CN101928110A - 玻璃基材及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种化学加强的玻璃基材，其包括在其最上表面层中具有形成的压缩应力层的主表面。构造所述压缩应力层以通过在压缩应力层中产生的压缩应力来提高玻璃基材的强度。所述压缩层由钾离子浓度等于或小于5000ppm的层组成。本发明还涉及一种制造玻璃基材的方法，其包含如下步骤：通过将所述玻璃基材浸入加热熔融盐使得玻璃基材的离子被熔融盐的离子离子交换来化学加强玻璃基材；以及在化学加强所述玻璃基材的步骤中去除玻璃基材的主表面的最上表面层中形成的离子交换层。

Description

玻璃基材及其制造方法
技术领域
如下说明书涉及提高适合保护如手机和个人数字助理(PDA)的移动终端设备的显示屏的防护玻璃罩的玻璃基材的强度的一种或多种技术。
背景技术
在如手机和PDA的移动终端设备中，为了防止外(冲击)力施加于所述移动终端设备的显示器上，将如高度透明的丙烯酸树脂保护片的塑料保护片置于显示器外预定距离处(例如日本专利临时公布No.2004-299199)。
然而，由于这种丙烯酸树脂保护片易于被外力弯曲，不得不设计移动终端设备具有保护片和显示器之间的较广距离以承受丙烯酸树脂保护片的弯曲变位。因此，这造成难以将移动终端设备变薄。
由于上述原因，已提出用使用化学加强的玻璃的保护片实现将移动终端设备变薄，所述保护片即使成型为薄的形状，也抑制弯曲并保持一定水平的高强度(例如参见日本专利临时公布No.2007-99557，自后简称为’557公布)。’557公布公开了用于移动终端设备的防护玻璃罩以及制造该防护玻璃罩的方法。根据’557公布，通过将特定玻璃组合物的片玻璃切割成预定形状，将所述片玻璃的每一面抛光至平面镜面光洁度，并通过化学加强方法在所述片玻璃的每一面的表面层中形成压缩应力层来制造所述防护玻璃罩以使其难以被弯曲和损坏。
发明内容
然而，用于防护玻璃罩的玻璃基材要求具有高强度，使得该玻璃基材能承受施加于其主表面上的大的外应力。此外，用于移动终端设备的防护玻璃罩同时要求被减轻。因此，需要即使成型为薄的形状也具有非常高强度的玻璃基材用于移动终端设备。
本发明的方面有利于提供获得即使成型为薄的也具有非常高强度的玻璃基材的一种或多种改进的技术。
根据本发明的方面，提供一种化学加强的玻璃基材，其包括在其最上表面层中形成的压缩应力层的主表面。构造所述压缩应力层以通过在压缩应力层中产生的压缩应力来提高玻璃基材的强度。所述压缩应力层由钾离子浓度等于或小于百万分之(ppm)5000的层组成。
任选地，可构造所述压缩应力层，使得钾离子浓度大于5000ppm的离子交换层被完全从该压缩应力层去除。
任选地，所述玻璃基材可通过下拉法由熔融玻璃形成。
还任选地，所述玻璃基材可用含有SiO2、Al2O3、Li2O或Na2O的至少一种的铝硅酸盐玻璃构造。进一步任选地，所述玻璃基材可通过基本上不包含钾离子的化学加强的玻璃基材构造。
又任选地，可构造所述玻璃基材以用于保护移动终端设备的显示屏的防护玻璃罩。
根据本发明的方面，进一步提供了一种制造玻璃基材的方法。所述方法包括如下步骤：通过将所述玻璃基材浸入加热熔融盐使得玻璃基材的离子被熔融盐的离子离子交换来化学加强所述玻璃基材，以及在化学加强所述玻璃基材的步骤中去除玻璃基材的主表面的最上表面层中形成的离子交换层。应该注意的是，所述离子交换层可以具有浓度大于5000ppm的钾离子。
任选地，在去除离子交换层的步骤中，所述离子交换层可通过蚀刻去除。
又任选地，使用含有氢氟酸、六氟硅酸或缓冲氢氟酸的至少一种的蚀刻溶液以湿方式实施蚀刻。
还任选地，在化学加强所述玻璃基材的步骤中，使用硝酸钾的熔融盐或硝酸钠的熔融盐的至少一种在等于或小于所述玻璃基材的玻璃化转变点的温度下化学加强所述玻璃基材。
附图说明
图1A和1B显示了含有采用常规方法化学加强的玻璃基材的主表面的区域。
图1C显示了在根据本发明的一个或多个方面的一个具体实施方案中含有采用改进的方法化学加强的玻璃基材的主表面的区域。
图2图示了在根据本发明的一个或多个方面的一个具体实施方案中用于测量玻璃基材的强度的装置。
图3为在根据本发明的一个或多个方面的具体实施方案中图示了制造玻璃基材的方法的程序的流程图。
具体实施方式
在下文，根据本发明的方面的具体实施方案将参照附图描述。
图1A和1B说明了采用常规方法化学加强的玻璃基材1。图1A显示了含有玻璃基材的主表面的区域。图1B为图1A所示的部分X的放大图。将图1A所示的玻璃基材1浸入用于化学加强的加热熔融盐中使得包含于该玻璃基材中的离子被熔融盐的离子离子交换，从而化学加强所述玻璃基材1。所述玻璃基材1具有在其表面层中形成的压缩应力层1a。构造所述压缩应力层1a以通过在其中产生的压缩应力来提高玻璃基材1的强度。此外，在所述压缩应力层1a的最上表面层中(在距离玻璃基材1的最上表面数微米的深度的区域中)，具有非常高的碱金属离子浓度的离子交换层1b通过化学加强形成。
当将具有如上构造的离子交换层1b的玻璃基材1用水清洗时(在化学加强之后水清洗)，如图1B所示，在化学加强中形成的离子交换层1b中存在的钾离子(K+)被氢离子(H3O+)离子交换，每个氢离子具有比钾离子(K+)更小的离子半径。因此，玻璃基材1的最上表面层变为水合层1c。因此，在玻璃基材1的离子交换层1b中，拉伸应力层通过清洗过程形成，构造的该拉伸应力层由于在其中产生的拉伸应力而降低玻璃基材1的强度。特别地，当在清洗过程中使用酸溶液作为清洗液体时，上述效应显著产生。而且，化学加强(即离子交换)在下拉法中形成的玻璃基材中比在压制法形成并随后抛光的玻璃基材中进行更快。因此，上述效应在下拉法中形成的玻璃基材上比在压制法形成并随后抛光的玻璃基材上更显著地产生。
在根据本发明的方面的一个具体实施方案中，通过去除在化学加强中在玻璃基材的表面层中形成的离子交换层，有可能防止由于随后进行的清洗过程而形成拉伸应力层，并由此提高玻璃基材的强度。更具体地，在具体实施方案中，将玻璃基材浸入加热熔融盐使得玻璃基材的离子被熔融盐的离子离子交换来化学加强所述玻璃基材。然后，去除在化学加强中在玻璃基材的主表面上形成的离子交换层。也就是说，如图1C中所示，构造该具体实施方案中的玻璃基材，其中完全去除如图1A和1B中所示的离子交换层1b。因此，有可能获得即使成型为薄的形状也具有非常高强度的玻璃基材。
已知降低或限制碱性组分从化学加强的玻璃基材洗脱的技术(例如参见日本专利临时申请No.HEI 10-194788)。然而，应注意适用于将玻璃基材的表面脱碱或在玻璃基材的表面上形成保护碱性组分洗脱的层的技术在本质上不同于根据本发明的方面的技术概念。
基于上述观点，在具体实施方案中的玻璃基材能通过将玻璃基材浸入加热熔融盐使得玻璃基材通过其离子被熔融盐的离子离子交换而被化学加强，然后去除在化学加强中在玻璃基材的主表面上形成的离子交换层来制得。
以上述方式获得的玻璃基材具有通过化学加强形成的压缩应力层。然而，所述压缩应力层不包括离子交换层，且在主表面中，钾离子的浓度等于或小于5000ppm。关于主表面是否含有离子交换层，在玻璃基材的主表面中的钾离子浓度和玻璃基材的表面态能例如通过波长色散X射线光谱仪(WDX)或能量色散X射线光谱仪(EDX)检测。附带地，构造WDX使其辐射X射线或电子束至试样，经由分析晶体从通过辐照激发的试样区域而发射的荧光X射线的各种波长中提取特定的荧光X射线波长，并用检测器测量波长和提取的荧光X射线的强度。此外，构造EDX使其辐射X射线或电子束至试样，放大通过辐照激发的试样区域而发射的荧光X射线的所有各种波长，并用分析器鉴别波长和荧光X射线的各种波长的每一个的强度。
待用的玻璃基材可直接由熔融玻璃成型为片形，或通过从特定厚度的玻璃体上切割预定厚度的玻璃片并将该玻璃片精加工为具有抛光主表面的所需厚度的玻璃片而成型。希望玻璃基材直接由熔融玻璃成型为片形。这是因为直接由熔融玻璃成型为片形的玻璃基材的主表面为具有非常高平整度和光滑度而无微裂纹的热成型表面。下拉法或浮法可用作直接由熔融玻璃将玻璃基材成型为片形的方法。希望在下拉法中由熔融玻璃将玻璃基材成型。
此外，优选用铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃或硼硅酸盐玻璃构造所述玻璃基材。其中，希望用含有SiO2、Al2O3、Li2O或Na2O的至少一种的铝硅酸盐玻璃构造所述玻璃基材。特别地，希望所述铝硅酸盐玻璃含有62-75重量％的SiO2、5-15重量％的Al2O3、4-10重量％的Li2O、4-12重量％的Na2O，和5.5-15重量％的ZrO2(应注意“重量％”表示以重量计的％)。而且，希望所述铝硅酸盐玻璃具有由重量比Na2O/ZrO2：0.5-2.0和重量比Al2O3/ZrO2：0.4-2.5限定的组合物。此外，希望所述玻璃基材由基本上无氧化钾的成分制得。
考虑到玻璃材料的化学耐久性和/或熔解温度，SiO2为玻璃基材的主要组分，并优选以62-75重量％包含于玻璃基材中。
考虑到玻璃材料的化学耐久性，含有Al2O3以提高玻璃基材的表面的离子交换能力，且Al2O3优选以5-15重量％包含于玻璃基材中。
Li2O是化学加强的必要组分。特定地，Li2O在玻璃基材的表面层上主要被离子交换浴中的Na离子离子交换。考虑到玻璃材料的离子交换能力和/或化学耐久性，Li2O优选以4-10重量％包含于玻璃基材中。
Na2O是用于化学加强的必要组分。特定地，Na2O在玻璃基材的表面层上被离子交换浴中的K离子离子交换。考虑到玻璃材料的化学耐久性和/或机械强度，Na2O优选以4-12重量％包含于玻璃基材中。
ZrO2具有提高玻璃基材的机械强度的效应。希望ZrO2以5.5-15重量％包含于玻璃基材中以确保均匀玻璃的稳定制备和玻璃材料的化学耐久性。
使用如硝酸钾的熔融盐在300-450℃的熔融盐温度下在1-30小时的加工时间过程中实施化学加强。特别地，希望使用硝酸钾和/或硝酸钠的熔融盐在等于或小于玻璃基材的材料的玻璃化转变点的熔融盐温度下实施化学加强。这种低温化学加强使得有可能将表面层的碱金属离子离子交换为具有大离子半径的离子。在此情况下，希望加工时间等于或小于16小时。在化学加强之后，优选地，清洗玻璃基材以除去外来物质，例如附着于玻璃基材表面的熔融盐。在此情况下，可使用的清洗方法例如为利用清洗剂(例如水)的方法，将玻璃基材浸入清洗剂中的浸入法和使玻璃基材与辊体(该辊体当运行清洗剂时旋转)接触的洗气法。在施用超声波下可以实施浸入法。
蚀刻或抛光可用作去除通过化学加强在玻璃基材的主表面上形成的离子交换层的方法。在直接由熔融玻璃将玻璃基材成型为片形的情况中，优选通过蚀刻去除离子交换层以避免在主表面上的如刮伤的损坏。
希望用于去除离子交换层的蚀刻溶液含有氢氟酸、六氟硅酸或缓冲氢氟酸的至少一种。在此情况下，希望蚀刻温度为20-60℃，更优选为30-50℃。此外，希望蚀刻时间为3-60分钟。在蚀刻过程中，可以将玻璃基材浸入蚀刻溶液的状态，或使玻璃基材以浸入蚀刻溶液中的状态上下移动，通过泵循环蚀刻溶液。或者，可将蚀刻溶液淋在玻璃基材上。而且，在除去离子交换层之后，可使用水或含水溶液清洗玻璃基材以除去附着于玻璃基材表面的外来物质。此外，可使用可市购得到的清洗剂，例如中性洗涤剂、表面活性剂和碱性洗涤剂以及水或含水溶液。在此情况下，硫酸、盐酸或硝酸可用作含水溶液。在施用超声波下可以进行清洗。
如上制得的玻璃基材适用于保护如手机和PDA的移动终端设备(的显示屏)的防护玻璃罩。在此情况下，通过在片形玻璃基材的主表面上形成抗蚀图并以该抗蚀图作为遮罩使用腐蚀剂蚀刻所述玻璃基材，从而将所述玻璃基材切割为所需的形状。外部形状通过蚀刻限定的所述防护玻璃罩具有非常高光滑度的蚀刻端面。此外，构造具有熔融玻璃表面的所述防护玻璃罩的端面不具有任何微裂纹，通过机械过程将不可避免地造成所述微裂纹。即使用于移动终端设备的防护玻璃罩具有复杂的外形，以此方式构造的防护玻璃罩也具有移动终端设备的防护玻璃罩所需的高机械强度。需要注意的是，优选地，可以在玻璃基材形成所需的形状之后实施化学加强。由此，有可能也化学加强玻璃基材的端面，并因此阻止玻璃基材当附着于移动终端设备时被切碎或破裂。
用于蚀刻玻璃基材以获得如上所述的所需形状的蚀刻法可为湿蚀刻和干蚀刻的任一种。只要腐蚀剂能蚀刻玻璃基材，则任何腐蚀剂可用于湿蚀刻。例如，具有氢氟酸为主要组分的酸溶液可用作湿蚀刻的腐蚀剂。而且，含有硫酸、硝酸、盐酸和氟硅酸以及氢氟酸的至少一种的混合溶液可用作湿蚀刻的腐蚀剂。在另一方面，只要腐蚀剂能腐蚀玻璃基材，任何腐蚀剂可用于干蚀刻。例如，氟化气体可用作干蚀刻的腐蚀剂。可通过使用划线加工或激光加工将玻璃基材切成所述形状。
在具体实施方案中的上述玻璃基材通过将玻璃基材浸入加热熔融盐使得玻璃基材通过其离子被熔融盐的离子离子交换而被化学加强，然后去除在化学加强中在玻璃基材的主表面上形成的离子交换层来制得。因此，有可能防止玻璃基材的离子被清洗过程中的氢离子离子交换，并由此提高玻璃基材的强度。
随后，将描述实施例以阐明本发明的效果。图3显示了在如下实施例的每一个中制造玻璃基材的方法的通用程序。
实施例1
最初，通过下拉法将含有63.5重量％的SiO2、8.2重量％的Al2O3、8.0重量％的Li2O、10.4重量％的Na2O，和11.9重量％的ZrO2的铝硅酸盐玻璃成型为80毫米(长边)×45毫米(短边)×0.5毫米(厚度)的片形。
随后，将玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的360℃混合盐浴6小时而化学加强。之后，用水清洗玻璃基材以除去附着其上的外来物质，例如熔融盐。接着，将所述玻璃基材浸入3重量％的H2SiF6的35℃蚀刻溶液中并在该蚀刻溶液中上下移动10分钟。因此，所述玻璃基材的主表面被蚀刻约1微米。然后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的15重量％的H2SO4的40℃清洗溶液5分钟而清洗该玻璃基材。由此制得实施例1的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为5000ppm。
使用图2所示的装置进行所得玻璃基材的强度测量。特定地，如图2所示，将所得的玻璃基材11置于在支撑台12上，该支撑台12在中心具有小于玻璃基材11的开口12a。然后，通过以10毫米/分钟的速度向下移动的压栓13压制所述玻璃基材11的中心。因此，在玻璃基材11破碎之时测量玻璃基材11的断裂负载。对30个玻璃基材进行相同的强度测量以确定玻璃基材11的强度(即断裂负载)的平均值，最大值和标准偏差。结果显示于如下的表1中。
实施例2
将以与实施例1相同的方式成型为相同片形的玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的360℃混合盐浴6小时而化学加强该玻璃基材。之后，用水清洗玻璃基材以除去附着其上的外来物质，例如熔融盐。随后，所述玻璃基材用3重量％的H2SiF6的45℃蚀刻溶液淋洗20分钟而被蚀刻。因此，所述玻璃基材的主表面被蚀刻约2微米。之后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的15重量％的H2SO4的40℃清洗溶液5分钟而清洗该玻璃基材。由此制得实施例2的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为2000ppm。对实施例2中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果一起显示于如下的表1中。
实施例3
将以与实施例1相同的方式成型为相同片形的玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的360℃混合盐浴6小时而化学加强该玻璃基材。之后，用水清洗玻璃基材以除去附着其上的外来物质，例如熔融盐。接着，将所述玻璃基材浸入6重量％的H2SiF6的35℃蚀刻溶液中10分钟并同时通过泵循环所述蚀刻溶液而蚀刻该玻璃基材。因此，所述玻璃基材的主表面被蚀刻约3微米。然后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的15重量％的H2SO4的40℃清洗溶液5分钟而清洗该玻璃基材。由此制得实施例3的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为1500ppm。对实施例3中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果一起显示于如下的表1中。
比较实施例1
将以与实施例1相同的方式成型为相同片形的玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的360℃混合盐浴6小时而化学加强该玻璃基材。之后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的15重量％的H2SO4的40℃清洗溶液10分钟而清洗该玻璃基材。由此制得比较实施例1的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为6000ppm。对比较实施例1中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果一起显示于如下的表1中。
表1
Figure G2009102655030D00091
由表1可理解，实施例1至3的玻璃基材分别具有相比于比较实施例1更高的断裂强度，即使将它们成型具有0.5毫米的厚度。此外，实施例1至3的玻璃基材分别显示相比于比较实施例1更小的断裂强度的标准偏差。考虑这些结果通过如下造成：在实施例1至3的每一个中通过蚀刻去除在玻璃基材的主表面上形成的离子交换层。因此，在实施例1至3的每一个中，有可能防止玻璃基材的离子在清洗中被氢离子离子交换，并由此避免拉伸应力层的形成，该拉伸应力层将降低玻璃基材的强度。
实施例4
最初，通过下拉法将含有63.5重量％的SiO2、8.2重量％的Al2O3、8.0重量％的Li2O、10.4重量％的Na2O，和11.9重量％的ZrO2的铝硅酸盐玻璃成型为100毫米(长边)×50毫米(短边)×0.7毫米(厚度)的片形。
随后，将玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的380℃混合盐浴2小时而化学加强。之后，用水清洗玻璃基材以除去附着其上的外来物质，例如熔融盐。接着，将所述玻璃基材浸入1重量％的HF的30℃蚀刻溶液中并在该蚀刻溶液中上下移动5分钟。因此，所述玻璃基材的主表面被蚀刻约3微米。然后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的10重量％的HCl的30℃清洗溶液20分钟而清洗该玻璃基材。由此制得实施例4的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为500ppm。对实施例4中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果显示于如下的表2中。
实施例5
将以与实施例4相同的方式成型为相同片形的玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的380℃混合盐浴2小时而化学加强该玻璃基材。之后，用水清洗玻璃基材以除去附着其上的外来物质，例如熔融盐。接着，将所述玻璃基材浸入0.5重量％的HF的45℃蚀刻溶液10分钟并同时通过泵循环所述蚀刻溶液而蚀刻该玻璃基材。因此，所述玻璃基材的主表面被蚀刻约2微米。之后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的10重量％的HCl的30℃清洗溶液20分钟而清洗该玻璃基材。由此制得实施例5的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为1000ppm。对实施例5中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果一起显示于如下的表2中。
实施例6
将以与实施例4相同的方式成型为相同片形的玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的380℃混合盐浴2小时而化学加强该玻璃基材。之后，用水清洗玻璃基材以除去附着其上的外来物质，例如熔融盐。随后，将所述玻璃基材浸入2.0重量％的HF的40℃蚀刻溶液中并在该蚀刻溶液中上下移动3分钟。因此，所述玻璃基材的主表面被蚀刻约2微米。之后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的10重量％的HCl的30℃清洗溶液20分钟而清洗该玻璃基材。由此制得实施例6的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为1000ppm。对实施例6中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果一起显示于如下的表2中。
比较实施例2
将以与实施例4相同的方式成型为相同片形的玻璃基材浸入60重量％的KNO3和40重量％的NaNO3的380℃混合盐浴2小时而化学加强该玻璃基材。之后，将所述玻璃基材浸入施用40千赫超声波下的10重量％的HCl的30℃清洗溶液20分钟而清洗该玻璃基材。由此制得比较实施例2的玻璃基材。应注意所得玻璃基材的主表面中的钾离子浓度通过WDX测得为5500ppm。对比较实施例2中获得的玻璃基材进行与实施例1相同的强度测量。结果一起显示于如下的表2中。
表2
Figure G2009102655030D00111
由表2可理解，实施例4至6的玻璃基材分别具有相比于比较实施例2更高的断裂强度，即使将它们成型具有0.7毫米的厚度。此外，实施例4至6的玻璃基材分别显示相比于比较实施例2更小的断裂强度的标准偏差。考虑这些结果通过如下造成：在实施例4至6的每一个中通过蚀刻去除在玻璃基材的主表面上形成的离子交换层。因此，在实施例4至6的每一个中，有可能防止玻璃基材的离子在清洗中被氢离子离子交换，并由此避免拉伸应力层的形成，该拉伸应力层将降低玻璃基材的强度。
在上文描述了根据本发明的方面的具体实施方案。本发明能通过采用常规材料、方法和设备实施。因此，这些材料、设备和方法的细节在本文未详细描述。在前述描述中描述了许多特定的细节，如特定的材料、结构、方法等，从而提供对本发明的完全理解。然而，应认识到能无需重新分配特别描述的细节而实施本发明。在其他的例子中未详细描述公知的加工结构，以避免不必要地使本发明含糊。
在本公开中显示并描述了本发明仅有的示例性具体实施方案和其通用方式的一些实施例。应了解本发明能够在各种其他组合和环境中使用，并能够在本文表述的发明概念的范围内变化和改变。
例如，尽管在上述具体实施方案中通过蚀刻法去除离子交换层，但离子交换层可通过除了蚀刻法之外的方法(例如抛光法)去除。

Claims (11)

1.一种化学加强的玻璃基材，其包含在其最上表面层中具有形成的压缩应力层的主表面，构造所述压缩应力层以通过在压缩应力层中产生的压缩应力来提高玻璃基材的强度，其中所述压缩层由钾离子浓度等于或小于5000ppm的层组成。
2.根据权利要求1所述的玻璃基材，其中构造所述压缩应力层，使得钾离子浓度大于5000ppm的离子交换层被完全从所述压缩应力层去除。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃基材，其通过下拉法由熔融玻璃形成。
4.根据权利要求1或2所述的玻璃基材，所述玻璃基材用含有SiO2、Al2O3、Li2O或Na2O的至少一种的铝硅酸盐玻璃构造。
5.根据权利要求4所述的玻璃基材，所述玻璃基材用不包含钾离子的化学加强的玻璃基材构造。
6.根据权利要求1或2所述的玻璃基材，构造所述玻璃基材以用于保护移动终端设备的显示屏的防护玻璃罩。
7.一种制造玻璃基材的方法，其包含如下步骤：
通过将所述玻璃基材浸入加热熔融盐使得玻璃基材的离子被熔融盐的离子离子交换来化学加强玻璃基材；以及
在化学加强所述玻璃基材的步骤中去除玻璃基材的主表面的最上表面层中形成的离子交换层。
8.根据权利要求7所述的方法，其中在去除离子交换层的步骤中，所述离子交换层通过蚀刻去除。
9.根据权利要求8所述的方法，其中使用含有氢氟酸、六氟硅酸或缓冲氢氟酸的至少一种的蚀刻溶液以湿方式实施蚀刻。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中在化学加强所述玻璃基材的步骤中，使用硝酸钾的熔融盐或硝酸钠的熔融盐的至少一种在等于或小于所述玻璃基材的玻璃化转变点的温度下化学加强所述玻璃基材。
11.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中所述离子交换层具有的钾离子浓度大于5000ppm。
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