CN101874275B - 透明导电性层叠体和触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性、耐光性优异、适合触摸面板的可动电极基板的透明导电性层叠体。本发明的目的还在于提供使用了该透明导电性层叠体的触摸面板。本发明涉及透明导电性层叠体和使用了该透明导电性层叠体的触摸面板,该透明导电性层叠体的特征在于,是将高分子膜、固化树脂层-1和透明导电层依次层叠而成的层叠体,固化树脂层-1具有两种成分相分离而形成的凹凸,并且不含有用于赋予凹凸的微粒,并且固化树脂层-1按照JIS B0601-1994测得的算术平均粗糙度(Ra)为0.05μm以上且小于0.5μm,按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm以上且小于2.0μm。

Description

透明导电性层叠体和触摸面板
技术领域
本发明涉及透明导电性层叠体。更具体地说,涉及固化树脂层中不含有微粒、表面具有凹凸的透明导电性层叠体和使用了该透明导电性层叠体的触摸面板。
背景技术
近年来作为人机界面之一,已大量使用实现对话型输入方式的触摸面板。触摸面板按照位置检测方式有光学方式、超声波方式、静电容量方式、电阻膜方式等。其中,电阻膜方式的结构简单,价格/性能比也好,因此近年来急速普及。
电阻膜方式的触摸面板是将对向侧具有透明导电层的2片膜或片材保持一定间隔而构成的电子部件,通过用笔或手指按压可动电极基板(视认侧的电极基板),将其弯曲而与固定电极基板(对向侧的电极基板)接触、导通,从而检测电路检测位置,进行规定的输入。此时,按压部周边有时出现称为牛顿环的干涉条纹。此外,即使是没有按压的状态下,由于可动电极基板的挠曲,有时在可动电极基板与固定电极基板的间隔变窄的部分出现牛顿环。由于牛顿环的产生,显示器的视认性变差。
作为减轻这种构成电阻膜方式的触摸面板的2片透明电极基板间产生的牛顿环的方法,公开了在塑料膜上形成含有规定量的平均一次粒径为1~4μm的填料的涂层和透明导电层的方法(参照专利文献1)。此外,还公开了在塑料膜上形成含有平均二次粒径为1.0~3.0μm的二氧化硅粒子的突起涂层(具有突起的涂层)的方法(参照专利文献2)。
使用了如上所述在塑料膜上形成了含有平均一次粒径或平均二次粒径为几μm左右的粒子的涂层和透明导电层的透明导电性层叠体的触摸面板的情况下,牛顿环的产生得到减轻。但是,在近年的高精细显示器上设置该触摸面板的情况下,由于该涂层中的粒子周边的树脂产生透镜效果,因此产生来自显示器的光的色分离(闪光,sparkling),产生了使显示器的视认性显著恶化的问题。
此外,作为上述以外的用于减轻牛顿环(Newton rings)的涂层,有使用了由平均粒径不同的2种以上的消光剂和粘结剂组成的树脂的防牛顿环层(anti-Newton rings layer)(参照专利文献3)。
采用这样的方法形成的防牛顿环层(anti-Newton rings layer)可以抑制高精细显示器上的闪光。平均粒径1~15μm的粒子和平均粒径5~50nm的微粒均是为了消光化而添加的。本来5~50nm的微粒大大低于可见光的波长,因此即使将该尺寸的微粒添加到成为粘结剂的树脂中也不产生雾度,但将专利文献3中记载的实施例、比较例对比,通过添加5~50nm的微粒,雾度上升,因此推测该微粒形成了二次凝聚体。由于该雾度的上升、即消光化,可知控制了闪光。对于采用这种方法形成的防牛顿环层,由于雾度极端地升高,因此存在显示器的视认性变差的问题。
专利文献1~3中公开了形成用于防止由触摸面板的可动电极基板和固定电极基板间的间隙产生的牛顿环的防牛顿环层的方法。但是,由这些方法形成的防牛顿环层通过含有无机或有机微粒而形成了凹凸。因此,透明导电层形成面有由无机或有机微粒形成的多个突起,进行触摸面板所要求的滑动耐久性、端按压耐久性试验时,存在透明导电层从这些无机或有机微粒形成的突起部分劣化,开始剥离,最终作为触摸面板的电特性降低的问题。
此外,进行打点耐久性试验时,由可动电极基板的防牛顿环层中含有的无机或有机微粒形成的突起将固定电极基板上形成的点间隔物破坏,使其在触摸面板内飞散。这样飞散的点间隔物的碎片妨碍可动电极基板和固定电极基板间的导通,而且损伤可动电极基板和固定电极基板的透明导电层,因此还有触摸面板的电特性降低的问题。
此外,使用了用这些无机或有机微粒形成的防牛顿环层作为固定电极基板时,还有由无机或有机微粒形成的突起损伤可动电极基板的透明导电层,触摸面板的电特性降低的问题。
再有,专利文献4中对于不含微粒的防眩膜材料也进行了公开,但对于适用于透明导电性层叠体的情况,没有任何公开。
专利文献1:日本特开平10-323931号公报
专利文献2:日本特开2002-373056号公报
专利文献3:日本特开2001-84839号公报
专利文献4:WO2005/073763号小册子
发明内容
本发明的目的在于提供不含用于赋予凹凸的微粒、固化树脂层具有凹凸的闪光少的透明导电性层叠体。此外,本发明的目的在于提供用作触摸面板的可动电极基板时,滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性、耐光性优异的透明导电性层叠体。此外,本发明的目的在于提供用作触摸面板的固定电极基板时对可动电极基板的损伤减轻的透明导电性层叠体。此外,本发明的目的在于提供使用了该透明导电性层叠体的触摸面板。
本发明人鉴于上述现有技术,反复深入研究而完成了本发明。
即,本发明涉及透明导电性层叠体,其特征在于,将高分子膜、固化树脂层-1和透明导电层依次层叠而成,固化树脂层-1具有两种成分相分离而形成的凹凸,并且不含有用于赋予凹凸的微粒,固化树脂层-1按照JISB0601-1994测得的算术平均粗糙度(Ra)为0.05μm以上且小于0.5μm,按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm以上且小于2.0μm。
优选形成固化树脂层-1的两种成分中,第1成分是含有不饱和双键的丙烯酸共聚物,第2成分是多官能性含不饱和双键单体。此外,优选第1成分的SP值(SP1)和第2成分的SP值(SP2)满足SP1<SP2。
本发明的透明导电性层叠体优选在高分子膜的形成了透明导电层的面的相反面具有固化树脂层-2,固化树脂层-2具有两种成分相分离而形成的凹凸,并且不含有用于赋予凹凸的微粒,固化树脂层-2按照JISB0601-1994测得的算术平均粗糙度(Ra)为0.05μm以上且小于0.50μm,按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm以上且小于2.0μm。
优选形成固化树脂层-2的两种成分中,第1成分是不饱和双键丙烯酸共聚物,第2成分是多官能性含不饱和双键单体。优选第1成分的SP值(SP1)和第2成分的SP值(SP2)满足SP1<SP2。优选固化树脂层-2中的第2成分是1分子单体中具有3~6摩尔当量的碳原子数2~4的烯化氧(alkylene oxide)单元的3官能以上的多官能性含不饱和双键单体。优选在固化树脂层-2中含有2~40重量%的多官能性含不饱和双键单体。
本发明的透明导电性层叠体,优选由JIS K 7136定义的雾度为2%以上且小于20%。本发明的透明导电性层叠体,优选固化树脂层-1和透明导电层之间具有膜厚为0.5nm以上且小于5nm的金属氧化物层。本发明的透明导电性层叠体,优选透明导电层的膜厚为5nm~50nm并且为结晶质。
本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和透明导电层之间具有固化树脂层-3,该固化树脂层-3的折射率为1.2~1.55,膜厚为0.05μm~0.5μm。本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有固化树脂层-3,该固化树脂层-3的折射率为1.2~1.55,膜厚为0.05μm~0.5μm。
本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和透明导电层之间具有光学干涉层,该光学干涉层包含低折射率层和高折射率层,低折射率层与透明导电层相接。本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有光学干涉层,该光学干涉层包含低折射率层和高折射率层,低折射率层与金属氧化物层相接。
本发明包含具有上述透明导电性层叠体的触摸面板。此外,本发明包含如下的触摸面板:是至少在单面设置了透明导电层的2片透明电极基板以彼此的透明导电层之间相向的方式配置的触摸面板,使用上述透明导电性层叠体作为至少一个透明电极基板。
附图说明
图1为本发明的透明导电性层叠体的层结构的一例。
图2为本发明的透明导电性层叠体的层结构的一例。
图3为本发明的透明导电性层叠体的层结构的一例。
图4为本发明的透明导电性层叠体的层结构的一例。
具体实施方式
以下对本发明的实施方式依次进行说明。
<固化树脂层-1>
固化树脂层-1具有两种成分相分离而形成的凹凸。固化树脂层-1不含有用于赋予凹凸的微粒。
该凹凸如下形成:将含有第1成分和第2成分的组合物涂布在基材上,利用第1成分和第2成分的物性的差,两者相分离而在表面上产生无规的凹凸。
(第1成分)
第1成分优选透明性优异的固化性聚合物,更优选热固性聚合物、电离放射线固化性聚合物。聚合物可以使用公知的聚合物,可以列举例如国际公开第2005/073763号小册子中记载的聚合物。
作为第1成分,优选含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(以下有时称为共聚物(1-1))。
作为共聚物(1-1),可以列举例如使具有烯属不饱和双键和环氧基的单体与由(甲基)丙烯酸类单体等具有酸基的聚合性不饱和单体聚合或共聚而成的树脂、由该具有酸基的聚合性不饱和单体聚合或共聚而成的树脂与其他具有烯属不饱和双键的单体共聚而成的树脂发生反应而成的共聚物、或者使该具有酸基的聚合性不饱和单体与其他具有烯属不饱和双键和异氰酸酯基的单体发生反应而成的共聚物等。
作为含有不饱和双键的丙烯酸共聚物的具体调制方法的一例,可以列举例如将具有酸基的聚合性不饱和单体与其他聚合性不饱和单体共聚,然后使得到的共聚物的酸基与含有环氧基的烯属不饱和单体的环氧基反应的方法。
作为具有酸基的聚合性不饱和单体,可以列举例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、2-(甲基)-丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸和2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸这样的一元羧酸,马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸和衣康酸这样的二元羧酸,马来酸酐和衣康酸酐这样的酸酐和马来酸单乙酯、富马酸单乙酯和衣康酸单乙酯这样的二羧酸的单酯,或者它们的α-位被卤代烷基、烷氧基、卤素、硝基或氰基取代的取代衍生物,邻-、间-、对-乙烯基苯甲酸或它们的被烷基、烷氧基、卤素、硝基、氰基、酰胺或酯取代的取代衍生物等。它们可以只使用一种,也可以将2种以上并用。
作为其他聚合性不饱和单体,可以使用例如苯乙烯或苯乙烯的被α-、邻-、间-、对-烷基、烷氧基、卤素、卤代烷基、硝基、氰基、酰胺、酯取代的取代衍生物,丁二烯、异戊二烯、新戊二烯(ネオプレン)等烯烃类,邻-、间-、对-羟基苯乙烯或它们的被烷基、烷氧基、卤素、卤代烷基、硝基、氰基、酰胺、酯或羧基取代的取代衍生物,乙烯基氢醌、5-乙烯基连苯三酚、6-乙烯基连苯三酚、1-乙烯基均苯三酚等多羟基乙烯基酚类,甲基丙烯酸或甲基丙烯酸的甲酯、乙酯、正丙酯、异丙酯、正丁酯、仲丁酯、叔丁酯、戊酯、新戊酯、异戊基己酯、环己酯、金刚烷酯、烯丙酯、炔丙酯、苯酯、萘酯、蒽酯、蒽醌酯、胡椒酯、水杨醇酯、环己酯、苄酯、苯乙酯、甲苯酯、缩水甘油酯、异冰片酯、三苯基甲酯、四氢双二环戊二烯基酯、枯基酯、3-(N,N-二甲基氨基)丙酯、3-(N,N-二甲基氨基)乙酯、呋喃酯或糠酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的N-酰苯胺或酰胺,或N,N-二甲酰胺、N,N-二乙酰胺、N,N-二丙酰胺、N,N-二异丙酰胺或氨茴酰胺、丙烯腈、丙烯醛、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏氯乙烯、氟乙烯、偏氟乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、醋酸乙烯酯、N-苯基马来酰亚胺、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺、N-甲基丙烯酰基邻苯二甲酰亚胺、N-丙烯酰基邻苯二甲酰亚胺等。
作为含有环氧基的烯属不饱和单体,可以列举例如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸β-甲基缩水甘油酯和(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己酯、丙烯酸4-羟基丁酯缩水甘油醚等。由于是显示均衡的固化性和贮存稳定性的组合物,因此优选使用(甲基)丙烯酸缩水甘油酯。
此外,作为含有不饱和双键的丙烯酸共聚物的具体的调制方法,可以列举例如将含有环氧基的烯属不饱和单体和其他聚合性不饱和单体共聚,然后使得到的共聚物的环氧基与具有酸基的聚合性不饱和单体的酸基反应的方法。
本发明中,用作第1成分的含有不饱和双键的丙烯酸共聚物的重均分子量优选为500~100,000,更优选为1,000~50,000。本说明书中重均分子量意味着通过聚苯乙烯换算得到的重均分子量。此外,可以单独1种使用含有不饱和双键的丙烯酸共聚物,也可以将2种以上并用。
(第2成分)
第2成分只要是与共聚物(1-1)混合时相分离的单体即可。可以使用公知的单体,可以列举例如国际公开第2005-073763号小册子中记载的单体。
作为第2成分,优选多官能性含不饱和双键单体(以下有时称为单体(1-2))。作为单体(1-2),可以列举多元醇和(甲基)丙烯酸酯的脱醇反应物。具体地可以列举季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。此外,还可使用聚乙二醇#200二丙烯酸酯(共荣社化学(株)制)等具有聚乙二醇骨架的丙烯酸酯单体。这些多官能性含不饱和双键单体可以单独使用1种,也可以将2种以上混合使用。
形成固化树脂层-1的二种成分中,优选第1成分是含有不饱和双键的丙烯酸共聚物,第2成分是多官能性含不饱和双键单体。
(溶解度参数值:SP值)
此外,第1成分和第2成分优选各个成分的溶解度参数值(SP值)存在差异,如上所述,第1成分是共聚物(1-1),第2成分是单体(1-2)时,优选第1成分的SP值(SP1)和第2成分的SP值(SP2)满足SP1<SP2。更优选其差为0.5以上。
特别是如果第1成分为共聚物(1-1)、第2成分为单体(1-2),将本发明的透明导电性层叠体用于触摸面板时,无闪光,雾度低,其滑动耐久性、端按压耐久性飞跃性地提高,因此优选。
(表面粗度)
本发明的透明导电性层叠体,其固化树脂层-1按照JIS B0601-1994测得的算术平均粗糙度(Ra)为0.05μm以上且小于0.5μm,此外,固化树脂层-1按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm以上且小于2μm。
如果Ra和Rz为该范围,将透明导电性层叠体用于触摸面板时,防眩性、防牛顿环性、指纹擦除性变得良好,闪光得到减轻。为了使上述特性更为良好,Ra的范围优选0.1μm以上且小于0.4μm,特别优选0.1μm以上且小于0.35μm。此外,Rz的范围优选0.7μm以上且小于1.5μm,特别优选0.7μm以上且小于1.3μm。
(厚度)
本发明中,固化树脂层-1的厚度优选为10μm以下。如果厚度超过10μm,有时柔软性不足,用于触摸面板时的滑动耐久性、端按压耐久性变得不良。为了使上述特性变得更良好,固化树脂层-1的厚度优选为8μm以下,特别优选为6μm以下。
(固化树脂层-1的形成)
固化树脂层-1可通过将含有第1成分和第2成分的涂布液涂布在基材上,根据需要使其干燥后,通过电离放射线照射、加热处理等使其固化而形成。涂布液优选含有有机溶剂。
作为涂布方法,可以列举使用刮胶刀、棒涂机、凹印辊涂布机、帘式涂布机、刮刀涂布机、旋涂机等公知的涂布设备的方法、喷射法、浸渍法等。再有,在高分子膜的两面形成固化树脂层-1时,该固化树脂层-1可以为相同组成,也可以为相互不同的组成。
<高分子膜>
本发明中使用的高分子膜,只要是由透明的有机高分子构成的膜,则并无特别限定。作为有机高分子,可以列举例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯、聚邻苯二甲酸二烯丙酯等聚酯系树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚芳酯树脂、丙烯酸树脂、乙酸纤维素树脂、环烯烃聚合物等。它们可以以均聚物、共聚物等形式使用。此外,可以单独使用上述有机高分子,也可以共混使用。
这些高分子膜适合采用一般的熔融挤出法或溶液流延法等形成,但也优选根据需要对已成型的高分子膜实施单轴拉伸或双轴拉伸,提高机械强度或者提高光学功能。
将本发明的透明导电性层叠体用作触摸面板的可动电极基板时,从用于使触摸屏作为开关工作的可挠性和用于保持平坦性的强度的方面出发,高分子膜的厚度优选为75~400μm。将本发明的透明导电性层叠体用作触摸面板的固定电极基板时,从用于保持平坦性的强度方面出发,高分子膜的厚度优选为0.1~4.0mm。该高分子膜可以由1层构成,也可以由2层以上的层叠体构成。此外,通过将厚度50~400μm的本发明的透明导电性层叠体与其他塑料片材贴合,可以以固定电极基板整体的厚度为0.1~4.0mm的构成使用。
将本发明的透明导电性层叠体用作触摸面板的可动电极基板时,固定电极基板可以使用在上述高分子膜、塑料片材、玻璃基板或高分子膜与玻璃基板的层叠体或高分子膜与塑料片材的层叠体上形成了透明导电层的电极基板。从触摸面板的强度、重量的方面出发,固定电极基板整体的厚度优选0.1~4.0mm。
此外,最近开发了在触摸面板的输入侧的面、即使用者侧的面只层叠偏振片或者层叠偏振片和相位差膜的构成的新型触摸面板。该构成的优点在于主要通过偏振片或偏振片和相位差膜的光学作用使触摸面板内部的外来光的反射率减少到一半以下,使设置了触摸面板状态下的显示器的对比度提高。
对于这种类型的触摸面板,由于偏光通过透明导电性层叠体,因此优选使用光学各向同性优异的高分子膜。具体地,将高分子膜的慢轴方向的折射率记为nx,将快轴方向的折射率记为ny,将高分子膜的厚度记为d(nm)时,用Re=(nx-ny)×d(nm)表示的面内相位差值Re优选至少为30nm以下,更优选为20nm以下。应予说明,其中高分子膜的面内相位差值以使用分光椭偏仪(日本分光株式会社制M-150)测定的波长590nm下的值为代表。
如上例示的偏振光通过透明导电性层叠体的类型的触摸面板的用途中,高分子膜的面内延迟值非常重要,此外,高分子膜的三维折射率特性,即将高分子膜的厚度方向的折射率记为nz时K={(nx+ny)/2-nz}×d所示的K值优选为-250~+150nm,从获得触摸面板的优异视野角特性方面出发,更优选在-200~+100nm的范围。
作为构成这些光学各向同性优异的高分子膜的树脂,可以列举例如聚碳酸酯、非晶性聚芳酯、聚醚砜、聚砜、三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、环烯烃聚合物和它们的改性物或与别种材料的共聚物等热塑性树脂,环氧系树脂等热固性树脂、丙烯酸系树脂等电离放射线固化性树脂等。从成型性、制造成本、热稳定性等观点出发,最优选列举例如聚碳酸酯、非晶性聚芳酯、聚醚砜、聚砜、环烯烃聚合物和它们的改性物或与别种材料的共聚物。
更具体地,作为聚碳酸酯,为例如以选自双酚A、1,1-二(4-苯酚)环己叉基(シクロヘキシリデン)、3,3,5-三甲基-1,1-二(4-苯酚)环己叉基、芴-9,9-二(4-苯酚)、芴-9,9-二(3-甲基-4-苯酚)等中的至少一种成分作为单体单元的聚合物、共聚物,或者是以选自上述组中的至少一种成分为单体单元的聚合物或共聚物的混合物。优选使用平均分子量大约15,000~100,000范围的聚碳酸酯。作为聚碳酸酯,可以例示帝人化成(株)制“PANLITE(注册商标)”、拜耳公司制“Apec HT(注册商标)”等。
此外,作为非晶性聚芳酯,可以例示(株)钟化制“ELMEC(注册商标)”、UNITIKA(株)制“U聚合物(注册商标)”、イソノバ社制“イサリル(注册商标)”等。
此外,作为环烯烃聚合物,可以例示日本瑞翁(株)制“ZEONOR(注册商标)”、JSR(株)制“ARTON(注册商标)”等。
此外,作为这些树脂的成型方法,可以例示熔融挤出法、溶液流延法、注射成型法等方法,从获得优异的光学各向同性的观点出发,特别优选使用溶液流延法、熔融挤出法进行成型。
<透明导电层>
本发明中,透明导电层只要是导电性优异的透明层,则并无特别限定。
作为构成透明导电层的成分,可以列举例如氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等。这些中特别优选氧化铟和/或氧化锡。
此外,透明导电层优选为以氧化铟为主要成分的结晶质的层,特别优选使用由结晶质的ITO(氧化铟锡)构成的层。此外,结晶粒径没有必要特别设定上限,但优选为3,000nm以下。结晶粒径如果超过3,000nm,书写耐久性变差,因此不优选。其中,所谓结晶粒径,定义为在透射型电子显微镜(TEM)下观察的多边形状或椭圆状的微晶在各区域的对角线或直径中最大的值。
本发明中,所谓“以氧化铟为主要成分”,意味着含有锡、碲、镉、钼、钨、氟、锌等作为掺杂剂的氧化铟,或者除了锡以外还含有硅、钛、锌等作为掺杂剂的氧化铟。
此外,所谓“结晶质的层”,意味着由含有掺杂剂的氧化铟构成的层的50%以上、优选75%以上、更优选95%以上、特别优选大致100%被结晶相占据。通过使透明导电层为结晶质的层,固化树脂层-1和透明导电层的密合性、环境可靠性变得优异。其结果,将本发明的透明导电性层叠体用于触摸面板时,触摸面板所需的环境可靠性、触摸面板的书写耐久性得到改善。
透明导电层可以采用公知的方法形成,可以使用例如DC磁控管溅射法、RF磁控管溅射法、离子镀法、真空蒸镀法、脉冲激光沉积法等物理形成法(物理气相沉积,以下称为PVD)等,如果着眼于对大面积形成均匀厚度的透明导电层的工业生产性,优选DC磁控管溅射法。应予说明,除了上述物理形成法(PVD)以外,还可以使用化学气相沉积(以下称为CVD)、凝胶溶胶法等化学形成法,从厚度控制的观点出发,优选溅射法。
作为形成透明导电层的其他方法,可以使用用刮胶刀、棒涂机、凹印辊涂布机、帘式涂布机、刮刀涂布机、旋涂机等公知的涂布设备的方法、喷射法、浸渍法等。实际使用这些方法形成透明导电层时,使用由聚噻吩、聚苯胺等公知的导电性高分子材料和/或具有导电性的金属、金属氧化物、碳等构成的超微粒子和/或具有导电性的金属、金属氧化物、碳等构成的纳米丝等导电性物质成分与作为粘结剂的固化树脂成分组成的导电性涂布剂。
可以列举将上述导电性涂布剂溶解于各种有机溶剂,使用调节了浓度、粘度的涂布液,涂布到高分子膜上后,通过放射线照射、加热处理等形成层的方法。
透明导电层的厚度从透明性和导电性的方面出发优选为5~50nm。更优选为5~30nm。如果透明导电层的厚度小于5nm,有电阻值的经时稳定性差的倾向,此外,如果超过50nm,表面电阻值降低,因此作为触摸面板用途不优选。优选使用厚度5~50nm时表面电阻值显示100~2,000Ω/□(Ω/sq)、更优选140~1,000Ω/□(Ω/sq)的范围的透明导电层。
优选透明导电层的膜厚为5nm~50nm并且为结晶质。
<固化树脂层-2>
本发明中,优选在高分子膜的形成了透明导电层的面的相反面具有固化树脂层-2。该固化树脂层-2与固化树脂层-1同样地,是具有两种成分相分离而形成的凹凸、并且不含有用于赋予凹凸的微粒的层。
优选形成固化树脂层-2的第1成分的SP值(SP1)和第2成分的SP值(SP2)满足SP1<SP2。
固化树脂层-2按照JIS B0601-1994测得的算术平均粗糙度(Ra)为0.05μm以上且小于0.5μm,按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度(Rz)在0.5μm以上且小于2.0μm的范围内。
如果Ra和Rz为该范围,将透明导电性层叠体用于触摸面板时,防眩性、指纹擦除性变得良好,闪光得到减轻。Ra为0.50μm以上时,有闪光、指纹擦除性降低的可能性,还有设置在触摸面板下的显示体的视认性降低的可能性。此外,Ra小于0.05μm时,防眩性降低。Rz为2.0μm以上时,有闪光、指纹擦除性降低的可能性,还有设置在触摸面板下的显示体的视认性降低的可能性。此外,Rz小于0.5μm时,防眩性降低。
为了使上述特性更为良好,Ra的范围优选0.10μm以上且小于0.40μm,特别优选0.10μm以上且小于0.35μm。此外,Rz的范围优选0.7μm以上且小于1.5μm,特别优选0.7μm以上且小于1.3μm。
固化树脂层-2的第1成分是选自上述的不饱和双键丙烯酸共聚物(共聚物(1-1))的丙烯酸共聚物(共聚物(2-1))。本发明的透明导电性层叠体中,固化树脂层-2的第1成分(共聚物(2-1))可以与固化树脂层-1的第1成分的共聚物(1-1)相同,也可以是不同的种类、组成。
固化树脂层-2的第2成分优选是上述多官能性含不饱和双键单体中在1分子单体中具有3~6摩尔当量的碳原子数2~4的烯化氧单元的3官能以上的含有不饱和双键的单体(以下有时称为单体(2-2))。
本发明的透明导电性层叠体用作触摸面板的可动电极基板时,有时要求耐候性(耐光性)。这种情况下,作为固化树脂层-2中的第2成分,优选单体(2-2)。
单体(2-2)例如可通过将碳原子数2~4的烯化氧骨架导入3官能以上的多元醇,使(甲基)丙烯酸酯与其反应而调制。
作为单体(2-2),可以列举例如下述式(A)表示的单体。
式(A)中,n、m和p各自独立地是2~4的整数。x、y和z各自独立地是0~3的整数,但x、y和z的和为3~6。R1为可以具有羟基的碳原子数1~3的烷基。R2、R3和R4各自独立地是氢或甲基。
作为单体(2-2),可以列举例如三甘醇-三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇-三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、六甘醇-三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、六丙二醇-三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等。
固化树脂层-2中,作为其第2成分,通过使用单体(2-2),能够进一步赋予固化树脂层-2以耐候性(耐光性)。其结果,能够得到在形成了透明导电层的面的相反面形成了具有耐候性(耐光性)的固化性树脂层的透明导电性层叠体。
作为第2成分,优选将单体(2-2)与其他多官能性含不饱和双键单体并用。通过将其他多官能性含不饱和双键单体并用,能够确保固化树脂层-2的硬度。
作为单体(2-2)以外的多官能性含不饱和双键单体,可以列举例如作为多元醇与(甲基)丙烯酸酯的脱醇反应物的3官能或其以上的多官能性含不饱和双键单体。具体地,可以列举季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
单体(2-2)在固化树脂层-2中优选含有2~40重量%。单体(2-2)低于2重量%时,固化树脂层-2的耐候性(耐光性)提高效果有可能变得不足。此外,单体(2-2)超过40重量%时,固化树脂层-2的表面硬度有可能降低。
本发明中,固化树脂层-2的厚度优选为10μm以下。如果厚度超过10μm,有时柔软性不足,用于触摸面板时的滑动耐久性、端按压耐久性变得不良。固化树脂层-1的厚度优选为8μm以下,特别优选为6μm以下。
固化树脂层-2可通过将含有第1成分和第2成分的涂布液涂布在基材上,根据需要使其干燥后,通过电离放射线照射、加热处理等使其固化而形成。涂布液优选含有有机溶剂。
作为涂布方法,可以列举使用刮胶刀、棒涂机、凹印辊涂布机、帘式涂布机、刮刀涂布机、旋涂机等公知的涂布设备的方法、喷射法、浸渍法等。
将固化树脂层-2只形成在高分子膜的一面时由JIS K 7136定义的雾度优选为2%以上且小于18%,更优选为3%以上且小于15%,特别优选为3%以上且小于10%。雾度如果为18%以上,设置在触摸面板下的显示体的视认性有可能变差,如果雾度小于2%,防眩性降低。
<金属氧化物层>
本发明的透明导电性层叠体在固化树脂层-1和透明导电层之间可以还具有厚度为0.5nm以上且小于5nm的金属氧化物层。
通过将高分子膜、固化树脂层-1、厚度受控的金属氧化物层和透明导电层依次层叠,各层间的密合性大幅度改善。使用了这样的透明导电性层叠体的触摸面板,与没有金属氧化物层的情形相比,近年来触摸面板所要求的书写耐久性进一步提高。金属氧化物层的厚度为5.0nm以上时,金属氧化物层开始显示作为连续体的机械物性,因此无法期待触摸面板所要求的端按压耐久性的提高。另一方面,金属氧化物层的厚度小于0.5nm时,厚度的控制困难,而且有时难以使固化树脂层-1和透明导电层的密合性充分显现,触摸面板所要求的书写耐久性的提高变得不足。
作为构成金属氧化物层的成分,可以列举例如氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等金属氧化物。
这些的金属氧化物层可以采用公知的方法形成,可以使用例如DC磁控管溅射法、RF磁控管溅射法、离子镀法、真空蒸镀法、脉冲激光沉积法等物理形成法(物理气相沉积,以下称为PVD)等,如果着眼于对大面积形成均匀厚度的金属氧化物层的工业生产性,优选DC磁控管溅射法。应予说明,除了上述物理形成法(PVD)以外,还可以使用化学气相沉积(以下称为CVD)、凝胶溶胶法等化学形成法,从厚度控制的观点出发,还是优选溅射法。
用于溅射法的靶优选金属靶,已广泛采用使用反应性溅射法。这是因为作为金属氧化物层使用的元素的氧化物多为绝缘体,因此金属氧化物靶的情况下大多不能应用DC磁控管溅射法。此外,近年来,开发了同时使2个阴极放电,抑制绝缘体在靶上形成的电源,已能够应用准RF磁控管溅射法。
<固化树脂层-3>
本发明的透明导电性层叠体可在固化树脂层-1和透明导电层之间具有固化树脂层-3。此外,可在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有固化树脂层-3。
固化树脂层-3改善上述层间的密合性。作为用于形成固化树脂层-3的固化性树脂,可以列举电离放射线固化性树脂、热固性树脂等。
作为产生电离放射线固化性树脂的单体,可以列举例如多元醇丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、改性苯乙烯丙烯酸酯、蜜胺丙烯酸酯、含有硅的丙烯酸酯等单官能和多官能丙烯酸酯。
作为具体的单体,可以列举例如三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性丙烯酸酯、异氰脲酸烯化氧改性丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯、三丙二醇三丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、环氧改性丙烯酸酯、聚氨酯改性丙烯酸酯、环氧改性丙烯酸酯等多官能单体。可以将它们单独使用,也可以将多种混合使用,此外有时还可以适量添加各种烷氧基硅烷的水解物。再有,通过电离放射线进行树脂层的聚合时适量添加公知的光聚合引发剂。此外,根据需要可以适量添加光增感剂。
作为光聚合引发剂,可以列举苯乙酮、二苯甲酮、苯偶姻、苯甲酰基苯甲酸酯、噻吨酮类等,作为光增感剂,可以列举三乙胺、三正丁膦等。
作为热固性树脂,可以列举以甲基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷等硅烷化合物为单体的有机硅烷系的热固性树脂,以醚化羟甲基蜜胺等为单体的蜜胺系热固性树脂、异氰酸酯系热固性树脂、酚醛系热固性树脂、环氧系热固性树脂等。可以将这些热固性树脂单独使用或者多种组合使用。此外,还可根据需要混合热塑性树脂。
再有,利用热进行树脂层的交联时适量添加公知的反应促进剂、固化剂。作为反应促进剂,可以列举例如三亚乙基二胺、二月桂酸二丁基锡、苄基甲基胺、吡啶等。作为固化剂,可以列举例如甲基六氢邻苯二甲酸酐、4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基-3,3’-二乙基二苯基甲烷、二氨基二苯基砜等。
为了强化固化树脂层-3和透明导电层或金属氧化物层的密合性,可以使固化树脂层-3中含有平均1次粒径为100nm以下的氧化硅超微粒子。此外,如果将含有硅原子的有机化合物和平均1次粒径为100nm以下的氧化硅超微粒子并用,则成为该氧化硅超微粒子在表面偏析的固化树脂层,因此使上述密合性的改善效果进一步加强。作为含有硅原子的有机化合物,可以列举一般的含有硅原子的表面活性剂、固化性树脂成分。此时的氧化硅超微粒子的含量,相对于用于形成固化树脂层-3的固化性树脂成分100重量份,优选1重量份~400重量份,更优选为1重量份~200重量份,进一步优选为5重量份~100重量份。
固化树脂层-3通过将含有固化性树脂成分的涂布液涂布在固化树脂层-1上,根据需要使其干燥后,通过电离放射线照射、加热处理等使其固化而形成。涂布液优选含有有机溶剂。
作为涂布方法,可以列举使用刮胶刀、棒涂机、凹印辊涂布机、帘式涂布机、刮刀涂布机、旋涂机等公知的涂布设备的方法、喷射法、浸渍法。
作为有机溶剂,优选醇系、烃系的溶剂,例如乙醇、异丙醇、丁醇、1-甲氧基-2-丙醇、己烷、环己烷、石油醚等。特别优选使用二甲苯、甲苯、酮类,例如甲乙酮、甲基异丁基酮等。此外,也可以使用环己酮、醋酸丁酯、醋酸异丁酯等极性溶剂。这些溶剂可以单独使用,或者可以作为2种以上的混合溶剂使用。
为了防止固化树脂层-3的热劣化、光劣化,也可以添加紫外线吸收剂、抗氧剂、防老剂等。
通过调节固化树脂层-3的厚度、折射率,也可以调整透明导电性层叠体的光学特性(透射率、色调)。此时的固化树脂层-3的厚度优选为0.05μm~0.5μm,更优选为0.05μm~0.3μm。为了调整固化树脂层-3的折射率,可以将平均1次粒径为100nm以下的金属氧化物或金属氟化物的超微粒子和/或氟系树脂单独或多种组合添加到固化树脂层-3中。此时的固化树脂层-3的折射率优选比高分子膜的折射率小、并且折射率为1.2~1.55,更优选为1.2~1.45。
本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和透明导电层之间具有折射率为1.2~1.55,膜厚为0.05μm~0.5μm的固化树脂层-3。此外,本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有折射率为1.2~1.55、膜厚为0.05μm~0.5μm的固化树脂层-3。
<光学干涉层>
本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和透明导电层之间具有光学干涉层,该光学干涉层包含低折射率层和高折射率层,低折射率层与透明导电层相接。此外,本发明的透明导电性层叠体,优选在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有光学干涉层,该光学干涉层包含低折射率层和高折射率层,低折射率层与金属氧化物层相接。
光学干涉层可以具有多个低折射率层。此外,光学干涉层还可以具有多个高折射率层。光学干涉层也可以使高折射率层和低折射率层的组合单元为2个以上。光学干涉层由一层高折射率层和一层低折射率层构成时,光学干涉层的厚度优选为30nm~300nm,更优选为50nm~200nm。光学干涉层改善上述层间的密合性和透明导电性层叠体的光学特性,特别是透射率和色调。
构成光学干涉层的高折射率层优选由例如金属醇盐的水解缩合物构成。此外,高折射率层优选包含选自金属醇盐的水解缩合物、热固性树脂和电离放射线固化性树脂中的至少1种、以及平均1次粒径为100nm以下的包含金属氧化物和/或金属氟化物的超微粒子。
作为金属醇盐,可以列举例如烷氧基钛、烷氧基锆、烷氧基硅烷。
作为烷氧基钛,可以列举例如四异丙氧基钛、原钛酸四正丙酯、四正丁氧基钛、四(2-乙基己氧基)钛酸酯等。
作为烷氧基锆,可以列举例如四异丙氧基锆、四正丁氧基锆等。
作为烷氧基硅烷,可以列举例如四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基二甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷等。
从层的机械强度、密合性和耐溶剂性等观点出发,这些烷氧基硅烷优选将两种以上混合使用,特别是从耐溶剂性的观点出发,在烷氧基硅烷的全部组成中,优选以重量比率0.5~40%的范围含有分子内具有氨基的烷氧基硅烷。
烷氧基硅烷可以以单体使用,也可以预先进行水解和脱水缩合,适度地低聚化而使用。
超微粒子的平均1次粒径优选100nm以下,更优选为75nm以下,进一步优选为50nm以下。如果将超微粒子的平均1次粒径控制为100nm以下,不会出现涂层白化。
作为超微粒子,可以例示例如Bi2O3、CeO2、In2O3、(In2O3·SnO2)、HfO2、La2O3、MgF2、Sb2O5、(Sb2O5·SnO2)、SiO2、SnO2、TiO2、Y2O3、ZnO、ZrO2等金属氧化物或金属氟化物的超微粒子。
高折射率层中可以添加适当量的平均1次粒径为100nm以下的金属氧化物或金属氟化物的超微粒子中的单独一种或2种以上。通过添加超微粒子,可以调节高折射率层的折射率。
高折射率层中添加超微粒子时,超微粒子和树脂成分的重量比率优选为0∶100~66.6∶33.3,更优选为0∶100~60∶40。超微粒子与树脂成分的重量比率超过66.6∶33.3时,有时光学干涉层所需的强度、密合性不足,因此不优选。
高折射率层的厚度优选为15~250nm,更优选为30~150nm。此外,高折射率层的折射率优选比后述的低折射率层和固化树脂层-1的折射率大,其差为0.2以上。
构成光学干涉层的低折射率层可以使用形成上述固化树脂层-3的电离放射线固化性树脂、热固性树脂、形成低折射率层的烷氧基硅烷形成。为了强化与透明导电层或金属氧化物层的密合性,调节折射率,可以在低折射率层中添加适当量的包含平均1次粒径为100nm以下的金属氧化物或金属氟化物的超微粒子中的一种或2种以上。作为此时使用的超微粒子,折射率低的SiO2、MgF2等超微粒子适当。低折射率层的厚度优选为15~250nm,更优选为30~150nm。
高折射率层或低折射率层采用以下的方法形成。首先调制将用于形成高折射率层的成分溶解于有机溶剂的涂布液D和将用于形成低折射率层的成分溶解于有机溶剂的涂布液C。其次,在固化树脂层-1上涂布涂布液D后,通过电离放射线照射、加热处理等使其固化,从而形成高折射率层。接着,在高折射率层上涂布涂布液C后,通过电离放射线照射、加热处理等使其固化,从而形成低折射率层。
作为涂布方法,可以列举使用刮胶刀、棒涂机、凹印辊涂布机、帘式涂布机、刮刀涂布机、旋涂机等公知的涂布设备的方法、喷射法、浸渍法等。
作为有机溶剂,优选醇系、烃系的溶剂,例如乙醇、异丙醇、丁醇、1-甲氧基-2-丙醇、己烷、环己烷、石油醚等。此外,还可以使用二甲苯、甲苯、环己酮、甲基异丁基酮、醋酸异丁酯等极性溶剂。这些有机溶剂可以作为单独或2种以上的混合溶剂使用。
涂布液中含有金属醇盐时,涂层中的金属醇盐利用空气中的水分等而进行水解,接着通过脱水缩合而进行交联。一般地,为了促进交联,适当的加热处理是必要的,优选在涂布工序中在100℃以上的温度下实施数分钟以上的热处理。此外,有时可以与上述热处理并行地,对涂层照射紫外线等活性光线,从而使交联度进一步提高。
<透明导电性层叠体>
本发明的透明导电性层叠体,优选JIS K7136中定义的雾度为2%以上且小于20%。如果雾度为该范围,将透明导电性层叠体用于触摸面板时,防牛顿环性、指纹擦除性变得良好。
只在高分子膜的单面依次层叠固化树脂层-1和透明导电层时,本发明的透明导电性层叠体的雾度优选为2%以上且小于10%,更优选为2%以上且小于8%,特别优选为2%以上且小于6%。如果雾度小于2%,防牛顿环性有可能降低,如果雾度为10%以上,并无特别问题,但设置在触摸面板下的显示体的视认性有可能恶化。
在高分子膜的两面形成固化树脂层-1时,或者在高分子膜上在各自的一面分别形成固化树脂层-1和固化树脂层-2时,本发明的透明导电性层叠体的雾度优选为5%以上且小于20%,更优选为6%以上且小于15%,特别优选为6%以上且小于13%。即使雾度小于5%也无特别影响,但透明导电性层叠体的防眩性有可能降低,雾度为20%以上时,担心设置在触摸面板下的显示体的视认性恶化。雾度为5%以上且小于20%时,透明导电性层叠体的防眩性不会降低,透明导电性层叠体的视认性变好,因此优选。
本发明的透明导电性层叠体由JIS K7105(1999年版)规定的使用了0.125mm的光栅时的透射法的图像鲜明度优选为10%~80%。更优选为20%~75%。如果图像鲜明度小于10%,存在设置在触摸面板下的显示体的视认性变差的问题和闪光增加的问题。图像鲜明度大于80%时,存在防眩性、防牛顿环性降低的问题。
本发明的透明导电性层叠体,处于与形成了透明导电层的面相反面的固化树脂层-2对于水的接触角优选为90°以下,更优选为80°以下。如果接触角为90°以下,固化树脂层-2表面的指纹擦除性变得良好。
本发明的透明导电性层叠体,优选主要用作触摸面板用的透明电极基板,但也可以用作触摸面板以外的柔性显示器、电子纸等显示体的透明电极基板。
本发明的透明导电性层叠体,优选具有以下的层结构。
(1)高分子膜/固化树脂层-1/透明导电层
(2)高分子膜/固化树脂层-1/金属氧化物层/透明导电层
(3)高分子膜/固化树脂层-1/光学干涉层/金属氧化物层/透明导电层
(4)固化树脂层-2/高分子膜/固化树脂层-1/透明导电层
(5)固化树脂层-2/高分子膜/固化树脂层-1/金属氧化物层/透明导电层
(6)固化树脂层-2/高分子膜/固化树脂层-1/光学干涉层/金属氧化物层/透明导电层
<触摸面板>
本发明的触摸面板具有上述的本发明的透明导电性层叠体。本发明的触摸面板由可动电极基板和固定电极基板构成。可动电极基板优选为本发明的透明导电性层叠体。
固定电极基板优选将玻璃基板、透明导电层和点间隔物依次层叠而成。作为构成固定电极基板的透明导电层的成分,可以列举例如氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等。这些中,特别优选氧化铟和/或氧化锡。此外,透明导电层优选为以氧化铟为主要成分的结晶质的层,特别优选使用结晶质的由ITO(氧化铟锡)构成的层。
此外,本发明的触摸面板,也优选如下形态:使用在本发明的透明导电性层叠体的透明导电层上形成了点间隔物的基板作为固定电极基板。
根据本发明,提供至少在单面设置了透明导电层的2片的透明电极基板以彼此的透明导电层之间相向的方式配置的触摸面板中,作为至少一方的透明电极基板,使用了上述的本发明的透明导电性层叠体的触摸面板。
实施例
以下通过实施例对本发明进一步具体说明,但本发明并不受它们的任何限定。再有,实施例中的各值采用以下的方法求出。
<SP(溶解度参数)>
按照“Properties of Polymers”(Elsevier,Amsterdam(1976))中记载的Van Klevin的方法算出。
<Ra(算术平均粗糙度)>
使用Sloan公司制触针高差计DEKTAK3测定。测定根据JISB0601-1994年版进行。
Ra(JIS B 0601-1994)是指从粗糙度曲线沿其平均线的方向只选取基准长度,在该选取部分的平均线的方向上取X轴,在纵倍率的方向取Y轴,用y=f(x)表示粗糙度曲线时,用微米(μm)表示的由下式求出的值。
R a = I L &Integral; O L | f ( x ) | dx
(L:基准长度)
粗糙度曲线是从截面曲线中用相位补偿型高域滤波器将比规定波长长的表面起伏成分除去而得到的曲线。截面曲线是用与对象面成直角的平面将对象面切断时,其切口出现的轮廓。粗糙度曲线的截止值(λc)是与相位补偿型高域滤波器的收益为50%的频率对应的波长截止值。粗糙度曲线的基准长度(L)是从粗糙度曲线选取了截止值的长度的部分的长度(基准长度)。
截止值(λc:mm)和评价长度(Ln:mm)选择下述的任一个。
截止值        评价长度
0.25mm        1.25mm
0.8mm         4mm
<Rz(十点平均粗糙度)>
使用小坂研究所株式会社制的Surfcorder SE-3400测定。测定根据JISB0601-1982年版进行。
Rz(JIS B 0601-1982)是指从截面曲线只选取基准长度的部分中,从与平均线并行并且没有横切截面曲线的直线,从在纵倍率的方向测定的最高到第5个峰的标高的平均值与从最深到第5个谷底的标高的平均值的差的值,其用微米(μm)。
Rz由下式求出。
R z = ( R 1 + R 3 + R 5 + R 7 + R 9 ) - ( R 2 + R 4 + R 6 + R 8 + R 10 ) 5
(R1、R3、R5、R7、R9为与基准长度L对应的选取部分的从最高到第5个峰的标高。R2、R4、R6、R8、R10为与基准长度L对应的选取部分的从最深到第5个谷底的标高。)
基准长度为0.25mm或0.8mm。
<接触角>
将平板状试样片水平放置,使固化树脂层的面向上,按照JIS R3257的静滴法,用容量1ml的注射器滴下1滴水,在试样片上使1μl以上4μl以下的水滴静置。接着采用带有角度测定器的显微镜,读取1分钟静置后的水接触角θ。
<厚度>
使用ケ一エルケ一·テンコ一公司制触针式膜厚计アルフアステツプ进行测定。
<雾度>
使用日本电色(株)制雾度计(MDH 2000)进行测定。
雾度(JIS K7136)是透过试验片的透射光中因上方散射而由入射光偏离0.044rmd(2.5°)以上的透射光的百分率。
雾度(%)由下式算出。
雾度=[(τ42)-τ321)]×100
1:入射光的光束
τ2:透过试验片的总光束
τ3:在装置处漫射的光束
τ4:在装置和试验片处漫射的光束)
<总光线透射率>
使用日本电色(株)制雾度计(MDH 2000),按照JIS K7361-1进行测定。
<防眩性>
使荧光灯映入制作的透明导电性层合体的透明导电层面的相反侧的固化树脂层面。通过此时映入固化树脂层面的荧光灯端部的外观来评价防眩性。将无端部映入的记为良好(○),将存在端部映入的记为不良(×)。
<防牛顿环性>
在3波长荧光灯下,从相对于触摸屏的表面(垂直方向0度)倾斜60度的方向,目视观察使可动电极基板和固定电极基板接触的区域中有无牛顿环。将不能观测到牛顿环的记为良好(○),将能够稍微观测到的记为略良好(△),将能够明确地观测到的记为不良(×)。
<闪光性>
在约123dpi(对角10.4英寸、XGA(1,024×768点))的液晶显示器上设置触摸屏,目视确认有无闪光。将不能确认闪光的记为良好(○),将略微能够确认的记为略良好(△),将能够明确确认的记为不良(×)。
<线性度>
在可动电极基板上或固定电极基板上的平行电极间施加5V的直流电压。在与平行电极垂直的方向上以5mm的间隔测定电压。设测定开始位置A的电压为EA、测定结束位置B的电压为EB、与A的距离为X处的电压实测值为EX、理论值为ET、线性度为L,通过下式求出线性度。
ET=(EB-EA)×X/(B-A)+EA
L(%)=(|ET-EX|)/(EB-EA)×100
<滑动耐久性>
使用0.8R的聚缩醛制的笔,在450g负荷下对制成的触摸屏的中央部进行各直线往复5万次直至最大30万次的滑动,测定滑动耐久性试验前后的触摸屏的线性度变化量。将30万次下线性度变化量小于1.5%时记为良(OK)。线性度变化量为1.5%以上时,将电特性记为不良(NG)。此外,测定电特性为NG的滑动次数。
<端按压耐久性>
在距离制作的触摸面板的绝缘层约2.5mm的位置,与绝缘层平行地从可动电极侧使用尖端为0.8R的聚缩醛制笔以450g的载荷进行各直线往返1万次直至最大10万次的滑动,测定端部按压耐久性试验前后的触摸屏的线性度变化量。
将30万次下线性度变化量小于1.5%时记为良(OK)。线性度变化量为1.5%以上时,将电特性记为不良(NG)。此外,测定电特性为NG的滑动次数。
<手指打点耐久性>
用手指强力地对制作的触摸屏的中央部1部位打点最大1万次,测定手指打点前后的触摸屏的输入负荷变化。
<指纹擦除性>
使测定样品的固化树脂层表面向上放置在黑色板上,将指纹按压到样品表面,使用市售的餐巾纸进行擦拭,然后目视确认样品表面残存的指纹的程度。将没有观测到指纹的记为良好(○),将稍微观测到的记为略良好(△),将明确地观测到的记为不良(×)。
<耐光性>
将光照射到制作的触摸屏的可动电极基板侧,采用按照ASTM G154的方法实施耐光性试验。确认耐光性试验后的外观变化(有无固化树脂层剥离)。将没有观测到剥离的记为良好(○),将稍微观测到的记为略良好(△),将明确地观测到的记为不良(×)。
实施例1
[透明导电性层合体]
(高分子膜)
使用厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(Teijin DuPontFilms公司制OFW)作为基材。
(固化树脂层(A))
在基材的单面使用下述涂布液采用棒涂法进行涂布,在70℃下干燥1分钟后,照射紫外线使其固化,从而形成厚3.5μm的固化树脂层(A)。
涂布液A通过将含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(SP值:10.0、Tg:92℃)4重量份、季戊四醇三丙烯酸酯(SP值:12.7)100重量份、光聚合引发剂IRGACURE 184(汽巴精化公司制)7重量份溶解于异丁醇溶剂,使固形分为40重量%而制作。
再有,含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(SP值:10.0、Tg:92℃)如下所述进行调制。
将由甲基丙烯酸异冰片酯171.6g、甲基丙烯酸甲酯2.6g、甲基丙烯酸9.2g组成的混合物混合。将该混合物与含有叔丁基过氧-2-乙基己酸酯1.8g的丙二醇单甲醚80.0g溶液同时用3小时等速地滴入带有搅拌叶片、氮导入管、冷却管和滴液漏斗的1,000ml反应容器中的在氮气氛下加热到110℃的丙二醇单甲醚330.0g中,然后在110℃下反应30分钟。然后,滴入含有叔丁基过氧-2-乙基己酸酯0.2g的丙二醇单甲醚17.0g的溶液,加入含有四丁基溴化铵1.4g和氢醌0.1g的5.0g的丙二醇单甲醚溶液,边进行空气鼓泡边用2小时滴加4-羟基丁基丙烯酸酯缩水甘油醚22.4g和丙二醇单甲醚5.0g的溶液,然后用5小时进一步反应。得到数均分子量5,500、重均分子量18,000的含有不饱和双键的丙烯酸共聚物。该树脂的SP值:10.0、Tg:92℃、表面张力:31dyn/cm。
(固化树脂层(B))
在形成了固化树脂层(A)的面的相反面,使用下述涂布液B采用棒涂法进行涂布,在70℃下干燥1分钟后,照射紫外线使其固化,从而形成厚3.5μm的固化树脂层(B)。
涂布液B通过将上述含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(SP值:10.0、Tg:92℃)4重量份、季戊四醇三丙烯酸酯(SP值:12.7)90重量份、三羟甲基丙烷三甘醇三丙烯酸酯(SP值:11.6)10重量份、光聚合引发剂IRGACURE 184(汽巴精化公司制)7重量份溶解于异丁醇溶剂,使固形分为40重量%而制作。
(透明导电层)
其次,在固化树脂层(A)上使用氧化铟和氧化锡的重量比为95∶5的组成、填充密度为98%的氧化铟-氧化锡靶采用溅射形成透明导电层(ITO层)。形成的透明导电层的膜厚为20nm。此外,在150℃下进行90分钟的热处理,使透明导电层(ITO层)结晶化,制作透明导电性层合体,形成可动电极基板。
ITO层结晶化后的表面电阻值为约210Ω/□(Ω/sq)。再有,用TEM观察的ITO层的结晶粒径为50nm-200nm的范围。
[触摸屏]
在厚1.1mm的玻璃板的两面进行SiO2浸涂后,采用溅射法形成厚18nm的ITO层。其次,在ITO层上形成高7μm、直径70μm、间距1.5mm的点间隔物,从而制作固定电极基板。
使用固定电极基板和可动电极基板,制作具有图1所示层结构的触摸屏。将透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表1和表2。由表1和表2可知,使用了本例的透明导电性层合体的触摸屏,防眩性、防牛顿环性、闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性、指纹擦除性和耐候性(耐光性)均良好。
实施例2
[透明导电性层合体]
与实施例1同样地,在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(TeijinDuPont Films公司制OFW)的各面形成固化树脂层(A)和固化树脂层(B)。
(金属氧化物层)
然后,在固化树脂层(A)上使用Si靶,采用溅射法形成金属氧化物(SiOx层),形成的SiOx层的膜厚为约2.0nm。
(透明导电层)
其次,在金属氧化层上,与实施例1同样地形成透明导电层,制作透明导电性层合体,形成可动电极基板。再有,用TEM观察的ITO层的结晶粒径为50nm-200nm的范围。
[触摸屏]
与实施例1同样地制作固定电极基板。使用制作的固定电极基板和可动电极基板,制作具有图2所示层结构的触摸屏。
将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表1和表2。由表1和表2可知,使用了本例的透明导电性层合体的触摸屏,防眩性、防牛顿环性、闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性、指纹擦除性和耐候性(耐光性)均良好
[实施例3]
[透明导电性层合体]
与实施例1同样地,在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(TeijinDuPont Films公司制OFW)的各面形成固化树脂层(A)和固化树脂层(B)。
(高折射率层)
其次,以1∶1的摩尔比将γ-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制“KBM403”)和甲基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制“KBM13”)混合,用醋酸水溶液(pH=3.0)采用公知的方法进行上述烷氧基硅烷的水解。对于这样得到的烷氧基硅烷的水解物,以固形分的重量比率20∶1的比例添加N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制“KBM603”),再用异丙醇和正丁醇的混合溶液进行稀释,制作烷氧基硅烷涂布液C。
在涂布液C中混合1次粒径为20nm的TiO2超微粒子以使TiO2超微粒子和烷氧基硅烷的重量比率为50∶50,而制作涂布液D。在固化树脂层(A)上采用棒涂法对涂布液D进行涂布,在130℃下进行2分钟烧成后,形成膜厚55nm的高折射率层。
(低折射率层)
在高折射率层上采用棒涂法对涂布液C进行涂布,在130℃下进行2分钟烧成后,形成膜厚65nm的低折射率层,制作由高折射率层和低折射率层组成的光学干涉层。
(金属氧化物层)
然后,在固化树脂层(A)上使用Si靶,采用溅射法形成SiOx层,形成的SiOx层的膜厚为约2.0nm。
(透明导电层)
其次,在金属氧化层上,与实施例1同样地形成透明导电层,制作透明导电性层合体,形成可动电极基板。再有,用TEM观察的ITO层的结晶粒径为50nm-200nm的范围。
[触摸屏]
与实施例1同样地制作固定电极基板。使用制作的固定电极基板和可动电极基板,制作具有图3所示层结构的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表1和表2。由表1和表2可知,使用了本例的透明导电性层合体的触摸屏,防眩性、防牛顿环性、闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性、指纹擦除性和耐候性(耐光性)均良好。
实施例4
[透明导电性层合体]
在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的单面,使用添加了季戊四醇三丙烯酸酯100重量份、光聚合引发剂IRGACURE 184(汽巴精化公司制)7重量份、用于赋予流平性和滑动性的少量表面活性剂的涂布液,采用棒涂法进行涂布,在70℃下干燥1分钟后,照射紫外线使其固化,形成厚4μm的固化树脂层(C)。
在形成了固化树脂层(C)的面的相反面,使用实施例1中使用的涂布液A,与实施例1同样地形成了固化树脂层(A)。
然后,与实施例1同样地在固化树脂层(A)上形成透明导电层,制作透明导电性层合体,形成可动电极基板。再有,用TEM观察的ITO层的结晶粒径为50nm-200nm的范围。
[触摸屏]
与实施例1同样地制作固定电极基板。使用制作的固定电极基板和透明导电性层合体,制作具有图1所示层结构的触摸屏。
将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表1和表2。由表1和表2可知,使用了本例的透明导电性层合体的触摸屏,防牛顿环性、闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性均良好。防眩性、指纹擦除性和耐候性(耐光性)是对在不需要这些特性的领域中使用足够的特性。
[实施例5]
[透明导电性层合体]
在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的两面,使用实施例1的涂布液A,采用与实施例1同样的方法,形成固化树脂层(A)。
其次,在一方的固化树脂层(A)上使用氧化铟和氧化锡的重量比为95∶5的组成、填充密度为98%的氧化铟-氧化锡靶采用溅射形成非晶质的透明导电层(ITO层),从而制作透明导电性层合体,形成可动电极基板。
[触摸屏]
使用制作的可动电极基板,与实施例1同样地制作具有图1所示层结构的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表1和表2。
由表1和表2可知,滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性和耐候性(耐光性)与实施例1相比时差。这是因为透明导电层为非晶质。此外,耐候性(耐光性)与实施例1比差,这是因为形成了透明导电层的面的反面的固化树脂层中不含有三羟甲基丙烷三甘醇三丙烯酸酯。
比较例1
[透明导电性层合体]
在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的单面,使用实施例1的涂布液A,与实施例1同样地形成固化树脂层(A)。在形成了固化树脂层(A)的面的反面,使用下述涂布液E,采用棒涂法进行涂布,在70℃下干燥1分钟,照射紫外线,形成了厚2.1μm的固化树脂层(E)。
涂布液E通过将季戊四醇三丙烯酸酯100重量份、IRGACURE 184(汽巴精化公司制)5重量份、宇部日东化成社制(HIPRESICA FQ、3.0μm品、等级N3N)0.7重量份的混合物溶解于异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的1∶1混合溶剂中调整为固形分为25重量%而制作。
其次,在固化树脂层(E)上,与实施例1同样地形成透明导电层,制作透明导电性层合体,形成可动电极基板。再有,用TEM观察的ITO层的结晶粒径为50nm-200nm的范围。
[触摸屏]
使用制作的透明导电性层合体,与实施例1同样地制作具有图1所示层结构的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表3和表4。由表3和表4可知,固化性树脂层的成分中含有微粒的本例的透明导电性层合体,闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性和耐候性(耐光性)不好。
比较例2
采用与比较例1相同的方法,在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的各面形成了固化树脂层(A)和固化树脂层(E)。然后,采用与实施例2同样的方法在固化树脂层(E)上形成SiOx层和ITO层,制作透明导电性层合体。
[触摸屏]
使用制作的透明导电性层合体,与实施例2同样地制作具有图2所示层结构的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表3和表4。由表3和表4可知,固化性树脂层的成分中含有微粒的本例的透明导电性层合体,闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性和耐候性(耐光性)不好。
比较例3
[透明导电性层合体]
采用与比较例1相同的方法,在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的各面形成了固化树脂层(A)和固化树脂层(E)。然后,采用与实施例3同样的方法在固化树脂层(E)上形成高折射率层、低折射率层、SiOx层和ITO层,制作透明导电性层合体。
[触摸屏]
使用制作的透明导电性层合体,与实施例3同样地制作具有图3所示层结构的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表3和表4。由表3和表4可知,固化性树脂层的成分中含有微粒的本例的透明导电性层合体,闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性和耐候性(耐光性)不好。
比较例4
[透明导电性层合体]
采用与比较例1相同的方法,在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的各面形成了固化树脂层(A)和固化树脂层(E)。然后,与实施例5同样地在固化树脂层(E)上形成非晶质的ITO层,从而制作透明导电性层合体。
[触摸屏]
使用制作的透明导电性层合体,与实施例5同样地制作具有图1所示层结构的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表3和表4。由表3和表4可知,固化树脂层的成分中含有微粒并且透明导电层为非晶质时的本例的透明导电性层合体,闪光性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性与实施例5相比差。
比较例5
[透明导电性层合体]
在厚188μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Teijin DuPont Films公司制OFW)的单面,使用下述涂布液F,采用棒涂法进行涂布,在70℃下干燥1分钟后,照射紫外线使其固化,形成了厚4.0μm的固化树脂层(F)。
涂布液F通过将季戊四醇丙烯酸酯100重量份、光聚合引发剂IRGACURE 184(汽巴精化公司制)7重量份、平均1次粒径4.5μm的二氧化硅微粒(东芝有机硅(株)制、TOSPEARL 145)10重量份溶解于异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的1∶1混合溶剂中使固形分为40重量%后,为了赋予流平性和滑动性,少量添加表面活性剂而制作。
在形成了固化树脂层(F)的面的反面,形成了比较例1中使用的固化树脂层(E)。其次,在固化树脂层(E)上与实施例1同样地形成ITO层,从而制作透明导电性层合体。
[触摸屏]
使用制作的透明导电性层合体,与实施例1同样地制作图1的触摸屏。将制作的透明导电性层合体和触摸屏的特性示于表3和表4。由表3和表4可知,闪光性、耐指纹擦除性、滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性和耐候性(耐光性)不好。
表1
表2
表3
表4
实施例6
[透明导电性层合体]
在实施例1中制作的透明导电性层合体上,与实施例1同样地形成点间隔物而制作固定电极基板。使用日东电工(株)制V270L-TFMP作为可动电极基板。
[触摸屏]
使用可动电极基板和固定电极基板,制作具有图4的层结构的触摸屏。用手指将制作的触摸屏的可动电极基板、固定电极基板之间夹持,将可动电极基板、固定电极基板强力地互相摩擦。在相互摩擦的前后,测定可动电极基板的直线性。在互相摩擦前后,没有发现直线性的变化。使用显微镜观察透明导电性层合体的导电层表面。在相互摩擦的区域内没有发现损伤。
实施例7
[透明导电性层合体]
除了使用厚100μm的聚碳酸酯膜(帝人化成(株)制“ピアエ一ス”)以外,与实施例1同样地制作透明导电性层合体。使用制作的透明导电性层合体,与实施例6同样地制作固定电极基板。使用日东电工(株)制V270L-TFMP作为可动电极基板。
[触摸屏]
其次,使用可动电极基板和固定电极基板,与实施例6同样地制作具有图4所示层结构的触摸屏。用手指将制作的触摸屏的可动电极、固定电极基板之间夹持,将可动电极基板、固定电极基板强力地互相摩擦。在相互摩擦的前后,测定可动电极基板的直线性。在互相摩擦前后,没有发现直线性的变化。
使用显微镜观察可动电极基板的导电层表面。在相互摩擦的区域内没有发现损伤。
比较例6
[透明导电性层合体]
使用比较例1中制作的透明导电性层合体,与实施例6同样地制作固定电极基板。使用日东电工(株)制V270L-TFMP作为可动电极基板。
[触摸屏]
其次,使用可动电极基板和固定电极基板,与实施例6同样地制作具有图4所示层结构的触摸屏。
用手指将制作的触摸屏的可动电极基板、固定电极基板之间夹持,将可动电极基板、固定电极基板强力地互相摩擦。在相互摩擦的前后,测定可动电极基板的直线性。在互相摩擦前后,确认可动电极基板的直线性变大。此外,还确认可动电极基板的端子间电阻值也上升。
使用显微镜观察可动电极基板的导电层表面。在相互摩擦的区域内确认有多个固定电极基板中含有的微粒产生的损伤。通过确认的损伤,判断可动电极基板的直线性、端子间电阻值上升。
发明的效果
本发明的透明导电性层合体,固化树脂层中不含有用于赋予凹凸的微粒,固化树脂层-1的表面具有凹凸。本发明的透明导电性层合体不含有微粒,因此闪光少。本发明的透明导电性层合体,滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性优异,可以用作触摸屏的可动电极基板。本发明的透明导电性层合体,对对向的基板表面损伤的情况少,能够用作触摸屏的固定电极基板。
本发明的触摸屏的闪光少,并且牛顿环的产生也少。此外,本发明的触摸屏的滑动耐久性、端按压耐久性、手指打点耐久性优异。
此外,本发明的触摸屏,可动电极基板表面的损伤少。此外,本发明的具有固化树脂层-2的触摸屏的耐光性优异。
产业上的可利用性
本发明的透明导电性层合体,可用作触摸屏的可动电极基板或固定电极基板。

Claims (14)

1.一种透明导电性层叠体,其特征在于:将高分子膜、固化树脂层-1和透明导电层依次层叠而成,在高分子膜的形成有透明导电层的面的相反面具有固化树脂层-2,
固化树脂层-1和透明导电层之间具有膜厚为0.5nm以上且小于5nm的金属氧化物层,固化树脂层-1具有两种成分相分离而形成的凹凸,并且不含有用于赋予凹凸的微粒,
固化树脂层-1按照JIS B0601-1994测得的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以上且小于0.5μm,按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度Rz为0.5μm以上且小于2μm,
固化树脂层-2具有两种成分相分离而形成的凹凸,并且不含有用于赋予凹凸的微粒,
形成固化树脂层-2的两种成分中,第1成分是含有不饱和双键的丙烯酸共聚物,第2成分是1分子单体中具有3~6摩尔当量的碳原子数2~4的烯化氧单元的3官能以上的多官能性含不饱和双键单体,
透明导电层的膜厚为5nm~50nm。
2.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,形成固化树脂层-1的两种成分中,第1成分是含有不饱和双键的丙烯酸共聚物,第2成分是多官能性含不饱和双键单体。
3.根据权利要求2所述的透明导电性层叠体,其中,形成固化树脂层-1的两种成分中,第1成分的SP值SP1和第2成分的SP值SP2满足SP1<SP2。
4.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,固化树脂层-2按照JIS B0601-1994测得的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以上且小于0.5μm,按照JIS B0601-1982测得的十点平均粗糙度Rz为0.5μm以上且小于2μm。
5.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,形成固化树脂层-2的两种成分中,第1成分的SP值SP1和第2成分的SP值SP2满足SP1<SP2。
6.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,在固化树脂层-2中含有2~40重量%的多官能性含不饱和双键单体。
7.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,由JIS K7136定义的雾度为2%以上且小于20%。
8.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,透明导电层为结晶质。
9.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,在固化树脂层-1和透明导电层之间具有固化树脂层-3,该固化树脂层-3的折射率为1.2~1.55,膜厚为0.05μm~0.5μm。
10.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有固化树脂层-3,该固化树脂层-3的折射率为1.2~1.55,膜厚为0.05μm~0.5μm。
11.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,在固化树脂层-1和透明导电层之间具有光学干涉层,该光学干涉层包含低折射率层和高折射率层,低折射率层与透明导电层相接。
12.根据权利要求1所述的透明导电性层叠体,其中,在固化树脂层-1和金属氧化物层之间具有光学干涉层,该光学干涉层包含低折射率层和高折射率层,低折射率层与金属氧化物层相接。
13.一种触摸面板,具有权利要求1~11中的任一项所述的透明导电性层叠体。
14.一种触摸面板,是至少在单面设置有透明导电层的2片透明电极基板以彼此的透明导电层之间相向的方式配置的触摸面板,其中,使用权利要求1所述的透明导电性层叠体作为至少一个透明电极基板。
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