理液中而在处理液反射时的光的明暗，由此能够判定有无处理液从处理液喷嘴喷出以及从处理液喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化——例如处理液中混入气体的气泡现象、处理液滴落的中断现象、处理液的液柱变细的液柱变细现象——或处理液的喷出时间等。

此外，由于光仅照射从处理液喷嘴的前端部到基板表面间的区域，所以能够抑制光直接照射到处理液喷嘴等发生不必要的光的反射，能够提高摄影部的摄影结果的精度。

在本发明中，上述光源向着基板表面照射上述光，使之在上述基板表面反射后，照射到从上述处理液喷嘴的前端部到上述基板表面间的区域，或者，上述光源向着上述基板表面的从上述处理液喷嘴喷出的上述处理液的喷出位置照射上述光。

通过采用这样的结构，摄影部能够在不捕捉到被基板表面反射的光的情况下摄影光的明暗，所以能够进一步提高摄影结果的精度。

此外，上述摄影部可以设置在与上述光的向上述处理液入射的入射角度相等的反射角方面。

通过采用这样的结构，摄影部能够在被从处理液喷嘴喷出的处理液反射的光中光强度最高的反射光的光路上进行摄影，能够进一步提高摄影结果的精度。

此外，上述处理液喷嘴由透光性部件形成的筒状体形成，上述摄影部形成为能够摄影被上述处理液喷嘴的流路内的上述处理液反射的光的明暗。

通过采用这样的结构，摄影部能够摄影被处理液喷嘴的流路内的处理液反射的光的明暗，判定部能够不仅基于从处理液喷嘴的前端部到基板表面间的区域的摄影结果，还基于处理液喷嘴的流路内的摄影结果来进行判定，所以能够更正确地判定有无处理液从处理液喷嘴喷出以及从处理液喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。

在本发明中，还具备存储部，用于存储作为判定有无上述处理液从上述处理液喷嘴喷出和从上述处理液喷嘴喷出的上述处理液的喷出状态有无变化的基准的基准信息，上述判定部，可以基于对上述摄影结果与上述基准信息的光的明暗进行比较的结果，判定有无上述处理液从上述处理液喷嘴喷出和从上述处理液喷嘴喷出的上述处理液的喷出状态有无变化。而上述基准信息，可以是在上述处理液从上述处理液喷嘴喷出的动作正常动作时由上述摄影部摄影的摄影结果。

通过采用这样的结构，判定部能够更正确地判定有无处理液从处理液喷嘴喷出和从处理液喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。

此外，在本发明中，还具备在保持于上述基板保持部的基板的上方搬送上述处理液喷嘴的喷嘴搬送机构，在上述喷嘴搬送机构，多个上述处理液喷嘴并排配置在直线上，从配置在直线的侧方方面的一个光源，对从所有的上述处理液喷嘴的前端部到上述基板表面间的区域线状地照射上述光，或者，也可以从在与直线平行的直线上按每个上述处理液喷嘴配置的光源照射上述光。

此外，在本发明中，上述光源中位于对称位置的第一光源和第二光源，可以以上述处理液喷嘴为垂直轴，分别设置在与上述摄影部的水平方向上的角度为120度～160度的位置上。

这种情况下，当将第一光源和第二光源设置在与摄影部的水平方向上的角度小于120度的角度的位置上时，处理液的侧部的光的明暗变得不鲜明，不能够使处理液的侧部显眼。而当将第一光源和第二光源设置在与摄影部的水平方向上的角度大于160度的角度的位置上时，从向基板喷出的处理液的侧部前往摄影部的反射光和折射光的光强度较低，不能够使处理液的侧部显眼。

因此，通过采用上述结构，从设置在两侧的第一光源和第二光源向着处理液喷嘴方向照射光，能够使从向着基板喷出的处理液的侧部前往摄影部的反射光和折射光的光强度变高，使处理液的侧部的光的明暗鲜明，使处理液的侧部稳定地显眼，所以能够提高摄影精度。

另外，本发明中，上述光源设置在隔着上述处理液喷嘴与上述摄影部相对的一侧，进一步，在隔着上述处理液喷嘴与上述光源相对的一侧还可以设置辅助光源。

通过采用这样的结构，由于能够使向着基板喷出的摄影部侧的处理液的表面稳定地显眼，使光的明暗鲜明，所以能够提高摄影结果的精度。

此外，本发明中，上述处理液喷嘴由透光性部件形成的筒状体形成，上述摄影部优选形成为能够摄影被上述处理液喷嘴的流路内的上述处理液反射的光的明暗。

通过采用这样的结构，摄影部能够摄影被处理液喷嘴的流路内的处理液反射的光的明暗，判定部能够不仅基于从处理液喷嘴的前端部到基板表面间的区域的摄影结果，还基于处理液喷嘴的流路内的摄影结果来进行判定，所以能够更正确地判定有无处理液从处理液喷嘴喷出以及从处理液喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。

此外，在本发明中，上述光源还对上述处理液喷嘴照射光，上述判定部可以通过基于对上述处理液喷嘴的流路内的光的明暗摄影的摄影结果进行识别，来判定上述处理液喷嘴的流路内的处理液的液面有无变化。

通过采用这样的结构，能够判定处理液喷嘴的流路内的处理液的液面有无变化，例如在处理液喷嘴的流路内待机的处理液从规定的液面位置上升或下降，并进一步判定液面的形状有无变化。此处，规定的液面位置是指，在处理液没有从处理液喷嘴的前端部喷出的状态下，处理液喷嘴的流路内预先设定的回吸的处理液的液面待机的位置。

另外，在本发明中，上述光源设置在上述处理液喷嘴的流路内的上述处理液的规定的液面位置的上方，并且，上述光源与上述摄影部相对于位于上述液面位置的液面所呈的垂直方向上的角度设置在120度～160度的位置。

这种情况下，当相对于位于液面位置的液面，将光源与摄影部所成的垂直方向上的角度设置为小于120度的角度的位置上时，从处理液的液面前往摄影部的反射光和折射光的光强度低，不能够使处理液的液面显眼。而当相对于位于液面位置的液面，将光源与摄影部所成的垂直方向上的角度设置为大于160度的角度的位置上时，处理液的液面的光的明暗变得不鲜明，不能够使处理液的液面显眼。

因此，通过采用上述结构，能够向处理液的液面照射直接照射到处理液喷嘴的流路内的涂布液的液面的光和在基板上反射后照射到液面的光，提高从处理液的液面前往摄影部的反射光和折射光的光强度，使处理液的液面的光的明暗鲜明，从而使处理液的液面稳定地显眼，所以能够提高摄影结果的精度。

根据本发明的液处理装置，能够更正确地判定有无处理液从处理液喷嘴喷出以及从处理液喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。

附图说明

图1是表示应用了本发明的第一实施方式的液处理装置的涂布单元的俯视图(a)和纵截面图(b)。

图2是表示上述涂布单元内的液处理部和供给涂布液的供给单元的概要截面图。

图3是表示本发明的第一实施方式的处理液喷嘴移动到基板的上方的状态的侧视图(a)，和表示从处理液喷嘴喷出涂布液的状态的侧视图(b)以及(b)的I部的放大截面图(c)。

图4是表示上述涂布单元的电结构的框图。

图5是表示从一个光源向多个喷嘴照射光的状态的概要俯视图(a)，和表示对多个喷嘴按每个喷嘴设置光源并从各光源照射光的状态的概要俯视图(b)。

图6是用于说明判定部进行判定的流程图。

图7是表示本发明的第一实施方式中利用照相机摄影的正常的停止动作的摄影图(a)，表示涂布液的正常的喷出动作的摄影图(b)，发生中断、气泡时的摄影图(c)，发生液柱前端变细时的摄影图(d)。

图8是表示从光源向涂布液的喷出位置照射光的状态的概要截面图。

图9是表示将照相机设置在与被涂布液反射的光的入射角相等的反射角一侧的状态的概要截面图。

图10是表示本发明的第二实施方式的处理液喷嘴移动到基板的上方的状态的概要侧视图。

图11是表示本发明的第二实施方式的处理液喷嘴移动到基板的上方的状态的概要平面截面图。

图12是表示本发明的第二实施方式中利用照相机摄影的正常的停止动作的摄影图(a)，表示涂布液的正常的喷出动作的摄影图(b)和发生液柱前端变细时的摄影图(c)。

图13是表示本发明的第二实施方式中利用照相机摄影的正常的停止动作的摄影图(a)，发生液面上升时的摄影图(b)和发生液面下降时的摄影图(c)。

图14是表示本发明的其他实施方式的处理液喷嘴移动到基板的上方的状态的概要侧视图。

图15是表示按照以处理液喷嘴为垂直轴的光源与摄影部的水平方向上的角度从90度按每10度变化到180度的方式，将光源移动，每次移动时摄影部进行摄影的实验例的概要平面截面图。

图16是表示图15所示的实验例的摄影结果的照片。

图17是表示按照光源与摄影部相对于位于液面位置的液面所成的垂直方向上的角度从90度按每10度变化到180度的方式，将光源移动，每次移动时摄影部进行摄影的实验例的概要侧视图。

图18是表示图17所示的实验例的摄影结果的照片。

图19是表示应用了上述涂布单元的涂布、显影装置的实施方式的概要俯视图。

图20是上述涂布、显影装置的概要立体图。

图21是上述涂布、显影装置的概要纵截面图。

附图标记说明

L、La     激光(光)

I         红外光(光)

P         液面位置

T         喷出位置

T1        照射位置

R         涂布液(处理液)

R1        液柱

R2        液面

V0～V3，Y0～Y4  明亮度(光的明暗)

W     晶片

W1    晶片表面

1     涂布单元

7     供给单元(处理液供给部)

8     显示操作部

9     控制单元

9a    控制部

9b    判定部

10      喷嘴(处理液喷嘴)

10c     筒状部(筒状体)

10d     前端部

10e     流路

11      喷嘴臂

11a     喷嘴头部

11b     臂部

17、17A 照相机(摄影部)

20      喷嘴搬送机构

41      旋转卡盘(基板保持部)

90、90a 中央运算处理装置

91、94  程序存储部

95      存储部

110、110a 激光光源(光源)

111、111a、111b、111c  红外照明(光源)

112 辅助光源

具体实施方式

<第一实施方式>

下面说明将本发明的第一实施方式的液处理装置，应用于对基板(以下称晶片W)涂布作为处理液的抗蚀剂液和用于使抗蚀剂液易于扩散的稀释剂(以下将这些统称为涂布液R)的涂布单元的实施方式。首先说明本实施方式的涂布单元的结构的概要。

如图1所示，本实施方式的涂布单元1包括：在箱状的壳体30内沿横向方向(图中的Y方向)排列成一列的三个液处理部2a、2b和2c；向这些液处理部2a、2b和2c供给抗蚀剂液或稀释剂等涂布液R的多根处理液喷嘴10(以下称喷嘴10)；用于搬送该喷嘴10的喷嘴搬送机构20；使喷嘴10待机的喷嘴槽14(nozzle bath)；和用于除去涂布于晶片W的抗蚀剂膜的周缘部的晶边清洗(Edge Bead Remover：EBR)机构6。

液处理部2a、2b和2c具有共通的结构，包括作为基板保持部的旋转卡盘41和以将保持于该旋转卡盘41的晶片包围的方式设置的杯体5。以下对液处理部2a、2b和2c(以下用符号2作代表)的结构进行说明。

旋转卡盘41起到吸引住晶片W的背面侧中央部以将该晶片W保持为水平的基板保持部的作用。如图2所示，旋转卡盘41通过轴部42与驱动机构(旋转卡盘电动机)43连结，能在保持晶片W的状态下自由旋转和升降。与升降机构44a连结的升降销44支承着晶片W的背面以能够升降的方式设置在旋转卡盘41的侧方，通过与后述的搬送部件(搬送臂A3)的协作作用，能够进行从壳体30的外部搬入的晶片W的交接。另外，图1(b)所示的30a是在面对搬送部件的壳体30壁面上形成的晶片W的搬入搬出口。

杯体5的作用在于，抑制旋转涂布等时因使晶片W旋转而飞散的细雾在壳体30内飞溅，并将飞溅的细雾排出到涂布单元1之外。杯体5如图2所示，设置有倾斜的环状的第一环部件51和第二环部件52，这二个环部件51、52间的间隙，成为包含从晶片W飞散的细雾的气体所流通的气体流路51a。从晶片W飞溅的液体被引导至形成于气体流路51a的受液部54，从排水口56排出。另一方面，在气体流路51a中流通的气体从排气口55经由未图示的排气管道排出到壳体30外。

接着对喷嘴10及其喷嘴搬送机构20的结构进行说明。喷嘴10起到对保持于旋转卡盘41的晶片W的表面供给(喷出)涂布液R的作用。本实施方式的涂布单元1具有11根喷嘴10，以能够供给例如浓度和成分不同的10种抗蚀剂液和用于使抗蚀剂液易于在晶片W上扩散的稀释剂(参照图5)。另外，图1(a)和图2中为了图示的方便，喷嘴10的根数以省略的方式加以显示。另外，在本实施方式中，为了供给10种抗蚀剂液和稀释剂，具有11根喷嘴10，但若任意的液处理装置中喷出的处理液为1种，则也可以为一根喷嘴。

如图1(a)所示，喷嘴搬送机构20包括：保持喷嘴10的喷嘴臂11、支承该喷嘴臂11的基台12、形成基台12的行进轨道的轨道13和使基台12在轨道13上移动的驱动机构15(参照图4)。

如图3(a)、图5(a)所示，喷嘴臂11包括保持11根喷嘴10的喷嘴头部11a和支承该喷嘴头部11a的臂部11b。在喷嘴头部11a的下表面形成为能够嵌入上述喷嘴10的基部10b的形状，能够通过只插入喷嘴10的基部10b即可保持喷嘴10。其结果，11根喷嘴10以使前端部10d向下的状态排列成一列，且它们的排列方向与图1(a)所示的喷嘴10的搬送方向一致的方式配置。另一方面，喷嘴头部11a的基部侧连接有后述的供给单元7的供给管71，能够经由喷嘴头部11a内部向喷嘴10供给涂布液R。

臂部11b是以能够在保持于旋转卡盘41的晶片W的大致中央部的上方搬送喷嘴10的方式，设置于喷嘴头部11a和基台12之间的支承部件。基台12安装于驱动机构15，通过使基台12在轨道13上移动，能够使喷嘴臂11在图1(b)所示的Y方向上自由地移动。另外，基台12具备未图示的升降机构，臂部11b的基部安装于该升降机构。由此喷嘴臂11能够在Z方向上自由升降。

利用以上的结构，能够使喷嘴10移动到晶片W的大致中央部的上方，从该位置向晶片W供给涂布液R。

EBR机构6的作用是，为了防止涂布于晶片W的抗蚀剂膜的周缘部发生剥落等，向晶片W周缘部供给除去抗蚀剂膜的清洗液。如图1(a)所示，包括：保持喷出清洗液的喷嘴的EBR臂61、使该EBR臂61移动的基台62、形成基台62的行进轨道的轨道63和在不进行清洗液的供给时载置喷嘴10进行待机的EBR喷嘴槽64。

接着参照图2说明对喷嘴10供给涂布液R的供给单元7(处理液供给部)的结构。供给单元7具备与涂布液R的各类对应的数量的涂布液供给机构70，该涂布液供给机构70包含：存积涂布液R的未图示的供给罐、用于向该供给罐供给气体来对其内部加压以向涂布单元1发送供给罐内的涂布液R的未图示的加压部。

涂布液供给机构70，经由用于切换涂布液R的供给和切断的气动阀72和用于在不供给涂布液R时从喷嘴10的前端部吸入涂布液R的回吸阀73，通过供给管71与各喷嘴10连接，能够切换供给10种抗蚀剂液和稀释剂。

另外，如图2所示，涂布单元1和供给单元7与对各设备的动作进行统一控制的控制单元9连接。此外，控制单元9还兼有对具备本实施方式的涂布单元1的涂布、显影装置整体的动作进行统一控制的功能。

对基于以上结构利用涂布单元1对晶片W涂布涂布液R的动作进行简单说明。对于通过外部的搬送机构从三个搬入搬出口30a中的任一个搬入壳体30内的晶片W，由升降销44支承其背面侧，并通过使搬送部件退避到壳体30外来降低升降销44，从而将其交接到与搬入的搬入搬出口30a对应的液处理部2的旋转卡盘41。

然后，使喷嘴搬送机构20动作，将在成为稀释剂气氛的喷嘴槽14上待机的喷嘴10抬起，在图1的Y方向上搬送。接着，当供给稀释剂的喷嘴10到达晶片W的大致中央上方的位置时，停止喷嘴臂11的移动，在该位置使喷嘴臂11下降。之后在静止的晶片W上从喷嘴10供给稀释剂后，移动喷嘴臂11以使该处理中涂布的抗蚀剂液的供给喷嘴10位于晶片W的大致中央上方。与该移动动作并行地进行旋转涂布，即：例如使旋转卡盘41高速旋转，并在该旋转的期间进行向晶片W上喷出抗蚀剂液、停止，以使该抗蚀剂液在晶片W的径向方向上扩展。

接着，使旋转卡盘41低速旋转，使旋转涂布的抗蚀剂膜的膜压均匀，然后通过使其再次高速旋转来进行涂布的抗蚀剂液的甩干。该期间中，喷嘴搬送机构20使喷嘴臂11在与上述路径相反的路径上移动，使完成涂布液R的供给的喷嘴10在喷嘴槽14待机，抑制抗蚀剂液的干燥。

另一方面，对于完成甩干的晶片W，使对应的EBR机构6工作，将涂布在晶片W周缘部的抗蚀剂膜除去。

形成有抗蚀剂膜的晶片W，按照与搬入时相反的顺序交接到搬送部件上，从涂布单元1搬出。如此，按照由涂布、显影装置决定的晶片W的搬送循环，晶片W以例如24秒的间隔依次搬送到各液处理部2，进行同样的处理。

除了以上说明的结构之外，本发明的涂布单元1还包括：对从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射光——例如激光L——的光源，例如激光光源110；对喷嘴10和从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域进行摄影的摄影部，例如CCD照相机等照相机17；输出用于从喷嘴10向晶片W喷出涂布液R的喷出信号，并使照相机17开始摄影的控制部9a；和判定部9b，在光入射到向着晶片W喷出的涂布液R中而在涂布液R反射(包括漫反射，以下相同)时的光的明暗被摄影后，基于该摄影结果进行识别，由此判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。以下说明这些结构。

照相机17如图3(a)所示，通过固定部件固定于喷嘴搬送机构20的喷嘴臂11。为了能够摄影各喷嘴10，该照相机17采用从与保持于喷嘴头部11a的喷嘴10的排列方向大致正交的方位对喷嘴10进行摄影的结构。此外，照相机17具有例如广角透镜，设定成将排列为一列的所有的喷嘴10和从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域收纳到摄影区域中。另外照相机17可以为图像传感器，也可以是CCD之外的C-MOS型。另外，照相机17并不必一定固定于喷嘴臂11。

另外，如图3(a)、(b)所示，在喷嘴头部11a的下表面的喷嘴10与照相机17之间，设置有向从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射激光L的激光光源110。激光光源110例如是半导体激光器，方向性强的激光L能够准确地只照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域。激光光源110具备未图示的角度调节机构，能够调整照射激光L的角度。此外，在本实施方式中照射的是激光L，但也可以将来自LED光源的光会聚起来进行照射。

此外，如图5(a)所示，保持于喷嘴臂11的喷嘴头部11a的11根喷嘴10在直线上并列配置，从安装于喷嘴臂11的一个激光光源110，对从所有的喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域线状地照射激光L。箭头的方向是照射激光L的方向。

如图3(a)～(c)所示，保持于喷嘴臂11的喷嘴头部11a的喷嘴10，是由基部10b和筒状部10c形成的筒状体，能够将基部10b安装于喷嘴臂11的喷嘴头部11a。喷嘴内部形成有涂布液R的流路10e，能够将从喷嘴臂11侧供给的涂布液R从喷嘴10的前端部10d向着晶片W喷出。喷嘴10的筒状部10c由透光性材料形成，例如由石英、或透明的树脂形成。通过采用这样的结构，在喷嘴10的流路10e内的涂布液R中漫反射发光的光能够透过喷嘴10的筒状部10c。

本发明的涂布单元1，从11根喷嘴10供给例如浓度和成分不同的10种抗蚀剂液和用于使抗蚀剂液易于在晶片W上扩散的稀释剂。涂布液R具有随着浓度和成分的不同而不同的固有的反射率，预先测定的各涂布液的反射率作为基准信息存储在存储部95中。

如图2所示，照相机17经由未图示的A/D转换器与控制单元9连接。控制单元9的判定部9b基于由照相机17取得的摄影结果，判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的状态有无变化，并将判定的结果显示在显示操作部8上。以下对这些功能的详细情况进行说明。

控制单元9如图4所示，包括：对包含本实施方式的涂布单元1的涂布、显影装置的整体进行统一控制的控制部9a；和对作为照相机17的摄影结果的图像进行处理，和基于其处理结果判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的状态有无变化的判定部9b。

控制部9a构成为具备中央运算处理装置(CPU)90和程序存储部91的计算机。程序存储部91的作用是，存储用于使照相机17、喷嘴搬送机构20的驱动机构15、涂布液供给机构70、气动阀72、回吸阀73和激光光源110执行涂布处理的计算机程序(表示为“工艺用程序”)。另外，也可以存储：基于由判定部9b独立判定的有无涂布液R喷出等信息，使涂布单元1、供给单元7内的各设备工作，并具备用于执行对于这些现象的应对动作和维护管理的步骤组的计算机程序(表示为“应对动作用程序”、“维护管理用程序”)。程序存储部91例如由磁盘等存储介质构成。

判定部9b例如构成为具备中央运算处理装置(CPU)90a和程序存储部94的计算机。程序存储部94的作用是，存储具备用于对由照相机17取得的摄影结果进行图像处理，和基于该摄影结果判定有无涂布液R喷出的步骤组的计算机程序(表示为“图像处理用程序”、“判定用程序”)。程序存储部94例如由磁盘等存储介质构成。

对图像处理用程序进行的图像处理进行说明，即，如上述所述，由于照相机17设定成将排列为一列的所有的喷嘴10和从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域收纳到摄影区域中，所以照相机17将该区域作为摄影结果输出到判定部9b。为了从输入的摄影结果中切分出判定所必需的摄影范围，判定部9b执行图像处理程序，进行图像处理。例如，图7的图像是通过在判定部9b中执行图像处理用程序而切分出的摄影结果。

为了判定有无涂布液R喷出以及涂布液R的喷出状态有无变化，判定部9b还具备存储部95，用于存储在涂布液R从喷嘴10喷出的动作正常动作时由照相机17摄影的摄影结果。存储部95由磁盘等存储介质构成。

控制单元9还连接有显示操作部8，显示操作部8的作用是，基于控制单元9内的判定部9b的指示，在监视器上显示判定的结果，并对操作者传达判定部9b的判定的结果。

接着，对从激光光源110照射的激光L的行为进行说明。如图3(a)、(b)所示，激光光源110从照相机17方向，对晶片表面W1上的从喷嘴10喷出涂布液R的喷出位置T的前方的照射位置T1照射激光L。然后，激光L在被晶片表面W1反射后，照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域。利用角度调节机构对照射激光L的角度进行调整，以将激光L设定在图3(a)所示的光路。

照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域的激光L，如图(3)所示，在涂布液R没有从喷嘴10的前端部10d喷出的状态下，由于该区域不存在反射光的物体，所以光不在从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域发生漫反射而通过该区域。

若利用照相机17摄影该状态，则获得图7(a)所示的摄影结果。不能够确认到激光L的反射光，图像整体显示为明亮度V0(暗部)。

另外，图3(b)、(c)表示从喷嘴10喷出涂布液R的状态。光的动向由箭头图示。从喷嘴10的前端部10d喷出的涂布液R，在从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间瞬时地形成液柱R1。照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域的激光L，照射到液柱R1，在液柱R1内发生漫反射，使液柱R1发光。漫反射的激光L到达位于筒状部10c内部的流路10e内的涂布液R，由于筒状部10c由透光性部件形成，所以对流路10e内的涂布液R也能够确认其发光。

若利用照相机17摄影该状态，则获得图7(b)所示的摄影结果。对于液柱R1，由于激光L的反射光直接到达照相机17，所以能够确认到最明亮的明亮度V3。而位于喷嘴10的流路10e内的涂布液R的反射光，由于透过筒状部10c到达照相机17，所以能够确认到明亮度比液柱R1略低的明亮度V2。此外，透过筒状部10c的反射光中一部分会发生反射而到达照相机17，因此筒状部10c能够作为明亮度更低的明亮度V1确认到。并且，由于在喷嘴10与液柱R1的周围不存在反射物体，确认到明亮度V0。

接着，对本发明的涂布单元1的判定部9b的判定进行说明。首先，判定部9b使存储部95存储基准信息。基准信息是涂布液R从喷嘴10喷出的动作正常动作时，根据操作者对控制单元9的指示，由照相机17摄影的摄影结果。因此，在涂布液R的喷出动作正常动作时，例如以200ms的间隔，利用照相机17获取摄影结果。该摄影结果，将由照相机17摄影的模拟图像转换为例如能够进行256灰度梯度显示的规定分辨率的8比特的数字信号。在喷出动作正常动作时获得的图像，如上所述，图7(a)：表示正常的停止动作的基准信息，图7(b)：表示正常的喷出动作的基准信息。存储部95将这二个图像作为基准信息存储。另外，基准信息通过从存储部95输出而显示在显示操作部8的监视器上，以使操作者能够确认和选择基准信息。

在存储部95中存储了基准信息的判定部9b，能够基于将摄影结果与基准信息的在涂布液R中漫反射的光的明暗进行比较的结果，判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。

图6是用于说明判定部9b进行的判定的流程图。当涂布单元1开始工作时(开始)，判定部9b获取从照相机17输出的摄影结果(步骤S101)，并根据有无来自后述的控制部9a的确认信号的输入(步骤S102)，判定该摄影结果与基准信息(图7(a)或(b))是否相同(步骤S103、S106)。在判定为与基准信息相同的情况下，反复进行上述步骤。而在判定为与基准信息不同的情况下，判定部9b通过图像分析来确定原因(步骤S104)，在显示操作部8上显示与原因相应的警告显示(步骤S105)。

具体说来，控制部9a执行工艺用程序，使照相机17、喷嘴搬送机构20的驱动机构15、涂布液供给机构70、气动阀72、回吸阀73、激光光源110动作(开始)。然后，在从喷嘴10喷出涂布液R时，控制部9a对气动阀72输出涂布液R的喷出信号，并同时对判定部9b输出确认信号。

当气动阀72根据喷出信号进行开闭，从喷嘴10喷出涂布液R时，照相机17对其动作进行摄影，并向判定部9b输出获取的摄影结果(步骤S101)。判定部9b，在判定为存在来自控制部9a的确认信号的输入的基础上(步骤S102：是)，对图像结果与存储在存储部95中的基准信息(图7(b))的光的明暗进行比较分析。其结果，在通过判定部9b识别到摄影结果与基准信息相同的情况下，判定为从喷嘴10喷出了涂布液R(步骤S103：是)。这种情况下，判定部9b不对显示操作部8输出信号(返回步骤S101)。另外，显示操作部8采用在没有信号从判定部9b输入时显示“正常”的结构。此外，比较分析和图像分析通过执行判定用程序来进行。

此外，照相机17进行摄影，将获取的摄影结果发送到判定部9b(步骤S101)。判定部9b，在判定为不存在来自控制部9a的确认信号的输入的基础上(步骤S102：否)，对摄影结果与基准信息(图7(a))的光的明暗进行比较分析。其结果，在识别到摄影结果与基准信息相同的情况下，判定为从喷嘴10没有喷出涂布液R(步骤S106：是)。这种情况下，判定部9b不对显示操作部8输出信号(返回步骤S101)，显示操作部8保持显示“正常”。

另一方面，照相机17进行摄影，将获取的摄影结果发送到判定部9b(步骤S101)，在尽管判定部9b判定为存在来自控制部9a的确认信号的输入(步骤S102：是)，但通过判定部9b对摄影结果与基准信息(图7(b))进行比较分析，结果识别到摄影结果与基准信息不相同(步骤S103：否)，而且图像分析的结果识别为与图7(a)所示的图像相同的情况下，判定为没有从喷嘴10喷出涂布液R(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：无喷出”(步骤S105)。

本发明的涂布单元1不但能够如上所述地判定有无涂布液R从喷嘴10喷出，而且还能够判定从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。

例如，照相机17进行摄影，将获取的摄影结果发送到判定部9b(步骤S101)，在尽管判定部9b判定为不存在来自控制部9a的确认信号的输入(步骤S102：否)，但通过判定部9b对摄影结果与基准信息(图7(a))进行比较分析，结果识别到摄影结果与基准信息不相同(步骤S103：否)，而且图像分析的结果识别为与图7(b)所示的图像不相同的情况下，判定为涂布液R从喷嘴10喷出的时刻有偏差(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：时间偏差”(步骤S105)。此外，控制部9b在虽然从控制部9a输入了确认信号，但到摄影结果(图7(b))输入为止存在延时的情况下，也能够判定为涂布液R从喷嘴10喷出的时刻有偏差。

若发生涂布液R从喷嘴10的前端面10d向下方分离滴落的“中断”现象和开始从喷嘴10喷出涂布液R时卷入气体的“气泡”现象，则会获得图7(c)所示的摄影结果。对于中断和气泡，由于涂布液R的液柱R1在中途分离，所以反射光无法入射到喷嘴10内，喷嘴10部不发光。喷出发生了中断和气泡的涂布液R的晶片W会形成不均匀的膜厚的抗蚀剂膜，成为导致曝光不良的原因。

例如，在从照相机17输出了图7(c)所示的摄影结果的情况下(步骤S101)，在判定部9b对来自控制部9a的确认信号的输入进行了判定的基础上(步骤S102)，判定部9b做出摄影结果与基准信息(图7(a)或(b))不相同的判定(步骤S103：否，S106：否)。判定部9b接着进行图像分析，通过与预先存储在存储部95中的中断、气泡的图像进行比较分析，或利用运算处理来对各明亮度(V0～V3)的面积比进行比较，来判定为发生中断、气泡(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：中断、气泡”(步骤S105)。

此外，若发生从喷嘴10的前端面10d向下方喷出的涂布液R的液柱R1变细的“液柱变细”现象，则会获得图7(d)所示的摄影结果。液柱变细是回吸阀73对涂布液R向喷嘴10内的吸引变差，涂布液R从喷嘴10的前端部10d向下方滴下的现象。另外，也是从喷嘴10喷出涂布液R时喷出较差时发生的现象。而且也会作为涂布液R发生上述“中断”现象的前兆发生。

例如，在从照相机17输出了图7(d)所示的摄影结果的情况下(步骤S101)，在判定部9b对来自控制部9a的确认信号的输入进行了判定的基础上(步骤S102)，判定部9b做出摄影结果与基准信息(图7(a)或(b))不相同的判定(步骤S103：否，S106：否)。判定部9b接着进行图像分析，通过与预先存储在存储部95中的液柱变细的图像进行比较分析，或对摄影结果与基准信息(图7(b))的液柱W1的宽度进行比较分析，来判定为发生液柱变细(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：液柱变细”(步骤S105)。

如上所述，在基准信息(图7(b))中，确认位于喷嘴10的流路10e内的涂布液R的明亮度为V2。当判定部对从照相机17输出的摄影结果进行分析的结果为，在上述明亮度V2所处的范围内识别到明亮度V0或V1的黑点的情况下，能够判定为涂布液R中混入了气泡。这种情况下，判定部9b使显示操作部8发出警告显示“异常：气泡”。此外，在从喷嘴10的流路10e内的某坐标起上方全部识别为明亮度V0或V1的情况下，判定为来自供给单元7的涂布液R的供给发生液体用完。这种情况下，判定部9b使显示操作部8发出警告显示“异常：液体用完”。

此外，判定部9b能够根据从照相机17输出的摄影结果进行光强度分析，并根据激光L的光强度数据测定从喷嘴10喷出的涂布液R的反射率。如上所述，在存储部95中预先存储有各涂布液R的反射率，判定部9b能够与测定的反射率进行比较，识别当前从喷嘴10喷出的涂布液R的种类。基于该信息，判定部9b能够对显示操作部8输出信号，使显示操作部8显示“当前喷出的涂布液的种类和喷出量等参数”。

此外，如上所述照相机17以200ms的间隔获取摄影结果。判定部9b通过对每经过一段时间的摄影结果进行分析，能够测定涂布液R发光的时间。涂布液R发光的时间能够视作与涂布液R喷出的时间相同。判定部9b根据摄影结果测定涂布液R的发光时间，与预先存储在存储部95中的发光时间进行比较分析，由此能够判定发光时间的异常。这种情况下，判定部9b能够对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：喷出量”。

此外，在判定部9b判定为无涂布液R喷出和涂布液R的喷出状态发生异常的情况下，判定部9b对控制部9a输出异常信号，控制部9a基于该信号执行应对动作用程序或维护管理用程序，使照相机17、喷嘴搬送机构20的驱动机构15、涂布液供给机构70、气动阀72、回吸阀73、激光光源110动作，执行规定的应对动作。

根据上述实施方式，从激光光源110向从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射激光L，所以激光L入射到向着晶片W喷出的涂布液R中而在涂布液R反射，由此使涂布液R发光，能够利用照相机17摄影该光的明暗。判定部9b基于该摄影结果，识别当光入射到涂布液R中而在涂布液R反射时的光即在涂布液R中漫反射发光的光的明暗，由此能够判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化——例如涂布液R中混入气体的气泡现象、涂布液R滴落的中断现象、涂布液R的液柱R1变细的液柱变细现象——或涂布液R的喷出时间等。因此，涂布单元1能够正确地判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化，所以能够抑制涂布液R从喷嘴10的喷出动作发生异常时的损失，将涂布液R的浪费控制在最小限度。

另外，由于光——激光L——仅照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域，所以能够抑制光直接照射到喷嘴10等发生不必要的光的反射，能够提高照相机17的摄影结果的精度。

另外，激光光源110向着晶片表面W1上的从喷嘴10喷出涂布液R的喷出位置T的前方的照射位置T1照射激光L，在被晶片表面W1反射后，照射到从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域，由此，照相机17能够在不捕捉到被晶片表面W1反射的光的情况下摄影光的明暗，能够进一步提高摄影结果的精度。

另外，通过用透光性部件形成喷嘴10的筒状部10c，在喷嘴10的流路10e内的涂布液R中漫反射而发出的光能够透过喷嘴10的筒状部10c。因此，照相机17能够摄影在喷嘴10的流路10e内的涂布液R中漫反射的光的明暗，判定部9b能够不仅基于从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域的摄影结果，还基于喷嘴10的流路10e内的摄影结果来进行判定，所以能够更正确地判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。

此外，判定部9b具有存储部95，用于存储在喷出动作正常动作时由照相机17摄影的作为摄影结果的基准信息，判定部9b基于对摄影结果与基准信息的光的明暗进行比较的结果，来判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化，所以判定部9b能够更正确地判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。

此外，具备将喷嘴10在保持于旋转卡盘41的晶片W的上方搬送的喷嘴搬送机构20，在喷嘴搬送机构20，11根喷嘴10并排配置在直线上，从配置于直线的外侧区域的一个激光光源110，对从所有的喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域线状地照射激光L，由此，即使具备多个喷嘴10，也能够使从激光光源110照射的激光L正确地照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域。

在上述实施方式中，保持于喷嘴臂11的喷嘴头部11a的11根喷嘴10并排配置在直线上，从安装于喷嘴臂11的一个激光光源110，对从所有的喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域线状地照射激光L，但只要对从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射光即可。例如，如图5(b)所示，在喷嘴搬送机构20，11根喷嘴10并排配置在直线上，但也可以在与直线平行的直线上按每个喷嘴10配置11根激光光源110a，点状地照射激光La。

通过采用这样的结构，即使具备多个喷嘴10，也能够使从激光光源110a照射的激光La正确地照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域。

在上述实施方式中，从激光光源110照射的激光L，从照相机17方向，向着晶片表面W1上的从喷嘴10喷出涂布液R的喷出位置T的前方的照射位置T1照射激光L，在被晶片表面W1反射后，照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域，但激光L只要对从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域进行照射即可。例如，如图8所示，激光光源110也可以向着晶片表面W1上的从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出位置T照射激光L。这种情况下，照相机17和激光光源110通过未图示的固定机构安装在例如壳体30上。

通过采用这样的结构，激光光源110向着从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出位置T照射激光L，所以照相机17能够在不捕捉到被晶片表面W1反射的光的情况下摄影光的明暗，能够进一步提高摄影结果的精度。

在上述实施方式中，照相机17设置在能够摄影保持于喷嘴头部11a的喷嘴10与晶片表面W1间的区域的位置上，但也能够如图9所示，将照相机17设置在与激光L向涂布液R的入射角度α相等的反射角α区域。这种情况下，照相机17和激光光源110通过未图示的固定机构安装在例如壳体30上。

通过采用这样的结构，照相机17能够在被从喷嘴10喷出的涂布液R反射的光中光强度最高的反射光的光路上进行摄影，能够提高摄影结果的精度。

<第二实施方式>

在上述第一实施方式中，从激光光源110向从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射激光L，但也可以如图10所示，从作为光源的红外照明111对从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域以及喷嘴10照射红外光I，判定部9b除了通过识别光入射到涂布液R中而在涂布液R反射时的光的明暗来判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的状态有无变化之外，还通过识别喷嘴10的流路10e内的光的明暗，来判定喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2有无变化。

第二实施方式的涂布单元，包括：除了对从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域之外还对喷嘴10照射红外光I的光源，例如红外照明111；对喷嘴10和从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域进行摄影的摄影部，例如CCD照相机等照相机17A；输出用于从喷嘴10向晶片W喷出涂布液R的喷出信号，并使照相机17A开始摄影的控制部9a(未图示)；和判定部9b(未图示)，在红外光I入射到向着晶片W喷出的涂布液R中而在涂布液R反射时的红外光I的明暗被摄影后，基于该摄影结果和对喷嘴10的流路10e内的光的明暗摄影的摄影结果进行识别，由此判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化，并判定喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2有无变化。

红外光照明111例如是红外线LED照明，能够对喷嘴10、从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域和晶片表面W照射红外光I。这种情况下，若照射的光例如为可见光(波长400nm～700nm)，则由于涂布液R的种类不计其数颜色也各种各样，在涂布例如呈红、蓝、绿等颜色的抗蚀剂液的情况下，照射的可见光会被抗蚀剂吸收和反射，透过抗蚀剂液的光变弱，难以准确地捕捉液柱R1。此外，在涂布颜色透明的稀释剂的情况下，即使使液柱R1周边明亮，照射可见光，照相机17A也难以准确地捕捉液柱R1。关于这一点，通过照射波长较长的红外光I，则不论涂布液R的颜色是什么颜色，也能够使其液柱R1、液面R2稳定地显眼，实现液体的易观察的共通化。因此，使得液柱R1和液面R2易于观察，在通过图像处理等进行判断的情况下，也能够减少误检测风险。于是，照射从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域以及喷嘴10的光，优选为红外光I。

另外，如图11所示，红外照明111设置有作为第一光源的第一红外照明111a和作为第二光源的第二红外照明111b这二个。这种情况下，位于对称位置的第一红外照明111a和第二红外照明111b，以喷嘴10为垂直轴，分别设置在与照相机17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度～160度的位置上。通过采用这样的结构，从设置在两侧的第一红外照明111a和第二红外照明111b向着喷嘴10方向照射红外光I，能够使从向着晶片W喷出的涂布液R(液柱R1)的侧部前往照相机17A的反射光和折射光的光强度变高，使液柱R1的侧部的光的明暗鲜明，使涂布液R中的侧部稳定地显眼，所以能够提高摄影精度。

对设定于上述喷嘴10的垂直轴进行详细说明，即，将从照相机17A区域确认的喷嘴10内的涂布液R的两侧的侧部中，与设置有第一红外照明111a和第二红外照明111b的一侧相对的一侧的涂布液R的侧部，作为各自的垂直轴，来设定第一红外照明111a和第二红外照明111b的位置(角度γ，δ)(参照图11)。

如图15所示进行实验，按照以喷嘴10为垂直轴的红外照明111与照相机17A的水平方向上的角度δ从90度按每10度变化到180度的方式，将光源移动，每次移动时利用照相机17A进行摄影。而且，设置于喷嘴10的右侧的红外照明111，以作为相对的一侧的涂布液R的左侧的侧部作为垂直轴设定水平方向的角度δ。并且，全部在红外照明111的垂直方向的角度β为120度的位置进行摄影。

进行实验的结果，获得如图16所示的摄影结果的照片。由此可知，当将红外照明111设置在水平方向上的角度δ呈120度至160度的位置上时，能够使液柱R1的左侧的侧部的光的明暗鲜明，使液柱R1的侧部稳定地显眼。

另一方面可知，当将红外照明111设置在水平方向上的角度δ为小于120度的角度的位置上时，液柱R1的侧部的光的明暗不鲜明，不能够使液柱R1的侧部显眼。此外可知，当将红外照明111设置在水平方向上的角度δ为大于160度的角度的位置上时，从向晶片W喷出的液柱R1的侧部前往照相机17A的反射光和折射光的光强度较低，不能够使液柱R1的侧部显眼。例如，在水平方向的角度δ＝170度、180度时，虽然能够确认到液柱R1的中央部的反射光和折射光，但从液柱R1的侧部前往照相机17A的反射光和折射光的光强度较低，不能够使液柱R1的侧部显眼。

另外，在上述实验例中，将一个红外照明111设置在喷嘴10的右侧，照射红外线，使液柱R1的左侧的侧部的光的明暗鲜明，但通过将另一个红外照明111设置在喷嘴10的左侧的对称位置上，能够使液柱R1的左右两侧的侧部的光的明暗鲜明，使液柱R1的左右两侧的侧部稳定地显眼。

另外，如图10所示，第一红外照明111a设置在喷嘴10的流路10e内的涂布液R的规定的液面位置P的上方，并设置在红外照明111a与照相机17A相对于位于液面位置P的液面R2所成的垂直方向上的角度β为120度至160度的位置处。此外，规定的液面位置P是指，在涂布液R没有从喷嘴10的前端部10d喷出的状态下，喷嘴10的流路10e内预先设定的回吸的涂布液R的液面R2待机的位置。此外，关于第二红外照明111b，也设置在同样的位置。

通过采用这样的结构，能够向液面R2照射直接照射到喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的光和在晶片W上反射后照射到液面R2的光，提高从喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2前往照相机17A的反射光和折射光的光强度，使喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的光的明暗鲜明，从而使涂布液R的液面R2稳定地显眼，所以能够提高摄影结果的精度。

如图17所示进行实验，按照红外照明111与照相机17A相对于液面R2所成的垂直方向上的角度β从90度按每10度变化到180度的方式，来移动红外照明111，在每次移动时照相机17A进行摄影。并且，全部在红外照明111的水平方向上的角度δ为120度的位置进行摄影。

进行实验的结果，获得如图18所示的摄影结果。由此可知，当将红外照明111设置在角度β呈120度至160度的位置上时，能够使喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的光的明暗鲜明，使涂布液R的液面R2稳定地显眼。

另一方面可知，当将红外照明111设置在垂直方向上的角度β为小于120度的角度的位置上时，从涂布液R的液面R2前往照相机17A的反射光和折射光的光强度较低，不能使涂布液R的液面R2显眼。此外可知，当将红外照明111设置在垂直方向上的角度β为大于160度的角度的位置上时，涂布液R的液面变得R2变得不鲜明，不能够仅使涂布液R的液面R2显眼。例如，在垂直方向的角度β＝170度、180度时，由于例如液面R2下的喷嘴10的流路10e的反射光，涂布液R的液面R2和流路10e的边界变得不鲜明。

这种情况下，照相机17A只要是能够摄影红外光I的图像传感器即可，但当然也能够是例如CCD之外的C-MOS型。

控制单元9的判定部9b与第一实施方式相同，能够基于其处理结果判定有无涂布液R从喷嘴10喷出，从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化，以及喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2有无变化。

另外，在第二实施方式中，其它的部分与上述第一实施方式相同，因此对于相同的部分标记相同的符号省略说明。

接着，对从第一红外照明111a和第二红外照明111b照射的红外光I的行为进行说明。如图10、图11所示，第一红外照明111a和第二红外照明111b，对喷嘴10和从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域以及晶片表面W1照射红外光I。从红外照明111照射的红外光I，即使在涂布液R没有从喷嘴10的前端部10d喷出的状态下，也照射喷嘴10和从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域以及晶片表面W1。

若利用照相机17A摄影该没有喷出涂布液R的状态，则获得图12(a)所示的摄影结果。由于喷嘴10的周围不存在反射的物体，所以确认到明亮度Y0。位于对称位置的第一红外照明111a与第二红外照明111b，以喷嘴10为垂直轴，分别设置在与照相机17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度～160度的位置上，因此，当流路10e内涂布液R回吸，在流路10e的前端形成由空气层构成的空间时，由于从设置于两侧的第一红外照明111a和第二红外照明111b向着喷嘴10方向照射红外光I，所以在形成有该空间的流路10e的内面侧部反射而发光，确认到最高明亮度Y4。此外，还在喷嘴10的筒状部10c的侧部反射而发光，确认到最高明亮度Y4。

照射到筒状部10c的红外光I，作为明亮度比上述Y4低的明亮度Y3确认到。而照射到筒状部10c内的涂布液R的红外光I中，只有透过涂布液R和筒状部10c的红外光I到达照相机，所以作为明亮度更低的明亮度Y1确认到。

另一方面，如图12(a)所示，对于在涂布液R没有从喷嘴10的前端部10d喷出的状态下在喷嘴10的流路10e内待机的涂布液R的液面R2，由于红外照明111a、111b设置在喷嘴10的流路10e内的涂布液R的规定的液面位置P的上方，并且相对于位于液面位置P的液面R2，红外照明111a、111b与照相机17A所成的垂直方向上的角度β设置为120度至160度的位置，向液面R2照射直接照射到液面R2的红外光I和在晶片W上反射后照射到液面R2的红外光I，能够提高从喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2前往照相机17A的反射光和折射光的光强度，使喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的光的明暗鲜明，变得显眼，因此，确认到最高的明亮度Y4。

图12(b)是从喷嘴10喷出涂布液R的状态下的摄影结果。从喷嘴10的前端部10d喷出的涂布液R，在从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间瞬时地形成液柱R1。照射的红外光I中，透过涂布液R的液柱R1的红外光I到达照相机17A，所以作为比透过筒状部10c内的涂布液R的明亮度Y1略高的明亮度Y2确认到。

如图12(b)所示，对于液柱R1的侧部，由于位于对称位置的第一红外照明111a和第二红外照明111b，以喷嘴10为垂直轴，分别设置在与照相机17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度～160度的位置上，所以从设置在两侧的第一红外照明111a和第二红外照明111b向着从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间照射红外光I，提高从向着晶片W喷出的涂布液R的侧部前往摄影部的反射光和折射光的光强度，能够使向着晶片W喷出的涂布液R的侧部显眼，因此，能够确认到最高的明亮度Y4。这样，能够使向着晶片W喷出的涂布液R的侧部的光的明暗鲜明，使涂布液R中的侧部稳定地显眼，液柱R1及其宽度明确。

通过采用上述结构，能够使液柱R1的侧部稳定地显眼，因此易于观察，在通过图像处理等进行判断的情况下，能够减少误检测风险。此外，在进行图像处理的情况下，能够通过简单的处理来判定侧部(edge部)，所以控制器的分析负荷降低，能够控制处理能力，因此能够选择廉价的部件。

接着，参照图4、图6、图12和图13说明第二实施方式的涂布单元的判定部9b。首先，判定部9b在涂布液R从喷嘴10喷出的动作正常动作时，将根据操作者对控制单元9的指示而由照相机17A摄影的摄影结果即基准信息存储在存储部95中。在喷出动作正常动作时获得的图像，如上所述，图12(a)：表示正常的停止动作的基准信息，图12(b)：表示正常的喷出动作的基准信息。存储部95将这二个图像作为基准信息存储。

在存储部95中存储了基准信息的判定部9b，能够基于对摄影结果与基准信息的光的明暗进行比较的结果，判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。

然后，按照与第一实施方式相同的顺序，当气动阀72根据喷出信号进行开闭，从喷嘴10喷出涂布液R时，照相机17A对其动作进行摄影，并向判定部9b输出获取的摄影结果(步骤S101)。判定部9b，在判定为存在来自控制部9a的确认信号的输入的基础上(步骤S102：是)，对图像结果与存储在存储部95中的基准信息(图12(b))的光的明暗进行比较分析。其结果，在通过判定部9b识别到摄影结果与基准信息相同的情况下，判定为从喷嘴10喷出了涂布液R(步骤S103：是)。这种情况下，判定部9b不对显示操作部8输出信号(返回步骤S101)。

此外，照相机17A进行摄影，将获取的摄影结果发送到判定部9b(步骤S101)。判定部9b，在判定为不存在来自控制部9a的确认信号的输入的基础上(步骤S102：否)，对摄影结果与基准信息(图12(a))的光的明暗进行比较分析。其结果，在识别到摄影结果与基准信息相同的情况下，判定为从喷嘴10没有喷出涂布液R(步骤S106：是)。这种情况下，判定部9b不对显示操作部8输出信号(返回步骤S101)，显示操作部8保持显示“正常”。

另一方面，照相机17A进行摄影，将获取的摄影结果发送到判定部9b(步骤S101)，在尽管判定部9b判定为存在来自控制部9a的确认信号的输入(步骤S102：是)，但通过判定部9b对摄影结果与基准信息(图12(b))进行比较分析，结果识别到摄影结果与基准信息不相同(步骤S103：否)，而且图像分析的结果识别为与图12(a)所示的图像相同的情况下，判定为没有从喷嘴10喷出涂布液R(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：无喷出”(步骤S105)。

第二实施方式的涂布单元不但能够如上所述地判定有无涂布液R从喷嘴10喷出，而且还能够判定从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。

例如，若发生从喷嘴10的前端面10d向下方喷出的涂布液R的液柱R1变细的“液柱变细”现象，则会获得图12(c)所示的摄影结果。液柱变细是回吸阀73对涂布液R向喷嘴10内的吸引变差，涂布液R从喷嘴10的前端部10d向下方滴下的现象。另外，也是从喷嘴10喷出涂布液R时喷出较差时发生的现象。而且也会作为涂布液R发生上述“中断”现象的前兆发生。

例如，在从照相机17A输出了图12(c)所示的摄影结果的情况下(步骤S101)，在判定部9b对来自控制部9a的确认信号的输入进行了判定的基础上(步骤S102)，判定部9b做出表示摄影结果与基准信息(图12(a)或(b))不相同的判定(步骤S103：否，S106：否)。判定部9b接着进行图像分析，通过与预先存储在存储部95中的液柱变细的图像进行比较分析，或对摄影结果与基准信息(图12(b))的液柱R1的宽度进行比较分析，来判定为发生液柱变细(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：液柱变细”(步骤S105)。

第二实施方式的涂布单元，通过基于对喷嘴10的流路10e内的光的明暗摄影的摄影结果进行识别，能够进一步判定喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2有无变化。

如上所述，在没有供给涂布涂布液R的情况下，回吸阀73从喷嘴10的前端部10d吸引涂布液R，将液面R2保持在喷嘴10的流路10e内的规定的液面位置P。当回吸阀73的吸引压过强，液面R2高于规定的液面位置P时，会产生涂布液R喷出时容易卷入气泡，并且喷出时刻出现偏差的问题。而另一方面，当回吸阀73的吸引压过弱，液面R2低于规定的液面位置P时，会产生容易发生液体滴落，并且喷出时刻出现偏差的问题。

这种情况下，图13(a)是表示正常的停止动作的基准信息。即，是液面R2保持在预先设定的喷嘴10的流路10e内的规定的液面位置P上的状态的摄影结果。而对于在涂布液R没有从喷嘴10的前端部10d喷出的状态下在喷嘴10的流路10e内待机的涂布液R的液面R2，由于红外照明111a、111b设置在喷嘴10的流路10e内的涂布液R的规定的液面位置P的上方，并且相对于位于液面位置P的液面R2，红外照明111a、111b与照相机17A所成的垂直方向上的角度β设置为120度至160度的位置，向液面R2照射直接照射到液面R2的红外光I和在晶片W上反射后照射到液面R2的红外光I，能够提高从喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2前往照相机17A的反射光和折射光的光强度，使喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的显眼，因此，确认到最高的明亮度Y4。例如图13(b)所示，当回吸阀73的吸引压过强时，液面R2上升，因此入射到液面R2而确认到Y4的发光的位置上升。

如图13(a)所示，在表示正常的停止动作的基准信息中，液面R2的形状为平面。例如图13(b)所示，当回吸阀73的吸引压过强时，液面R2成为向上弯曲的形状。于是，能够确认液面的形状有无变化。

此外，如图13(a)所示，当涂布液R在流路10e内回吸，在流路10e的前端形成由空气层构成的空间时，形成有该空间的流路10e的内面侧部反射红外光I而发光。这是因为，位于对称位置的第一红外照明111a和第二红外照明111b，以喷嘴10为垂直轴，分别设置在与照相机17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度～160度的位置上，从设置在两侧的第一红外照明111a和第二红外照明111b向着喷嘴10方向照射红外光I。因此，例如图13(b)所示，当回吸阀73的吸引压过强时，液面R2上升导致空间变大，因此流路10e的内面侧部的发光的长度(面积)增大。

通过识别上述液面R2的发光位置、液面R2的形状和流路10e的内面侧部的发光，能够确认喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2有无变化。

在从照相机17A输出了图13(b)所示的摄影结果的情况下(步骤S101)，判定部9b，在判定为不存在来自控制部9a的确认信号的输入的基础上(步骤S102：否)，对摄影结果与基准信息(图13(a))的光的明暗进行比较分析。其结果，判定为摄影结果与基准信息不同(步骤S103：否)。判定部9b接着进行图像分析，通过对例如液面R2的发光位置、液面R2的弯曲形状、流路10e的内面侧部的发光部位的长度进行分析，或与预先存储在存储部95中的液面上升的图像进行比较分析，判定为液面R2上升(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：液面上升”(步骤S105)。

此外，在从照相机17A输出了图13(c)所示的摄影结果的情况下(步骤S101)，判定部9b，在判定为不存在来自控制部9a的确认信号的输入的基础上(步骤S102：否)，对摄影结果与基准信息(图13(a))的光的明暗进行比较分析。其结果，判定为摄影结果与基准信息不同(步骤S103：否)。判定部9b接着进行图像分析，通过对例如液面R2的发光位置、液面R2的弯曲形状、流路10e的内面侧部的发光部位的长度进行分析，或与预先存储在存储部95中的液面下降的图像进行比较分析，判定为液面R2下降(步骤S104)。这种情况下，判定部9b对显示操作部8输出警告信号，使显示操作部8发出警告显示“异常：液面下降”(步骤S105)。

根据上述实施方式，由于从红外照明111向从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射红外光I，所以红外光I入射到向晶片W喷出的涂布液R中而在涂布液R反射，使涂布液R发光，能够利用照相机17摄影该光的明暗。判定部9b通过基于该摄影结果识别被涂布液R反射时的光的明暗，能够判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化。因此，第二实施方式的涂布单元，能够正确地判定有无涂布液R从喷嘴10喷出以及从喷嘴10喷出的涂布液R的喷出状态有无变化，所以能够抑制涂布液R从喷嘴10的喷出动作发生异常时的损失，将涂布液R的浪费控制在最小限度。

此外，红外照明111对喷嘴10照射红外光I，判定部9b通过基于对喷嘴10的流路10e内的光的明暗摄影的摄影结果进行识别，来进行喷嘴10的流路10e内的涂布液R液面R2有无变化的判定，能够判定喷嘴10的流路10e内的涂布液R液面R2有无变化，例如在喷嘴10的流路10e内待机的涂布液R从规定的液面位置P上升或下降，并进一步判定液面R2的形状有无变化。因此，所以能够抑制涂布液R从喷嘴10的喷出动作发生异常时的损失，将涂布液R的浪费控制在最小限度。

上述实施方式中，第一红外照明111a、第二红外照明111b设置在喷嘴10的流路10e内的涂布液R的规定的液面位置P的上方，并且相对于位于液面位置P的液面R2，第一红外照明111a、第二红外照明111b与照相机17A所成的垂直方向上的角度β设置为120度至160度的位置，但例如第一红外照明111a、第二红外照明111b的设置角度β也能够适宜地变更设置，仅对从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域照射红外光I。

通过采用这样的结构，位于对称位置的第一红外照明111a和第二红外照明111b，以喷嘴10为垂直轴，分别设置在与照相机17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度～160度的位置上，从设置在两侧的第一红外照明111a和第二红外照明111b向着从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间照射红外光I，提高从向着晶片W喷出的涂布液R的侧部前往照相机17A的反射光和折射光的光强度，能够使涂布液R的侧部的光的明暗显眼，使涂布液R中的侧部稳定地显眼，所以能够提高摄影结果的精度。

上述实施方式中，红外照明111设置有第一红外照明111a和第二红外照明111b这二个红外照明111，位于对称位置的第一红外照明111a和第二红外照明111b，以喷嘴10为垂直轴，分别设置在与照相机17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度～160度的位置上，但也可以如图14所示，也可以在隔着喷嘴10与照相机17A相对的一侧设置一个红外照明111c，并在隔着喷嘴10与红外照明11b相对的一侧设置辅助光源112。

这种情况下，红外照明111c设置在隔着喷嘴10与照相机17A相对的一侧。设置在喷嘴10的流路10e内的涂布液R的规定的液面位置P的上方，并设置在红外照明111a与照相机17A相对于位于液面位置P的液面R2所成的垂直方向上的角度β为120度至160度的位置处。

另一方面，辅助光源112例如为红外线LED照明，设置在隔着喷嘴10与红外照明111c相对的一侧，能够对喷嘴10、从喷嘴10的前端部10d到晶片表面W1间的区域和晶片表面W1照射红外光I。

通过采用这样的结构，利用设置在隔着喷嘴10与照相机17A相对的一侧的红外照明111c和辅助光源112，能够使液柱的照相机17A侧的表面状态稳定地显眼，使光的明暗鲜明，所以能够提高摄影结果的精度。

另外，红外照明111c设置在喷嘴10的流路10e内的涂布液R的规定的液面位置P的上方，并且相对于位于液面位置P的液面R2，红外照明111c与照相机17A所成的垂直方向上的角度β设置为120度至160度的位置，由此，能够向液面R2照射直接照射到喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的光和在晶片W上反射后照射到液面R2的光，提高从喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2前往照相机17A的反射光和折射光的光强度，使喷嘴10的流路10e内的涂布液R的液面R2的光的明暗鲜明，从而使涂布液R的液面R2稳定地显眼，所以能够提高摄影结果的精度。

接着，对将上述涂布单元1应用于涂布、显影装置的一例进行简单说明。该装置设置有承载区(carrier block)S1，臂C从载置于承载区S1的载置台100a上的密闭型的载置盒(carrier)100进行交接，取出晶片W，交接到处理区S2，臂C从处理区S2进行交接，接收处理完毕的晶片W，返回载置盒100。

上述处理区S2如图20所示，该例中从下到上依次层叠了用于进行显影处理的第一区(DEV层)B1、用于进行形成在抗蚀剂膜的下层侧的防反射膜的形成处理的第二区(BCT层)B2、用于进行抗蚀剂膜的涂布的第三区(COT层)B3和用于进行形成在抗蚀剂膜的上层侧的防反射膜的形成的第四区(TCT层)B4。

第二区(BCT层)B2和第四区(TCT层)B4，各自包括：通过旋转涂布来涂布用于形成防反射膜的药液的本实施方式的涂布单元1；用于进行在该涂布单元1进行的处理的前处理和后处理的加热/冷却系统的处理单元组；和设置在上述涂布单元1和处理单元组之间，在它们之间进行晶片W的交接的搬送臂A2、A4。关于第三区(COT层)B3，除了上述药液为抗蚀剂液之外，均为相同的结构。

另一方面，关于第一区(DEV层)B1，如图21所示，一个DEV层B1内，层叠有2层显影单元。在该DEV层B1内，设置有用于对这2层的显影单元搬送晶片W的搬送臂A1。即，采用对2层的显影单元共用搬送臂A1的结构。

此外，在处理区S2，设置有图19和图21所示的架单元U5，来自承载区S1的晶片W，被设置于上述架单元U5附近的升降自如的第一交接臂D1依次搬送到上述架单元U5的一个交接单元，例如与第二区(BCT层)B2对应的交接单元CPL2。第二区(BCT层)B2内的搬送臂A2，从该交接单元CPL2接收晶片W，搬送到各单元(防反射单元和加热/冷却系统的处理单元组)，利用这些单元，在晶片W上形成防反射膜。

之后，晶片W经由架单元U5的交接单元BF2、交接臂D1、架单元U5的交接单元CPL3和搬送臂A3，搬入第三区(COT层)B3，形成抗蚀剂膜。然后，晶片W经由搬送臂A3→架单元U5的交接单元BF3→交接臂D1，交接到架单元U5的交接单元BF3。此外，形成有抗蚀剂膜的晶片W也存在在第四区(TCT层)B4进一步形成防反射膜的情况。这种情况下，晶片W经由交接单元CPL4交接到搬送臂A4，在形成防反射膜后由搬送臂A4交接到交接单元TRS4。

另一方面，在DEV层B1内的上部设置有作为专用的搬送机构的穿梭臂E，用于将晶片W从设置于架单元U5的交接单元CPL11直接搬送到设置于架单元U6的交接单元CPL12。形成有抗蚀剂膜和防反射膜的晶片W，经由交接臂D1从交接单元BF3、TRS4接收，交接到交接单元CPL11，并自此由穿梭臂E直接搬送到架单元U6的交接单元CPL12，进入接口区S3。此外，图21中的标有CPL的交接单元兼作调温用的冷却单元，标有BF的交接单元兼作能够载置多片晶片W的缓冲单元。

接着，晶片W被接口臂B搬送到曝光装置S4，在此处进行规定的曝光处理后，载置于架单元U6的交接单元TRS6，返回处理区S2。返回的晶片W在第一区(DEV层)B1进行显影处理，由搬送臂A1交接到架单元U5的交接台TRS1。之后，被第一交接臂D1搬送到架单元U5的处于交接臂C的交接范围的交接台，经由交接臂C返回载置盒100。另外，图19中的U1～U4各自是由加热部和冷却部层叠而得的热系统单元组。

另外，上述实施方式涉及涂布、显影装置中的涂布单元，但本发明能够适用于对例如半导体晶片或液晶显示器用的玻璃基板(LCD基板)等基板表面供给处理液的任意的液处理装置或应用，例如晶片W的清洗处理中使用的片式清洗装置。因此，作为本发明中的处理液，除了涂布液以外，也能够是例如清洗液或显影液。

Claims (14)

1.一种液处理装置，对水平地保持于基板保持部的基板的表面供给来自处理液供给部的处理液，使所述处理液向所述基板的表面喷出以进行液处理，该液处理装置的特征在于，包括：

形成从所述处理液供给部供给的所述处理液的流路的处理液喷嘴；

对从所述处理液喷嘴的前端部到基板表面间的区域照射光的光源；

对所述处理液喷嘴和基板表面间中的至少从所述处理液喷嘴的前端部到所述基板表面间的区域进行摄影的摄影部；

输出用于从所述处理液喷嘴向所述基板喷出所述处理液的喷出信号，并使所述摄影部开始摄影的控制部；和

判定部，在所述光入射到向着所述基板喷出的处理液中而被所述处理液反射时的光的明暗被摄影后，基于该摄影结果进行识别，由此判定有无所述处理液从所述处理液喷嘴喷出和从所述处理液喷嘴喷出的所述处理液的喷出状态有无变化。

2.如权利要求1所述的液处理装置，其特征在于：

所述光源向着基板表面照射所述光，使所述光在所述基板表面反射后，照射到从所述处理液喷嘴的前端部到所述基板表面间的区域。

3.如权利要求1所述的液处理装置，其特征在于：

所述光源向着所述基板表面的从所述处理液喷嘴喷出的所述处理液的喷出位置照射所述光。

4.如权利要求2所述的液处理装置，其特征在于：

所述摄影部，设置在与所述光向所述处理液入射的入射角度相等的反射角一侧。

5.如权利要求1～4中任一项所述的液处理装置，其特征在于：

所述处理液喷嘴由透光性部件形成的筒状体形成，

所述摄影部形成为能够摄影被所述处理液喷嘴的流路内的所述处理液反射的光的明暗。

6.如权利要求1～5中任一项所述的液处理装置，其特征在于：

还具备存储部，用于存储作为判定有无所述处理液从所述处理液喷嘴喷出和从所述处理液喷嘴喷出的所述处理液的喷出状态有无变化的基准的基准信息，所述判定部，基于对所述摄影结果与所述基准信息的光的明暗进行比较的结果，判定有无所述处理液从所述处理液喷嘴喷出和从所述处理液喷嘴喷出的所述处理液的喷出状态有无变化。

7.如权利要求6所述的液处理装置，其特征在于：

所述基准信息，是在所述处理液从所述处理液喷嘴喷出的动作正常动作时由所述摄影部摄影的摄影结果。

8.如权利要求1～7中任一项所述的液处理装置，其特征在于：

还具备在保持于所述基板保持部的基板的上方搬送所述处理液喷嘴的喷嘴搬送机构，

在所述喷嘴搬送机构，多个所述处理液喷嘴并排配置在直线上，从配置在直线的侧方方面的一个光源，对从所有的所述处理液喷嘴的前端部到所述基板表面间的区域线状地照射所述光。

9.如权利要求1～7中任一项所述的液处理装置，其特征在于：

还具备在保持于所述基板保持部的基板的上方搬送所述处理液喷嘴的喷嘴搬送机构，

在所述喷嘴搬送机构，多个所述处理液喷嘴并排配置在直线上，从在与直线平行的直线上按每个所述处理液喷嘴配置的光源照射所述光。

10.如权利要求1～3所述的液处理装置，其特征在于：

所述光源中，位于对称位置的第一光源和第二光源，以所述处理液喷嘴为垂直轴，分别设置在与所述摄影部的水平方向上的角度呈120度～160度的位置上。

11.如权利要求1～3所述的液处理装置，其特征在于：

所述光源设置在隔着所述处理液喷嘴与所述摄影部相对的一侧，在隔着所述处理液喷嘴与所述光源相对的一侧还设置有辅助光源。

12.如权利要求10或11所述的液处理装置，其特征在于：

所述处理液喷嘴由透光性部件形成的筒状体形成，

所述摄影部形成为能够摄影被所述处理液喷嘴的流路内的所述处理液反射的光的明暗。

13.如权利要求12所述的液处理装置，其特征在于：

所述光源还对所述处理液喷嘴照射光，所述判定部通过基于对所述处理液喷嘴的流路内的光的明暗摄影的摄影结果进行识别，来判定所述处理液喷嘴的流路内的处理液的液面有无变化。

14.如权利要求13所述的液处理装置，其特征在于：

所述光源设置在所述处理液喷嘴的流路内的所述处理液的规定的液面位置的上方，并且，所述光源与所述摄影部相对于位于所述液面位置的液面所呈的垂直方向上的角度设置在120度～160度的位置。

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