JP6018528B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
6 チャンバ
9 基板
21 基板保持部
22 カップ部
31 吐出ヘッド
35 供給部移動機構
41 待機ポッド
42 メンテナンス部
51 光出射部
52 撮像部
53 光出射部清掃部
54 撮像部清掃部
60 内部空間
75 判定部
76 メンテナンス制御部
314 吐出口
419 浸漬液
510 面状光
513 (光出射部カバーの)前面
523 (撮像部カバーの)前面
J1 光軸
J2 撮像軸
J3 投影光軸
J4 投影撮像軸
K1 交点
Claims (9)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部の周囲を囲むカップ部と、
前記カップ部の内側にて前記基板保持部の上方に配置され、前記基板に向けて処理液を吐出する吐出ヘッドと、
前記カップ部の外側に配置され、前記吐出ヘッドの待機時に前記吐出ヘッドの下端部が収容される待機ポッドと、
前記吐出ヘッドを前記基板保持部の上方から前記待機ポッドの上方の検査位置へと移動する供給部移動機構と、
予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、前記検査位置に位置する前記吐出ヘッドから前記待機ポッドに向けて吐出される処理液が前記光存在面を通過する際に前記処理液に光を照射する光出射部と、
前記光存在面を通過する前記処理液を撮像することにより、前記処理液上に現れる輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、
前記検査画像に基づいて前記吐出ヘッドの吐出動作の良否を判定する判定部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記光存在面が、前記検査位置に位置する前記吐出ヘッドの下端と前記待機ポットの上端との間の間隙を通過することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記撮像部の撮像方向前側の面を清掃する撮像部清掃部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記光出射部の光出射方向前側の面を清掃する光出射部清掃部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記撮像部の撮像軸を前記吐出ヘッドからの処理液の吐出方向に垂直な投影面上に前記吐出方向に投影した投影撮像軸と、前記光出射部の光軸を前記投影面上に前記吐出方向に投影した投影光軸とが交点を有し、
前記投影撮像軸の前記交点と前記撮像部との間の部位と、前記投影光軸の前記交点と前記光出射部との間の部位との成す角度が、90°よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記吐出ヘッド、前記光出射部および前記撮像部を内部空間に収容するとともに、外部から前記内部空間への光の入射を遮る遮光チャンバをさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記吐出ヘッドが、前記処理液をそれぞれ吐出する複数の吐出口を有し、
前記光出射部により、前記複数の吐出口から吐出される前記処理液である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光が照射され、
前記撮像部により、前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体が撮像され、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む前記検査画像が取得され、
前記判定部により、前記検査画像に基づいて前記複数の吐出口のそれぞれの吐出動作の良否が判定されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス部と、
前記判定部により前記吐出ヘッドの吐出動作の不良が検出された場合に、前記供給部移動機構および前記メンテナンス部を制御することにより、前記吐出ヘッドを前記検査位置から下降させて前記吐出ヘッドの前記下端部を前記待機ポッド内に収容した状態で前記吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス制御部と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記メンテナンス部が、前記待機ポッド内に貯溜された浸漬液に振動を付与する振動付与部であり、
前記吐出ヘッドの吐出動作の不良が検出された場合に、前記待機ポッド内において前記吐出ヘッドの前記下端部が前記待機ポッド内の前記浸漬液に浸漬され、前記振動付与部により、前記浸漬液に振動が付与されることにより前記吐出ヘッドの洗浄が行われることを特徴とする基板処理装置。
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